JP2020024945A

JP2020024945A - X-ray device

Info

Publication number: JP2020024945A
Application number: JP2019203282A
Authority: JP
Inventors: チウ−ホン・フ; Qui-Hong Hu
Original assignee: LUXBRIGHT AB
Current assignee: LUXBRIGHT AB
Priority date: 2015-02-10
Filing date: 2019-11-08
Publication date: 2020-02-13
Anticipated expiration: 2035-02-10
Also published as: JP6980740B2

Abstract

To provide an X-ray generation device.SOLUTION: A device includes at least one electron emitter (22, 22_1, 22_2, 22_3) having a conductive substrate (23). The conductive substrate includes a coating of nanostructures (24). The device further includes a heating element (21) attachable to each conductive substrate. The device further includes an electron receiving element (14) configured to receive electrons emitted from at least one electron emitter. The device also includes a vacuum housing (10) configured to house at least the one electron emitter, the heating element, and the electron receiving element. The at least one electron emitter is configured for Schottky emission when the heating element is on and the at least one electron emitter is negatively biased.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本願で与えられる例示的な実施形態は、ショットキー放出モードで動作するように構成されているＸ線デバイスを対象としている。 The exemplary embodiments provided herein are directed to an X-ray device configured to operate in a Schottky emission mode.

Ｘ線は、金属表面に高エネルギー電子を衝突させることによって生じる。この設定では、Ｘ線源は、（１）陰極として知られている電子エミッタと、（２）ターゲット又は陽極として知られる電子レシーバとを備えるデバイスである。陽極はＸ線エミッタである。陰極及び陽極は特定の構成で配置されて、真空筐体内に入れられる。更に、Ｘ線システムは、以下の構成要素を備える：（１）Ｘ線源、（２）コンピュータ制御された操作及び取扱デバイス、（３）検出器、及び（４）電源。更に、他の技術分野と組み合わせて、Ｘ線は、医療用イメージング、セキュリティ検査、産業用非破壊検査に応用される。コンピュータ技術が、現在社会におけるＸ線の使用に革命をもたらしていて、例えばＸ線ＣＴ（ｃｏｍｐｕｔｅｄｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ，コンピュータトモグラフィ）スキャナが挙げられる。検出器技術の発展により、改善されたエネルギー分解能、デジタルイメージ、増大し続ける走査面積が実現されている。ところが、Ｘ線を発生させるための電子源の技術は、ウィリアム・クーリッジがガス充填管を熱タングステンフィラメントを収容する真空管筐体に置き換えて熱電子放出を利用することによってＸ線発生方法に革命をもたらした略１００年前のクーリッジ管の誕生以来、本質的には同じままである。 X-rays are generated by bombarding metal surfaces with high-energy electrons. In this setting, the X-ray source is a device comprising (1) an electron emitter, known as the cathode, and (2) an electronic receiver, known as the target or anode. The anode is the X-ray emitter. The cathode and anode are arranged in a specific configuration and are encased in a vacuum enclosure. Further, the X-ray system comprises the following components: (1) an X-ray source, (2) a computer-controlled operating and handling device, (3) a detector, and (4) a power supply. Furthermore, in combination with other technical fields, X-rays are applied for medical imaging, security inspection, industrial non-destructive inspection. Computer technology is currently revolutionizing the use of X-rays in society, including, for example, X-ray computed tomography (CT) scanners. Advances in detector technology have resulted in improved energy resolution, digital images, and ever increasing scan areas. However, the technology of the electron source for generating X-rays has revolutionized the method of generating X-rays by using thermionic emission by replacing the gas-filled tube with a vacuum tube housing containing a hot tungsten filament by William Coolidge. It has remained essentially the same since the birth of the Coolidge tube almost 100 years ago.

Ｘ線イメージングで使用されるおそらく全てのＸ線管は、熱電子放出に基づいたタングステンフィラメントの熱陰極を利用している。過去十年ほどにわたって、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ，ｃａｒｂｏｎｎａｎｏｔｕｂｅ）を電界放出によってＸ線を発生させる冷陰極として用いることが試みられてきた。その電子放出は、加熱を用いず高電場によって誘起される。ＣＮＴは理想的な電子エミッタとして考えられている。しかしながら、ＣＮＴをＸ線源で使用するには、製造プロセス及び動作条件が、その物質特性に困難な課題を課している。現状の結果は、実際の応用レベルには全然至っていない。従って、本願で与えられる例示的な実施形態の少なくとも一つの目的は、熱陰極及びＣＮＴに基づいた冷陰極に固有の物質及び動作の欠点を克服する電子放出の代替手段を提供することができる代替電子エミッタを提供し、結果として、優れたＸ線源をもたらすことである。更に、本願で与えられる例示的な実施形態は、ポータブルなＸ線デバイスも提供し得る。 Perhaps all X-ray tubes used in X-ray imaging utilize a tungsten filament hot cathode based on thermionic emission. Over the past decade, attempts have been made to use carbon nanotubes (CNTs) as cold cathodes to generate X-rays by field emission. The electron emission is induced by a high electric field without heating. CNTs are considered as ideal electron emitters. However, for CNTs to be used in X-ray sources, the manufacturing process and operating conditions impose difficult challenges on their material properties. At present, the results have not reached the level of practical application at all. Accordingly, at least one object of the exemplary embodiments provided herein is an alternative that can provide an alternative to electron emission that overcomes the material and operational disadvantages inherent in hot cathodes and CNT-based cold cathodes. The purpose is to provide an electron emitter, resulting in an excellent source of X-rays. Further, the exemplary embodiments provided herein may also provide a portable X-ray device.

従って、本願で与えられる例示的な実施形態は、ハイブリッド電子放出、つまり、電界放出又は熱アシスト電子放出を利用するＸ線デバイスを対象としている。特に、本願で与えられる例示的な実施形態はショットキー放出を利用する。熱アシスト電子放出の使用は、熱陰極及び冷陰極の特性を補う。例示的な実施形態の利点は、ショットキー放出と、熱電子放出と、電界放出との間の比較から明らかになる。周知のように、冷陰極は、管内の残留ガス種として存在するＳ、Ｃｌ等の電気陰性元素の吸着によって汚染され得る。吸着が顕著であると、陰極は電子を放出しなくなる。電界放出Ｘ線管の場合、筐体から管を取り出して、管全体をオーブンで焼成して、管を再び取り付けて、焼成の効果を調べるという面倒なプロセスによって、冷陰極を再生させることができる。他方、ショットキー放出管の場合、陰極に適度な中程度の温度上昇をもたらす加熱が、電子の放出をアシストするのと同時に、陰極に汚染ガス原子又は分子が吸着することを防止する。汚染が生じている場合、管を管筐体から取り出さずに、直接陰極を加熱することによってその再生を行うことができる。低電力消費は、より小型の電源を利用可能にして、Ｘ線デバイスを更にポータブルにする。更に、このような電子放出モードの使用は、熱フィラメントベースのシステムには一般的な冷却システムや長期間のクールダウン及びウォームアップの必要性をなくす。 Accordingly, the exemplary embodiments provided herein are directed to X-ray devices that utilize hybrid electron emission, ie, field emission or thermally assisted electron emission. In particular, the exemplary embodiments provided herein utilize Schottky emission. The use of heat assisted electron emission supplements the properties of hot and cold cathodes. The advantages of the exemplary embodiment become apparent from a comparison between Schottky emission, thermionic emission, and field emission. As is well known, cold cathodes can be contaminated by adsorption of electronegative elements, such as S, Cl, which are present as residual gas species in the tube. If the adsorption is significant, the cathode will not emit electrons. In the case of a field emission X-ray tube, the cold cathode can be regenerated by a cumbersome process of removing the tube from the housing, firing the entire tube in an oven, reattaching the tube, and examining the effect of firing. . On the other hand, in the case of a Schottky discharge tube, heating that causes a moderate and moderate temperature rise at the cathode assists in the emission of electrons, while preventing the contaminant gas atoms or molecules from adsorbing to the cathode. If contamination has occurred, it can be regenerated by heating the cathode directly without removing the tube from the tube housing. Low power consumption makes smaller power supplies available and makes X-ray devices more portable. In addition, the use of such an electron emission mode eliminates the need for a common cooling system and long term cool down and warm up for hot filament based systems.

