JP2020122194A - 気相成長装置の温度制御方法 - Google Patents
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Abstract
Description
〔1〕 基板載置プレートに載置された基板を、熱電対を用いて温度制御されるヒータで加熱しながら、前記基板に気相原料を供給し、前記基板上に薄膜を堆積させる気相成長装置の温度制御方法であって、
前記熱電対により測定される温度が設定温度となるように、前記ヒータを加熱する工程と、
前記基板載置プレートの温度又は当該基板載置プレートに載置された基板の温度を光学的温度センサにより測定する工程と、
前記設定温度と前記光学的温度センサが測定した温度との差分を算出する工程と、
前記差分に基準温度差を加算して総合補正値を算出する工程と、
前記総合補正値に基づいて、前記設定温度を補正し、前記ヒータの温度制御を行う工程とを含むことを特徴とする気相成長装置の温度制御方法。
〔2〕 前記設定温度を補正する工程を同一プロセス中に複数回行うことを特徴とする前記〔1〕に記載の気相成長装置の温度制御方法。
なお、以下の説明で用いる図面においては、各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがあり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
先ず、本発明の一実施形態として、例えば図1に示す気相成長装置1の構成について説明する。なお、図1は、気相成長装置1の構成を示す断面図である。
次に、本発明を適用した気相成長装置1の温度制御方法について、図2を参照しながら説明する。なお、図2は、気相成長装置1の総合補正値ΔTの決定方法を説明するためのフローチャートである。
実施例では、上記気相成長装置1を用いて、10枚のウェハ(基板W)をそれぞれ基板載置プレート5に載置し、一定量の窒素ガスを成膜室2内に流しながら、設定温度T0を1000℃として、ヒータ6による加熱を行った。そして、熱電対7により測定されるヒータ6の温度が温度補正を実施する設定温度T0(1000℃)に到達した後に、光学的温度センサ9によるウェハの表面温度の測定を行った。
比較例では、上記気相成長装置1を用いて、10枚のウェハ(基板W)をそれぞれ基板載置プレート5に載置し、一定量の窒素ガスを成膜室2内に流しながら、設定温度T0を750℃として、ヒータ6による加熱を行った。そして、熱電対7により測定されるヒータ6の温度が設定温度T0(750℃)に到達した後に、光学的温度センサ9によるウェハの表面温度の測定を行った。
Claims (2)
- 基板載置プレートに載置された基板を、熱電対を用いて温度制御されるヒータで加熱しながら、前記基板に気相原料を供給し、前記基板上に薄膜を堆積させる気相成長装置の温度制御方法であって、
前記熱電対により測定される温度が設定温度となるように、前記ヒータを加熱する工程と、
前記基板載置プレートの温度又は当該基板載置プレートに載置された基板の温度を光学的温度センサにより測定する工程と、
前記設定温度と前記光学的温度センサが測定した温度との差分を算出する工程と、
前記差分に基準温度差を加算して総合補正値を算出する工程と、
前記総合補正値に基づいて、前記設定温度を補正し、前記ヒータの温度制御を行う工程とを含むことを特徴とする気相成長装置の温度制御方法。 - 前記設定温度を補正する工程を同一プロセス中に複数回行うことを特徴とする請求項1に記載の気相成長装置の温度制御方法。
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WO2023277539A1 (ko) * | 2021-06-30 | 2023-01-05 | 주성엔지니어링(주) | 캐니스터 온도 제어 방법 및 원료 공급 장치 |
CN117845197A (zh) * | 2024-03-07 | 2024-04-09 | 河套学院 | 一种基于化学气相沉淀法的纳米材料生长控制***及方法 |
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JP2008218928A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Sharp Corp | ウエハ加熱成膜装置、及びウエハ温度制御方法 |
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