JP2020024364A

JP2020024364A - Optical laminate

Info

Publication number: JP2020024364A
Application number: JP2019034019A
Authority: JP
Inventors: 彰二祖父江; Shoji Sofue; 彩乃神野; Ayano Jinno; 鈴鹿住吉; Suzuka Sumiyoshi
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2018-06-11
Filing date: 2019-02-27
Publication date: 2020-02-13
Also published as: TW202005792A; JP2023029876A; TWI807029B; JP2024029208A

Abstract

To provide an optical laminate which comprises a polarizing plate and retardation film and is not susceptible to cracks when subjected to thermal shock.SOLUTION: An optical laminate provided herein comprises a polarizing plate and a retardation film having a piercing elastic modulus of 50 g/mm or less as computed from a formula (1) below using a stress F (g) applied to the retardation film by a tip of a piercing jig and a strain S (mm) on the retardation film when the film is punctured by vertically pressing a surface of the film with the tip of the piercing jig. Formula (1): Piercing Elastic Modulus (g/mm)=F (g)/S (mm)SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、光学積層体に関する。 The present invention relates to an optical laminate.

近年、有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬともいう。）表示装置に代表される画像表示装置が急速に普及している。有機ＥＬ表示装置には、偏光子及び位相差フィルムを備える円偏光板やさらに他光学機能層を積層された光学積層体が搭載される。 In recent years, an image display device represented by an organic electroluminescence (hereinafter, also referred to as an organic EL) display device has rapidly spread. The organic EL display device is equipped with a circularly polarizing plate including a polarizer and a retardation film, and an optical laminate in which other optical functional layers are further laminated.

有機ＥＬ表示装置等の画像表示装置向けの位相差フィルムとしては、従来の樹脂フィルムを延伸したものや、液晶化合物を材料にして形成したものが検討され、画像表示装置の薄型化への要望が強くなるに伴って、位相差フィルム及びそれを備える光学積層体についても薄型化が求められている（例えば、特許文献１参照）。この様な位相差フィルムを有する光学積層体は、温度変化による膨張収縮により位相差フィルムを起点としてクラックが生じることがあった。特に急激な温度変化（熱衝撃）が与えられると、クラックが生じやすい。この様なクラックが発生すると光学積層体の耐久性はもとより、表示装置の視認性も低下することがあった。 As a retardation film for an image display device such as an organic EL display device, a stretched conventional resin film or a film formed using a liquid crystal compound as a material has been studied. With increasing strength, retardation films and optical laminates provided with the retardation films are also required to be thinner (for example, see Patent Document 1). In the optical laminate having such a retardation film, cracks may occur from the retardation film as a starting point due to expansion and contraction due to a temperature change. In particular, when a rapid temperature change (thermal shock) is given, cracks are likely to occur. When such cracks occur, not only the durability of the optical laminated body but also the visibility of the display device may be reduced.

特開２０１７−１０２２８６号公報JP-A-2017-102286

本発明の目的は、上記課題を解決することであり、位相差フィルムを有する光学積層体であって、急激な温度変化（熱衝撃）を受ける環境でも、クラックの発生を抑制できる光学積層体を提供することである。 An object of the present invention is to solve the above-mentioned problem, and to provide an optical laminate having a retardation film, which can suppress generation of cracks even in an environment where a rapid temperature change (thermal shock) is received. To provide.

本発明は、以下の［１］〜［５］で示される光学積層体を提供する。
［１］位相差フィルムを有する光学積層体であって、前記位相差フィルムは、フィルム面に対し突刺し冶具の先端を垂直に押圧し、破断が生じたときの、前記突刺し冶具の先端から前記位相差フィルムへ加えられた応力Ｆ（ｇ）と前記位相差フィルムのひずみ量Ｓ（ｍｍ）を用いて下記式（１）にて算出される突刺し弾性率が５０ｇ／ｍｍ以下であることを特徴とする光学積層体。