本願で与えられる例示的な実施形態は、導電性基体を有する少なくとも一つの電子エミッタを備えるＸ線発生デバイスを対象としている。導電性基体は、ナノ構造のコーティングを備える。Ｘ線デバイスは、少なくとも一つの電子エミッタの各導電性基体に取り付け可能な加熱素子を更に備える。Ｘ線デバイスは、少なくとも一つの電子エミッタから放出された電子を受け取るように構成された電子受け取り素子を更に備える。Ｘ線デバイスは、少なくとも一つの電子エミッタと、加熱素子と、電子受け取り素子とを収容するように構成された真空筐体を更に備える。少なくとも一つの電子エミッタは、加熱素子がオン状態であり且つ少なくとも一つの電子エミッタに負のバイアスがかけられる際のショットキー放出用に構成される。 The exemplary embodiments provided herein are directed to an X-ray generating device comprising at least one electron emitter having a conductive substrate. The conductive substrate comprises a nanostructured coating. The X-ray device further comprises a heating element attachable to each conductive substrate of the at least one electron emitter. The X-ray device further includes an electron receiving element configured to receive electrons emitted from at least one electron emitter. The X-ray device further includes a vacuum housing configured to house at least one electron emitter, a heating element, and an electron receiving element. The at least one electron emitter is configured for Schottky emission when the heating element is on and the at least one electron emitter is negatively biased.

上記実施形態の例示的な利点は、熱電子放出を利用する熱フィラメントベースのシステムには一般的な冷却システムや長期間のクールダウン及びウォームアップをなくす点である。従って、よりポータブルなエックス線デバイスを得ることができる。 An exemplary advantage of the above embodiment is that hot filament based systems utilizing thermionic emission eliminate the common cooling system and long-term cool down and warm up. Therefore, a more portable X-ray device can be obtained.

一部の例示的な実施形態によると、少なくとも一つの電子エミッタは、加熱素子がオフ状態であり且つ少なくとも一つの電子発生素子に負のバイアスがかけられる際の電界放出用に更に構成される。 According to some exemplary embodiments, the at least one electron emitter is further configured for field emission when the heating element is off and the at least one electron generating element is negatively biased.

従って、このような例示的な実施形態によると、Ｘ線デバイスは、電界放出及びショットキー放出の両方を可能にするデュアル動作モード用に構成され得る。このような実施形態は、多様な分解能及びコントラストレベルでＸ線イメージを提供し得る汎用性デバイスを提供するという例示的な利点を有する。 Thus, according to such an exemplary embodiment, the X-ray device may be configured for a dual mode of operation that allows for both field emission and Schottky emission. Such an embodiment has the exemplary advantage of providing a versatile device that can provide x-ray images at various resolutions and contrast levels.

一部の例示的な実施形態によると、Ｘ線デバイスは、加熱素子の動作状態を制御するように構成された電源を更に備え得る。 According to some exemplary embodiments, the X-ray device may further include a power source configured to control an operating state of the heating element.

電源は、例えば、少なくとも一つの電子エミッタからの電子放出を制御し得る。更に、少なくとも一つの電子エミッタが複数の電子エミッタを有する例示的な実施形態によると、電源は、異なる電子エミッタを選択的に作動させるように使用され得る。このような実施形態は、デバイスの個々の構成要素が個別に制御可能であるというより汎用性のデバイスを提供するという例示的な利点を有する。 The power supply may control, for example, electron emission from at least one electron emitter. Further, according to an exemplary embodiment in which at least one electron emitter has a plurality of electron emitters, a power supply can be used to selectively activate different electron emitters. Such an embodiment has the exemplary advantage of providing a more versatile device in which the individual components of the device are individually controllable.

一部の例示的な実施形態によると、電源２８は、（−，０；陰極が負、陽極が接地）；（−，＋；陰極が負，陽極が正）；（０，＋；陰極が接地、陽極が正）という三つのバイアスモードで二極管用の少なくとも一つの電子発生素子と電子受け取り素子との間の電位差を与えるように更に構成される。このようなバイアスモードの使用は、ショットキー放出又は電界放出を誘起するように提供される。 According to some exemplary embodiments, power supply 28 includes (-, 0; cathode negative, anode ground); (-, +; cathode negative, anode positive); (0, +; cathode negative). It is further configured to provide a potential difference between at least one electron-generating element and an electron-receiving element for a diode in three bias modes: ground, positive. The use of such a bias mode is provided to induce Schottky or field emission.

従って、このような実施形態の例示的な利点は、電界放出を利用する熱フィラメントベースのシステムにとっては一般的な冷却システムや長期間のクールダウン及びウォームアップを排除する点である。従って、よりポータブルなＸ線デバイスを得ることができる。 Thus, an exemplary advantage of such an embodiment is that it eliminates the cooling system and long-term cool-down and warm-up that are common for hot filament based systems that utilize field emission. Therefore, a more portable X-ray device can be obtained.

一部の例示的な実施形態によると、電源は、ＤＣモード（つまり、一定の（−，０）、（−，＋）、（０，＋））；パルスモード（つまり、陽極でＶｐ＞０、又は陰極でＶｐ＜０の方形波）；又はＡＣモード（つまり、正弦波）で動作するように構成される。 According to some exemplary embodiments, the power supply is in DC mode (ie, constant (−, 0), (−, +), (0, +)); pulsed mode (ie, Vp> 0 at the anode). Or a square wave with Vp <0 at the cathode); or configured to operate in AC mode (ie, a sine wave).

多様な動作モードを有する電源を提供することの例示的な利点は、より汎用性のデバイスを提供することができる点である。例えば、パルスモード及びＡＣモードにおいては、波形の明確な立ち上がり時間、周波数、デューティサイクル、パルス形状を得ることができる。 An exemplary advantage of providing a power supply with various modes of operation is that a more versatile device can be provided. For example, in the pulse mode and the AC mode, a clear rise time, frequency, duty cycle, and pulse shape of the waveform can be obtained.

一部の例示的な実施形態によると、導電性基体は、ステンレス鋼、ニッケル、ニッケル系合金、鉄、又は鉄系合金製である。 According to some exemplary embodiments, the conductive substrate is made of stainless steel, nickel, a nickel-based alloy, iron, or an iron-based alloy.

