JP2020095191A - Head-up display gate cover - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、新規のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーに関し、更に詳しくは、低い位相差値を有し、ゲートカバーの高耐久化及び高透明化と、ヘッドアップディスプレイが内蔵する液晶表示装置の耐熱性の向上と、表示画像の視認性及びヘッドアップディスプレイシステム全体の耐久性を向上させることができるヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーに関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel gate cover for a head-up display, and more specifically, it has a low phase difference value, high durability and high transparency of the gate cover, and heat resistance of a liquid crystal display device incorporated in the head-up display. And a gate cover for a head-up display capable of improving the visibility of a displayed image and the durability of the entire head-up display system.
近年、車両のインストルメントパネルに設置するヘッドアップディスプレイ（以下、単に「ＨＵＤ」ともいう。）が普及しつつある。ＨＵＤは、液晶表示装置（以下、「ＬＣＤ」（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）ともいう。）等から出射した画像を、ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー（以下、単に「ゲートカバー」ともいう。）を通してフロントガラスに向けて投影して、運転手の視界内に様々な情報を表示する装置であり、専用のディスプレイに表示するタイプのものや、フロントウィンドウに走行情報を映すタイプのものなどが開発されている。ＨＵＤにより車の安全性が向上するためこれまでは一部の高級車に適用されてきたが、徐々に搭載車種も増え始めている。 In recent years, a head-up display (hereinafter, also simply referred to as “HUD”) installed on an instrument panel of a vehicle is becoming popular. The HUD transmits an image emitted from a liquid crystal display device (hereinafter, also referred to as “LCD” (Liquid Crystal Display)) or the like to a windshield through a gate cover for a head-up display (hereinafter, also simply referred to as “gate cover”). A device that projects various types of information to display various information within the driver's field of view, such as a type that displays it on a dedicated display or a type that displays driving information on the front window has been developed. The HUD has been applied to some luxury cars so far because it improves the safety of the car, but the number of models equipped with the car is gradually increasing.
現在、ＨＵＤとしては、種々の機構に基づく様々な形態のものが開発されている。例えば、表示ユニットがフロントガラス表面ではなく、コントロールユニットから送信される走行情報等をインストルメントパネルの表示ユニットからフロントガラスに反射させることにより表示し、運転者が視線を下げることなく、運転者の通常の視野内（すなわち、フロントガラスと同じ視野内）で視認させる形態のものがある。このような形態のものでは、ＬＣＤなどの画像表示装置からフロントガラスへ画像光が出射される一方で、画像表示装置にはフロントガラスからの太陽光が集光されるため、ＬＣＤ素子などの画像表示装置の構成材料が高温になり、過熱による劣化を起こしやすいといった問題がある。そのため、ＨＵＤにおいては、画像表示装置に対する遮熱手段の付与が求められている。 Currently, various forms of HUD are being developed based on various mechanisms. For example, the display unit does not display the windshield surface, but displays the traveling information and the like transmitted from the control unit by reflecting it on the windshield from the display unit of the instrument panel, so that the driver does not lower his line of sight and There is a form in which it is visually recognized within a normal visual field (that is, within the same visual field as the windshield). In such a configuration, image light is emitted from the image display device such as an LCD to the windshield, while sunlight from the windshield is condensed on the image display device, so that an image such as an LCD element is displayed. There is a problem that the constituent material of the display device becomes high in temperature and easily deteriorates due to overheating. Therefore, in the HUD, it is required to provide a heat shield means to the image display device.
特に、近年では、ＨＵＤの表示情報量を多くするために投影表示画像部を大型化すること、及び表示画像の鮮明化による更なる車の安全性向上の検討がなされている。しかしながら、投影画像を大型化すると、ＨＵＤユニットのゲートカバー面積も大型化するため、太陽光が従来よりも多く入光することにより、液晶表示装置であるＴＦＴ−ＬＣＤの熱による劣化を抑制のため、ゲートカバーに対し高い遮熱性能が要望されてきている。 In particular, in recent years, studies have been made to increase the size of the projected display image portion in order to increase the display information amount of the HUD and to further improve the safety of the vehicle by making the display image clear. However, as the size of the projected image becomes larger, the area of the gate cover of the HUD unit also becomes larger, so more sunlight is incident than in the conventional case, and the deterioration of the TFT-LCD, which is a liquid crystal display device, due to heat is suppressed. , High heat shield performance has been demanded for gate covers.
ところで、遮熱対象となる太陽光のエネルギーの波長分布は、可視光波長領域（３８０〜７４０ｎｍ）と赤外領域（８００〜２５００ｎｍ）に分けられる。可視光エネルギーは偏光板で遮蔽し、赤外領域はコールドミラー（紫外光を反射し、赤外光を透過）とホットミラー（赤外光を反射）を用い、ＴＦＴ−ＬＣＤの発熱を抑制している。しかしながら、コールドミラーは価格が高いことや曲率をつけにくいため、投影画像大型化が難しいといわれている。また、コールドミラーを用いる場合、赤外光はＴＦＴ−ＬＣＤに集光しなくても、ユニット内部に入るため、ユニット内の温度が上昇し、結果的にＴＦＴ−ＬＣＤが劣化するといわれている。 By the way, the wavelength distribution of the energy of the sunlight which is a heat shield object is divided into a visible light wavelength region (380 to 740 nm) and an infrared region (800 to 2500 nm). Visible light energy is shielded by a polarizing plate, and a cold mirror (reflects ultraviolet light and transmits infrared light) and a hot mirror (reflects infrared light) are used in the infrared region to suppress heat generation of the TFT-LCD. ing. However, it is said that it is difficult to increase the size of the projected image because the cold mirror is expensive and it is difficult to add curvature. Further, when a cold mirror is used, it is said that the infrared light enters the unit even if it is not focused on the TFT-LCD, so that the temperature inside the unit rises and, as a result, the TFT-LCD deteriorates.
上記問題に対し、赤外線吸収性能を有する赤外線吸収層と偏光フィルムを積層して構成する光学積層体を具備したヘッドアップディスプレイが開示されている（例えば、特許文献１参照。）。特許文献１に記載の方法によれば、開示されている光学積層体は、太陽光などの自然光の偏光成分を偏光フィルムで遮蔽し、赤外線吸収性能を有する赤外線吸収層で赤外光を遮蔽できるため、可視光から赤外領域までの広い波長範囲で遮蔽性に優れた効果を発揮するとされている。
With respect to the above problem, a head-up display including an optical laminated body formed by laminating an infrared absorbing layer having infrared absorbing performance and a polarizing film is disclosed (for example, refer to Patent Document 1). According to the method described in
しかしながら、特許文献１で提案されている方法では、以下の問題を抱えている。
However, the method proposed in
第１の問題は、ゲートカバーで赤外線を吸収するため、それによりゲートカバーに発熱を生じ、粘着層等の剥離や偏光板の性能低下を引き起こす。第２の問題は、赤外線吸収層を構成する赤外線吸収剤の添加量に比例して、可視光波長領域の光透過率が低下する。第３の問題は、上記第２の問題に対し、可視光透過率を確保するために赤外線吸収剤の添加量を低減させた場合、８００ｎｍ〜１５００ｎｍの領域の透過率を抑え込むことができず、コールドミラーと比較して、赤外線のカット能が不足する。 The first problem is that since the gate cover absorbs infrared rays, heat is generated in the gate cover, causing peeling of the adhesive layer or the like and deterioration of performance of the polarizing plate. The second problem is that the light transmittance in the visible light wavelength region is reduced in proportion to the amount of the infrared absorbing agent that constitutes the infrared absorbing layer. The third problem is that, in contrast to the second problem, when the addition amount of the infrared absorber is reduced to secure the visible light transmittance, the transmittance in the region of 800 nm to 1500 nm cannot be suppressed, Compared to cold mirrors, it lacks the ability to cut infrared rays.
一方、赤外線反射層は赤外線吸収層と異なり、ゲートカバーで熱籠りしないため、ゲートカバー全体の発熱が抑制され、上記のような粘着層の剥離や偏光板の機能低下を抑えることができる。 On the other hand, unlike the infrared absorbing layer, the infrared reflecting layer does not trap heat in the gate cover, so that heat generation of the entire gate cover is suppressed, and the peeling of the adhesive layer and the functional deterioration of the polarizing plate as described above can be suppressed.
例えば、赤外線反射フィルムの波長７００〜１４００ｎｍの領域において、連続して反射率が７０％以上となる反射帯域を２００ｎｍ以上備えていることを特徴とするヘッドアップディスプレイが開示されている(例えば、特許文献２参照。)。この方法によれば、連続的に太陽光に照射され続ける環境下においても、動作不良を起こすことがなく使用可能なヘッドアップディスプレイを提供することができるとされている。
For example, a head-up display is disclosed, which has a reflection band of 200 nm or more in which the reflectance is continuously 70% or more in a region of a wavelength of 700 to 1400 nm of an infrared reflective film (for example, a patent.
しかしながら、特許文献２で開示されている方法では、ヘッドアップディスプレイに適用する積層フィルムの作製には、熱可塑性樹脂としてポリエステル樹脂を使用しているため、リターデーション値の調整が難しいという問題を抱えている。また、特許文献２においては。赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収層と、赤外線反射層とを組み合わせるという技術思想についての開示はなされていない。
However, the method disclosed in
また、特許文献３においては、異なる光学的性質を有する２種以上の熱可塑性樹脂が交互に５０層以上積層されて構成される多層積層フィルムを有し、リターデーション値が１００〜２１０ｎｍの範囲内である赤外線反射フィルムが開示されているが、この方法では、波長９００〜１２００ｎｍの波長域における平均反射率が７０％以上であり、太陽光エネルギーの７５０〜１５００ｎｍの赤外線を遮断することが達成されていない。
Further, in
また、特許文献４においては、赤外線吸収剤及び樹脂を含有する赤外線吸収層と、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層した誘電体多層膜を有する遮熱性の積層体フィルムが開示されている。しかしながら、特許文献４で開示されている方法でも、樹脂基材としてはポリエステル樹脂を使用しており、リターデーション値の調整ができないため、ヘッドアップディスプレイ用途には不適である。
Further,
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、低い位相差を実現し、ゲートカバーの高耐久化及び高透明化と、液晶表示装置の耐熱性の向上、表示画像の視認性及びヘッドアップディスプレイシステム全体の耐久性を向上させることができるヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーを提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems, and its problem to be solved is to realize a low phase difference, high durability and high transparency of a gate cover, improvement of heat resistance of a liquid crystal display device, and a display image. It is an object of the present invention to provide a gate cover for a head-up display, which can improve the visibility and the durability of the entire head-up display system.
本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を進めた結果、位相差の低い樹脂基材を適用し、赤外線吸収層、赤外線反射層及び偏光層を設け、可視光波長領域における偏光光の平均透過率、及び近赤外波長領域における平均反射率を特定の条件に設定したヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーにより、低い位相差を実現し、ゲートカバーの高耐久化及び高透明化と、液晶表示装置の耐熱性を向上することができるヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーを提供することができることを見いだし、本発明に至った。 The present inventor, as a result of intensive studies in view of the above problems, applied a resin substrate having a low retardation, provided an infrared absorption layer, an infrared reflection layer and a polarizing layer, the average transmission of polarized light in the visible light wavelength region. And a gate cover for a head-up display whose average reflectance in the near-infrared wavelength region is set to a specific condition realizes a low phase difference, makes the gate cover highly durable and highly transparent, and They have found that it is possible to provide a gate cover for a head-up display that can improve heat resistance, and have reached the present invention.
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。 That is, the above-mentioned subject concerning the present invention is solved by the following means.
１．樹脂基材上に、赤外線吸収層、赤外線反射層及び偏光層が設けられたヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーであって、
前記樹脂基材の面内リターデーション値ＲＯが、入射角度０°、波長５５０ｎｍの光線を入射させたときに、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であり、
３８０〜７４０ｎｍの可視光波長領域における直線偏光光の平均透過率が８０％以上であり、かつ、
７５０〜１５００ｎｍの近赤外線波長領域における平均反射率が１５％以上である
ことを特徴とするヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
1. A gate cover for a head-up display in which an infrared absorbing layer, an infrared reflecting layer and a polarizing layer are provided on a resin substrate,
The in-plane retardation value R O of the resin substrate is 0 nm or more and less than 100 nm when a light beam having an incident angle of 0° and a wavelength of 550 nm is incident,
The average transmittance of linearly polarized light in the visible light wavelength region of 380 to 740 nm is 80% or more, and
A gate cover for a head-up display, which has an average reflectance of 15% or more in a near infrared wavelength region of 750 to 1500 nm.
２．前記赤外線吸収層が、下記（１）及び（２）で分類される赤外線吸収剤のいずれか一方を含有することを特徴とする第１項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
2. The gate cover for a head-up display according to
（１）７５０〜１２００ｎｍの近赤外波長域に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物
（２）金属酸化物系赤外線吸収剤。
(1) Near infrared absorbing organic compound having a maximum absorption peak in the near infrared wavelength range of 750 to 1200 nm (2) Metal oxide infrared absorber.
３．前記近赤外線吸収性有機化合物が、近赤外線吸収性染料であることを特徴とする第２項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
3. The gate cover for a head-up display according to
４．前記金属酸化物系赤外線吸収剤が、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、セシウムドープ酸化タングステン（ＣＷＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）及びアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）から選ばれることを特徴とする第２項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
4. The metal oxide infrared absorber is selected from tin-doped indium oxide (ITO), cesium-doped tungsten oxide (CWO), antimony-doped tin oxide (ATO), gallium-doped zinc oxide (GZO) and aluminum-doped zinc oxide (AZO). The gate cover for a head-up display according to
５．前記赤外線反射層が、誘電体多層膜であることを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
5. The gate cover for a head-up display according to any one of
６．前記赤外線反射層が、無機微粒子を含有していることを特徴とする第５項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
6. The gate cover for a head-up display according to
７．前記樹脂基材上に、赤外線吸収層、赤外線反射層及び偏光層が、この順で配置されていることを特徴とする第１項から第６項までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
7. The head-up display according to any one of
８．自動車、電車、航空機又は船舶に搭載されるヘッドアップディスプレイに具備されることを特徴とする第１項から第７項までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
8. The head-up display gate cover according to any one of
本発明の上記手段により、低い位相差を実現し、ゲートカバーの高耐久化及び高透明化と、液晶表示装置の耐熱性の向上、及びヘッドアップディスプレイシステム全体の耐久性を向上させることができるヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーを提供することができる。 By the above means of the present invention, a low phase difference can be realized, the gate cover can have high durability and high transparency, the heat resistance of the liquid crystal display device can be improved, and the durability of the entire head-up display system can be improved. A gate cover for a head-up display can be provided.
本発明の効果の発現機構・作用機構については明確になっていないが、以下のように推察している。 Although the mechanism of action and mechanism of action of the present invention have not been clarified, it is presumed as follows.
本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を進めた結果、位相差の低い樹脂基材を選択し、赤外線反射層及び赤外線吸収層を同時に設け、近赤外領域の光の一部を反射させる機能を備えたヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーにより、低い位相差を実現し、ゲートカバーの高耐久化及び高透明化と、液晶表示装置（ＴＦＴ−ＬＣＤ）の耐熱性向上が達成でき、最終的には、デッドアップディスプレイシステムの表示画像の視認性及び耐久性を向上させることができた。ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーとして、本発明で規定する構成とすることにより、課題を達成することができた理由としては、以下の４項目であると推測している。 The present inventor, as a result of intensive investigations in view of the above problems, selects a resin substrate having a low retardation, provides an infrared reflection layer and an infrared absorption layer at the same time, and reflects a part of light in the near infrared region. With a gate cover for head-up display with functions, low phase difference can be realized, and high durability and high transparency of the gate cover and improvement of heat resistance of liquid crystal display device (TFT-LCD) can be achieved. Was able to improve the visibility and durability of the display image of the dead-up display system. It is speculated that the reason why the problem can be achieved by using the gate cover for a head-up display with the structure defined in the present invention is as follows.
第１の効果は、面内リターデーション値が０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満という位相差の低い樹脂基材を採用することにより、投影画像の虹ムラを抑制することができた。 The first effect is that the rainbow unevenness of the projected image can be suppressed by using the resin base material having a low retardation value of the in-plane retardation value of 0 nm or more and less than 100 nm.
第２の効果は、赤外線反射層自身は、赤外線吸収層とは異なり、光反射により熱を発しない特性を有しており、赤外線吸収層とともに赤外線反射層を設けることにより、ゲートカバー全体の発熱が抑制され、粘着層の剥がれや偏光板の機能低下を抑えることができた。加えて、適用している赤外線吸収層を構成している赤外線吸収剤の耐久性を向上させることができた。 The second effect is that, unlike the infrared absorption layer, the infrared reflection layer itself has a characteristic that it does not generate heat due to light reflection. By providing the infrared reflection layer together with the infrared absorption layer, heat generation of the entire gate cover is achieved. Was suppressed, and peeling of the adhesive layer and deterioration of the function of the polarizing plate could be suppressed. In addition, it was possible to improve the durability of the infrared absorbing agent forming the infrared absorbing layer applied.
第３の効果は、赤外線の中でも７５０〜１５００ｎｍの波長領域の光が特に熱籠りに悪影響を及ぼすため、この波長領域の赤外線を効率的に反射させることにより、ＴＦＴ−ＬＣＤに対する熱の影響を低減でき、耐久性を向上させることができた。 The third effect is that light in the wavelength range of 750 to 1500 nm among infrared rays has a bad influence on the heat trap. Therefore, by effectively reflecting the infrared rays in this wavelength range, the influence of heat on the TFT-LCD is reduced. It was possible to improve the durability.
第４の効果は、赤外線反射層及び赤外線吸収層を併用して設けることにより、赤外線吸収剤の使用量を低減させることができ、その結果、可視光波長領域における光透過率を向上させることができたと推測している。 The fourth effect is that by providing the infrared reflecting layer and the infrared absorbing layer in combination, the amount of the infrared absorbing agent used can be reduced, and as a result, the light transmittance in the visible light wavelength region can be improved. I'm guessing it was done.
本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーは、面内リターデーション値ＲＯが０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満である樹脂基材上に、赤外線吸収層（以下、赤外光吸収層ともいう。）、赤外線反射層（以下、赤外光反射層ともいう。）及び偏光層を有し、可視光波長領域における偏光光の平均透過率が８０％以上で、近赤外波長領域における平均反射率が１５％以下であることを特徴とする。この特徴は、下記各実施形態に係る発明に共通又は対応する技術的特徴である。 The gate cover for a head-up display of the present invention has an infrared absorption layer (hereinafter, also referred to as an infrared absorption layer) and infrared reflection on a resin base material having an in-plane retardation value R O of 0 nm or more and less than 100 nm. A layer (hereinafter, also referred to as an infrared light reflecting layer) and a polarizing layer, the average transmittance of polarized light in the visible light wavelength region is 80% or more, and the average reflectance in the near infrared wavelength region is 15% or less. Is characterized in that This feature is a technical feature common to or corresponding to the invention according to each of the following embodiments.
本発明の実施形態としては、本発明の目的とする効果をより発現できる観点から、前記赤外線吸収層が、（１）７５０〜１２００ｎｍの近赤外波長域に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物及び（２）金属酸化物系赤外線吸収剤のいずれか一方を含有することにより、より優れた赤外線吸収特性を得ることができる点で好ましい。 As an embodiment of the present invention, from the viewpoint that the effect aimed at by the present invention can be further exhibited, the infrared absorption layer has (1) near infrared absorption having a maximum absorption peak in the near infrared wavelength range of 750 to 1200 nm. It is preferable to contain either one of the organic compound and the (2) metal oxide infrared absorbing agent, since it is possible to obtain more excellent infrared absorbing characteristics.
また、前記赤外線吸収性化合物が近赤外線吸収性染料であること、また、前記金属酸化物系赤外線吸収剤が、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、セシウムドープ酸化タングステン（ＣＷＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）及びアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）から選ばれる少なくとも１種であることが、より優れた赤外線吸収特性を発現させることができる点で好ましい。 The infrared absorbing compound is a near infrared absorbing dye, and the metal oxide infrared absorbing agent is tin-doped indium oxide (ITO), cesium-doped tungsten oxide (CWO), antimony-doped tin oxide (ATO). ), at least one selected from gallium-doped zinc oxide (GZO) and aluminum-doped zinc oxide (AZO) is preferable in that more excellent infrared absorption characteristics can be exhibited.
また、前記赤外線反射層が誘電体多層膜により構成されていること、更に無機微粒子を含有していることが、誘電体多層膜間での屈折率差を容易に得ることができ、少ない層数で所望の赤外線反射性能を発現でき、かつ、赤外線反射層を薄膜化できる点で好ましい。 In addition, since the infrared reflective layer is composed of a dielectric multilayer film and further contains inorganic fine particles, a difference in refractive index between the dielectric multilayer films can be easily obtained, and the number of layers is small. Is preferable in that the desired infrared reflection performance can be exhibited and the infrared reflection layer can be made thin.
また、樹脂基材を有する面側、すなわち、ヘッドアップディスプレイが具備する光源側から、赤外線吸収層、赤外線反射層及び偏光層の順に配置することが、ヘッドアップディスプレイ内の温度上昇を抑制でき、液晶表示装置への熱ダメージを抑制させることができる点で好ましい。 Further, the surface side having the resin base material, that is, the infrared absorption layer, the infrared reflection layer, and the polarizing layer are arranged in this order from the light source side included in the head-up display, and the temperature rise in the head-up display can be suppressed, It is preferable because heat damage to the liquid crystal display device can be suppressed.
また、本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーは、省スペース、省エネルギーの観点から、自動車、電車、航空機又は船舶に搭載されるヘッドアップディスプレイに具備されることが好ましい。 Further, the head-up display gate cover of the present invention is preferably provided in a head-up display mounted on an automobile, a train, an aircraft or a ship from the viewpoint of space saving and energy saving.
以下、本発明とその構成成分、及び本発明を実施するための形態・態様について、図を交えて、詳細な説明をする。なお、以下の説明において示す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。また、以下の説明において、各構成成分のあとに記載の数字は、各図に記載した各構成成分の符号を表す。 Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, "-" shown in the following description is used to mean that the numerical values described before and after the "-" are included as the lower limit value and the upper limit value. Further, in the following description, the numbers described after each constituent component represent the reference numerals of each constituent component shown in each drawing.
《ヘッドアップディスプレイの概要》
はじめに、本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーを装着するヘッドアップディスプレイの全体概要について説明する。
<<Overview of head-up display>>
First, an overall outline of a head-up display equipped with the head-up display gate cover of the present invention will be described.
図１は、ヘッドアップディスプレイの基本構造と太陽光の入射経路を示す模式図である。 FIG. 1 is a schematic diagram showing a basic structure of a head-up display and an incident path of sunlight.
図１で示すように、自動車等の運転席前方に設置されたヘッドアップディスプレイ１は、フロントガラス２より入射した太陽光Ｌが、本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー３を通過し、凹面である拡大鏡４により集光され、コールドミラー５及びホットミラー６により近赤外又は赤外線が一部カットされ、液晶表示装置７（ＬＣＤ）に入射される。なお、以下の説明において、液晶表示装置７を、単に「光源」と称する場合もある。
As shown in FIG. 1, in a head-up
従来のヘッドアップディスプレイでは、前記コールドミラー５及びホットミラー６により熱線カットを行ってきたが、投影情報の増加に伴うゲートカバーの開口面積の大型化等に伴い、熱線の入射量増加に対する対応としては不足する状況にあった。
In the conventional head-up display, the heat ray is cut by the
上記表示画面の大型化等に伴う問題に対し、本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー３は、高い可視光透過率を実現するとともに、近赤外波長領域において優れた平均反射率を得ることができ、その結果、ＨＵＤ内での熱籠り等を抑制でき、液晶表示装置（７）の耐久性(耐熱性)を向上させることができる。
With respect to the problems associated with the increase in the size of the display screen, the head-up
《ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーの基本構成》
本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーは、少なくとも、樹脂基材上に、赤外線吸収層、赤外線反射層及び偏光層を有する構成であり、好ましくは、樹脂基材側、すなわち、ヘッドアップディスプレイが内蔵するＬＣＤ（光源ともういう）側から、赤外線吸収層、赤外線反射層及び偏光層を、この順で配置されている構成であることが好ましい形態である。
<Basic configuration of gate cover for head-up display>
The gate cover for a head-up display of the present invention has at least an infrared absorption layer, an infrared reflection layer, and a polarizing layer on a resin base material, preferably the resin base material side, that is, the head-up display is built-in. It is a preferable embodiment that the infrared absorption layer, the infrared reflection layer and the polarization layer are arranged in this order from the LCD (also called light source) side.
本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーにおいては、樹脂基材の面内リターデーション値ＲＯが、入射角度０°、波長５５０ｎｍの光線を入射させたときに、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であることを一つの特徴とする。また、３８０〜７４０ｎｍの可視光波長領域における直線偏光光の平均透過率が８０％以上であることを特徴とし、好ましくは８０〜９５％の範囲内である。また、７５０〜１５００ｎｍの近赤外線波長領域における平均反射率は１５％以上であることを特徴とし、好ましくは、１５〜５０％の範囲内であり、更に好ましくは、２０〜４５％の範囲内である。 In the head-up display gate cover of the present invention, the in-plane retardation value R O of the resin base material is 0 nm or more and less than 100 nm when a light beam having an incident angle of 0° and a wavelength of 550 nm is incident. One feature. Further, the average transmittance of linearly polarized light in the visible light wavelength region of 380 to 740 nm is 80% or more, and preferably in the range of 80 to 95%. The average reflectance in the near infrared wavelength region of 750 to 1500 nm is 15% or more, preferably in the range of 15 to 50%, more preferably in the range of 20 to 45%. is there.
