JP2020175338A - Functional water concentration control system and functional water concentration control method - Google Patents

Abstract

To provide a controlled concentration of a functional water used in a treatment apparatus, which is separate from a functional water production apparatus.SOLUTION: In the system of the present invention, the concentration of a functional water that is generated by a functional water production apparatus and used in a treatment apparatus is controlled. The functional water concentration control system has the functional water production apparatus which supplies the functional water that reaches a target concentration to the treatment apparatus when the concentration of the functional water measured by a concentration meter on the side of the functional water production apparatus reaches the target concentration, a concentration meter on the side of the treatment apparatus that measures the concentration of the functional water supplied to the treatment apparatus, and a control apparatus which instructs a user to control the concentration of the functional water used in the treatment apparatus when there is a difference between the concentration of the functional water and the target concentration when comparing the concentration of the functional water measured by the concentration meter on the side of the treatment apparatus and the target concentration.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、機能水の濃度を制御するシステム及び、機能水の濃度を制御する方法に関する。 The present disclosure relates to a system for controlling the concentration of functional water and a method for controlling the concentration of functional water.

オゾンや水素などのガスが溶解した機能水は、産業用を初め医療などの分野で広く利用されている。このような機能水の濃度は時間の経過に伴い減衰することから、使用する現場において機能水の濃度の管理が要求されている。例えば、特許文献１に開示されるように、機能水生成器で生成された機能水をバッファタンクに供給し、この機能水の濃度をバッファタンクに近接して設けられた濃度計で測定し、機能水の濃度が設定範囲内である場合に、バッファタンクから基板を処理する装置側に供給管を通じて機能水を供給する。 Fuctional water in which gases such as ozone and hydrogen are dissolved is widely used in fields such as medical treatment as well as industrial use. Since the concentration of such functional water decreases with the passage of time, it is required to control the concentration of functional water at the site where it is used. For example, as disclosed in Patent Document 1, the functional water generated by the functional water generator is supplied to the buffer tank, and the concentration of the functional water is measured by a densitometer provided in the vicinity of the buffer tank. When the concentration of the functional water is within the set range, the functional water is supplied from the buffer tank to the device side for processing the substrate through the supply pipe.

特許第４０７７８４５号公報Japanese Patent No. 40778445

しかしながら、特許文献１に開示の機能水供給方法では、バッファタンクと、機能水が供給される処理装置とは離れて配置されており、バッファタンクから処理装置へ機能水が供給されるまでの間に、機能水の濃度は変化する。そのため、目標濃度とは異なる濃度の機能水が処理装置へ供給されることがある。本開示は上述の点に鑑みてなされたものであり、処理装置に供給された機能水の濃度を測定し、この濃度を目標濃度に保持するよう、処理装置に供給する機能水の濃度を制御する技術を提供することを目的の１つとする。 However, in the functional water supply method disclosed in Patent Document 1, the buffer tank and the treatment device to which the functional water is supplied are arranged apart from each other, and the period until the functional water is supplied from the buffer tank to the treatment device. In addition, the concentration of functional water changes. Therefore, functional water having a concentration different from the target concentration may be supplied to the treatment apparatus. The present disclosure has been made in view of the above points, and the concentration of the functional water supplied to the treatment apparatus is measured, and the concentration of the functional water supplied to the treatment apparatus is controlled so as to maintain this concentration at the target concentration. One of the purposes is to provide the technology to be used.

上述した課題を解決するために、本開示の一態様は、機能水製造装置で生成され、第１の処理装置で使用される機能水の濃度を制御する機能水濃度制御システムであって、前記機能水製造装置の濃度計で測定した前記機能水の濃度が目標濃度の場合に、前記目標濃度の機能水を前記第１の処理装置に供給する、機能水製造装置と、前記第１の処理装置に供給された前記機能水の濃度を測定する、第１の濃度計と、前記第１の濃度計で測定した機能水の濃度と前記目標濃度とに基づいて、前記第１の処理装置で使用される機能水の濃度を制御する指示を生成する制御装置と、を備える機能水濃度制御システムである。 In order to solve the above-mentioned problems, one aspect of the present disclosure is a functional water concentration control system that controls the concentration of functional water produced by the functional water production apparatus and used in the first treatment apparatus. When the concentration of the functional water measured by the concentration meter of the functional water production apparatus is the target concentration, the functional water production apparatus for supplying the functional water of the target concentration to the first treatment apparatus and the first treatment Based on the first densitometer that measures the concentration of the functional water supplied to the apparatus, the concentration of the functional water measured by the first densitometer, and the target concentration, the first processing apparatus It is a functional water concentration control system including a control device that generates an instruction for controlling the concentration of the functional water used.

また、本開示の他の一態様は、機能水製造装置で生成され、第１の処理装置及び第２の処理装置でそれぞれ使用される機能水の濃度を制御するための機能水濃度制御システムであって、前記機能水製造装置側の濃度計で測定した前記機能水の濃度が目標濃度の場合に、前記目標濃度の機能水を前記第１の処理装置及び第２の処理装置にそれぞれ供給する、機能水製造装置と、前記第１の処理装置に供給された機能水の濃度を測定する第１の濃度計と、前記第２の処理装置に供給された機能水の濃度を測定する第２の濃度計と、前記第１の濃度計及び第２の濃度計がそれぞれ測定した機能水の濃度と、前記目標濃度とに基づいて、前記第１の処理装置及び第２の処理装置でそれぞれ使用される機能水の濃度を制御する指示を生成する制御装置と、を備える機能水濃度制御システムである。 In addition, another aspect of the present disclosure is a functional water concentration control system for controlling the concentration of functional water produced by the functional water production apparatus and used in the first treatment apparatus and the second treatment apparatus, respectively. When the concentration of the functional water measured by the densitometer on the functional water production apparatus side is the target concentration, the functional water of the target concentration is supplied to the first treatment apparatus and the second treatment apparatus, respectively. , A first densitometer that measures the concentration of functional water supplied to the first treatment device, a second treatment device, and a second that measures the concentration of the functional water supplied to the second treatment device. Used in the first processing device and the second processing device, respectively, based on the concentration of the functional water measured by the densitometer, the first densitometer and the second densitometer, and the target concentration. It is a functional water concentration control system including a control device for generating an instruction for controlling the concentration of the functional water to be operated.

また、本開示の他の一態様は、機能水製造装置で生成され、処理装置で使用される機能水の濃度を制御するための機能水の濃度を制御する方法であって、前記機能水製造装置側の濃度計で測定した前記機能水の濃度が目標濃度に達した場合に、前記目標濃度に達した
機能水を前記処理装置に供給するステップと、前記処理装置に供給された前記機能水の濃度を測定するステップと、前記処理装置側で測定した機能水の濃度を前記目標濃度と比較して、前記機能水の濃度と前記目標濃度との間に差がある場合に、前記処理装置で使用される機能水の濃度を制御するよう指示をするステップと、を備える方法である。 In addition, another aspect of the present disclosure is a method of controlling the concentration of functional water for controlling the concentration of functional water produced by the functional water production apparatus and used in the treatment apparatus, and the above-mentioned functional water production. When the concentration of the functional water measured by the densitometer on the apparatus side reaches the target concentration, the step of supplying the functional water having reached the target concentration to the treatment apparatus and the functional water supplied to the treatment apparatus. When the step of measuring the concentration of the functional water and the concentration of the functional water measured on the processing apparatus side are compared with the target concentration and there is a difference between the concentration of the functional water and the target concentration, the processing apparatus It is a method comprising a step of instructing to control the concentration of functional water used in.

本開示の一実施形態に係る機能水濃度制御システムの構成を概略的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the functional water concentration control system which concerns on one Embodiment of this disclosure. 本開示の一実施形態による機能水濃度制御システムにおける各種処理を実現するための、制御装置の機能の例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the example of the function of the control device for realizing various processing in the functional water concentration control system by one Embodiment of this disclosure. 本開示の一実施形態による方法の処理のフローチャートである。It is a flowchart of the process of the method by one Embodiment of this disclosure. 本開示の一実施形態による機能水濃度制御システムにおける機能水濃度制御のための制御ループ系統図である。It is a control loop system diagram for the functional water concentration control in the functional water concentration control system by one Embodiment of this disclosure. 本開示の一実施形態による方法の処理のフローチャートである。It is a flowchart of the process of the method by one Embodiment of this disclosure. 本開示の一実施形態による機能水濃度制御システムの構成を概略的に示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the functional water concentration control system by one Embodiment of this disclosure. 上述した一実施形態による方法の処理のフローチャートである。It is a flowchart of the process of the method by one Embodiment described above. 本開示の一実施形態による目標オゾン水濃度が８０ｍｇ／Ｌのときの、純水流量（Ｌ／ｍｉｎ）と、酸素ガス流量（ＮＬ／ｍｉｎ）との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the pure water flow rate (L / min), and the oxygen gas flow rate (NL / min) when the target ozone water concentration by one Embodiment of this disclosure is 80mg / L.

［本開示の実施形態の説明］
最初に、本開示の実施形態の内容を列記して説明する。本開示の一実施形態は、以下のような構成を備える。 [Explanation of Embodiments of the present disclosure]
First, the contents of the embodiments of the present disclosure will be listed and described. One embodiment of the present disclosure includes the following configurations.