（１）突刺し弾性率（ｇ／ｍｍ）＝Ｆ（ｇ）／Ｓ（ｍｍ）

［２］前記位相差フィルムは、重合性液晶化合物が硬化した位相差層を含む［１］の光学積層体。
［３］前記位相差フィルムは、配向層をさらに含む［２］の光学積層体。
［４］前記位相差層は、垂直配向性を有する［２］または［３］の光学積層体。
［５］前記光学積層体は、さらに偏光板を有する［１］〜［４］のいずれかの光学積層体。
本発明は、以下の［６］で示される表示装置も提供する。
［６］［１］〜［５］のいずれかに記載の光学積層体が、表示素子に積層されている表示装置。 The present invention provides an optical laminate represented by the following [1] to [5].
[1] An optical laminate having a retardation film, wherein the retardation film presses the tip of the piercing jig perpendicularly to a film surface, and when a break occurs, from the tip of the piercing jig. The piercing elastic modulus calculated by the following formula (1) using the stress F (g) applied to the retardation film and the strain amount S (mm) of the retardation film is 50 g / mm or less. An optical laminate characterized by the following.

(1) Puncture elastic modulus (g / mm) = F (g) / S (mm)

[2] The optical laminate of [1], wherein the retardation film includes a retardation layer in which a polymerizable liquid crystal compound is cured.
[3] The optical laminate of [2], wherein the retardation film further includes an alignment layer.
[4] The optical layered product of [2] or [3], wherein the retardation layer has a vertical alignment property.
[5] The optical laminate according to any one of [1] to [4], wherein the optical laminate further includes a polarizing plate.
The present invention also provides a display device represented by the following [6].
[6] A display device in which the optical laminate according to any one of [1] to [5] is laminated on a display element.

本発明によれば、位相差フィルムを有する光学積層体であって、急激な温度変化を受ける環境下でも、クラックの発生を抑制できる光学積層体を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it can provide the optical laminated body which has a retardation film and can suppress generation | occurrence | production of a crack also in the environment which receives a rapid temperature change.

（a）〜（c）は、本発明の光学積層体の層構成を示す概略断面図の一例である。(A)-(c) is an example of a schematic sectional view showing the layer constitution of the optical laminate of the present invention. 有機ＥＬ表示装置の層構成を示す概略断面図の一例である。1 is an example of a schematic cross-sectional view illustrating a layer configuration of an organic EL display device. 実施例１〜６、比較例１、２にて作製した光学積層体を用いた熱衝撃試験時の層構成を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the layer structure at the time of a thermal shock test using the optical laminated body produced in Examples 1-6 and Comparative Examples 1 and 2.