図２は、本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーの基本構成の一例を示す概略断面図である。図２に示す構成は、図１におけるＨＵＤ７（光源）とＨＵＤ用ゲートカバー３の相対関係を模式的に示す模式図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of the basic configuration of the head-up display gate cover of the present invention. The configuration shown in FIG. 2 is a schematic diagram schematically showing the relative relationship between the HUD 7 (light source) and the
図２においては、紙面の上面側が太陽光の入射側であり、下面側にはヘッドアップディスプレイの光源７（ＬＣＤ）が配置され、その光源側より、樹脂基材１１、赤外線吸収層１２、赤外線反射層１３及び偏光層１４がこの順に配置されてヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー３を構成している。
In FIG. 2, the upper surface side of the paper is the incident side of sunlight, and the light source 7 (LCD) of the head-up display is arranged on the lower surface side. From the light source side, the
本発明でいうゲートカバーとは、ヘッドアップディスプレイに含まれ、当該装置から画像情報を出射する出口部分をいい、通常透明樹脂成形体である。当該透明樹脂成形体は、外部からの埃や塵の装置内への侵入を防止する機能を併せて有する。 The gate cover as referred to in the present invention is an exit portion that is included in a head-up display and emits image information from the device, and is usually a transparent resin molding. The transparent resin molded body also has a function of preventing dust and dirt from entering the device.
本発明でいう「樹脂基材」とは、本発明に係る赤外線吸収層、赤外線反射層及び偏光層を支持できる程度に剛性を有する樹脂部材をいう。 The “resin base material” in the present invention refers to a resin member having rigidity to the extent that it can support the infrared absorbing layer, the infrared reflecting layer and the polarizing layer according to the present invention.
また、「赤外線反射層」とは、誘電体多層膜で構成される近赤外から赤外領域の波長光（例えば、少なくとも光波長７５０〜１５００ｎｍの範囲）を反射する機能を有し、７５０〜１５００ｎｍの近赤外線波長領域における平均反射率が１５％以上となる層をいう。 The “infrared reflecting layer” has a function of reflecting light having a wavelength range from near infrared to infrared region (for example, at least a light wavelength range of 750 to 1500 nm) composed of a dielectric multilayer film, and has a thickness of 750 to 750. A layer having an average reflectance of 15% or more in the near infrared wavelength region of 1500 nm.
また、「赤外線吸収層」とは、具体的には、近赤外線吸収性有機化合物及び金属酸化物系赤外線吸収剤のいずれか一方で構成され、近赤外から赤外領域の波長光（例えば、少なくとも光波長７５０〜１５００ｎｍの範囲）を吸収する機能を有する層をいう。 Further, the "infrared absorbing layer" is specifically configured by one of the near-infrared absorbing organic compound and the metal oxide-based infrared absorber, wavelength light in the near infrared to infrared region (for example, A layer having a function of absorbing at least a light wavelength of 750 to 1500 nm).
《ゲートカバーの構成要素》
次いで、本発明のゲートカバーを構成する、樹脂基材、赤外線吸収層、赤外線反射層、偏光層及びその他の構成要素の詳細について説明する。
<<Gate cover components>>
Next, details of the resin base material, the infrared absorbing layer, the infrared reflecting layer, the polarizing layer and other constituent elements which constitute the gate cover of the present invention will be described.
［１：樹脂基材］
本発明のゲートカバーに適用する樹脂基材は、面内リターデーション値ＲＯが、入射角度０°、波長５５０ｎｍの光線を入射させたときに、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であることを特徴とし、特にその他の制限はないが、透明樹脂基材であることが好ましい。
[1: resin base material]
The resin base material applied to the gate cover of the present invention is characterized in that the in-plane retardation value R O is 0 nm or more and less than 100 nm when a light beam having an incident angle of 0° and a wavelength of 550 nm is incident, Although not particularly limited, a transparent resin base material is preferable.
本発明に適用可能な樹脂基材を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（略称：ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（略称：ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類及びそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（略称：ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂及びポリアリレート樹脂、アートン（商品名、ＪＳＲ社製）及びアペル（商品名、三井化学社製）等のシクロオレフィン系樹脂等を挙げることができる。 Examples of the resin material constituting the resin base material applicable to the present invention include polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate (abbreviation: TAC), cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate (abbreviation: CAP), cellulose acetate phthalate, cellulose esters such as cellulose nitrate and derivatives thereof, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate (abbreviation: PC), norbornene resin, polymethylpentene, Polyetherketone, polyimide, polyethersulfone (abbreviation: PES), polyphenylene sulfide, polysulfones, polyetherimide, polyetherketone imide, polyamide, fluororesin, nylon, polymethylmethacrylate, acrylic resin and polyarylate resin, Arton ( Examples thereof include cycloolefin-based resins such as trade name, manufactured by JSR) and Apel (trade name, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.).
これらの樹脂基材の中でも、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、アクリル樹脂及びポリアリレート類を樹脂成分として有する樹脂基材が、所望の面内リターデーション値ＲＯを得ることができる点で好ましい。 Among these resin base materials, a resin base material having a triacetyl cellulose (TAC), a cycloolefin resin, a polycarbonate (PC) resin, an acrylic resin and a polyarylate as a resin component has a desired in-plane retardation value R. It is preferable in that O can be obtained.
本発明に適用する樹脂基材に含まれる樹脂は、１種類であってもよいし、２種類以上を組み合わせたものであってもよく、また、ゲートカバーを形成する際の樹脂基材は、１種類の樹脂基材を複数用いても、あるいは異なる種類の樹脂基材を複数積層した構成であってもよい。 The resin contained in the resin base material applied to the present invention may be one kind or a combination of two or more kinds, and the resin base material for forming the gate cover is A plurality of resin substrates of one type may be used, or a plurality of resin substrates of different types may be laminated.
（樹脂基材の面内リターデーション値ＲＯ）
本発明に用いられる樹脂基材では、位相差フィルムとしての機能を持たせるため、入射角度０°、波長５５０ｎｍの光線を入射させたときの面内リターデーション値ＲＯが、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満の範囲内であることを特徴の一つとする。
(In-plane retardation value R O of resin substrate)
In the resin base material used in the present invention, in order to have a function as a retardation film, the in-plane retardation value R O when a light beam having an incident angle of 0° and a wavelength of 550 nm is incident is 0 nm or more and less than 100 nm. It is one of the features that it is within the range of.
本発明に係る樹脂基材の面内リターデーション値Ｒｏは、下記式（１）で定義される。 The in-plane retardation value Ro of the resin substrate according to the present invention is defined by the following formula (1).
式（１）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
上記式（１）において、ｎｘはフィルムの面内方向において屈折率が最大となる方向ｘ（面内遅相軸方向）における屈折率であり、ｎｙはフィルムの面内方向において前記方向ｘ（面内遅相軸方向）と直交する方向ｙにおける屈折率であり、ｄはフィルムの膜厚（ｎｍ）である。
Equation (1): Ro = (n x -n y) × d
In the formula (1), n x is the refractive index in the direction x (in-plane slow axis direction) where the refractive index is maximum in the in-plane direction of the film, and n y is the above-mentioned direction x in the in-plane direction of the film. It is the refractive index in the direction y orthogonal to the (in-plane slow axis direction), and d is the film thickness (nm) of the film.
本発明に係る樹脂基材の面内リターデーション値Ｒｏの測定は、以下の方法で行うことができる。 The in-plane retardation value Ro of the resin substrate according to the present invention can be measured by the following method.
１）樹脂基材を、２３℃、５５％ＲＨの環境下で２４時間調湿する。 1) The resin base material is conditioned at 23° C. and 55% RH for 24 hours.
２）調湿後の樹脂基材の、入射角度０°、測定波長５５０ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒｏを、Ａｘｏｍｅｔｏｒｉｃｓ社製の自動複屈折率計「Ａｘｏｓｃａｎ」を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で測定する。 2) The in-plane retardation value Ro at an incident angle of 0° and a measurement wavelength of 550 nm of the resin base material after humidity control was measured at 23° C. and 55% RH using an automatic birefringence meter “Axoscan” manufactured by Axometrics. Under the environment.
樹脂基材の面内リターデーション値Ｒｏは、主として樹脂基材を構成する熱可塑性樹脂の種類の選択、添加剤として用いられる糖のアルキレンオキサイド付加物の種類及び含有量の選択、並びにフィルム製膜時の延伸倍率の設定等によって、所望の面内リターデーション値Ｒｏに調整することができる。樹脂基材の面内リターデーション値Ｒｏを、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満という低い条件に設定するための具体例としては、例えば、熱可塑性樹脂としてセルロースアシレートとアクリル系樹脂の混合物を選択したり、糖のアルキレンオキサイド付加物におけるアルキレンオキサイドの付加モル数を少なくしたり、アルキレンオキサイドの種類を炭素数の少ないアルキレンオキサイドとしたり、アルキレンオキサイドのヒドロキシ基末端を未封止としたり、延伸倍率を低くしたりする手段を適宜選択、又は組み合わせることにより、所望の面内リターデーション値Ｒｏとすることができる。 The in-plane retardation value Ro of the resin base material is mainly selected from the type of thermoplastic resin constituting the resin base material, the type and content of the alkylene oxide adduct of sugar used as an additive, and film formation. The in-plane retardation value Ro can be adjusted to a desired value by setting the stretching ratio at that time. As a specific example for setting the in-plane retardation value Ro of the resin substrate to a low condition of 0 nm or more and less than 100 nm, for example, a mixture of cellulose acylate and an acrylic resin is selected as the thermoplastic resin, Reduce the number of moles of alkylene oxide added to the alkylene oxide adduct of sugar, change the type of alkylene oxide to an alkylene oxide with a small number of carbon atoms, unblock the hydroxy group end of alkylene oxide, and lower the draw ratio. A desired in-plane retardation value Ro can be obtained by appropriately selecting or combining means for adjusting the values.
次いで、樹脂基材を構成する熱可塑性樹脂の代表例として、セルロースアシレート、アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂について、その詳細を説明する。 Next, details of cellulose acylate, acrylic resin, cycloolefin resin, and polycarbonate resin will be described as typical examples of the thermoplastic resin constituting the resin substrate.
〈セルロースアシレート〉
セルロースアシレートは、セルロースのヒドロキシ基の一部又は全部が、カルボン酸とのエステル化反応により得られる樹脂である。セルロースアシレートに含まれるアシル基は、１種類であってもよいし、２種類以上を組み合わせたものであってもよい。
<Cellulose acylate>
Cellulose acylate is a resin in which some or all of the hydroxy groups of cellulose are obtained by an esterification reaction with a carboxylic acid. The acyl group contained in the cellulose acylate may be one kind or a combination of two or more kinds.
セルロースアシレートに含まれるアシル基は、脂肪族アシル基であってもよいし、芳香族アシル基であってもよい。中でも、位相差の調整が容易である点から、セルロースアシレートに含まれるアシル基は、脂肪族アシル基であることが好ましい。 The acyl group contained in the cellulose acylate may be an aliphatic acyl group or an aromatic acyl group. Among them, the acyl group contained in the cellulose acylate is preferably an aliphatic acyl group because the retardation can be easily adjusted.
脂肪族アシル基の炭素原子数は、２〜７の範囲内であることが好ましく、２〜４の範囲内であることがより好ましい。脂肪族アシル基の例としては、アセチル基、プロピオニル基及びブタノイル基等が挙げられる。 The number of carbon atoms of the aliphatic acyl group is preferably in the range of 2-7, more preferably 2-4. Examples of the aliphatic acyl group include an acetyl group, a propionyl group and a butanoyl group.
中でも、セルロースアシレートのアシル基としては、耐熱性を高めやすい点から、アセチル基を含むことが好ましく、必要に応じて炭素原子数３以上のアシル基をさらに含んでもよい。炭素原子数３以上のアシル基は、セルロースアシレートに疎水性を付与することができる。 Among them, the acyl group of cellulose acylate preferably contains an acetyl group from the viewpoint of easily increasing heat resistance, and may further contain an acyl group having 3 or more carbon atoms, if necessary. The acyl group having 3 or more carbon atoms can impart hydrophobicity to the cellulose acylate.
セルロースアシレートの例には、セルロースアセテート（セルロースジアセテート(略称：ＤＡＣ)、セルローストリアセテート（略称：ＴＡＣ）等）、セルロースアセテートプロピオネート（略称：ＣＡＰ）及びセルロースアセテートブチレート等が挙げられ、位相差を発現しにくく、良好な耐熱性を有することから、セルロースアセテート及びセルロースアセテートプロピオネートが好ましい。 Examples of cellulose acylate include cellulose acetate (cellulose diacetate (abbreviation: DAC), cellulose triacetate (abbreviation: TAC), etc.), cellulose acetate propionate (abbreviation: CAP), cellulose acetate butyrate, and the like. Cellulose acetate and cellulose acetate propionate are preferable because they hardly cause retardation and have good heat resistance.
セルロースアシレートのアシル基の総置換度は、２．０〜３．０の範囲内であることが好ましく、２．６〜３．０の範囲内であることがより好ましい。アシル基の総置換度を高めることにより、延伸による位相差発現性を低くすることができる。アシル基の置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。 The total degree of substitution of acyl groups in cellulose acylate is preferably in the range of 2.0 to 3.0, more preferably in the range of 2.6 to 3.0. By increasing the total degree of substitution of the acyl groups, the retardation developability by stretching can be lowered. The substitution degree of the acyl group can be measured according to ASTM-D817-96.
具体的には、以下の式（１）〜（３）を満たすセルローストリアセテート又はセルロースアセテートプロピオネートが好ましい。式中、Ｘはアセチル基の置換度、Ｙはプロピオニル基の置換度を表す。 Specifically, cellulose triacetate or cellulose acetate propionate satisfying the following formulas (1) to (3) is preferable. In the formula, X represents the substitution degree of the acetyl group, and Y represents the substitution degree of the propionyl group.
式（１）１．０≦Ｘ≦３．０
式（２） ０≦Ｙ≦１．５
式（３）２．０≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
セルロースアシレートの数平均分子量Ｍｎは、３００００〜１５００００の範囲内であることが好ましい。セルロースアシレートの数平均分子量Ｍｎが３００００以上であると、樹脂基材の機械的強度が得られやすく、１５００００以下であると、成形性が損なわれにくい。セルロースアシレートの重量平均分子量Ｍｗと数平均分子量Ｍｎとの比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．４〜３．０程度であり得る。
Formula (1) 1.0≦X≦3.0
Formula (2) 0≦Y≦1.5
Formula (3) 2.0≦X+Y≦3.0
The number average molecular weight Mn of cellulose acylate is preferably in the range of 30,000 to 150,000. When the number average molecular weight Mn of the cellulose acylate is 30,000 or more, the mechanical strength of the resin substrate is easily obtained, and when it is 150,000 or less, the moldability is not easily impaired. The ratio (Mw/Mn) of the weight average molecular weight Mw and the number average molecular weight Mn of cellulose acylate may be about 1.4 to 3.0.
〈アクリル系樹脂〉
アクリル系樹脂は、（メタ）アクリル酸エステルの単独重合体；又は（メタ）アクリル酸エステルとそれと共重合可能な他のモノマーとの共重合体であり得る。なお、（メタ）アクリル酸エステルには、アクリル酸エステルと、メタクリル酸エステルの両方が含まれる。
<Acrylic resin>
The acrylic resin may be a homopolymer of (meth)acrylic acid ester; or a copolymer of (meth)acrylic acid ester and another monomer copolymerizable therewith. The (meth)acrylic acid ester includes both acrylic acid ester and methacrylic acid ester.
（メタ）アクリル酸エステルは、（メタ）アクリル酸アルキルエステルであることが好ましく、メタクリル酸メチルであることがより好ましい。 The (meth)acrylic acid ester is preferably a (meth)acrylic acid alkyl ester, and more preferably methyl methacrylate.
（メタ）クリル酸メチルと共重合可能な他のモノマーの例には、アルキル部分の炭素原子数が２〜１８のメタクリル酸アルキルエステル；アルキル部分の炭素原子数が１〜１８のアクリル酸アルキルエステル；アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸；マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸；スチレン、α−メチルスチレン、核置換スチレン等の芳香族ビニル化合物；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル；無水マレイン酸、グルタル酸無水物等の酸無水物；マレイミド、Ｎ−置換マレイミド等が含まれる。これらの他のモノマーは、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the other monomer copolymerizable with methyl (meth)acrylate include a methacrylic acid alkyl ester having an alkyl portion having 2 to 18 carbon atoms; an acrylic acid alkyl ester having an alkyl portion having 1 to 18 carbon atoms. Α,β-unsaturated acids such as acrylic acid and methacrylic acid; unsaturated group-containing divalent carboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid, and itaconic acid; aromatic vinyl such as styrene, α-methylstyrene, and nucleus-substituted styrene Compounds; α,β-unsaturated nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile; acid anhydrides such as maleic anhydride and glutaric anhydride; maleimides, N-substituted maleimides and the like. These other monomers may be used alone or in combination of two or more.
（メタ）アクリル酸エステルとそれと共重合可能な他のモノマーとの共重合体におけるメタクリル酸メチル由来の構造単位の含有割合は、該共重合体を構成する全構成単位の合計に対して３０モル％以上であることが好ましく、５０モル％以上であることがより好ましい。 The content ratio of the structural unit derived from methyl methacrylate in the copolymer of the (meth)acrylic acid ester and the other monomer copolymerizable therewith is 30 mol based on the total of all the structural units constituting the copolymer. % Or more, and more preferably 50 mol% or more.
アクリル系樹脂の例には、ポリメチルメタクリレート等が含まれる。 Examples of acrylic resins include polymethylmethacrylate and the like.
アクリル系樹脂の重量平均分子量Ｍｗは、８００００〜１００００００の範囲内であることが好ましい。アクリル系樹脂の重量平均分子量Ｍｗが８００００以上であると、樹脂基材の機械的強度が得られやすく、１００００００以下であると、成形性が損なわれにくい。アクリル系樹脂の重量平均分子量Ｍｗは、前述と同様の方法で測定できる。 The weight average molecular weight Mw of the acrylic resin is preferably in the range of 80,000 to 1,000,000. When the weight average molecular weight Mw of the acrylic resin is 80,000 or more, the mechanical strength of the resin base material is easily obtained, and when it is 1,000,000 or less, the moldability is not easily impaired. The weight average molecular weight Mw of the acrylic resin can be measured by the same method as described above.
〈シクロオレフィン系樹脂〉
シクロオレフィン系樹脂は、シクロオレフィン単量体の重合体、又はシクロオレフィン単量体とそれ以外の共重合性単量体との共重合体である。
<Cycloolefin resin>
The cycloolefin-based resin is a polymer of cycloolefin monomers or a copolymer of cycloolefin monomers and other copolymerizable monomers.
シクロオレフィン単量体は、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体である。位相差値ＲｏやＲｔ（厚さ方向の位相差値）が低い樹脂基材を得る観点から、非対称な構造を有するシクロオレフィン単量体を含むことが好ましい。非対称な構造を有するシクロオレフィン単量体の例には、下記一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体が含まれる。 The cycloolefin monomer is a cycloolefin monomer having a norbornene skeleton. From the viewpoint of obtaining a resin base material having a low retardation value Ro or Rt (retardation value in the thickness direction), it is preferable to include a cycloolefin monomer having an asymmetric structure. Examples of the cycloolefin monomer having an asymmetric structure include the cycloolefin monomer represented by the following general formula (A-1).
一般式（Ａ−１）におけるＲ２は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基、又はハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子若しくはヨウ素原子）を表す。中でも、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基がより好ましい。 R 2 in the general formula (A-1) represents a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an amino group, an amide group, a cyano group, or a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or iodine). Atom). Of these, a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group and an aryloxycarbonyl group are preferable, and an alkoxycarbonyl group and an aryloxycarbonyl group are more preferable from the viewpoint of ensuring the solubility during solution film formation.
一般式（Ａ−１）におけるｐは０〜２の整数を表し、１又は２であることが好ましい。 P in the general formula (A-1) represents an integer of 0 to 2, and is preferably 1 or 2.
一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体は、非対称な構造を有する。即ち、一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体の置換基Ｒ１及びＲ２が、それぞれ分子の対称軸に対して片側の環構成炭素原子のみに置換されているので、分子の対称性が低い。そのような非対称構造を有するシクロオレフィン単量体は、主鎖がｘ方向に並んでも、側鎖がｘｙ面内だけでなく、それ以外の種々の方向を向くため、Ｒｏのみが発現しやすく、Ｒｔが大きくなりにくいと考えられる。 The cycloolefin monomer represented by the general formula (A-1) has an asymmetric structure. That is, since the substituents R 1 and R 2 of the cycloolefin monomer represented by the general formula (A-1) are each substituted only on the ring-constituting carbon atom on one side with respect to the symmetry axis of the molecule, The symmetry of the molecule is low. In the cycloolefin monomer having such an asymmetric structure, even if the main chains are arranged in the x direction, the side chains are oriented not only in the xy plane but also in various other directions, so that only Ro is easily expressed, It is considered that Rt does not easily increase.
一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体の含有割合は、シクロオレフィン系重合体を構成する全シクロオレフィン単量体の合計に対して、例えば、５０モル％以上、好ましくは６０モル％以上、より好ましくは８０モル％以上とし得る。一般式（Ａ−１）で表される単量体を一定以上含むシクロオレフィン系重合体は、樹脂基材のＲｔを低くしやすい。 The content ratio of the cycloolefin monomer represented by the general formula (A-1) is, for example, 50 mol% or more, preferably 50 mol% or more, based on the total of all cycloolefin monomers constituting the cycloolefin polymer. It may be 60 mol% or more, more preferably 80 mol% or more. The cycloolefin polymer containing a certain amount or more of the monomer represented by formula (A-1) easily lowers the Rt of the resin base material.
シクロオレフィン単量体は、必要に応じて一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体以外の他のシクロオレフィン単量体をさらに含んでもよい。他のシクロオレフィン単量体の例には、下記一般式（Ａ−２）で表されるシクロオレフィン単量体が含まれる。 The cycloolefin monomer may further include another cycloolefin monomer other than the cycloolefin monomer represented by the general formula (A-1), if necessary. Examples of other cycloolefin monomers include cycloolefin monomers represented by the following general formula (A-2).
炭素原子数１〜３０の炭化水素基は、炭素原子数１〜１０の炭化水素基であることが好ましく、炭素原子数１〜５の炭化水素基であることがより好ましい。炭素原子数１〜３０の炭化水素基は、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又はケイ素原子を含む連結基をさらに有していてもよい。そのような連結基の例には、カルボニル基、イミノ基、エーテル結合、シリルエーテル結合、チオエーテル結合等の２価の極性基が含まれる。炭素原子数１〜３０の炭化水素基の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が含まれる。 The hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms is preferably a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. The hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms may further have a connecting group containing a halogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom or a silicon atom. Examples of such a connecting group include a carbonyl group, an imino group, a divalent polar group such as an ether bond, a silyl ether bond and a thioether bond. Examples of the hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group and the like.
極性基の例には、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基及びシアノ基が含まれる。中でも、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましい。 Examples of the polar group include a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an amino group, an amide group and a cyano group. Among them, a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group and an aryloxycarbonyl group are preferable, and an alkoxycarbonyl group and an aryloxycarbonyl group are preferable from the viewpoint of ensuring the solubility during solution film formation.
一般式（Ａ−２）におけるｐは、０〜２の整数を表し、１又は２であることが好ましい。 P in the general formula (A-2) represents an integer of 0 to 2, and is preferably 1 or 2.
一般式（Ａ−１）及び一般式（Ａ−２）で表されるシクロオレフィン単量体の具体例としては、例えば、特開２０１８−０７２５０３号公報の段落（００２８）、特開２０１８−０８０２１１号公報の段落（００６３）に記載されている例示化合物１〜３４を挙げることができる。
Specific examples of the cycloolefin monomer represented by the general formula (A-1) and the general formula (A-2) include, for example, paragraph (0028) of JP2018-072503A and JP2018-080211A.
他のシクロオレフィン単量体の例には、ジシクロペンタジエン、ジヒドロジシクロペンタジエン等も含まれる。 Examples of other cycloolefin monomers also include dicyclopentadiene, dihydrodicyclopentadiene and the like.
シクロオレフィン単量体と共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロオレフィン単量体と開環共重合可能な共重合性単量体、シクロオレフィン単量体と付加共重合可能な共重合性単量体が含まれる。 Examples of copolymerizable monomer that can be copolymerized with cycloolefin monomer include copolymerizable monomer that can be ring-opening copolymerized with cycloolefin monomer, and addition copolymerizable with cycloolefin monomer. Such copolymerizable monomers are included.
開環共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロヘキセン、シクロオクテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン及びシクロオクタジエン等のシクロオレフィンが含まれる。 Examples of the ring-opening copolymerizable copolymerizable monomer include cycloolefins such as cyclobutene, cyclopentene, cycloheptene, cyclohexene, cyclooctene, cyclopentadiene, cyclohexadiene, cycloheptadiene and cyclooctadiene.