（項目１）
機能水製造装置で生成され、第１の処理装置で使用される機能水の濃度を制御する機能水濃度制御システムであって、
前記機能水製造装置の濃度計で測定した前記機能水の濃度が目標濃度の場合に、前記目標濃度の機能水を前記第１の処理装置に供給する、機能水製造装置と、
前記第１の処理装置に供給された前記機能水の濃度を測定する、第１の濃度計と、
前記第１の濃度計で測定した機能水の濃度と前記目標濃度とに基づいて、前記第１の処理装置で使用される機能水の濃度を制御する指示を生成する制御装置と、
を備える機能水濃度制御システム。
（項目２）
前記機能水製造装置は、前記機能水の原料となるガスの流量を制御する流量コントローラを備え、
前記制御装置は、前記第１の濃度計で測定した機能水の濃度が前記目標濃度よりも低い場合に、前記流量コントローラに対し、前記機能水の原料となるガスの流量を増加させるよう指示する、請求項１に記載の機能水濃度制御システム。
（項目３）
前記制御装置は、前記第１の濃度計で測定した機能水の濃度が前記目標濃度よりも高い場合に、前記機能水製造装置から前記第１の濃度計の間を流れる機能水を加熱するヒータを起動させる、請求項２に記載の機能水濃度制御システム。
（項目４）
機能水製造装置で生成され、第１の処理装置及び第２の処理装置でそれぞれ使用される機能水の濃度を制御するための機能水濃度制御システムであって、
前記機能水製造装置側の濃度計で測定した前記機能水の濃度が目標濃度の場合に、前記目標濃度の機能水を前記第１の処理装置及び第２の処理装置にそれぞれ供給する、機能水製造装置と、
前記第１の処理装置に供給された機能水の濃度を測定する第１の濃度計と、
前記第２の処理装置に供給された機能水の濃度を測定する第２の濃度計と、
前記第１の濃度計及び第２の濃度計がそれぞれ測定した機能水の濃度と、前記目標濃度とに基づいて、前記第１の処理装置及び第２の処理装置でそれぞれ使用される機能水の濃度を制御する指示を生成する制御装置と、
を備える機能水濃度制御システム。
（項目５）
前記制御装置は、前記第１の濃度計が測定した機能水の濃度と、前記第２の濃度計が測定した機能水の濃度から評価値を算出し、前記評価値が前記目標濃度よりも低い場合に、前記機能水製造装置のガス流量コントローラに対し、前記機能水の原料となるガスの流量を増加させるよう指示をする、請求項４に記載の機能水濃度制御システム。
（項目６）
請求項５に記載の機能水濃度制御システムであって、
前記機能水製造装置から前記第１の濃度計との間を流れる機能水を加熱する第１のヒータと、
前記機能水製造装置から前記第２の濃度計との間を流れる機能水を加熱する第２のヒータと
をさらに備え、
前記制御装置は、前記評価値が前記目標濃度よりも高い場合に、前記第１のヒータ及び第２のヒータを起動させるよう指示する、機能水濃度制御システム。
（項目７）
請求項５に記載の機能水濃度制御システムであって、
前記機能水製造装置から前記第１の濃度計までを流れる機能水を加熱する第１のヒータと、
前記機能水製造装置から前記第２の濃度計までを流れる機能水を加熱する第２のヒータと
をさらに備え、
前記制御装置は、前記第１の濃度計が測定した機能水の濃度が目標濃度よりも高い場合に、前記第１のヒータを起動させるよう指示をする、機能水濃度制御システム。
（項目８）
請求項７に記載の機能水濃度制御システムであって、
前記制御装置は、前記第２の濃度計が測定した機能水の濃度が目標濃度よりも低い場合に、前記第２のヒータを停止させるよう指示をする、機能水濃度制御システム。
（項目９）
機能水製造装置で生成され、処理装置で使用される機能水の濃度を制御するための機能水の濃度を制御する方法であって、
前記機能水製造装置側の濃度計で測定した前記機能水の濃度が目標濃度に達した場合に、前記目標濃度に達した機能水を前記処理装置に供給するステップと、
前記処理装置に供給された前記機能水の濃度を測定するステップと、
前記処理装置側で測定した機能水の濃度を前記目標濃度と比較して、前記機能水の濃度と前記目標濃度との間に差がある場合に、前記処理装置で使用される機能水の濃度を制御するよう指示をするステップと、
を備える方法。 (Item 1)
A functional water concentration control system that controls the concentration of functional water generated by the functional water production apparatus and used in the first treatment apparatus.
When the concentration of the functional water measured by the densitometer of the functional water production apparatus is the target concentration, the functional water production apparatus that supplies the functional water of the target concentration to the first treatment apparatus
A first densitometer that measures the concentration of the functional water supplied to the first processing apparatus, and
A control device that generates an instruction for controlling the concentration of the functional water used in the first processing device based on the concentration of the functional water measured by the first concentration meter and the target concentration.
A functional water concentration control system equipped with.
(Item 2)
The functional water production apparatus includes a flow rate controller that controls the flow rate of a gas that is a raw material for the functional water.
When the concentration of the functional water measured by the first densitometer is lower than the target concentration, the control device instructs the flow controller to increase the flow rate of the gas as a raw material of the functional water. , The functional water concentration control system according to claim 1.
(Item 3)
The control device is a heater that heats the functional water flowing between the functional water producing device and the first densitometer when the concentration of the functional water measured by the first densitometer is higher than the target concentration. The functional water concentration control system according to claim 2, which activates.
(Item 4)
A functional water concentration control system for controlling the concentration of functional water generated by the functional water production apparatus and used in the first treatment apparatus and the second treatment apparatus, respectively.
When the concentration of the functional water measured by the densitometer on the functional water production apparatus side is the target concentration, the functional water having the target concentration is supplied to the first treatment apparatus and the second treatment apparatus, respectively. Manufacturing equipment and
A first densitometer that measures the concentration of functional water supplied to the first treatment device, and
A second densitometer that measures the concentration of functional water supplied to the second treatment device, and
Based on the concentration of the functional water measured by the first densitometer and the second densitometer and the target concentration, the functional water used in the first treatment device and the second treatment device, respectively. A control device that generates instructions to control the concentration,
A functional water concentration control system equipped with.
(Item 5)
The control device calculates an evaluation value from the concentration of the functional water measured by the first densitometer and the concentration of the functional water measured by the second densitometer, and the evaluation value is lower than the target concentration. The functional water concentration control system according to claim 4, wherein the gas flow controller of the functional water production apparatus is instructed to increase the flow rate of the gas as a raw material of the functional water.
(Item 6)
The functional water concentration control system according to claim 5.
A first heater for heating the functional water flowing between the functional water producing apparatus and the first densitometer, and a first heater.
Further provided with a second heater for heating the functional water flowing from the functional water production apparatus to the second densitometer.
The control device is a functional water concentration control system that instructs to activate the first heater and the second heater when the evaluation value is higher than the target concentration.
(Item 7)
The functional water concentration control system according to claim 5.
A first heater that heats the functional water flowing from the functional water production apparatus to the first densitometer, and
Further provided with a second heater for heating the functional water flowing from the functional water producing apparatus to the second densitometer.
The control device is a functional water concentration control system that instructs the first heater to be activated when the concentration of the functional water measured by the first densitometer is higher than the target concentration.
(Item 8)
The functional water concentration control system according to claim 7.
The control device is a functional water concentration control system that instructs the second heater to be stopped when the concentration of the functional water measured by the second densitometer is lower than the target concentration.
(Item 9)
A method of controlling the concentration of functional water for controlling the concentration of functional water produced by the functional water production apparatus and used in the treatment apparatus.
When the concentration of the functional water measured by the concentration meter on the functional water production apparatus side reaches the target concentration, the step of supplying the functional water having reached the target concentration to the treatment apparatus, and
The step of measuring the concentration of the functional water supplied to the processing apparatus, and
The concentration of the functional water measured on the treatment apparatus side is compared with the target concentration, and when there is a difference between the concentration of the functional water and the target concentration, the concentration of the functional water used in the treatment apparatus. And the steps to instruct to control
How to prepare.

［本開示の実施形態の詳細］
以下、本開示の実施形態について図面を参照して説明する。図面において、同一または類似の要素には同一または類似の参照符号が付され、各実施形態の説明において同一または類似の要素に関する重複する説明は省略することがある。また、各実施形態で示される特徴は、互いに矛盾しない限り他の実施形態にも適用可能である。しかし、本開示の実施形態は、必ずしもこのような態様に限定されない。本開示の実施形態が、特許請求の範囲
において規定される範囲に含まれる様々な態様を取り得ることは、当業者にとって明らかであろう。 [Details of Embodiments of the present disclosure]
Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described with reference to the drawings. In the drawings, the same or similar elements are designated by the same or similar reference numerals, and duplicate description of the same or similar elements may be omitted in the description of each embodiment. In addition, the features shown in each embodiment can be applied to other embodiments as long as they do not contradict each other. However, the embodiments of the present disclosure are not necessarily limited to such aspects. It will be apparent to those skilled in the art that the embodiments of the present disclosure may take various aspects within the scope of the claims.

以下、本開示の実施形態について具体的に説明する。図１は本開示の一実施形態に係る機能水濃度制御システム１００の構成を概略的に示す図である。機能水濃度制御システム１００は、機能水製造装置１１０で製造した機能水を１以上の処理装置１４０（図１では処理装置１４０ａ及び１４０ｂの２台）に供給し、制御装置１７０は処理装置１４０（ユースポイント１４４）で使用される機能水の濃度を制御する。機能水製造装置１１０と、処理装置１４０は好ましくは隣接した場所に配置されているが、離れた場所に配置されてもよい。 Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be specifically described. FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a functional water concentration control system 100 according to an embodiment of the present disclosure. The functional water concentration control system 100 supplies the functional water produced by the functional water production device 110 to one or more processing devices 140 (two units 140a and 140b in FIG. 1), and the control device 170 supplies the processing device 140 (2 units of the processing devices 140a and 140b). Control the concentration of functional water used at use point 144). The functional water production apparatus 110 and the treatment apparatus 140 are preferably arranged at adjacent locations, but may be arranged at distant locations.

