JP2020181024A - 光伝送モジュール - Google Patents

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青木 剛
Takeshi Aoki
剛 青木
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Abstract

【課題】光導波路と光ファイバの間の高効率な光結合を実現すること。【解決手段】光伝送モジュールは、端部に凹部が形成された基板110と、基板の熱膨張係数よりも小さい熱膨張係数を有し、基板に形成された凹部に設置されて基板と面一の面を形成するレセプタクル150と、基板及びレセプタクルが形成する面一の面に形成され、光信号を伝送する光導波路140と、レセプタクルに搭載され、光ファイバ170の端部が光導波路の端部に対向するように光ファイバを保持するフェルール160とを有する。【選択図】図1

Description

本発明は、光伝送モジュールに関する。
近年、例えばスーパーコンピュータやサーバを用いる大規模計算システムなどでは、LSI(Large Scale Integrated circuit)間、LSIとメモリ間、及びLSIとストレージ間などのデータ通信において、データレートが高速化している。このため、従来の電気伝送では、伝送損失等により著しい波形劣化が発生することがあり、波形歪みを補償するための電力が増大している。そこで、電気信号を光信号に変換し、低損失で通信を行う光インターコネクトがラック間やボード間配線に導入されつつある。
光インターコネクトでは、基板上に搭載された光トランシーバにより電気−光信号変換が行われるのが一般的である。また、例えば基板上の比較的短距離の電気伝送では、データレートの高速化に伴い電気波形の劣化が著しくなるため、将来的に電気−光信号変換を行う光トランシーバをLSI周辺に高密度及び高集積に実装することが望まれている。
このような光回路の高密度及び高集積な実装を実現する技術として、例えばシリコンフォトニクスと呼ばれる光集積技術がある。シリコンフォトニクスでは、例えばCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)プロセスを用いて、高集積の光制御機能を有する極微小の光回路チップをシリコン基板上に製造することが可能となる。シリコンフォトニクスによって製造された光回路チップは、例えば耐熱性ポリマからなる光導波路によって、パッケージ基板の端部に設けられる光コネクタに接続される。このような構成により、例えば光回路チップから出力される光信号を光コネクタ経由でパッケージ基板の外部の光ファイバなどへ伝送することができる。光導波路と光ファイバを接続する光コネクタ部分では、光導波路及び光ファイバの端面の位置合わせが重要であるため、例えば光導波路が形成されたパッケージ基板上に位置決めのための突起を設け、光ファイバの先端を保持するコネクタを突起に嵌合させる構造などが検討されている。
国際公開第2014/080694号
しかしながら、光コネクタ部分での位置合わせには実装精度の限界があるという問題がある。具体的には、パッケージ基板に搭載される電気部品をはんだ付けするリフロープロセスでは、パッケージ基板が高温にさらされるため、パッケージ基板の反りや変形が生じる。この結果、パッケージ基板上の光導波路や位置合わせのための突起などの位置が維持されず、リフロープロセス後に光ファイバがパッケージ基板に接続される際、光導波路と光ファイバとの位置合わせが困難になる。
特に、光ファイバ内部での伝搬モードの分散が小さく広帯域で、かつ、波長分割多重(Wavelength Division Multiplexing:WDM)伝送においても有効なシングルモードのコアでは、光結合時にコア同士で1μm以内程度の位置ずれしか許容されず、マルチモードのコアよりも高精度の位置合わせが要求される。これに対して、上述したリフロープロセスで発生するパッケージ基板の反りや変形は、数μmオーダーで発生する。このため、パッケージ基板端部における光コネクタにおいて、光導波路と光ファイバの位置ずれにより光結合が十分でなく、シングルモード伝送の実現が困難である。
開示の技術は、かかる点に鑑みてなされたものであって、光導波路と光ファイバの間の高効率な光結合を実現することができる光伝送モジュールを提供することを目的とする。