一部の例示的な実施形態によると、ナノ構造は、元素周期表のＩＡ、ＩＩＡ、ＩＢ、ＩＩＩＡ、ＶＩＡ、又はＶＩＩＡ族のドーパント元素でドーピング又は共添加される。 According to some exemplary embodiments, the nanostructures are doped or co-doped with a dopant element from Group IA, IIA, IB, IIIA, VIA, or VIIA of the Periodic Table of the Elements.

一部の例示的な実施形態によると、ナノ構造はＺｎＯ製である。 According to some exemplary embodiments, the nanostructure is made of ZnO.

このような実施形態の例示的な利点は、ＣＮＴに基づいた電子エミッタの代替物を提供できる点である。このような代替物の使用は、ショットキー放出により適した電子エミッタを提供できるという例示的な利点を与える。カーボンベースの電子エミッタは、典型的な管製造プロセスの温度及び反応性ガス環境において損傷し易い。他方、ＺｎＯ及び関連物質はその融点が高く、化学的に安定であると共に、ＣＮＴに等しい魅力的な電界放出性能を有する。 An exemplary advantage of such an embodiment is that it can provide an alternative to CNT based electron emitters. The use of such an alternative offers the exemplary advantage that it can provide an electron emitter more suitable for Schottky emission. Carbon-based electron emitters are susceptible to damage in the temperature and reactive gas environment of typical tube manufacturing processes. On the other hand, ZnO and related materials have high melting points, are chemically stable, and have attractive field emission performance equivalent to CNT.

一部の例示的な実施形態によると、電子受け取り素子は、金属、金属合金、金属化合物、又は金属セラミック複合材製である。 According to some exemplary embodiments, the electron receiving element is made of a metal, metal alloy, metal compound, or metal-ceramic composite.

一部の例示的な実施形態は、セキュリティＸ線走査装置における上記Ｘ線発生デバイスの使用を対象としている。 Some exemplary embodiments are directed to the use of the X-ray generating device in a security X-ray scanner.

一部の例示的な実施形態は、コンピュータトモグラフィ走査装置における上記Ｘ線発生デバイスの使用を対象としている。 Some exemplary embodiments are directed to the use of the X-ray generating device in a computed tomography scanner.

一部の例示的な実施形態は、Ｃアーム型走査装置における上記Ｘ線発生デバイスの使用を対象としている。 Some exemplary embodiments are directed to the use of the X-ray generating device in a C-arm scanner.

一部の例示的な実施形態は、地質調査装置における上記Ｘ線発生デバイスの使用を対象としている。 Some exemplary embodiments are directed to the use of the X-ray generating device in a geological survey device.

一部の例示的な実施形態は、Ｘ線蛍光分光法における上記Ｘ線発生デバイスの使用を対象としている。 Some exemplary embodiments are directed to the use of the X-ray generating device in X-ray fluorescence spectroscopy.

以上の点は、添付図面に示されるような例示的な実施形態の以下のより具体的な説明から明らかになるものであり、図面においては、同じ符号が同じ部分を指称している。図面は、必ずしも縮尺通りではなく、実施形態を例示することに重点を置いている。 The foregoing will be apparent from the following more particular description of exemplary embodiments, as illustrated in the accompanying drawings, in which like reference numbers refer to like parts. The drawings are not necessarily to scale, emphasis instead being placed upon illustrating embodiments.

熱電子放出に基づいたＸ線デバイスの概略図である。1 is a schematic diagram of an X-ray device based on thermionic emission. 本願に記載される例示的な実施形態に係るＸ線デバイスの概略図である。1 is a schematic diagram of an X-ray device according to an exemplary embodiment described herein. 本願に記載される一部の例示的な実施形態に係るグリッドを備える電子エミッタの例示的な例である。5 is an exemplary example of an electron emitter with a grid according to some exemplary embodiments described herein. 本願に記載される一部の例示的実施形態に係る電子エミッタが有し得る多様な形状の例示的な例である。5 is an illustrative example of the various shapes that an electron emitter according to some illustrative embodiments described herein may have. 本願に記載される一部の例示的な実施形態に係る複数の電子エミッタを備えるＸ線デバイスの概略図である。1 is a schematic diagram of an x-ray device with a plurality of electron emitters according to some example embodiments described herein. 図６Ａ及び図６Ｂは、本願に記載される一部の例示的な実施形態に係る図５の電子エミッタのＩ‐Ｖ特性を示すグラフである。6A and 6B are graphs illustrating the IV characteristics of the electron emitter of FIG. 5 according to some exemplary embodiments described herein.

以下の説明目的であって限定的なものではない説明では、具体的な詳細、例えば、特定の構成要素、要素、方法等が、例示的な実施形態の完全な理解を提供するために与えられる。しかしながら、例示的な実施形態がそれら具体的な詳細から逸脱する他の方法でも実施可能であることは当業者に明らかである。場合によっては、例示的な実施形態の説明を曖昧にしないため、周知の方法及び要素の詳細な説明を省略する。本願で用いられている用語は、例示的な実施形態を説明する目的のものであり、本願に与えられる実施形態を限定するものではない。 In the following non-limiting description, specific details, eg, specific components, elements, methods, etc., are provided to provide a thorough understanding of the exemplary embodiments. . However, it will be apparent to one skilled in the art that the exemplary embodiments may be practiced in other ways that depart from these specific details. In some instances, detailed descriptions of well-known methods and components are omitted so as not to obscure the description of the example embodiments. The terms used in the present application are intended to describe exemplary embodiments, but not to limit the embodiments provided herein.

本願に与えられる例示的な実施形態は、ショットキー電子放出を利用するＸ線デバイスを対象としている。例示的な実施形態を分かり易く説明するため、まず、課題を特定して議論する。図１は、従来のＸ線管を示す。図１のＸ線管は、耐火金属／合金製の熱フィラメント陰極１２及び陽極１４を備える真空ガラス管１０を特徴としている。陽極１４の表面は所定の傾斜角で陰極１２と向き合う。電源１３によって提供される電流は、フィラメント陰極１２を通り、フィラメント１２の温度を、そのフィラメントから電子ビーム１６を放出するレベルにまで上昇させる。そして、電子ビーム１６の電子が電場によって陽極１４に向けて加速される。これは、窓２０を介してデバイスの外に向けられるＸ線ビーム１８を生じさせる。陰極と陽極との間の電圧差がＸ線ビームのエネルギーを決定する。 The exemplary embodiments provided herein are directed to X-ray devices that utilize Schottky electron emission. To facilitate a description of exemplary embodiments, issues will first be identified and discussed. FIG. 1 shows a conventional X-ray tube. The X-ray tube of FIG. 1 features a vacuum glass tube 10 with a hot filament cathode 12 and anode 14 made of a refractory metal / alloy. The surface of the anode 14 faces the cathode 12 at a predetermined inclination angle. The current provided by power supply 13 passes through filament cathode 12 and raises the temperature of filament 12 to a level that emits electron beam 16 from the filament. Then, the electrons of the electron beam 16 are accelerated toward the anode 14 by the electric field. This produces an x-ray beam 18 that is directed out of the device through a window 20. The voltage difference between the cathode and the anode determines the energy of the X-ray beam.