機能水濃度制御システム１００は、機能水製造装置１１０と、処理装置１４０と、制御装置１７０とを備える。機能水製造装置１１０は、オゾン等（Ｏ_３）のガスを生成し、当該ガスを原料である水に溶解させて生成された混合液体（機能水）を１以上の処理装置１４０へ供給する。制御装置１７０は、処理装置側の濃度計１４２（図１では１４２ａ及び１４２ｂ）で測定された機能水の濃度と、目標濃度との差がある場合に、この差にしたがって、１以上の処理装置１４０に供給される機能水の濃度をフィードバック制御するための指示を流量コントローラ１１８等の各種装置へ与える。図１に示される機能水製造装置１１０と、１以上の処理装置１４０、制御装置１７０との関係は例示であって、図１に示すものに限定されない。例えば、制御装置１７０は、機能水製造装置１１０、処理装置１４０と無線あるいは有線で通信可能に接続されていればよく、機能水製造装置１１０内、あるいは処理装置１４０内に設けられてもよい。また、処理装置１４０は１台であっても、２台以上であってもよい。 The functional water concentration control system 100 includes a functional water production device 110, a treatment device 140, and a control device 170. Functional water producing device 110 produces a gas such as ozone (O _3), and supplies the gas raw material is water dissolved and generated by mixing a liquid (functional water) to one or more processing devices 140. When there is a difference between the concentration of the functional water measured by the densitometer 142 (142a and 142b in FIG. 1) on the processing device side and the target concentration, the control device 170 is one or more processing devices according to this difference. Instructions for feedback-controlling the concentration of the functional water supplied to the 140 are given to various devices such as the flow controller 118. The relationship between the functional water production device 110 shown in FIG. 1 and one or more treatment devices 140 and control device 170 is an example, and is not limited to that shown in FIG. For example, the control device 170 may be connected to the functional water production device 110 and the treatment device 140 so as to be able to communicate wirelessly or by wire, and may be provided in the functional water production device 110 or in the treatment device 140. Further, the number of processing devices 140 may be one or two or more.

図１に示すように、機能水製造装置１１０は、機能水の原料となる水素（Ｈ_２）、酸素（Ｏ_２）などの第１ガス（不図示）を、二酸化炭素（ＣＯ_２）、窒素（Ｎ_２）などの第２ガス（不図示）と混合してガスを生成するガス生成部１１２と、機能水の原料となる純水を供給する純水供給部１１４と、供給された純水にガス生成部１１２で生成したガスを溶解させて機能水を生成する混合器１１６を備える。例えば、第１ガスと、第２ガスとを混合して生成されるガスは、それぞれ水素ガス、酸素ガス、オゾンガスなどであり、生成される機能水は、それぞれ順に水素水、酸素水、オゾン水などである。 As shown in FIG. 1, the functional water production apparatus 110 uses carbon dioxide (CO ₂ ) and nitrogen as the first gas (not shown) such as hydrogen (H ₂ ) and oxygen (O ₂ ), which are raw materials for the functional water. A gas generation unit 112 that generates a gas by mixing with a second gas (not shown) such as (N ₂ ), a pure water supply unit 114 that supplies pure water as a raw material for functional water, and the supplied pure water. Is provided with a mixer 116 that dissolves the gas generated by the gas generating unit 112 to generate functional water. For example, the gas generated by mixing the first gas and the second gas is hydrogen gas, oxygen gas, ozone gas, etc., respectively, and the generated functional waters are hydrogen water, oxygen water, and ozone water, respectively. And so on.

純水供給部１１４と混合器１１６との間には、流量計１２０と昇圧ポンプ１２２が設けられている。原料となる純水は、流量計１２０で流量が測定された後、昇圧ポンプ１２２（あるいは単にポンプともいう。以下、同じ。）へ送られ、昇圧ポンプ１２２で圧力を調整（昇圧）された後、混合器１１６へ送られる。昇圧ポンプ１２２は、０．１ＭＰａから１．０ＭＰの圧力範囲内で、混合器１１６へ送る水の圧力を制御する。このような昇圧ポンプ１２２として、例えば、遠心ポンプが用いられる。 A flow meter 120 and a booster pump 122 are provided between the pure water supply unit 114 and the mixer 116. The pure water used as a raw material is sent to a booster pump 122 (or simply referred to as a pump; the same applies hereinafter) after the flow rate is measured by the flow meter 120, and the pressure is adjusted (boosted) by the booster pump 122. , Sent to mixer 116. The booster pump 122 controls the pressure of water sent to the mixer 116 within a pressure range of 0.1 MPa to 1.0 MP. As such a step-up pump 122, for example, a centrifugal pump is used.

混合器１１６で生成されたオゾン水は、気液分離タンク１２４に送られる。気液分離タンク１２４では、混合器１１６で生成された機能水が、処理装置１４０（ユースポイント１４４）に供給する機能水と、水に溶けきれなかった排ガスに気液分離される。気液分離された排ガスは、気液分離タンク１２４から排気処理部１３０へ送られて分解処理された後、排出口（不図示）から排出される。 The ozone water generated by the mixer 116 is sent to the gas-liquid separation tank 124. In the gas-liquid separation tank 124, the functional water generated by the mixer 116 is gas-liquid separated into the functional water supplied to the treatment device 140 (use point 144) and the exhaust gas that cannot be completely dissolved in the water. The gas-liquid separated exhaust gas is sent from the gas-liquid separation tank 124 to the exhaust treatment unit 130, decomposed, and then discharged from a discharge port (not shown).

一方、気液分離された機能水は機能水製造装置１１０側の濃度計１２６で濃度が測定された後、１以上の処理装置１４０に供給される。濃度計１２６は、気液分離タンク１２４と隣接して配されており、例えば、図１に示すように気液分離タンク１２４と、機能水製造装置１１０側の供給バルブ１２８との間に配される。濃度計１２６は、気液分離タンク１２４と、機能水製造装置１１０側の供給バルブ１２８との間の供給管内を流れる、機能
水の濃度、例えばオゾン濃度を測定する。 On the other hand, the gas-liquid separated functional water is supplied to one or more treatment devices 140 after the concentration is measured by the concentration meter 126 on the functional water production device 110 side. The densitometer 126 is arranged adjacent to the gas-liquid separation tank 124, and is arranged between the gas-liquid separation tank 124 and the supply valve 128 on the functional water production apparatus 110 side, for example, as shown in FIG. To. The densitometer 126 measures the concentration of functional water, for example, the ozone concentration, which flows in the supply pipe between the gas-liquid separation tank 124 and the supply valve 128 on the functional water production apparatus 110 side.

図１に示すように、濃度計１２６で濃度が測定された機能水は、処理装置１４０が複数の場合、分岐管１３２を通じて複数の処理装置１４０の各々（図１では処理装置１４０ａ、１４０ｂ）に分配される。各処理装置１４０は、それぞれ少なくとも１台の濃度計１４２を備える。 As shown in FIG. 1, when the concentration of the functional water is measured by the densitometer 126, when there are a plurality of treatment devices 140, the functional water is applied to each of the plurality of treatment devices 140 (treatment devices 140a and 140b in FIG. Will be distributed. Each processing device 140 includes at least one densitometer 142.

その後、処理装置１４０に供給された機能水は、処理装置１４０側の濃度計１４２（図１では１４２ａ、１４２ｂ）で濃度を測定された後、ユースポイント１４４（図１では１４４ａ、１４４ｂ）に供給される。濃度計１４２は、処理装置１４０に供給された機能水の濃度を測定するものであり、好ましくはユースポイント１４４に供給される直前の機能水の濃度を測定する。このため、濃度計１４２は、好ましくはユースポイント１４４に隣接して配され、一例として図１に示すように、処理装置１４０側の供給バルブ１４６とユースポイント１４４との間に配される。 After that, the functional water supplied to the treatment device 140 is supplied to the use point 144 (144a, 144b in FIG. 1) after the concentration is measured by the densitometer 142 (142a, 142b in FIG. 1) on the treatment device 140 side. Will be done. The densitometer 142 measures the concentration of the functional water supplied to the processing apparatus 140, and preferably measures the concentration of the functional water immediately before being supplied to the use point 144. Therefore, the densitometer 142 is preferably arranged adjacent to the use point 144, and as an example, as shown in FIG. 1, is arranged between the supply valve 146 on the processing device 140 side and the use point 144.

処理装置１４０は、機能水製造装置１１０から供給された機能水を用いてユースポイント１４４で各種処理を実行する。例えば、処理装置１４０は、ユースポイント１４４において、ノズルから噴射された機能水で、半導体や液晶などの電子部品等の基板を洗浄する処理を実行する。 The treatment device 140 executes various treatments at the use point 144 using the functional water supplied from the functional water production device 110. For example, at use point 144, the processing device 140 executes a process of cleaning a substrate such as an electronic component such as a semiconductor or a liquid crystal with functional water ejected from a nozzle.

制御装置１７０は、機能水濃度制御システム１００が備える各種センサ等からの信号を受信し、該信号に基づいて各種コンポーネントの動作を制御する。図１は、制御装置１７０と、制御装置１７０に接続される他のコンポーネントとの関係を点線で概略的に例示する。例えば、制御装置１７０は、処理装置１４０側の濃度計１４２からの信号を受信し、流量コントローラ１１８の動作を制御して、ガス生成部１１２へ供給するガスの流量を制御する。また、例えば、制御装置１７０は、処理装置１４０側の濃度計１４２からの信号を受信して、製造装置側の供給バルブ１２８（図１では１２８ａ、１２８ｂ）、処理装置側の供給バルブ１４６（図１では１４６ａ、１４６ｂ）、及びドレンバルブ１４８（図１の１４８ａ、１４８ｂ）の開度を調整して、ユースポイント１４４（図１では１４４ａ、１４４ｂ）に供給する機能水の量を制御する。 The control device 170 receives signals from various sensors and the like included in the functional water concentration control system 100, and controls the operation of various components based on the signals. FIG. 1 schematically illustrates the relationship between the control device 170 and other components connected to the control device 170 with a dotted line. For example, the control device 170 receives a signal from the densitometer 142 on the processing device 140 side, controls the operation of the flow rate controller 118, and controls the flow rate of the gas supplied to the gas generation unit 112. Further, for example, the control device 170 receives a signal from the densitometer 142 on the processing device 140 side, and supplies valves 128 (128a, 128b) on the manufacturing device side and supply valves 146 on the processing device side (FIG. 1). In 1, the opening degree of the drain valve 148 (148a, 148b in FIG. 1) is adjusted to control the amount of functional water supplied to the use point 144 (144a, 144b in FIG. 1).

図２は、本開示の一実施形態による機能水濃度制御システム１００における各種処理を実現するための、制御装置１７０の機能の例を示すブロック図である。制御装置１７０は、主たる構成要素として、プロセッサ２１０と、メモリ２２０と、ストレージ２３０とを備える。 FIG. 2 is a block diagram showing an example of the function of the control device 170 for realizing various processes in the functional water concentration control system 100 according to the embodiment of the present disclosure. The control device 170 includes a processor 210, a memory 220, and a storage 230 as main components.