本願が開示する光伝送モジュールは、1つの態様において、端部に凹部が形成された基板と、前記基板の熱膨張係数よりも小さい熱膨張係数を有し、前記基板に形成された凹部に設置されて前記基板と面一の面を形成するレセプタクルと、前記基板及び前記レセプタクルが形成する前記面一の面に形成され、光信号を伝送する光導波路と、前記レセプタクルに搭載され、光ファイバの端部が前記光導波路の端部に対向するように前記光ファイバを保持するフェルールとを有する。
本願が開示する光伝送モジュールの1つの態様によれば、光導波路と光ファイバの間の高効率な光結合を実現することができるという効果を奏する。
図1は、一実施の形態に係る光伝送モジュールの構成を示す図である。 図2は、一実施の形態に係る光接続部の構成を示す三面図である。 図3は、ファイバ案内部の構成例を示す図である。 図4は、一実施の形態に係るフェルールの構成を示す四面図である。 図5は、フェルールに光ファイバを接続した状態を示す図である。 図6は、一実施の形態に係る光ファイバ接続方法を示すフロー図である。 図7は、導波路形成を説明する図である。 図8は、フェルール実装を説明する図である。 図9は、フェルール接着を説明する図である。 図10は、透明樹脂塗布を説明する図である。 図11は、一実施の形態に係る変形例を示す図である。
以下、本願が開示する光伝送モジュールの一実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、この実施の形態により本発明が限定されるものではない。
図1は、一実施の形態に係る光伝送モジュールの構成を示す図である。図1に示す光伝送モジュールは、パッケージ基板110、LSI120、光電気変換デバイス130、光導波路140、レセプタクル150、フェルール160、テープファイバ170及び外部接続フェルール180を有する。図1においては、要部構成のみを示して周辺の構成の図示を省略しているが、光伝送モジュールは、信号処理装置の一部を構成するモジュールであり、当該信号処理装置は他の電気部品を有していても良い。
パッケージ基板110は、例えばガラスエポキシ系樹脂などを材料とする基板である。パッケージ基板110には、種々の電気部品及び光部品が搭載される。また、パッケージ基板110には、光導波路140が形成される。パッケージ基板110の一端には、レセプタクル150を設置するための凹部(リセス)が設けられる。
LSI120は、種々の処理を実行する集積回路である。LSI120による処理は、電気信号によって実行される。したがって、LSI120は、電気信号を光電気変換デバイス130へ出力し、光電気変換デバイス130から出力される電気信号を受信する。
光電気変換デバイス130は、LSI120から出力される電気信号を光信号に変換し、光導波路140へ出力する。また、光電気変換デバイス130は、光導波路140から入力される光信号を電気信号に変換し、LSI120へ出力する。光電気変換デバイス130は、例えばシリコンフォトニクスによって製造された光回路チップである。
光導波路140は、パッケージ基板110及びレセプタクル150の上面に形成される光導波路であり、光信号を伝送する。光導波路140は、例えば直描露光装置を用いて、感光性樹脂を所望の導波路パターンの形状に露光することにより形成される。このとき、後述するように、レセプタクル150の上面に形成されたアライメントマークを基準として導波路パターンが形成される。
レセプタクル150は、パッケージ基板110の熱膨張係数よりも小さい熱膨張係数を有し、剛性が高い例えばシリコンなどの材料から形成され、パッケージ基板110の端部に設けられた凹部に埋め込まれる。そして、レセプタクル150の上面とパッケージ基板110の上面とが面一になっている。光導波路140は、パッケージ基板110とレセプタクル150の面一となった上面に形成される。また、レセプタクル150は、中央にフェルール160を固定するための凹部を有するとともに、光導波路140を形成する際の基準となるアライメントマークを有する。レセプタクル150の形状については、後に詳述する。
フェルール160は、複数の光ファイバの一端を保持し、レセプタクル150に固定されることにより、保持した光ファイバの端面と光導波路140の端面とを対向させる。すなわち、フェルール160は、テープファイバ170を構成する複数の光ファイバそれぞれの端面を適切な位置に保持し、レセプタクル150の上面に形成された光導波路140それぞれの端面に対向させる。フェルール160の形状については、後に詳述する。