（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）突刺し弾性率
フィルム面に対し突刺し冶具の先端を垂直に押圧し、破断が生じたときの、前記突刺し冶具の先端から前記フィルムへ加えられた応力Ｆ（ｇ）と貫通穴または破断が生じるまでにフィルムに生じたひずみ量Ｓ（ｍｍ）を用いて定義したフィルムの物性値であり、応力ＦとひずみＳの間の比例定数（応力Ｆ／ひずみＳ）として表される。
突刺し弾性率の測定には、ロードセルを備えた圧縮試験機で行うことができ、圧縮試験機の例としては、カトーテック株式会社製の突き刺し試験機“ＮＤＧ５”、ハンディー圧縮試験機“ＫＥＳ−Ｇ５”、株式会社島津製作所の小型卓上試験機 “ＥＺＴｅｓｔ”等を挙げられる。この様な圧縮試験機を用いてもとめられる応力―ひずみ曲線から、破断が生じた際にフィルムに加えられた応力とそれまでにフィルムに生じたひずみ量を測定することができる。
突刺し冶具押圧時にフィルムに生じる破断には、冶具先端によりフィルムに貫通穴が生じる場合も含まれる。
（２）配向層
位相差層を形成する重合性液晶化合物の分子軸の方向を所望の位相差特性となるように規制する能力を有する層を示す。重合性液晶化合物が硬化した層（位相差層）は、配向層を介して基板上に形成される。配向層としては、配向性ポリマーを含む配向層、光配向膜及び表面に凹凸パターンや複数の溝を形成し配向させるグルブ配向層が挙げられる。
（３）垂直配向性
位相差層を形成する重合性液晶化合物の分子軸の方向が、光学積層体を構成する各層の積層面に対し、略垂直となった状態を示す。垂直配向性を示す位相差層として代表的なものとしてポジティブＣ層が挙げられる。
（４）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大となる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（５）面内の位相差値
面内の位相差値（Ｒｅ［λ］）は、２３℃、波長λ（ｎｍ）におけるフィルムの面内の位相差値をいう。Ｒｅ［λ］は、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｅ［λ］＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。
（６）厚み方向の位相差値
面内の位相差値（Ｒｔｈ［λ］）は、２３℃、波長λ（ｎｍ）におけるフィルムの厚み方向の位相差値をいう。Ｒｔｈ［λ］は、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｔｈ［λ］＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄによって求められる。 (Definition of terms and symbols)
Definitions of terms and symbols in this specification are as follows.
(1) Stab Elasticity Modulus F (g) applied to the film from the tip of the piercing jig and applied to the film when the tip of the piercing jig is pressed perpendicularly to the film surface to cause breakage, and the through hole Alternatively, it is a physical property value of the film defined using the amount of strain S (mm) generated in the film before the break occurs, and is expressed as a proportional constant between stress F and strain S (stress F / strain S).
The piercing elasticity can be measured by a compression tester equipped with a load cell. Examples of the compression tester include a piercing tester “NDG5” manufactured by Kato Tech Co., Ltd. and a handy compression tester “KES- G5 ", a small desk tester" EZ Test "manufactured by Shimadzu Corporation. From the stress-strain curve obtained by using such a compression tester, it is possible to measure the stress applied to the film when a break occurs and the amount of strain generated in the film so far.
Breakage that occurs in the film when the piercing jig is pressed includes the case where a through hole is formed in the film due to the tip of the jig.
(2) Alignment layer A layer having the ability to regulate the direction of the molecular axis of the polymerizable liquid crystal compound forming the retardation layer so as to have desired retardation characteristics. The layer (retardation layer) in which the polymerizable liquid crystal compound is cured is formed on the substrate via the alignment layer. Examples of the orientation layer include an orientation layer containing an orientation polymer, a photo-alignment film, and a grub orientation layer for forming and embossing a concavo-convex pattern or a plurality of grooves on the surface.
(3) Vertical Alignment A state in which the direction of the molecular axis of the polymerizable liquid crystal compound forming the retardation layer is substantially perpendicular to the lamination plane of each layer constituting the optical laminate. A typical example of a retardation layer exhibiting vertical alignment is a positive C layer.
(4) Refractive index (nx, ny, nz)
“Nx” is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is maximum (ie, the slow axis direction), “ny” is the direction perpendicular to the slow axis in the plane, and “nz” is the thickness direction. It is a refractive index.
(5) In-plane retardation value The in-plane retardation value (Re [λ]) refers to the in-plane retardation value of the film at 23 ° C. and wavelength λ (nm). Re [λ] is determined by Re [λ] = (nx−ny) × d, where d (nm) is the thickness of the film.
(6) Retardation Value in Thickness Direction The in-plane retardation value (Rth [λ]) refers to the retardation value in the thickness direction of the film at 23 ° C. and wavelength λ (nm). Rth [λ] is determined by Rth [λ] = ((nx + ny) / 2−nz) × d, where d (nm) is the thickness of the film.

＜光学積層体＞
本発明の光学積層体は、位相差フィルムを有し、前記位相差フィルムの突刺し弾性率は、５０ｇ／ｍｍ以下である。また、前記位相差フィルムは位相差層を有する。位相差層は、重合性液晶化合物を含む組成物から構成される層を有することが好ましい。重合性液晶化合物を含む組成物から構成される層とは、具体的には、重合性液晶化合物が硬化した層を意味する。本明細書において、λ／２の位相差を与える層、λ／４の位相差を与える層（ポジティブＡ層）及びポジティブＣ層等を総称して、位相差層ということがある。さらに、位相差フィルムは後述の配向層を含んでいてもよい。 <Optical laminate>
The optical laminate of the present invention has a retardation film, and the piercing elastic modulus of the retardation film is 50 g / mm or less. Further, the retardation film has a retardation layer. The retardation layer preferably has a layer composed of a composition containing a polymerizable liquid crystal compound. The layer composed of the composition containing the polymerizable liquid crystal compound specifically means a layer in which the polymerizable liquid crystal compound is cured. In this specification, a layer that provides a λ / 2 phase difference, a layer that provides a λ / 4 phase difference (positive A layer), a positive C layer, and the like may be collectively referred to as a retardation layer. Further, the retardation film may include an orientation layer described below.

