JP2020181695A - Organic electroluminescence display device and manufacturing method for the same, and evaporation mask set - Google Patents

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拓也 樋口
Takuya Higuchi
樋口　　拓也
清水　恒芳
Tsuneyoshi Shimizu
恒芳 清水
洋光 落合
Hiromitsu Ochiai
洋光 落合
宏樹 岡
Hiroki Oka
宏樹 岡
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Abstract

To provide an organic electroluminescence display device with excellent light transmission performance, a manufacturing method for the same, and an evaporation mask set used for manufacturing the organic electroluminescence display device.SOLUTION: An organic electroluminescence display device 10 includes: a substrate 11 including a first surface 11A and a second surface 11B opposite to the first surface; a plurality of first electrodes 13 positioned in matrix on the first surface 11A of the substrate 11 in a first direction and a second direction orthogonal to the first direction; a plurality of organic compound layers 14 positioned on the first electrodes 13; and a second electrode 15 positioned on the organic compound layers 14. The second electrode 15 includes a non-transparent electrode 151 positioned on each of the organic compound layers 14, and a transparent electrode 152 electrically connected to all of the non-transparent electrodes 151.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法、並びに蒸着マスクセットに関する。 The present disclosure relates to an organic electroluminescence display device, a method for manufacturing the same, and a vapor deposition mask set.

有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子を用いた有機ＥＬ表示装置は、自発光により視認性が高い、液晶表示装置とは異なり全固体表示装置である、温度変化の影響を受け難い、視野角が大きい等の利点を有していることから、近年、フルカラー表示装置として実用化が進んでいる。有機ＥＬ表示装置における有機ＥＬ素子は、基板上に設けられた陽極（アノード電極）と陰極（カソード電極）とで有機化合物層を挟んだ構造を有する。有機ＥＬ素子に電圧を印加すると、陽極から有機化合物層に正孔（ホール）が注入され、陰極から有機化合物層に電子が注入される。有機化合物層に注入された正孔と電子との結合により生じるエネルギーにより、有機化合物層を構成する有機材料が励起させられ、励起状態から基底状態に戻るときに有機化合物層が発光する。このようにして有機化合物層から発生した光を取り出す方式として、ボトムエミッション方式とトップエミッション方式とが知られている。 An organic EL display device using an organic electroluminescence (EL) element has high visibility due to self-luminous emission, is an all-solid-state display device unlike a liquid crystal display device, is not easily affected by temperature changes, has a large viewing angle, etc. In recent years, it has been put into practical use as a full-color display device because of its advantages. The organic EL element in the organic EL display device has a structure in which an organic compound layer is sandwiched between an anode (anode electrode) and a cathode (cathode electrode) provided on a substrate. When a voltage is applied to the organic EL element, holes are injected from the anode into the organic compound layer, and electrons are injected from the cathode into the organic compound layer. The energy generated by the bonding of holes and electrons injected into the organic compound layer excites the organic material constituting the organic compound layer, and the organic compound layer emits light when returning from the excited state to the ground state. As a method for extracting the light generated from the organic compound layer in this way, a bottom emission method and a top emission method are known.

特開２０００−８２５８２号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-82582

ボトムエミッション方式及びトップエミッション方式のいずれにおいても、従来の有機ＥＬ表示装置においては、Ｍｇ／Ａｇ等の光透過率の低い材料により構成される陰極（カソード電極)が、全面に設けられている。そのため、有機ＥＬ表示装置の厚さ方向における光透過率が低いという問題がある。また、陰極（カソード電極）をストライプ状に形成することで、光透過率を高める技術も知られているものの（例えば、特許文献１参照）、光透過率を高めすぎると、陰極（カソード電極）の面積が相対的に小さくなり、陰極（カソード電極）の電気抵抗が増大してしまうという問題もある。さらに、陰極（カソード電極）をストライプ状に形成するために用いられる蒸着マスクにおいては、ストライプ状の陰極（カソード電極）に対応するスリット（開口）が撚れやすいため、蒸着マスクの位置合わせが困難であるという問題もある。 In both the bottom emission method and the top emission method, in the conventional organic EL display device, a cathode (cathode electrode) made of a material having a low light transmittance such as Mg / Ag is provided on the entire surface. Therefore, there is a problem that the light transmittance in the thickness direction of the organic EL display device is low. Further, although a technique for increasing the light transmittance by forming the cathode (cathode electrode) in a striped shape is known (see, for example, Patent Document 1), if the light transmittance is increased too much, the cathode (cathode electrode) There is also a problem that the area of the cathode becomes relatively small and the electrical resistance of the cathode (cathode electrode) increases. Further, in the vapor deposition mask used for forming the cathode (cathode electrode) in a striped shape, the slit (opening) corresponding to the striped cathode (cathode electrode) is easily twisted, so that the alignment of the vapor deposition mask is difficult. There is also the problem of being.

なお、トップエミッション方式の有機ＥＬ表示装置において、低い光透過率及び高い反射率を有する材料（例えば、Ａｇ、Ａｌ等）によりアノード電極を構成し、半透明導電膜（例えば、光透過率が４０％〜７０％程度の導電膜）により共通電極としてのカソード電極を構成し、カソード電極を全面に設けることで、光透過率を向上させることも考えられる。ボトムエミッション方式の有機ＥＬ表示装置に比べれば、その厚さ方向に高い光透過率を有することができる。しかしながら、このような有機ＥＬ表示装置においても、半透明導電膜により構成されるカソード電極が全面に設けられることになるため、有機ＥＬ表示装置の厚さ方向の光透過率をさらに向上させることが困難であるという問題が依然としてある。 In the top emission type organic EL display device, the anode electrode is made of a material having low light transmittance and high reflectance (for example, Ag, Al, etc.), and a translucent conductive film (for example, light transmittance is 40). It is also conceivable to improve the light transmittance by forming a cathode electrode as a common electrode with (a conductive film of about% to 70%) and providing the cathode electrode on the entire surface. Compared with the bottom emission type organic EL display device, it can have a high light transmittance in the thickness direction. However, even in such an organic EL display device, since the cathode electrode composed of the translucent conductive film is provided on the entire surface, the light transmittance in the thickness direction of the organic EL display device can be further improved. There is still the problem of difficulty.

上記課題に鑑みて、本開示は、光の透過性能に優れた有機エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法、並びに当該有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造に用いられる蒸着マスクセットを提供することを一目的とする。 In view of the above problems, one object of the present disclosure is to provide an organic electroluminescence display device having excellent light transmission performance, a method for manufacturing the same, and a vapor deposition mask set used for manufacturing the organic electroluminescence display device. To do.

本開示の第１の態様は、第１面及び前記第１面に対向する第２面を有する基板と、前記基板の前記第１面上に、第１方向及び前記第１方向に直交する第２方向に沿ってマトリックス状に位置する複数の第１電極と、前記複数の第１電極上にそれぞれ位置する複数の有機化合物層と、前記複数の有機化合物層上に位置する第２電極とを備え、前記第２電極は、前記各有機化合物層上に位置する非透明電極と、すべての前記非透明電極と電気的に接続される透明電極とを含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置である。 A first aspect of the present disclosure is a substrate having a first surface and a second surface facing the first surface, and a first surface orthogonal to the first direction and the first direction on the first surface of the substrate. A plurality of first electrodes located in a matrix along two directions, a plurality of organic compound layers each located on the plurality of first electrodes, and a second electrode located on the plurality of organic compound layers are provided. The second electrode is an organic electroluminescence display device including a non-transparent electrode located on each of the organic compound layers and a transparent electrode electrically connected to all the non-transparent electrodes.

本開示の第２の態様として、上記第１の態様において、前記透明電極は、すべての前記非透明電極を一体的に被覆していてもよい。
本開示の第３の態様として、上記第１の態様及び第２の態様のそれぞれにおいて、前記複数の有機化合物層は、第１発光色を発光する第１有機発光層を含む第１有機化合物層と、前記第１発光色と異なる第２発光色を発光する第２有機発光層を含む第２有機化合物層とを少なくとも含み、前記第１有機化合物層上に位置する前記第２電極の前記非透明電極の厚さと、前記第２有機化合物層上に位置する前記第２電極の前記非透明電極の厚さとは、互いに異なっていてもよい。 As a second aspect of the present disclosure, in the first aspect, the transparent electrode may integrally cover all the non-transparent electrodes.
As a third aspect of the present disclosure, in each of the first aspect and the second aspect, the plurality of organic compound layers are first organic compound layers including a first organic light emitting layer that emits a first emission color. And a second organic compound layer including a second organic light emitting layer that emits a second light emitting color different from the first light emitting color, and the non-existent second electrode located on the first organic compound layer. The thickness of the transparent electrode and the thickness of the non-transparent electrode of the second electrode located on the second organic compound layer may be different from each other.

本開示の第４の態様として、上記第１の態様及び第２の態様のそれぞれにおいて、前記複数の有機化合物層は、第１発光色を発光する第１有機発光層を含む第１有機化合物層と、前記第１発光色と異なる第２発光色を発光する第２有機発光層を含む第２有機化合物層とを少なくとも含み、前記第１有機化合物層上に位置する前記第２電極の前記非透明電極を構成する導電材料と、前記第２有機化合物層上に位置する前記第２電極の前記非透明電極を構成する導電材料とは、互いに異なる材料であってもよい。 As a fourth aspect of the present disclosure, in each of the first aspect and the second aspect, the plurality of organic compound layers are first organic compound layers including a first organic light emitting layer that emits a first emission color. And a second organic compound layer including a second organic light emitting layer that emits a second light emitting color different from the first light emitting color, and the non-existent second electrode located on the first organic compound layer. The conductive material constituting the transparent electrode and the conductive material constituting the non-transparent electrode of the second electrode located on the second organic compound layer may be different materials from each other.

本開示の第５の態様として、上記第４の態様において、前記第１有機化合物層上に位置する前記第２電極の前記非透明電極の厚さと、前記第２有機化合物層上に位置する前記第２電極の前記非透明電極の厚さとは、互いに異なっていてもよい。 As a fifth aspect of the present disclosure, in the fourth aspect, the thickness of the non-transparent electrode of the second electrode located on the first organic compound layer and the thickness of the non-transparent electrode located on the second organic compound layer. The thickness of the non-transparent electrode of the second electrode may be different from each other.

本開示の第６の態様は、第１面及び前記第１面に対向する第２面を有する基板を準備する工程と、前記基板の前記第１面上に、第１方向及び前記第１方向に直交する第２方向に沿ってマトリックス状に位置する複数の第１電極を形成する工程と、前記複数の第１電極のそれぞれに重なる有機化合物層を形成する工程と、前記複数の有機化合物層上に重なる複数の第２電極を形成する工程とを含み、前記第２電極を形成する工程は、前記複数の有機化合物層上に位置する非透明電極を形成する工程と、すべての前記非透明電極に電気的に接続される透明電極を形成する工程とを有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法である。 A sixth aspect of the present disclosure is a step of preparing a substrate having a first surface and a second surface facing the first surface, and a first direction and the first direction on the first surface of the substrate. A step of forming a plurality of first electrodes located in a matrix along a second direction orthogonal to the above, a step of forming an organic compound layer overlapping each of the plurality of first electrodes, and the plurality of organic compound layers. The step of forming the second electrode includes the step of forming a plurality of second electrodes overlapping on the top, and the step of forming the non-transparent electrode located on the plurality of organic compound layers and the step of forming all the non-transparent electrodes. A method for manufacturing an organic electroluminescence display device, which comprises a step of forming a transparent electrode electrically connected to the electrode.

本開示の第７の態様として、上記第６の態様において、前記透明電極は、すべての前記非透明電極を一体的に被覆するように形成されてもよい。
本開示の第８の態様として、上記第６の態様及び第７の態様のそれぞれにおいて、前記複数の有機化合物層は、第１発光色を発光する第１有機発光層を含む第１有機化合物層と、前記第１発光色と異なる第２発光色を発光する第２有機発光層を含む第２有機化合物層とを少なくとも含み、前記非透明電極を形成する工程は、前記第１有機化合物層上に第１膜厚で導電材料を蒸着することで前記非透明電極を形成する工程と、前記第２有機化合物層上に前記第１膜厚と異なる第２膜厚で導電材料を蒸着することで前記非透明電極を形成する工程とを含んでいてもよい。 As a seventh aspect of the present disclosure, in the sixth aspect, the transparent electrode may be formed so as to integrally cover all the non-transparent electrodes.
As an eighth aspect of the present disclosure, in each of the sixth aspect and the seventh aspect, the plurality of organic compound layers are the first organic compound layer including the first organic light emitting layer that emits the first emission color. The step of forming the non-transparent electrode is performed on the first organic compound layer, which includes at least a second organic compound layer including a second organic light emitting layer that emits a second emission color different from the first emission color. By depositing a conductive material with a first film thickness to form the non-transparent electrode, and by depositing a conductive material on the second organic compound layer with a second film thickness different from the first film thickness. The step of forming the non-transparent electrode may be included.

本開示の第９の態様として、上記第６の態様及び第７の態様のそれぞれにおいて、前記複数の有機化合物層は、第１発光色を発光する第１有機発光層を含む第１有機化合物層と、前記第１発光色と異なる第２発光色を発光する第２有機発光層を含む第２有機化合物層とを少なくとも含み、前記非透明電極を形成する工程は、前記第１有機化合物層上に第１導電材料を蒸着する工程と、前記第２有機化合物層上に前記第１導電材料と異なる第２導電材料を蒸着する工程とを含んでいてもよい。 As a ninth aspect of the present disclosure, in each of the sixth aspect and the seventh aspect, the plurality of organic compound layers are a first organic compound layer including a first organic light emitting layer that emits a first emission color. The step of forming the non-transparent electrode is performed on the first organic compound layer, which includes at least a second organic compound layer including a second organic light emitting layer that emits a second emission color different from the first emission color. May include a step of depositing a first conductive material and a step of depositing a second conductive material different from the first conductive material on the second organic compound layer.