テープファイバ170は、複数の光ファイバを平行に並べてテープ状にしたものであり、一端がフェルール160によって保持され、他端が外部接続フェルール180によって保持される。テープファイバ170を構成する各光ファイバは、対応する光導波路140と光結合し、光信号を伝送する。
外部接続フェルール180は、テープファイバ170の一端を保持し、他の基板に搭載されたレセプタクルなどに接続する。外部接続フェルール180の他の基板への着脱には、例えばMT(Mechanically Transferable)コネクタ又はMPO(Multifiber Push On)コネクタなどが使用されても良い。
図2は、光伝送モジュールの光接続部を拡大して示す三面図である。すなわち、図2は、レセプタクル150の周辺の平面図、側方断面図及び正面図を示す。なお、図2に示す側方断面図は、平面図のA−A’線における断面を示す。以下の図面においても同様に、側方断面図は、平面図のA−A’線における断面を示す。
図2に示すように、レセプタクル150は、パッケージ基板110の端部に形成された凹部に埋め込まれ、固定樹脂201によって固定されている。固定樹脂201としては、例えば耐熱性のあるエポキシ系樹脂又はポリイミド系樹脂などを用いることができる。パッケージ基板110の凹部に埋め込まれて固定されたレセプタクル150の上面の高さは、パッケージ基板110の上面の高さと等しい。すなわち、パッケージ基板110の上面とレセプタクル150の上面とは面一になっている。そして、レセプタクル150の中央からパッケージ基板110の端部側には、フェルール160を固定するための凹部151が形成されている。凹部151の底面には、光ファイバを案内するためのファイバ案内部152が形成される。ファイバ案内部152には、それぞれ光ファイバを案内する複数の案内溝が形成される。
具体的には、例えば図3(a)、(b)に示すように、ファイバ案内部152には複数の∨字溝152aが形成され、∨字溝152aが光ファイバ171の位置を規定する。すなわち、∨字溝152aが形成される位置において光ファイバ171が延伸することになるとともに、∨字溝152aの深さ及び幅と光ファイバ171の直径とによって、光ファイバ171のパッケージ基板110上での高さが規定される。光ファイバ171のパッケージ基板110上での高さは、光ファイバ171のコアの高さと光導波路140のコアの高さとが一致するように設定される。
また、例えば図3(c)、(d)に示すように、ファイバ案内部152に複数の矩形溝152bが形成されても良く、この場合には、矩形溝152bが光ファイバ171の位置を規定する。矩形溝152bも∨字溝152aと同様に、光ファイバ171が延伸する位置及び光ファイバ171のパッケージ基板110上での高さを規定する。これらの∨字溝152a及び矩形溝152bは、例えば異方性ウェットエッチング又はドライエッチングなどにより形成される。
図2に戻って、レセプタクル150のパッケージ基板110の上面と面一な上面には、一対のアライメントマーク153が形成される。レセプタクル150が例えばシリコンなどの熱膨張係数が小さく、かつ剛性が高い材料から形成されるため、たとえ高温にさらされてもレセプタクル150が変形することがなく、ファイバ案内部152とアライメントマーク153の位置関係は変化しない。このため、アライメントマーク153の位置を基準としてレセプタクル150の上面に光導波路140を形成すれば、光導波路140とファイバ案内部152によって案内される光ファイバとを高精度に位置合わせすることができる。
レセプタクル150の凹部151、ファイバ案内部152及びアライメントマーク153は、例えば高精度MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)プロセスによって形成することができる。
図4は、一実施の形態に係るフェルール160の構成を示す四面図である。すなわち、図4は、フェルール160の上面図、側面図、下面図及び正面図を示す。