付加共重合可能な共重合性単量体の例には、不飽和二重結合含有化合物、ビニル系環状炭化水素単量体、（メタ）アクリレートが含まれる。不飽和二重結合含有化合物の例には、炭素原子数２〜１２（好ましくは２〜８）のオレフィン系化合物であり、その例には、エチレン、プロピレン、ブテンが含まれる。ビニル系環状炭化水素単量体の例には、４−ビニルシクロペンテン、２−メチル−４−イソプロペニルシクロペンテン等のビニルシクロペンテン系単量体が含まれる。（メタ）アクリレートの例には、メチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の炭素原子数１〜２０のアルキル（メタ）アクリレートが含まれる。 Examples of copolymerizable monomers capable of addition copolymerization include unsaturated double bond-containing compounds, vinyl cyclic hydrocarbon monomers, and (meth)acrylates. An example of the unsaturated double bond-containing compound is an olefin compound having 2 to 12 carbon atoms (preferably 2 to 8), and examples thereof include ethylene, propylene and butene. Examples of vinyl-based cyclic hydrocarbon monomers include vinyl-cyclopentene-based monomers such as 4-vinylcyclopentene and 2-methyl-4-isopropenylcyclopentene. Examples of the (meth)acrylate include alkyl(meth)acrylates having 1 to 20 carbon atoms such as methyl(meth)acrylate, 2-ethylhexyl(meth)acrylate and cyclohexyl(meth)acrylate.
シクロオレフィン系樹脂におけるシクロオレフィン単量体の含有割合は、シクロオレフィン系樹脂を構成する全単量体の合計に対して、例えば、５０〜１００モル％の範囲内、好ましくは６０〜１００モル％の範囲内とすることができる。 The content ratio of the cycloolefin-based resin in the cycloolefin-based resin is, for example, in the range of 50 to 100 mol%, preferably 60 to 100 mol% with respect to the total of all the monomers constituting the cycloolefin-based resin. Can be within the range.
シクロオレフィン系重合体の数平均分子量Ｍｎは、８０００〜１０００００の範囲内であることが好ましく、１００００〜８００００の範囲内であることがより好ましく、１２０００〜５００００の範囲内であることがさらに好ましい。シクロオレフィン系重合体の重量平均分子量Ｍｗは、２００００〜３０００００の範囲内であることが好ましく、３００００〜２５００００の範囲内であることがより好ましく、４００００〜２０００００の範囲内であることがさらに好ましい。シクロオレフィン系重合体の数平均分子量Ｍｎ、重量平均分子量Ｍｗは、前述と同様の方法で測定できる。 The number average molecular weight Mn of the cycloolefin polymer is preferably in the range of 8,000 to 100,000, more preferably in the range of 10,000 to 80,000, and further preferably in the range of 12,000 to 50,000. The weight average molecular weight Mw of the cycloolefin polymer is preferably in the range of 20,000 to 300,000, more preferably in the range of 30,000 to 250,000, and even more preferably in the range of 40,000 to 200,000. The number average molecular weight Mn and the weight average molecular weight Mw of the cycloolefin polymer can be measured by the same method as described above.
〈ポリカーボネート系樹脂〉
本発明に係る樹脂基材として、種々の公知のポリカーボネート系樹脂も使用することができる。本発明においては、特に芳香族ポリカーボネートを用いることが好ましい。当該芳香族ポリカーボネートについて特に制約はなく、所望する樹脂基材の諸特性が得られる芳香族ポリカーボネートであれば特に制約はない。
<Polycarbonate resin>
Various known polycarbonate-based resins can also be used as the resin base material according to the present invention. In the present invention, it is particularly preferable to use aromatic polycarbonate. There are no particular restrictions on the aromatic polycarbonate, and there is no particular restriction as long as it is an aromatic polycarbonate that provides the desired properties of the resin substrate.
一般に、ポリカーボネートと総称される高分子材料は、公知の重縮合反応を用い、主鎖が炭酸結合で結ばれているものを総称するが、これらの内でも、一般に、フェノール誘導体と、ホスゲン、ジフェニルカーボネートらから重縮合で得られるものを意味する。通常、ビスフェノール−Ａと呼称されている２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンをビスフェノール成分とする繰り返し単位で表される芳香族ポリカーボネートが好ましく選ばれるが、適宜各種ビスフェノール誘導体を選択することで、芳香族ポリカーボネート共重合体を構成することができる。 Generally, polymer materials generally referred to as polycarbonates are those in which the main chain is bound by a carbonic acid bond using a known polycondensation reaction. Among these, generally, a phenol derivative, phosgene and diphenyl are used. It means a product obtained by polycondensation from carbonates or the like. Usually, an aromatic polycarbonate represented by a repeating unit having a bisphenol component of 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane, which is called bisphenol-A, is preferably selected, but various bisphenol derivatives should be appropriately selected. Then, an aromatic polycarbonate copolymer can be constituted.
かかる共重合成分としてこのビスフェノール−Ａ以外に、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−フェニルエタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフロロプロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）サルファイド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等を挙げることができる。 As such a copolymerization component, in addition to bisphenol-A, bis(4-hydroxyphenyl)methane, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexane, 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene, 1,1 -Bis(4-hydroxyphenyl)-3,3,5-trimethylcyclohexane, 2,2-bis(4-hydroxy-3-methylphenyl)propane, 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)-2-phenyl Ethane, 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, bis(4-hydroxyphenyl)diphenylmethane, bis(4-hydroxyphenyl)sulfide, bis( 4-hydroxyphenyl) sulfone, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)-3,3,5-trimethylcyclohexane and the like can be mentioned.
また、一部にテレフタル酸又はイソフタル酸成分を含む芳香族ポリエステルカーボネートを使用することも可能である。このような構成単位を、ビスフェノール−Ａからなる芳香族ポリカーボネートの構成成分の一部に使用することにより、芳香族ポリカーボネートの性質、例えば、耐熱性、溶解性を改良することができるが、このような共重合体についても本発明は有効である。 It is also possible to use an aromatic polyester carbonate partially containing a terephthalic acid or isophthalic acid component. By using such a structural unit as a part of the constituent components of the aromatic polycarbonate composed of bisphenol-A, the properties of the aromatic polycarbonate, such as heat resistance and solubility, can be improved. The present invention is also effective for various copolymers.
ここで用いられる芳香族ポリカーボネートの粘度平均分子量は、１００００〜２０００００の範囲内であることが好ましく、２００００〜１２００００の範囲内であることが特に好ましい。粘度平均分子量が１００００未満の樹脂を使用すると、得られる樹脂基材の機械的強度が不足する場合があり、また２０００００を超える高分子量になると、製膜時のドープの粘度が高くなり過ぎ、取扱い上問題を生じるので好ましくない。粘度平均分子量は市販の高速液体クロマトグラフィ等で測定することができる。 The viscosity average molecular weight of the aromatic polycarbonate used here is preferably in the range of 10,000 to 200,000, and particularly preferably in the range of 20,000 to 120,000. When a resin having a viscosity average molecular weight of less than 10,000 is used, the mechanical strength of the obtained resin base material may be insufficient, and when the polymer has a high molecular weight of more than 200,000, the viscosity of the dope during film formation becomes too high. This is not preferable because it causes problems. The viscosity average molecular weight can be measured by a commercially available high performance liquid chromatography or the like.
本発明に用いられる芳香族ポリカーボネートのガラス転移温度は２００℃以上であることが高耐熱性のフィルムを得る上で好ましく、より好ましくは２３０℃以上である。これらは、上記共重合成分を適宜選択して得ることができる。ガラス転移温度は、ＤＳＣ装置（示差走査熱量分析装置）にて測定することができ、例えば、セイコーインスツル株式会社製：ＲＤＣ２２０にて、１０℃／分の昇温条件によって求められる、ベースラインが低温側から変化し始める温度である。 The glass transition temperature of the aromatic polycarbonate used in the present invention is preferably 200° C. or higher in order to obtain a highly heat resistant film, and more preferably 230° C. or higher. These can be obtained by appropriately selecting the copolymerization component. The glass transition temperature can be measured by a DSC device (differential scanning calorimetry device), and for example, RDC220 manufactured by Seiko Instruments Inc., which is obtained under a temperature rising condition of 10° C./min, is a baseline. It is the temperature that begins to change from the low temperature side.
樹脂基材の作製に適用する熱可塑性樹脂は、偏光板に加工する際の適性から、セルロースアシレートが好ましい。位相差を低減しやすく、耐湿性や耐熱性をバランスさせやすい点では、セルロースアシレートとアクリル系樹脂の併用も好ましい。耐湿性を高めやすい点では、アクリル系樹脂やシクロオレフィン系樹脂が好ましい。さらに透明度や強度の観点からは、ポリカーボネート系樹脂が好ましい。 The thermoplastic resin applied to the production of the resin base material is preferably cellulose acylate from the viewpoint of suitability for processing into a polarizing plate. A combination of cellulose acylate and an acrylic resin is also preferable from the viewpoint of easily reducing the phase difference and easily balancing the moisture resistance and the heat resistance. Acrylic resins and cycloolefin resins are preferable from the viewpoint of easily increasing the moisture resistance. Further, from the viewpoint of transparency and strength, polycarbonate resin is preferable.
樹脂基材における熱可塑性樹脂の含有量は、樹脂基材の全質量に対して５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上とし得る。 The content of the thermoplastic resin in the resin substrate may be 50% by mass or more, preferably 70% by mass or more, based on the total mass of the resin substrate.
(樹脂基材に用いるその他の添加剤）
本発明に係る樹脂基材には、必要に応じて、上記以外の他の成分をさらに含んでもよい。他の成分の例には、紫外線吸収剤、可塑剤、酸化防止剤及びマット剤等が挙げられる。
(Other additives used for resin base materials)
The resin base material according to the present invention may further contain components other than those described above, if necessary. Examples of other components include ultraviolet absorbers, plasticizers, antioxidants and matting agents.
〈紫外線吸収剤〉
紫外線吸収剤は、樹脂基材の耐候性を向上させる目的で添加され得る。そのような紫外線吸収剤の例には、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、及びトリアジン系紫外線吸収剤が含まれる。
<Ultraviolet absorber>
The ultraviolet absorber may be added for the purpose of improving the weather resistance of the resin base material. Examples of such UV absorbers include benzotriazole-based UV absorbers, benzophenone-based UV absorbers, salicylate-based UV absorbers, cyanoacrylate-based UV absorbers, and triazine-based UV absorbers.
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例には、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノールが含まれる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の市販品の例には、ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、ＴＩＮＵＶＩＮ２３４、ＴＩＮＵＶＩＮ３２６、ＴＩＮＵＶＩＮ３２７、ＴＩＮＵＶＩＮ３２８、ＴＩＮＵＶＩＮ９２８（以上、ＢＡＳＦ社製）等のＴＩＮＵＶＩＮシリーズがあり、これらはいずれもＢＡＳＦ社製の市販品である。 Examples of the benzotriazole-based ultraviolet absorber include 5-chloro-2-(3,5-di-sec-butyl-2-hydroxylphenyl)-2H-benzotriazole and (2-2H-benzotriazol-2-yl). )-6-(Straight and side chain dodecyl)-4-methylphenol. Examples of commercially available benzotriazole type ultraviolet absorbers include TINUVIN109, TINUVIN171, TINUVIN234, TINUVIN326, TINUVIN327, TINUVIN328, TINUVIN928 (above, manufactured by BASF) and the like, all of which are commercially available from BASF. It is a product.
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例には、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等が含まれる。 Examples of the benzophenone-based UV absorber include 2-hydroxy-4-benzyloxybenzophenone, 2,4-benzyloxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-. Sulfobenzophenone, bis(2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylphenylmethane) and the like are included.
サリチル酸エステル系紫外線吸収剤の例には、フェニルサリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルサリシレート等が含まれる。 Examples of salicylic acid ester-based UV absorbers include phenyl salicylate, p-tert-butyl salicylate, and the like.
シアノアクリレート系紫外線吸収剤の例には、２′−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、エチル−２−シアノ−３−（３′，４′−メチレンジオキシフェニル）−アクリレート等が含まれる。 Examples of the cyanoacrylate-based ultraviolet absorber are 2'-ethylhexyl-2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, ethyl-2-cyano-3-(3',4'-methylenedioxyphenyl)-acrylate, and the like. Is included.
トリアジン系紫外線吸収剤の例には、２−（２′−ヒドロキシ−４′−ヘキシルオキシフェニル）−４，６−ジフェニルトリアジン等が含まれる。トリアジン系紫外線吸収剤の市販品の例には、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７（ＢＡＳＦ社製）が含まれる。 Examples of the triazine-based ultraviolet absorber include 2-(2'-hydroxy-4'-hexyloxyphenyl)-4,6-diphenyltriazine and the like. Examples of commercially available triazine-based UV absorbers include TINUVIN 477 (manufactured by BASF).
これらの中でも、良好な紫外線吸収能を有する点では、トリアジン系の紫外線吸収剤が好ましいが、延伸によって位相差を発現しやすい傾向がある。したがって、延伸により位相差を発現しにくく、かつ良好な紫外線吸収性能を有する点では、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤及びベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤がより好ましい。 Among these, the triazine-based UV absorbers are preferable in that they have a good UV-absorbing ability, but they tend to exhibit a retardation by stretching. Therefore, the benzotriazole-based UV absorber and the benzophenone-based UV absorber are preferable, and the benzotriazole-based UV absorber is more preferable, in that the retardation hardly occurs due to stretching and the UV absorbing performance is good.
紫外線吸収剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して０．１〜１０質量％の範囲内であることが好ましい。紫外線吸収剤の含有量が熱可塑性樹脂の全質量に対して０．１質量％以上であれば、樹脂基材の耐候性を十分に高めうる。紫外線吸収剤の含有量が熱可塑性樹脂の全質量に対して１０質量％以下であれば、得られる樹脂基材の透明性が損なわれ難い。紫外線吸収剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して０．５〜１０質量％であることがより好ましく、１．５〜５質量％であることがさらに好ましい。 The content of the ultraviolet absorber is preferably within the range of 0.1 to 10 mass% with respect to the total mass of the thermoplastic resin. When the content of the ultraviolet absorber is 0.1% by mass or more based on the total mass of the thermoplastic resin, the weather resistance of the resin base material can be sufficiently enhanced. When the content of the ultraviolet absorber is 10% by mass or less based on the total mass of the thermoplastic resin, the transparency of the obtained resin base material is hard to be impaired. The content of the ultraviolet absorber is more preferably 0.5 to 10% by mass, further preferably 1.5 to 5% by mass, based on the total mass of the thermoplastic resin.
（可塑剤）
可塑剤の例には、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤（フタル酸エステル系可塑剤を含む）、グリコレート系可塑剤、エステル系可塑剤（脂肪酸エステル系可塑剤を含む）、及びアクリル系可塑剤等が含まれる。保護フィルムに含まれる可塑剤は、１種類であってもよいし、２種類以上を組み合わせてもよい。中でも、熱可塑性樹脂と相溶しやすく、良好な可塑性が得られやすい点から、ポリエステル系可塑剤が好ましい。
(Plasticizer)
Examples of plasticizers include polyester plasticizers, polyhydric alcohol ester plasticizers, polycarboxylic acid ester plasticizers (including phthalic acid ester plasticizers), glycolate plasticizers, ester plasticizers ( Fatty acid ester-based plasticizers), acrylic plasticizers, and the like. The plasticizer contained in the protective film may be one kind or a combination of two or more kinds. Among them, polyester-based plasticizers are preferable because they are easily compatible with the thermoplastic resin and good plasticity is easily obtained.
ポリエステル系可塑剤は、下記式（Ｉ）で表されるであることが好ましい。下記式（Ｉ）のｎは、１以上の整数を表す。 The polyester plasticizer is preferably represented by the following formula (I). N in the following formula (I) represents an integer of 1 or more.
式（Ｉ）：Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
式（Ｉ）におけるＡは、炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸から誘導される基、アルケニレンジカルボン酸から誘導される基、又は炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸から誘導される基を表す。
Formula (I): B-(GA) n -GB
A in the formula (I) represents a group derived from an alkylenedicarboxylic acid having 4 to 12 carbon atoms, a group derived from an alkenylene dicarboxylic acid, or a group derived from an aryl dicarboxylic acid having 6 to 12 carbon atoms.
アルキレンジカルボン酸から誘導される基の例には、１，２−エタンジカルボン酸（コハク酸）、１，３−プロパンジカルボン酸（グルタル酸）、１，４−ブタンジカルボン酸（アジピン酸）、１，５−ペンタンジカルボン酸（ピメリン酸）、１，８−オクタンジカルボン酸（セバシン酸）等が含まれる。アルケニレンジカルボン酸から誘導される基の例には、マレイン酸、フマル酸等から誘導される基が含まれる。アリールジカルボン酸から誘導される基の例には、１，２−ベンゼンジカルボン酸（フタル酸）、１，３−ベンゼンジカルボン酸、１，４−ベンゼンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸等から誘導される基が含まれる。 Examples of groups derived from alkylenedicarboxylic acid include 1,2-ethanedicarboxylic acid (succinic acid), 1,3-propanedicarboxylic acid (glutaric acid), 1,4-butanedicarboxylic acid (adipic acid), 1 , 5-pentanedicarboxylic acid (pimelic acid), 1,8-octanedicarboxylic acid (sebacic acid) and the like are included. Examples of the group derived from alkenylene dicarboxylic acid include groups derived from maleic acid, fumaric acid and the like. Examples of the group derived from the aryldicarboxylic acid include 1,2-benzenedicarboxylic acid (phthalic acid), 1,3-benzenedicarboxylic acid, 1,4-benzenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid and the like. Induced groups are included.
Ａは、１種類であっても、２種類以上が組み合わされてもよい。中でも、Ａは、炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸から誘導される基と炭素数８〜１２のアリールジカルボン酸から誘導される基との組み合わせが好ましい。 A may be one kind or a combination of two or more kinds. Among them, A is preferably a combination of a group derived from an alkylenedicarboxylic acid having 4 to 12 carbon atoms and a group derived from an aryldicarboxylic acid having 8 to 12 carbon atoms.
式（Ｉ）におけるＧは、炭素数２〜１２のアルキレングリコールから誘導される基、炭素数６〜１２のアリールグリコールから誘導される基、又は炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコールから誘導される基を表す。 G in the formula (I) is derived from an alkylene glycol having 2 to 12 carbon atoms, a group derived from an aryl glycol having 6 to 12 carbon atoms, or an oxyalkylene glycol having 4 to 12 carbon atoms. Represents a group.
炭素数２〜１２のアルキレングリコールから誘導される基の例には、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、及び１，１２−オクタデカンジオール等から誘導される基が含まれる。 Examples of the group derived from an alkylene glycol having 2 to 12 carbon atoms include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1 ,2-propanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol (neopentyl glycol), 2 ,2-diethyl-1,3-propanediol (3,3-dimethylolpentane), 2-n-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol (3,3-dimethylolheptane), 3-methyl -1,5-Pentanediol, 1,6-hexanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2-methyl-1,8-octane Included are groups derived from diols, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 1,12-octadecanediol and the like.
炭素数６〜１２のアリールグリコールから誘導される基の例には、１，２−ジヒドロキシベンゼン（カテコール）、１，３−ジヒドロキシベンゼン（レゾルシノール）、１，４−ジヒドロキシベンゼン（ヒドロキノン）などから誘導される基が含まれる。炭素数が４〜１２のオキシアルキレングリコールから誘導される基の例には、ジエチレングルコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等から誘導される基が含まれる。 Examples of the group derived from an aryl glycol having 6 to 12 carbon atoms include 1,2-dihydroxybenzene (catechol), 1,3-dihydroxybenzene (resorcinol), and 1,4-dihydroxybenzene (hydroquinone). Included groups. Examples of the group derived from oxyalkylene glycol having 4 to 12 carbon atoms include groups derived from diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like.
Ｇは、１種類であっても、２種類以上が組み合わされてもよい。中でも、Ｇは、炭素原子数２〜１２のアルキレングリコールから誘導される基であることが好ましい。 The G may be one type or a combination of two or more types. Among them, G is preferably a group derived from alkylene glycol having 2 to 12 carbon atoms.
式（Ｉ）におけるＢは、芳香環含有モノカルボン酸又は脂肪族モノカルボン酸から誘導される基である。 B in the formula (I) is a group derived from an aromatic ring-containing monocarboxylic acid or an aliphatic monocarboxylic acid.
芳香環含有モノカルボン酸は、分子内に芳香環を含有するカルボン酸であり、芳香環がカルボキシ基と直接結合したものだけでなく、芳香環がアルキレン基等を介してカルボキシ基と結合したものも含む。芳香環含有モノカルボン酸から誘導される基の例には、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸、フェニル酢酸、３−フェニルプロピオン酸等から誘導される基が含まれる。 Aromatic ring-containing monocarboxylic acid is a carboxylic acid containing an aromatic ring in the molecule, not only those in which the aromatic ring is directly bonded to the carboxy group, but those in which the aromatic ring is bonded to the carboxy group via an alkylene group, etc. Including. Examples of groups derived from aromatic ring-containing monocarboxylic acids include benzoic acid, paratertiarybutylbenzoic acid, orthotoluic acid, metatoluic acid, paratoluic acid, dimethylbenzoic acid, ethylbenzoic acid, normal propylbenzoic acid, aminobenzoic acid. Groups derived from acids, acetoxybenzoic acid, phenylacetic acid, 3-phenylpropionic acid and the like are included.
脂肪族モノカルボン酸から誘導される基の例には、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、カプリル酸、カプロン酸、デカン酸、ドデカン酸、ステアリン酸、オレイン酸などから誘導される基が含まれる。中でも、アルキル部分の炭素数が１〜３であるアルキルモノカルボン酸から誘導される基が好ましく、アセチル基がより好ましい。 Examples of groups derived from an aliphatic monocarboxylic acid include groups derived from acetic acid, propionic acid, butanoic acid, caprylic acid, caproic acid, decanoic acid, dodecanoic acid, stearic acid, oleic acid and the like. Of these, a group derived from an alkyl monocarboxylic acid having an alkyl moiety having 1 to 3 carbon atoms is preferable, and an acetyl group is more preferable.
式（Ｉ）で表されるポリエステル系可塑剤の具体例としては、例えば、特開２０１７−２１９７６７号公報の段落（００９０）に記載の例示化合物Ｉ−１〜Ｉ−１９を挙げることができる。 Specific examples of the polyester-based plasticizer represented by the formula (I) include Exemplified Compounds I-1 to I-19 described in paragraph (0090) of JP-A-2017-219767.
ポリエステル系可塑剤の重量平均分子量は、５００〜３０００の範囲内であることが好ましい。ポリエステル系可塑剤の重量平均分子量が５００以上であると、製膜時に揮発しにくく、３０００以下であると成形性や熱可塑性樹脂との相溶性が損なわれにくい。ポリエステル系可塑剤の重量平均分子量は、６００〜２０００の範囲内であることがより好ましい。重量平均分子量は、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によって測定することができる。 The weight average molecular weight of the polyester plasticizer is preferably in the range of 500 to 3000. When the weight average molecular weight of the polyester plasticizer is 500 or more, it is difficult to volatilize during film formation, and when it is 3000 or less, moldability and compatibility with the thermoplastic resin are not easily impaired. The weight average molecular weight of the polyester plasticizer is more preferably in the range of 600 to 2000. The weight average molecular weight can be measured, for example, by gel permeation chromatography (GPC).
可塑剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して１〜４０質量％の範囲内であることが好ましい。可塑剤の含有量が熱可塑性樹脂の全質量に対して１質量％以上であると、樹脂基材を膜状物としたとき、十分に可塑化しやすく、４０質量％以下であると、樹脂基材の延伸時や保存時のブリードアウトを十分に抑制しやすい。可塑剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して１〜２０質量％の範囲内であることがより好ましく、１〜３質量％の範囲内であることがさらに好ましい。 The content of the plasticizer is preferably in the range of 1 to 40 mass% with respect to the total mass of the thermoplastic resin. When the content of the plasticizer is 1% by mass or more with respect to the total mass of the thermoplastic resin, the resin substrate is easily plasticized sufficiently when it is made into a film, and when it is 40% by mass or less, the resin group Bleed out during stretching and storage of the material can be easily suppressed. The content of the plasticizer is more preferably in the range of 1 to 20% by mass and further preferably in the range of 1 to 3% by mass with respect to the total mass of the thermoplastic resin.
（酸化防止剤）
酸化防止剤は、高湿高温下に置かれた樹脂基材の劣化を抑制する目的、具体的には、樹脂基材中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等による樹脂成分の分解を遅らせたり、抑制したりする目的で添加され得る。
(Antioxidant)
The antioxidant is for the purpose of suppressing deterioration of the resin base material placed under high humidity and high temperature, and specifically, the resin due to halogen of the residual solvent amount in the resin base material or phosphoric acid of the phosphoric acid plasticizer. It may be added for the purpose of delaying or suppressing the decomposition of components.
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、その例には、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等が含まれる。中でも、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。 As the antioxidant, a hindered phenol compound is preferably used, and examples thereof include 2,6-di-t-butyl-p-cresol and pentaerythrityl-tetrakis[3-(3,5-di). -T-Butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], triethylene glycol-bis[3-(3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl)propionate], 1,6-hexanediol-bis[3 -(3,5-Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], 2,4-bis-(n-octylthio)-6-(4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino)- 1,3,5-triazine, 2,2-thio-diethylenebis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], octadecyl-3-(3,5-di-t -Butyl-4-hydroxyphenyl)propionate, N,N'-hexamethylenebis(3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), 1,3,5-trimethyl-2,4 , 6-tris(3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)benzene, tris-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)-isocyanurate and the like. Among them, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], triethylene glycol-bis[3 -(3-t-Butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl)propionate] is preferred.
酸化防止剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して１質量ｐｐｍ〜１．０質量％の範囲内であることが好ましく、１０〜１０００質量ｐｐｍの範囲内であることがより好ましい。 The content of the antioxidant is preferably in the range of 1 mass ppm to 1.0 mass% with respect to the total mass of the thermoplastic resin, and more preferably in the range of 10 to 1000 mass ppm.