以下、図１を参照して、本発明の光学積層体の層構成の一例を説明する。図１（ａ）に示す光学積層体１００は、配向層１１の一方の面に位相差層１０が積層され、配向層１１のもう一方の面に粘着剤層１２を備える層構成を有する。粘着剤層１２は、有機ＥＬ表示素子等へ貼合するための粘着剤層であることができる。この光学積層体１００において、位相差フィルム１は、位相差層１０と配向層１１とで構成されている。 Hereinafter, an example of a layer configuration of the optical laminate of the present invention will be described with reference to FIG. The optical laminate 100 shown in FIG. 1A has a layer configuration in which a retardation layer 10 is laminated on one surface of an alignment layer 11 and an adhesive layer 12 is provided on the other surface of the alignment layer 11. The pressure-sensitive adhesive layer 12 can be a pressure-sensitive adhesive layer for bonding to an organic EL display element or the like. In the optical laminated body 100, the retardation film 1 includes a retardation layer 10 and an alignment layer 11.

図１（ｂ）に示す光学積層体１０１は、図１（ａ）の位相差層１０の配向層１１と積層される反対側の面に、接着剤層１３を介して第２の位相差フィルム２を積層した層構成を有する。粘着剤層１２は、図１（ａ）と同様、有機ＥＬ表示素子等へ貼合するための粘着剤層であることができる。この光学積層体１０１において、第１の位相差フィルム１は、位相差層１０と配向層１１とで構成されている。 The optical laminated body 101 shown in FIG. 1B has a second retardation film via an adhesive layer 13 on the opposite side of the retardation layer 10 of FIG. 2 is laminated. The pressure-sensitive adhesive layer 12 can be a pressure-sensitive adhesive layer for bonding to an organic EL display element or the like, as in FIG. In this optical laminated body 101, the first retardation film 1 includes a retardation layer 10 and an alignment layer 11.

図１（ｃ）に示す光学積層体１０２は、図１（ｂ）の第２の位相差フィルム２の第１の位相差フィルム１と積層される反対側の面に、接着剤層または粘着剤層を介して偏光板３を積層した層構成を有する。ここで、第２の位相差フィルム２と偏光板３とを貼合するための接着剤層または粘着剤層については図示していない。粘着剤層１２は、図１（ａ）、（ｂ）と同様、有機ＥＬ表示素子、タッチセンサ等へ貼合するための粘着剤層であることができる。この光学積層体１０２において、第１の位相差フィルム１は位相差層１０と配向層１１とで構成されている。 The optical laminate 102 shown in FIG. 1C has an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive on the surface of the second retardation film 2 shown in FIG. 1B opposite to the surface where the first retardation film 1 is laminated. It has a layer configuration in which the polarizing plate 3 is laminated via layers. Here, an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer for bonding the second retardation film 2 and the polarizing plate 3 is not shown. The pressure-sensitive adhesive layer 12 can be a pressure-sensitive adhesive layer for bonding to an organic EL display element, a touch sensor, or the like, similarly to FIGS. 1A and 1B. In this optical laminated body 102, the first retardation film 1 includes a retardation layer 10 and an alignment layer 11.

図１に示すように本発明の光学積層体は、位相差フィルムを２層以上有していてもよい。光学積層体中に複数の位相差フィルムを備える場合は、少なくとも１つの位相差フィルムの突刺し弾性率が、５０ｇ／ｍｍ以下であればよいが、温度変化によるクラック発生を抑制する観点から光学積層体中に含まれるすべての位相差フィルムの突刺し弾性率が、５０ｇ／ｍｍ以下であることが好ましい。 As shown in FIG. 1, the optical laminate of the present invention may have two or more retardation films. When a plurality of retardation films are provided in the optical laminate, the piercing elastic modulus of at least one retardation film may be 50 g / mm or less. The piercing elastic modulus of all retardation films contained in the body is preferably 50 g / mm or less.