プロセッサ２１０は、制御装置１７０に与えられる信号に基づいて、あるいは、予め定められた条件が成立したことに基づいて、メモリ２２０に格納されているプログラムに含まれる一連の命令を実行する。ある態様において、プロセッサ２１０は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）、ＭＰＵ（Ｍｉｃｒｏ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ Ｕｎｉｔ）等のデバイスとして実現される。プロセッサ２１０内に含まれるコンポーネントは、プロセッサ２１０が実行する機能を具体的なモジュールとして表現する１つの例にすぎない。複数のコンポーネントの機能が単一のコンポーネントによって実現されてもよい。プロセッサ２１０がすべてのコンポーネントの機能を実行するように構成されてもよい。図２は、プロセッサが実行する機能を示す。図２に示すように、一例では、プロセッサ２１０は、判定部２１２と、濃度制御部２１４と、評価値算出部２１６とを備える。 The processor 210 executes a series of instructions included in the program stored in the memory 220 based on the signal given to the control device 170 or the condition that a predetermined condition is satisfied. In some embodiments, the processor 210 is realized as a device such as a CPU (Central Processing Unit) or an MPU (Micro Processor Unit). The components contained within the processor 210 are just one example of expressing the functions performed by the processor 210 as concrete modules. The functionality of multiple components may be realized by a single component. Processor 210 may be configured to perform the functions of all components. FIG. 2 shows the functions performed by the processor. As shown in FIG. 2, in one example, the processor 210 includes a determination unit 212, a concentration control unit 214, and an evaluation value calculation unit 216.

メモリ２２０は、プログラム及びデータを一時的に保存する。プログラムは、例えば、ストレージ２３０からロードされる。データは、制御装置１７０に入力されたデータと、
プロセッサ２１０によって生成されたデータとを含む。ある態様において、メモリ２２０は、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）等の揮発性メモリとして実現される。 The memory 220 temporarily stores programs and data. The program is loaded from storage 230, for example. The data includes the data input to the control device 170 and
Includes data generated by processor 210. In some embodiments, the memory 220 is realized as a volatile memory such as a RAM (Random Access Memory).

ストレージ２３０は、プログラム及びデータを永続的に保存する。ストレージ２３０は、例えば、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、ハードディスク装置等の不揮発性メモリとして実現される。一例では、図２に示すように、ストレージ２３０には、機能水濃度制御システム１００を操作する作業者によって予め設定された機能水の濃度である目標濃度２３２や、濃度制御処理を実行させるための制御プログラムファイル（不図示）等が格納されている。目標濃度２３２は、例えば機能水がオゾン水の場合、レジスト除去（剥離／洗浄）に適した濃度である５０から８０ｐｐｍである。 Storage 230 permanently stores programs and data. The storage 230 is realized as, for example, a non-volatile memory of a ROM (Read Only Memory), a hard disk device, or the like. In one example, as shown in FIG. 2, the storage 230 is used to execute a target concentration 232, which is a concentration of functional water preset by an operator who operates the functional water concentration control system 100, and a concentration control process. A control program file (not shown) and the like are stored. The target concentration 232 is, for example, 50 to 80 ppm, which is a concentration suitable for resist removal (peeling / washing) when the functional water is ozone water.

図３は、本開示の一実施形態による方法３００の機能水濃度制御システム１００における処理のフローチャートである。方法３００は、機能水製造装置１１０の運転が開始されてから、機能水製造装置１１０が供給する機能水の濃度が目標濃度２３２（図２）に到達するまでに行われる処理のフローを示す。作業者は、予め目標濃度２３２を基準とした目標濃度の範囲、例えば、目標濃度２３２の±５パーセントを任意に設定することができる。 FIG. 3 is a flowchart of processing in the functional water concentration control system 100 of the method 300 according to the embodiment of the present disclosure. Method 300 shows a flow of processing performed from the start of operation of the functional water production apparatus 110 until the concentration of the functional water supplied by the functional water production apparatus 110 reaches the target concentration 232 (FIG. 2). The operator can arbitrarily set a range of the target concentration based on the target concentration 232, for example, ± 5% of the target concentration 232.

処理はステップ３０２において開始する。ステップ３０２において、プロセッサ２１０は、作業者から機能水濃度制御システム１００の運転開始を指示する信号を受信する。指示信号を受信すると、ステップ３０４において、プロセッサ２１０は、製造する機能水の目標濃度２３２をメモリ２２０に読み込み、メモリ２２０に格納されている制御プログラムを呼び出して実行する。 The process starts in step 302. In step 302, the processor 210 receives a signal from the operator instructing the start of operation of the functional water concentration control system 100. Upon receiving the instruction signal, in step 304, the processor 210 reads the target concentration 232 of the functional water to be produced into the memory 220, and calls and executes the control program stored in the memory 220.

制御プログラムが実行されると、ステップ３０６において、プロセッサ２１０は、機能水製造装置１１０側の供給バルブ１２８（図１では１２８ａ及び１２８ｂ）を開放し、処理装置１４０の供給バルブ１４６（図１では１４６ａ及び１４６ｂ）を閉止し、ドレンバルブ１４８（図１では１４８ａ及び１４８ｂ）を開放する。また、プロセッサ２１０は、機能水製造装置１１０側の濃度計１２６（図１）により測定された、処理装置１４０に供給される前の機能水の濃度を取得する。機能水製造装置１１０の運転開始時は、機能水は目標濃度２３２に達していない。目標濃度２３２に達していない機能水は、処理装置１４０（図１では１４０ａ、及び１４０ｂ）には供給されず、ドレンバルブ１４８を介して外部へ排出される。 When the control program is executed, in step 306, the processor 210 opens the supply valves 128 (128a and 128b in FIG. 1) on the functional water production apparatus 110 side, and the supply valves 146 (146a in FIG. 1) of the processing apparatus 140. And 146b) are closed and the drain valves 148 (148a and 148b in FIG. 1) are opened. Further, the processor 210 acquires the concentration of the functional water before being supplied to the processing apparatus 140, which is measured by the concentration meter 126 (FIG. 1) on the functional water production apparatus 110 side. At the start of operation of the functional water production apparatus 110, the functional water has not reached the target concentration 232. The functional water that has not reached the target concentration 232 is not supplied to the treatment device 140 (140a and 140b in FIG. 1), and is discharged to the outside through the drain valve 148.

ステップ３０８において、プロセッサ２１０（判定部２１２）は、ステップ３０４で測定した機能水の濃度が目標濃度２３２か否かを判定する。ステップ３０８にて「いいえ（低い）」の場合、すなわちステップ３０６で測定した機能水の濃度が目標濃度２３２未満の場合（目標濃度２３２に範囲が定められている場合、目標濃度２３２の最下値未満の場合）、ステップ３１０に進む。 In step 308, the processor 210 (determination unit 212) determines whether or not the concentration of functional water measured in step 304 is the target concentration 232. When "No (low)" in step 308, that is, when the concentration of functional water measured in step 306 is less than the target concentration 232 (when the target concentration 232 has a range, it is less than the lowest value of the target concentration 232. In the case of), the process proceeds to step 310.

ステップ３１０において、プロセッサ２１０（濃度制御部２１４）は、流量コントローラ１１８に対し、ガス生成部１１２に供給される原料となるガスの流量を増やすよう指示する。混合器１１６が供給する機能水の濃度は、流量計１２０により測定される水の流量と、第１ガス（Ｈ_２、Ｏ_２等）と第２ガス（ＣＯ_２、Ｎ_２等）の流量により定められる。機能水の濃度に対する水の流量と第１ガス及び第２ガスの流量の関係は予め定められており、濃度制御部２１４は、流量計１２０により測定される水の流量から、所定の濃度の機能水を生成するための第１ガスと第２ガスの流量を求める。そして、濃度制御部２１４は、求められたガスの流量になるように、第１ガス及び第２ガスの流量を流量コントローラ１１８により制御する。 In step 310, the processor 210 (concentration control unit 214) instructs the flow rate controller 118 to increase the flow rate of the raw material gas supplied to the gas generation unit 112. The concentration of the mixer 116 supplies functional water, the flow rate of water is measured by the flow meter 120, the flow rate of the first gas _(H 2, _{O 2,} etc.) the second gas _(CO 2, _{N 2,} etc.) It is decided. The relationship between the flow rate of water and the flow rates of the first gas and the second gas with respect to the concentration of functional water is predetermined, and the concentration control unit 214 functions with a predetermined concentration from the flow rate of water measured by the flow meter 120. The flow rates of the first gas and the second gas for producing water are obtained. Then, the concentration control unit 214 controls the flow rates of the first gas and the second gas by the flow rate controller 118 so as to obtain the required flow rate of the gas.

一方、ステップ３０８にて「いいえ（高い）」の場合、すなわちステップ３０６で測定した機能水の濃度が目標濃度２３２を超える場合（目標濃度２３２に範囲が定められている場合、目標濃度２３２の最上値を超える場合）、ステップ３１２に進む。ステップ３１２において、プロセッサ２１０（濃度制御部２１４）は、流量コントローラ１１８に対し、ガス生成部１１２に供給される原料となるガスの流量を減らすよう指示する。 On the other hand, when "No (high)" in step 308, that is, when the concentration of the functional water measured in step 306 exceeds the target concentration 232 (when the range is defined in the target concentration 232, the highest of the target concentration 232 is obtained. If the value is exceeded), the process proceeds to step 312. In step 312, the processor 210 (concentration control unit 214) instructs the flow rate controller 118 to reduce the flow rate of the raw material gas supplied to the gas generation unit 112.

さらに、ステップ３０８にて「はい」の場合、すなわち機能水製造装置１１０側の濃度計１２６で測定した機能水の濃度が目標濃度２３２の場合（目標濃度２３２に範囲が定められている場合、目標濃度２３２以内の場合）、処理を終了する（ステップ３１４）。 Further, in the case of "Yes" in step 308, that is, when the concentration of the functional water measured by the concentration meter 126 on the functional water production apparatus 110 side is the target concentration 232 (when the range is defined in the target concentration 232, the target When the concentration is within 232), the process is terminated (step 314).