フェルール160の上面には、テープファイバ170をフェルール160に接着するための接着固定窓161が設けられている。また、フェルール160の下面には、レセプタクル150のファイバ案内部152に当接して、光ファイバの延伸方向におけるフェルール160の位置決めをする凸部162が形成されている。テープファイバ170を接着固定窓161から挿入すると、テープファイバ170を構成する光ファイバ各々は、フェルール160の内部を貫通する貫通孔163を挿通し、凸部162が無い部分の下面に突出する。凸部が無い部分の下面には、フェルール160がレセプタクル150に搭載される際に、対向するレセプタクル150のファイバ案内部152との間で光ファイバを挟持するファイバ案内溝164が形成されている。
フェルール160は、例えばフィラー入りPPS(ポリフェニレンサルファイド)樹脂、PC(ポリカーボネート)樹脂、又はPOM(ポリアセタール)などの材料を射出成形して製造される。フェルール160の材料としては、射出成形可能な他の樹脂などでも良いが、光伝送モジュールが稼働する環境に耐えられる耐熱性及び耐湿度性を有することが好ましい。
図5は、フェルール160にテープファイバ170を接続した状態を示す図である。図5に示すように、テープファイバ170は接着固定窓161からフェルール160の内部に挿入され、各光ファイバの先端は、フェルール160の先端から突出する。光ファイバの先端の突出量は、例えば100μm程度である。この状態で、テープファイバ170を構成する各光ファイバは、接着固定窓161においてフェルール160に接着される。
次いで、上記のように構成された光伝送モジュールにおける光ファイバの接続方法について、図6に示すフロー図を参照しながら説明する。
パッケージ基板110の端部に例えば機械加工により凹部が形成され、この凹部にレセプタクル150が固定樹脂201によって固定される(ステップS101)。すなわち、パッケージ基板110の凹部にレセプタクル150が埋め込まれて固定される。このとき、例えば平滑面を有する部材をパッケージ基板110及びレセプタクル150の上面から当接させて作業することにより、パッケージ基板110及びレセプタクル150の上面と固定樹脂201が面一になるようにレセプタクル150が固定される。
なお、レセプタクル150がパッケージ基板110に固定される前後には、例えばLSI120などの電気部品がパッケージ基板110に搭載され、シリコンフォトニクスによって製造された光電気変換デバイス130などがパッケージ基板110に実装される。
そして、光電気変換デバイス130からレセプタクル150の凹部151まで延伸する光導波路140が形成される(ステップS102)。すなわち、例えば図7に示すように、レセプタクル150のアライメントマーク153を基準とした導波路パターンが形成されることにより、パッケージ基板110、固定樹脂201及びレセプタクル150の上面に光導波路140が形成される。上述したように、パッケージ基板110、固定樹脂201及びレセプタクル150の上面が面一になっているため、異なる部材に跨って光導波路140を形成することができる。
光導波路140の各々の導波路は、レセプタクル150の凹部151の周縁まで延伸している。そして、各々の導波路の終端は、ファイバ案内部152に形成された案内溝に対応する位置にある。ここで、各々の導波路の終端の端面を例えばダイシングブレードによって切削することにより、導波路の端面がパッケージ基板110の上面に対して垂直になるようにしても良い。こうすることにより、光導波路140の端面における入出射光の角度を適切に調整し、光損失の発生を回避することができる。
光導波路140が形成された後には、リフロープロセスによって電気部品がパッケージ基板110に接続される(ステップS103)。リフロープロセスの際には、パッケージ基板110全体がリフロー材料のガラス転移温度付近の高温にさらされる。このため、パッケージ基板110の変形などが発生するが、レセプタクル150は、パッケージ基板110の熱膨張係数よりも小さい熱膨張係数を有し剛性が高いため、リフロープロセスによる変形を微小に留めることができる。結果として、レセプタクル150の上面に形成された光導波路140の終端とファイバ案内部152の案内溝との位置関係は、リフロープロセスの前後で変化しない。
リフロープロセスが完了すると、テープファイバ170を保持したフェルール160がレセプタクル150に実装される(ステップS104)。テープファイバ170を構成する光ファイバは、リフロープロセスにおける高温に対する耐性が無いため、テープファイバ170を保持するフェルール160の実装は、リフロープロセスの後に行われる。