（マット剤）
マット剤（以下、微粒子ともいう。）は、樹脂基材の表面の滑り性を高める目的で添加され得る。微粒子は、無機微粒子又は有機微粒子である。無機微粒子の例には、二酸化ケイ素（シリカ）、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等の微粒子が含まれる。有機微粒子の例には、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、（メタ）アクリル系樹脂等の微粒子が含まれる。中でも、ヘイズを生じ難く、着色も少ないことから、二酸化ケイ素（シリカ）粒子が好ましい。
(Matting agent)
The matting agent (hereinafter, also referred to as fine particles) may be added for the purpose of enhancing the slipperiness of the surface of the resin base material. The fine particles are inorganic fine particles or organic fine particles. Examples of the inorganic fine particles include silicon dioxide (silica), titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, Fine particles such as magnesium silicate and calcium phosphate are included. Examples of organic fine particles include fine particles of silicone resin, fluororesin, (meth)acrylic resin, and the like. Among them, silicon dioxide (silica) particles are preferable because they hardly cause haze and are less colored.
二酸化ケイ素の微粒子の例には、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００、ＮＡＸ５０（以上、日本アエロジル（株）製）、シーホスターＫＥ−Ｐ１０、ＫＥ−Ｐ３０、ＫＥ−Ｐ５０、ＫＥ−Ｐ１００（以上、日本触媒（株）製）等が含まれる。中でも、得られるフィルムの濁度（ヘイズともいう。）を低く保ちつつ、摩擦係数を低減させやすいことから、アエロジルＲ９７２Ｖ、ＮＡＸ５０及びシーホスターＫＥ−Ｐ３０が好ましい。 Examples of fine particles of silicon dioxide include Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600, NAX50 (all manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), Seahoster KE-P10, KE-P30. , KE-P50, KE-P100 (above, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) and the like. Among them, Aerosil R972V, NAX50 and Seahoster KE-P30 are preferable because they can easily reduce the friction coefficient while keeping the turbidity (also referred to as haze) of the obtained film low.
微粒子の一次粒子径は、５〜５０ｎｍの範囲内であることが好ましく、７〜２０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。一次粒子径が大きいほうが、得られるフィルムの滑り性を高める効果は大きいが、透明性が低下しやすい。そのため、微粒子は、粒子径０．０５〜０．３μｍの二次凝集体として含有されていてもよい。微粒子の一次粒子又はその二次凝集体の大きさは、透過型電子顕微鏡にて倍率５０〜２００万倍で一次粒子又は二次凝集体を観察し、一次粒子又は二次凝集体１００個の粒子径の平均値として求めることができる。 The primary particle size of the fine particles is preferably in the range of 5 to 50 nm, more preferably in the range of 7 to 20 nm. The larger the primary particle size, the greater the effect of increasing the slipperiness of the obtained film, but the transparency tends to decrease. Therefore, the fine particles may be contained as a secondary aggregate having a particle diameter of 0.05 to 0.3 μm. The size of the primary particles of the fine particles or the secondary agglomerates thereof is 100 particles of the primary particles or the secondary agglomerates obtained by observing the primary particles or the secondary agglomerates at a magnification of 50 to 2,000,000 times with a transmission electron microscope. It can be obtained as an average value of diameters.
微粒子の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して０．０５〜１．０質量％の範囲内であることが好ましく、０．１〜０．８質量％の範囲内であることがより好ましい。 The content of the fine particles is preferably in the range of 0.05 to 1.0 mass% with respect to the total mass of the thermoplastic resin, and more preferably in the range of 0.1 to 0.8 mass %. preferable.
（樹脂基材の製造方法）
本発明に用いられる樹脂基材は、任意の方法で製造することができ、その製造工程は、例えば、（１）少なくとも前記説明した熱可塑性樹脂と溶媒とを含むドープを得る工程と、（２）得られたドープを金属支持体上に流延し、乾燥及び剥離して、フィルム状物を得る工程と、（３）得られたフィルム状物を延伸する工程等により構成されている。
(Method of manufacturing resin base material)
The resin base material used in the present invention can be produced by any method, and the production process includes, for example, (1) a step of obtaining a dope containing at least the above-described thermoplastic resin and a solvent, and (2) ) A step of casting the obtained dope on a metal support, drying and peeling the dope to obtain a film-like material, and (3) a step of stretching the obtained film-like material.
本発明に用いられる樹脂基材の製造に適用可能な製造方法としては、従来公知のフィルム製膜方法を適用することができ、例えば、特開２０１３−１２０２７８号公報、特開２０１５−０４９３３１号公報、特開２０１５−１３２６６１号公報、特開２０１７−１１１２６４号公報、特開２０１７−１２２９３６号公報、国際公開第２０１５／１４１３４０号、国際公開第２０１７／１１０４００号等に具体的に記載されている方法を適用することができる。 As a production method applicable to the production of the resin base material used in the present invention, a conventionally known film forming method can be applied, for example, JP2013-120278A and JP2015-049331A. , JP-A-2015-132661, JP-A-2017-111264, JP-A-2017-122936, International Publication No. 2015/141340, International Publication No. 2017/110400, and the like. Can be applied.
［２：赤外線吸収層］
本発明のゲートカバーでは、赤外線吸収層を有することを特徴とする。
[2: Infrared absorbing layer]
The gate cover of the present invention is characterized by having an infrared absorption layer.
さらに、本発明においては、前記赤外線吸収層が、（１）７５０〜１２００ｎｍの近赤外波長域に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物及び（２）金属酸化物系赤外線吸収剤で表される赤外線吸収剤のいずれか一方を含有することが好ましい形態である。 Further, in the present invention, the infrared absorbing layer is represented by (1) a near infrared absorbing organic compound having a maximum absorption peak in the near infrared wavelength range of 750 to 1200 nm and (2) a metal oxide infrared absorbing agent. It is a preferable form to contain either one of the infrared absorbers.
本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーは、赤外線吸収層を有することにより、赤外遮蔽能が付与され、赤外遮蔽効果の向上が可能となる。赤外線吸収層とは、波長８００〜２５００ｎｍの近赤外領域の光に対する吸収能を有する層である。また、赤外線吸収層は、他の機能を付与するため、あるいは各種特性を向上させるために、その他の添加剤を含んでいてもよい。 Since the head-up display gate cover of the present invention has the infrared absorbing layer, the infrared shielding ability is imparted and the infrared shielding effect can be improved. The infrared absorption layer is a layer having an absorption ability for light in the near infrared region having a wavelength of 800 to 2500 nm. Further, the infrared absorption layer may contain other additives in order to impart other functions or improve various characteristics.
（光波長７５０〜１２００ｎｍの範囲内に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物）
本発明に係る光波長７５０〜１２００ｎｍの範囲内に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物としては、以下の化合物を挙げることができる。
(Near infrared absorbing organic compound having a maximum absorption peak in the light wavelength range of 750 to 1200 nm)
Examples of the near-infrared absorbing organic compound having a maximum absorption peak in the light wavelength range of 750 to 1200 nm according to the present invention include the following compounds.
本発明に適用可能な近赤外線吸収性有機化合物としては、例えば、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、ポリメチン系色素（シアニン系、オキソノール系、クロコニウム系、スクアリリウム系、ピリリウム系、アズレヌウム系）、ジチオール錯塩系化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、トリアリルメタン系色素、インモニウム系色素、ジインモニウム系色素、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物、などが挙げられる。 Examples of the near infrared absorbing organic compound applicable to the present invention include nitroso compounds and metal complex salts thereof, polymethine dyes (cyanine type, oxonol type, croconium type, squarylium type, pyrylium type, azrenium type), dithiol complex salt type Examples thereof include compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, triallylmethane dyes, immonium dyes, diimmonium dyes, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, amino compounds and aminium salt compounds.
この中でも、インモニウム系色素、ジインモニウム系色素、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物、ポリメチン系色素、又はトリアリルメタン系色素が好ましく、より好ましくはインモニウム系色素、ジインモニウム系色素、アミニウム塩系化合物、ポリメチン系色素、又はトリアリルメタン系色素であり、さらに好ましくはインモニウム系色素、ジインモニウム系色素、又はポリメチン系色素であり、特に、ジインモニウム系色素又はポリメチン系色素が好ましい。ポリメチン系色素の中ではクロコニウム系、スクアリリウム系、ピリリウム系のポリメチン色素が好ましい。 Among these, immonium dyes, diimmonium dyes, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, amino compounds, aminium salt compounds, polymethine dyes, or triallylmethane dyes are preferred, more preferably immonium dyes, diimmonium. Dyes, aminium salt compounds, polymethine dyes, or triallylmethane dyes, more preferably immonium dyes, diimmonium dyes, or polymethine dyes, especially diimmonium dyes or polymethine dyes preferable. Among the polymethine dyes, croconium dyes, squarylium dyes and pyrylium dyes are preferred.
ジインモニウム塩系化合物は、市販品を用いることができる。例えば、Ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲＧ−０２２、ＩＲＧ−０２３、ＩＲＧ−０２４（以上、日本化薬社製）、ＣＩＲ−１０８０、ＣＩＲ−１０８１、ＣＩＲ−１０８３、ＣＩＲ−１０８５（以上、日本カーリット社製）などが好適である。 A commercially available product can be used as the diimmonium salt compound. For example, Kayasorb IRG-022, IRG-023, IRG-024 (above, Nippon Kayaku Co., Ltd.), CIR-1080, CIR-1081, CIR-1083, CIR-1085 (above, Nippon Carlit Co., Ltd.) etc. are suitable. Is.
好適に使用できる近赤外線吸収色素の具体例としては、例えば、特開２００４−９３７６７号、特開２００４−６９７５９号、特開２００２−２８６９３１号、特開２００２−１２２７２９号、特開２００１−１１５０５０号、特開２００１−１１５０５０号、特開２０００−１６２４３１号、特開平１１−１０９１２６号、特開２００６−１３９３１１号の各公報に記載のものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されることは無い。 Specific examples of the near-infrared absorbing dye that can be preferably used include, for example, JP-A 2004-93767, JP-A 2004-69759, JP-A 2002-286931, JP-A 2002-122729, and JP-A 2001-115050. , JP-A-2001-115050, JP-A-2000-162431, JP-A-11-109126, and JP-A-2006-13311, but the present invention is not limited thereto. There is no such thing.
〈極大吸収ピークの測定〉
本発明に係る近赤外線吸収性有機化合物の極大吸収ピークは、例えば、分光光度計Ｕ−４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）等の赤外分光吸収の測定が可能な機器を用いて測定することができる。測定溶媒は、例えば、メタノール、ジメチルスルホオキシド、ジアセトンアルコール、１，２−ジクロロエタン、トルエン、メチルエチルケトン等を用いることができる。
<Measurement of maximum absorption peak>
The maximum absorption peak of the near-infrared absorbing organic compound according to the present invention can be measured using a device capable of measuring infrared spectral absorption such as a spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). it can. As the measurement solvent, for example, methanol, dimethyl sulfoxide, diacetone alcohol, 1,2-dichloroethane, toluene, methyl ethyl ketone, or the like can be used.
（金属酸化物系赤外線吸収剤）
本発明に適用可能な金属酸化物系赤外線吸収剤としては、酸化スズ、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、セシウムドープ酸化タングステン（ＣＷＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）及びアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、六ホウ素化ランタン（ＬａＢ６）、酸化亜鉛、インジウムドープト酸化亜鉛（ＩＺＯ）、ニッケル錯体系化合物等が挙げられるが、特に、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、セシウムドープ酸化タングステン（ＣＷＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）及びアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
(Metal oxide infrared absorber)
Examples of the metal oxide infrared absorber applicable to the present invention include tin oxide, tin-doped indium oxide (ITO), cesium-doped tungsten oxide (CWO), antimony-doped tin oxide (ATO), gallium-doped zinc oxide (GZO) and Examples thereof include aluminum-doped zinc oxide (AZO), lanthanum hexaboride (LaB 6 ), zinc oxide, indium-doped zinc oxide (IZO), and nickel complex compounds, but in particular, tin-doped indium oxide (ITO) and cesium-doped. At least one selected from tungsten oxide (CWO), antimony-doped tin oxide (ATO), gallium-doped zinc oxide (GZO), and aluminum-doped zinc oxide (AZO) is preferable.
また、これらの金属酸化物系赤外線吸収剤は、市販品として入手することもでき、例えば、酸化亜鉛系としては、セルナックスシリーズ（日産化学工業社製）、パゼットシリーズ（ハクスイテック社製）；酸化錫系としては、ＡＴＯ分散液（ＳＲ３５Ｍ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｎａｎｏ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ社製）、ＩＴＯ分散液（三菱マテリアル電子化成社製）、ＫＨシリーズ（住友金属鉱山社製）；セシウムドープト酸化タングステン系としてはＣＷＯ分散液（ＹＭＦ−０２Ａ 住友金属鉱山社製）；六ホウ素化ランタン系としては、ＬａＢ６分散液（ＫＨＦ−７ＡＨ 住友金属鉱山社製）等が挙げられる。なお、金属酸化物系赤外線吸収剤としては、赤外線吸収層中の鉄、銅及びクロムの濃度（含有量）を容易に制御するため、これらの特定の金属を含まないものが好ましい。 In addition, these metal oxide infrared absorbers can also be obtained as commercial products. For example, as zinc oxide, Cellunax series (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), Pazette series (manufactured by Hakusui Tech); As the tin oxide type, ATO dispersion liquid (manufactured by SR35M Advanced Nano Products Co., Ltd.), ITO dispersion liquid (manufactured by Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd.), KH series (manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.); CWO dispersion as a cesium-doped tungsten oxide system. Liquid (YMF-02A manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.); examples of the lanthanum hexaboride system include LaB 6 dispersion liquid (KHF-7AH manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.). In addition, as the metal oxide infrared absorber, those which do not contain these specific metals are preferable in order to easily control the concentration (content) of iron, copper and chromium in the infrared absorption layer.
さらに、金属酸化物系赤外線吸収剤として、Ｃｄ／Ｓｅ、ＧａＮ、Ｙ２Ｏ３、Ａｕ、Ａｇなどからなるものも用いることができる。 Further, as the metal oxide infrared absorber, one made of Cd/Se, GaN, Y 2 O 3 , Au, Ag or the like can be used.
金属酸化物系赤外線吸収剤の平均粒径としては、５〜１５０ｎｍの範囲内であることが好ましく、１０〜１２０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。平均粒径が５ｎｍ以上であれば、赤外線吸収層を形成するのに用いるバインダー樹脂中での分散性や、赤外線吸収性を良好に保持することができ、１５０ｎｍ以下とすることにより、可視光線透過率の低下を抑制することができる。なお、平均粒径の測定は、透過型電子顕微鏡により撮像し、無作為に、例えば５０個の粒子を抽出して該粒子径を測定し、これを平均したものである。また、粒子の形状が球形でない場合には、同一面積の円相当に換算した際の直径を測定して算出するものと定義する。 The average particle size of the metal oxide infrared absorber is preferably in the range of 5 to 150 nm, more preferably 10 to 120 nm. When the average particle size is 5 nm or more, the dispersibility in the binder resin used for forming the infrared absorbing layer and the infrared absorbing property can be favorably maintained. The decrease in the rate can be suppressed. The average particle size is measured by taking an image with a transmission electron microscope, randomly extracting, for example, 50 particles, measuring the particle size, and averaging the measured values. Further, when the shape of the particles is not spherical, it is defined to be calculated by measuring the diameter when converted into a circle equivalent of the same area.
（赤外線吸収層形成用バインダー樹脂）
本発明において、赤外線吸収層は、上記説明した赤外線吸収剤と共に、バインダー樹脂を含有することが好ましい。本発明に係る赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収層は、ゲートカバーを構成する場合、隣接層間における粘着層としての機能も付与させる観点から、当該バインダー樹脂としては、粘着性のバインダー樹脂も用いることが好ましい。
(Binder resin for forming infrared absorption layer)
In the present invention, the infrared absorbing layer preferably contains a binder resin together with the infrared absorbing agent described above. When the infrared absorbing layer containing the infrared absorbing agent according to the present invention constitutes a gate cover, from the viewpoint of imparting a function as an adhesive layer between adjacent layers, an adhesive binder resin may also be used as the binder resin. Is preferred.
バインダー樹脂としては、環境負荷・工程負荷を低減するという観点からは、水溶性の粘着性樹脂であることが好ましい。水溶性の粘着性樹脂としては、特に制限されないが、ポリビニルアルコール系樹脂、ゼラチン、セルロース類、増粘多糖類、及び反応性官能基を有するポリマーが挙げられる。なお、本発明でいう「水溶性」とは、物質が最も溶解する温度で、０．５質量％の濃度となるように水に溶解させた際、Ｇ２グラスフィルタ（最大細孔４０〜５０μｍ）で濾過した場合に、濾別される不溶物の質量が、加えた高分子の５０質量％以内であることを意味する。 The binder resin is preferably a water-soluble adhesive resin from the viewpoint of reducing environmental load and process load. The water-soluble adhesive resin is not particularly limited, and examples thereof include polyvinyl alcohol resins, gelatin, celluloses, thickening polysaccharides, and polymers having a reactive functional group. The term "water-soluble" as used in the present invention means that the G2 glass filter (maximum pore size is 40 to 50 µm) when dissolved in water at a temperature at which the substance is most dissolved to have a concentration of 0.5% by mass. It means that the mass of the insoluble matter separated by filtration is within 50 mass% of the added polymer.
更に、ゲートカバーの湿度変動の影響が小さくなるという観点からは、有機溶媒溶解性の粘着性樹脂を含有することが好ましい。有機溶媒溶解性の粘着性樹脂としては、特に制限されないが、アクリル樹脂、ウレタン変性アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ポリ酢酸ビニル、酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリブチラール、ポリアミド（ナイロン）樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ＡＢＳ樹脂、ニトリルゴム、ポリフッ化ビニリデン等が挙げられる。 Further, from the viewpoint of reducing the influence of humidity fluctuation of the gate cover, it is preferable to contain an organic solvent-soluble adhesive resin. The organic solvent-soluble adhesive resin is not particularly limited, but acrylic resin, urethane-modified acrylic resin, polyurethane resin, polyester resin, melamine resin, polyvinyl acetate, cellulose acetate, polycarbonate, polyacetal, polybutyral, polyamide (nylon) ) Resin, polystyrene resin, polyimide resin, ABS resin, nitrile rubber, polyvinylidene fluoride and the like.
（赤外線吸収層形成用塗布液の溶媒）
本発明おいて、赤外線吸収層の形成において、赤外線吸収層形成用塗布液の調製に用いる溶媒としては、バインダー樹脂成分や赤外線吸収剤を十分に分散や溶解することができるものであれば、特に限定されず、種々の有機溶媒や水系溶媒を用いることができる。
(Solvent of coating solution for forming infrared absorbing layer)
In the present invention, in the formation of the infrared absorbing layer, the solvent used for preparing the coating liquid for forming the infrared absorbing layer is preferably a solvent that can sufficiently disperse or dissolve the binder resin component and the infrared absorbing agent. It is not limited, and various organic solvents and aqueous solvents can be used.
本発明に適用可能な有機溶媒としては、特に制限されないが、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミドなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でも又は２種以上混合して用いてもよい。上記有機溶媒の中でも、樹脂や赤外線吸収剤の分散性を考慮すると、エステル類、エーテル類、ケトン類を用いると好ましく、ケトン類を用いるとさらに好ましい。 The organic solvent applicable to the present invention is not particularly limited, but examples thereof include alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol and i-propanol, esters such as ethyl acetate, butyl acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate, Examples thereof include ethers such as diethyl ether and propylene glycol monomethyl ether, amides such as dimethylformamide, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more. Among the above organic solvents, considering the dispersibility of the resin and the infrared absorber, it is preferable to use esters, ethers and ketones, and more preferable to use ketones.
（赤外線吸収剤のその他の添加剤）
本発明に係る赤外線吸収層には、上記説明した以外の添加剤としては、アミノ酸、エマルジョン樹脂、リチウム化合物等が挙げられる。また、特開昭５７−７４１９３号公報、特開昭５７−８７９８８号公報、特開昭６２−２６１４７６号公報等に記載の紫外線吸収剤；特開昭５７−７４１９２号、特開昭５７−８７９８９号公報、特開昭６０−７２７８５号公報、特開昭６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報、特開平３−１３３７６号公報等に記載の退色防止剤；特開昭５９−４２９９３号公報、特開昭５９−５２６８９号公報、特開昭６２−２８００６９号公報、特開昭６１−２４２８７１号公報、特開平４−２１９２６６号公報等に記載の蛍光増白剤；硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤；消泡剤；ジエチレングリコール等の潤滑剤；防腐剤；防黴剤；帯電防止剤；マット剤；熱安定剤；酸化防止剤；難燃剤；結晶核剤；無機粒子；有機粒子；減粘剤；滑剤等の公知の各種添加剤等が、本発明の目的効果を損なわない範囲で使用されてもよい。
(Other additives of infrared absorber)
Examples of additives other than those described above for the infrared absorbing layer according to the present invention include amino acids, emulsion resins and lithium compounds. Further, ultraviolet absorbers described in JP-A-57-74193, JP-A-57-87988, JP-A-62-261476 and the like; JP-A-57-74192 and 57-87989. Anti-fading agents described in JP-A No. 60-72785, JP-A No. 61-146591, JP-A No. 1-95091, JP-A No. 3-13376, etc.; Fluorescent brighteners described in JP-A-59-52689, JP-A-62-280069, JP-A-61-242871 and JP-A-4-219266; sulfuric acid, phosphoric acid , PH adjusting agents such as acetic acid, citric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide and potassium carbonate; antifoaming agents; lubricants such as diethylene glycol; preservatives; antifungal agents; antistatic agents; matting agents; heat stabilizers; Various known additives such as antioxidants, flame retardants, crystal nucleating agents, inorganic particles, organic particles, viscosity reducing agents, lubricants and the like may be used within a range that does not impair the intended effects of the present invention.
（赤外線吸収層の形成）
本発明に係る赤外線吸収層の形成方法としては、特に制限はないが、湿式塗布法により形成することが好ましく、例えば、ロールコート法、フローコート法、スプレーコート法、プリント法、ディップコート法、バーコート法、流延成膜法、インクジェット・プリント法、グラビア印刷法等が挙げられる。
(Formation of infrared absorption layer)
The method for forming the infrared absorbing layer according to the present invention is not particularly limited, but it is preferably formed by a wet coating method, for example, a roll coating method, a flow coating method, a spray coating method, a printing method, a dip coating method, A bar coating method, a casting film forming method, an inkjet printing method, a gravure printing method and the like can be mentioned.
［３：赤外線反射層］
本発明のゲートカバーにおいて、上記説明した赤外線吸収層とともに、赤外線反射層を有することを特徴とする。
[3: Infrared reflective layer]
The gate cover of the present invention is characterized by having an infrared reflection layer in addition to the infrared absorption layer described above.
また、赤外線反射層が、誘電体多層膜であること、さらには、誘電体多層膜が無機微粒子を含有していることが好ましい形態である。 In addition, it is a preferable mode that the infrared reflective layer is a dielectric multilayer film, and further that the dielectric multilayer film contains inorganic fine particles.
以下、本発明に係る赤外線反射層の好ましい態様である誘電体多層膜の詳細について説明する。 Hereinafter, details of the dielectric multilayer film which is a preferred embodiment of the infrared reflective layer according to the present invention will be described.
〔誘電体多層膜〕
本発明のゲートカバーにおいては、赤外線反射層として、特定の波長を有する赤外光が入射した場合に、少なくともこの赤外光の一部を反射して、遮熱効果を発揮するため、低屈折率層と高屈折率層とが交互に多層積層されて構成の誘電体多層膜を有することが好ましい。
[Dielectric multilayer film]
In the gate cover of the present invention, as the infrared reflective layer, when infrared light having a specific wavelength is incident, at least a part of the infrared light is reflected to exert a heat shielding effect, and thus, has a low refractive index. It is preferable to have a dielectric multilayer film in which a refractive index layer and a high refractive index layer are alternately laminated in multiple layers.
本発明に係る誘電体多層膜において、誘電体多層膜を構成する屈折率層が、低屈折率層であるか高屈折率層であるかは、隣接する屈折率層間での屈折率の対比によって判断される。具体的には、ある屈折率層を基準層としたとき、当該基準層に隣接する屈折率層が基準層より屈折率が低ければ、基準層は高屈折率層であり、隣接層は低屈折率層となる。一方、基準層より隣接層の屈折率が高ければ、基準層は低屈折率層であり、隣接層が高屈折率層となる。したがって、屈折率層が高屈折率層であるか低屈折率層であるかは、隣接層が有する屈折率との関係で定まる相対的なものであり、ある屈折率層は、隣接層との関係によって高屈折率層にも低屈折率層にもなりうる。 In the dielectric multilayer film according to the present invention, whether the refractive index layer forming the dielectric multilayer film is a low refractive index layer or a high refractive index layer depends on the comparison of the refractive index between the adjacent refractive index layers. To be judged. Specifically, when a refractive index layer is used as a reference layer and the refractive index layer adjacent to the reference layer has a lower refractive index than the reference layer, the reference layer is a high refractive index layer and the adjacent layer has a low refractive index. Become a stratum. On the other hand, when the refractive index of the adjacent layer is higher than that of the reference layer, the reference layer is the low refractive index layer and the adjacent layer is the high refractive index layer. Therefore, whether the refractive index layer is a high refractive index layer or a low refractive index layer is a relative one determined by the relationship with the refractive index of the adjacent layer, and a certain refractive index layer is different from the adjacent layer. Depending on the relationship, it can be a high refractive index layer or a low refractive index layer.