Ｘ線イメージングで使用されるおそらく全てのＸ線管は、熱電子放出に基づいたタングステンフィラメントの熱陰極を用いている。過去１０年ほどにおいて、電界放出によってＸ線を発生させる冷陰極としてカーボンナノチューブ（ＣＮＴ，ｃａｒｂｏｎｎａｎｏｔｕｂｅ）を使用する試みが行われてきた。その電子放出は加熱なしで高電場によって誘起される。ＣＮＴは理想的なエミッタであると考えられている。しかしながら、ＣＮＴをＸ線源において使用するためには、製造プロセス及び動作条件が、その物質特性に困難な課題を課している。現状の結果は、実際の応用レベルには全然至っていない。従って、本願に与えられる例示的な実施形態の少なくとも一つの目的は、熱陰極及びＣＮＴに基づいた冷陰極に固有の物質及び動作の欠点を克服する電子放出の代替手段を提供し得る代替電子エミッタによって性能が改善されたポータブルＸ線源を提供することである。従って、本願で与えられる例示的な実施形態は、ハイブリッド放出、電界放出又は熱アシスト放出（ショットキー放出）を利用するＸ線デバイスを対象としている。特に、本願で与えられる例示的な実施形態はショットキー電子放出を利用する。ハイブリッド電子放出に起因した低電力消費は、より小型の電源を利用することを可能にすることによって、Ｘ線デバイスをよりポータブルにし得る。更に、このような電子放出モードの使用は、熱フィラメントベースのシステムには一般的な冷却システムや長期間のクールダウン及びウォームアップの必要性をなくす。 Perhaps all X-ray tubes used in X-ray imaging use a tungsten filament hot cathode based on thermionic emission. In the past decade, attempts have been made to use carbon nanotubes (CNTs) as cold cathodes for generating X-rays by field emission. The electron emission is induced by a high electric field without heating. CNTs are considered to be ideal emitters. However, in order to use CNTs in X-ray sources, manufacturing processes and operating conditions impose difficult challenges on their material properties. At present, the results have not reached the level of practical application at all. Accordingly, at least one object of the exemplary embodiments provided herein is to provide an alternative electron emitter that can provide an alternative to electron emission that overcomes the material and operation disadvantages inherent in hot cathodes and CNT-based cold cathodes To provide a portable X-ray source with improved performance. Accordingly, the exemplary embodiments provided herein are directed to X-ray devices that utilize hybrid emission, field emission, or thermally assisted emission (Schottky emission). In particular, the exemplary embodiments provided herein utilize Schottky electron emission. Low power consumption due to hybrid electron emission can make X-ray devices more portable by allowing the use of smaller power supplies. In addition, the use of such an electron emission mode eliminates the need for common cooling systems and long-term cool down and warm up for hot filament based systems.

図２は、例示的な実施形態に係るＸ線デバイスを示す。図２のＸ線デバイスは、電子エミッタ（つまり陰極）２２と電子受け取り素子１４とを備える真空ガラス管１０を備える。電子受け取り素子１４の表面は所定の傾斜角で電子エミッタ２２と向き合う。電源２８によって提供される電流は、加熱素子２１を通り、電子エミッタ２２の温度を、電子エミッタ２２から電子ビーム２５放出するレベルに上昇させる。このような放出はショットキー放出として知られている。静電場の使用で誘起される図１の電子放出とは異なり、図２の放出は、加熱を介して誘起される。 FIG. 2 shows an X-ray device according to an exemplary embodiment. The X-ray device of FIG. 2 includes a vacuum glass tube 10 having an electron emitter (that is, a cathode) 22 and an electron receiving element 14. The surface of the electron receiving element 14 faces the electron emitter 22 at a predetermined inclination angle. The current provided by the power supply 28 passes through the heating element 21 and raises the temperature of the electron emitter 22 to a level at which the electron emitter 22 emits an electron beam 25. Such an emission is known as a Schottky emission. Unlike the electron emission of FIG. 1 induced by the use of an electrostatic field, the emission of FIG. 2 is induced via heating.

電子ビーム２５の電子は、電場によって電子受け取り素子１４に向けて加速される。これは、窓２０を介してデバイスの外に向けられるＸ線ビーム２６を生じさせる。電子エミッタと電子受け取り素子との間の電圧差がＸ線ビームのエネルギーを決定する。 The electrons of the electron beam 25 are accelerated by the electric field toward the electron receiving element 14. This produces an x-ray beam 26 that is directed out of the device through the window 20. The voltage difference between the electron emitter and the electron receiving element determines the energy of the X-ray beam.

電子エミッタは、ナノ構造２４のコーティングを備える導電性基体２３を備える。加熱素子２１が、管の陰極端において二つの電気フィードスルーを介して導電性基体２３に取り付け可能である。ナノ構造２４のコーティングは、導電性基体２３上に成長可能である。ナノ構造コーティングは、ナノ粒子、ナノワイヤ、ナノロッド、ナノテトラポッド、又はナノチューブの形状であり得る。基体の物質は、ステンレス鋼、ニッケル、ニッケル系合金、鉄、又は鉄系合金であり得る。一部の例示的な実施形態によると、基体は多様な形状に予め成形されている。 The electron emitter comprises a conductive substrate 23 provided with a coating of nanostructures 24. A heating element 21 is attachable to the conductive substrate 23 via two electrical feedthroughs at the cathode end of the tube. A coating of nanostructures 24 can be grown on conductive substrate 23. The nanostructured coating can be in the form of nanoparticles, nanowires, nanorods, nanotetrapods, or nanotubes. The substrate material can be stainless steel, nickel, a nickel-based alloy, iron, or an iron-based alloy. According to some exemplary embodiments, the substrate is pre-formed into various shapes.

一部の例示的な実施形態によると、図３に示されるように、グリッド３０が、電子エミッタのナノ構造２４を備える表面２３と、引き出し電極として機能する電子受け取り素子１４との間に配置される。一部の例示的な実施形態によると、スペーサ３１が電子エミッタとグリッド３０との間に配置される。グリッドは、スペーサを介して固定された電子エミッタに対して１００μｍから１０００μｍまでの間の間隔で配置され得る。円形カバーがグリッドの頂部に取り付けられて、グリッド３２に電圧を印加するグリッド電極として機能する。一部の例示的な実施形態によると、スペーサはセラミックスペーサであり得る。 According to some exemplary embodiments, as shown in FIG. 3, a grid 30 is disposed between the surface 23 comprising the nanostructures 24 of the electron emitters and the electron receiving element 14 functioning as an extraction electrode. You. According to some exemplary embodiments, a spacer 31 is located between the electron emitter and the grid 30. The grid may be arranged at a distance between 100 μm and 1000 μm with respect to the electron emitters fixed via spacers. A circular cover is attached to the top of the grid and functions as a grid electrode that applies voltage to the grid 32. According to some exemplary embodiments, the spacer may be a ceramic spacer.