本開示の第１０の態様として、上記第９の態様において、前記非透明電極を形成する工程において、前記第１有機化合物層上に第１膜厚で前記第１導電材料を蒸着し、前記第２有機化合物層上に前記第１膜厚と異なる第２膜厚で前記第２導電材料を蒸着してもよい。 As a tenth aspect of the present disclosure, in the ninth aspect, in the step of forming the non-transparent electrode, the first conductive material is deposited on the first organic compound layer with a first film thickness, and the first conductive material is deposited. The second conductive material may be deposited on the organic compound layer with a second film thickness different from the first film thickness.

本開示の第１１の態様は、第１面及び前記第１面に対向する第２面を有する基板と、前記基板の前記第１面上に、第１方向及び前記第１方向に直交する第２方向に沿ってマトリックス状に位置する複数の第１電極と、前記複数の第１電極上にそれぞれ位置する複数の有機化合物層と、前記複数の有機化合物層上に位置する第２電極とを備え、前記複数の有機化合物層は、第１発光色を発光する第１有機発光層を含む第１有機化合物層と、前記第１発光色と異なる第２発光色を発光する第２有機発光層を含む第２有機化合物層と、前記第１発光色及び前記第２発光色と異なる第３発光色を発光する第３有機発光層とを有し、前記第２電極は、前記各有機化合物層上に位置する非透明電極と、すべての前記非透明電極と電気的に接続される透明電極とを含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、前記非透明電極を形成するために用いられる複数の蒸着マスクを含む蒸着マスクセットであって、前記複数の蒸着マスクは、前記第１有機化合物層上に前記非透明電極を形成するために用いられる第１蒸着マスクと、前記第２有機化合物層上に前記非透明電極を形成するために用いられる第２蒸着マスクと、前記第３有機化合物層上に前記非透明電極を形成するために用いられる第３蒸着マスクとを含み、前記第１蒸着マスクは、第１面及び前記第１面に対向する第２面を有する第１金属基材と、前記第１有機化合物層上の前記非透明電極に対応する第１貫通孔と、前記第１金属基材の前記第１面に位置する第１アライメントマークとを有し、前記第２蒸着マスクは、第１面及び前記第１面に対向する第２面を有する第２金属基材と、前記第２有機化合物層上の前記非透明電極に対応する第２貫通孔と、前記金属基材の前記第１面に位置する第２アライメントマークとを有し、前記第３蒸着マスクは、第１面及び前記第１面に対向する第２面を有する第３金属基材と、前記第３有機化合物層上の前記非透明電極に対応する第３貫通孔と、前記第３金属基材の前記第１面に位置する第３アライメントマークとを有する蒸着マスクセットである。 An eleventh aspect of the present disclosure is a substrate having a first surface and a second surface facing the first surface, and a first surface orthogonal to the first direction and the first direction on the first surface of the substrate. A plurality of first electrodes located in a matrix along two directions, a plurality of organic compound layers located on the plurality of first electrodes, and a second electrode located on the plurality of organic compound layers are provided. The plurality of organic compound layers include a first organic compound layer including a first organic light emitting layer that emits a first emission color, and a second organic light emitting layer that emits a second emission color different from the first emission color. A second organic compound layer containing the above and a third organic light emitting layer that emits a third light emitting color different from the first light emitting color and the second light emitting color, and the second electrode is the organic compound layer. A plurality of vapor deposition masks used to form the non-transparent electrode in an organic electroluminescence display device including a non-transparent electrode located above and a transparent electrode electrically connected to all the non-transparent electrodes. A set of vapor deposition masks including the first vapor deposition mask used for forming the non-transparent electrode on the first organic compound layer and the non-vapor deposition mask on the second organic compound layer. The first vapor deposition mask includes a second vapor deposition mask used for forming the transparent electrode and a third vapor deposition mask used for forming the non-transparent electrode on the third organic compound layer. A first metal base material having one surface and a second surface facing the first surface, a first through hole corresponding to the non-transparent electrode on the first organic compound layer, and the first metal base material. The second vapor deposition mask has a first alignment mark located on the first surface, and the second vapor deposition mask has a second metal base material having a first surface and a second surface facing the first surface, and the second organic substance. The third vapor deposition mask has a second through hole corresponding to the non-transparent electrode on the compound layer and a second alignment mark located on the first surface of the metal substrate, and the third vapor deposition mask is the first surface and the said. A third metal base material having a second surface facing the first surface, a third through hole corresponding to the non-transparent electrode on the third organic compound layer, and the first surface of the third metal base material. It is a vapor deposition mask set having a third alignment mark located at.

本開示の第１２の態様は、第１面及び前記第１面に対向する第２面を有する基板と、前記基板の前記第１面上に、第１方向及び前記第１方向に直交する第２方向に沿ってマトリックス状に位置する複数の第１電極と、前記複数の第１電極上にそれぞれ位置する複数の有機化合物層と、前記複数の有機化合物層上に位置する第２電極とを備え、前記複数の有機化合物層は、第１発光色を発光する第１有機発光層を含む第１有機化合物層と、前記第１発光色と異なる第２発光色を発光する第２有機発光層を含む第２有機化合物層と、前記第１発光色及び前記第２発光色と異なる第３発光色を発光する第３有機発光層とを有し、前記第２電極は、前記各有機化合物層上に位置する非透明電極と、すべての前記非透明電極と電気的に接続される透明電極とを含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、前記第２電極を形成するために用いられる複数の蒸着マスクを含む蒸着マスクセットであって、前記複数の蒸着マスクは、前記第１有機化合物層上及び第２有機化合物層上にそれぞれ前記非透明電極を形成するために用いられる第１蒸着マスクと、前記第３有機化合物層上に前記非透明電極を形成するために用いられる第２蒸着マスクとを含み、前記第１蒸着マスクは、第１面及び前記第１面に対向する第２面を有する第１金属基材と、前記第１有機化合物層上の前記非透明電極に対応する第１貫通孔と、前記第２有機化合物層上の前記非透明電極に対応する第２貫通孔と、前記第１金属基材の前記第１面に位置する第１アライメントマークとを有し、前記第２蒸着マスクは、第１面及び前記第１面に対向する第２面を有する第２金属基材と、前記第３有機化合物層上の前記非透明電極に対応する第３貫通孔と、前記金属基材の前記第１面に位置する第２アライメントマークとを有する蒸着マスクセットである。 A twelfth aspect of the present disclosure is a substrate having a first surface and a second surface facing the first surface, and a first surface orthogonal to the first direction and the first direction on the first surface of the substrate. A plurality of first electrodes located in a matrix along two directions, a plurality of organic compound layers located on the plurality of first electrodes, and a second electrode located on the plurality of organic compound layers are provided. The plurality of organic compound layers include a first organic compound layer including a first organic light emitting layer that emits a first emission color, and a second organic light emitting layer that emits a second emission color different from the first emission color. A second organic compound layer containing the above and a third organic light emitting layer that emits a third light emitting color different from the first light emitting color and the second light emitting color, and the second electrode is the organic compound layer. A plurality of vapor deposition masks used to form the second electrode in an organic electroluminescence display device including a non-transparent electrode located above and a transparent electrode electrically connected to all the non-transparent electrodes. The plurality of vapor deposition masks include a first vapor deposition mask used for forming the non-transparent electrode on the first organic compound layer and the second organic compound layer, respectively, and the first vapor deposition mask. The first vapor deposition mask includes a second vapor deposition mask used for forming the non-transparent electrode on the organic compound layer, and the first vapor deposition mask has a first surface and a second surface facing the first surface. The metal substrate, the first through hole corresponding to the non-transparent electrode on the first organic compound layer, the second through hole corresponding to the non-transparent electrode on the second organic compound layer, and the first through hole. The second vapor deposition mask has a first alignment mark located on the first surface of the metal substrate, and the second vapor deposition mask includes a second metal substrate having a first surface and a second surface facing the first surface. A vapor deposition mask set having a third through hole corresponding to the non-transparent electrode on the third organic compound layer and a second alignment mark located on the first surface of the metal substrate.

本開示の第１３の態様は、上記第６〜第１０の態様のそれぞれの有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法により製造されてなる有機エレクトロルミネッセンス表示装置である。 The thirteenth aspect of the present disclosure is an organic electroluminescence display device manufactured by the method for manufacturing the organic electroluminescence display device of each of the sixth to tenth aspects.

本開示によれば、光の透過性能に優れた有機エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法、並びに当該有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造に用いられる蒸着マスクセットが提供され得る。 According to the present disclosure, an organic electroluminescence display device having excellent light transmission performance, a method for manufacturing the same, and a vapor deposition mask set used for manufacturing the organic electroluminescence display device can be provided.

図１は、本開示の一実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の概略構成を示す切断端面図である。FIG. 1 is a cut end view showing a schematic configuration of an organic electroluminescence (EL) display device according to an embodiment of the present disclosure. 図２Ａは、本開示の一実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の製造方法の一工程を示す切断端面図である。FIG. 2A is a cut end view showing one step of a method for manufacturing an organic electroluminescence (EL) display device according to an embodiment of the present disclosure. 図２Ｂは、本開示の一実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の製造方法の一工程であって、図２Ａに示す工程に続く工程を示す切断端面図である。FIG. 2B is a cut end view showing a step of a method for manufacturing an organic electroluminescence (EL) display device according to an embodiment of the present disclosure, which follows the step shown in FIG. 2A. 図２Ｃは、本開示の一実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の製造方法の一工程であって、図２Ｂに示す工程に続く工程を示す切断端面図である。FIG. 2C is a cut end view showing a step of a method for manufacturing an organic electroluminescence (EL) display device according to an embodiment of the present disclosure, which follows the step shown in FIG. 2B. 図２Ｄは、本開示の一実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の製造方法の一工程であって、図２Ｃに示す工程に続く工程を示す切断端面図である。FIG. 2D is a cut end view showing a step of a method for manufacturing an organic electroluminescence (EL) display device according to an embodiment of the present disclosure, which follows the step shown in FIG. 2C. 図２Ｅは、本開示の一実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の製造方法の一工程であって、図２Ｄに示す工程に続く工程を示す切断端面図である。FIG. 2E is a cut end view showing a step of a method for manufacturing an organic electroluminescence (EL) display device according to an embodiment of the present disclosure, which follows the step shown in FIG. 2D. 図２Ｆは、本開示の一実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の製造方法の一工程であって、図２Ｅに示す工程に続く工程を示す切断端面図である。FIG. 2F is a cut end view showing a step of a method for manufacturing an organic electroluminescence (EL) display device according to an embodiment of the present disclosure, which follows the step shown in FIG. 2E. 図２Ｇは、本開示の一実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の製造方法の一工程であって、図２Ｆに示す工程に続く工程を示す切断端面図である。FIG. 2G is a cut end view showing a step of a method for manufacturing an organic electroluminescence (EL) display device according to an embodiment of the present disclosure, which follows the step shown in FIG. 2F. 図３Ａは、本開示の一実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の製造方法の一工程であって、非透明電極を形成する工程の変形例を示す切断端面図である。FIG. 3A is a cut end view showing a modified example of a step of manufacturing an organic electroluminescence (EL) display device according to an embodiment of the present disclosure, which is a step of forming a non-transparent electrode. 図３Ｂは、本開示の一実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の製造方法の一工程であって、図３Ａに示す工程に続く工程を示す切断端面図である。FIG. 3B is a cut end view showing a step of a method for manufacturing an organic electroluminescence (EL) display device according to an embodiment of the present disclosure, which follows the step shown in FIG. 3A. 本開示の一実施形態における第１蒸着マスクセットの第１蒸着マスクの概略構成を示す部分斜視図である。It is a partial perspective view which shows the schematic structure of the 1st vapor deposition mask of the 1st vapor deposition mask set in one Embodiment of this disclosure. 本開示の一実施形態における第１蒸着マスクセットの第２蒸着マスクの概略構成を示す部分斜視図である。It is a partial perspective view which shows the schematic structure of the 2nd thin film mask of the 1st thin film mask set in one Embodiment of this disclosure. 本開示の一実施形態における第１蒸着マスクセットの第３蒸着マスクの概略構成を示す部分斜視図である。It is a partial perspective view which shows the schematic structure of the 3rd vapor deposition mask of the 1st vapor deposition mask set in one Embodiment of this disclosure. 本開示の一実施形態における第２蒸着マスクセットの第１蒸着マスクの概略構成を示す部分斜視図である。It is a partial perspective view which shows the schematic structure of the 1st thin-film mask of the 2nd thin-film mask set in one Embodiment of this disclosure. 本開示の一実施形態における第２蒸着マスクセットの第２蒸着マスクの概略構成を示す部分斜視図である。It is a partial perspective view which shows the schematic structure of the 2nd thin film mask of the 2nd thin film mask set in one Embodiment of this disclosure.