位相差フィルムの位相差層を、重合性液晶化合物を含む組成物から構成される層（重合性液晶化合物が硬化した層）とすると、本発明の突刺し弾性率５０ｇ／ｍｍ以下とすることが容易となるので好ましい。また、位相差フィルムは、重合性液晶化合物を配向させるための配向層を有していてもよい。また、その製造段階においては、配向層を支持する基材をさらに有していてもよい。 When the retardation layer of the retardation film is a layer composed of a composition containing a polymerizable liquid crystal compound (a layer in which the polymerizable liquid crystal compound is cured), the piercing elastic modulus of the present invention may be 50 g / mm or less. It is preferable because it becomes easy. Further, the retardation film may have an alignment layer for aligning the polymerizable liquid crystal compound. In the production stage, the substrate may further have a substrate for supporting the alignment layer.

重合性液晶化合物は、重合性基を有する化合物であって、液晶状態となりうる化合物である。重合性液晶化合物の重合性基同士が反応して重合性液晶化合物が重合することにより、重合性液晶化合物が硬化する。
重合性液晶化合物が硬化した層は例えば、基材に設けられた配向層上に形成される。前記基材は、配向層を支持する機能を有し、長尺に形成されている基材であってもよい。この基材は、離型性支持体として機能し、転写用の位相差層や配向層を支持することができる。さらに、その表面が剥離可能な程度の接着力を有するものが好ましい。前記基材としては、透光性を有する（好ましくは光学的に透明な）熱可塑性樹脂、例えば、鎖状ポリオレフィン系樹脂（ポリプロピレン系樹脂等）、環状ポリオレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂等）のようなポリオレフィン系樹脂；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースのようなセルロース系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートのようなポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；メタクリル酸メチル系樹脂のような（メタ）アクリル系樹脂；ポリスチレン系樹脂；ポリ塩化ビニル系樹脂；アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン系樹脂；アクリロニトリル・スチレン系樹脂；ポリ酢酸ビニル系樹脂；ポリ塩化ビニリデン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリアセタール系樹脂；変性ポリフェニレンエーテル系樹脂；ポリスルホン系樹脂；ポリエーテルスルホン系樹脂；ポリアリレート系樹脂；ポリアミドイミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；マレイミド系樹脂等からなるフィルムであることができる。 The polymerizable liquid crystal compound is a compound having a polymerizable group, and is a compound that can be in a liquid crystal state. When the polymerizable groups of the polymerizable liquid crystal compound react with each other to polymerize the polymerizable liquid crystal compound, the polymerizable liquid crystal compound is cured.
The cured layer of the polymerizable liquid crystal compound is formed, for example, on an alignment layer provided on a substrate. The substrate may have a function of supporting the alignment layer, and may be a long substrate. This substrate functions as a releasable support and can support a retardation layer or an alignment layer for transfer. Further, it is preferable that the surface has an adhesive strength enough to be peelable. As the base material, a translucent (preferably optically transparent) thermoplastic resin, for example, a chain polyolefin-based resin (eg, a polypropylene-based resin) or a cyclic polyolefin-based resin (eg, a norbornene-based resin) is used. Polyolefin resins; cellulose resins such as triacetyl cellulose and diacetyl cellulose; polyester resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate; polycarbonate resins; (meth) acrylic resins such as methyl methacrylate resins; Polystyrene resin; Polyvinyl chloride resin; Acrylonitrile butadiene styrene resin; Acrylonitrile styrene resin; Polyvinyl acetate resin; Polyvinylidene chloride resin; Polyamide resin; Polyacetal resin; It may be a film made of a maleimide resin and the like; ether-based resins; polysulfone resins; poly (ether sulfone) resins; polyarylate resin; polyamideimide resin; polyimide resin.

基材の厚みとしては、特に限定されないが、例えば２０μｍ以上２００μｍ以下の範囲とすることが好ましい。基材の厚さが２０μｍ以上であると、強度が付与される。 The thickness of the substrate is not particularly limited, but is preferably, for example, in the range of 20 μm or more and 200 μm or less. When the thickness of the substrate is 20 μm or more, strength is imparted.