グリッドは、直径が等しい導電性ワイヤ製である。更に、ワイヤは、高融点低蒸気圧導電性物質（Ｗ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｎｉ、ステンレス鋼、ニッケル系合金等）製である。ワイヤの直径は、３０μｍから１５０μｍまでの間である。グリッドの開口部比は５０％から８０％までの間である。更に、グリッドのワイヤの表面は、顕著な二次電子放出特性を有する物質（ＭｇＯやその関連物質等）の薄層又は多重層でコーティングされる。代わりに、コーティングは、ＵＶ放出物質、ＧａＮやその関連物質でもある。 The grid is made of conductive wires of equal diameter. Further, the wire is made of a high melting point low vapor pressure conductive substance (W, Mo, Ta, Ni, stainless steel, nickel-based alloy, etc.). The diameter of the wire is between 30 μm and 150 μm. The aperture ratio of the grid is between 50% and 80%. In addition, the surface of the wires of the grid is coated with a thin layer or multiple layers of a material (such as MgO or its related materials) having outstanding secondary electron emission properties. Alternatively, the coating is a UV emitting material, GaN and related materials.

従って、コーティングは、電子エミッタからの電子の出力強度を増大させる。図５に示されるような三極Ｘ線管において明らかになるこの種の電子エミッタの全体としての利点は、陽極に対する電子ビームの独立性と、電流出力の増強とである。更に、電子エミッタとグリッドとの間の場が電子ビームの強度を決定する。この場合も、電子エミッタと電子受け取り素子１４との間の電圧差が、Ｘ線ビームのエネルギーを決定する。 Thus, the coating increases the output intensity of the electrons from the electron emitter. The overall advantage of such an electron emitter, which becomes apparent in a triode X-ray tube as shown in FIG. 5, is the independence of the electron beam with respect to the anode and the increased current output. Further, the field between the electron emitter and the grid determines the intensity of the electron beam. Again, the voltage difference between the electron emitter and the electron receiving element 14 determines the energy of the X-ray beam.

図４は、電子エミッタの成形可能な例示的な形状を示す。電子エミッタ２２ａは、導電性基体２３ａ及びナノ構造２４ａのコーティングを備える丸みを帯びたピラミッド型である。更なる例の電子エミッタ２２ｂは、導電性基体２３ｂ及びナノ構造２４ｂのコーティングを備える中実シリンダー状である。図４には、導電性基体２３ｃ及びナノ構造２４ｃのコーティングを備える中空シリンダー状の電子エミッタ２２ｃの更なる例も与えられている。更なる例の電子エミッタ２２ｄは、導電性基体２３ｄ及びナノ構造２４ｄのコーティングを備える中空星型である。このような形状は放出電子の方向に影響を与えることができるものであるので、Ｘ線の多様な使用に適合し得る点は理解されたい。また、他の形状も例示的な実施形態に係るＸ線デバイスにおいて使用可能である点も理解されたい。 FIG. 4 shows an exemplary formable shape of the electron emitter. The electron emitter 22a is a round pyramid with a coating of a conductive substrate 23a and a nanostructure 24a. A further example of the electron emitter 22b is a solid cylinder with a coating of a conductive substrate 23b and a nanostructure 24b. FIG. 4 also provides a further example of a hollow cylindrical electron emitter 22c with a coating of a conductive substrate 23c and a nanostructure 24c. A further example of the electron emitter 22d is a hollow star with a coating of a conductive substrate 23d and a nanostructure 24d. It should be understood that such a shape can affect the direction of the emitted electrons and can therefore be adapted to various uses of X-rays. It should also be understood that other shapes can be used in the X-ray device according to the exemplary embodiment.

一部の例示的な実施形態によると、ナノ構造コーティングは、固相‐液相‐気相法、化学気相堆積（ＣＶＤ，ｃｈｅｍｉｃａｌｖａｐｏｕｒｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、又は化学溶液法によって成長可能である。一部の例示的な実施形態によると、ナノ構造コーティングの形態は、成長プロセスの間又は後に化学的、電気化学的、又は光学的手段によって、電子放出を更に促進するように変更されるようになっている。 According to some exemplary embodiments, the nanostructured coating can be grown by a solid-liquid-gas phase method, a chemical vapor deposition (CVD) method, or a chemical solution method. According to some exemplary embodiments, the morphology of the nanostructured coating may be altered during or after the growth process by chemical, electrochemical, or optical means to further enhance electron emission. Has become.

一部の例示的な実施形態によると、ナノ構造コーティングは、酸化物、窒化物、珪化物、セレン化物、又はテルル化物製であり得る。一部の例示的な実施形態によると、ナノ構造コーティングは、酸化物半導体、例えばＺｎＯ製であり得る。ＺｎＯは、ｎ型ワイドバンドギャップ半導体である。その導電性は、成長プロセス中に発生する酸素空孔に関係している。 According to some exemplary embodiments, the nanostructured coating can be made of an oxide, nitride, silicide, selenide, or telluride. According to some exemplary embodiments, the nanostructured coating may be made of an oxide semiconductor, for example, ZnO. ZnO is an n-type wide band gap semiconductor. Its conductivity is related to oxygen vacancies generated during the growth process.

導電性の改善は、元素周期表のＩＡ、ＩＩＡ，ＩＢ、ＩＩＩＡ、ＶＩＡ、又はＶＩＩＡ族の化学元素をドーピングすることによって達成される。成長後熱処理を適用して、ドーパントを均一化するか、又は、表面に対してドーパントを部分的に分離する。ナノ構造の形態は、局所的電場増強を得るように化学的又は電気化学的手段によって変更可能である。また、ＵＶ処理を適用して、表面特性を改善することもできる。表面コーティングをナノ構造に適用して、エミッタの表面の仕事関数を減少させることによって、電子放出プロセスを更に増強させ得る。一部の例示的な実施形態によると、誘電体層、例えばＳｉＯ_２を、ナノ構造コーティングが存在していない箇所において、導電性基体の上に追加し得る。このような誘電体コーティングは、電子放出を方向付けるのに有用となり得る。 The improvement in conductivity is achieved by doping chemical elements of groups IA, IIA, IB, IIIA, VIA, or VIIA of the Periodic Table of the Elements. A post-growth heat treatment is applied to homogenize the dopant or partially separate the dopant from the surface. The morphology of the nanostructures can be altered by chemical or electrochemical means to obtain local electric field enhancement. UV treatment can also be applied to improve surface properties. A surface coating can be applied to the nanostructures to further enhance the electron emission process by reducing the work function of the surface of the emitter. According to some exemplary embodiments, a dielectric layer, eg, SiO ₂ , may be added over the conductive substrate where no nanostructure coating is present. Such a dielectric coating can be useful in directing electron emission.

加熱素子２１を介して適度な中程度の加熱を行いながら、電子エミッタに負のバイアスをかけると、電子がショットキー放出によって放出される。加熱をオフにして、陰極に負のバイアスをかけると、電子が電界放出によって放出される。現状の電界放出Ｘ線源には存在していない加熱という追加機能は、陰極汚染の場合におけるエミッタの表面から望ましくない吸着化学種を除去することによって、電子エミッタを再生させるようにも適用可能である。 Applying a negative bias to the electron emitter while performing moderate moderate heating through the heating element 21 causes the electrons to be emitted by Schottky emission. When heating is turned off and the cathode is negatively biased, electrons are emitted by field emission. The additional feature of heating, which is not present in current field emission X-ray sources, can also be applied to regenerate electron emitters by removing unwanted adsorbed species from the surface of the emitter in the case of cathode contamination. is there.