本明細書及び本図面において、特別な説明がない限りは、「板」、「シート」、「フィルム」などの用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「板」はシートやフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念である。また、「面（シート面、フィルム面）」とは、対象となる板状（シート状、フィルム状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となる板状部材（シート状部材、フィルム状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。また、板状（シート状、フィルム状）の部材に対して用いる法線方向とは、当該部材の面（シート面、フィルム面）に対する法線方向のことを指す。さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。 In the present specification and the present drawings, unless otherwise specified, terms such as "board", "sheet", and "film" are not distinguished from each other based solely on the difference in designation. For example, "board" is a concept that includes members that can be called sheets or films. Further, the "plane (sheet surface, film surface)" is a plate-like member (sheet-like member) that is a target when the target plate-like (sheet-like, film-like) member is viewed as a whole and in a broad sense. , A film-like member) that coincides with the plane direction. Further, the normal direction used for a plate-shaped (sheet-shaped, film-shaped) member refers to a normal direction with respect to a surface (sheet surface, film surface) of the member. Furthermore, the terms used in this specification, such as "parallel" and "orthogonal", and the values of length and angle, which specify the shape and geometric conditions and their degrees, are bound by strict meanings. Instead, the interpretation will include the range in which similar functions can be expected.

本明細書及び本図面において、特別な説明がない限りは、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。 Unless otherwise specified, the present specification and the present drawings specify shapes, geometric conditions, and their degrees, for example, terms such as "parallel" and "orthogonal", and length and angle values. Is to be interpreted including the range in which similar functions can be expected without being bound by the strict meaning.

本明細書及び本図面において、ある部材又はある領域等のある構成が、他の部材又は他の領域等の他の構成の「上に（又は下に）」、「上側に（又は下側に）」、又は「上方に（又は下方に）」とする場合、特別な説明がない限りは、ある構成が他の構成に直接的に接している場合のみでなく、ある構成と他の構成との間に別の構成が含まれている場合も含めて解釈することとする。また、特別な説明がない限りは、上（又は、上側や上方）又は下（又は、下側、下方）という語句を用いて説明する場合があるが、上下方向が逆転してもよい。 In the present specification and the drawings, a configuration such as a member or region is "above (or below)", "above (or below)" another configuration such as another member or region. ) ”Or“ upward (or downward) ”, unless otherwise specified, not only when one configuration is in direct contact with another, but also with one configuration and another. It shall be interpreted including the case where another configuration is included between. Further, unless otherwise specified, the term “upper (or upper or upper) or lower (or lower or lower) may be used for explanation, but the vertical direction may be reversed.

本明細書及び本図面において、特別な説明がない限りは、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号又は類似の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、図面の寸法比率は説明の都合上実際の比率とは異なる場合や、構成の一部が図面から省略される場合がある。 In the present specification and the present drawings, unless otherwise specified, the same parts or parts having similar functions are designated by the same reference numerals or similar reference numerals, and the repeated description thereof may be omitted. In addition, the dimensional ratio of the drawing may differ from the actual ratio for convenience of explanation, or a part of the configuration may be omitted from the drawing.

本明細書及び本図面において、特別な説明がない限りは、矛盾の生じない範囲で、その他の実施形態や変形例と組み合わせられ得る。また、その他の実施形態同士や、その他の実施形態と変形例も、矛盾の生じない範囲で組み合わせられ得る。また、変形例同士も、矛盾の生じない範囲で組み合わせられ得る。 Unless otherwise specified, this specification and the present drawings may be combined with other embodiments and modifications to the extent that there is no contradiction. Further, other embodiments and modifications thereof can be combined within a range that does not cause a contradiction. Further, the modified examples can be combined as long as there is no contradiction.

本明細書及び本図面において、特別な説明がない限りは、製造方法などの方法に関して複数の工程を開示する場合に、開示されている工程の間に、開示されていないその他の工程が実施されてもよい。また、開示されている工程の順序は、矛盾の生じない範囲で任意である。 Unless otherwise specified in the present specification and the present drawings, when a plurality of steps are disclosed with respect to a method such as a manufacturing method, other steps not disclosed are carried out between the disclosed steps. You may. In addition, the order of the disclosed steps is arbitrary as long as there is no contradiction.

本明細書及び本図面において、特別な説明がない限りは、「〜」という記号によって表現される数値範囲は、「〜」という記号の前後に置かれた数値を含んでいる。例えば、「３４〜３８質量％」という表現によって画定される数値範囲は、「３４質量％以上且つ３８質量％以下」という表現によって画定される数値範囲と同一である。 Unless otherwise specified in the present specification and the drawings, the numerical range represented by the symbol "~" includes the numerical values placed before and after the symbol "~". For example, the numerical range defined by the expression "34 to 38% by mass" is the same as the numerical range defined by the expression "34% by mass or more and 38% by mass or less".

本開示の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例であって、本開示はこれらの実施形態のみに限定して解釈されるものではない。 Embodiments of the present disclosure will be described with reference to the drawings. The embodiments shown below are examples of the embodiments of the present disclosure, and the present disclosure is not construed as being limited to these embodiments.

図１は、本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の概略構成を示す切断端面図である。
図１に示すように、有機ＥＬ表示装置１０は、薄膜トランジスタ素子（ＴＦＴ素子，図示省略）を有する基板１１、第１層間絶縁膜１２、第１電極１３、有機化合物層１４、第２電極１５及び第２層間絶縁膜１６をこの順で含む積層体として構成されていてもよい。本実施形態において、有機ＥＬ表示装置１０は、有機化合物層１４で発生した光が基板１１側から取り出されるボトムエミッションタイプのものであってもよいし、有機化合物層１４で発生した光が第２層間絶縁膜１６側から取り出されるトップエミッションタイプのものであってもよい。 FIG. 1 is a cut end view showing a schematic configuration of an organic electroluminescence (EL) display device according to the present embodiment.
As shown in FIG. 1, the organic EL display device 10 includes a substrate 11 having a thin film transistor element (TFT element, not shown), a first interlayer insulating film 12, a first electrode 13, an organic compound layer 14, a second electrode 15, and the like. It may be configured as a laminated body including the second interlayer insulating film 16 in this order. In the present embodiment, the organic EL display device 10 may be of the bottom emission type in which the light generated in the organic compound layer 14 is extracted from the substrate 11 side, or the light generated in the organic compound layer 14 is the second. It may be a top emission type taken out from the interlayer insulating film 16 side.

基板１１は、第１面１１Ａ及び当該第１面１１Ａに対向する第２面１１Ｂを有する透明基板であって、例えば、第１面１１Ａ側にＴＦＴ素子が設けられていればよい。基板１１としては、例えば、アルカリガラス、石英ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス等のガラス基板；サファイア基板；アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド等の樹脂基板等が用いられ得る。 The substrate 11 is a transparent substrate having a first surface 11A and a second surface 11B facing the first surface 11A, and for example, a TFT element may be provided on the first surface 11A side. Examples of the substrate 11 include glass substrates such as alkaline glass, quartz glass, borosilicate glass, and non-alkali glass; sapphire substrates; resin substrates such as acrylic resin, polyester resin, polycarbonate resin, polyolefin resin, cycloolefin polymer, and polyimide. Can be used.

基板１１の大きさ（平面視における大きさ）や厚さは、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置１０の大きさや基板１１の取扱性等を考慮して適宜設定され得るものであって、特に限定されるものではない。 The size (size in plan view) and thickness of the substrate 11 can be appropriately set in consideration of the size of the organic EL display device 10 according to the present embodiment, the handleability of the substrate 11, and the like. It is not limited.

基板１１の第１面１１Ａ上には、複数のＴＦＴ素子が第１方向及び第１方向に直交する第２方向に沿ってマトリックス状に位置し、第１方向に延びる複数のデータ線（図示省略）と、第２方向に延びる複数のゲート線（図示省略）とが位置していてもよい。なお、「マトリックス状」とは、部材が一方向及び当該一方向に直交する方向のそれぞれにおいて所定のピッチで並列している状態を意味する。例えば、「複数のＴＦＴ素子が第１方向及び第１方向に直交する第２方向に沿ってマトリックス状に位置する」とは、各ＴＦＴ素子が第１方向及び第２方向のそれぞれにおいて所定のピッチで並列していることを意味し、第１方向に並列するＴＦＴ素子のピッチと、第２方向に並列するＴＦＴ素子のピッチとは、同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、「第１方向」は、基板１１の第１面１１Ａと平行な任意の平面上における任意の一方向であればよく、「第２方向」は、当該平面上における第１方向に直交する方向であればよい。 On the first surface 11A of the substrate 11, a plurality of TFT elements are located in a matrix along a first direction and a second direction orthogonal to the first direction, and a plurality of data lines extending in the first direction (not shown). ) And a plurality of gate lines (not shown) extending in the second direction may be located. The "matrix shape" means a state in which the members are arranged in parallel at a predetermined pitch in each of one direction and the direction orthogonal to the one direction. For example, "a plurality of TFT elements are located in a matrix along a first direction and a second direction orthogonal to the first direction" means that each TFT element has a predetermined pitch in each of the first direction and the second direction. The pitch of the TFT elements parallel to each other in the first direction and the pitch of the TFT elements parallel to each other in the second direction may be the same or different. Further, the "first direction" may be any one direction on an arbitrary plane parallel to the first surface 11A of the substrate 11, and the "second direction" is orthogonal to the first direction on the plane. Any direction is acceptable.

各ＴＦＴ素子は、第２層間絶縁膜１６から基板１１に向かう平面視において、データ線とゲート線とが交差する点（交点）に位置していてもよい。ＴＦＴ素子は、例えば、ゲート線上に絶縁膜を介在させて位置する半導体層、半導体層上に位置するデータ線、ソース電極及びドレイン電極を含んでいてもよく、既知の例えば多結晶シリコンＴＦＴ等であってもよい。ソース電極は、スルーホールビア（図示省略）を介して第１電極１３に電気的に接続されていればよい。ＴＦＴ素子は、第１電極１３及び第２電極１５から赤色有機化合物層１４Ｒ、緑色有機化合物層１４Ｇ及び青色有機化合物層１４Ｂに選択的に印加される電圧を制御することができる。 Each TFT element may be located at a point (intersection) where the data line and the gate line intersect in a plan view from the second interlayer insulating film 16 to the substrate 11. The TFT element may include, for example, a semiconductor layer located on the gate wire with an insulating film interposed therebetween, a data line located on the semiconductor layer, a source electrode and a drain electrode, and is known, for example, a polycrystalline silicon TFT or the like. There may be. The source electrode may be electrically connected to the first electrode 13 via a through-hole via (not shown). The TFT element can control the voltage selectively applied from the first electrode 13 and the second electrode 15 to the red organic compound layer 14R, the green organic compound layer 14G, and the blue organic compound layer 14B.

第１電極１３及び第２電極１５のいずれか一方は、陽極（アノード電極）を構成し、第１電極１３及び第２電極１５の他方は、陰極（カソード電極）を構成していればよい。例えば、第１電極１３がアノード電極であって、第２電極１５がカソード電極であってもよい。もちろん、第１電極１３がカソード電極であって、第２電極１５がアノード電極であってもよい。第１電極１３と第２電極１５との間に挟まれた有機化合物層１４は、第１電極１３側から第２電極１５側に向かって正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層及び電子注入層をこの順で含む積層体であってもよい。第１電極１３側から駆動電圧が印加されると、第１電極１３から正孔が有機発光層に注入され、第２電極１５から電子が有機発光層に注入される。有機発光層に注入された正孔と電子との結合により生じるエネルギーにより、有機発光層を構成する有機材料が励起させられ、励起状態から基底状態に戻るときに有機発光層が発光する。 Either one of the first electrode 13 and the second electrode 15 may form an anode (anode electrode), and the other of the first electrode 13 and the second electrode 15 may form a cathode (cathode electrode). For example, the first electrode 13 may be an anode electrode and the second electrode 15 may be a cathode electrode. Of course, the first electrode 13 may be the cathode electrode and the second electrode 15 may be the anode electrode. The organic compound layer 14 sandwiched between the first electrode 13 and the second electrode 15 includes a hole injection layer, a hole transport layer, and an organic light emitting layer from the first electrode 13 side to the second electrode 15 side. It may be a laminate containing an electron transport layer and an electron injection layer in this order. When a driving voltage is applied from the first electrode 13 side, holes are injected into the organic light emitting layer from the first electrode 13, and electrons are injected into the organic light emitting layer from the second electrode 15. The energy generated by the bonding of holes and electrons injected into the organic light emitting layer excites the organic material constituting the organic light emitting layer, and the organic light emitting layer emits light when returning from the excited state to the ground state.

