JP2020075824A - ガラス板の製造方法 - Google Patents
ガラス板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020075824A JP2020075824A JP2018208100A JP2018208100A JP2020075824A JP 2020075824 A JP2020075824 A JP 2020075824A JP 2018208100 A JP2018208100 A JP 2018208100A JP 2018208100 A JP2018208100 A JP 2018208100A JP 2020075824 A JP2020075824 A JP 2020075824A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- glass plate
- polishing
- abrasive
- polarizing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 207
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract description 45
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims abstract description 27
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 28
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 claims description 24
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 18
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 3
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 abstract description 7
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 abstract 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 35
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 13
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 12
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 12
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018071 Li 2 O 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
Description
以下、本発明に係るガラス板の製造方法の一例として、偏光ガラス板の製造方法の一例について説明する。
図1(a)〜図1(d)は、本発明の一実施形態に係る偏光ガラス板の製造方法を説明するための模式図である。
次に、研磨材を含むスラリーを用いて、ガラス部材7の表面を研磨する。具体的には、研磨材を含むスラリーを導入しつつ、ガラス部材7の表面に、研磨パッドに押し当てガラス部材7の表面を研磨する。研磨パッドとしては、特に限定されず、硬質発泡ウレタンのような硬質パッドを用いてもよいし、軟質スウェードのような軟質パッドを用いてもよい。研磨材を含むスラリーは、研磨材と、水とを含んでいる。研磨材としては、特に限定されないが、例えば、酸化セリウム、ジルコニア、アルミナ、シリカ等を用いることができる。
次に、図1(d)に示すように、ガラス部材7に還元処理を施すことにより、延伸ハロゲン化金属粒子6を還元して延伸金属粒子8とする。還元処理は、例えば、水素雰囲気中で加熱することにより行う。通常、ガラス部材7の表層に存在する延伸ハロゲン化金属粒子6のみを還元して延伸金属粒子8に変化させればよい。なお、上記表層とは、例えば、深さ10μm〜100μm、あるいは深さ20μm〜80μmである。もっとも、ガラス部材7の全体に存在する延伸ハロゲン化金属粒子6を還元して延伸金属粒子8に変化させてもよい。
上記のようにして得られた偏光ガラス板9には、表面固着物が生じ難い。従って、レーザーを遮断する部分が少なくなることから、挿入損失が劣化し難い。よって、得られた偏光ガラス板9では、挿入損失を改善することができる。
以下、本発明の一実施形態に係る偏光ガラス板の製造方法を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。
(a)ガラス母材の作製
質量%でSiO2 59.2%、B2O3 18%、Al2O3 8.5%、Li2O 2%、Na2O 2.5%、K2O 9%、Ag 0.3%、Cl 0.5%を含有するガラス組成(軟化点650℃)となるように原料を調合した。次に、原料を溶融し、溶融したガラスを板状に成形した。次に、板状に成形したガラスに対し、675℃において加熱処理を施すことにより、ガラスマトリクス中に塩化銀粒子を析出させた。これにより、第1の主面及び第2の主面を有するガラス母材を得た。なお、切断等によりガラス母材は幅170mm、長さ1150mm、厚み5mmとした。
(a)の工程で得たガラス母材を一定の速度で送り出しながら、600℃でガラス母材を加熱して軟化させ、同時にガラス母材を延伸させた。次に、ガラス母材が延伸された部分を切断することにより、ガラスマトリクス中に延伸塩化銀粒子が配向して分散されてなるガラス部材を得た。
(b)の工程で得たガラス部材に対し、研磨材として酸化セリウムを含むスラリーを5L/分で供給しながら、スウェード製研磨パッドを用いて研磨を行った。スラリー中における研磨材濃度は20重量%とした。研磨終了3分前に、スラリーの供給を停止すると同時に水を5L/分で供給し始めることにより、スラリーの研磨材濃度を徐々に低下させた。研磨終了時にはスラリー濃度は実質的に0重量%となっていた。
研磨後のガラス部材を、水素雰囲気下において460℃で40時間加熱することにより、ガラス部材に還元処理を施した。これにより、ガラス部材の表層の延伸塩化銀粒子を還元して延伸銀粒子とし、偏光ガラス板を得た。
(c)の研磨工程において水を供給せずにガラス部材の研磨を行い、研磨終了後に水によりガラス部材を洗浄したこと以外は、実施例と同様にして偏光ガラス板を作製した。
実施例及び比較例で得られた偏光ガラス板に対し、グラントムソンプリズムで直線偏光とした近赤外域波長発振レーザーの発振光(波長1310nm)を照射し、入射光と透過光の強度を光パワーメータを用いて測定することにより、挿入損失を算出した。その結果、実施例の偏光ガラス板は挿入損失が0.4dB、比較例の偏光ガラス板は挿入損失が0.6dBであった。
1a,7a…第1の主面
1b,7b…第2の主面
2…ガラスマトリクス
3…ハロゲン化金属粒子
4…発熱体
5…延伸用ローラ
6…延伸ハロゲン化金属粒子
7…ガラス部材
8…延伸金属粒子
9…偏光ガラス板
Claims (7)
- ガラス部材を用意する用意工程と、
研磨材を含むスラリーを用いて、前記ガラス部材の表面を研磨する研磨工程と、
を備え、
前記研磨工程における研磨中に、前記スラリーの研磨材濃度を低下させる、ガラス板の製造方法。 - 前記ガラス部材の表面の研磨を終了する直前に、前記スラリーの研磨材濃度を低下させる、請求項1に記載のガラス板の製造方法。
- 前記ガラス部材の表面の研磨中に水を添加することにより、前記スラリーの研磨材濃度を低下させる、請求項1又は2に記載のガラス板の製造方法。
- 前記ガラス板が、ガラスマトリクス中に金属粒子が配向して分散されてなる偏光ガラス板である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のガラス板の製造方法。
- 前記用意工程において、ガラスマトリクスと、前記ガラスマトリクス中に分散されたハロゲン化金属粒子とを含有するガラス部材を用意する、請求項4に記載のガラス板の製造方法。
- 前記用意工程において、前記ガラスマトリクス中に延伸成形された前記ハロゲン化金属粒子が配置されてなるガラス部材を用意する、請求項5に記載のガラス板の製造方法。