具体的には、例えば図8に示すように、テープファイバ170を構成する光ファイバ171の先端171aがフェルール160の先端から突出した状態で、フェルール160がパッケージ基板110の端部側からレセプタクル150の凹部151へ挿入される。そして、フェルール160を光ファイバ171の延伸方向に移動させると、フェルール160の下面に形成された凸部162がレセプタクル150のファイバ案内部152に当接し、フェルール160の位置が決定される。
フェルール160の位置が決定された状態では、フェルール160の下面のファイバ案内溝164とレセプタクル150のファイバ案内部152に形成された案内溝とによって各々の光ファイバ171が挟持され、光ファイバ171の位置が固定される。また、位置が固定された光ファイバ171の先端171aは、フェルール160の先端から突出する。このとき、光ファイバ171の位置がレセプタクル150及びフェルール160によって固定されることにより、パッケージ基板110上の高さ方向及び光ファイバ171の延伸方向に垂直なフェルール160の幅方向に関しては、先端171aの位置と光導波路140の終端の位置とが一致する。すなわち、光ファイバ171の先端171aと光導波路140の終端とが位置ずれすることなく、光ファイバ171及び光導波路140の端面が互いに対向する。結果として、光導波路140と光ファイバ171の間の高効率な光結合を実現することができ、例えばシングルモード伝送が可能となる。
このように光導波路140と光ファイバ171の間の高効率な光結合が可能となるのは、リフロープロセスを経ても、光導波路140の終端とファイバ案内部152の案内溝との位置関係が変化しないためである。すなわち、光導波路140の終端とファイバ案内部152の案内溝との位置に誤差が発生しないため、ファイバ案内部152の案内溝によって案内される光ファイバ171の先端171aと光導波路140の終端とを高精度に位置合わせすることができる。
一方、光ファイバ171の先端171aの端面と光導波路140の終端の端面とは接触することなく離間している。このように、光ファイバ171と光導波路140の端面が離間するように位置決めされることにより、互いに接触による傷の発生等を回避することができる。
フェルール160の位置が決定されると、フェルール160は、例えば紫外線硬化樹脂又は熱硬化樹脂などからなる接着剤によりレセプタクル150に接着される(ステップS105)。具体的には、図9に示すように、フェルール160の幅方向の側方にフィレット202が形成されるようにフェルール160が接着される。すなわち、光ファイバ171の延伸方向であるフェルール160の前後方向の端部においてフェルール160が接着されるのではなく、フェルール160の幅方向の端部においてフェルール160が接着される。このため、光ファイバ171の先端171a及び光導波路140の終端に接着剤が付着することがない。なお、接着剤としては、例えばエポキシ系の接着剤などを用いることができる。
そして、離間する光ファイバ171の先端171aと光導波路140の終端とを含む部分に透明樹脂が塗布される(ステップS106)。すなわち、例えば図10に示すように、光ファイバ171の先端171aと光導波路140の終端とを含む部分全体に、例えばフッ素化ポリイミドなどの透明樹脂203が塗布される。透明樹脂203としては、光ファイバ171及び光導波路140のコアの材料の屈折率に近い屈折率を有する樹脂が用いられる。したがって、例えば上記のフッ素化ポリイミドなど、赤外波長帯域で透明なフッ素化されたポリマが望ましいが、光ファイバ171の先端171aと光導波路140の終端との離間距離が十分に小さければ、アクリル系の樹脂を使用しても良い。
透明樹脂203が塗布されることにより、透明樹脂203は、レセプタクル150のファイバ案内部152よりも光導波路140側にも充填され、光ファイバ171の先端171a及び光導波路140の終端の位置を確実に固定することができる。また、光ファイバ171と光導波路140の端面の間に透明樹脂203が充填されるため、端面の間に空気が存在する場合の反射によるフレネル損失や戻り光を低減することができる。
