JP2020182130A - フィルタおよびマルチプレクサ - Google Patents
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Abstract
Description
圧電基板12および絶縁層11の厚さT1およびT2を変え、共振周波数frおよび***振周波数の周波数温度係数(TCF:Temperature Coefficient of Frequency)を測定およびシミュレーションした。図3(a)および図3(b)は、それぞれ実験およびシミュレーションに用いた弾性波共振器の断面図である。
支持基板10:サファイア基板
絶縁層11:厚さがT1の酸化シリコン層
接合層13:厚さが10nmの酸化アルミニウム層
圧電基板12:厚さがT2の42°YカットX伝搬タンタル酸リチウム基板
金属膜14:厚さが500nmのアルミニウム膜
電極指15のピッチ×2:5μm(弾性波の波長λ)
電極指15の対数(本数×2):100対
デュティ比:50%
開口長:100μm(20λ)
図7(a)は、実施例1の変形例1に係るフィルタの断面図である。図7(a)に示すように、支持基板10絶縁層11との界面に凸部54および凹部56が設けられている。領域50および52おける凹部56における絶縁層11の厚さT4pおよびT4sは略等しい。領域50および52における凸部54の高さT5pおよびT5sは互いに異なる。T5pはT5sより大きい。これにより、領域50における絶縁層11の平均厚さT1pは領域52における絶縁層11の平均厚さT1sより小さくなる。その他の構成は実施例1と同じであり説明を省略する。
図7(b)は、実施例1の変形例2に係るフィルタの断面図である。図7(b)に示すように、支持基板10の上面および圧電基板12の上面の領域50と52との間には段差はなく略平面である。領域50と52との間における絶縁層11の上面に段差が設けられている。T2pはT2sより大きく、T1pはT1sより小さい。その他の構成は実施例1と同じであり説明を省略する。
図8(a)は、実施例1の変形例3に係るフィルタの断面図である。図8(a)に示すように、圧電基板12の上面の領域50と52との間には段差はなく略平面である。領域50と52との間における支持基板10の上面および絶縁層11の上面に段差が設けられている。T2pはT2sより大きく、T1pはT1sと略等しい。その他の構成は実施例1と同じであり説明を省略する。
図8(b)は、実施例1の変形例4に係るフィルタの断面図である。図8(b)に示すように、領域50の支持基板10と圧電基板12との間に絶縁層11pが設けられ、領域52の支持基板10と圧電基板12との間に絶縁層11sが設けられている。T2pはT2sと略等しく、T1pはT1sと略等しい。絶縁層11pの弾性定数の温度係数と絶縁層11sの弾性定数の温度係数とは異なる。例えば絶縁層11sの弗素濃度は絶縁層11pの弗素濃度より高い。例えば、絶縁層11pには意図的に弗素を添加しておらず、絶縁層11sに5原子%程度の弗素を添加する。その他の構成は実施例1と同じであり説明を省略する。
11、11p、11s 絶縁層
12 圧電基板
13 接合層
15 電極指
18 櫛型電極
20 弾性波共振器
22 IDT
50、52 領域
Claims (10)
- 支持基板と、
前記支持基板上に直接または間接的に接合され、第1領域における平均厚さと第2領域における平均厚さとは互いに異なる絶縁層と、
前記絶縁層上に直接または間接的に接合され、弾性定数の温度係数の符号が前記絶縁層の弾性定数の温度係数の符号と反対である圧電基板と、
前記第1領域における前記圧電基板上に設けられ、一対の櫛型電極を有し、第1端子と第2端子との間に直列に接続された直列共振器と、
前記第2領域における前記圧電基板上に設けられ、一対の櫛型電極を有し、前記第1端子と前記第2端子との間に並列に接続された並列共振器と、
を備えるフィルタ。 - 前記第1領域における前記絶縁層の平均厚さは、前記第2領域における前記絶縁層の平均厚さより大きい請求項1に記載のフィルタ。
- 前記第1領域における前記圧電基板の平均厚さは、前記第2領域における前記圧電基板の平均厚さより小さい請求項2に記載のフィルタ。
- 前記第1領域における前記圧電基板の平均厚さと前記第2領域における前記圧電基板の平均厚さは略等しい請求項2に記載のフィルタ。
- 支持基板と、
前記支持基板上に直接または間接的に接合された絶縁層と、
前記絶縁層上に直接または間接的に接合され、第1領域における平均厚さと第2領域における平均厚さとは互いに異なり、弾性定数の温度係数の符号が前記絶縁層の弾性定数の温度係数の符号と反対である圧電基板と、
前記第1領域における前記圧電基板上に設けられ、一対の櫛型電極を有し、第1端子と第2端子との間に直列に接続された直列共振器と、
前記第2領域における前記圧電基板上に設けられ、一対の櫛型電極を有し、前記第1端子と前記第2端子との間に並列に接続された並列共振器と、
を備えるフィルタ。 - 前記第1領域における前記圧電基板の平均厚さは、前記第2領域における前記圧電基板の平均厚さより小さい請求項5に記載のフィルタ。
- 支持基板と、
前記支持基板上に直接または間接的に接合され、第1領域における弾性定数の温度係数と第2領域における弾性定数の温度係数とは互いに異なる絶縁層と、
前記絶縁層上に直接または間接的に接合され、弾性定数の温度係数の符号が前記絶縁層の弾性定数の温度係数の符号と反対である圧電基板と、
前記第1領域における前記圧電基板上に設けられ、一対の櫛型電極を有し、第1端子と第2端子との間に直列に接続された直列共振器と、
前記第2領域における前記圧電基板上に設けられ、一対の櫛型電極を有し、前記第1端子と前記第2端子との間に並列に接続された並列共振器と、
を備えるフィルタ。 - 前記第1領域における前記絶縁層の弾性定数の温度係数は前記第2領域における前記絶縁層の弾性定数の温度係数と同じ符号でありかつ絶対値が大きい請求項7に記載のフィルタ。
- 前記第1領域および前記第2領域における前記圧電基板の厚さは、前記一対の櫛型電極の電極指の平均ピッチの2倍以下であり、前記第1領域および前記第2領域における前記絶縁層の厚さは、前記一対の櫛型電極の電極指の平均ピッチの2倍以下である請求項1から8のいずれか一項に記載のフィルタ。
- 請求項1から9のいずれか一項に記載のフィルタを含むマルチプレクサ。
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