図４は、本開示の一実施形態による機能水濃度制御システム１００における機能水濃度制御のための制御ループ系統図である。本開示によると、処理装置１４０に供給される機能水の濃度を目標濃度２３２に保持するために、処理装置１４０側の濃度計１４２で測定した機能水の濃度と目標濃度２３２とに基づいてフィードバック制御を行う。 FIG. 4 is a control loop system diagram for controlling the functional water concentration in the functional water concentration control system 100 according to the embodiment of the present disclosure. According to the present disclosure, in order to maintain the concentration of the functional water supplied to the processing device 140 at the target concentration 232, feedback is provided based on the concentration of the functional water measured by the densitometer 142 on the processing device 140 side and the target concentration 232. Take control.

具体的には、処理装置１４０に供給される機能水の濃度を、処理装置１４０側の濃度計１４２で測定し、該測定された濃度と目標濃度２３２との差を求め、この差にしたがって、制御装置１７０は処理装置１４０に供給される機能水の濃度の制御を行う。図４に示すように処理装置１４０が複数の場合は、各濃度計１４２ａ及び１４２ｂで機能水の濃度をそれぞれ測定し、該測定された濃度から評価値を算出して、評価値と目標濃度２３２（図２）との差を求め、この差にしたがって、制御装置１７０は各処理装置１４０（図１では１４０ａ及び１４０ｂ）に供給する機能水の濃度の制御を行う。評価値は、一例として、各濃度計１４２ａ及び濃度計１４２ｂで測定された機能水の平均濃度であるが、これに限定されない。濃度計が３台以上の場合、それぞれの濃度計で測定された機能水の濃度を大きさの順に並べたときの、中央値でもよい。 Specifically, the concentration of the functional water supplied to the processing device 140 is measured by the densitometer 142 on the processing device 140 side, the difference between the measured concentration and the target concentration 232 is obtained, and according to this difference, The control device 170 controls the concentration of the functional water supplied to the processing device 140. As shown in FIG. 4, when there are a plurality of processing devices 140, the concentration of the functional water is measured by the concentration meters 142a and 142b, respectively, the evaluation value is calculated from the measured concentration, and the evaluation value and the target concentration 232 are obtained. The difference from (FIG. 2) is obtained, and the control device 170 controls the concentration of the functional water supplied to each processing device 140 (140a and 140b in FIG. 1) according to the difference. The evaluation value is, for example, the average concentration of the functional water measured by each densitometer 142a and densitometer 142b, but is not limited thereto. When there are three or more densitometers, the median value when the concentrations of the functional water measured by each densitometer are arranged in order of magnitude may be used.

処理装置１４０（ユースポイント１４４）へ供給される機能水の濃度は、機能水製造装置１１０と処理装置１４０との間をつなぐ供給管の状態や、機能水濃度制御システム１００が置かれている気温の変動などにより変化する。本開示によると、このような変化に対する正確な知識が欠如する場合にも、処理装置１４０に供給される機能水の濃度を目標濃度２３２に保持すること可能となる。第１実施形態においては、制御装置１７０は、流量コントローラ１１８により機能水の濃度制御を行う。第２実施形態においては、制御装置１７０は、後述するヒータ１５０（図６に示す）により機能水の濃度制御を行う。 The concentration of the functional water supplied to the treatment device 140 (use point 144) is the state of the supply pipe connecting the functional water production device 110 and the treatment device 140 and the temperature at which the functional water concentration control system 100 is placed. It changes due to fluctuations in. According to the present disclosure, it is possible to maintain the concentration of functional water supplied to the treatment apparatus 140 at the target concentration 232 even in the absence of accurate knowledge of such changes. In the first embodiment, the control device 170 controls the concentration of functional water by the flow rate controller 118. In the second embodiment, the control device 170 controls the concentration of functional water by a heater 150 (shown in FIG. 6) described later.

図５は、本開示の第１実施形態による方法５００の処理のフローチャートである。第１実施形態では、流量コントローラ１１８を用いて、ユースポイント１４４へ供給される機能水の濃度を制御する。機能水製造装置１１０から処理装置１４０（ユースポイント１４４）に機能水が供給されるまでの間に、機能水に溶解するガスの濃度は低下する。特に機能水がオゾン水の場合、オゾン水は短期間でオゾンと水に分離してしまう。本実施形態においては、ユースポイント１４４の近傍にある濃度計１４２で機能水の濃度を測定して、該濃度が目標濃度２３２よりも低い場合に、流量コントローラ１１８に対してガス生成部１１２へ供給される原料となるガスの流量を増加するよう制御する。濃度計１２６で測定した機能水の濃度が目標濃度２３２に達するまでは、前述した方法３００にしたがって処理を実施する。図５の方法５００の処理のフローチャートは、濃度計１２６で測定された機能水の濃度が目標濃度２３２に一旦達した後に、本システムにおいて実施される処理を示す。 FIG. 5 is a flowchart of the process of the method 500 according to the first embodiment of the present disclosure. In the first embodiment, the flow controller 118 is used to control the concentration of the functional water supplied to the use point 144. During the period from the function water production device 110 to the treatment device 140 (use point 144), the concentration of the gas dissolved in the function water decreases. Especially when the functional water is ozone water, the ozone water is separated into ozone and water in a short period of time. In the present embodiment, the concentration of the functional water is measured by the concentration meter 142 near the use point 144, and when the concentration is lower than the target concentration 232, the flow controller 118 is supplied to the gas generation unit 112. Control to increase the flow rate of the gas that is the raw material to be produced. The treatment is carried out according to the method 300 described above until the concentration of the functional water measured by the densitometer 126 reaches the target concentration 232. The flowchart of the process of the method 500 of FIG. 5 shows the process performed in this system once the concentration of the functional water measured by the densitometer 126 reaches the target concentration 232.

処理はステップ５０２において開始する。プロセッサ２１０は、メモリ２２０に格納されている制御プログラムを読み出して実行する。 The process starts in step 502. The processor 210 reads and executes the control program stored in the memory 220.

制御プログラムが実行されると、ステップ５０４において、プロセッサ２１０は、処理装置１４０側の供給バルブ１４６（図１では１４６ａ及び１４６ｂ）を開放し、ドレンバルブ１４８（図１では１４８ａ及び１４８ｂ）を閉止するよう制御する。機能水製造装置１１０側の供給バルブ１２８（図１では１２８ａ及び１２８ｂ）は開放したままである。機能水製造装置１１０側の濃度計１２６で測定した機能水の濃度が目標濃度２３２に達すると、機能水はドレンバルブ１４８から排出されずに、処理装置１４０に供給される。さらに、プロセッサ２１０は、機能水製造装置１１０側の濃度計１２６からではなく、処理装置１４０側の濃度計１４２からの測定値を取得するよう切り換える。 When the control program is executed, in step 504, the processor 210 opens the supply valves 146 (146a and 146b in FIG. 1) on the processing device 140 side and closes the drain valves 148 (148a and 148b in FIG. 1). To control. The supply valves 128 (128a and 128b in FIG. 1) on the side of the functional water production apparatus 110 remain open. When the concentration of the functional water measured by the concentration meter 126 on the functional water production apparatus 110 side reaches the target concentration 232, the functional water is supplied to the treatment apparatus 140 without being discharged from the drain valve 148. Further, the processor 210 switches to acquire the measured value from the densitometer 142 on the processing device 140 side instead of from the densitometer 126 on the functional water production apparatus 110 side.

処理はステップ５０６に進み、プロセッサ２１０は、処理装置１４０側の濃度計１４２で測定された、ユースポイント１４４で使用される直前の機能水の濃度を取得する。処理はステップ５０８に進み、プロセッサ２１０（判定部２１２）は、ステップ５０６で取得した機能水の濃度が、目標濃度２３２よりも低いか否かを判定する。ステップ５０８にて「はい」の場合、すなわち取得した機能水の濃度が目標濃度２３２より低い場合、ステップ５１０へ進む。 The process proceeds to step 506, and the processor 210 acquires the concentration of the functional water immediately before being used at the use point 144 measured by the densitometer 142 on the processing device 140 side. The process proceeds to step 508, and the processor 210 (determination unit 212) determines whether or not the concentration of the functional water acquired in step 506 is lower than the target concentration 232. If "Yes" in step 508, that is, if the concentration of the acquired functional water is lower than the target concentration 232, the process proceeds to step 510.

処理装置１４０が複数の場合（図１では１４２ａ及び１４２ｂの２台）のステップ５０６及びステップ５０８における処理は、処理装置１４０が一台の場合のステップ５０６及びステップ５０８処理とは異なる。処理装置１４０が複数の場合、ステップ５０６において、プロセッサ２１０（評価値算出部２１６）は、さらに、各濃度計１４２ａ、及び１４２ｂで測定された機能水の濃度をそれぞれ取得し、取得した機能水の濃度から評価値、例えば取得した機能水の濃度の平均濃度を算出する。次に、ステップ５０８において、プロセッサ２１０（判定部２１２）は、ステップ５０６で取得した機能水の評価値が、目標濃度２３２か否かを判定する。ステップ５０８にて「いいえ（低い）」の場合、すなわち取得した機能水の評価値が目標濃度２３２未満の場合（目標濃度２３２に範囲が定められている場合、目標濃度２３２の最下値未満の場合）、ステップ５１０へ進む。 The processing in step 506 and step 508 when there are a plurality of processing devices 140 (two units 142a and 142b in FIG. 1) is different from the processing in step 506 and step 508 when there is one processing device 140. When there are a plurality of processing devices 140, in step 506, the processor 210 (evaluation value calculation unit 216) further acquires the concentration of the functional water measured by each of the concentration meters 142a and 142b, and the acquired functional water. The evaluation value, for example, the average concentration of the acquired functional water concentration is calculated from the concentration. Next, in step 508, the processor 210 (determination unit 212) determines whether or not the evaluation value of the functional water acquired in step 506 is the target concentration 232 or not. When "No (low)" in step 508, that is, when the evaluation value of the acquired functional water is less than the target concentration 232 (when the target concentration 232 has a range, or less than the lowest value of the target concentration 232). ), Proceed to step 510.