屈折率層としては、特に制限はないが、好ましくは当該技術分野において用いられる公知の屈折率層を用いることが好ましい。公知の屈折率層としては、例えば、乾式製膜法を用いて形成する屈折率層と、樹脂の押出成形によって形成される屈折率層と、湿式製膜法を用いて形成する屈折率層とが挙げられる。なかでも、製造効率の観点から、屈折率層の形成方法としては、湿式製膜法を適用することが好ましい。 The refractive index layer is not particularly limited, but it is preferable to use a known refractive index layer used in the art. As the known refractive index layer, for example, a refractive index layer formed by a dry film forming method, a refractive index layer formed by extrusion molding of a resin, and a refractive index layer formed by a wet film forming method. Is mentioned. Among them, from the viewpoint of manufacturing efficiency, it is preferable to apply the wet film forming method as the method of forming the refractive index layer.
以下、湿式製膜法で形成することができる屈折率層のうち、代表的な高屈折率層及び低屈折率層の構成について説明する。 Hereinafter, of the refractive index layers that can be formed by the wet film formation method, typical configurations of the high refractive index layer and the low refractive index layer will be described.
（湿式製膜法を用いた屈折率層積層体の形成）
湿式成膜法では、屈折率層形成用塗布液を単層ずつ順次塗布・乾燥して、積層体を形成する方法、又は、複数種の屈折率層形成用塗布液を用い、同時重層塗布・乾燥により、積層体を形成する方法等により、複数の屈折率層が積層された屈折率積層体を形成することができる。本発明に係る誘電体多層膜は、この湿式製膜法によって、低屈折率層及び高屈折率層を積層して形成する方法が好ましい。
(Formation of refractive index layer laminate using wet film formation method)
In the wet film forming method, a coating solution for forming a refractive index layer is sequentially applied and dried for each single layer to form a laminated body, or a coating solution for forming a refractive index layer of a plurality of types is used to perform simultaneous multilayer coating. A refractive index laminated body in which a plurality of refractive index layers are laminated can be formed by a method of forming a laminated body by drying or the like. The dielectric multilayer film according to the present invention is preferably formed by laminating a low refractive index layer and a high refractive index layer by this wet film forming method.
（高屈折率層）
高屈折率層は、屈折率の制御が容易になるという観点から、好ましくは金属酸化物粒子を含み、その他必要に応じて、水溶性樹脂、硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤を含んでもよい。なお、高屈折率層に含まれる金属酸化物粒子及び水溶性樹脂を、便宜上、以下では「第１の金属酸化物粒子」及び「第１の水溶性樹脂」とそれぞれ称する。
(High refractive index layer)
From the viewpoint of easy control of the refractive index, the high refractive index layer preferably contains metal oxide particles, and optionally contains a water-soluble resin, a curing agent, a surfactant, and other additives. But it's okay. The metal oxide particles and the water-soluble resin contained in the high refractive index layer are hereinafter referred to as “first metal oxide particles” and “first water-soluble resin”, respectively, for convenience.
（１）第１の金属酸化物粒子
第１の金属酸化物粒子としては、特に制限されないが、屈折率が２．０〜３．０の範囲内にある金属酸化物粒子であることが好ましい。具体的には、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズなどが挙げられる。これらのうち、第１の金属酸化物粒子としては、透明で屈折率の高い高屈折率層を形成することができる観点から、酸化チタン、酸化ジルコニウムであることが好ましく、また、耐候性向上の観点からルチル型（正方晶形）酸化チタンであることがより好ましい。
(1) First Metal Oxide Particles The first metal oxide particles are not particularly limited, but are preferably metal oxide particles having a refractive index in the range of 2.0 to 3.0. Specifically, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, alumina, colloidal alumina, lead titanate, red lead, yellow lead, zinc yellow, chromium oxide, ferric oxide, iron black, copper oxide, magnesium oxide, water. Examples thereof include magnesium oxide, strontium titanate, yttrium oxide, niobium oxide, europium oxide, lanthanum oxide, zircon and tin oxide. Among these, the first metal oxide particles are preferably titanium oxide or zirconium oxide, from the viewpoint of being able to form a transparent high refractive index layer having a high refractive index, and also for improving weather resistance. From the viewpoint, rutile type (tetragonal type) titanium oxide is more preferable.
また、酸化チタンは、含ケイ素の水和酸化物で被覆されたコア・シェル粒子の形態であってもよい。当該コア・シェル粒子は、酸化チタン粒子の表面を、コアとなる酸化チタンに含ケイ素の水和酸化物からなるシェルが被覆してなる構造を有する。 Further, the titanium oxide may be in the form of core/shell particles coated with a silicon-containing hydrated oxide. The core-shell particles have a structure in which the surface of titanium oxide particles is coated with a shell made of hydrated oxide of silicon-containing titanium oxide serving as a core.
上述の第１の金属酸化物粒子は、単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。 The above-mentioned first metal oxide particles may be used alone or in combination of two or more.
第１の金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層との屈折率差が大きくなる観点から、高屈折率層の固形分１００質量％に対して、１５〜８５質量％の範囲内であることが好ましく、２０〜８０質量％の範囲内であることがより好ましく、３０〜７７質量％の範囲内であることが特に好ましい。 The content of the first metal oxide particles is within the range of 15 to 85 mass% with respect to 100 mass% of the solid content of the high refractive index layer, from the viewpoint that the refractive index difference with the low refractive index layer becomes large. It is preferable that it is in the range of 20 to 80% by mass, and it is particularly preferable that it is in the range of 30 to 77% by mass.
また、第１の金属酸化物粒子は、体積平均粒径が１〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましく、３〜５０ｎｍの範囲内であることがさらに好ましい。体積平均粒径が１ｎｍ以上であれば安定して微粒子を形成することができ、１００ｎｍ以下であると、ヘイズが少なく可視光透過性に優れることから好ましい。なお、本発明において、「体積平均粒径」の値は、以下の方法によって測定した値を採用するものとする。具体的には、屈折率層の断面や表面に現れた任意の１０００個の金属酸化物粒子を電子顕微鏡で観察して粒径を測定し、それぞれｄ１、ｄ２・・・ｄｉ・・・ｄｋの粒径を持つ粒子がそれぞれｎ１、ｎ・・・ｎｉ・・・ｎｋ個存在する金属酸化物粒子の集団において、粒子１個当りの体積をｖｉとした場合に、体積平均粒径ｍｖ＝｛Σ（ｖｉ・ｄｉ）｝／｛Σ（ｖｉ）｝で表される体積で重み付けされた平均粒径を算出する。 The volume average particle diameter of the first metal oxide particles is preferably within the range of 1 to 100 nm, more preferably within the range of 3 to 50 nm. When the volume average particle size is 1 nm or more, fine particles can be stably formed, and when the volume average particle size is 100 nm or less, haze is small and visible light transmittance is excellent, which is preferable. In the present invention, the value of “volume average particle diameter” shall be the value measured by the following method. Specifically, the particle diameters of 1000 arbitrary metal oxide particles appearing on the cross section and surface of the refractive index layer are observed by an electron microscope to measure the particle diameters of d1, d2...di...dk, respectively. In a group of metal oxide particles having n1, n... Ni... nk particles each having a particle size, when the volume per particle is vi, the volume average particle size mv={Σ A volume-weighted average particle size represented by (vi·di)}/{Σ(vi)} is calculated.
（２）第１の水溶性樹脂
第１の水溶性樹脂としては、特に制限されないが、ポリビニルアルコール系樹脂、ゼラチン、セルロース類、増粘多糖類、及び反応性官能基を有するポリマーが用いることができる。これらのうち、ポリビニルアルコール系樹脂を用いることが好ましい。
(2) First Water-Soluble Resin The first water-soluble resin is not particularly limited, but polyvinyl alcohol resins, gelatin, celluloses, thickening polysaccharides, and polymers having a reactive functional group may be used. it can. Of these, it is preferable to use a polyvinyl alcohol-based resin.
〈ポリビニルアルコール系樹脂〉
前記ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコール（未変性ポリビニルアルコール）、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマー等の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。なお、変性ポリビニルアルコールにより、膜の密着性、耐水性、柔軟性が改良される場合がある。
<Polyvinyl alcohol resin>
Examples of the polyvinyl alcohol-based resin include ordinary polyvinyl alcohol (unmodified polyvinyl alcohol) obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate, cation-modified polyvinyl alcohol, anion-modified polyvinyl alcohol, nonion-modified polyvinyl alcohol, vinyl alcohol-based polymer and the like. Modified polyvinyl alcohol is mentioned. The modified polyvinyl alcohol may improve the adhesion, water resistance and flexibility of the film.
〈ゼラチン〉
ゼラチンとしては、従来、ハロゲン化銀写真感光材料分野で広く用いられてきた各種ゼラチンを適用することができる。例えば、酸処理ゼラチン、アルカリ処理ゼラチン、ゼラチンの製造過程で酵素処理をする酵素処理ゼラチン、分子中に官能基としてのアミノ基、イミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基を有し、それと反応し得る基を持った試薬で処理し改質したゼラチン誘導体等が挙げられる。
<gelatin>
As the gelatin, various gelatins that have been widely used in the field of silver halide photographic light-sensitive materials can be applied. For example, acid-processed gelatin, alkali-processed gelatin, enzyme-processed gelatin that is enzymatically processed in the production process of gelatin, a group having an amino group, an imino group, a hydroxyl group or a carboxyl group as a functional group in a molecule and capable of reacting with it. Examples include gelatin derivatives that have been modified by treatment with a reagent having
なお、ゼラチンを用いる場合、必要に応じてゼラチン用硬化剤を添加することもできる。 When gelatin is used, a hardening agent for gelatin may be added if necessary.
〈セルロース類〉
セルロース類としては、水溶性のセルロース誘導体を好ましく用いることができる。例えば、カルボキシメチルセルロース（セルロースカルボキシメチルエーテル）、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等の水溶性セルロース誘導体；カルボキシメチルセルロース（セルロースカルボキシメチルエーテル）、カルボキシエチルセルロース等のカルボン酸基含有セルロース類；ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、酢酸セルロース、セルロース硫酸エステル等のセルロース誘導体が挙げられる。
<Cellulose>
As the cellulose, a water-soluble cellulose derivative can be preferably used. For example, water-soluble cellulose derivatives such as carboxymethyl cellulose (cellulose carboxymethyl ether), methyl cellulose, hydroxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose; carboxy group-containing celluloses such as carboxymethyl cellulose (cellulose carboxymethyl ether) and carboxyethyl cellulose; nitro Examples of the cellulose derivative include cellulose, cellulose acetate propionate, cellulose acetate, and cellulose sulfate ester.
〈増粘多糖類〉
増粘多糖類は、糖類の重合体であり、分子内に水素結合基を多数有するものである。当該増粘多糖類は、温度による分子間の水素結合力の違いにより、低温時の粘度と高温時の粘度差が大きいという特性を有する。また、増粘多糖類に金属酸化物微粒子を添加すると、低温時にその金属酸化物微粒子との水素結合によると思われる粘度上昇を起こす。その粘度上昇幅は、１５℃における粘度が、通常、１．０ｍＰａ・ｓ以上であり、好ましくは５．０ｍＰａ・ｓ以上であり、よりに好ましくは１０．０ｍＰａ・ｓ以上である。
<Thickening polysaccharide>
The thickening polysaccharide is a polymer of saccharides and has a large number of hydrogen bonding groups in the molecule. The thickening polysaccharide has a property that a difference in viscosity at low temperature and a difference in viscosity at high temperature are large due to a difference in hydrogen bonding force between molecules depending on temperature. Further, when the metal oxide fine particles are added to the thickening polysaccharide, the viscosity is thought to increase due to hydrogen bonding with the metal oxide fine particles at low temperature. Regarding the range of increase in viscosity, the viscosity at 15° C. is usually 1.0 mPa·s or more, preferably 5.0 mPa·s or more, and more preferably 10.0 mPa·s or more.
適用可能な増粘多糖類としては、特に制限はなく、一般に知られている天然単純多糖類、天然複合多糖類、合成単純多糖類、合成複合多糖類が挙げられる。これら多糖類の詳細については、「生化学事典（第２版）、東京化学同人出版」、「食品工業」第３１巻（１９８８）２１頁等を参照することができる。 The applicable thickening polysaccharide is not particularly limited, and includes generally known natural simple polysaccharides, natural complex polysaccharides, synthetic simple polysaccharides, and synthetic complex polysaccharides. For details of these polysaccharides, refer to “Biochemical Encyclopedia (Second Edition), Tokyo Kagaku Dojin Shuppan”, “Food Industry”, Vol. 31, (1988), p. 21 and the like.
〈反応性官能基を有するポリマー〉
反応性官能基を有するポリマーとしては、例えば、ポリビニルピロリドン類、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリロニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのアクリル系樹脂；スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのスチレンアクリル酸樹脂；スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート−スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体などの酢酸ビニル系共重合体；及びこれらの塩が挙げられる。これらのうち、ポリビニルピロリドン類及びこれを含有する共重合体を用いることが好ましい。
<Polymer having reactive functional group>
Examples of the polymer having a reactive functional group include polyvinylpyrrolidones, polyacrylic acid, acrylic acid-acrylonitrile copolymer, potassium acrylate-acrylonitrile copolymer, vinyl acetate-acrylic acid ester copolymer, acrylic acid- Acrylic resin such as acrylic acid ester copolymer; styrene-acrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-α-methylstyrene-acrylic acid copolymer Polymers, styrene-acrylic acid resins such as styrene-α-methylstyrene-acrylic acid-acrylic acid ester copolymers; styrene-sodium styrenesulfonate copolymers, styrene-2-hydroxyethyl acrylate copolymers, styrene-2 -Hydroxyethyl acrylate-potassium styrene sulfonate copolymer, styrene-maleic acid copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, vinyl naphthalene-acrylic acid copolymer, vinyl naphthalene-maleic acid copolymer, vinyl acetate -Vinyl acetate-based copolymers such as maleic acid ester copolymers, vinyl acetate-crotonic acid copolymers, vinyl acetate-acrylic acid copolymers; and salts thereof. Of these, it is preferable to use polyvinylpyrrolidones and copolymers containing them.
上述の水溶性樹脂は、単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。 The above water-soluble resins may be used alone or in combination of two or more.
第１の水溶性樹脂の重量平均分子量は、１０００〜２０００００の範囲内であることが好ましく、３０００〜４００００の範囲内であることがより好ましい。なお、本明細書において、「重量平均分子量」の値は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によって測定した値を採用するものとする。 The weight average molecular weight of the first water-soluble resin is preferably in the range of 1,000 to 200,000, more preferably in the range of 3,000 to 40,000. In addition, in this specification, the value of "weight average molecular weight" shall employ the value measured by gel permeation chromatography (GPC).
第１の水溶性樹脂の含有量は、高屈折率層の固形分１００質量％に対して、５〜５０質量％の範囲内であることが好ましく、１０〜４０質量％の範囲内であることがより好ましい。 The content of the first water-soluble resin is preferably within the range of 5 to 50% by mass, and within the range of 10 to 40% by mass, based on 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer. Is more preferable.
（３）硬化剤
硬化剤は、高屈折率層に含有される第１の水溶性樹脂（好ましくは、ポリビニルアルコール系樹脂）と反応して、水素結合のネットワークを形成する機能を有する。
(3) Hardener The hardener has a function of reacting with the first water-soluble resin (preferably polyvinyl alcohol resin) contained in the high refractive index layer to form a hydrogen bond network.
硬化剤としては、第１の水溶性樹脂と硬化反応を起こすものであれば特に制限はないが、一般的には、水溶性樹脂と反応しうる基を有する化合物又は水溶性樹脂が有する異なる基同士の反応を促進するような化合物が挙げられる。 The curing agent is not particularly limited as long as it causes a curing reaction with the first water-soluble resin, but generally, a compound having a group capable of reacting with the water-soluble resin or a different group contained in the water-soluble resin Examples thereof include compounds that promote the reaction between them.
具体例として、第１の水溶性樹脂としてポリビニルアルコールを用いる場合には、硬化剤としてホウ酸及びその塩を用いることが好ましい。また、ホウ酸及びその塩以外の公知の硬化剤を使用してもよい。 As a specific example, when polyvinyl alcohol is used as the first water-soluble resin, boric acid and its salt are preferably used as the curing agent. Further, known curing agents other than boric acid and its salts may be used.
なお、ホウ酸及びその塩とは、硼素原子を中心原子とする酸素酸及びその塩のことを意味する。具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸、八ホウ酸、及びこれらの塩が挙げられる。 In addition, boric acid and its salt mean the oxyacid and its salt which have a boron atom as a central atom. Specific examples include orthoboric acid, diboric acid, metaboric acid, tetraboric acid, pentaboric acid, octaboric acid, and salts thereof.
硬化剤の含有量は、高屈折率層の固形分１００質量％に対して、１〜１０質量％であることが好ましく、２〜６質量％であることがより好ましい。 The content of the curing agent is preferably 1 to 10% by mass, and more preferably 2 to 6% by mass, based on 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer.
特に、第１の水溶性バインダー樹脂としてポリビニルアルコールを使用する場合の硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール１ｇ当たり１〜６００ｍｇであることが好ましく、ポリビニルアルコール１ｇ当たり１００〜６００ｍｇであることがより好ましい。 In particular, the total amount of the curing agent used when polyvinyl alcohol is used as the first water-soluble binder resin is preferably 1 to 600 mg per 1 g of polyvinyl alcohol, and more preferably 100 to 600 mg per 1 g of polyvinyl alcohol. preferable.
（４）界面活性剤
高屈折率層に適用可能な界面活性剤としては、特に制限されることはなく、従来公知の各種界面活性剤を適宜選択して用いることができる。
(4) Surfactant The surfactant applicable to the high refractive index layer is not particularly limited, and various conventionally known surfactants can be appropriately selected and used.
（５）その他の添加剤
高屈折率層に適用が可能なその他の添加剤としては、例えば、アミノ酸、エマルジョン樹脂、リチウム化合物等や、特開昭５７−７４１９３号公報、特開昭５７−８７９８８号公報、特開昭６２−２６１４７６号公報に記載の紫外線吸収剤；特開昭５７−７４１９２号、特開昭５７−８７９８９号公報、特開昭６０−７２７８５号公報、特開昭６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報、特開平３−１３３７６号公報等に記載の退色防止剤；特開昭５９−４２９９３号公報、特開昭５９−５２６８９号公報、特開昭６２−２８００６９号公報、特開昭６１−２４２８７１号公報、特開平４−２１９２６６号公報等に記載の蛍光増白剤；硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤；消泡剤；ジエチレングリコール等の潤滑剤；防腐剤；防黴剤；帯電防止剤；マット剤；熱安定剤；酸化防止剤；難燃剤；結晶核剤；無機粒子；有機粒子；減粘剤；滑剤；赤外線吸収剤；色素；顔料等の公知の各種添加剤等がその他の添加剤として使用されてもよい。
(5) Other additives As other additives that can be applied to the high refractive index layer, for example, amino acids, emulsion resins, lithium compounds and the like, JP-A-57-74193, JP-A-57-87988. UV absorbers described in JP-A-62-261476; JP-A-57-74192, JP-A-57-87989, JP-A-60-72785, and JP-A-61-146591. Anti-fading agents described in JP-A No. 1-95091, JP-A No. 3-13376, etc.; JP-A-59-42993, JP-A-59-52689, and JP-A-62-280069. JP-A-61-242871, JP-A-4-219266 and the like; fluorescent whitening agents; sulfuric acid, phosphoric acid, acetic acid, citric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate and the like. pH adjusting agent; antifoaming agent; lubricant such as diethylene glycol; antiseptic agent; antifungal agent; antistatic agent; matting agent; heat stabilizer; antioxidant; flame retardant; crystal nucleating agent; inorganic particles; organic particles; reducing agent Various known additives such as viscous agents, lubricants, infrared absorbers, dyes, pigments, etc. may be used as other additives.
（低屈折率層）
低屈折率層もまた、屈折率の制御が容易になるという観点から、好ましくは金属酸化物粒子を含む。その他必要に応じて、水溶性樹脂、硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤を含んでいてもよい。なお、低屈折率層に含まれる金属酸化物粒子及び水溶性樹脂を、便宜上、以下では「第２の金属酸化物粒子」及び「第２の水溶性樹脂」とそれぞれ称する。
(Low refractive index layer)
The low refractive index layer also preferably contains metal oxide particles from the viewpoint of facilitating control of the refractive index. In addition, a water-soluble resin, a curing agent, a surfactant, and other additives may be included as necessary. The metal oxide particles and the water-soluble resin contained in the low refractive index layer are hereinafter referred to as “second metal oxide particles” and “second water-soluble resin”, respectively, for convenience.
（１）第２の水溶性樹脂
第２の水溶性樹脂としては、第１の水溶性樹脂と同様のものが用いることができる。
(1) Second Water-Soluble Resin As the second water-soluble resin, the same one as the first water-soluble resin can be used.
この際、高屈折率層及び低屈折率層が、第１の水溶性樹脂及び第２の水溶性樹脂として、ともにポリビニルアルコール系樹脂を使用する場合には、それぞれケン化度の異なるポリビニルアルコール系樹脂を用いることが好ましい。これにより、界面の混合が抑制され、赤外反射率（赤外遮蔽率）がより良好となり、ヘイズが低くなる。なお、本発明でいう「ケン化度」とは、ポリビニルアルコール中のアセチルオキシ基（原料の酢酸ビニル由来のもの）とヒドロキシ基との合計数に対するヒドロキシ基の割合を意味する。 In this case, when the high refractive index layer and the low refractive index layer both use a polyvinyl alcohol-based resin as the first water-soluble resin and the second water-soluble resin, polyvinyl alcohol-based resins having different saponification degrees are used. It is preferable to use a resin. As a result, the mixing of the interface is suppressed, the infrared reflectance (infrared shielding rate) becomes better, and the haze becomes lower. The "saponification degree" in the present invention means the ratio of hydroxy groups to the total number of acetyloxy groups (derived from vinyl acetate as a raw material) and hydroxy groups in polyvinyl alcohol.
（２）第２の金属酸化物粒子
第２の金属酸化物粒子としては、特に制限されないが、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等のシリカ（二酸化ケイ素）を用いることが好ましく、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましい。また、屈折率をより低減させる観点から、第２の金属酸化物粒子として、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いることができ、特にシリカ（二酸化ケイ素）の中空微粒子を用いることが好ましい。
(2) Second Metal Oxide Particles The second metal oxide particles are not particularly limited, but it is preferable to use silica (silicon dioxide) such as synthetic amorphous silica or colloidal silica, and an acidic colloidal silica sol. Is more preferably used. From the viewpoint of further reducing the refractive index, hollow fine particles having pores inside the particles can be used as the second metal oxide particles, and it is particularly preferable to use hollow fine particles of silica (silicon dioxide). ..
コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ又はＢａ等で処理されたものであってもよい。 The colloidal silica may have its surface cation-modified, or may be treated with Al, Ca, Mg, Ba or the like.
また、第２の金属酸化物粒子は、表面被覆成分により表面コーティングされていてもよい。 Moreover, the second metal oxide particles may be surface-coated with a surface-coating component.
本発明の低屈折率層に含まれる第２の金属酸化物粒子（好ましくは、二酸化ケイ素）は、その平均粒径（個数平均；直径）が３〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましく、３〜５０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。なお、本発明でいう金属酸化物微粒子の「平均粒径（個数平均；直径）」は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで個々の粒子の粒径とは、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。 The average particle diameter (number average; diameter) of the second metal oxide particles (preferably silicon dioxide) contained in the low refractive index layer of the present invention is preferably within the range of 3 to 100 nm. More preferably, it is within the range of 50 nm. The "average particle diameter (number average; diameter)" of the metal oxide fine particles as used in the present invention refers to the particles themselves or particles appearing on the cross section or surface of the refractive index layer observed by an electron microscope, and the number of 1000 The particle size of the particles is measured, and it is determined as a simple average value (number average). Here, the particle size of each particle is represented by the diameter assuming a circle equal to the projected area.
低屈折率層における第２の金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層の全固形分１００質量％に対して、０．１〜８５質量％の範囲内であることが好ましく、３０〜８０質量％の範囲内であることがより好ましく、４５〜７５質量％の範囲内であることがさらに好ましい。 The content of the second metal oxide particles in the low refractive index layer is preferably in the range of 0.1 to 85 mass% with respect to 100 mass% of the total solid content of the low refractive index layer, and 30 to It is more preferably within the range of 80% by mass, and further preferably within the range of 45 to 75% by mass.
上述の第２の金属酸化物は、屈折率を調整する等の観点から、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。 From the viewpoint of adjusting the refractive index, the above-mentioned second metal oxide may be used alone or in combination of two or more kinds.
（３）硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤
硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤としては、高屈折率層と同様のものが用いることができ、ここでの説明は省略する。
(3) Curing Agent, Surfactant, Other Additives As the curing agent, surfactant, and other additives, those similar to the high refractive index layer can be used, and the description thereof is omitted here.