第１電極１３は、相対的に光を透過しやすい透明導電材料により構成されていてもよいし、相対的に光を透過しにくい非透明導電材料により構成されていてもよい。透明導電材料としては、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide；インジウム錫酸化物）、ＩｎＺｎＯ（Indium Zinc Oxide；インジウム亜鉛酸化物）、ＡｌＺｎＯ（Aluminum Zinc Oxide；アルミニウム亜鉛酸化物）、ＡｌＴＯ（Aluminum Tin Oxide；アルミニウム錫酸化物）等が挙げられる。相対的に光を透過し難い非透明導電材料としては、例えば、Ｍｇ、Ａｇ、Ｍｇ／Ａｇ（マグネシウム銀合金）、Ａｌ、Ｃａ等の金属材料等が挙げられる。なお、本実施形態における「透明」は、光の透過率（％）によって定義されることができ、透明であることが要求される又は透明であることが望ましい用途等に応じた波長の光の透過率（％）によって定義されてもよい。例えば、近赤外光を発する発光素子と当該近赤外光を受ける受光素子とを含む近接センサを有機ＥＬ表示装置１０に設けるために透明であることが要求される又は透明であることが望ましい場合には、「透明」は、波長７００ｎｍ〜１４００ｎｍの光の透過率（％）によって定義され得る。また、有機ＥＬ表示装置１０に撮像素子を設けるために透明であることが要求される又は透明であることが望ましいには、「透明」は、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの光の透過率（％）によって定義され得る。具体的には、「透明」とは、各用途等に応じた波長域の光の透過率が３０％以上であることを意味し、好ましくは各用途等に応じた波長域の光の透過率が８０％以上であればよい。一方で、「非透明」とは、各用途等に応じた波長域の光の透過率が３０％未満であることを意味し、好ましくは各用途等に応じた波長域の光の透過率が５％以下であればよい。なお、各波長域の光の透過率は、例えば、分光ヘーズメーター（製品名：ＨＳＰ−１５０ＶＩＲ，村上色彩技術研究所製）を用いて計測され得る。 The first electrode 13 may be made of a transparent conductive material that is relatively easy to transmit light, or may be made of a non-transparent conductive material that is relatively difficult to transmit light. Examples of the transparent conductive material include ITO (Indium Tin Oxide), InZNO (Indium Zinc Oxide), AlZNO (Aluminum Zinc Oxide), and AlTO (Aluminum Tin Oxide). (Indium tin oxide) and the like. Examples of the non-transparent conductive material that is relatively difficult to transmit light include metal materials such as Mg, Ag, Mg / Ag (magnesium-silver alloy), Al, and Ca. In addition, "transparency" in this embodiment can be defined by the transmittance (%) of light, and of light having a wavelength corresponding to an application that is required to be transparent or is desirable to be transparent. It may be defined by the transmittance (%). For example, in order to provide the organic EL display device 10 with a proximity sensor including a light emitting element that emits near-infrared light and a light receiving element that receives the near-infrared light, it is required or desirable to be transparent. In some cases, "transparency" can be defined by the transmittance (%) of light having a wavelength of 700 nm to 1400 nm. Further, in order to provide the image pickup element in the organic EL display device 10, it is required to be transparent or it is desirable that it is transparent. “Transparency” depends on the transmittance (%) of light having a wavelength of 400 nm to 700 nm. Can be defined. Specifically, "transparent" means that the transmittance of light in the wavelength range corresponding to each application is 30% or more, and preferably the transmittance of light in the wavelength range corresponding to each application or the like. May be 80% or more. On the other hand, "non-transparent" means that the transmittance of light in the wavelength range corresponding to each application is less than 30%, and preferably the transmittance of light in the wavelength range corresponding to each application is high. It may be 5% or less. The transmittance of light in each wavelength range can be measured using, for example, a spectroscopic haze meter (product name: HSP-150VIR, manufactured by Murakami Color Technology Research Institute).

第１電極１３は、有機化合物層１４に対応する位置に設けられていればよい。すなわち、複数の第１電極１３が、第１層間絶縁膜１２上に第１方向及び第２方向のそれぞれに沿ってマトリックス状に設けられている。各第１電極１３は、データ線とゲート線との各交点に重なるように位置していればよい。第１電極１３の平面視形状は、例えば、円形状、略円形状、長円形状、多角形状、略方形状、ストライプ状等であってもよい。なお、「略」とは、第１電極１３の形成時における製造誤差等をも含む概念であり、例えば、略円形状という場合、長径を１としたときの短径の範囲は、０．８０、０．８３及び０．８６を含む第１グループの値と、０．８９、０．９２及び０．９５を含む第２グループの値とによって定められてもよい。例えば、短径の範囲の下限は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つによって定められてもよい。例えば、短径の範囲の下限は、０．８０以上であってもよく、０．８３以上であってもよく、０．８６以上であってもよい。また、短径の範囲の上限は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つによって定められてもよい。例えば、短径の範囲の上限は、０．８９以下であってもよく、０．９２以下であってもよく、０．９５以下であってもよい。短径の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよく、例えば、０．８０以上０．９５以下であってもよく、０．８３以上０．９２以下であってもよく、０．８６以上０．８９以下であってもよい。また、短径の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよく、例えば、０．８０以上０．８６以下であってもよく、０．８３以上０．８６以下であってもよい。また、短径の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよく、例えば、０．８９以上０．９５以下であってもよく、０．９２以上０．９５以下であってもよい。 The first electrode 13 may be provided at a position corresponding to the organic compound layer 14. That is, a plurality of first electrodes 13 are provided on the first interlayer insulating film 12 in a matrix along each of the first direction and the second direction. Each first electrode 13 may be positioned so as to overlap each intersection of the data line and the gate line. The plan view shape of the first electrode 13 may be, for example, a circular shape, a substantially circular shape, an oval shape, a polygonal shape, a substantially rectangular shape, a striped shape, or the like. In addition, "omitted" is a concept including a manufacturing error at the time of forming the first electrode 13, and for example, in the case of a substantially circular shape, the range of the minor axis when the major axis is 1 is 0.80. , 0.83 and 0.86 may be defined by the value of the first group and the value of the second group including 0.89, 0.92 and 0.95. For example, the lower limit of the minor axis range may be set by any one of the values included in the first group described above. For example, the lower limit of the minor axis range may be 0.80 or more, 0.83 or more, or 0.86 or more. Further, the upper limit of the range of the minor axis may be determined by any one of the values included in the second group described above. For example, the upper limit of the minor axis range may be 0.89 or less, 0.92 or less, or 0.95 or less. The range of the minor axis may be determined by a combination of any one of the values included in the first group described above and any one of the values included in the second group described above, eg, It may be 0.80 or more and 0.95 or less, 0.83 or more and 0.92 or less, or 0.86 or more and 0.89 or less. Further, the range of the minor axis may be determined by any combination of any two of the values included in the first group described above, and may be, for example, 0.80 or more and 0.86 or less. It may be 83 or more and 0.86 or less. Further, the range of the minor axis may be determined by any combination of any two of the values included in the second group described above, and may be, for example, 0.89 or more and 0.95 or less. It may be 92 or more and 0.95 or less.

第２層間絶縁膜１６から基板１１に向かう平面視において、第１電極１３は、例えば、ポリイミド等により構成される絶縁膜１７により囲まれていてもよい。すなわち、絶縁膜１７は、当該平面視において、第１電極１３の外周縁に重なるように位置していてもよい。 In a plan view from the second interlayer insulating film 16 to the substrate 11, the first electrode 13 may be surrounded by, for example, an insulating film 17 made of polyimide or the like. That is, the insulating film 17 may be positioned so as to overlap the outer peripheral edge of the first electrode 13 in the plan view.

第２電極１５は、基板１１の第１面１１Ａ側の平面視において、各有機化合物層１４上に位置する複数の非透明電極１５１と、すべての非透明電極１５１を被覆するように位置する透明電極１５２とを含んでいてもよい。透明電極１５２は、基板１１の第１面１１Ａの全面を被覆するように位置していてもよい。非透明電極１５１は、相対的に光を透過し難い非透明導電材料により構成されていればよい。透明電極１５２は、相対的に光を透過しやすい透明導電材料により構成されていればよい。非透明電極１５１は、有機化合物層１４の上面に少なくとも位置していればよいが、有機化合物層１４の側面にも位置していてもよい。 The second electrode 15 is transparent so as to cover a plurality of non-transparent electrodes 151 located on each organic compound layer 14 and all the non-transparent electrodes 151 in a plan view on the first surface 11A side of the substrate 11. The electrode 152 may be included. The transparent electrode 152 may be positioned so as to cover the entire surface of the first surface 11A of the substrate 11. The non-transparent electrode 151 may be made of a non-transparent conductive material that is relatively difficult to transmit light. The transparent electrode 152 may be made of a transparent conductive material that is relatively easy to transmit light. The non-transparent electrode 151 may be located at least on the upper surface of the organic compound layer 14, but may also be located on the side surface of the organic compound layer 14.

透明電極１５２を構成する透明導電材料としては、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide；インジウム錫酸化物）、ＩｎＺｎＯ（Indium Zinc Oxide；インジウム亜鉛酸化物）、ＡｌＺｎＯ（Aluminum Zinc Oxide；アルミニウム亜鉛酸化物）、ＡｌＴＯ（Aluminum Tin Oxide；アルミニウム錫酸化物）等が挙げられる。非透明電極１５１を構成する相対的に光を透過し難い非透明導電材料としては、例えば、Ｍｇ、Ａｇ、Ｍｇ／Ａｇ（マグネシウム銀合金）、Ａｌ、Ｃａ等の金属材料等が挙げられる。これらの金属材料は、相対的に低い仕事関数を有し、有機化合物層１４の電子注入層に電子を効率よく注入することができると考えられる。 Examples of the transparent conductive material constituting the transparent electrode 152 include ITO (Indium Tin Oxide), InZNO (Indium Zinc Oxide), AlZNO (Aluminum Zinc Oxide), and the like. Examples thereof include AlTO (Aluminum Tin Oxide). Examples of the non-transparent conductive material constituting the non-transparent electrode 151, which is relatively difficult to transmit light, include metal materials such as Mg, Ag, Mg / Ag (magnesium-silver alloy), Al, and Ca. It is considered that these metal materials have a relatively low work function and can efficiently inject electrons into the electron injecting layer of the organic compound layer 14.

本実施形態において、複数の有機化合物層１４は、例えば、赤色有機化合物層１４Ｒ、青色有機化合物層１４Ｂ及び緑色有機化合物層１４Ｇを含んでいてもよい。赤色有機化合物層１４Ｒ上に位置する非透明電極１５１の構成材料と、青色有機化合物層１４Ｂ上に位置する非透明電極１５１の構成材料と、緑色有機化合物層１４Ｇ上に位置する非透明電極１５１の構成材料とは、いずれも互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、赤色有機化合物層１４Ｒ上に位置する非透明電極１５１の厚さと、青色有機化合物層１４Ｂ上に位置する非透明電極１５１の厚さと、緑色有機化合物層１４Ｇ上に位置する非透明電極１５１の厚さともまた、いずれも互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。 In the present embodiment, the plurality of organic compound layers 14 may include, for example, a red organic compound layer 14R, a blue organic compound layer 14B, and a green organic compound layer 14G. The constituent material of the non-transparent electrode 151 located on the red organic compound layer 14R, the constituent material of the non-transparent electrode 151 located on the blue organic compound layer 14B, and the non-transparent electrode 151 located on the green organic compound layer 14G. The constituent materials may be the same as each other or may be different from each other. Further, the thickness of the non-transparent electrode 151 located on the red organic compound layer 14R, the thickness of the non-transparent electrode 151 located on the blue organic compound layer 14B, and the thickness of the non-transparent electrode 151 located on the green organic compound layer 14G. The thicknesses may also be the same or different from each other.

赤色有機化合物層、青色有機化合物層及び緑色有機化合物層を有する有機ＥＬ表示装置において、有機化合物層の発光色ごとに、カソード電極を構成する最適な材料や、カソード電極の最適な膜厚が存在することが知られている。そのため、有機化合物層の発光色ごとに、最適な構成材料及び膜厚のカソード電極を位置させることで、各有機化合物層における発光効率を良好とすることができ、輝度を高めることができる。しかしながら、一般に、カソード電極は、有機ＥＬ表示装置において共通電極として機能するため、すべての発光色の有機化合物層において同一材料及び同一膜厚で形成されることが多い。本実施形態においては、有機化合物層１４の発光色ごとに、異なる材料により構成され、異なる厚さの非透明電極１５１を位置させ、すべての非透明電極１５１を被覆する透明電極１５２が設けられていることで、各有機化合物層１４Ｒ，１４Ｂ，１４Ｇにおける発光効率を良好にすることができ、輝度を高めることができる。 In an organic EL display device having a red organic compound layer, a blue organic compound layer, and a green organic compound layer, the optimum material constituting the cathode electrode and the optimum film thickness of the cathode electrode exist for each emission color of the organic compound layer. It is known to do. Therefore, by locating the cathode electrodes having the optimum constituent materials and film thickness for each emission color of the organic compound layer, the luminous efficiency in each organic compound layer can be improved and the brightness can be increased. However, in general, since the cathode electrode functions as a common electrode in the organic EL display device, it is often formed of the same material and the same film thickness in the organic compound layers of all emission colors. In the present embodiment, the transparent electrode 152 is provided, which is composed of a different material for each emission color of the organic compound layer 14, has non-transparent electrodes 151 having different thicknesses, and covers all the non-transparent electrodes 151. Therefore, the luminous efficiency in each of the organic compound layers 14R, 14B, and 14G can be improved, and the brightness can be increased.

本実施形態において、第２電極１５のうちの光を透過し難い非透明電極１５１は、各有機化合物層１４上に位置し、複数の非透明電極１５１が透明電極１５２により被覆されている。そのため、第２層間絶縁膜１６から基板１１に向かう平面視において、データ線とゲート線とにより画定される矩形状の領域の略全体を、有機ＥＬ表示装置１０の厚さ方向に進行する光が透過しやすい透光領域とすることができる。本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置１０は、この透光領域の存在により、非透明電極により構成される第２電極が基板全面に設けられる従来の有機ＥＬ表示装置に比べ、高い透過性能を有することができる。非透明電極１５１の平面視形状は、例えば、円形状、略円形状、長円形状、多角形状、略方形状等であってもよい。 In the present embodiment, the non-transparent electrode 151 of the second electrode 15 that does not easily transmit light is located on each organic compound layer 14, and a plurality of non-transparent electrodes 151 are covered with the transparent electrodes 152. Therefore, in a plan view from the second interlayer insulating film 16 to the substrate 11, light traveling in the thickness direction of the organic EL display device 10 substantially in the rectangular region defined by the data line and the gate line. It can be a translucent region that is easily transmitted. Due to the presence of this translucent region, the organic EL display device 10 according to the present embodiment has higher transmission performance than the conventional organic EL display device in which the second electrode composed of the non-transparent electrode is provided on the entire surface of the substrate. be able to. The plan view shape of the non-transparent electrode 151 may be, for example, a circular shape, a substantially circular shape, an oval shape, a polygonal shape, a substantially rectangular shape, or the like.

