JP2020190710A - 反射防止膜及びこれを有する光学素子 - Google Patents
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
Description
第1層:0.028λ以上、0.811λ以下
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の範囲であることを特徴とする。
基板 FCD100
膜物質 屈折率 光学膜厚
(@520nm) (nm)
第1層 Al2O3 1.642 0.275λ
第2層 H4 2.044 0.129λ
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媒質 AIR 1 -
基板 FC5
膜物質 屈折率 光学膜厚
(@520nm) (nm)
第1層 Al2O3 1.642 0.287λ
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媒質 AIR 1 -
基板 FCD705
膜物質 屈折率 光学膜厚
(@520nm) (nm)
第1層 Al2O3 1.642 0.205λ
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媒質 AIR 1 -
基板 E-FD2
膜物質 屈折率 光学膜厚
(@520nm) (nm)
第1層 Al2O3 1.642 0.147λ
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基板 FF8
膜物質 屈折率 光学膜厚
(@520nm) (nm)
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媒質 AIR 1 -
基板 FDS90
膜物質 屈折率 光学膜厚
(@520nm) (nm)
第1層 Al2O3 1.642 0.041λ
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媒質 AIR 1 -
基板 TAFD55
膜物質 屈折率 光学膜厚
(@520nm) (nm)
第1層 Al2O3 1.642 0.033λ
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媒質 AIR 1 -
基板 TAFD65
膜物質 屈折率 光学膜厚
(@520nm) (nm)
第1層 Al2O3 1.642 0.032λ
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第3層 Al2O3 1.642 0.044λ
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媒質 AIR 1 -
基板 FCD1
膜物質 屈折率 光学膜厚
(@520nm) (nm)
第1層 Al2O3 1.642 0.225λ
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媒質 AIR 1 -
基板 E-F5
膜物質 屈折率 光学膜厚
(@520nm) (nm)
第1層 Al2O3 1.642 0.737λ
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基板 E-FD2
膜物質 屈折率 光学膜厚
(@520nm) (nm)
第1層 Al2O3 1.642 0.51λ
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媒質 AIR 1 -
基板 FD225
膜物質 屈折率 光学膜厚
(@520nm) (nm)
第1層 Al2O3 1.642 0.045λ
第2層 H4 2.044 0.112λ
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媒質 AIR 1 -
基板 TAFD45
膜物質 屈折率 光学膜厚
(@520nm) (nm)
第1層 Al2O3 1.642 0.032λ
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媒質 AIR 1 -
基板 TAFD55
膜物質 屈折率 光学膜厚
(@520nm) (nm)
第1層 Al2O3 1.642 0.061λ
第2層 H4 2.044 0.1λ
第3層 Al2O3 1.642 0.606λ
第4層 H4 2.044 0.109λ
第5層 MgF2 1.379 0.115λ
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第7層 湿式層 1.23 0.283λ
媒質 AIR 1 -
基板 1.7
屈折率 光学膜厚
(@520nm) (nm)
第1層 2.31 0.076λ
第2層 1.38 0.09λ
第3層 2.31 0.151λ
第4層 1.38 0.12λ
第5層 2.31 0.086λ
第6層 1.25 0.295λ
媒質 1 -
400-700nm 最大反射率 400-700nm 平均反射率
入射角 0° 15° 30° 0° 15° 30°
実施例1 0.14% 0.18% 0.49% 0.03% 0.03% 0.09%
実施例2 0.15% 0.23% 0.58% 0.04% 0.05% 0.13%
実施例3 0.15% 0.2% 0.47% 0.03% 0.04% 0.11%
実施例4 0.15% 0.22% 0.53% 0.03% 0.04% 0.12%
実施例5 0.15% 0.21% 0.5% 0.03% 0.04% 0.12%
実施例6 0.15% 0.22% 0.51% 0.03% 0.04% 0.13%
実施例7 0.17% 0.24% 0.56% 0.04% 0.05% 0.13%
実施例8 0.21% 0.29% 0.64% 0.04% 0.05% 0.14%
実施例9 0.07% 0.1% 0.31% 0.02% 0.03% 0.09%
実施例10 0.05% 0.09% 0.29% 0.02% 0.02% 0.08%
実施例11 0.05% 0.07% 0.24% 0.03% 0.04% 0.1%
実施例12 0.06% 0.1% 0.3% 0.03% 0.03% 0.09%
実施例13 0.06% 0.1% 0.32% 0.03% 0.04% 0.1%
実施例14 0.06% 0.11% 0.42% 0.02% 0.03% 0.09%
比較例 0.06% 0.11% 0.35% 0.03% 0.04% 0.1%
2 第2層
3 第3層
4 第4層
5 第5層
6 第6層
7 第7層
8 基板
Claims (5)
- 基板上に、前記基板側から第1層、第2層、第3層、第4層、第5層、第6層、第7層までこの順に積層してなる反射防止膜であって、
基準波長λ=520nmにおいて
前記基板の屈折率が1.40〜2.10であり、
前記第1層及び前記第3層は屈折率が1.5以上、1.8以下の中間屈折率材料であり、
前記第2層、前記第4層及び前記第6層は屈折率が1.8以上、2.5以下の高屈折率材料であり、
前記第5層は屈折率が1.3以上、1.5以下の低屈折率材料であり、
前記第7層は屈折率が1.15以上、1.3以下の超低屈折率材料であり、
前記第1層から前記第7層の各光学膜厚が、次の範囲であることを特徴とする反射防止膜。
第1層:0.028λ以上、0.811λ以下
第2層:0.040λ以上、0.240λ以下
第3層:0.029λ以上、0.667λ以下
第4層:0.040λ以上、0.565λ以下
第5層:0.049λ以上、0.141λ以下
第6層:0.069λ以上、0.124λ以下
第7層:0.225λ以上、0.313λ以下 - 前記中間屈折率材料は酸化アルミニウム又は酸化アルミニウムを含有する混合物からなり、
前記高屈折率材料は、酸化セリウム、酸化ハフニウム、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化スズ,酸化タンタル、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化ランタン、酸化プラセオジムのいずれか、又は前記酸化物の混合物からなり、
前記低屈折率材料はフッ化マグネシウム、酸化ケイ素のいずれか、又は混合物からなり、
前記超低屈折率材料はフッ化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウムのいずれか、又は混合物からなる多孔質材料であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜。 - 前記基板側から最も外側の層は湿式成膜法により形成され、その他の層は真空蒸着法、スパッタ法、CVD法、ALD法のいずれかにより成膜されることを特徴とする請求項1又は2に記載の反射防止膜。
- 入射角0度〜15度で波長400nm〜700nmにおける平均反射率が0.1%以下であり、
入射角30度で波長400nm〜700nmにおける平均反射率が0.2%以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の反射防止膜。 - 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の反射防止膜を有することを特徴とする光学素子。
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