以上のような構成を有する高屈折率層及び低屈折率層が交互に積層されてなる誘電体多層膜においては、高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも一方が、湿式製膜法を用いて形成された屈折率層であることが好ましく、高屈折率層及び低屈折率層の両方が、湿式製膜法を用いて形成された屈折率層であることがより好ましい。さらに、高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも一方が、金属酸化物粒子を含むことが好ましい。すなわち、本発明に係る赤外線反射層では、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜をさらに含み、低屈折率層又は高屈折率層が、金属酸化物粒子を含んでいる構成が好ましい。さらには、高屈折率層及び低屈折率層の両方が金属酸化物粒子を含むことがより好ましい。 In the dielectric multilayer film in which the high-refractive index layers and the low-refractive index layers having the above structures are alternately laminated, at least one of the high-refractive index layers and the low-refractive index layers uses a wet film-forming method. It is preferable that the high refractive index layer and the low refractive index layer are both formed by a wet film forming method. Furthermore, it is preferable that at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer contains metal oxide particles. That is, the infrared reflective layer according to the present invention further includes a dielectric multilayer film in which low refractive index layers and high refractive index layers are alternately laminated, and the low refractive index layer or the high refractive index layer is a metal oxide. Configurations that include particles are preferred. Furthermore, it is more preferable that both the high refractive index layer and the low refractive index layer contain metal oxide particles.
本発明に係る誘電体多層膜は、低屈折率層と高屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で赤外反射率を高くすることができるという観点から好ましい。本形態では、低屈折率層及び高屈折率層から構成される誘電体多層膜の少なくとも１つにおいて、隣接する低屈折率層と高屈折率層との屈折率差が０．１以上であることが好ましく、０．３以上であることがより好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の積層体を複数有する場合には、全ての積層体における高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が上記好適な範囲内にあることが好ましい。ただし、この場合でも誘電多層膜の最上層や最下層を構成する屈折率層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。 In the dielectric multilayer film according to the present invention, it is preferable to design a large difference in refractive index between the low refractive index layer and the high refractive index layer from the viewpoint that the infrared reflectance can be increased with a small number of layers. .. In this embodiment, in at least one of the dielectric multilayer films composed of the low refractive index layer and the high refractive index layer, the refractive index difference between the adjacent low refractive index layer and high refractive index layer is 0.1 or more. Preferably, it is more preferably 0.3 or more. When a plurality of laminates of the high refractive index layer and the low refractive index layer are provided, it is preferable that the difference in the refractive index between the high refractive index layer and the low refractive index layer in all the laminated bodies be within the above-mentioned suitable range. However, even in this case, the refractive index layers constituting the uppermost layer and the lowermost layer of the dielectric multilayer film may have a configuration outside the above-mentioned preferable range.
本発明のケートカバーの光学特性として、ＪＩＳ Ｒ３１０６−１９９８で示される３８０〜７４０ｎｍの可視光波長領域における偏光光の平均透過率が８０％以上であることを特徴とし、また、波長８００ｎｍ〜１５００ｎｍの近赤外線波長領域における平均反射率が１５％以上であることを特徴とする。 As the optical characteristics of the kate cover of the present invention, the average transmittance of polarized light in the visible light wavelength region of 380 to 740 nm shown in JIS R3106-1998 is 80% or more, and the wavelength of 800 nm to 1500 nm. The average reflectance in the near infrared wavelength region is 15% or more.
誘電体多層膜の屈折率層の層数（高屈折率層及び低屈折率層の総層数）としては、上記の光学特性を満たす観点からは、６〜５０層であることが好ましく、８〜４０層であることがより好ましく、１１〜３１層であることがさらに好ましく、９〜３０層であることが特に好ましい。誘電体多層膜の屈折率層の層数が上記範囲にあると、優れた遮熱性能及び透明性、膜剥がれやひび割れの抑制等が実現させることができる点で好ましい。なお、誘電体多層膜が、複数の高屈折率層及び低屈折率層を有する場合には、各高屈折率層及び各低屈折率層はそれぞれ同じものであっても、異なるものであってもよい。 From the viewpoint of satisfying the above optical characteristics, the number of refractive index layers of the dielectric multilayer film (total number of high refractive index layers and low refractive index layers) is preferably 6 to 50, and 8 ˜40 layers are more preferred, 11 to 31 layers are still more preferred, and 9 to 30 layers are particularly preferred. When the number of refractive index layers of the dielectric multilayer film is in the above range, excellent heat shielding performance and transparency, suppression of film peeling and cracking, and the like can be realized, which is preferable. When the dielectric multilayer film has a plurality of high refractive index layers and low refractive index layers, each high refractive index layer and each low refractive index layer may be the same or different. Good.
高屈折率層の１層当たりの厚さは、２０〜８００ｎｍの範囲内であることが好ましく、５０〜５００ｎｍの範囲内であることがより好ましい。また、低屈折率層の１層当たりの厚さは、２０〜８００ｎｍの範囲内であることが好ましく、５０〜５００ｎｍの範囲内であることがより好ましい。 The thickness of each high refractive index layer is preferably in the range of 20 to 800 nm, more preferably in the range of 50 to 500 nm. Further, the thickness of each low refractive index layer is preferably in the range of 20 to 800 nm, and more preferably in the range of 50 to 500 nm.
ここで、１層あたりの厚さを測定する場合、高屈折率層及び低屈折率層の境界において明確な界面を持たず、連続的に組成が変化する場合がある。このような組成が連続的に変化するような界面領域においては、最大屈折率−最小屈折率＝Δｎとした場合、２層間の最小屈折率＋Δｎ／２の地点を層界面とみなすものとする。 Here, when measuring the thickness per layer, the composition may change continuously without having a clear interface at the boundary between the high refractive index layer and the low refractive index layer. In the interface region where the composition changes continuously, when the maximum refractive index−the minimum refractive index=Δn, the point of the minimum refractive index+Δn/2 between the two layers is regarded as the layer interface.
なお、高屈折率層及び低屈折率層が金属酸化物粒子を含む場合には、当該金属酸化物粒子の濃度プロファイルにより上記組成を観察することができる。当該金属酸化物濃度プロファイルは、スパッタ法を用いて表面から深さ方向へエッチングを行い、ＸＰＳ表面分析装置を用いて、最表面を０ｎｍとして、０．５ｎｍ／ｍｉｎの速度でスパッタし、原子組成比を測定することで見ることができる。また、積層膜を切断して、切断面をＸＰＳ表面分析装置で原子組成比を測定することで確認してもよい。 When the high refractive index layer and the low refractive index layer contain metal oxide particles, the above composition can be observed from the concentration profile of the metal oxide particles. The metal oxide concentration profile was obtained by performing etching from the surface to the depth direction using a sputtering method, and using an XPS surface analyzer, setting the outermost surface to 0 nm and performing sputtering at a rate of 0.5 nm/min to obtain an atomic composition. It can be seen by measuring the ratio. Alternatively, the laminated film may be cut and the cut surface may be confirmed by measuring the atomic composition ratio with an XPS surface analyzer.
ＸＰＳ表面分析装置は、特に制限されず、いかなる機種も使用することができる。当該ＸＰＳ表面分析装置としては、例えば、ＶＧサイエンティフィックス社製ＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いることができる。Ｘ線アノードにはＭｇを用い、出力６００Ｗ（加速電圧１５ｋＶ、エミッション電流４０ｍＡ）で測定する。 The XPS surface analyzer is not particularly limited, and any model can be used. As the XPS surface analyzer, for example, ESCALAB-200R manufactured by VG Scientific Co., Ltd. can be used. Mg is used for the X-ray anode, and the output is measured at 600 W (accelerating voltage 15 kV, emission current 40 mA).
［４：偏光層及び偏光板］
本発明のゲートカバーにおいては、偏光層（以下、偏光子ともいう。）を有することを一つの特徴とする。
[4: Polarizing layer and polarizing plate]
One feature of the gate cover of the present invention is that it has a polarizing layer (hereinafter, also referred to as a polarizer).
本発明においては、偏光子の少なくとも一方の面側に偏光板用フィルムを設けて偏光板を構成することが好ましく、より好ましくは、偏光子を本発明に係る赤外線反射層に隣接して設ける構成であり、さらに好ましくは、偏光子のもう一方の面側にも、別の偏光板用フィルムを設ける構成である。 In the present invention, a polarizing plate film is preferably provided on at least one surface side of the polarizer to form a polarizing plate, and more preferably, the polarizer is provided adjacent to the infrared reflective layer according to the present invention. More preferably, another polarizing plate film is provided on the other surface side of the polarizer.
図３は、本発明のケートカバーに適用可能な偏光板の構成の一例を示す概略断面図である。 FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of the configuration of a polarizing plate applicable to the kate cover of the present invention.
図３に示す偏光板２１においては、一方の１７で示される偏光板用フィルムＡ（例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム）上に偏光層である偏光子１４を有し、偏光子１４に隣接して、１６で示される偏光板用フィルムＢ（例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム）上に、本発明に係る赤外線反射層１３が設けされている。１６で示される偏光板用フィルムＢは、赤外線反射層１３、例えば、誘電体多層膜を形成する際の樹脂基材（支持体ともいう。）として機能する。前記偏光板に適用する偏光板用フィルムの少なくとも一つは位相差フィルムとしての機能も有する。
In the
本発明のゲートカバーに具備する偏光板２０は薄膜であることが好ましく、厚さとしては４０〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、４９〜９９μｍの範囲内であることがより好ましい。
The
以下、偏光板を構成する偏光子及び偏光板用フィルムの順に説明をする。 Hereinafter, the polarizer and the film for polarizing plate which constitute the polarizing plate will be described in this order.
（偏光子）
偏光子とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムである。ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムに、ヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。
(Polarizer)
A polarizer is an element that allows only light having a plane of polarization in a certain direction to pass therethrough, and a typical polarizer known at present is a polyvinyl alcohol-based polarizing film. The polyvinyl alcohol-based polarizing film includes a polyvinyl alcohol-based film dyed with iodine and a polyvinyl alcohol-based film dyed with a dichroic dye.
ポリビニルアルコール系偏光フィルムは、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸した後、ヨウ素又は二色性染料で染色したフィルム（好ましくはさらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であってもよいし；ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素又は二色性染料で染色した後、一軸延伸したフィルム（好ましくは、さらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であってもよい。偏光子の吸収軸は、通常、最大延伸方向と平行である。 The polyvinyl alcohol-based polarizing film may be a film obtained by uniaxially stretching a polyvinyl alcohol-based film and then dyeing it with iodine or a dichroic dye (preferably a film further subjected to durability treatment with a boron compound); A film obtained by dying an alcohol-based film with iodine or a dichroic dye and then uniaxially stretching (preferably a film further subjected to a durability treatment with a boron compound) may be used. The absorption axis of the polarizer is usually parallel to the maximum stretching direction.
例えば、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報等に記載のエチレン単位の含有量１〜４モル％の範囲、重合度２０００〜４０００の範囲、ケン化度９９．０〜９９．９９モル％の範囲のエチレン変性ポリビニルアルコールが用いられる。中でも、熱水切断温度が６６〜７３℃の範囲であるエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましく用いられる。 For example, the content of ethylene units described in JP-A-2003-248123 and JP-A-2003-342322 is in the range of 1 to 4 mol %, the degree of polymerization is in the range of 2000 to 4000, and the degree of saponification is 99.0 to 99. Ethylene-modified polyvinyl alcohol in the range of .99 mol% is used. Above all, an ethylene-modified polyvinyl alcohol film having a hot water cutting temperature in the range of 66 to 73° C. is preferably used.
偏光子の厚さは、５〜３０μｍの範囲であることが好ましく、偏光板を薄型化するため等から、５〜２５μｍの範囲であることがより好ましい。 The thickness of the polarizer is preferably in the range of 5 to 30 μm, and more preferably in the range of 5 to 25 μm in order to make the polarizing plate thin.
（偏光板用フィルム）
偏光板の作製に適用する偏光板用フィルムは、前記「１：樹脂基材」にて説明したのと同様の樹脂基材を適宜選択して適用することができる。
(Polarizing film)
As the polarizing plate film applied to the production of the polarizing plate, the same resin base material as described in the above “1: Resin base material” can be appropriately selected and applied.
本発明のゲートカバーにおいては、偏光板を構成する偏光板用フィルムに関しても、前述した樹脂基材１１と同様に、優れた視認性を得る観点から、面内リターデーション値ＲＯが、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であることが、最も好ましい形態である。
In the gate cover of the present invention, also with respect to the polarizing plate film constituting the polarizing plate, the in-plane retardation value R O is 0 nm or more from the viewpoint of obtaining excellent visibility, as in the
本発明に係る偏光板に適用可能な偏光板用フィルムを構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（略称：ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（略称：ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類及びそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（略称：ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル及びポリアリレート類、アートン（商品名、ＪＳＲ社製）及びアペル（商品名、三井化学社製）等のシクロオレフィン系樹脂等を挙げることができる。これらの樹脂基材の中でも、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、アクリル樹脂及びポリアリレート類を樹脂成分と有する樹脂基材が好ましく用いられる。 Examples of the resin material constituting the polarizing plate film applicable to the polarizing plate according to the present invention include polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate (abbreviation: TAC), cellulose acetate butyrate, cellulose acetate Pionate (abbreviation: CAP), cellulose acetate phthalate, cellulose nitrate and other cellulose esters and their derivatives, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate (abbreviation: PC), norbornene resin , Polymethylpentene, polyetherketone, polyimide, polyethersulfone (abbreviation: PES), polyphenylene sulfide, polysulfones, polyetherimide, polyetherketone imide, polyamide, fluororesin, nylon, polymethylmethacrylate, acrylic and polyarylate And cycloolefin resins such as Arton (trade name, manufactured by JSR) and Apel (trade name, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.). Among these resin base materials, a resin base material having a resin component of triacetyl cellulose (TAC), cycloolefin resin, polycarbonate (PC) resin, acrylic resin and polyarylates is preferably used.
偏光板用フィルムの厚さは、特に限定はないが、１０〜１００μｍの範囲であることが好ましく、１０〜６０μｍの範囲であることがより好ましく、２０〜６０μｍの範囲であることが特に好ましい。 The thickness of the polarizing plate film is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 to 100 μm, more preferably in the range of 10 to 60 μm, and particularly preferably in the range of 20 to 60 μm.
(偏光板の作製方法)
本発明に係る偏光板の作製方法としては、例えば、図３に示した偏光板２１の場合、基本的には、上記のように、１７で示される偏光板用フィルムＡを偏光子１４の片面に貼合すればよい。ただし、当該１７で示される偏光板用フィルムＡの偏光子１４側の面に対し、易接着処理（表面活性化処理）を施すことが好ましい。
(Method for producing polarizing plate)
As a method of manufacturing the polarizing plate according to the present invention, for example, in the case of the
下記のような工程（１〜５）を含む方法で偏光板２１を作製することができる。
The
工程１：ポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸する。これをヨウ素及びヨウ化カリウムを含有する水溶液に浸漬し、次いでヨウ化カリウム及びホウ酸を含有する水溶液に浸漬する。その後、これを水洗・乾燥して偏光子を得る。 Step 1: A polyvinyl alcohol film is uniaxially stretched. This is immersed in an aqueous solution containing iodine and potassium iodide, and then immersed in an aqueous solution containing potassium iodide and boric acid. Then, this is washed with water and dried to obtain a polarizer.
工程２：あらかじめ表面に易接着処理を施した１で示される偏光板用フィルムＡ（例えば、ＴＡＣ）の当該表面上に上記工程１で得た偏光子１４を載せる。
Step 2: The
工程３：前記１７で示される偏光板用フィルムＡ上に載せられた偏光子１４の反対側の面上にポリビニルアルコール接着剤（完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液）を塗布する。
Step 3: A polyvinyl alcohol adhesive (completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution) is applied to the opposite surface of the
工程４：別途、１６で示される偏光板用保護フィルムＢ（例えば、ＴＡＣ）上に、常法に従って、低屈折率層及び高屈折率層を交互に積層し、誘電体多層膜を形成して、赤外線反射層１３を形成する。
Step 4: Separately, a low-refractive index layer and a high-refractive index layer are alternately laminated on a protective film B for polarizing plate (eg, TAC) shown by 16 according to a conventional method to form a dielectric multilayer film. The
工程５：工程３で得たポリビニルアルコール接着剤が塗布された偏光子の面上に、工程４で作製した赤外線反射層１３を、当該偏光子１４に対向するように載せて積層体を形成する。
Step 5: The
工程６：工程５で得た積層体に圧力を加え貼合する。
Step 6: A pressure is applied to the laminate obtained in
工程７：工程６で得た積層体を乾燥し、偏光板２１を作製する。
Step 7: The laminated body obtained in
上記工程２において、偏光子１４に、１７で示される偏光板用フィルムＡを貼合する場合、例えば、市販のセルロースアシレート系保護フィルム（例えば、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、以上コニカミノルタ株式会社製）も好ましく用いられる。このような保護フィルムを偏光板用フィルムとして適用する場合は、あらかじめケン化処理等の表面活性化処理を行う必要がある。
When the polarizing plate film A represented by 17 is attached to the
易接着処理としては、コロナ（放電）処理、プラズマ処理、フレーム処理、イトロ処理、グロー処理、オゾン処理、プライマー塗布処理等があるが、このうち少なくとも１種が実施されれば良い。これらの易接着処理のうち、生産性の観点からは、コロナ処理、プラズマ処理が易接着処理として好ましい。 Examples of the easy adhesion treatment include corona (discharge) treatment, plasma treatment, flame treatment, itro treatment, glow treatment, ozone treatment, primer coating treatment, and the like, and at least one of them may be performed. Among these easy adhesion treatments, from the viewpoint of productivity, corona treatment and plasma treatment are preferable as the easy adhesion treatment.
なお、接着剤としては、ポリビニルアルコール系樹脂やウレタン樹脂を主成分として含む水系接着剤や、エポキシ系樹脂等の光硬化性樹脂を主成分として含む活性エネルギー線硬化型接着剤を用いることができる。例えば、アクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン及びポリエーテル等をベースポリマーとして含む接着剤等を用いることもできる。 As the adhesive, a water-based adhesive containing a polyvinyl alcohol-based resin or a urethane resin as a main component, or an active energy ray-curable adhesive containing a photo-curable resin such as an epoxy resin as a main component can be used. .. For example, an adhesive containing an acrylic polymer, a silicone polymer, polyester, polyurethane, polyether or the like as a base polymer may be used.
［５：その他の構成層］
本発明のゲートカバーにおいては、上記説明した、赤外線吸収層、赤外線反射層、偏光層の他に、各種機能層を適宜選択して設けることができる。以下に、代表的な機能層として、粘着層及びハードコート層について説明する。
[5: Other constituent layers]
In the gate cover of the present invention, various functional layers can be appropriately selected and provided in addition to the infrared absorption layer, the infrared reflection layer, and the polarizing layer described above. Hereinafter, the adhesive layer and the hard coat layer will be described as typical functional layers.
〔粘着層〕
本発明のゲートカバーでは、さらに粘着層を有していてもよい。この粘着層は保護フィルムを介して、偏光板２１を挟んで、赤外線吸収層を形成した面とは反対側の面に設けられ、さらに公知の剥離紙（セパレータ）がさらに設けられていてもよい。
[Adhesive layer]
The gate cover of the present invention may further have an adhesive layer. This pressure-sensitive adhesive layer is provided on the surface opposite to the surface on which the infrared absorption layer is formed, with the
粘着層の構成としては、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。粘着剤としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。また、上記説明した赤外線吸収層から、近赤外線吸収性有機化合物や金属酸化物系赤外線吸収剤を除いた粘着性を有する層であってもよい。 The constitution of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, and for example, any of dry laminating agent, wet laminating agent, pressure-sensitive adhesive, heat seal agent, hot melt agent and the like can be used. As the adhesive, for example, polyester resin, urethane resin, polyvinyl acetate resin, acrylic resin, nitrile rubber or the like is used. Further, it may be a layer having an adhesive property obtained by removing the near infrared absorbing organic compound or the metal oxide infrared absorbing agent from the infrared absorbing layer described above.
粘着層の層厚は、１〜１００μｍの範囲内が好ましく、３〜５０μｍの範囲内がより好ましい。層厚が１μｍ以上であれば粘着性が向上する傾向にあり、十分な粘着力が得られる。逆に１００μｍ以下であればゲートカバーとしての透明性が向上する点で好ましい。 The thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 1 to 100 μm, more preferably in the range of 3 to 50 μm. When the layer thickness is 1 μm or more, the tackiness tends to be improved and sufficient tackiness can be obtained. On the contrary, when it is 100 μm or less, the transparency of the gate cover is improved, which is preferable.
粘着層の他の形成方法としては、例えば、保護フィルム上に、剥離紙（セパレータ）上に粘着層用塗布液を塗布し乾燥させて粘着層を貼合した後、剥離紙をはがし、偏光板２１を貼り合わせる方法も挙げることができる。 As another method for forming the adhesive layer, for example, a protective film is coated with a coating solution for an adhesive layer on a release paper (separator) and dried to bond the adhesive layer, then the release paper is peeled off, and a polarizing plate is applied. A method of bonding 21 can also be mentioned.
〔保護フィルム〕
ゲートカバーの表面側に設けられる保護フィルムとしては、前記「１：樹脂基材」にて説明したのと同様の樹脂基材を適宜選択して適用することができる。
〔Protective film〕
As the protective film provided on the front surface side of the gate cover, the same resin base material as described in “1: Resin base material” can be appropriately selected and applied.
すなわち、本発明のゲートカバーにおいては、保護フィルムに関しても、前述した樹脂基材１１と同様に、優れた視認性を得る観点から、面内リターデーション値ＲＯが、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であることが、最も好ましい形態である。
That is, in the gate cover of the present invention, the in-plane retardation value R O is also 0 nm or more and less than 100 nm from the viewpoint of obtaining excellent visibility in the protective film as in the case of the
本発明のゲートカバーを構成する保護フィルムの樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（略称：ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（略称：ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類及びそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（略称：ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル及びポリアリレート類、アートン（商品名、ＪＳＲ社製）及びアペル（商品名、三井化学社製）等のシクロオレフィン系樹脂等を挙げることができる。これらの樹脂基材の中でも、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、アクリル樹脂及びポリアリレート類を樹脂成分と有する樹脂基材が好ましく用いられる。 Examples of the resin material of the protective film constituting the gate cover of the present invention include polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate (abbreviation: TAC), cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate (abbreviation: CAP). ), cellulose acetate phthalate, cellulose esters such as cellulose nitrate and their derivatives, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate (abbreviation: PC), norbornene resin, polymethylpentene, poly Ether ketone, polyimide, polyether sulfone (abbreviation: PES), polyphenylene sulfide, polysulfones, polyetherimide, polyetherketone imide, polyamide, fluororesin, nylon, polymethylmethacrylate, acrylic and polyarylate, Arton (trade name) , Manufactured by JSR) and Apel (trade name, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) and the like. Among these resin base materials, a resin base material having a resin component of triacetyl cellulose (TAC), cycloolefin resin, polycarbonate (PC) resin, acrylic resin and polyarylates is preferably used.
〔ハードコート層〕
本発明のゲートカバーでは、耐擦過性を高めるための表面保護層として、樹脂基材を有する面とは反対側の最上層に、熱や紫外線などで硬化する樹脂を含むハードコート層を積層してもよい。
[Hard coat layer]
In the gate cover of the present invention, as a surface protective layer for increasing scratch resistance, a hard coat layer containing a resin curable by heat or ultraviolet rays is laminated on the uppermost layer opposite to the surface having the resin base material. May be.
ハードコート層で使用される硬化型樹脂としては、熱硬化型樹脂や紫外線硬化型樹脂が挙げられるが、塗膜形成が容易な点から、紫外線硬化型樹脂が好ましく、その中でも鉛筆硬度が少なくとも２Ｈのものがより好ましい。硬化型樹脂は、単独でも又は２種以上組み合わせて用いてもよい。 Examples of the curable resin used in the hard coat layer include a thermosetting resin and an ultraviolet curable resin, but an ultraviolet curable resin is preferable from the viewpoint of easy coating film formation, and among them, a pencil hardness of at least 2H. Are more preferred. The curable resins may be used alone or in combination of two or more.
なお、このような紫外線硬化型樹脂としては、（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂が挙げられ、これらは無溶剤型の樹脂組成物としても使用できる。 Examples of such an ultraviolet curable resin include (meth)acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, epoxy acrylate, epoxy resin, and oxetane resin, which can also be used as a solventless resin composition.
上記紫外線硬化型樹脂を用いる場合、硬化促進のために、光重合開始剤を添加することが好ましい。 When the above ultraviolet curable resin is used, it is preferable to add a photopolymerization initiator to accelerate curing.
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物などが用いられる。 As the photopolymerization initiator, acetophenones, benzophenones, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, thiuram compounds, fluoroamine compounds Etc. are used.
ハードコート層の厚さは、ハードコート性の向上と、ゲートカバーの透明性の向上という観点から、０．１〜５０μｍが好ましく、１〜２０μｍがより好ましい。 The thickness of the hard coat layer is preferably 0.1 to 50 μm, and more preferably 1 to 20 μm from the viewpoint of improving the hard coat property and the transparency of the gate cover.
ハードコート層の形成方法は、特に制限されず、例えば、上記各成分を含むハードコート層用塗布液を調製した後、塗布液を湿式塗布方式、例えば、ワイヤーバー等により塗布し、熱エネルギー又は活性エネルギー線の照射により、形成したハードコート層塗膜を硬化させ、ハードコート層を形成する方法などが挙げられる。 The method for forming the hard coat layer is not particularly limited, for example, after preparing a hard coat layer coating liquid containing the above components, the coating liquid is applied by a wet coating method, for example, a wire bar or the like, and heat energy or Examples include a method of curing the formed hard coat layer coating film by irradiation with active energy rays to form a hard coat layer.
〔その他の機能層〕
本発明のゲートカバーは、上述した層以外に、その他の機能層を有していてもよい。例えば、その他の機能層として、中間層を設けることができる。ここで「中間層」とは、樹脂基材と赤外線吸収層との間の層や、赤外線反射層と赤外線吸収層との間の層を意味する。
[Other functional layers]
The gate cover of the present invention may have other functional layers in addition to the layers described above. For example, an intermediate layer can be provided as the other functional layer. Here, the "intermediate layer" means a layer between the resin base material and the infrared absorbing layer, or a layer between the infrared reflecting layer and the infrared absorbing layer.