一部の例示的な実施形態によると、複数の電子エミッタがＸ線デバイスにおいて使用され得る。図５は、複数の電子エミッタを備えるＸ線管を示す。この実施形態では、三つの電子エミッタ２２＿１、２２＿２及び２２＿３が、密閉チューブ１０内において、電子受け取り素子１４に向き合うエミッタへと組み立てられている。電子エミッタの数及び間隔は変更可能である。 According to some exemplary embodiments, multiple electron emitters may be used in an X-ray device. FIG. 5 shows an X-ray tube with a plurality of electron emitters. In this embodiment, three electron emitters 22_1, 22_2 and 22_3 are assembled into an emitter facing the electron receiving element 14 in the sealed tube 10. The number and spacing of the electron emitters can vary.

例示的な実施形態に係るＸ線デバイスにおいては任意の数の電子エミッタが使用可能である点は理解されたい。また、図５の電子エミッタは、図２から図４のいずれかの特徴を有する電子エミッタ、又は他の形状の電子エミッタとなり得る点も理解されたい。また、複数の電子エミッタは互いに同一である必要はなく、異なる形状及び／又は特徴を有し得る点も理解されたい。 It should be understood that any number of electron emitters can be used in an x-ray device according to an exemplary embodiment. It should also be understood that the electron emitter of FIG. 5 can be an electron emitter having any of the features of FIGS. 2-4, or an electron emitter of other shapes. It should also be understood that the plurality of electron emitters need not be identical to one another and may have different shapes and / or features.

電子エミッタの配置パターンは、線形、矩形、正方形、円形、又は六角形となり得るがこれらに限定されるものではない。電子受け取り素子１４との関係において、電子エミッタ２２＿１、２２＿２及び２２＿３は、これら全てが、電子受け取り素子１４上の一つの集束スポットに向けられた電子２５ａ〜２５ｃを放出するように配置され得るか、又は、電子受け取り素子１４上に放出パターンの拡大又は縮小イメージを投影するように配置され得る。 The arrangement pattern of the electron emitters can be, but is not limited to, linear, rectangular, square, circular, or hexagonal. In the context of the electron receiving element 14, the electron emitters 22_1, 22_2 and 22_3 may be arranged such that they all emit electrons 25a-25c directed to one focusing spot on the electron receiving element 14, Alternatively, it can be arranged to project an enlarged or reduced image of the emission pattern onto the electron receiving element 14.

これら全ての変形例は、Ｘ線ビーム２６の寸法及び形状の要求に合致するものである。電子エミッタ２２＿１、２２＿２及び２２＿３は、まとめて若しくは個別に、同時に若しくは逐次的に作動可能である。このような柔軟な作動方法は、電源の出力周波数の設定によってＸ線発生用の高周波数パルス化モードを可能にし、また、作動させる電子エミッタ２２＿１、２２＿２及び２２＿３の数を選択することによって広範な放射線量の選択を可能にする。電子エミッタ２２＿１、２２＿２、２２＿３の作動は、電源２８によって制御され得る。 All of these variations meet the size and shape requirements of the X-ray beam 26. The electron emitters 22_1, 22_2 and 22_3 can be operated collectively or individually, simultaneously or sequentially. Such a flexible mode of operation allows for a high frequency pulsing mode for X-ray generation by setting the output frequency of the power supply, and extensively by selecting the number of electron emitters 22_1, 22_2 and 22_3 to be activated. Allows selection of radiation dose. The operation of the electron emitters 22_1, 22_2, 22_3 may be controlled by the power supply 28.

本願に与えられる例示的な実施形態は、電子エミッタ２２＿１、２２＿２、２２＿３の個別作動を可能にすることによって、現状のＸ線システムでは利用することができない放出電流を安定化させるための機構を提供する。放出の不均一性は、大面積陰極や多重陰極における深刻な問題である点は理解されたい。この問題は、エミッタの幾何学的及び物理的不均一性に起因する。 The exemplary embodiments provided herein provide a mechanism for stabilizing emission currents that are not available in current x-ray systems by enabling individual actuation of the electron emitters 22_1, 22_2, 22_3. I do. It should be understood that emission non-uniformity is a serious problem in large area cathodes and multiple cathodes. This problem is due to emitter geometric and physical non-uniformities.

つまり、上記エミッタの問題は、物質及びプロセスの問題に起因する。従って、一部の例示的な実施形態は、基体上のエミッタ物質の成長の改善を対象としている。一部の例示的な実施形態によると、エミッタ間の不均一性の存在は、構成要素レベルにおいて解決される。そのような例示的な実施形態について、図５の三陰極構成を例にとって、説明する。 That is, the problem of the emitter is caused by a problem of a material and a process. Accordingly, some exemplary embodiments are directed to improving the growth of emitter material on a substrate. According to some exemplary embodiments, the presence of non-uniformities between emitters is resolved at the component level. Such an exemplary embodiment is described using the three cathode configuration of FIG. 5 as an example.

図６Ａ及び図６Ｂは、図５の電子エミッタ構成の電流‐電圧特性を示す。各グラフにおいて、三角、四角、丸のプロットでそれぞれ表されているプロット点は、図５の電子エミッタ２２＿１、２２＿２、２２＿３それぞれを表す。 6A and 6B show current-voltage characteristics of the electron emitter configuration of FIG. In each graph, plot points represented by triangle, square, and circle plots respectively represent the electron emitters 22_1, 22_2, and 22_3 in FIG.

図６Ａは、電子エミッタと電子受け取り素子との間の距離を同じに保ったままでの電圧Ｖの印加を示す。各電子エミッタ２２＿１、２２＿２、２２＿３はそれぞれ電流ｉ１、ｉ２、ｉ３を放出する。図６Ａのグラフに示されるように、各電子エミッタの電子放出によって提供される電流量は異なる。対象としている全てのエミッタの測定電流値の平均二乗誤差又は二乗平均平方根偏差（標準偏差）を正式に定めることによって、不均一性を定量的に記述することができるが、図６Ａに示されるグラフの差でも十分にこの点は示されている。 FIG. 6A shows the application of the voltage V while keeping the distance between the electron emitter and the electron receiving element the same. Each electron emitter 22_1, 22_2, 22_3 emits a current i1, i2, i3, respectively. As shown in the graph of FIG. 6A, the amount of current provided by the electron emission of each electron emitter is different. By formally defining the mean square error or root mean square deviation (standard deviation) of the measured current values of all the emitters of interest, the non-uniformity can be quantitatively described, but the graph shown in FIG. 6A This difference is well illustrated by the difference.