なお、基材は、種々のブロッキング防止処理が施されていてもよい。ブロッキング防止処理としては、例えば、易接着処理、フィラー等を練り込ませる処理、エンボス加工（ナーリング処理）等が挙げられる。このようなブロッキング防止処理を基材に対して施すことによって、基材を巻き取る際の基材同士の張り付き、いわゆるブロッキングを効果的に防止することができ、生産性高く光学フィルムを製造することが可能となる。 In addition, the base material may be subjected to various anti-blocking treatments. Examples of the blocking prevention treatment include an easy adhesion treatment, a treatment for kneading a filler and the like, an embossing treatment (knurling treatment), and the like. By performing such anti-blocking treatment on the substrate, it is possible to effectively prevent sticking between the substrates when winding the substrate, so-called blocking, and to produce an optical film with high productivity. Becomes possible.

重合性液晶化合物が硬化した層は、配向層を介して基材上に形成される。すなわち、基材、配向層の順で積層され、重合性液晶化合物が硬化した層は前記配向層上に積層される。 The cured layer of the polymerizable liquid crystal compound is formed on the substrate via the alignment layer. That is, the substrate and the orientation layer are laminated in this order, and the layer in which the polymerizable liquid crystal compound is cured is laminated on the orientation layer.

なお、配向層は、垂直配向層に限らず、重合性液晶化合物の分子軸を水平配向させる配向層であってもよく、重合性液晶化合物の分子軸を傾斜配向させる配向層であってもよい。配向層としては、後述する重合性液晶化合物を含む組成物の塗工等により溶解しない溶媒耐性を有し、また、溶媒の除去や液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向層としては、配向性ポリマーを含む配向層、光配向膜及び表面に凹凸パターンや複数の溝を形成し配向させるグルブ配向層が挙げられる。配向層の厚さは、通常１０ｎｍ〜１００００ｎｍの範囲である。 Note that the alignment layer is not limited to the vertical alignment layer, and may be an alignment layer that horizontally aligns the molecular axis of the polymerizable liquid crystal compound, or may be an alignment layer that tilts the molecular axis of the polymerizable liquid crystal compound. . The alignment layer has a solvent resistance that does not dissolve by application of a composition containing a polymerizable liquid crystal compound described below, and has heat resistance in heat treatment for removal of the solvent and alignment of the liquid crystal compound. preferable. Examples of the orientation layer include an orientation layer containing an orientation polymer, a photo-alignment film, and a grub orientation layer for forming and embossing a concavo-convex pattern or a plurality of grooves on the surface. The thickness of the alignment layer is usually in the range of 10 nm to 10000 nm.

また、配向層は位相差層を支持する機能を有し、離型性支持体として機能してもよい。
転写用の位相差層を支持することができ、さらにその表面が剥離可能な程度の接着力を有するものでもよい。 Further, the alignment layer has a function of supporting the retardation layer, and may function as a releasable support.
The transfer layer may support a retardation layer for transfer, and may have an adhesive strength such that its surface can be peeled off.

配向層に用いる樹脂としては、重合性化合物が重合した樹脂が用いられる。重合性化合物は、重合性基を有する化合物であって、通常は、液晶状態とならない非液晶性の重合性非液晶性化合物である。重合性化合物の重合性基同士が反応して重合性化合物が重合することにより、樹脂となる。このような樹脂としては、位相差層の形成段階で重合性液晶化合物を配向させるための配向層として利用し、位相差フィルムに含まれないものであれば、公知の配向層の材料として用いられる樹脂であれば特に限定されるものではなく、従来公知の単官能又は多官能の（メタ）アクリレート系モノマーを重合開始剤下で硬化させた硬化物等を用いることができる。具体的に、（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、２−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジエチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテルアクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルアクリレート、テトラエチレングリコールモノフェニルエーテルアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、メタクリル酸、ウレタンアクリレート等を例示することができる。なお、樹脂としては、これらの１種類であってもよいし、２種類以上の混合物であってもよい。
配向層は、位相差層を形成した後、他光学フィルム等と積層させる工程の前後において、基材とともに剥離除去することができる。 As the resin used for the alignment layer, a resin obtained by polymerizing a polymerizable compound is used. The polymerizable compound is a compound having a polymerizable group, and is usually a non-liquid crystalline polymerizable non-liquid crystalline compound that does not enter a liquid crystal state. When the polymerizable groups of the polymerizable compound react with each other to polymerize the polymerizable compound, the resin becomes a resin. Such a resin is used as an alignment layer for aligning the polymerizable liquid crystal compound at the stage of forming the retardation layer, and is used as a known alignment layer material if it is not included in the retardation film. The resin is not particularly limited as long as it is a resin, and a cured product obtained by curing a conventionally known monofunctional or polyfunctional (meth) acrylate monomer under a polymerization initiator can be used. Specifically, as the (meth) acrylate-based monomer, for example, 2-ethylhexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, diethylene glycol mono 2-ethylhexyl ether acrylate, diethylene glycol monophenyl ether acrylate, tetraethylene glycol monophenyl ether acrylate, trimethylolpropane triacrylate , Lauryl acrylate, lauryl methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, benzyl acrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl methacrylate , Cyclo Hexyl methacrylate, methacrylic acid, can be exemplified urethane acrylate. The resin may be one of these resins or a mixture of two or more thereof.
After forming the retardation layer, the alignment layer can be removed together with the substrate before and after the step of laminating the alignment layer with another optical film or the like.