透光領域の面積（総面積）を可能な限り大きくすることで、有機ＥＬ表示装置１０の透過性能をさらに向上させることができる。なお、透光領域の面積（総面積）を大きくするためには、非透明電極１５１の面積（総面積）を小さくすればよいが、本実施形態において非透明電極１５１は有機化合物層１４の上面に位置していればよく、それらが透明電極１５２により電気的に接続されるため、非透明電極１５１の面積（総面積）を小さくすればするほど、第２電極１５全体としての電気抵抗を大きくすることなく、非透明電極１５１の面積（総面積）を可能な限り小さくすることができる。そのため、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置１０においては、透過性能を向上させつつ、消費電力が大きくなるのを抑えることができるという効果が奏され得る。 By increasing the area (total area) of the light-transmitting region as much as possible, the transmission performance of the organic EL display device 10 can be further improved. In order to increase the area (total area) of the translucent region, the area (total area) of the non-transparent electrode 151 may be reduced, but in the present embodiment, the non-transparent electrode 151 is the upper surface of the organic compound layer 14. Since they are electrically connected by the transparent electrode 152, the smaller the area (total area) of the non-transparent electrode 151, the greater the electrical resistance of the second electrode 15 as a whole. The area (total area) of the non-transparent electrode 151 can be made as small as possible without doing so. Therefore, in the organic EL display device 10 according to the present embodiment, it is possible to achieve the effect that it is possible to suppress an increase in power consumption while improving the transmission performance.

第１電極１３及び第２電極１５（非透明電極１５１）の間に配置されている有機化合物層１４は、各々が有機ＥＬ表示装置１０の単位画素を構成する赤色有機化合物層１４Ｒ、緑色有機化合物層１４Ｇ及び青色有機化合物層１４Ｂを含んでいてもよいし、白色有機化合物層を含んでいてもよい。赤色有機化合物層１４Ｒ、緑色有機化合物層１４Ｇ及び青色有機化合物層１４Ｂは、それぞれ、赤色光、緑色光及び青色光を放出する。白色有機化合物層は、白色光を放出する。有機化合物層１４が白色有機化合物層を含む場合、有機ＥＬ表示装置１０において画像等をカラーで表示するのであれば、カラーフィルターが備えられていてもよい。なお、有機化合物層１４が赤色有機化合物層１４Ｒ、緑色有機化合物層１４Ｇ及び青色有機化合物層１４Ｂを含む場合においても、各有機化合物層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂに対応する着色層を有するカラーフィルターが備えられていてもよい。赤色有機化合物層１４Ｒ、緑色有機化合物層１４Ｇ及び青色有機化合物層１４Ｂを構成する材料は、所定の電圧が印加されることにより所望の色で発光する蛍光性有機化合物を含有するものであれば特に限定されるものではない。当該蛍光性有機化合物としては、例えば、キノリノール錯体、オキサゾール錯体、各種レーザー色素、ポリパラフェニレンビニレン等が挙げられる。有機化合物層１４は、第１層間絶縁膜１２上にマトリックス状に配置されている第１電極１３上に設けられているため、有機化合物層１４もまた、マットリックス状に設けられている。 The organic compound layer 14 arranged between the first electrode 13 and the second electrode 15 (non-transparent electrode 151) is a red organic compound layer 14R and a green organic compound, each of which constitutes a unit pixel of the organic EL display device 10. The layer 14G and the blue organic compound layer 14B may be contained, or a white organic compound layer may be contained. The red organic compound layer 14R, the green organic compound layer 14G, and the blue organic compound layer 14B emit red light, green light, and blue light, respectively. The white organic compound layer emits white light. When the organic compound layer 14 includes the white organic compound layer, a color filter may be provided as long as the organic EL display device 10 displays an image or the like in color. Even when the organic compound layer 14 includes the red organic compound layer 14R, the green organic compound layer 14G, and the blue organic compound layer 14B, a color filter having a coloring layer corresponding to each organic compound layer 14R, 14G, 14B is provided. It may be. The materials constituting the red organic compound layer 14R, the green organic compound layer 14G, and the blue organic compound layer 14B are particularly those containing a fluorescent organic compound that emits light in a desired color when a predetermined voltage is applied. It is not limited. Examples of the fluorescent organic compound include quinolinol complex, oxazole complex, various laser dyes, polyparaphenylene vinylene and the like. Since the organic compound layer 14 is provided on the first electrode 13 arranged in a matrix on the first interlayer insulating film 12, the organic compound layer 14 is also provided in a mattrix shape.

第１層間絶縁膜１２及び第２層間絶縁膜１６を構成する材料としては、例えば、絶縁性を有する材料が用いられ得る。第１層間絶縁膜１２及び第２層間絶縁膜１６を構成する材料として、例えば、酸化ケイ素等の無機系材料や、アクリル樹脂等の樹脂系材料（有機系材料）等が挙げられる。 As the material constituting the first interlayer insulating film 12 and the second interlayer insulating film 16, for example, a material having an insulating property can be used. Examples of the material constituting the first interlayer insulating film 12 and the second interlayer insulating film 16 include an inorganic material such as silicon oxide and a resin material (organic material) such as an acrylic resin.

第２電極１５と有機化合物層１４（電子注入層）との間に、厚さ０．２ｎｍ〜３．０ｎｍ程度の絶縁膜が設けられていてもよい。この絶縁膜が設けられていることで、トンネル効果により、第２電極１５（非透明電極１５１）から有機化合物層１４（電子注入層）に電子が注入されやすくなるものと推察される。当該絶縁膜を構成する材料としては、例えば、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等が挙げられる。なお、第２電極１５（非透明電極１５１）と有機化合物層１４との間に上記絶縁膜が設けられている場合において、有機化合物層１４は、第１電極１３側から第２電極１５（非透明電極１５１）側に向かって正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層及び電子輸送層をこの順に含む積層体であってもよい。この場合において、上記絶縁膜が、電子注入層としての機能を果たし得るものと考えられる。 An insulating film having a thickness of about 0.2 nm to 3.0 nm may be provided between the second electrode 15 and the organic compound layer 14 (electron injection layer). It is presumed that the provision of this insulating film facilitates the injection of electrons from the second electrode 15 (non-transparent electrode 151) into the organic compound layer 14 (electron injection layer) due to the tunnel effect. Examples of the material constituting the insulating film include lithium fluoride (LiF), alumina (Al 2 O 3 ), polymethyl methacrylate (PMMA) and the like. When the insulating film is provided between the second electrode 15 (non-transparent electrode 151) and the organic compound layer 14, the organic compound layer 14 is formed from the first electrode 13 side to the second electrode 15 (non-transparent electrode 15). A laminate may include a hole injection layer, a hole transport layer, an organic light emitting layer, and an electron transport layer in this order toward the transparent electrode 151) side. In this case, it is considered that the insulating film can function as an electron injection layer.

上述した構成を有する有機ＥＬ表示装置１０においては、有機ＥＬ表示装置１０の厚さ方向（例えば、図１に示す有機ＥＬ表示装置１０で言えば、基板１１から第２層間絶縁膜１６に向かう方向又はその逆方向）に進行する光（例えば、外光等）が、相対的に光を透過し難い非透明導電材料により構成される非透明電極１５１により遮られるのを抑制することができ、透光領域を通じて透過するため、有機ＥＬ表示装置１０の厚さ方向における光の透過率を向上させることができる。よって、本開示によれば、透過性能に優れた有機ＥＬ表示装置１０を提供することができる。 In the organic EL display device 10 having the above-described configuration, the thickness direction of the organic EL display device 10 (for example, in the case of the organic EL display device 10 shown in FIG. 1, the direction from the substrate 11 toward the second interlayer insulating film 16). It is possible to prevent light traveling in the (or the opposite direction) direction (for example, external light) from being blocked by the non-transparent electrode 151 made of a non-transparent conductive material that is relatively difficult to transmit light, and is transparent. Since the light is transmitted through the light region, the light transmittance in the thickness direction of the organic EL display device 10 can be improved. Therefore, according to the present disclosure, it is possible to provide an organic EL display device 10 having excellent transmission performance.

上述した構成を有する有機ＥＬ表示装置１０の製造方法の一例を説明する。なお、以下においては、図１に示す構成を有する有機ＥＬ表示装置１０を製造する方法を例に挙げて説明する。 An example of a manufacturing method of the organic EL display device 10 having the above-described configuration will be described. In the following, a method of manufacturing the organic EL display device 10 having the configuration shown in FIG. 1 will be described as an example.

第１面１１Ａ及び第１面１１Ａに対向する第２面１１Ｂを有し、第１面１１Ａ上にＴＦＴ素子、データ線及びゲート線、並びに第１層間絶縁膜１２を有する基板１１を準備し、第１層間絶縁膜１２上の所定の位置に第１電極１３を形成する（図２Ａ参照）。例えば、第１電極１３に対応する貫通孔を有する蒸着マスクを準備し、第１電極１３を構成する材料（例えば、ＩＴＯ、ＩｎＺｎＯ等の透明導電性材料等）を、蒸着マスクを介して第１層間絶縁膜１２上に真空蒸着することで、第１電極１３をデータ線及びゲート線の交点に重なるように形成してもよい。また、第１層間絶縁膜１２上に第１電極１３を構成する材料（例えば、ＩＴＯ、ＩｎＺｎＯ等の透明導電性材料等）を成膜し、フォトリソグラフィー法により、第１層間絶縁膜１２上に第１電極１３を形成してもよい。なお、第１層間絶縁膜１２上の所定の位置（第１電極１３を形成する位置）には、第１層間絶縁膜１２にスルーホールビアが形成されていてもよく、当該所定の位置に第１電極１３が形成されることで、当該スルーホールビアを介して第１電極１３とＴＦＴ素子のソース電極とが電気的に接続され得る。 A substrate 11 having a first surface 11A and a second surface 11B facing the first surface 11A and having a TFT element, a data line and a gate line, and a first interlayer insulating film 12 on the first surface 11A is prepared. The first electrode 13 is formed at a predetermined position on the first interlayer insulating film 12 (see FIG. 2A). For example, a thin-film deposition mask having through holes corresponding to the first electrode 13 is prepared, and a material constituting the first electrode 13 (for example, a transparent conductive material such as ITO or InZNO) is first passed through the vapor deposition mask. The first electrode 13 may be formed so as to overlap the intersection of the data line and the gate line by vacuum-depositing on the interlayer insulating film 12. Further, a material (for example, a transparent conductive material such as ITO or InZNO) constituting the first electrode 13 is formed on the first interlayer insulating film 12, and the first interlayer insulating film 12 is subjected to a photolithography method. The first electrode 13 may be formed. A through hole via may be formed in the first interlayer insulating film 12 at a predetermined position on the first interlayer insulating film 12 (a position where the first electrode 13 is formed), and the first interlayer insulating film 12 may have a through hole via at the predetermined position. By forming the one electrode 13, the first electrode 13 and the source electrode of the TFT element can be electrically connected via the through-hole via.

次に、第１電極１３及び第１層間絶縁膜１２を覆う絶縁膜（例えばポリイミド等）を、従来公知の塗工法（例えば、ダイコート法、スピンコート法等）により形成し、当該絶縁膜のパターニングにより、第１電極１３の外周縁を取り囲む絶縁膜１７を形成する（図２Ｂ参照）。 Next, an insulating film (for example, polyimide) covering the first electrode 13 and the first interlayer insulating film 12 is formed by a conventionally known coating method (for example, a die coating method, a spin coating method, etc.), and the insulating film is patterned. As a result, an insulating film 17 surrounding the outer peripheral edge of the first electrode 13 is formed (see FIG. 2B).

続いて、露出する第１電極１３上に有機化合物層１４を形成する（図２Ｃ参照）。例えば、有機化合物層１４に対応する貫通孔を有する蒸着マスクを準備し、有機化合物層１４を構成する材料（例えば、キノリノール錯体、オキサゾール錯体、各種レーザー色素、ポリパラフェニレンビニレン等の蛍光性有機化合物等）を、蒸着マスクを介して第１電極１３上に真空蒸着することで、有機化合物層１４を形成してもよい。なお、有機化合物層１４上に、所望により厚さ０．２ｎｍ〜３．０ｎｍ程度の絶縁膜（例えば、フッ化リチウム（ＬｉＦ）等）を形成してもよい。 Subsequently, the organic compound layer 14 is formed on the exposed first electrode 13 (see FIG. 2C). For example, a vapor deposition mask having through holes corresponding to the organic compound layer 14 is prepared, and a fluorescent organic compound such as a material constituting the organic compound layer 14 (for example, a quinolinol complex, an oxazole complex, various laser dyes, or polyparaphenylene vinylene) is prepared. Etc.) may be vacuum-deposited on the first electrode 13 via a vapor deposition mask to form the organic compound layer 14. If desired, an insulating film having a thickness of about 0.2 nm to 3.0 nm (for example, lithium fluoride (LiF) or the like) may be formed on the organic compound layer 14.

次に、各有機化合物層１４上に非透明電極１５１を形成する（図２Ｄ〜２Ｆ，図３Ａ〜３Ｂ参照）。非透明電極１５１は、第１蒸着マスク２１、第２蒸着マスク２２及び第３蒸着マスク２３を含む第１蒸着マスクセットを用いて形成されてもよいし、第１蒸着マスク３１及び第２蒸着マスク３２を含む第２蒸着マスクセットを用いて形成されてもよい。 Next, the non-transparent electrode 151 is formed on each organic compound layer 14 (see FIGS. 2D to 2F and FIGS. 3A to 3B). The non-transparent electrode 151 may be formed by using a first vapor deposition mask set including a first vapor deposition mask 21, a second vapor deposition mask 22, and a third vapor deposition mask 23, or a first vapor deposition mask 31 and a second vapor deposition mask. It may be formed using a second vapor deposition mask set containing 32.