ステップ５１０において、プロセッサ２１０（濃度制御部２１４）は、流量コントローラ１１８に対し、ガス生成部１１２に供給される原料となるガスの流量を増加するよう指示をする。一例として、プロセッサ２１０（濃度制御部２１４）は、目標濃度２３２と取得した機能水の濃度との差を求め、このような差に基づいて、水の流量と第１ガス流量の関係式を補正する。目標濃度２３２に対する原料となる水の流量ｘ（Ｌ／ｍｉｎ）と、原料となる第１ガスの流量ｙ（ＮＬ／ｍｉｎ）の関係は予め定められており、一次関数ｙ＝ａｘ＋ｂで表すことができる。傾きａは、正の値である。切片ｂはオフセットであり、このオフセットｂを補正して、水の流量と第１ガス流量の関係式を補正する In step 510, the processor 210 (concentration control unit 214) instructs the flow rate controller 118 to increase the flow rate of the raw material gas supplied to the gas generation unit 112. As an example, the processor 210 (concentration control unit 214) obtains the difference between the target concentration 232 and the acquired concentration of the functional water, and corrects the relational expression between the water flow rate and the first gas flow rate based on such a difference. To do. The relationship between the flow rate x (L / min) of water as a raw material and the flow rate y (NL / min) of the first gas as a raw material with respect to the target concentration 232 is predetermined and can be expressed by a linear function y = ax + b. it can. The slope a is a positive value. The intercept b is an offset, and this offset b is corrected to correct the relational expression between the water flow rate and the first gas flow rate.

以下、図８を参照して、水の流量と第１ガス流量の関係式の補正方法の例について説明する。図８は、機能水がオゾン水であり、目標オゾン水濃度が８０（ｍｇ／Ｌ）のときの、原料となる水の流量ｘ（Ｌ／ｍｉｎ）と、酸素ガス流量ｙ（ＮＬ／ｍｉｎ）との関係の例ｙ＝０．２ｘ＋１を示す。例えば、水の流量ｘが５．０（Ｌ／ｍｉｎ）のときに酸素ガス流量が２．０（ＮＬ／ｍｉｎ）であり、水の流量ｘが２０．０（Ｌ／ｍｉｎ）のときに酸素ガス流量が５．０（ＮＬ／ｍｉｎ）のとき、上記式が求められる。補正係数は０．１に予め設定されている。一例として、目標オゾン水濃度が８０（ｍｇ／Ｌ）に対し、取得したオゾン水の濃度が７８（ｍｇ／Ｌ）の場合、これらの差は２（ｍｇ／Ｌ）となる。補正係数０．１と、この差２（ｍｇ／Ｌ）との積（２×０．１＝０．２）を算出し、次に、この積（０．２）と、上記式のオフセット（１）との和（０．２＋１＝１．２）を算出する。算出された和を新たなオフセットとして、上記一次関数式を補正する（ｙ＝０．２ｘ＋１．２）。補正された一次関数式に基づいて、濃度制御部２１４は、取得されるオゾン水の濃度が目標濃度になるように、酸素ガス流量ｙを流量コントローラ１１８により制御
する。 Hereinafter, an example of a method for correcting the relational expression between the water flow rate and the first gas flow rate will be described with reference to FIG. FIG. 8 shows the flow rate x (L / min) of the raw material water and the oxygen gas flow rate y (NL / min) when the functional water is ozone water and the target ozone water concentration is 80 (mg / L). An example of the relationship with y = 0.2x + 1 is shown. For example, when the water flow rate x is 5.0 (L / min), the oxygen gas flow rate is 2.0 (NL / min), and when the water flow rate x is 20.0 (L / min), oxygen is present. When the gas flow rate is 5.0 (NL / min), the above equation is obtained. The correction coefficient is preset to 0.1. As an example, when the target ozone water concentration is 80 (mg / L) and the acquired ozone water concentration is 78 (mg / L), the difference between them is 2 (mg / L). The product (2 × 0.1 = 0.2) of the correction coefficient 0.1 and this difference 2 (mg / L) is calculated, and then this product (0.2) and the offset of the above equation ( Calculate the sum (0.2 + 1 = 1.2) with 1). Using the calculated sum as a new offset, the above linear function formula is corrected (y = 0.2x + 1.2). Based on the corrected linear function formula, the concentration control unit 214 controls the oxygen gas flow rate y by the flow rate controller 118 so that the acquired ozone water concentration becomes the target concentration.

ここで、図５に戻り、ステップ５０８にて「いいえ（高い）」の場合、すなわちステップ５０６で測定した機能水の評価値が目標濃度２３２を超える場合（目標濃度２３２に範囲が定められている場合、目標濃度２３２の最上値を超える場合）、ステップ５１２に進む。ステップ５１２において、プロセッサ２１０（濃度制御部２１４）は、流量コントローラ１１８に対し、ガス生成部１１２に供給される原料となるガスの流量を減らすよう指示する。 Here, returning to FIG. 5, when “No (high)” in step 508, that is, when the evaluation value of the functional water measured in step 506 exceeds the target concentration 232 (the range is defined in the target concentration 232). If the maximum value of the target concentration 232 is exceeded), the process proceeds to step 512. In step 512, the processor 210 (concentration control unit 214) instructs the flow rate controller 118 to reduce the flow rate of the raw material gas supplied to the gas generation unit 112.

さらに、ステップ５０８にて「はい」の場合、すなわちステップ５０６にて取得した取得した機能水の濃度あるいは評価値が目標濃度２３２である場合（目標濃度２３２に範囲が定められている場合、目標濃度２３２以内の場合）、処理を終了する（ステップ５１４）。 Further, when "Yes" in step 508, that is, when the concentration or evaluation value of the acquired functional water acquired in step 506 is the target concentration 232 (when the range is defined in the target concentration 232, the target concentration). (If it is within 232), the process ends (step 514).

本実施形態によると、機能水製造装置１１０から処理装置１４０に供給されるまでの間に低下する機能水の濃度を、流量コントローラ１１８を用いて目標濃度２３２に保持するよう制御を行うことができる。また、本実施形態によると、処理装置１４０が複数の場合であっても、機能水製造装置１１０側で、各処理装置１４０に供給される機能水の濃度を一律に制御する。このため、機能水が機能水製造装置１１０で生成されてから各処理装置１４０（各ユースポイント１４４）に供給されるまでの環境をほぼ等しくすること、例えば、機能水製造装置１１０と各処理装置１４０（各ユースポイント１４４）との間をつなぐ供給管の距離をほぼ等しくすることが好ましい。これにより、各処理装置１４０に供給される機能水の濃度のばらつきを抑えることができる。 According to the present embodiment, it is possible to control the concentration of the functional water, which decreases during the period from the functional water production apparatus 110 to the treatment apparatus 140, to be maintained at the target concentration 232 by using the flow rate controller 118. .. Further, according to the present embodiment, even when there are a plurality of treatment devices 140, the concentration of the functional water supplied to each treatment device 140 is uniformly controlled on the functional water production device 110 side. Therefore, the environment from the generation of the functional water in the functional water production apparatus 110 to the supply to each treatment apparatus 140 (each use point 144) is made substantially equal, for example, the functional water production apparatus 110 and each treatment apparatus. It is preferable that the distances of the supply pipes connecting to 140 (each use point 144) are substantially equal. As a result, it is possible to suppress variations in the concentration of the functional water supplied to each processing device 140.

上述したように、機能水が機能水製造装置１１０で生成されてから各処理装置１４０に供給されるまでの環境を等しくすると、複数の処理装置１４０に供給される機能水の濃度のばらつきを抑えることができる。このため、複数の処理装置１４０に対し、処理装置１４０よりも少ない数の濃度計１４２を用いて、例えば、処理装置１４０の５台に対して、処理装置側の濃度計１４２の３台を用いて、各処理装置に供給される機能水の濃度を制御してもよい。すなわち、処理装置１４０はそれぞれ濃度計１４２を備えなくともよく、濃度計１４２の数を処理装置１４０の数より少なくすることができる。これにより、少なくなった濃度計１４２の分のコストを低減しつつも、各処理装置１４０（各ユースポイント１４４）に供給される機能水の濃度を目標濃度２３２に保持することができる。 As described above, if the environment from the generation of the functional water in the functional water production apparatus 110 to the supply to each treatment apparatus 140 is equalized, the variation in the concentration of the functional water supplied to the plurality of treatment apparatus 140 is suppressed. be able to. Therefore, for a plurality of processing devices 140, a smaller number of densitometers 142 than those for the processing devices 140 are used. For example, for five processing devices 140, three densitometers 142 on the processing device side are used. Therefore, the concentration of the functional water supplied to each treatment device may be controlled. That is, each of the processing devices 140 does not have to be provided with the densitometer 142, and the number of densitometers 142 can be smaller than the number of the processing devices 140. As a result, the concentration of the functional water supplied to each processing device 140 (each use point 144) can be maintained at the target concentration 232 while reducing the cost for the reduced concentration meter 142.

以上に説明した方法５００によると、機能水製造装置１１０から処理装置１４０に供給されるまでの間に低下する機能水の濃度を、流量コントローラ１１８を用いて目標濃度２３２に保持するよう制御を行うことができる。しかしながら、別の態様として、目標濃度２３２よりも機能水の濃度が高い場合にヒータ１５０を用いて機能水の濃度を低下させ、機能水の濃度を目標濃度２３２に保持するよう制御してもよい（第２実施形態）。 According to the method 500 described above, the flow rate controller 118 is used to control the concentration of the functional water, which decreases during the period from the functional water production apparatus 110 to the treatment apparatus 140, to be maintained at the target concentration 232. be able to. However, as another embodiment, when the concentration of the functional water is higher than the target concentration 232, the heater 150 may be used to reduce the concentration of the functional water and control the concentration of the functional water to be maintained at the target concentration 232. (Second embodiment).