また、基材との剥離性向上および位相差フィルムに膜強度を付与する目的で、位相差フィルムに配向層を含めることができる。位相差フィルムが配向層を含む場合、突刺し弾性率５０ｇ／ｍｍ以下とする観点から、配向層に用いる樹脂として単官能や２官能の（メタ）アクリレート系モノマー、イミド系モノマーもしくはビニルエーテル系モノマーを硬化させた硬化物等を用いることが好ましい。
単官能の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、炭素数４から１６のアルキル（メタ）アクリレート、炭素数２から１４のβカルボキシアルキル（メタ）アクリレート、炭素数２から１４のアルキル化フェニル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート及びイソボニル（メタ）アクリレート等が挙げられ、
２官能の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート；１，３−ブタンジオール（メタ）アクリレート；１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート；トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ポリエチレングリコールジアクリレート；ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル；エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート；プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート；エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート及び３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、イミド系モノマーを硬化させたイミド系樹脂としては、ポリアミド、ポリイミド等が挙げられる。なお、イミド系樹脂としては、これらの１種類であってもよいし、２種類以上の混合物であってもよい。
また、配向層を形成する樹脂として、単官能や２官能の（メタ）アクリレート系モノマー、イミド系モノマーおよびビニルエーテル系モノマー以外のモノマーを含んでいてもよいが、単官能や２官能の（メタ）アクリレート系モノマー、イミド系モノマーおよびビニルエーテル系モノマーの含有割合が、総モノマー中で５０重量％以上であってもよく、５５重量％以上であることが好ましく、６０重量％以上であることがより好ましい。 In addition, an alignment layer can be included in the retardation film for the purpose of improving the releasability from the substrate and imparting film strength to the retardation film. When the retardation film includes an alignment layer, a monofunctional or bifunctional (meth) acrylate-based monomer, an imide-based monomer, or a vinyl ether-based monomer is used as the resin for the alignment layer from the viewpoint of piercing elasticity of 50 g / mm or less. It is preferable to use a cured product or the like that has been cured.
Monofunctional (meth) acrylate monomers include alkyl (meth) acrylates having 4 to 16 carbon atoms, β-carboxyalkyl (meth) acrylates having 2 to 14 carbon atoms, and alkylated phenyl (meth) acrylates having 2 to 14 carbon atoms Acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate and isobonyl (meth) acrylate, and the like,
Examples of the bifunctional (meth) acrylate-based monomer include 1,3-butanediol di (meth) acrylate; 1,3-butanediol (meth) acrylate; 1,6-hexanediol di (meth) acrylate; ethylene glycol di (Meth) acrylate; diethylene glycol di (meth) acrylate; neopentyl glycol di (meth) acrylate; triethylene glycol di (meth) acrylate; tetraethylene glycol di (meth) acrylate; polyethylene glycol diacrylate; bisphenol A bis (acrylic acid) Ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate; propoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate; ethoxylated neopentyl glycol di (meth) acryle Preparative and 3-methyl-pentanediol di (meth) acrylate.
Examples of the imide resin obtained by curing the imide monomer include polyamide and polyimide. In addition, as the imide-based resin, one kind thereof may be used, or a mixture of two or more kinds may be used.
Further, the resin forming the alignment layer may contain a monomer other than a monofunctional or bifunctional (meth) acrylate-based monomer, an imide-based monomer, and a vinyl ether-based monomer, but may be a monofunctional or bifunctional (meth) acrylate. The content ratio of the acrylate-based monomer, the imide-based monomer and the vinyl ether-based monomer may be 50% by weight or more, preferably 55% by weight or more, more preferably 60% by weight or more in the total monomers. .