- 前記研磨されたガラス部材に還元処理を施し、前記ハロゲン化金属粒子を還元して金属粒子とする、還元処理工程をさらに備える、請求項5又は6に記載のガラス板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018208100A JP7225687B2 (ja) | 2018-11-05 | 2018-11-05 | ガラス板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018208100A JP7225687B2 (ja) | 2018-11-05 | 2018-11-05 | ガラス板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020075824A true JP2020075824A (ja) | 2020-05-21 |
JP7225687B2 JP7225687B2 (ja) | 2023-02-21 |
Family
ID=70723485
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018208100A Active JP7225687B2 (ja) | 2018-11-05 | 2018-11-05 | ガラス板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7225687B2 (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1160282A (ja) * | 1997-08-05 | 1999-03-02 | Nikon Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の研磨方法 |
JP2000053450A (ja) * | 1998-08-06 | 2000-02-22 | Nikon Corp | 情報記録媒体用基板の製造方法及び情報記録媒体用基板 |
JP2001167430A (ja) * | 1999-12-08 | 2001-06-22 | Asahi Techno Glass Corp | 磁気ディスク用基板およびその製造方法 |
JP2010231854A (ja) * | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Hoya Corp | 磁気ディスク用基板の製造方法 |
JP2012047825A (ja) * | 2010-08-24 | 2012-03-08 | Hoya Candeo Optronics株式会社 | 偏光ガラスの製造方法 |
JP2016038500A (ja) * | 2014-08-08 | 2016-03-22 | 日本電気硝子株式会社 | 偏光ガラス板の製造方法 |
-
2018
- 2018-11-05 JP JP2018208100A patent/JP7225687B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1160282A (ja) * | 1997-08-05 | 1999-03-02 | Nikon Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の研磨方法 |
JP2000053450A (ja) * | 1998-08-06 | 2000-02-22 | Nikon Corp | 情報記録媒体用基板の製造方法及び情報記録媒体用基板 |
JP2001167430A (ja) * | 1999-12-08 | 2001-06-22 | Asahi Techno Glass Corp | 磁気ディスク用基板およびその製造方法 |
JP2010231854A (ja) * | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Hoya Corp | 磁気ディスク用基板の製造方法 |
JP2012047825A (ja) * | 2010-08-24 | 2012-03-08 | Hoya Candeo Optronics株式会社 | 偏光ガラスの製造方法 |
JP2016038500A (ja) * | 2014-08-08 | 2016-03-22 | 日本電気硝子株式会社 | 偏光ガラス板の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7225687B2 (ja) | 2023-02-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI827671B (zh) | 具有改良破裂阻抗之玻璃基物件 | |
JP5255611B2 (ja) | ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイ | |
JP4556962B2 (ja) | ブランク材の残留応力を低減する方法、ブランク材及び情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JPH09236792A (ja) | 表示装置及びその製造方法 | |
JP2010202514A (ja) | 携帯型液晶ディスプレイ用のガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いた携帯型液晶ディスプレイ | |
JP6135755B2 (ja) | 強化ガラスのカッティング方法及びカッティング装置 | |
JPWO2003027736A1 (ja) | 光導波路およびその製造方法 | |
US11389919B2 (en) | Methods for strengthening edges of laminated glass articles and laminated glass articles formed therefrom | |
EP3877345A1 (en) | Methods of making three dimensional glass ceramic articles | |
JP2008260642A (ja) | ガラス組成物、それを用いたガラス板およびその製造方法 | |
JP6519119B2 (ja) | 偏光ガラス板の製造方法 | |
JP2006221166A (ja) | 偏光ガラス、及び偏光ガラスの製造方法 | |
WO2015198934A1 (ja) | 偏光ガラス板及びその製造方法、光アイソレータ用偏光ガラス板セット並びに光アイソレータ用光学素子の製造方法 | |
JPH0151458B2 (ja) | ||
JP4685901B2 (ja) | 偏光ガラスの製造方法 | |
JP7225687B2 (ja) | ガラス板の製造方法 | |
TWI795580B (zh) | 用於微電子製造的載具 | |
WO2017217388A1 (ja) | 強化ガラス板および強化ガラス板の製造方法 | |
JP3705505B2 (ja) | 偏光ガラス及びその製造方法 | |
JP2007156401A (ja) | 偏光ガラスおよび偏光ガラスの製造方法 | |
JP5502937B2 (ja) | ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイ | |
KR102565702B1 (ko) | 강화 유리의 제조 방법 및 강화 유리 | |
JP2001192240A (ja) | 表示装置及びその製造方法 | |
JP2009265376A (ja) | 光アイソレータ用積層体及び光アイソレータ | |
JP5002067B2 (ja) | 携帯型液晶ディスプレイ用のガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いた携帯型液晶ディスプレイ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210521 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20211119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211214 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20220204 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220404 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220802 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220928 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230110 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230123 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7225687 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |