JP2020145295A - ウエハ保持装置 - Google Patents
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Abstract
Description
小径ウエハW1を回転テーブル11に載置して研磨加工を行う場合、小径ウエハW1の回転中心を回転テーブル11の軸中心Oに略一致させて、回転テーブル11におけるチャック面11aの小径領域部S1内に小径ウエハW1を配置する。また、ピストンシリンダ23を動作させて、ピストン部23bが、スリーブ14を図3に示すように下方向に遮断位置まで移動させた状態にする。
大径ウエハW2を回転テーブル11に載置して研磨加工を行う場合、大径ウエハW2の回転中心を回転テーブル11の軸中心Oに略一致させて、回転テーブル11におけるチャック面11aの大径領域部S2内に大径ウエハW2を配置する。また、ピストンシリンダ23を動作させて、ピストン部23bが、スリーブ14を図2に示すように上方向に連通位置まで移動させた状態にする。
2 :チャックテーブル
3 :研磨ヘッド
11 :回転テーブル
11A :チャック本体部
11a :チャック面
11b :吸着パッド部
11c :吸着パッド部
11d :吸着パッド部
12 :切り替え手段
13 :回転軸
14 :スリーブ
14A :凹所
15 :管継手
16 :主流体通路
16A :分岐通路
16a :開口
17 :副流体通路
17A :第1の副流体通路
17Aa :開口
17B :第2の副流体通路
17Ba :開口
17a :開口
18 :パイプ
19 :シール材
20 :オムニシール
21 :ピストンシール
22 :ベアリング
23 :ピストンシリンダ
23a :シリンダ部
23b :ピストン部
24 :プーリ
25 :駆動モータ
25a :出力軸
26 :プーリ
27 :ベルト
28 :ブラケット
34 :スリーブ
34A :凹所
O :軸中心
S1 :小径領域部
S2 :大径領域部
S3 :中径領域部
W :ウエハ
W1 :小径ウエハ
W2 :大径ウエハ
W3 :中径ウエハ
Claims (5)
- ウエハを吸着保持するウエハ保持装置であって、
前記ウエハを載置する回転テーブルと、
前記回転テーブルと一体に回転する回転軸と、
一端側が前記回転テーブルに通じ、他端側が流体源に連結されて前記回転軸の軸中心に沿って設けられている主流体通路と、
一端側が前記主流体通路に通じ、他端側が前記回転軸の周面に開口している分岐通路と、
前記主流体通路に並設して前記回転軸に設けられ、一端側が前記回転テーブルに通じているとともに、他端側が前記回転軸の周面に開口している副流体通路と、
前記回転軸の外周面を覆い、かつ、前記回転軸上を軸方向にスライドして、前記分岐通路と前記副流体通路との間を連通する連通位置と、前記分岐通路と前記副流体通路の前記連通を遮断する遮断位置とに切り替え可能で、前記回転軸と一体に回転可能なスリーブと、
を備えることを特徴とするウエハ保持装置。 - 前記副流体通路は、少なくとも第1の副流体通路と第2の副流体通路の独立した複数の通路を有し、
前記スリーブが切り替えられる前記連通位置は、前記第1の副流体通路が遮断状態で前記第2の副流体通路が連通状態である第1の連通位置と、前記第1の副流体通路及び前記第2の副流体通路が共に連通状態である第2の連通位置と、を有し、
前記スリーブは、前記遮断位置と、前記第1の連通位置と、前記第2の連通位置に、多段切り替え可能である、ことを特徴とする請求項1に記載のウエハ保持装置。 - 前記スリーブは、前記回転軸とスプライン締結されて前記回転軸と一体に回転する、ことを特徴とする請求項1又は2に記載のウエハ保持装置。
- 前記回転軸と前記スリーブとの間にオムニシールを設けている、ことを特徴とする請求項1、2又は3に記載のウエハ保持装置。
- 前記流体源は、エア、水又は負圧を供給する、ことを特徴とする請求項1、2、3又は4に記載のウエハ保持装置。
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JP7514355B1 (ja) | 2023-04-13 | 2024-07-10 | 辛耘企業股▲ふん▼有限公司 | 半導体製造工程のウエハー移載装置及びウエハー移載方法 |
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2019
- 2019-03-06 JP JP2019040160A patent/JP7221739B2/ja active Active
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