三つ全ての電子エミッタが同じ電流を放出しなければならない場合、図６Ｂに示されるように、異なる電圧Ｖ１、Ｖ２、Ｖ３を電子エミッタ２２＿１、２２＿２、２２＿３それぞれに提供する必要がある。その有利な結果は、複数の電子エミッタが異なる集束スポットに向けられて、特定の形状のＸ線ビームを形成する場合に明らかとなる。その機構は、全ての集束スポットにおいて一定の電流を提供することによってＸ線ビームの空間均一性を与える。更なる利点は、電子エミッタが一つの集束スポットに向けられ、逐次的にバイアスがかけられる場合、エミッタが経時的に一定の電流での時間一様性を有する電子放出を与えるという点である。また、Ｘ線放出の安定性及び均一性を保証するため、フィードバック監視回路を用いて、電子放出プロセスを制御し得る。 If all three electron emitters must emit the same current, different voltages V1, V2, V3 need to be provided to the electron emitters 22_1, 22_2, 22_3, respectively, as shown in FIG. 6B. The advantageous result becomes apparent when the electron emitters are directed to different focused spots to form a particular shaped x-ray beam. The mechanism provides spatial uniformity of the x-ray beam by providing a constant current at all focused spots. A further advantage is that if the electron emitter is directed to one focused spot and is sequentially biased, the emitter will provide time uniform electron emission at a constant current over time. Also, a feedback monitoring circuit can be used to control the electron emission process to ensure stability and uniformity of the X-ray emission.

一部の例示的な実施形態によると、電源２８は、二極管用の少なくとも一つの電子発生素子と電子受け取り素子との間の電位差を、以下の三つのバイアスモードで提供するように構成される：（−，０：陰極を負，陽極を接地）、（−，＋：陰極を負，陽極を正）、及び、（０，＋：陰極を接地、陽極を正）。このようなバイアスモードの使用は、ショットキー放出を誘起するように提供される。従って、このような実施形態の例示的な利点は、例えば、電界放出を利用する熱フィラメントに基づいたシステムにとって一般的な冷却システムや長期間のクールダウン及びウォームアップをなくすことである。従って、よりポータブルなＸ線デバイスを得ることができる。 According to some exemplary embodiments, power supply 28 is configured to provide a potential difference between at least one electron generating element and an electron receiving element for a diode in three bias modes: (-, 0: negative cathode, grounded anode), (-, +: negative cathode, positive anode), and (0, +: ground cathode, positive anode). The use of such a bias mode is provided to induce a Schottky emission. Thus, an exemplary advantage of such an embodiment is that it eliminates common cooling systems and long-term cool-downs and warm-ups, for example, for systems based on hot filament utilizing field emission. Therefore, a more portable X-ray device can be obtained.

一部の例示的な実施形態によると、電源は、ＤＣ（直流）モード（つまり、一定の（−，０）、（−，＋）、（０，＋））；パルスモード（つまり、陽極接地又は陰極接地での方形波）；又は、ＡＣ（交流）モード（つまり、正弦波）で動作するように構成される。多様な動作モードの電源を提供することの例示的な利点は、より汎用性のあるデバイスを提供できることである。例えば、パルスモード及びＡＣモードでは、波形の明確な立ち上がり時間、周波数、デューティサイクル、及びパルス形状を得ることができる。 According to some exemplary embodiments, the power supply is in DC (direct current) mode (ie, constant (−, 0), (−, +), (0, +)); pulsed mode (ie, anode ground). Or a square wave with cathode ground); or configured to operate in an AC (alternating current) mode (ie, a sine wave). An exemplary advantage of providing power supplies in various modes of operation is that it can provide a more versatile device. For example, in pulse mode and AC mode, a clear rise time, frequency, duty cycle, and pulse shape of the waveform can be obtained.

本願で説明されるＸ線デバイスは多数の分野において使用可能である点は理解されたい。例えば、Ｘ線デバイスをセキュリティ走査装置（例えば、空港のセキュリティチェックにあるようなもの）において使用可能である。加熱素子及びショットキー放出の使用がよりポータブルなデバイスを可能にするので、Ｘ線デバイスはそのようなセキュリティシステムにおいてより簡単に実現可能である。 It should be understood that the X-ray devices described herein can be used in many fields. For example, an X-ray device can be used in a security scanning device (eg, as in an airport security check). X-ray devices are easier to implement in such security systems, as the use of heating elements and Schottky emission allows for more portable devices.

本願で説明されるＸ線デバイスの更なる例示的な使用は、医療用走査デバイス、例えば、コンピュータトモグラフィ（ＣＴ）走査装置や、Ｃアーム型走査装置（小型Ｃアーム装置を含み得る）等におけるものである。本願で説明されるＸ線デバイスの更なる例示的な使用は、地質調査装置におけるものである。 Further exemplary uses of the X-ray devices described herein are in medical scanning devices, such as, for example, computed tomography (CT) scanners and C-arm scanners (which may include miniature C-arm devices). Things. A further exemplary use of the X-ray device described herein is in a geological survey device.

本願で説明されるＸ線デバイスはあらゆる非破壊検査装置において使用可能である点は理解されたい。Ｘ線デバイスのいくつかの例示的な応用として、マンモグラフィ、獣医学的イメージング、Ｘ線蛍光分光法が挙げられる。 It should be understood that the X-ray device described herein can be used in any non-destructive inspection equipment. Some exemplary applications of X-ray devices include mammography, veterinary imaging, and X-ray fluorescence spectroscopy.

本願に与えられる例示的な実施形態の説明は、例示目的で与えられているものである。説明は、完全なものではなく、例示的な実施形態を開示されている正確な形態に限定するものでもなく、修正例及び変更例が、上記教示から可能なものであるか、提供されている実施形態の多様な代替例の実現から得られ得る。本願に記載されている例は、多様な例示的な実施形態の原理及び特性並びのその実際の応用を説明するために選択され記載されていて、当業者が、想定される特定の使用に適するような多様な方法及び多様な修正で例示的な実施形態を利用することができるようにする。本願で説明されている実施形態の特徴は、方法、装置、モジュール、システム及びコンピュータプログラム製品の全ての可能な組み合わせにおいて組み合わせ可能である。本願に与えられている複数の例示的な実施形態は互いにあらゆる組み合わせで実現可能である点は理解されたい。 The description of the exemplary embodiments given in this application is given for the purpose of illustration. The description is not intended to be exhaustive or to limit the exemplary embodiments to the precise forms disclosed, and modifications and variations are possible or are provided from the above teachings. It can be derived from the implementation of various alternatives of the embodiments. The examples described herein have been selected and described to illustrate the principles and characteristics of various exemplary embodiments and their practical application, and will be suitable to those of ordinary skill in the art for the particular envisioned uses. The exemplary embodiment can be used in various methods and various modifications. Features of the embodiments described herein may be combined in all possible combinations of methods, devices, modules, systems and computer program products. It is to be understood that the illustrative embodiments provided herein can be implemented in any combination with one another.

“備える”との用語は、列挙されているもの以外の他の要素又はステップの存在を必ずしも排除するものではなく、単数形での要素の表記は、その要素が複数存在することを排除するものではない。更に、参照符号は特許請求の範囲を限定するものではなく、例示的な実施形態は、ハードウェア及びソフトウェア両者の使用によって少なくとも部分的に実施可能であり、複数の“手段”、“ユニット”又は“デバイス”がハードウェアとの同じ用語によって表され得る。 The word "comprising" does not necessarily exclude the presence of other elements or steps than those listed, and the use of "a" or "an" does not exclude the presence of a plurality of elements. is not. Furthermore, reference signs do not limit the scope of the claims, and example embodiments may be implemented, at least in part, by the use of both hardware and software, a plurality of "means", "units" or "Device" may be described by the same term as hardware.

