JP2020171441A - 蒸気加熱システム - Google Patents
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Abstract
Description
2 蒸気発生手段
21 蒸気発生器
22 蒸気配管
23 貯留槽
24 加熱器
3 ガス供給手段
31 ガス供給装置
32 ガス配管
33 ガス流量調整弁
34 ガス流量計
35 ヒータ部
36 逆止弁
4 加熱室
5 混合気体導入配管
71 ミキシング部材
72 半月型の板部材
8 噴出部
81 噴出部本体
82 貫通孔
9 吸着手段
Claims (11)
- 食品を蒸気で加熱するための蒸気加熱システムであって、
食品が内部に配置される加熱室と、蒸気を発生させる蒸気発生手段と、前記蒸気発生手段が発生させた蒸気にガスを供給するガス供給手段と、蒸気及びガスの混合気体を前記加熱室に導入する混合気体導入配管とを備えており、
前記ガス供給手段は、前記混合気体導入配管内又は前記加熱室内の温度が設定された温度となるように、かつ、1気圧の前記混合気体を前記加熱室に供給するように、前記混合気体導入配管内又は前記加熱室内に設けられた温度センサーで検出される混合気体温度に基づいて、前記ガス供給手段が供給するガスの温度及び流量の少なくともいずれか一方を制御することにより、
前記加熱室に供給される混合気体の温度を調整することを特徴とする蒸気加熱システム。 - 前記加熱室に供給される前記混合気体の温度は、該混合気体における蒸気分圧に基づいた飽和蒸気温度であることを特徴とする請求項1に記載の蒸気加熱システム。
- 前記ガスと前記蒸気との混合を促進させる混合促進手段が設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の蒸気加熱システム。
- 前記混合促進手段は、前記混合気体を乱流化する構造に構成されることを特徴とする請求項3に記載の蒸気加熱システム。
- 前記ガス供給手段は、ガスが流下するガス配管を備えており、
前記混合促進手段は、前記ガス配管の軸線が、前記混合気体導入配管の軸線を通過しないように偏芯させた状態で、前記ガス配管を前記混合気体導入配管に対して略垂直に接続することにより構成されることを特徴とする請求項3又は4に記載の蒸気加熱システム。 - 前記混合促進手段は、前記混合気体導入配管の内部に配置される長方形の板を180度ねじった形態が連続するスタティックミキサであることを特徴とする請求項3又は4に記載の蒸気加熱システム。
- 前記加熱室内には、前記混合気体導入配管に接続され、混合気体が噴き出される噴出部が設けられていることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の蒸気加熱システム。
- 前記噴出部は、先端が閉塞されたパイプ状部材である噴出部本体と、前記噴出部本体の長手方向に沿って所定間隔をあけて配置され、前記噴出部本体の内部及び外部を連通する複数の噴出孔とを備えることを特徴とする請求項7に記載の蒸気加熱システム。
- 前記ガス供給手段は、前記ガスを加熱するヒータ部を備えていることを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載の蒸気加熱システム。
- 前記ヒータ部の加熱源は、前記加熱室から排出される混合気体であることを特徴とする請求項9に記載の蒸気加熱システム。
- ガス供給手段が供給するガスは、空気であり、
前記ガス供給手段は、前記空気に含まれる酸素、窒素及び二酸化炭素の少なくともいずれか一種類の少なくとも一部分を吸着する吸着手段を備えていることを特徴とする請求項1から10のいずれかに記載の蒸気加熱システム。
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-
2019
- 2019-04-09 JP JP2019074470A patent/JP2020171441A/ja active Pending
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