以上のように、本実施の形態によれば、パッケージ基板の凹部に熱膨張係数が小さいレセプタクルを埋め込み、パッケージ基板及びレセプタクルの面一になった上面に光導波路を形成するとともに、光ファイバを保持するフェルールをレセプタクル中央の凹部に実装する。このため、例えばリフロープロセスなどによりパッケージ基板が高温処理されてもレセプタクルが変形することはなく、レセプタクルに形成された光導波路とリフロープロセス後にレセプタクルに実装されるフェルールとを高精度に位置合わせすることができる。この結果、フェルールに保持された光ファイバと光導波路の位置ずれを低減することができ、光導波路と光ファイバの間の高効率な光結合を実現することができる。
なお、上記一実施の形態においては、レセプタクル150にフェルール160が直接搭載されるものとしたが、レセプタクル150とフェルール160の間に弾性樹脂を配置して、各部材の寸法公差を吸収しても良い。具体的には、例えば図11(a)に示すように、フェルール160の凸部162の側方に弾性樹脂204を配置し、レセプタクル150の上面との間に介在させても良い。同様に、例えば図11(b)に示すように、レセプタクル150の凹部151の底面に弾性樹脂205を配置し、フェルール160の凸部162との間に介在させても良い。このようにレセプタクル150とフェルール160の間に弾性樹脂を介在させることにより、レセプタクル150とフェルール160が直接接触して破損することなどを防止することができる。弾性樹脂204、205は、例えばシリコーン系樹脂のように、柔軟かつ使用環境温度での硬化及び軟化が発生しない材料からなる。
110 パッケージ基板
120 LSI
130 光電気変換デバイス
140 光導波路
150 レセプタクル
151 凹部
152 ファイバ案内部
152a ∨字溝
152b 矩形溝
153 アライメントマーク
160 フェルール
161 接着固定窓
162 凸部
163 貫通孔
164 ファイバ案内溝
170 テープファイバ
180 外部接続フェルール
201 固定樹脂
202 フィレット
203 透明樹脂
204、205 弾性樹脂

Claims (7)

  1. 端部に凹部が形成された基板と、
    前記基板の熱膨張係数よりも小さい熱膨張係数を有し、前記基板に形成された凹部に設置されて前記基板と面一の面を形成するレセプタクルと、
    前記基板及び前記レセプタクルが形成する前記面一の面に形成され、光信号を伝送する光導波路と、
    前記レセプタクルに搭載され、光ファイバの端部が前記光導波路の端部に対向するように前記光ファイバを保持するフェルールと
    を有することを特徴とする光伝送モジュール。
  2. 前記レセプタクルは、
    前記フェルールを搭載する凹部と、
    前記凹部内に形成され、前記光ファイバを案内する第1の溝を備えるファイバ案内部と
    を有することを特徴とする請求項1記載の光伝送モジュール。
  3. 前記レセプタクルは、
    前記面一の面を形成する面に、前記光導波路が形成される位置の基準となるマークを有することを特徴とする請求項1記載の光伝送モジュール。
  4. 前記フェルールは、
    前記レセプタクルに対向する面に、前記光ファイバを案内する第2の溝を有し、
    前記光ファイバは、
    前記第1の溝及び前記第2の溝によって挟持される
    ことを特徴とする請求項2記載の光伝送モジュール。
  5. 前記光導波路の端部と前記光ファイバの端部とを含む部分に配置される透明樹脂をさらに有することを特徴とする請求項1記載の光伝送モジュール。
  6. 前記レセプタクル及び前記フェルールの間に配置される弾性樹脂をさらに有することを特徴とする請求項1記載の光伝送モジュール。
  7. 端部に凹部が形成された基板と、
    前記基板に実装され、電気信号の処理を実行する電気部品と、
    前記電気部品によって処理される電気信号と光信号とを相互に変換する光電気変換部品と、
    前記基板の熱膨張係数よりも小さい熱膨張係数を有し、前記基板に形成された凹部に設置されて前記基板と面一の面を形成するレセプタクルと、
    前記光電気変換部品から延伸して前記基板及び前記レセプタクルが形成する面一の面に形成され、光信号を伝送する光導波路と、
    前記レセプタクルに搭載され、光ファイバの端部が前記光導波路の端部に対向するように前記光ファイバを保持するフェルールと
    を有することを特徴とする信号処理装置。
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