図面及び明細書において、例示的な実施形態を開示してきた。しかしながら、これらの実施形態には多様な変更及び修正が行われ得るものである。従って、特定の用語を使用しているが、それらは一般的な記載感覚においてのみ使用されているものであり、限定目的のものではなく、実施形態の範囲は、添付の特許請求の範囲によって定められるものである。 In the drawings and specification, the exemplary embodiments have been disclosed. However, various changes and modifications can be made to these embodiments. Thus, although certain terms are used, they are used only in a general descriptive sense, not for purposes of limitation, and the scope of the embodiments is defined by the appended claims. It is something that can be done.

１０真空ガラス管
１４電子受け取り素子
２０窓
２１加熱素子
２２電子エミッタ
２３導電性基体
２４ナノ構造
２５電子ビーム
２６エックス線ビーム
２８電源 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Vacuum glass tube 14 Electron receiving element 20 Window 21 Heating element 22 Electron emitter 23 Conductive substrate 24 Nanostructure 25 Electron beam 26 X-ray beam 28 Power supply

Claims

ナノ構造（２４）のコーティングを有する導電性基体（２３）を備える少なくとも一つの電子エミッタ（２２、２２＿１、２２＿２、２２＿３）と、
前記少なくとも一つの電子エミッタの各導電性基体に取り付け可能な加熱素子（２１）と、
前記少なくとも一つの電子エミッタから放出された電子を受け取るように構成された電子受け取り素子（１４）と、
前記少なくとも一つの電子エミッタと、前記加熱素子と、前記電子受け取り素子とを収容するように構成された真空筐体（１０）と、を備え、
前記少なくとも一つの電子エミッタが、前記加熱素子がオン状態であり且つ前記少なくとも一つの電子エミッタに負のバイアスがかけられる際のショットキー放出用に構成されている、Ｘ線発生デバイス。 At least one electron emitter (22, 22_1, 22_2, 22_3) comprising a conductive substrate (23) having a coating of nanostructures (24);
A heating element (21) attachable to each conductive substrate of the at least one electron emitter;
An electron receiving element (14) configured to receive electrons emitted from the at least one electron emitter;
A vacuum housing (10) configured to house the at least one electron emitter, the heating element, and the electron receiving element;
An X-ray generating device, wherein the at least one electron emitter is configured for Schottky emission when the heating element is on and the at least one electron emitter is negatively biased.

前記少なくとも一つの電子エミッタ（２２、２２＿１、２２＿２、２２＿３）が、前記加熱素子（２１）がオフ状態であり且つ前記少なくとも一つの電子エミッタに負のバイアスがかけられる際の電界放出用に更に構成されている、請求項１に記載のＸ線発生デバイス。 The at least one electron emitter (22, 22_1, 22_2, 22_3) is further configured for field emission when the heating element (21) is off and the at least one electron emitter is negatively biased. The X-ray generation device according to claim 1, wherein

前記加熱素子（２１）の動作状態を制御するように構成された電源（２８）を更に備える請求項１又は２に記載のＸ線発生デバイス。 The X-ray generation device according to claim 1 or 2, further comprising a power supply (28) configured to control an operation state of the heating element (21).

前記電源（２８）が、（−，０）、（−，＋）及び（０，＋）の三つのバイアスモードで前記少なくとも一つの電子エミッタ（２２、２２＿１、２２＿２、２２＿３）と前記電子受け取り素子（１４）との間の電位差を与えるように更に構成されている、請求項３に記載のＸ線発生デバイス。 The power supply (28) includes the at least one electron emitter (22, 22_1, 22_2, 22_3) and the electron receiving element in three bias modes (-, 0), (-, +), and (0, +). The X-ray generating device according to claim 3, further configured to provide a potential difference between the X-ray generating device and (14).

前記電源（２８）が、ＤＣモード、パルスモード、又はＡＣモードで動作するように構成されている、請求項３又は４に記載のＸ線発生デバイス。 The X-ray generation device according to claim 3 or 4, wherein the power supply (28) is configured to operate in a DC mode, a pulse mode, or an AC mode.

前記導電性基体（２３）が、ステンレス鋼、ニッケル、ニッケル系合金、鉄、又は鉄系合金製である、請求項１から５のいずれか一項に記載のＸ線発生デバイス。 The X-ray generation device according to any one of claims 1 to 5, wherein the conductive substrate (23) is made of stainless steel, nickel, a nickel-based alloy, iron, or an iron-based alloy.

前記ナノ構造（２４）が、元素周期表のＩＡ、ＩＩＡ、ＩＢ、ＩＩＩＡ、ＶＩＡ、又はＶＩＩＡ族のドーパント元素でドーピング又は共添加されている、請求項１から６のいずれか一項に記載のＸ線発生デバイス。 7. The method according to claim 1, wherein the nanostructure is doped or co-doped with a dopant element from groups IA, IIA, IB, IIIA, VIA, or VIIA of the Periodic Table of the Elements. X-ray generation device.

前記ナノ構造（２４）がＺｎＯ製である、請求項１から７のいずれか一項に記載のＸ線発生デバイス。 X-ray generating device according to any of the preceding claims, wherein the nanostructure (24) is made of ZnO.

前記電子受け取り素子（１４）が、金属、金属合金、金属化合物、又は金属セラミック複合材製である、請求項１から８のいずれか一項に記載のＸ線発生デバイス。 X-ray generating device according to any one of the preceding claims, wherein the electron receiving element (14) is made of a metal, a metal alloy, a metal compound, or a metal-ceramic composite.

前記少なくとも一つの電子エミッタ（２２、２２＿１、２２＿２、２２＿３）が、スペーサ（３１）を介して１００μｍから１０００μｍまでの間の固定距離に位置するグリッド（３０）を更に備える、請求項１から９のいずれか一項に記載のＸ線発生デバイス。 10. The method according to claim 1, wherein the at least one electron emitter further comprises a grid located at a fixed distance between 100 μm and 1000 μm via a spacer. An X-ray generation device according to any one of the preceding claims.

セキュリティＸ線走査装置における請求項１から１０のいずれか一項に記載のＸ線発生デバイスの使用。 Use of the X-ray generating device according to any one of claims 1 to 10 in a security X-ray scanner.

コンピュータトモグラフィ走査装置における請求項１から１０のいずれか一項に記載のＸ線発生デバイスの使用。 Use of the X-ray generating device according to any one of claims 1 to 10 in a computer tomography scanning device.

Ｃアーム型走査装置における請求項１から１０のいずれか一項に記載のＸ線発生デバイスの使用。 Use of the X-ray generating device according to any one of claims 1 to 10 in a C-arm scanning device.

地質調査装置における請求項１から１０のいずれか一項に記載のＸ線発生デバイスの使用。 Use of the X-ray generating device according to any one of claims 1 to 10 in a geological survey device.

Ｘ線蛍光分光法における請求項１から１０のいずれか一項に記載のＸ線発生デバイスの使用。 Use of the X-ray generating device according to any one of claims 1 to 10 in X-ray fluorescence spectroscopy.