第１蒸着マスクセットは、赤色有機化合物層１４Ｒ上に非透明電極１５１を形成するために用いられる第１蒸着マスク２１（図４Ａ参照）と、青色有機化合物層１４Ｂ上に非透明電極１５１を形成するために用いられる第２蒸着マスク２２（図４Ｂ参照）と、緑色有機化合物層１４Ｇ上に非透明電極１５１を形成するために用いられる第３蒸着マスク２３（図４Ｃ参照）とを含んでいてもよい。 The first vapor deposition mask set forms the first vapor deposition mask 21 (see FIG. 4A) used for forming the non-transparent electrode 151 on the red organic compound layer 14R and the non-transparent electrode 151 on the blue organic compound layer 14B. It includes a second thin-film mask 22 (see FIG. 4B) used to form the non-transparent electrode 151 on the green organic compound layer 14G and a third thin-film mask 23 (see FIG. 4C) used to form the non-transparent electrode 151. May be good.

第１蒸着マスク２１は、第１面２０１Ａ及び当該第１面２０１Ａに対向する第２面２０１Ｂを有する金属基材２０１と、金属基材２０１に形成されている複数の第１貫通孔２１１と、第１面２０１Ａに形成されているアライメントマーク２０２とを有する（図４Ａ参照）。第２蒸着マスク２２は、第１面２０１Ａ及び当該第１面２０１Ａに対向する第２面２０１Ｂを有する金属基材２０１と、金属基材２０１に形成されている複数の第２貫通孔２２１と、第１面２０１Ａに形成されているアライメントマーク２０２とを有する（図４Ｂ参照）。第３蒸着マスク２３は、第１面２０１Ａ及び当該第１面２０１Ａに対向する第２面２０１Ｂを有する金属基材２０１と、金属基材２０１に形成されている複数の第３貫通孔２３１と、第１面２０１Ａに形成されているアライメントマーク２０２とを有する（図４Ｃ参照）。 The first vapor deposition mask 21 includes a metal base material 201 having a first surface 201A and a second surface 201B facing the first surface 201A, a plurality of first through holes 211 formed in the metal base material 201, and a plurality of first through holes 211. It has an alignment mark 202 formed on the first surface 201A (see FIG. 4A). The second thin-film mask 22 includes a metal base material 201 having a first surface 201A and a second surface 201B facing the first surface 201A, and a plurality of second through holes 221 formed in the metal base material 201. It has an alignment mark 202 formed on the first surface 201A (see FIG. 4B). The third vapor deposition mask 23 includes a metal base material 201 having a first surface 201A and a second surface 201B facing the first surface 201A, and a plurality of third through holes 231 formed in the metal base material 201. It has an alignment mark 202 formed on the first surface 201A (see FIG. 4C).

第１蒸着マスク２１、第２蒸着マスク２２及び第３蒸着マスク２３における金属基材２０１の厚さの範囲は、５μｍ、８μｍ、１２μｍ及び１５μｍを含む第１グループの値と、２６μｍ、３５μｍ、５０μｍ及び１００μｍを含む第２グループの値とによって定められてもよい。例えば、金属基材２０１の厚さの範囲の下限は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つによって定められてもよい。例えば、金属基材２０１の厚さの範囲の下限は、５μｍ以上であってもよく、８μｍ以上であってもよく、１２μｍ以上であってもよく、１５μｍ以上であってもよい。また、金属基材２０１の厚さの範囲の上限は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つによって定められてもよい。例えば、金属基材２０１の厚さの範囲の上限は、２６μｍ以下であってもよく、３５μｍ以下であってもよく、５０μｍ以下であってもよく、１００μｍ以下であってもよい。金属基材２０１の厚さの範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよく、例えば、５μｍ以上１００μｍ以下であってもよく、８μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１２μｍ以上３５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上２６μｍ以下であってもよい。また、金属基材２０１の厚さの範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよく、例えば、５μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、５μｍ以上１２μｍ以下であってもよく、８μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、８μｍ以上１２μｍ以下であってもよい。また、金属基材２０１の厚さの範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよく、例えば、２６μｍ以上１００μｍ以下であってもよく、２６μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、３５μｍ以上１００μｍ以下であってもよく、３５μｍ以上５０μｍ以下であってもよい。 The thickness range of the metal substrate 201 in the first vapor deposition mask 21, the second vapor deposition mask 22, and the third vapor deposition mask 23 is the value of the first group including 5 μm, 8 μm, 12 μm, and 15 μm, and 26 μm, 35 μm, and 50 μm. And the value of the second group including 100 μm. For example, the lower limit of the thickness range of the metal substrate 201 may be determined by any one of the values included in the first group described above. For example, the lower limit of the thickness range of the metal base material 201 may be 5 μm or more, 8 μm or more, 12 μm or more, or 15 μm or more. Further, the upper limit of the thickness range of the metal base material 201 may be determined by any one of the values included in the second group described above. For example, the upper limit of the thickness range of the metal base material 201 may be 26 μm or less, 35 μm or less, 50 μm or less, or 100 μm or less. The thickness range of the metal substrate 201 is determined by the combination of any one of the values included in the first group described above and any one of the values included in the second group described above. For example, it may be 5 μm or more and 100 μm or less, 8 μm or more and 50 μm or less, 12 μm or more and 35 μm or less, or 15 μm or more and 26 μm or less. Further, the range of the thickness of the metal base material 201 may be determined by any combination of any two of the values included in the first group described above, and may be, for example, 5 μm or more and 15 μm or less, 5 μm. It may be 12 μm or less, 8 μm or more and 15 μm or less, or 8 μm or more and 12 μm or less. Further, the range of the thickness of the metal base material 201 may be determined by any combination of any two of the values included in the second group described above, and may be, for example, 26 μm or more and 100 μm or less, or 26 μm. It may be 50 μm or more, 35 μm or more and 100 μm or less, or 35 μm or more and 50 μm or less.

すべての有機化合物層１４上の非透明電極１５１を真空蒸着により同時に形成しようとする場合、すべての非透明電極１５１に対応する貫通孔を有する蒸着マスク（以下「従来の蒸着マスク」という場合がある。）を使用することになる。一方で、本実施形態においては、発光色ごとに、非透明電極１５１を形成するための蒸着マスクを変えることができる。従来の蒸着マスクに比べて、本実施形態における第１蒸着マスク２１、第２蒸着マスク２２及び第３蒸着マスク２３のいずれも、蒸着マスクにおける開口面積（すべての貫通孔の開口面積の合計）が小さい。そのため、従来の蒸着マスクの金属基材の厚さと、本実施形態における第１〜第３蒸着マスク２１〜２３のそれぞれの金属基材２０１の厚さとが同一であれば、従来の蒸着マスクの強度に比べ、本実施形態における第１〜第３蒸着マスク２１〜２３の強度の方が高いということができる。言い換えると、本実施形態における第１〜第３蒸着マスク２１〜２３の強度を、従来の蒸着マスクの強度と同等にしたときには、本実施形態における第１〜第３蒸着マスク２１〜２３の金属基材２０１の厚さを、従来の蒸着マスクの金属基材の厚さよりも薄くすることができる。その結果、本実施形態においては、第１蒸着マスク２１、第２蒸着マスク２２及び第３蒸着マスク２３が変形してしまうのを抑制することができ、各有機化合物層１４上に高い精度で非透明電極１５１を形成することができる。 When the non-transparent electrodes 151 on all the organic compound layers 14 are to be formed simultaneously by vacuum vapor deposition, a vapor deposition mask having through holes corresponding to all the non-transparent electrodes 151 (hereinafter, may be referred to as "conventional thin-film deposition mask"). .) Will be used. On the other hand, in the present embodiment, the vapor deposition mask for forming the non-transparent electrode 151 can be changed for each emission color. Compared with the conventional thin-film deposition mask, all of the first vapor deposition mask 21, the second vapor deposition mask 22, and the third vapor deposition mask 23 in the present embodiment have an opening area (total opening area of all through holes) in the vapor deposition mask. small. Therefore, if the thickness of the metal base material of the conventional thin-film deposition mask and the thickness of each metal base material 201 of the first to third vapor deposition masks 21 to 23 in the present embodiment are the same, the strength of the conventional thin-film deposition mask It can be said that the strength of the first to third vapor deposition masks 21 to 23 in the present embodiment is higher than that of the above. In other words, when the strength of the first to third vapor deposition masks 21 to 23 in the present embodiment is equal to the strength of the conventional thin film deposition mask, the metal groups of the first to third vapor deposition masks 21 to 23 in the present embodiment. The thickness of the material 201 can be made thinner than the thickness of the metal base material of the conventional thin-film deposition mask. As a result, in the present embodiment, it is possible to prevent the first vapor deposition mask 21, the second vapor deposition mask 22, and the third vapor deposition mask 23 from being deformed, and the organic compound layer 14 is not formed with high accuracy. The transparent electrode 151 can be formed.

第１蒸着マスク２１における第１貫通孔２１１は、基板１１の第１面１１Ａ上の赤色有機化合物層１４Ｒに対応して形成されていてもよい。本実施形態における第１蒸着マスク２１の金属基材２０１にアライメントマーク２０２が設けられているため、基板１１に設けられているアライメントマーク（図示省略）との間で位置合わせをすることで、第１貫通孔２１１を介して赤色有機化合物層１４Ｒ上に非透明電極１５１を構成する導電材料を高精度に蒸着することができる。すなわち、第１蒸着マスク２１のアライメントマーク２０２は、基板１１のアライメントマークと位置合わせしたときに第１貫通孔２１１を通じて赤色有機化合物層１４Ｒ上に非透明電極１５１を形成可能となるような位置に、金属基材２０１に設けられている。同様に、第２蒸着マスク２２における第２貫通孔２２１は、基板１１の第１面１１Ａ上の青色有機化合物層１４Ｂに対応して形成されていてもよく、第３蒸着マスク２３における第３貫通孔２３１は、基板１１の第１面１１Ａ上の緑色有機化合物層１４Ｇに対応して形成されていてもよい。そして、第２蒸着マスク２２及び第３蒸着マスク２３の金属基材２０１にもアライメントマーク２０２が設けられているため、基板１１に設けられているアライメントマーク（図示省略）との間で位置合わせをすることで、第２貫通孔２２１及び第３貫通孔２３１のそれぞれを介して青色有機化合物層１４Ｂ上及び緑色有機化合物層１４Ｇ上のそれぞれに、非透明電極１５１を構成する導電材料を高精度に蒸着することができる。 The first through hole 211 in the first vapor deposition mask 21 may be formed corresponding to the red organic compound layer 14R on the first surface 11A of the substrate 11. Since the alignment mark 202 is provided on the metal base material 201 of the first vapor deposition mask 21 in the present embodiment, the alignment mark 202 can be aligned with the alignment mark (not shown) provided on the substrate 11. The conductive material constituting the non-transparent electrode 151 can be deposited on the red organic compound layer 14R through the through holes 211 with high accuracy. That is, the alignment mark 202 of the first vapor deposition mask 21 is positioned so that the non-transparent electrode 151 can be formed on the red organic compound layer 14R through the first through hole 211 when aligned with the alignment mark of the substrate 11. , Is provided on the metal base material 201. Similarly, the second through hole 221 in the second vapor deposition mask 22 may be formed corresponding to the blue organic compound layer 14B on the first surface 11A of the substrate 11, and the third through hole 221 in the third vapor deposition mask 23 may be formed. The holes 231 may be formed corresponding to the green organic compound layer 14G on the first surface 11A of the substrate 11. Since the alignment mark 202 is also provided on the metal base material 201 of the second thin-film mask 22 and the third thin-film mask 23, the alignment mark 202 is aligned with the alignment mark (not shown) provided on the substrate 11. By doing so, the conductive material constituting the non-transparent electrode 151 can be highly accurately formed on the blue organic compound layer 14B and the green organic compound layer 14G via the second through hole 221 and the third through hole 231 respectively. It can be vapor-deposited.

第２蒸着マスクセットは、赤色有機化合物層１４Ｒ及び青色有機化合物層１４Ｂ上に非透明電極１５１を形成するために用いられる第１蒸着マスク３１（図５Ａ参照）と、緑色有機化合物層１４Ｇ上に非透明電極１５１を形成するために用いられる第２蒸着マスク３２（図５Ｂ参照）とを含んでいてもよい。なお、本実施形態において、第１蒸着マスク３１は、３色の発光色の有機化合物層１４（赤色有機化合物層１４Ｒ、青色有機化合物層１４Ｂ及び緑色有機化合物層１４Ｇ）のうちの２色の発光色の有機化合物層１４上に非透明電極１５１を形成するために用いられるものであればよく、赤色有機化合物層１４Ｒ及び青色有機化合物層１４Ｂ上の非透明電極１５１を形成するものに限定されるものではない。例えば、第１蒸着マスク３１は、赤色有機化合物層１４Ｒ及び緑色有機化合物層１４Ｇ上に非透明電極１５１を形成するために用いられるものであってもよいし、青色有機化合物層１４Ｂ及び緑色有機化合物層１４Ｇ上に非透明電極１５１を形成するために用いられるものであってもよい。 The second vapor deposition mask set consists of the first vapor deposition mask 31 (see FIG. 5A) used for forming the non-transparent electrode 151 on the red organic compound layer 14R and the blue organic compound layer 14B, and the green organic compound layer 14G. A second vapor deposition mask 32 (see FIG. 5B) used to form the non-transparent electrode 151 may be included. In the present embodiment, the first vapor deposition mask 31 emits light of two of the three emission colors of the organic compound layer 14 (red organic compound layer 14R, blue organic compound layer 14B, and green organic compound layer 14G). Anything used to form the non-transparent electrode 151 on the colored organic compound layer 14 may be used, and is limited to those forming the non-transparent electrode 151 on the red organic compound layer 14R and the blue organic compound layer 14B. It's not a thing. For example, the first vapor deposition mask 31 may be used to form the non-transparent electrode 151 on the red organic compound layer 14R and the green organic compound layer 14G, or the blue organic compound layer 14B and the green organic compound 31. It may be used to form the non-transparent electrode 151 on the layer 14G.

