JP2020032725A - 3次元の物体を付加製造する装置 - Google Patents
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Abstract
Description
2 吸引デバイス
3 不活性化デバイス
4 プロセスガスの吸引流
5 プロセスチャンバ
6 造形平面
7 基体
8 内部吸引体積
9 吸引手段
10 回転軸
11 羽根
12 吸引チャネル
13 吸引チャネル12の直径
14 プロセスガスの不活性化流
15 プロセスガス吸気口
16 蓄圧器
17 プロセスガス出口
18 不活性化部分流
19 締結要素
20 プロセスガス排気口
Claims (15)
- 造形材料の層を連続して層ごとに選択的に照射及び固化することによって3次元の物体を付加製造する装置であって、前記造形材料は、前記装置のプロセスチャンバ(5)内でエネルギービームによって固化することができ、前記装置は、製造プロセス中に前記装置の前記プロセスチャンバ(5)から生成される粒子及び/又は残留物を加えることが可能なプロセスガスを局部的に吸引するように適合された吸引デバイス(2)を備える装置において、前記吸引デバイス(2)は、内部吸引体積(8)を画定する基体(7)と吸引手段(9)とを備え、前記吸引手段(9)は、前記吸引手段(9)の回転軸(10)、特に中心軸の周りに回転可能に支持されており、前記回転軸(10)の周りを回転することによって前記内部吸引体積(8)内にプロセスガスの吸引流(4)を生成するように適合されることを特徴とする装置。
- 前記吸引デバイス(2)は、制限領域、特に前記エネルギービームを介して造形材料が直接照射される造形平面(6)の固化区間からプロセスガスを吸引するように適合されることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 前記吸引手段(9)は、前記吸引デバイス(2)によって生成される前記プロセスガスの吸引流(4)を、前記基体(7)を備えた吸引チャネル(12)内へ、特に前記基体(7)を通って延びる吸引チャネル(12)内へ案内するように適合され、前記吸引チャネル(12)は、少なくとも1つのプロセスガス排気口(20)に連結されることを特徴とする、請求項1又は2に記載の装置。
- 前記吸引手段(9)は、前記回転軸(10)の周りに回転可能に支持された複数の羽根(11)を備え、前記羽根(11)は、プロセスガスを前記制限領域から前記内部吸引体積(8)を介して前記吸引チャネル(12)内へ、特に前記プロセスガス排気口(20)の方へ運搬するように適合されることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一つに記載の装置。
- 前記吸引チャネル(12)の直径(13)は一定であるか、又は前記吸引デバイス(2)の円周に沿って変動し、特に前記吸引チャネル(12)は、渦巻状の形状を構成することを特徴とする、請求項3又は4に記載の装置。
- 前記吸引手段(9)は、前記吸引デバイス(2)によって生成される前記プロセスガスの吸引流(4)によって駆動され、且つ/又は前記吸引手段(9)は、駆動ユニット、特にモータによって駆動されることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一つに記載の装置。
- 前記吸引デバイス(2)に連結された不活性化デバイス(3)を有し、前記不活性化デバイス(3)は、プロセスガスの不活性化流(14)の少なくとも一部を前記プロセスチャンバ(5)の制限領域へ案内するように適合された少なくとも1つのプロセスガス出口(17)、特に少なくとも1つのノズル及び/又は少なくとも1つのスリットを備えることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一つに記載の装置。
- 前記少なくとも1つのプロセスガス出口(17)の上流に配置された蓄圧器(16)を有し、前記蓄圧器(16)は、前記プロセスガスの不活性化流(14)を圧力下で貯蔵するように適合されることを特徴とする、請求項7に記載の装置。
- 前記不活性化デバイス(3)は、前記蓄圧器(16)に連結され、特に前記蓄圧器(16)上に配置された複数のプロセスガス出口(17)を備え、前記蓄圧器(16)内に圧力下で貯蔵されている前記プロセスガスの不活性化流(14)は、前記プロセスガス出口(17)を通って前記制限領域へ案内されることを特徴とする、請求項8に記載の装置。
- 前記内部吸引体積(8)は、対称の形状、特に回転対称の形状、好ましくはリング形状に構成されることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一つに記載の装置。
- 前記吸引デバイス(2)及び造形平面(6)は、互いに対して可動であることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか一つに記載の装置。
- 前記吸引デバイス(2)及び/又は前記不活性化デバイス(3)及び照射デバイスの少なくとも一部は、前記装置の作業ヘッド上に取り付けられ、前記吸引デバイス(2)及び/又は前記不活性化デバイス(3)は、前記吸引デバイス(2)及び/又は前記不活性化デバイス(3)を前記作業ヘッド上に取り付けるための少なくとも1つの締結手段(19)を備えることを特徴とする、請求項1〜11のいずれか一つに記載の装置。
- 前記不活性化デバイス(3)及び前記吸引デバイス(2)は、複合モジュール(1)を形成することを特徴とする、請求項1〜12のいずれか一つに記載の装置。
- 前記プロセスガスの不活性化流(14)及び前記プロセスガスの吸引流(4)は、閉ガスループ内を流れ、前記プロセスガスの不活性化流(14)は、前記少なくとも1つのプロセスガス出口(17)を通って前記プロセスチャンバ(5)の前記制限領域に入り、前記プロセスガスの吸引流(4)は、前記制限領域から前記吸引手段(9)を介して吸引され、前記吸引チャネル(12)を通って前記プロセスガス排気口(20)へ流れることを特徴とする、請求項1〜13のいずれか一つに記載の装置。
- 3次元の物体を付加製造する装置、特に請求項1〜14のいずれか一つに記載の装置向けの吸引デバイス(2)であって、製造プロセス中に前記装置のプロセスチャンバ(5)から生成される粒子及び/又は残留物を加えることが可能なプロセスガスを局部的に吸引するように適合される吸引デバイスにおいて、前記吸引デバイス(2)は、内部吸引体積(8)を画定する基体(7)と吸引手段(9)とを備え、この吸引手段(9)は、前記吸引手段(9)の回転軸(10)、特に中心軸の周りに回転可能に支持されており、前記回転軸(10)の周りを回転することによって前記内部吸引体積(8)内にプロセスガスの吸引流(4)を生成するように適合されることを特徴とする吸引デバイス。
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