中間層の構成材料としては、ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられ、添加剤の相溶性、Ｔｇが低い物質ものが好ましく用いられる。 Examples of the constituent material of the intermediate layer include a polyester resin, a polyvinyl alcohol resin, a polyvinyl acetate resin, a polyvinyl acetal resin, an acrylic resin, and a urethane resin, and a material having a low additive compatibility and a low Tg is preferably used.
〔ゲートカバーの分光特性〕
本発明のゲートカバーにおいては、３８０〜７４０ｎｍの可視光波長領域における直線偏光光の平均透過率が８０％以上であることを特徴とし、好ましくは８０％以上、９５％以下である。また、７５０〜１５００ｎｍの近赤外線波長領域における平均反射率は１５％以上であることを特徴とし、好ましくは、１５〜５０％の範囲内であり、更に好ましくは、２０〜４５％の範囲内である。
[Spectral characteristics of gate cover]
In the gate cover of the present invention, the average transmittance of linearly polarized light in the visible light wavelength region of 380 to 740 nm is 80% or more, and preferably 80% or more and 95% or less. The average reflectance in the near infrared wavelength region of 750 to 1500 nm is 15% or more, preferably in the range of 15 to 50%, more preferably in the range of 20 to 45%. is there.
３８０〜７４０ｎｍの可視光波長領域における直線偏光光の平均透過率は、ゲートカバーに対し、直線偏光光を偏光面がゲートカバーの偏光子の透過軸と平行となるように入射させ、分光光度計Ｖ−５７０（日本分光社製）を用いて、波長３８０ｎｍ〜７４０ｎｍの範囲を２ｎｍおきに測定して平均透過率を求める。 The average transmittance of linearly polarized light in the visible light wavelength range of 380 to 740 nm is measured by allowing the linearly polarized light to enter the gate cover such that the plane of polarization is parallel to the transmission axis of the polarizer of the gate cover. Using V-570 (manufactured by JASCO Corporation), the range of wavelength 380 nm to 740 nm is measured every 2 nm, and the average transmittance is obtained.
また、７５０〜１５００ｎｍの近赤外線波長領域における平均反射率は、分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ−４０００）を用いて、作製したゲートカバーの反射率（ＤＳ）を、ＪＩＳ Ｋ ５６０２：２００８（塗膜の日射反射率の求め方）に準拠して、波長７５０〜１５００ｎｍの範囲を２ｎｍおきに測定して平均反射率を求める。 Moreover, the average reflectance in the near infrared wavelength region of 750 to 1500 nm is the reflectance (DS) of the manufactured gate cover by using a spectrophotometer (U-4000 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) according to JIS K 5602:2008. Based on (How to obtain the solar radiation reflectance of the coating film), the average reflectance is obtained by measuring the wavelength range of 750 to 1500 nm at intervals of 2 nm.
《ゲートカバーの代表的な構成と製造例》
上記説明した各要素より構成されるゲートカバーの具体的な構成例を、図を交えて説明する。
<<Typical configuration and manufacturing example of gate cover>>
A specific configuration example of the gate cover including the above-described elements will be described with reference to the drawings.
(実施形態１：構成例１)
図４は、ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーの構成例１を示す概略断面図（実施形態１)であり、紙面の上面は太陽光の入射側であり、下面側には液晶表示装置の光源が配置されている。
(Embodiment 1: Configuration example 1)
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view (Embodiment 1) showing a configuration example 1 of a gate cover for a head-up display, in which the upper surface of the paper surface is the sunlight incident side, and the lower surface side is the light source of the liquid crystal display device. Has been done.
図４で示すゲートカバー３は、下面側から、樹脂基材１１（例えば、ポリカーボネートフィルム（ＰＣ））／赤外線吸収層１２／１６で示される偏光板用フィルムＢ（例えば、ＴＡＣ）／赤外線反射層１３／偏光層１４／１７で示される偏光板用フィルムＡ（ＴＡＣ）／粘着層１８／保護フィルム１９（例えば、ＰＣ）／ハードコート層２０により構成されている。
The
図４に示す構成の本発明のゲートカバー３においては、樹脂基材１１の面内リターデーション値ＲＯが、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であることを特徴とするが、更には、１６で示される偏光板用フィルムＢ、１７で示される偏光板用フィルムＡ及び保護フィルム１９の全てが、樹脂基材１１で規定する面内リターデーション値ＲＯが、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であることが、最も好ましい形態である。
In the
図４に示す構成のゲートカバー３の製造方法は、以下の通りである。
The method of manufacturing the
〈ステップ１：偏光板ユニットＵ１の作製〉
上記偏光板の作製方法に記載した工程１〜工程７に従って、偏光板ユニットＵ１を作製する。
<Step 1: Fabrication of polarizing plate unit U1>
A polarizing plate unit U1 is manufactured according to
〈ステップ２：赤外線吸収層ユニットＵ２の作製〉
樹脂基板１１上に、粘着性樹脂を含む赤外線吸収層１２を形成して、赤外線吸収層ユニットＵ２を作製する。
<Step 2: Preparation of infrared absorbing layer unit U2>
The
〈ステップ３：保護フィルムユニットＵ３の作製〉
保護フィルム１９上に、粘着層１８を形成する。
<Step 3: Preparation of protective film unit U3>
The
〈ステップ４：偏光板ユニットＵ１と保護フィルムユニットＵ３との貼合〉
はじめに、偏光板ユニットＵ１の１７で示される偏光板用フィルムＡ面と、保護フィルムユニットＵ３の粘着層１８面を対向する位置に配置し、貼合ローラーで貼り合せる。
<Step 4: Laminating Polarizing Plate Unit U1 and Protective Film Unit U3>
First, the film A surface of the polarizing plate indicated by
〈ステップ５：偏光板ユニットＵ１と赤外線吸収層ユニットＵ２との貼合〉
次いで、赤外線吸収層ユニットＵ２の赤外線吸収層１２面と、偏光板ユニットＵ１の１６で示される偏光板用フィルムＢ面とを対向する位置に配置し、貼合ローラーで貼り合せる。
<Step 5: Bonding of Polarizing Plate Unit U1 and Infrared Absorption Layer Unit U2>
Next, the
〈ステップ６：ハードコート層の形成〉
最後に、保護フィルム１９上に、ハードコート層２０を形成して、ゲートカバー３を作製する。
<Step 6: Formation of hard coat layer>
Finally, the
(実施形態２：構成例２)
図５は、ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーの構成例２を示す概略断面図(実施形態２)であり、紙面における下面側に液晶表示装置の光源が配置されている。
(Embodiment 2: Configuration example 2)
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view (Embodiment 2) showing a second configuration example of the head-up display gate cover, in which the light source of the liquid crystal display device is arranged on the lower surface side of the drawing.
図５で示すゲートカバー３は、下面側から、樹脂基材１１（例えば、ポリカーボネートフィルム（ＰＣ））／赤外線吸収層１２／赤外線反射層１３／１６で示される偏光板用フィルムＢ（例えば、ＴＡＣ）／偏光層１４／１７で示される偏光板用フィルムＡ（ＴＡＣ）／粘着層１８／保護フィルム１９（例えば、ＰＣ）／ハードコート層２０の順に構成されている。
The
図５に示す構成の本発明のゲートカバー３においても、樹脂基材１１の面内リターデーション値ＲＯが、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であることを特徴とするが、更には、１６で示される偏光板用フィルムＢ、１７で示される偏光板用フィルムＡ及び保護フィルム１９の全てが、樹脂基材１１で規定する面内リターデーション値ＲＯが、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であることが、最も好ましい形態である。
Also in the
図５に示す構成のゲートカバー３の製造方法は、上記説明した図４で示す構成例１と、一部構成層の配置順は異なるが、同様の方法で作製することができる。
The method of manufacturing the
《液晶表示装置》
本発明に係るヘッドアップディスプレイに用いられる好ましい表示装置として、液晶表示装置を例にして説明する。
《Liquid crystal display device》
A liquid crystal display device will be described as an example of a preferable display device used for the head-up display according to the present invention.
図６は、液晶表示装置３０の基本的な構成の一例を示す模式図である。図６に示されているように、液晶表示装置３０は、基本的には、液晶セル３２と、それを挟持する第１の偏光板３１及び第２の偏光板３３と、バックライト３４とで構成される。
FIG. 6 is a schematic diagram showing an example of the basic configuration of the liquid
液晶セル３２の表示モードは、特に制限されず、例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｉｓｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、及びＩＰＳ（Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）等のいずれであってよい。モバイル機器向けの液晶セルは、例えばＩＰＳモードのものが好ましく、中・大型用途の液晶セルは、例えばＶＡモードのものが好ましい。
The display mode of the
第１の偏光板３１は、液晶セル３２の視認側の面に配置されており、第１の偏光子３１ａと、第１の偏光子３１ａの液晶セル３２とは反対側の面に配置された第１の保護フィルム３１ｂと、第１の偏光子３１ａの液晶セル３２側の面に配置された第２の保護フィルム３１ｃとを含む。
The first polarizing plate 31 is arranged on the surface of the
また、第２の偏光板３３は、液晶セル３２のバックライト３４側の面に配置されており、第２の偏光子３３ａと、第２の偏光子３３ａの液晶セル側の面に配置された保護フィルム３３ｂと、第２の偏光子３３ａの液晶セルとは反対側の面に配置された保護フィルム３３ｃを含む。第２の偏光子３３ａの吸収軸は、第１の偏光子３１ａの吸収軸と直交していることが好ましい。
The second polarizing plate 33 is arranged on the surface of the
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量％」を表す。また、以下の各構成成分の記載において、各図に記載されている数字を括弧内に示した。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. In the examples, "%" is used, but "% by mass" is used unless otherwise specified. In the following description of each constituent component, the numbers described in each figure are shown in parentheses.
《ゲートカバーの作製》
〔ゲートカバー１の作製〕
下記の方法に従って、図４で示す構成のゲートカバー１を作製した。
<<Fabrication of gate cover>>
[Production of gate cover 1]
The
（赤外線反射層Ｒ１の作製）
（１）低屈折率層形成用塗布液１の調製
撹拌容器にカチオンポリマーとしてメチルジアリルアミン塩酸塩重合体（３級アミン塩を含む。）（ＰＡＳ−Ｍ−１、重量平均分子量２００００、５０質量％水溶液、ニットーボーメディカル株式会社製）４．０ｇ、ジアリルジメチルアンモニウムクロライド重合体（４級アンモニウム基を含む。）（ＰＡＳ−Ｈ−５Ｌ、重量平均分子量３００００、２８質量％水溶液、ニットーボーメディカル株式会社製）５．０ｇ、ゆすぎ水３１ｇ、及びホウ酸（３質量％水溶液）３１．９ｇを混合した。ここに、１０質量％の酸性コロイダルシリカの水溶液（ＳＴ−ＯＸＳ、濃度１０％、平均一次粒径：４〜６ｎｍ、日産化学工業株式会社製）を４８９．９ｇ加えた。これを撹拌しながら４０℃まで加温した。ここに、親水性ポリマー（バインダー）としてポリビニルアルコールの８質量％水溶液（ＪＰ−４５、重合度４５００、ケン化度８８ｍｏｌ％、日本酢ビ・ポバール株式会社製）を反射層内のバインダー比率として７０質量％になるように添加し、さらにエマルジョン樹脂（スーパーフレックス６５０、第一工業製薬株式会社）３０．５ｇ、及び５質量％の界面活性剤の溶液（ソフタゾリンＬＭＥＢ−Ｒ、川研ファインケミカル株式会社）６．３ｇ、及び純水１５ｇの混合液を加え、４０℃で撹拌、混合し、低屈折率層形成用塗布液１を得た。
(Preparation of infrared reflective layer R1)
(1) Preparation of
低屈折率層形成用塗布液１を用いて作製した単層の光波長５８９．３ｎｍにおける屈折率を常法に従って測定した結果、１．５０であった。
The refractive index at a light wavelength of 589.3 nm of a single layer prepared using the
（２）高屈折率層形成用塗布液１の調製
３０質量％の酸化ジルコニウム粒子の分散液（ＳＺＲ−Ｗ、ジルコニアゾル、粒度分布：Ｄ５０ ３〜５ｎｍ、堺化学工業株式会社製）３８４．８ｇに対してクエン酸水溶液（１．９質量％）を１７５．４ｇ加えた。これに界面活性剤（ソフタゾリンＬＭＥＢ−Ｒ、川研ファインケミカル株式会社製）の５質量％水溶液を１．９４ｇ添加し、これを４０℃まで加温した。次いで、エチレン変性ポリビニルアルコールの８質量％水溶液（株式会社クラレ製、エクセバールＲＳ２１１７、ケン化度：９７．５〜９９ｍｏｌ％）を１２０．４ｇ加え、更に純水９．９ｇを加えた。これを１０分撹拌後、親水性ポリマーとしてポリビニルアルコールの６質量％水溶液（ＪＣ−４０、ケン化度：９９ｍｏｌ％以上、日本酢ビ・ポバール株式会社製）を反射層内のバインダー比率として７０質量％になるように添加し、さらに純水６６．７ｇを加えた。この後、４０℃で１８０分間撹拌し、高屈折率層形成用塗布液１を得た。
(2) Preparation of
高屈折率層形成用塗布液１を用いて作製した単層の屈折率は、１．７３であった。
The refractive index of the single layer produced using the
（３）赤外線反射層の形成
２２層同時塗布が可能なスライドホッパー方式の塗布装置を用い、上記調製した低屈折率層形成用塗布液１及び高屈折率層形成用塗布液１を４５℃に保温しながら、偏光板用フィルムＢ（１６）として、１モル／ＬのＮａＯＨ水溶液に１分間浸漬してケン化処理を施したトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（コニカミノルタ社製ＴＡＣフィルム、ＫＣ６ＵＡ）上に、２１層同時重層塗布（低屈折率層及び高屈折率層を交互に合計２１層積層）を行った。この際、最下層（樹脂基材側）及び最上層は低屈折率層（乾燥後の厚さ：１０８ｎｍ）とし、それ以外は低屈折率層（乾燥後の厚さ：１１７ｎｍ）及び高屈折率層（乾燥後の厚さ：１０１ｎｍ）がそれぞれ交互に積層されるようにして、偏光板用フィルムＢ（１６）上に、２１層から構成される赤外線反射層１（１３）を形成した赤外線反射層Ｒ１を作製した。
(3) Formation of infrared reflective layer Using a slide hopper type coating apparatus capable of simultaneous coating of 22 layers, the
上記作製した赤外線反射層Ｒ１の７５０〜１５００ｎｍにおける平均反射率（％）を下記の方法測定した結果、２３％であった。 The average reflectance (%) at 750 to 1500 nm of the infrared reflective layer R1 produced above was measured by the following method, and was 23%.
〈７５０〜１５００ｎｍにおける平均反射率（％）の測定〉
分光光度計として、日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ−４１００を用いて測定した。赤外線反射層について、反射率（ＤＳ）を、ＪＩＳ Ｋ ５６０２：２００８（塗膜の日射反射率の求め方）に準拠して、波長８００ｎｍ〜１５００ｎｍの範囲を２ｎｍおきに測定して、その平均反射率を求めた。
<Measurement of average reflectance (%) at 750 to 1500 nm>
As a spectrophotometer, U-4100 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation was used for measurement. The reflectance (DS) of the infrared reflective layer was measured in accordance with JIS K 5602:2008 (method for obtaining the solar reflectance of the coating film) in the wavelength range of 800 nm to 1500 nm at intervals of 2 nm, and the average reflection thereof was measured. I asked for the rate.
（偏光板ユニット（Ｕ１）の作製）
以下の工程により偏光子及び偏光板ユニット（Ｕ１）を作製した
工程１：ポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗・乾燥して、最終的に５μｍ厚の偏光子（１４）を得た。
(Production of polarizing plate unit (U1))
A polarizer and a polarizing plate unit (U1) were produced by the following steps: Step 1: The polyvinyl alcohol film was uniaxially stretched (temperature: 110° C., stretch ratio: 5 times). This was immersed in an aqueous solution containing 0.075 g of iodine, 5 g of potassium iodide and 100 g of water for 60 seconds, and then immersed in an aqueous solution of 6 g of potassium iodide, 7.5 g of boric acid and 100 g of water at 68°C. This was washed with water and dried to finally obtain a polarizer (14) having a thickness of 5 μm.
工程２：偏光板用フィルムＡ（１７）として、あらかじめ表面にコロナ放電処理を施したトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（コニカミノルタ社製ＴＡＣフィルム、ＫＣ６ＵＡ）の表面上に、上記工程１で得た偏光子（１４）を載せた。なお、コロナ放電処理の条件は、コロナ出力強度２．０ｋＷ、ライン速度１８ｍ／分とした。
Step 2: As a polarizing plate film A (17), obtained in the
工程３：前記偏光板用フィルムＡ（１７）上に載せられた偏光子（１４）の反対側の面上に固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤（完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液）を厚さ２μｍで塗布した。 Step 3: A polyvinyl alcohol adhesive having a solid content of 2% by mass (completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution) is thickly formed on the opposite surface of the polarizer (14) placed on the polarizing plate film A (17). 2 μm in thickness.
工程４：工程３で得たポリビニルアルコール接着剤が塗布された偏光子の面上に、上記作製した赤外線反射層Ｒ１の、赤外線反射層（１３）面と偏光子（１４）の接着層面とを貼合して、偏光板ユニット（Ｕ１）である図３及び図４に記載の構成からなる偏光板（２１）を作製した。
Step 4: On the surface of the polarizer coated with the polyvinyl alcohol adhesive obtained in
（赤外線吸収層ユニット（Ｕ２）の作製）
アクリル系粘着剤としてＳＫダイン２０９４（綜研化学社製）に対し、ＩＴＯ分散液（三菱マテリアル電子化成社製 Ｔ−１ 分散媒：メチルイソブチルケトン）を、ＳＫダイン２０９４の全樹脂量に対し、ＩＴＯ分散液の固形分量が７５質量％になるように添加して、赤外線吸収層形成用塗布液１を調製した。
(Preparation of infrared absorbing layer unit (U2))
As an acrylic adhesive, SK Dyne 2094 (manufactured by Soken Chemical Industry Co., Ltd.) was mixed with ITO dispersion liquid (T-1 dispersion medium: methyl isobutyl ketone manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Co., Ltd.) for the total amount of SK Dyne 2094 resin. The dispersion liquid was added so that the solid content was 75% by mass to prepare an infrared absorbing layer forming
次いで、樹脂基材（１１）として、ポリカーボネートフィルムＦ１（帝人社製、ＰＵＲＥ−ＡＣＥ Ｃ１１０、厚さ１００μｍ）を用い、湿式塗布法により乾燥膜厚１０μｍになるように上記調製した赤外線吸収層形成用塗布液１を塗布した後、８０℃で１分間乾燥して、樹脂基材（１１）上に、赤外線吸収層（１２）を有する赤外線吸収層ユニット（Ｕ２）を作製した。
Next, for forming the infrared absorption layer, a polycarbonate film F1 (PURE-ACE C110, manufactured by Teijin Ltd., thickness 100 μm) is used as the resin substrate (11) and prepared by wet coating so as to have a dry film thickness of 10 μm. After applying the
（偏光板ユニット（Ｕ１）と赤外線吸収層ユニット（Ｕ２）の貼合）
次いで、上記作製した偏光板ユニット（Ｕ１、偏光板（２１））を構成する偏光板用フィルムＢ（１６）面と、上記作製した赤外線吸収層ユニット（Ｕ２）の赤外線吸収層（１２）面とを対向させ、貼合ローラーで加圧して貼合した。
(Laminating the polarizing plate unit (U1) and the infrared absorbing layer unit (U2))
Next, the polarizing plate film B (16) surface constituting the above-prepared polarizing plate unit (U1, polarizing plate (21)), and the infrared absorbing layer (12) surface of the above-prepared infrared absorbing layer unit (U2) Were opposed to each other, and pressure was applied by a bonding roller to bond them.
（保護フィルムユニット（Ｕ３）の作製）
アクリル系粘着剤としてＳＫダイン２０９４（綜研化学社製）を単独で用い、粘着層形成用塗布液１を調製した。
(Preparation of protective film unit (U3))
SK Dyne 2094 (manufactured by Soken Chemical Industry Co., Ltd.) was used alone as an acrylic pressure-sensitive adhesive to prepare a
次いで、保護フィルム（１９）として、ポリカーボネートフィルムＦ１（帝人社製、ＰＵＲＥ−ＡＣＥ Ｃ１１０、厚さ１００μｍ）を用い、湿式塗布法により乾燥膜厚１０μｍになるように上記調製した粘着層形成用塗布液１を塗布した後、８０℃で１分間乾燥して、保護フィルム（１９）上に、粘着層（１８）を有する保護フィルムユニット（Ｕ３）を作製した。 Next, a polycarbonate film F1 (PURE-ACE C110, manufactured by Teijin Ltd., thickness 100 μm) was used as the protective film (19), and the above-prepared adhesive layer-forming coating liquid was prepared by a wet coating method so that the dry film thickness was 10 μm. After 1 was applied, it was dried at 80° C. for 1 minute to prepare a protective film unit (U3) having an adhesive layer (18) on the protective film (19).
（偏光板ユニット（Ｕ１）／赤外線吸収層ユニット（Ｕ２）と、保護フィルムユニット（Ｕ３）との貼合）
次いで、上記作製した偏光板ユニット（Ｕ１）と赤外線吸収層ユニット（Ｕ２）とを貼合した積層体の偏光板用フィルムＡ（１７）面と、上記作製した保護フィルムユニット（Ｕ３）の粘着層（１８）面とを対向させ、貼合ローラーで加圧して貼合した。
(Laminating the polarizing plate unit (U1)/infrared absorbing layer unit (U2) and the protective film unit (U3))
Then, the polarizing plate film A (17) surface of the laminate in which the above-prepared polarizing plate unit (U1) and the infrared absorbing layer unit (U2) are laminated, and the adhesive layer of the above-mentioned protective film unit (U3) The (18) surface was made to face and pressure was applied by a bonding roller to bond.
（ハードコート層（２０）の形成）
最後に、上記作製した積層体の保護フィルム（１９）上に、オプスターＫＺ６４４５Ａ（荒川化学社製、シリカハイブリッド紫外線硬化性材料）を乾燥膜厚が３μｍになるように塗布し、ＵＶ硬化装置（ＦＵＳＩＯＮ社製）にて、出力７０％、搬送速度２０ｍの条件で硬化し、ＨＣ層を形成し、図４に記載の構成からなるゲートカバー１を作製した。
(Formation of hard coat layer (20))
Finally, OPSTAR KZ6445A (manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd., silica hybrid UV curable material) was applied onto the protective film (19) of the above-prepared laminate so that the dry film thickness was 3 μm, and a UV curing device (FUSION) was used. (Manufactured by the same company) was cured under the conditions of an output of 70% and a conveying speed of 20 m to form an HC layer, and a
〔ゲートカバー２の作製〕
上記ゲートカバー１の作製において、赤外線吸収層を構成する金属酸化物系赤外線吸収剤であるＩＴＯ分散液（三菱マテリアル電子化成社製 Ｔ−１）のＳＫダイン２０９４の全樹脂量に対する添加量を、ＩＴＯ分散液の固形分量として６０質量％に変更して調製した赤外線吸収層形成用塗布液２を用いた以外は同様にして、ゲートカバー２を作製した。
[Production of gate cover 2]
In the production of the
〔ゲートカバー３の作製〕
上記ゲートカバー１の作製において、赤外線吸収層を構成する金属酸化物系赤外線吸収剤であるＩＴＯ分散液（三菱マテリアル電子化成社製 Ｔ−１）のＳＫダイン２０９４の全樹脂量に対する添加量を、ＩＴＯ分散液の固形分量として４０質量％に変更して調製した赤外線吸収層形成用塗布液３を用いた以外は同様にして、ゲートカバー３を作製した。
[Production of gate cover 3]
In the production of the
〔ゲートカバー４の作製〕
上記ゲートカバー２の作製において、赤外線吸収層を構成する金属酸化物系赤外線吸収剤として、ＩＴＯに代えて、同量のＣＷＯ分散液（住友金属鉱山社製 ＹＭＦ−０２Ａ）を用いて調製した赤外線吸収層形成用塗布液４を用いた以外は同様にして、ゲートカバー４を作製した。
[Production of gate cover 4]
In the preparation of the
〔ゲートカバー５の作製〕
上記ゲートカバー４の作製において、赤外線吸収層を構成する金属酸化物系赤外線吸収剤であるＣＷＯ分散液（住友金属鉱山社製 ＹＭＦ−０２Ａ）のＳＫダイン２０９４の全樹脂量に対する添加量を、ＣＷＯ分散液の固形分量として５０質量％に変更して調製した赤外線吸収層形成用塗布液５を用いた以外は同様にして、ゲートカバー６を作製した。
[Production of gate cover 5]
In the production of the
〔ゲートカバー６の作製〕
上記ゲートカバー２の作製において、赤外線吸収層を構成する金属酸化物系赤外線吸収剤として、ＩＴＯに代えて、同量のＡＴＯ分散液（Ｋｅｅｌｉｎｇ＆Ｗａｌｋｅｒ社製 ＣＰ５Ｃ）を用いて調製した赤外線吸収層形成用塗布液６を用いた以外は同様にして、ゲートカバー６を作製した。
[Production of gate cover 6]
In the production of the
〔ゲートカバー７の作製〕
上記ゲートカバー２の作製において、赤外線吸収層を構成する金属酸化物系赤外線吸収剤として、ＩＴＯに代えて、同量のＡＺＯ分散液（三井金属社製）を用いて調製した赤外線吸収層形成用塗布液７を用いた以外は同様にして、ゲートカバー７を作製した。
[Production of gate cover 7]
In forming the above-mentioned
〔ゲートカバー８の作製〕
上記ゲートカバー１の作製において、赤外線吸収層ユニット（Ｕ２）を形成する赤外線吸収層形成用塗布液として、赤外線吸収層形成用塗布液１に代えて、下記の方法で調製した赤外線吸収層形成用塗布液８を用いた以外は同様にして、ゲートカバー８を作製した。
[Production of gate cover 8]
In the production of the above-mentioned
（赤外線吸収層形成用塗布液８の調製）
アクリル系粘着剤としてＳＫダイン２０９４（綜研化学社製）に対し、７５０〜１２００ｎｍの近赤外波長域に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物として、山本化成社製のＹＫＲ−２０９０（λｍａｘ：８３０ｎｍ 染料１と称す。）をメチルイソブチルケトンに溶解して染料液を調製し、ＳＫダイン２０９４の全樹脂量に対し、染料１の固形分量が１６質量％になるように添加して、赤外線吸収層形成用塗布液８を調製した。
(Preparation of coating liquid 8 for forming infrared absorbing layer)
As an acrylic pressure-sensitive adhesive, SK Dyne 2094 (manufactured by Soken Chemical Industry Co., Ltd.) was used as a near-infrared absorbing organic compound having a maximum absorption peak in the near-infrared wavelength region of 750 to 1200 nm, and YKR-2090 (λmax manufactured by Yamamoto Kasei Co., Ltd.). :830 nm Dye 1) is dissolved in methyl isobutyl ketone to prepare a dye solution, and the solid content of
〔ゲートカバー９の作製〕
上記ゲートカバー８の作製において、赤外線吸収層を構成する近赤外線吸収性有機化合物であるＹＫＲ−２０９０のＳＫダイン２０９４の全樹脂量に対する添加量を、ＹＫＲ−２０９０の固形分量として２０質量％に変更して調製した赤外線吸収層形成用塗布液９を用いた以外は同様にして、ゲートカバー９を作製した。
[Production of gate cover 9]
In the production of the gate cover 8, the addition amount of YKR-2090, which is a near-infrared absorbing organic compound forming the infrared absorbing layer, to the total amount of resin of SK Dyne 2094 was changed to 20% by mass as the solid content of YKR-2090. A gate cover 9 was prepared in the same manner except that the infrared absorbing layer forming coating liquid 9 prepared in the above was used.