第１蒸着マスク３１は、第１面２０１Ａ及び当該第１面２０１Ａに対向する第２面２０１Ｂを有する金属基材２０１と、金属基材２０１に形成されている複数の第１貫通孔３１１及び複数の第２貫通孔３２１と、第１面２０１Ａに形成されているアライメントマーク２０２とを有する（図５Ａ参照）。第２蒸着マスク３２は、第１面２０１Ａ及び当該第１面２０１Ａに対向する第２面２０１Ｂを有する金属基材２０１と、金属基材２０１に形成されている複数の第３貫通孔３３１と、第１面２０１Ａに形成されているアライメントマーク２０２とを有する（図５Ｂ参照）。 The first vapor deposition mask 31 includes a metal base material 201 having a first surface 201A and a second surface 201B facing the first surface 201A, and a plurality of first through holes 311 and a plurality of first through holes formed in the metal base material 201. It has a second through hole 321 and an alignment mark 202 formed on the first surface 201A (see FIG. 5A). The second vapor deposition mask 32 includes a metal base material 201 having a first surface 201A and a second surface 201B facing the first surface 201A, and a plurality of third through holes 331 formed in the metal base material 201. It has an alignment mark 202 formed on the first surface 201A (see FIG. 5B).

第１蒸着マスク３１及び第２蒸着マスク３２における金属基材２０１の厚さの範囲は、５μｍ、８μｍ、１２μｍ及び１５μｍを含む第１グループの値と、２６μｍ、３５μｍ、５０μｍ及び１００μｍを含む第２グループの値とによって定められてもよい。例えば、金属基材２０１の厚さの範囲の下限は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つによって定められてもよい。例えば、金属基材２０１の厚さの範囲の下限は、５μｍ以上であってもよく、８μｍ以上であってもよく、１２μｍ以上であってもよく、１５μｍ以上であってもよい。また、金属基材２０１の厚さの範囲の上限は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つによって定められてもよい。例えば、金属基材２０１の厚さの範囲の上限は、２６μｍ以下であってもよく、３５μｍ以下であってもよく、５０μｍ以下であってもよく、１００μｍ以下であってもよい。金属基材２０１の厚さの範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよく、例えば、５μｍ以上１００μｍ以下であってもよく、８μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１２μｍ以上３５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上２６μｍ以下であってもよい。また、金属基材２０１の厚さの範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよく、例えば、５μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、５μｍ以上１２μｍ以下であってもよく、８μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、８μｍ以上１２μｍ以下であってもよい。また、金属基材２０１の厚さの範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよく、例えば、２６μｍ以上１００μｍ以下であってもよく、２６μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、３５μｍ以上１００μｍ以下であってもよく、３５μｍ以上５０μｍ以下であってもよい。第２蒸着マスクセットにおいても、第１蒸着マスクセットと同様の理由により、第１蒸着マスク３１及び第２蒸着マスク３２が変形してしまうのを抑制することができ、各有機化合物層１４上に高い精度で非透明電極１５１を形成することができる。なお、第２蒸着マスク３２は、第１蒸着マスク３１よりも小さい開口面積を有するため、第１蒸着マスク３１よりも金属基材２０１の厚さを薄くすることができる。 The thickness range of the metal substrate 201 in the first vapor deposition mask 31 and the second vapor deposition mask 32 is the value of the first group including 5 μm, 8 μm, 12 μm and 15 μm, and the second including 26 μm, 35 μm, 50 μm and 100 μm. It may be determined by the value of the group. For example, the lower limit of the thickness range of the metal substrate 201 may be determined by any one of the values included in the first group described above. For example, the lower limit of the thickness range of the metal base material 201 may be 5 μm or more, 8 μm or more, 12 μm or more, or 15 μm or more. Further, the upper limit of the thickness range of the metal base material 201 may be determined by any one of the values included in the second group described above. For example, the upper limit of the thickness range of the metal base material 201 may be 26 μm or less, 35 μm or less, 50 μm or less, or 100 μm or less. The thickness range of the metal substrate 201 is determined by the combination of any one of the values included in the first group described above and any one of the values included in the second group described above. For example, it may be 5 μm or more and 100 μm or less, 8 μm or more and 50 μm or less, 12 μm or more and 35 μm or less, or 15 μm or more and 26 μm or less. Further, the range of the thickness of the metal base material 201 may be determined by any combination of any two of the values included in the first group described above, and may be, for example, 5 μm or more and 15 μm or less, 5 μm. It may be 12 μm or less, 8 μm or more and 15 μm or less, or 8 μm or more and 12 μm or less. Further, the range of the thickness of the metal base material 201 may be determined by any combination of any two of the values included in the second group described above, and may be, for example, 26 μm or more and 100 μm or less, or 26 μm. It may be 50 μm or more, 35 μm or more and 100 μm or less, or 35 μm or more and 50 μm or less. In the second thin-film mask set as well, for the same reason as in the first thin-film mask set, it is possible to prevent the first-film mask 31 and the second-film mask 32 from being deformed, and on each organic compound layer 14. The non-transparent electrode 151 can be formed with high accuracy. Since the second vapor deposition mask 32 has an opening area smaller than that of the first vapor deposition mask 31, the thickness of the metal base material 201 can be made thinner than that of the first vapor deposition mask 31.

第１蒸着マスク３１における第１貫通孔３１１は、基板１１の第１面１１Ａ上の赤色有機化合物層１４Ｒに対応して形成されていてもよい。また、第１蒸着マスク３１における第２貫通孔３２１は、基板１１の第１面１１Ａ上の青色有機化合物層１４Ｂに対応して形成されていてもよい。本実施形態における第１蒸着マスク３１の金属基材２０１にアライメントマーク２０２が設けられているため、基板１１に設けられているアライメントマーク（図示省略）との間で位置合わせをすることで、第１貫通孔３１１を介して赤色有機化合物層１４Ｒ上に非透明電極１５１を構成する導電材料を高精度に蒸着することができ、第２貫通孔３２１を介して青色有機化合物層１４Ｂ上に非透明電極１５１を構成する導電材料を高精度に蒸着することができる。同様に、第２蒸着マスク３２における第３貫通孔３３１は、基板１１の第１面１１Ａ上の緑色有機化合物層１４Ｇに対応して形成されていてもよい。そして、第２蒸着マスク３２の金属基材２０１にもアライメントマーク２０２が設けられているため、基板１１に設けられているアライメントマーク（図示省略）との間で位置合わせをすることで、第３貫通孔３３１を介して緑色有機化合物層１４Ｇ上のそれぞれに、非透明電極１５１を構成する導電材料を高精度に蒸着することができる。 The first through hole 311 in the first vapor deposition mask 31 may be formed corresponding to the red organic compound layer 14R on the first surface 11A of the substrate 11. Further, the second through hole 321 in the first vapor deposition mask 31 may be formed corresponding to the blue organic compound layer 14B on the first surface 11A of the substrate 11. Since the alignment mark 202 is provided on the metal base material 201 of the first vapor deposition mask 31 in the present embodiment, the alignment mark 202 is aligned with the alignment mark (not shown) provided on the substrate 11. The conductive material constituting the non-transparent electrode 151 can be deposited on the red organic compound layer 14R through the first through hole 311 with high accuracy, and the non-transparent material is deposited on the blue organic compound layer 14B through the second through hole 321. The conductive material constituting the electrode 151 can be vapor-deposited with high accuracy. Similarly, the third through hole 331 in the second vapor deposition mask 32 may be formed corresponding to the green organic compound layer 14G on the first surface 11A of the substrate 11. Since the alignment mark 202 is also provided on the metal base material 201 of the second thin-film mask 32, the alignment mark 202 is aligned with the alignment mark (not shown) provided on the substrate 11 to obtain a third alignment mark 202. The conductive material constituting the non-transparent electrode 151 can be deposited with high accuracy on each of the green organic compound layers 14G via the through holes 331.

上記のようにして形成された非透明電極１５１のすべてを被覆するように基板１１の第１面１１Ａ全面に透明電極１５２を形成して第２電極１５を形成し、第２電極１５上に第２層間絶縁膜１６を形成する（図２Ｇ参照）。これにより、複数の非透明電極１５１のすべてが透明電極１５２を介して電気的に接続され得る。これにより、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置１０を製造することができる。このようにして製造される有機ＥＬ表示装置１０によれば、有機ＥＬ表示装置１０の厚さ方向における光の透過率を向上させることができる。 A transparent electrode 152 is formed on the entire surface of the first surface 11A of the substrate 11 so as to cover all of the non-transparent electrodes 151 formed as described above to form the second electrode 15, and the second electrode 15 is formed on the second electrode 15. A two-layer insulating film 16 is formed (see FIG. 2G). As a result, all of the plurality of non-transparent electrodes 151 can be electrically connected via the transparent electrode 152. As a result, the organic EL display device 10 according to the present embodiment can be manufactured. According to the organic EL display device 10 manufactured in this way, the light transmittance in the thickness direction of the organic EL display device 10 can be improved.

以上説明した実施形態は、本開示の理解を容易にするために記載されたものであって、本開示を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本開示の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。 The embodiments described above are described for facilitating the understanding of the present disclosure, and are not described for limiting the present disclosure. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present disclosure.

上記実施形態において、第１蒸着マスクセット（第１蒸着マスク２１、第２蒸着マスク２２及び第３蒸着マスク２３）又は第２蒸着マスクセット（第１蒸着マスク３１及び第２蒸着マスク３２）を用いて、各有機化合物層１４上に非透明電極１５１を形成する方法を例に挙げて説明したが、この態様に限定されるものではない。例えば、一方向に並列する有機化合物層１４のピッチが、赤色有機化合物層１４Ｒ、青色有機化合物層１４Ｂ及び緑色有機化合物層１４Ｇのすべてで同一であるならば、第１蒸着マスクセットに含まれる第１蒸着マスク２１、第２蒸着マスク２２及び第３蒸着マスク２３のいずれか一つを用いて、すべての有機化合物層１４上に非透明電極１５１を形成してもよい。また、第２蒸着マスクセットに含まれる第２蒸着マスク３２を用いて、すべての有機化合物層１４上に非透明電極１５１を形成してもよい。この場合において、例えば、第１蒸着マスク２１を用いて赤色有機化合物層１４Ｒ上に非透明電極１５１を形成した後、当該第１蒸着マスク２１を移動させて青色有機化合物層１４Ｂ上に非透明電極１５１を形成し、さらに第１蒸着マスク２１を移動させて緑色有機化合物層１４Ｇ上に非透明電極１５１を形成してもよい。 In the above embodiment, the first vapor deposition mask set (first vapor deposition mask 21, second vapor deposition mask 22 and third vapor deposition mask 23) or the second vapor deposition mask set (first vapor deposition mask 31 and second vapor deposition mask 32) is used. The method of forming the non-transparent electrode 151 on each organic compound layer 14 has been described as an example, but the present invention is not limited to this embodiment. For example, if the pitches of the organic compound layers 14 parallel in one direction are the same in all of the red organic compound layer 14R, the blue organic compound layer 14B, and the green organic compound layer 14G, the first vapor deposition mask set is included. The non-transparent electrode 151 may be formed on all the organic compound layers 14 by using any one of the 1 vapor deposition mask 21, the 2nd vapor deposition mask 22, and the 3rd vapor deposition mask 23. Further, the non-transparent electrode 151 may be formed on all the organic compound layers 14 by using the second thin-film mask 32 included in the second thin-film mask set. In this case, for example, after forming the non-transparent electrode 151 on the red organic compound layer 14R using the first thin-film deposition mask 21, the first vapor deposition mask 21 is moved to move the non-transparent electrode on the blue organic compound layer 14B. 151 may be formed, and the first vapor deposition mask 21 may be further moved to form the non-transparent electrode 151 on the green organic compound layer 14G.