図６は本開示の第２実施形態に係る機能水濃度制御システム６００の構成を概略的に示す図である。図６に示す機能水濃度制御システム６００は、処理装置１４０側にヒータ１５０（図６では１５０ａ及び１５０ｂ）が設けられている点を除いて、図１に示す構成と同じである。ヒータ１５０は、機能水製造装置１１０と処理装置１４０（ユースポイント１４４）との間をつなぐ供給管内を流れる機能水を加熱するヒータであればよく、一例としてインラインヒータである。ヒータ１５０は、供給管内を流れる機能水を室温よりも高い温度、例えば５０℃で加熱する。ヒータ１５０で加熱されると、機能水に溶解するガスの濃度は低下する。このため、本実施形態によると、処理装置１４０側の濃度計１４２で測定された機能水の濃度が目標濃度２３２（図２）よりも高い場合に、ヒータ１５０を起動する。図６において、ヒータ１５０は、機能水製造装置１１０側の供給バルブ１２８（
図６では１２８ａ及び１２８ｂ）と、処理装置１４０側の供給バルブ１４６（図６では１４６ａ及び１４６ｂ）との間の処理装置１４０側の供給管ラインの途中に設けられており、各処理装置１４０はそれぞれ少なくとも１台のヒータ１５０を備える。図６に示されるヒータ１５０の位置は例示的なものであって、同図に示されるものに限定されない。例えば、ヒータ１５０は、処理装置１４０側の供給バルブ１４６と、処理装置１４０側の濃度計１４２の間の供給管の途中に設けられてもよいし、機能水製造装置１１０と各処理装置１４０との間の供給管に設けられてもよい。 FIG. 6 is a diagram schematically showing the configuration of the functional water concentration control system 600 according to the second embodiment of the present disclosure. The functional water concentration control system 600 shown in FIG. 6 has the same configuration as that shown in FIG. 1 except that heaters 150 (150a and 150b in FIG. 6) are provided on the processing device 140 side. The heater 150 may be a heater that heats the functional water flowing in the supply pipe connecting the functional water production apparatus 110 and the treatment apparatus 140 (use point 144), and is an in-line heater as an example. The heater 150 heats the functional water flowing in the supply pipe at a temperature higher than room temperature, for example, 50 ° C. When heated by the heater 150, the concentration of the gas dissolved in the functional water decreases. Therefore, according to the present embodiment, the heater 150 is activated when the concentration of the functional water measured by the concentration meter 142 on the processing device 140 side is higher than the target concentration 232 (FIG. 2). In FIG. 6, the heater 150 is a supply valve 128 (on the functional water production apparatus 110 side).
In FIG. 6, 128a and 128b) and the supply valve 146 on the processing device 140 side (146a and 146b in FIG. 6) are provided in the middle of the supply pipe line on the processing device 140 side, and each processing device 140 is provided. Each includes at least one heater 150. The position of the heater 150 shown in FIG. 6 is exemplary and is not limited to that shown in FIG. For example, the heater 150 may be provided in the middle of the supply pipe between the supply valve 146 on the treatment device 140 side and the densitometer 142 on the treatment device 140 side, or the functional water production device 110 and each treatment device 140. It may be provided in the supply pipe between.

図７は、上述した第２実施形態で示した機能水濃度制御システム６００による方法７００の処理のフローチャートである。第２実施形態では、ユースポイント１４４の近傍にある濃度計１４２で機能水の濃度を測定して、該測定された濃度が目標濃度２３２よりも高い場合に、ヒータ１５０（図６では１５０ａ及び１５０ｂ）を起動する。測定された濃度が目標濃度２３２以下の場合には、ヒータ１５０を停止する。濃度計１２６で測定した機能水の濃度が目標濃度２３２に達するまでは、前述した方法３００にしたがって処理を実施する。図７の方法７００の処理のフローチャートは、濃度計１２６で測定された機能水の濃度が目標濃度２３２に達した後に、本機能水濃度制御システム１００において実施される処理を示す。 FIG. 7 is a flowchart of the process of the method 700 by the functional water concentration control system 600 shown in the second embodiment described above. In the second embodiment, the concentration of the functional water is measured by the concentration meter 142 near the use point 144, and when the measured concentration is higher than the target concentration 232, the heater 150 (150a and 150b in FIG. 6). ) Is started. If the measured concentration is 232 or less of the target concentration, the heater 150 is stopped. The treatment is carried out according to the method 300 described above until the concentration of the functional water measured by the densitometer 126 reaches the target concentration 232. The flowchart of the process of the method 700 of FIG. 7 shows the process performed in the present functional water concentration control system 100 after the concentration of the functional water measured by the densitometer 126 reaches the target concentration 232.

図７のステップ７０２からステップ７０６に記載の処理は、図５のステップ５０２からステップ５０６に記載の処理と同じであり、ここでは説明を割愛する。 The process described in steps 702 to 706 of FIG. 7 is the same as the process described in steps 502 to 506 of FIG. 5, and the description thereof is omitted here.

ステップ７０８において、プロセッサ２１０（判定部２１２）は、ステップ７０６で取得した機能水の濃度が、目標濃度２３２よりも低いか、高いかを判定する。取得した機能水の濃度が目標濃度２３２よりも高いと判定した場合、ステップ７１０へ進む。 In step 708, the processor 210 (determination unit 212) determines whether the concentration of the functional water acquired in step 706 is lower or higher than the target concentration 232. If it is determined that the concentration of the acquired functional water is higher than the target concentration 232, the process proceeds to step 710.

ステップ７１０において、プロセッサ２１０（濃度制御部２１４）は、ヒータ１５０を起動させる。 In step 710, the processor 210 (concentration control unit 214) activates the heater 150.

一方、ステップ７０８において、取得した機能水の濃度が目標濃度２３２よりも低いと判定された場合、ステップ７１２へ進む。ステップ７１２において、プロセッサ２１０（濃度制御部２１４）は、流量コントローラ１１８に対し、ガス生成部１１２に供給される原料となるガスの流量を増加するよう指示をする。また、ステップ７１２において、プロセッサ２１０（濃度制御部２１４）は、ヒータ１５０が起動されている場合には、ヒータ１５０を停止させるよう指示する。 On the other hand, if it is determined in step 708 that the concentration of the acquired functional water is lower than the target concentration 232, the process proceeds to step 712. In step 712, the processor 210 (concentration control unit 214) instructs the flow rate controller 118 to increase the flow rate of the raw material gas supplied to the gas generation unit 112. Further, in step 712, the processor 210 (concentration control unit 214) instructs the heater 150 to be stopped when the heater 150 is activated.

ステップ７０８において、取得した機能水の濃度が目標濃度２３２と等しいと判定された場合、処理を終了する（ステップ７１４） When it is determined in step 708 that the concentration of the acquired functional water is equal to the target concentration 232, the process ends (step 714).

処理装置１４０が複数の場合（図６では１４２ａ及び１４２ｂの２台）のステップ７０６及びステップ７０８における処理は、処理装置１４０が一台の場合のステップ７０６及びステップ７０８処理と異なる。処理装置１４０が複数の場合、ステップ７０６において、プロセッサ２１０（評価値算出部２１６）は、さらに、各濃度計１４２ａ、及び１４２ｂで測定された機能水の濃度をそれぞれ取得し、取得した機能水の濃度から評価値、一例として取得した機能水の濃度の平均濃度を算出する。次に、ステップ７０８において、プロセッサ２１０（判定部２１２）は、ステップ７０６で取得した機能水の評価値が、目標濃度２３２よりも低いか否かを判定する。取得した機能水の評価値が目標濃度２３２よりも高いと判定した場合、ステップ７１０へ進む。次に、ステップ７１０において、プロセッサ２１０（濃度制御部２１４）は、各処理装置１４０のヒータ１５０をそれぞれ起動させる。 The processing in step 706 and step 708 when there are a plurality of processing devices 140 (two units 142a and 142b in FIG. 6) is different from the processing in step 706 and step 708 when there is one processing device 140. When there are a plurality of processing devices 140, in step 706, the processor 210 (evaluation value calculation unit 216) further acquires the concentration of the functional water measured by each of the densitometers 142a and 142b, and the acquired functional water. The evaluation value is calculated from the concentration, and the average concentration of the acquired functional water concentration is calculated as an example. Next, in step 708, the processor 210 (determination unit 212) determines whether or not the evaluation value of the functional water acquired in step 706 is lower than the target concentration 232. If it is determined that the acquired evaluation value of the functional water is higher than the target concentration 232, the process proceeds to step 710. Next, in step 710, the processor 210 (concentration control unit 214) activates the heater 150 of each processing device 140.

本実施形態によると、ユースポイント１４４に供給される機能水の濃度あるいは評価値が目標濃度２３２よりも高い場合には、処理装置１４０のヒータ１５０を起動させて機能水の濃度を低下させ、目標濃度２３２よりも低い場合には、流量コントローラ１１８により機能水の濃度を上昇させることができる。 According to the present embodiment, when the concentration or the evaluation value of the functional water supplied to the use point 144 is higher than the target concentration 232, the heater 150 of the processing device 140 is activated to reduce the concentration of the functional water, and the target is When the concentration is lower than 232, the concentration of the functional water can be increased by the flow controller 118.

あるいは別の態様として、ステップ７１０において、プロセッサ２１０（濃度制御部２１４）は、複数の処理装置１４０にそれぞれ対応するヒータ１５０の一部を起動させてもよい。本態様によると、ステップ７１０において、プロセッサ２１０（濃度制御部２１４）は各処理装置１４０側の濃度計１４２が測定した機能水の濃度をそれぞれ取得する。次に、該取得したそれぞれの機能水の濃度と目標濃度２３２とを比較し、目標濃度２３２よりも高い濃度を出力した濃度計に対応するヒータ１５０を起動させる。目標濃度２３２以下の濃度が測定された濃度計１４２に対応するヒータ１５０は起動させない。 Alternatively, in another embodiment, in step 710, the processor 210 (concentration control unit 214) may activate a part of the heater 150 corresponding to each of the plurality of processing devices 140. According to this aspect, in step 710, the processor 210 (concentration control unit 214) acquires the concentration of the functional water measured by the densitometer 142 on each processing device 140 side. Next, the concentration of each of the acquired functional waters is compared with the target concentration 232, and the heater 150 corresponding to the densitometer that outputs a concentration higher than the target concentration 232 is activated. The heater 150 corresponding to the densitometer 142 whose concentration is less than or equal to the target concentration 232 is not activated.