〔ゲートカバー１０の作製〕
上記ゲートカバー８の作製において、赤外線吸収層を構成する近赤外線吸収性有機化合物であるＹＫＲ−２０９０のＳＫダイン２０９４の全樹脂量に対する添加量を、ＹＫＲ−２０９０の固形分量として２８質量％に変更して調製した赤外線吸収層形成用塗布液１０を用いた以外は同様にして、ゲートカバー１０を作製した。
[Production of gate cover 10]
In the production of the gate cover 8, the addition amount of YKR-2090, which is a near-infrared absorbing organic compound that constitutes the infrared absorbing layer, to the total amount of resin of SK Dyne 2094 is changed to 28% by mass as the solid content of YKR-2090. A gate cover 10 was produced in the same manner except that the infrared absorbing layer forming coating liquid 10 prepared in the above was used.
〔ゲートカバー１１の作製〕
上記ゲートカバー９の作製において、赤外線吸収層を構成する近赤外線吸収性有機化合物として、ＹＫＲ−２０９０に代えて、同量の下記赤外線吸収染料２（スペクトラムインフォ社製近赤外線染料 λｍａｘ：９９５ｎｍ 染料２と称す。）を用いて調製した赤外線吸収層形成用塗布液１１を用いた以外は同様にして、ゲートカバー１１を作製した。
[Production of gate cover 11]
In the production of the above-mentioned gate cover 9, instead of YKR-2090, the same amount of the following infrared absorbing dye 2 (near infrared dye λmax:995
上記ゲートカバー１１の作製において、赤外線吸収層を構成する近赤外線吸収性有機化合物である赤外線吸収染料２のＳＫダイン２０９４の全樹脂量に対する添加量を、赤外線吸収染料の固形分量として１０質量％に変更して調製した赤外線吸収層形成用塗布液１２を用いた以外は同様にして、ゲートカバー１２を作製した。
In the production of the
〔ゲートカバー１３の作製〕
上記ゲートカバー１０の作製において、赤外線吸収層を構成する近赤外線吸収性有機化合物として、染料１に代えて、同量の山本化成社製のＹＫＲ−２９００（λｍａｘ：８９７ｎｍ 染料３と称す。）を用いて調製した赤外線吸収層形成用塗布液１３を用いた以外は同様にして、ゲートカバー１３を作製した。
[Production of gate cover 13]
In the production of the gate cover 10, as the near-infrared absorbing organic compound forming the infrared absorbing layer, the same amount of YKR-2900 (λmax: 897 nm, called dye 3) manufactured by Yamamoto Kasei Co., Ltd. was used instead of
〔ゲートカバー１４の作製〕
上記ゲートカバー１０の作製において、赤外線吸収層を構成する近赤外線吸収性有機化合物として、染料１に代えて、同量の山本化成社製のＹＫＲ−２２００（λｍａｘ：１００７ｎｍ 染料４と称す。）を用いて調製した赤外線吸収層形成用塗布液１４を用いた以外は同様にして、ゲートカバー１４を作製した。
[Production of gate cover 14]
In the production of the gate cover 10, as the near-infrared absorbing organic compound that constitutes the infrared absorbing layer, the same amount of YKR-2200 manufactured by Yamamoto Kasei Co., Ltd. (λmax: 1007 nm, referred to as dye 4) is used instead of
〔ゲートカバー１５の作製〕
上記ゲートカバー２の作製において、赤外線反射層ユニット１の作製に用いた赤外線反射層Ｒ１に代えて、下記の方法で形成した赤外線反射層Ｒ２を用いた以外は同様にして、ゲートカバー１５を作製した。
[Production of gate cover 15]
In the production of the
（赤外線反射層Ｒ２の形成）
前記赤外線反射層ユニット１の作製において、ゲートカバー２の作製に用いたのと同様の低屈折率層形成用塗布液１及び高屈折率層形成用塗布液１を用い、下記に示す乾燥後の厚さとなるように塗布条件を変更し、２１層同時重層塗布を行い、赤外線反射層Ｒ２を形成した。
(Formation of infrared reflective layer R2)
In the preparation of the infrared
この際、最下層（樹脂基材側）及び最上層は低屈折率層の乾燥後の厚さは８５ｎｍ、それ以外の低屈折率層の乾燥後の厚さは９２ｎｍ及び高屈折率層の乾燥後の厚さは７９ｎｍとし、それぞれ交互に積層されるようにして、偏光板用フィルムＢ（１６）上に、２１層から構成される赤外線反射層Ｒ２を形成した。 At this time, the lowermost layer (resin base material side) and the uppermost layer had a low-refractive index layer having a thickness of 85 nm after drying, and the other low-refractive index layers had a thickness after drying of 92 nm and a high-refractive index layer. The subsequent thickness was set to 79 nm, and the infrared reflective layer R2 composed of 21 layers was formed on the polarizing plate film B (16) so as to be laminated alternately.
〔ゲートカバー１６の作製〕
上記ゲートカバー１０の作製において、赤外線反射層ユニット１の作製に用いた赤外線反射層Ｒ１に代えて、上記赤外線反射層Ｒ２を用いた以外は同様にして、ゲートカバー１６を作製した。
[Production of gate cover 16]
In the production of the gate cover 10, the
〔ゲートカバー１７の作製〕
上記ゲートカバー２の作製において、赤外線反射層ユニット１の作製に用いた赤外線反射層Ｒ１に代えて、下記の方法で形成した赤外線反射層Ｒ３を用いた以外は同様にして、ゲートカバー１７を作製した。
[Production of gate cover 17]
In the production of the
（赤外線反射層Ｒ３の形成）
偏光板用フィルムＢ（１６）であるＴＡＣフィルム上に、特開２０１７−１２２０２５号公報の実施例に記載の遮熱フィルムＪＱ２の形成方法に従って、スパッタリング法を用いて、下層部からＩＴＯ（膜厚：３７ｎｍ）／Ａｇ(膜厚：４ｎｍ)／ＩＴＯ（膜厚：６０ｎｍ）／Ａｇ(膜厚：４ｎｍ)／ＩＴＯ（膜厚：６８ｎｍ）／Ａｇ(膜厚：４ｎｍ)／ＩＴＯ（膜厚：３４ｎｍ）の構成からなる金属膜を順次積層して、赤外線反射層Ｒ３を形成した。
(Formation of infrared reflective layer R3)
On the TAC film that is the polarizing plate film B (16), the ITO (film thickness) from the lower layer portion was formed using the sputtering method according to the method for forming the heat shield film JQ2 described in the example of JP-A-2017-122025. : 37 nm)/Ag (film thickness: 4 nm)/ITO (film thickness: 60 nm)/Ag (film thickness: 4 nm)/ITO (film thickness: 68 nm)/Ag (film thickness: 4 nm)/ITO (film thickness: 34 nm The infrared reflection layer R3 was formed by sequentially laminating the metal films having the above structure.
〔ゲートカバー１８の作製〕
上記ゲートカバー１０の作製において、赤外線反射層ユニット１の作製に用いた赤外線反射層Ｒ１を、上記赤外線反射層Ｒ３に変更した以外は同様にして、ゲートカバー１８を作製した。
[Production of gate cover 18]
A
〔ゲートカバー１９の作製〕
上記ゲートカバー２の作製において、ゲートカバーの層構成を、図４に示す構成から、図５に示す赤外線吸収層（１２）と赤外線反射層（１３）が隣接する構成に変更した以外は同様にして、ゲートカバー１９を作製した。
[Production of gate cover 19]
In the production of the
〔ゲートカバー２０の作製〕
上記ゲートカバー１０の作製において、ゲートカバーの層構成を、図４に示す構成から、図５に示す赤外線吸収層（１２）と赤外線反射層（１３）が隣接する構成に変更した以外は同様にして、ゲートカバー２０を作製した。
[Production of gate cover 20]
In the production of the gate cover 10, the layer structure of the gate cover is the same as that shown in FIG. 4, except that the infrared absorption layer (12) and the infrared reflection layer (13) shown in FIG. 5 are adjacent to each other. Then, the
〔ゲートカバー２１の作製〕
上記ゲートカバー２の作製において、樹脂基材（１１）を、ポリカーボネートフィルムＦ１（面内リターデーション値Ｒｏ：３２ｎｍ）から、ポリカーボネートフィルムＦ２（帝人社製、ＰＵＲＥ−ＡＣＥ ＲＭ、厚さ７０μｍ、面内リターデーション値Ｒｏ：１２５ｎｍ）に変更した以外は同様にして、ゲートカバー２１を作製した。
[Production of gate cover 21]
In the production of the
〔ゲートカバー２２の作製〕
上記ゲートカバー１０の作製において、樹脂基材（１１）を、ポリカーボネートフィルムＦ１（面内リターデーション値Ｒｏ：３２ｎｍ）から、ポリカーボネートフィルムＦ２（帝人社製、ＰＵＲＥ−ＡＣＥ ＲＭ、厚さ７０μｍ、面内リターデーション値Ｒｏ：１２５ｎｍ）に変更した以外は同様にして、ゲートカバー２２を作製した。
[Production of gate cover 22]
In the production of the gate cover 10, the resin base material (11) is changed from the polycarbonate film F1 (in-plane retardation value Ro: 32 nm) to the polycarbonate film F2 (manufactured by Teijin Limited, PURE-ACE RM, thickness 70 μm, in-plane). A gate cover 22 was produced in the same manner except that the retardation value Ro was changed to 125 nm.
〔ゲートカバー２３の作製〕
上記ゲートカバー１の作製において、赤外線吸収層を構成する金属酸化物系赤外線吸収剤を除き、アクリル系粘着剤であるＳＫダイン２０９４（綜研化学社製）のみで調製した赤外線吸収層形成用塗布液１５を用いた以外は同様にして、ゲートカバー２３を作製した。
[Production of gate cover 23]
In the preparation of the
〔ゲートカバー２４の作製〕
上記ゲートカバー２の作製において、赤外線反射層Ｒ１を除いた以外は同様にして、ゲートカバー２４を作製した。
[Production of gate cover 24]
A gate cover 24 was produced in the same manner as in the production of the
〔ゲートカバー２５の作製〕
上記ゲートカバー１０の作製において、赤外線反射層Ｒ１を除いた以外は同様にして、ゲートカバー２５を作製した。
[Production of gate cover 25]
A gate cover 25 was produced in the same manner as in the production of the gate cover 10 except that the infrared reflective layer R1 was omitted.
〔ゲートカバー２６の作製〕
上記ゲートカバー２の作製において、偏光板ユニットの構成から偏光子を除いた構成（図４改と称す。）に変更した以外は同様にして、ゲートカバー２４を作製した。
[Production of gate cover 26]
A gate cover 24 was produced in the same manner as in the production of the
〔ゲートカバー２７の作製〕
上記ゲートカバー１０の作製において、偏光板ユニットの構成から偏光子を除いた構成（図４改と称す。）以外は同様にして、ゲートカバー２７を作製した。
[Production of gate cover 27]
A gate cover 27 was produced in the same manner as in the production of the gate cover 10 except for the configuration (referred to as FIG. 4 modified) in which the polarizer was omitted from the configuration of the polarizing plate unit.
〔ゲートカバー２８の作製〕
上記ゲートカバー１９の作製において、樹脂基材（１１）を、ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム社製 厚さ：１００μｍ、Ｒｏ値：３３００）に変更した以外は同様にして、ゲートカバー２８を作製した。
[Production of Gate Cover 28]
A gate cover 28 was produced in the same manner as in the production of the
〔ゲートカバー２９の作製〕
上記ゲートカバー２０の作製において、樹脂基材（１１）を、ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム社製 厚さ：１００μｍ、Ｒｏ値：３３００）に変更した以外は同様にして、ゲートカバー２９を作製した。
[Production of gate cover 29]
A gate cover 29 was produced in the same manner as in the production of the
〔ゲートカバー３０の作製〕
上記ゲートカバー２８の作製において、赤外線反射層Ｒ１に代えて、下記の構成からなるＰＥＴ／ＰＥＴ積層体に変更し、偏光板用フィルムＢ（１６）の偏光子を形成するのとは反対側の面に、上記と同様の粘着層を形成した後、偏光板用フィルムＢ（１６）とＰＥＴ／ＰＥＴ積層体とを貼合した以外は同様にして、ゲートカバー３０を作製した。
[Production of gate cover 30]
In the production of the gate cover 28, the infrared reflective layer R1 is replaced with a PET/PET laminated body having the following constitution, and the film is formed on the opposite side of the polarizer B of the polarizing plate film B (16). After forming an adhesive layer similar to the above on the surface, the
（ＰＥＴ／ＰＥＴ積層体）
住友３Ｍ社製のＰＥＴ積層遮熱フィルムである「ＮＡＮＯ９０Ｓ」を用いた。ＮＡＮＯ９０Ｓは、ＰＥＴフィルムの積層体で、膜厚が５０μｍ、ＰＥＴ積層数が２００層である。
(PET/PET laminate)
“NANO90S”, which is a PET laminated thermal barrier film manufactured by Sumitomo 3M, was used. NANO90S is a PET film laminate having a film thickness of 50 μm and a PET laminate number of 200 layers.
〔ゲートカバー３１の作製〕
上記ゲートカバー２９の作製において、赤外線反射層Ｒ１に代えて、上記構成からなるＰＥＴ／ＰＥＴ積層体に変更し、偏光板用フィルムＢ（１６）の偏光子を形成するのとは反対側の面に、上記と同様の粘着層を形成した後、偏光板用フィルムＢ（１６）とＰＥＴ／ＰＥＴ積層体とを貼合した以外は同様にして、ゲートカバー３１を作製した。
[Production of gate cover 31]
In the production of the gate cover 29, the infrared reflective layer R1 is replaced with a PET/PET laminated body having the above-mentioned configuration, and the surface of the polarizing plate film B (16) opposite to the side on which the polarizer is formed. Then, after forming the same adhesive layer as described above, the gate cover 31 was produced in the same manner except that the polarizing plate film B (16) and the PET/PET laminate were bonded together.
上記作製した各ゲートカバーの構成を、表Ｉに示す。 Table I shows the configuration of each of the gate covers produced above.
〔面内リターデーションＲｏ値の測定〕
各ゲートカバーの作製に用いた樹脂基材について、入射角度０°、測定波長５５０ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒｏを、自動複屈折率計 Ａｘｏｍｅｔｏｒｉｃｓ社製Ａｘｏｓｃａｎを用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で測定した。
[Measurement of in-plane retardation Ro value]
With respect to the resin base material used for the production of each gate cover, the in-plane retardation value Ro at an incident angle of 0° and a measurement wavelength of 550 nm was measured at 23° C. and 55% RH using an automatic birefringence meter Axoscan. It was measured under the environment.
〔３８０〜７４０ｎｍにおける直線偏光光の平均透過率の測定〕
上記作製した各ヘッドカバーについて、偏光透過率分光光度計（Ｖ−５７０、日本分光社製）を用い、ガラス偏光板（Ｅｄｍｏｎｄ社製、厚さ５０ｍｍ）を光路に設置し、３８０〜７４０ｎｍの可視光波長領域における直線偏光光の平均透過率を測定した。
[Measurement of average transmittance of linearly polarized light at 380 to 740 nm]
With respect to each of the head covers prepared above, a glass polarization plate (manufactured by Edmond, thickness: 50 mm) was installed in the optical path using a polarized light transmittance spectrophotometer (V-570, manufactured by JASCO Corporation), and visible light of 380 to 740 nm was used. The average transmittance of linearly polarized light in the wavelength region was measured.
〔１２００〜１５００ｎｍにおける平均反射率の測定〕
分光光度計として、日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ−４１００を用いて測定した。赤外線反射層ユニットについて、日射反射率（ＤＳ）を、ＪＩＳ Ｋ ５６０２：２００８（塗膜の日射反射率の求め方）に準拠して、波長１２００ｎｍ〜１５００ｎｍの範囲を２ｎｍおきに測定して、その平均反射率を求めた。
[Measurement of average reflectance at 1200 to 1500 nm]
As a spectrophotometer, U-4100 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation was used for measurement. Regarding the infrared reflecting layer unit, the solar reflectance (DS) was measured in accordance with JIS K 5602:2008 (method of determining solar reflectance of a coating film) in a wavelength range of 1200 nm to 1500 nm every 2 nm, and The average reflectance was calculated.
《ヘッドアップディスプレイの評価》
〔遮熱性の評価〕
（評価用のＨＵＤの作製）
トヨタ自動車製のレクサスＬＳに搭載されているヘッドアップディスプレイ（２４インチ）に対し、具備している既存のゲートカバーを外し、上記作製した各ゲートカバー（図１の３の位置）を張り付け、上記作製した各ゲートカバーを具備した評価用のＨＵＤ１〜３１を作製した。
<<Evaluation of head-up display>>
[Evaluation of heat shielding property]
(Preparation of HUD for evaluation)
To the head-up display (24 inches) mounted on the Toyota Lexus LS, remove the existing gate cover provided and attach the above-mentioned gate covers (
（評価１：太陽光線照射時の液晶表示装置表面温度の測定）
模擬太陽光としてパナソニック社製の「ＲＦ１００Ｖ２００Ｗ−Ｗ／Ｄ」レフ電球を用い、評価用のＨＵＤのゲートカバー面から１０ｃｍの上部に配置した。
(Evaluation 1: Measurement of liquid crystal display device surface temperature during irradiation of sunlight)
As a simulated sunlight, a "RF100V200W-W/D" reflex bulb manufactured by Panasonic Corporation was used, and it was placed 10 cm above the gate cover surface of the HUD for evaluation.
次いで、２５℃、６０％ＲＨの環境下で、１００時間照射した後の液晶表示装置の表面温度を、表面温度計（株式会社キーエンス製、超小型・小スポット赤外放射温度計ＩＴ２−５０）を用いて測定した。 Then, the surface temperature of the liquid crystal display device after being irradiated for 100 hours in an environment of 25° C. and 60% RH is measured by a surface thermometer (manufactured by Keyence Co., Ltd., microminiature small spot infrared radiation thermometer IT2-50). Was measured.
（評価２：太陽光線照射後のゲートカバーの外観観察）
フロントガラスの上面側より、模擬太陽光としてパナソニック社製の「ＲＦ１００Ｖ２００Ｗ−Ｗ／Ｄ」レフ電球を用い、評価用のＨＵＤのゲートカバー面から１０ｃｍの上部に配置した。
(Evaluation 2: Observation of appearance of gate cover after irradiation of sunlight)
A "RF100V200W-W/D" reflex bulb manufactured by Panasonic Corporation was used as simulated sunlight from the upper surface side of the windshield, and was placed 10 cm above the gate cover surface of the HUD for evaluation.
次いで、２５℃、６０％ＲＨの環境下で、２００時間照射した後のゲートカバーの外観形状を目視観察し、下記の基準に従って耐久性の評価を行った。 Then, the external appearance of the gate cover after irradiation for 200 hours under the environment of 25° C. and 60% RH was visually observed, and the durability was evaluated according to the following criteria.
◎：ゲートカバーに、変形や膨れの発生が全く認められない
○：ゲートカバーに、ほぼ変形や膨れの発生が認められない
△：ゲートカバーの一部で弱い変形が認められるが、実用上許容される品質である
×：ゲートカバーに明らかな変形や膨れが認められ、実用上問題となる品質である
〔投影画像の品質評価〕
各ＨＵＤの投影画面上に、速度情報及び文字情報を投影し、投影された画像の虹ムラの発生の有無及び画像鮮鋭度を目視観察し、下記の基準に従って、投影画像の評価を行った。
⊚: No deformation or swelling was observed in the gate cover ◯: Almost no deformation or swelling was observed in the gate cover Δ: Weak deformation was observed in part of the gate cover, but practically acceptable X: The gate cover has obvious deformation and swelling, which is a quality that poses a practical problem [Projected image quality evaluation]
Velocity information and character information were projected on the projection screen of each HUD, the presence or absence of rainbow unevenness in the projected image and the image sharpness were visually observed, and the projected image was evaluated according to the following criteria.
○：投影画像に、虹ムラの発生がなく、高鮮鋭な表示画像である
△：投影画像に、弱い虹ムラの発生が認められるが、表示画像の鮮鋭性は良好である
×：投影画像に、明らかな虹ムラが発生し、表示画像の鮮鋭性もやや低い
××：投影画像に、強い虹ムラが発生し、表示画像の鮮鋭性も低い
以上により得られた結果を、表IIに示す。
◯: The projected image has no rainbow unevenness and is a highly sharp display image. Δ: Weak rainbow unevenness is observed in the projected image, but the sharpness of the displayed image is good. , Clear rainbow unevenness was generated and the sharpness of the display image was slightly low XX: Strong rainbow unevenness was generated in the projected image and the sharpness of the display image was also low. ..
１ ヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ）
２ フロントガラス
３ ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー（ゲートカバー）
４ 拡大鏡
５ コールドミラー
６ ホットミラー
７ 液晶表示装置（ＬＣＤ）
１１ 樹脂基材
１２ 赤外線吸収層
１３ 赤外線反射層
１４ 偏光層（偏光子）
１６ 偏光板用フィルムＢ
１７ 偏光板用フィルムＡ
１８ 粘着層
１９ 保護フィルム
２０ ハードコート層
２１ 偏光板
３０ 液晶表示装置
３１ 第１の偏光板
３１ａ 第１の偏光子
３２ 液晶セル
３３ 第２の偏光板
３３ａ 第２の偏光子
Ｌ 太陽光
Ｕ１ 偏光板ユニット
Ｕ２ 赤外線吸収層ユニット
Ｕ３ 保護フィルムユニット
1 Head-up display (HUD)
2
4 Magnifying
11
16 Film for polarizing plate B
17 Film A for polarizing plate
18
Claims (8)
前記樹脂基材の面内リターデーション値ＲＯが、入射角度０°、波長５５０ｎｍの光線を入射させたときに、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であり、
３８０〜７４０ｎｍの可視光波長領域における直線偏光光の平均透過率が８０％以上であり、かつ、
７５０〜１５００ｎｍの近赤外線波長領域における平均反射率が１５％以上である
ことを特徴とするヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。 A gate cover for a head-up display in which an infrared absorbing layer, an infrared reflecting layer and a polarizing layer are provided on a resin substrate,
The in-plane retardation value R O of the resin substrate is 0 nm or more and less than 100 nm when a light beam having an incident angle of 0° and a wavelength of 550 nm is incident,
The average transmittance of linearly polarized light in the visible light wavelength region of 380 to 740 nm is 80% or more, and
A gate cover for a head-up display, which has an average reflectance of 15% or more in a near infrared wavelength region of 750 to 1500 nm.
（１）７５０〜１２００ｎｍの近赤外波長域に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物
（２）金属酸化物系赤外線吸収剤 The gate cover for a head-up display according to claim 1, wherein the infrared absorbing layer contains one of the infrared absorbing agents classified in the following (1) and (2).
(1) Near-infrared absorbing organic compound having a maximum absorption peak in the near-infrared wavelength region of 750 to 1200 nm (2) Metal oxide infrared absorber
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| WO2021045185A1 (en) * | 2019-09-06 | 2021-03-11 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | Heat blocking film |
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