Claims (12)

第１面及び前記第１面に対向する第２面を有する基板と、
前記基板の前記第１面上に、第１方向及び前記第１方向に直交する第２方向に沿ってマトリックス状に位置する複数の第１電極と、
前記複数の第１電極上にそれぞれ位置する複数の有機化合物層と、
前記複数の有機化合物層上に位置する第２電極と
を備え、
前記第２電極は、前記各有機化合物層上に位置する非透明電極と、すべての前記非透明電極と電気的に接続される透明電極とを含む
有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 A substrate having a first surface and a second surface facing the first surface,
On the first surface of the substrate, a plurality of first electrodes located in a matrix along a first direction and a second direction orthogonal to the first direction,
A plurality of organic compound layers each located on the plurality of first electrodes,
A second electrode located on the plurality of organic compound layers is provided.
The second electrode is an organic electroluminescence display device including a non-transparent electrode located on each of the organic compound layers and a transparent electrode electrically connected to all the non-transparent electrodes. 前記透明電極は、すべての前記非透明電極を一体的に被覆する
請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 The organic electroluminescence display device according to claim 1, wherein the transparent electrode integrally covers all the non-transparent electrodes. 前記複数の有機化合物層は、第１発光色を発光する第１有機発光層を含む第１有機化合物層と、前記第１発光色と異なる第２発光色を発光する第２有機発光層を含む第２有機化合物層とを少なくとも含み、
前記第１有機化合物層上に位置する前記第２電極の前記非透明電極の厚さと、前記第２有機化合物層上に位置する前記第２電極の前記非透明電極の厚さとは、互いに異なる
請求項１又は２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 The plurality of organic compound layers include a first organic compound layer including a first organic light emitting layer that emits a first light emitting color, and a second organic light emitting layer that emits a second light emitting color different from the first light emitting color. Containing at least a second organic compound layer
The thickness of the non-transparent electrode of the second electrode located on the first organic compound layer and the thickness of the non-transparent electrode of the second electrode located on the second organic compound layer are different from each other. Item 3. The organic electroluminescence display device according to Item 1 or 2. 前記複数の有機化合物層は、第１発光色を発光する第１有機発光層を含む第１有機化合物層と、前記第１発光色と異なる第２発光色を発光する第２有機発光層を含む第２有機化合物層とを少なくとも含み、
前記第１有機化合物層上に位置する前記第２電極の前記非透明電極を構成する導電材料と、前記第２有機化合物層上に位置する前記第２電極の前記非透明電極を構成する導電材料とは、互いに異なる材料である
請求項１又は２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 The plurality of organic compound layers include a first organic compound layer including a first organic light emitting layer that emits a first light emitting color, and a second organic light emitting layer that emits a second light emitting color different from the first light emitting color. Containing at least a second organic compound layer
The conductive material constituting the non-transparent electrode of the second electrode located on the first organic compound layer and the conductive material constituting the non-transparent electrode of the second electrode located on the second organic compound layer. The organic electroluminescence display device according to claim 1 or 2, which is a material different from each other. 前記第１有機化合物層上に位置する前記第２電極の前記非透明電極の厚さと、前記第２有機化合物層上に位置する前記第２電極の前記非透明電極の厚さとは、互いに異なる
請求項４に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 The thickness of the non-transparent electrode of the second electrode located on the first organic compound layer and the thickness of the non-transparent electrode of the second electrode located on the second organic compound layer are different from each other. Item 4. The organic electroluminescence display device according to Item 4. 第１面及び前記第１面に対向する第２面を有する基板を準備する工程と、
前記基板の前記第１面上に、第１方向及び前記第１方向に直交する第２方向に沿ってマトリックス状に位置する複数の第１電極を形成する工程と、
前記複数の第１電極のそれぞれに重なる有機化合物層を形成する工程と、
前記複数の有機化合物層上に重なる複数の第２電極を形成する工程と
を含み、
前記第２電極を形成する工程は、前記複数の有機化合物層上に位置する非透明電極を形成する工程と、すべての前記非透明電極に電気的に接続される透明電極を形成する工程とを有する
有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。 A step of preparing a substrate having a first surface and a second surface facing the first surface, and
A step of forming a plurality of first electrodes located in a matrix along a first direction and a second direction orthogonal to the first direction on the first surface of the substrate.
A step of forming an organic compound layer overlapping each of the plurality of first electrodes,
Including a step of forming a plurality of second electrodes overlapping on the plurality of organic compound layers.
The step of forming the second electrode includes a step of forming a non-transparent electrode located on the plurality of organic compound layers and a step of forming a transparent electrode electrically connected to all the non-transparent electrodes. A method for manufacturing an organic electroluminescence display device. 前記透明電極は、すべての前記非透明電極を一体的に被覆するように形成される
請求項６に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。 The method for manufacturing an organic electroluminescence display device according to claim 6, wherein the transparent electrode is formed so as to integrally cover all the non-transparent electrodes. 前記複数の有機化合物層は、第１発光色を発光する第１有機発光層を含む第１有機化合物層と、前記第１発光色と異なる第２発光色を発光する第２有機発光層を含む第２有機化合物層とを少なくとも含み、
前記非透明電極を形成する工程は、前記第１有機化合物層上に第１膜厚で導電材料を蒸着することで前記非透明電極を形成する工程と、前記第２有機化合物層上に前記第１膜厚と異なる第２膜厚で導電材料を蒸着することで前記非透明電極を形成する工程とを含む
請求項６又は７に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。 The plurality of organic compound layers include a first organic compound layer including a first organic light emitting layer that emits a first light emitting color, and a second organic light emitting layer that emits a second light emitting color different from the first light emitting color. Containing at least a second organic compound layer
The steps of forming the non-transparent electrode include a step of forming the non-transparent electrode by depositing a conductive material with a first film thickness on the first organic compound layer and the first step of forming the non-transparent electrode on the second organic compound layer. The method for manufacturing an organic electroluminescence display device according to claim 6 or 7, further comprising a step of forming the non-transparent electrode by depositing a conductive material with a second film thickness different from the first film thickness. 前記複数の有機化合物層は、第１発光色を発光する第１有機発光層を含む第１有機化合物層と、前記第１発光色と異なる第２発光色を発光する第２有機発光層を含む第２有機化合物層とを少なくとも含み、
前記非透明電極を形成する工程は、前記第１有機化合物層上に第１導電材料を蒸着する工程と、前記第２有機化合物層上に前記第１導電材料と異なる第２導電材料を蒸着する工程とを含む
請求項６又は７に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。 The plurality of organic compound layers include a first organic compound layer including a first organic light emitting layer that emits a first light emitting color, and a second organic light emitting layer that emits a second light emitting color different from the first light emitting color. Containing at least a second organic compound layer
The steps of forming the non-transparent electrode include a step of depositing a first conductive material on the first organic compound layer and a step of depositing a second conductive material different from the first conductive material on the second organic compound layer. The method for manufacturing an organic electroluminescence display device according to claim 6 or 7, which includes a step. 前記非透明電極を形成する工程において、前記第１有機化合物層上に第１膜厚で前記第１導電材料を蒸着し、前記第２有機化合物層上に前記第１膜厚と異なる第２膜厚で前記第２導電材料を蒸着する
請求項９に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。 In the step of forming the non-transparent electrode, the first conductive material is deposited on the first organic compound layer with a first film thickness, and a second film different from the first film thickness is deposited on the second organic compound layer. The method for manufacturing an organic electroluminescence display device according to claim 9, wherein the second conductive material is vapor-deposited with a thickness. 第１面及び前記第１面に対向する第２面を有する基板と、前記基板の前記第１面上に、第１方向及び前記第１方向に直交する第２方向に沿ってマトリックス状に位置する複数の第１電極と、前記複数の第１電極上にそれぞれ位置する複数の有機化合物層と、前記複数の有機化合物層上に位置する第２電極とを備え、前記複数の有機化合物層は、第１発光色を発光する第１有機発光層を含む第１有機化合物層と、前記第１発光色と異なる第２発光色を発光する第２有機発光層を含む第２有機化合物層と、前記第１発光色及び前記第２発光色と異なる第３発光色を発光する第３有機発光層とを有し、前記第２電極は、前記各有機化合物層上に位置する非透明電極と、すべての前記非透明電極と電気的に接続される透明電極とを含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、前記非透明電極を形成するために用いられる複数の蒸着マスクを含む蒸着マスクセットであって、
前記複数の蒸着マスクは、前記第１有機化合物層上に前記非透明電極を形成するために用いられる第１蒸着マスクと、前記第２有機化合物層上に前記非透明電極を形成するために用いられる第２蒸着マスクと、前記第３有機化合物層上に前記非透明電極を形成するために用いられる第３蒸着マスクとを含み、
前記第１蒸着マスクは、第１面及び前記第１面に対向する第２面を有する第１金属基材と、前記第１有機化合物層上の前記非透明電極に対応する第１貫通孔と、前記第１金属基材の前記第１面に位置する第１アライメントマークとを有し、
前記第２蒸着マスクは、第１面及び前記第１面に対向する第２面を有する第２金属基材と、前記第２有機化合物層上の前記非透明電極に対応する第２貫通孔と、前記金属基材の前記第１面に位置する第２アライメントマークとを有し、
前記第３蒸着マスクは、第１面及び前記第１面に対向する第２面を有する第３金属基材と、前記第３有機化合物層上の前記非透明電極に対応する第３貫通孔と、前記第３金属基材の前記第１面に位置する第３アライメントマークとを有する蒸着マスクセット。 A substrate having a first surface and a second surface facing the first surface, and a matrix position on the first surface of the substrate along a first direction and a second direction orthogonal to the first direction. The plurality of organic compound layers are provided with a plurality of first electrodes, a plurality of organic compound layers each located on the plurality of first electrodes, and a second electrode located on the plurality of organic compound layers. , A first organic compound layer including a first organic light emitting layer that emits a first emission color, and a second organic compound layer including a second organic light emitting layer that emits a second emission color different from the first emission color. It has a first emission color and a third organic light emitting layer that emits a third emission color different from the second emission color, and the second electrode includes a non-transparent electrode located on each of the organic compound layers. A set of vapor deposition masks including a plurality of vapor deposition masks used to form the non-transparent electrodes in an organic electroluminescence display device including all the non-transparent electrodes and a transparent electrode electrically connected.
The plurality of thin-film deposition masks are used for forming the non-transparent electrode on the first organic compound layer and the first vapor deposition mask used for forming the non-transparent electrode on the first organic compound layer. The second vapor deposition mask to be used and the third vapor deposition mask used to form the non-transparent electrode on the third organic compound layer are included.
The first vapor deposition mask includes a first metal base material having a first surface and a second surface facing the first surface, and a first through hole corresponding to the non-transparent electrode on the first organic compound layer. , With a first alignment mark located on the first surface of the first metal substrate.
The second vapor deposition mask includes a second metal base material having a first surface and a second surface facing the first surface, and a second through hole corresponding to the non-transparent electrode on the second organic compound layer. With a second alignment mark located on the first surface of the metal substrate,
The third vapor deposition mask includes a third metal base material having a first surface and a second surface facing the first surface, and a third through hole corresponding to the non-transparent electrode on the third organic compound layer. , A thin-film deposition mask set having a third alignment mark located on the first surface of the third metal substrate. 第１面及び前記第１面に対向する第２面を有する基板と、前記基板の前記第１面上に、第１方向及び前記第１方向に直交する第２方向に沿ってマトリックス状に位置する複数の第１電極と、前記複数の第１電極上にそれぞれ位置する複数の有機化合物層と、前記複数の有機化合物層上に位置する第２電極とを備え、前記複数の有機化合物層は、第１発光色を発光する第１有機発光層を含む第１有機化合物層と、前記第１発光色と異なる第２発光色を発光する第２有機発光層を含む第２有機化合物層と、前記第１発光色及び前記第２発光色と異なる第３発光色を発光する第３有機発光層とを有し、前記第２電極は、前記各有機化合物層上に位置する非透明電極と、すべての前記非透明電極と電気的に接続される透明電極とを含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、前記第２電極を形成するために用いられる複数の蒸着マスクを含む蒸着マスクセットであって、
前記複数の蒸着マスクは、前記第１有機化合物層上及び第２有機化合物層上にそれぞれ前記非透明電極を形成するために用いられる第１蒸着マスクと、前記第３有機化合物層上に前記非透明電極を形成するために用いられる第２蒸着マスクとを含み、
前記第１蒸着マスクは、第１面及び前記第１面に対向する第２面を有する第１金属基材と、前記第１有機化合物層上の前記非透明電極に対応する第１貫通孔と、前記第２有機化合物層上の前記非透明電極に対応する第２貫通孔と、前記第１金属基材の前記第１面に位置する第１アライメントマークとを有し、
前記第２蒸着マスクは、第１面及び前記第１面に対向する第２面を有する第２金属基材と、前記第３有機化合物層上の前記非透明電極に対応する第３貫通孔と、前記金属基材の前記第１面に位置する第２アライメントマークとを有する蒸着マスクセット。 A substrate having a first surface and a second surface facing the first surface, and a matrix position on the first surface of the substrate along a first direction and a second direction orthogonal to the first direction. The plurality of organic compound layers are provided with a plurality of first electrodes, a plurality of organic compound layers each located on the plurality of first electrodes, and a second electrode located on the plurality of organic compound layers. , A first organic compound layer including a first organic light emitting layer that emits a first emission color, and a second organic compound layer including a second organic light emitting layer that emits a second emission color different from the first emission color. It has a first emission color and a third organic light emitting layer that emits a third emission color different from the second emission color, and the second electrode includes a non-transparent electrode located on each of the organic compound layers. A set of vapor deposition masks including a plurality of vapor deposition masks used to form the second electrode in an organic electroluminescence display device including all the non-transparent electrodes and a transparent electrode electrically connected.
The plurality of thin-film deposition masks are a first vapor deposition mask used for forming the non-transparent electrode on the first organic compound layer and the second organic compound layer, respectively, and the non-deposited mask on the third organic compound layer. Including a second vapor deposition mask used to form a transparent electrode
The first vapor deposition mask includes a first metal base material having a first surface and a second surface facing the first surface, and a first through hole corresponding to the non-transparent electrode on the first organic compound layer. It has a second through hole corresponding to the non-transparent electrode on the second organic compound layer, and a first alignment mark located on the first surface of the first metal base material.
The second vapor deposition mask includes a second metal base material having a first surface and a second surface facing the first surface, and a third through hole corresponding to the non-transparent electrode on the third organic compound layer. , A thin-film deposition mask set having a second alignment mark located on the first surface of the metal substrate.
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