本態様によると、目標濃度２３２よりも高い機能水が供給されている処理装置１４０に対応するヒータ１５０のみを起動させて機能水の濃度を低下させることができ、機能水の濃度を処理装置１４０毎に個別に低下させることができる。したがって、機能水の濃度を処理装置１４０毎に制御することができるため、機能水製造装置１１０から各処理装置１４０までの距離は等しくなくともよい。 According to this aspect, only the heater 150 corresponding to the processing device 140 to which the functional water having a concentration higher than the target concentration 232 is supplied can be activated to reduce the concentration of the functional water, and the concentration of the functional water can be reduced to the processing device 140. It can be lowered individually for each. Therefore, since the concentration of the functional water can be controlled for each treatment device 140, the distances from the functional water production device 110 to each treatment device 140 do not have to be equal.

以上、本開示の実施の形態について説明してきたが、上記した発明の実施の形態は、本開示の理解を容易にするためのものであり、本開示を限定するものではない。本開示は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本開示にはその均等物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、実施形態および変形例の任意の組み合わせが可能であり、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、または、省略が可能である。 Although the embodiments of the present disclosure have been described above, the embodiments of the invention described above are for facilitating the understanding of the present disclosure and do not limit the present disclosure. The present disclosure may be modified or improved without departing from its spirit, and it goes without saying that the present disclosure includes its equivalents. In addition, any combination of embodiments and modifications is possible within a range that can solve at least a part of the above-mentioned problems, or a range that produces at least a part of the effect, and is described in the claims and the specification. Any combination of each component or omission is possible.

１００…機能水濃度制御システム
１１０…機能水製造装置
１１２…ガス生成部
１１４…純水供給部
１１６…混合器
１１８…流量コントローラ
１２０…流量計
１２２…昇圧ポンプ
１２４…気液分離タンク
１２６…機能水製造装置側濃度計
１２８…供給バルブ
１３０…排気処理部
１４０…処理装置
１４２…処理装置側濃度計
１４４…ユースポイント
１４６…供給バルブ
１４８…ドレンバルブ
１５０…ヒータ
１７０…制御装置
100 ... Functional water concentration control system 110 ... Functional water production equipment 112 ... Gas generator 114 ... Pure water supply unit 116 ... Mixer 118 ... Flow controller 120 ... Flow meter 122 ... Boost pump 124 ... Gas-liquid separation tank 126 ... Functional water Manufacturing equipment side densitometer 128 ... Supply valve 130 ... Exhaust processing unit 140 ... Processing device 142 ... Processing equipment side densitometer 144 ... Use point 146 ... Supply valve 148 ... Drain valve 150 ... Heater 170 ... Control device

Claims (9)

機能水製造装置で生成され、第１の処理装置で使用される機能水の濃度を制御する機能水濃度制御システムであって、
前記機能水製造装置の濃度計で測定した前記機能水の濃度が目標濃度の場合に、前記目標濃度の機能水を前記第１の処理装置に供給する、機能水製造装置と、
前記第１の処理装置に供給された前記機能水の濃度を測定する、第１の濃度計と、
前記第１の濃度計で測定した機能水の濃度と前記目標濃度とに基づいて、前記第１の処理装置で使用される機能水の濃度を制御する指示を生成する制御装置と、
を備える機能水濃度制御システム。 A functional water concentration control system that controls the concentration of functional water generated by the functional water production apparatus and used in the first treatment apparatus.
When the concentration of the functional water measured by the densitometer of the functional water production apparatus is the target concentration, the functional water production apparatus that supplies the functional water of the target concentration to the first treatment apparatus
A first densitometer that measures the concentration of the functional water supplied to the first processing apparatus, and
A control device that generates an instruction for controlling the concentration of the functional water used in the first processing device based on the concentration of the functional water measured by the first concentration meter and the target concentration.
A functional water concentration control system equipped with. 前記機能水製造装置は、前記機能水の原料となるガスの流量を制御する流量コントローラを備え、
前記制御装置は、前記第１の濃度計で測定した機能水の濃度が前記目標濃度よりも低い場合に、前記流量コントローラに対し、前記機能水の原料となるガスの流量を増加させるよう指示する、請求項１に記載の機能水濃度制御システム。 The functional water production apparatus includes a flow rate controller that controls the flow rate of a gas that is a raw material for the functional water.
When the concentration of the functional water measured by the first densitometer is lower than the target concentration, the control device instructs the flow controller to increase the flow rate of the gas as a raw material of the functional water. , The functional water concentration control system according to claim 1. 前記制御装置は、前記第１の濃度計で測定した機能水の濃度が前記目標濃度よりも高い場合に、前記機能水製造装置から前記第１の濃度計の間を流れる機能水を加熱するヒータを起動させる、請求項２に記載の機能水濃度制御システム。 The control device is a heater that heats the functional water flowing between the functional water producing device and the first densitometer when the concentration of the functional water measured by the first densitometer is higher than the target concentration. The functional water concentration control system according to claim 2, which activates. 機能水製造装置で生成され、第１の処理装置及び第２の処理装置でそれぞれ使用される機能水の濃度を制御するための機能水濃度制御システムであって、
前記機能水製造装置側の濃度計で測定した前記機能水の濃度が目標濃度の場合に、前記目標濃度の機能水を前記第１の処理装置及び第２の処理装置にそれぞれ供給する、機能水製造装置と、
前記第１の処理装置に供給された機能水の濃度を測定する第１の濃度計と、
前記第２の処理装置に供給された機能水の濃度を測定する第２の濃度計と、
前記第１の濃度計及び第２の濃度計がそれぞれ測定した機能水の濃度と、前記目標濃度とに基づいて、前記第１の処理装置及び第２の処理装置でそれぞれ使用される機能水の濃度を制御する指示を生成する制御装置と、
を備える機能水濃度制御システム。 A functional water concentration control system for controlling the concentration of functional water generated by the functional water production apparatus and used in the first treatment apparatus and the second treatment apparatus, respectively.
When the concentration of the functional water measured by the densitometer on the functional water production apparatus side is the target concentration, the functional water having the target concentration is supplied to the first treatment apparatus and the second treatment apparatus, respectively. Manufacturing equipment and
A first densitometer that measures the concentration of functional water supplied to the first treatment device, and
A second densitometer that measures the concentration of functional water supplied to the second treatment device, and
Based on the concentration of the functional water measured by the first densitometer and the second densitometer and the target concentration, the functional water used in the first treatment device and the second treatment device, respectively. A control device that generates instructions to control the concentration,
A functional water concentration control system equipped with. 前記制御装置は、前記第１の濃度計が測定した機能水の濃度と、前記第２の濃度計が測定した機能水の濃度から評価値を算出し、前記評価値が前記目標濃度よりも低い場合に、前記機能水製造装置のガス流量コントローラに対し、前記機能水の原料となるガスの流量を増加させるよう指示をする、請求項４に記載の機能水濃度制御システム。 The control device calculates an evaluation value from the concentration of the functional water measured by the first densitometer and the concentration of the functional water measured by the second densitometer, and the evaluation value is lower than the target concentration. The functional water concentration control system according to claim 4, wherein the gas flow controller of the functional water production apparatus is instructed to increase the flow rate of the gas as a raw material of the functional water. 請求項５に記載の機能水濃度制御システムであって、
前記機能水製造装置から前記第１の濃度計との間を流れる機能水を加熱する第１のヒータと、
前記機能水製造装置から前記第２の濃度計との間を流れる機能水を加熱する第２のヒータと
をさらに備え、
前記制御装置は、前記評価値が前記目標濃度よりも高い場合に、前記第１のヒータ及び第２のヒータを起動させるよう指示する、機能水濃度制御システム。 The functional water concentration control system according to claim 5.
A first heater for heating the functional water flowing between the functional water producing apparatus and the first densitometer, and a first heater.
Further provided with a second heater for heating the functional water flowing from the functional water producing apparatus to the second densitometer.
The control device is a functional water concentration control system that instructs to activate the first heater and the second heater when the evaluation value is higher than the target concentration. 請求項５に記載の機能水濃度制御システムであって、
前記機能水製造装置から前記第１の濃度計までを流れる機能水を加熱する第１のヒータと、
前記機能水製造装置から前記第２の濃度計までを流れる機能水を加熱する第２のヒータと
をさらに備え、
前記制御装置は、前記第１の濃度計が測定した機能水の濃度が目標濃度よりも高い場合に、前記第１のヒータを起動させるよう指示をする、機能水濃度制御システム。 The functional water concentration control system according to claim 5.
A first heater that heats the functional water flowing from the functional water production apparatus to the first densitometer, and
Further provided with a second heater for heating the functional water flowing from the functional water producing apparatus to the second densitometer.
The control device is a functional water concentration control system that instructs the first heater to be activated when the concentration of the functional water measured by the first densitometer is higher than the target concentration. 請求項７に記載の機能水濃度制御システムであって、
前記制御装置は、前記第２の濃度計が測定した機能水の濃度が目標濃度よりも低い場合に、前記第２のヒータを停止させるよう指示をする、機能水濃度制御システム。 The functional water concentration control system according to claim 7.
The control device is a functional water concentration control system that instructs the second heater to be stopped when the concentration of the functional water measured by the second densitometer is lower than the target concentration. 機能水製造装置で生成され、処理装置で使用される機能水の濃度を制御するための機能水の濃度を制御する方法であって、
前記機能水製造装置側の濃度計で測定した前記機能水の濃度が目標濃度に達した場合に、前記目標濃度に達した機能水を前記処理装置に供給するステップと、
前記処理装置に供給された前記機能水の濃度を測定するステップと、
前記処理装置側で測定した機能水の濃度を前記目標濃度と比較して、前記機能水の濃度と前記目標濃度との間に差がある場合に、前記処理装置で使用される機能水の濃度を制御するよう指示をするステップと、
を備える方法。
It is a method of controlling the concentration of functional water for controlling the concentration of functional water produced by the functional water production apparatus and used in the treatment apparatus.
When the concentration of the functional water measured by the concentration meter on the functional water production apparatus side reaches the target concentration, the step of supplying the functional water having reached the target concentration to the treatment apparatus, and
The step of measuring the concentration of the functional water supplied to the processing apparatus, and
The concentration of the functional water measured on the treatment apparatus side is compared with the target concentration, and when there is a difference between the concentration of the functional water and the target concentration, the concentration of the functional water used in the treatment apparatus. And the steps to instruct to control
How to prepare.

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