配向層が位相差フィルムに含まれる場合、配向層の厚さは、通常１０ｎｍ〜１００００ｎｍの範囲であり、位相差層の配向性がフィルム面に対し面内配向である場合、配向層の厚みは、１０ｎｍ〜１０００ｎｍであることが好ましく、配向層の配向性がフィルム面に対し垂直配向である場合は、１００ｎｍ〜１００００ｎｍであることが好ましい。配向層の厚みが上記範囲内であると、基材の剥離性向上および適度な膜強度を付与することができる。 When the orientation layer is included in the retardation film, the thickness of the orientation layer is usually in the range of 10 nm to 10000 nm, and when the orientation of the retardation layer is in-plane orientation with respect to the film surface, the thickness of the orientation layer is When the orientation of the alignment layer is perpendicular to the film surface, it is preferably 100 nm to 10000 nm. When the thickness of the alignment layer is within the above range, it is possible to improve the releasability of the substrate and to impart appropriate film strength.

本実施形態で使用される重合性液晶化合物の種類については、特に限定されないものの、その形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（円盤状液晶化合物、ディスコティック液晶化合物）とに分類できる。さらに、それぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。なお、高分子とは、一般に重合度が１００以上のものを言う（高分子物理・相転移ダイナミクス、土井正男著、２頁、岩波書店、１９９２）。 The type of the polymerizable liquid crystal compound used in the present embodiment is not particularly limited, but is classified into a rod type (rod liquid crystal compound) and a disk type (disk liquid crystal compound, discotic liquid crystal compound) based on their shapes. it can. Furthermore, there are a low molecular type and a high molecular type, respectively. The polymer generally refers to a polymer having a degree of polymerization of 100 or more (polymer physics / phase transition dynamics, written by Masao Doi, page 2, Iwanami Shoten, 1992).

本実施形態では、何れの重合性液晶化合物を用いることもできる。さらに、２種以上の棒状液晶化合物や、２種以上の円盤状液晶化合物、又は棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。 In this embodiment, any polymerizable liquid crystal compound can be used. Further, two or more rod-shaped liquid crystal compounds, two or more disc-shaped liquid crystal compounds, or a mixture of a rod-shaped liquid crystal compound and a disc-shaped liquid crystal compound may be used.

なお、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１に記載のものを好適に用いることができる。円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］、又は、特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好適に用いることができる。 As the rod-like liquid crystal compound, for example, the one described in claim 1 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-513019 can be suitably used. As the discotic liquid crystal compound, for example, those described in paragraphs [0020] to [0067] of JP-A-2007-108732 or paragraphs [0013] to [0108] of JP-A-2010-244038 are preferable. Can be used.

重合性液晶化合物は、２種類以上を併用してもよい。その場合、少なくとも１種類が分子内に２以上の重合性基を有している。すなわち、前記重合性液晶化合物が硬化した層は、重合性基を有する液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。 Two or more polymerizable liquid crystal compounds may be used in combination. In that case, at least one kind has two or more polymerizable groups in the molecule. That is, the cured layer of the polymerizable liquid crystal compound is preferably a layer formed by fixing a liquid crystal compound having a polymerizable group by polymerization. In this case, it is no longer necessary to show liquid crystal properties after forming the layer.

重合性液晶化合物は、重合反応をし得る重合性基を有する。重合性基としては、例えば、重合性エチレン性不飽和基や環重合性基などの付加重合反応が可能な官能基が好ましい。より具体的には、重合性基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などを挙げることができる。その中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基とは、メタアクリロイル基及びアクリロイル基の両者を包含する概念である。 The polymerizable liquid crystal compound has a polymerizable group capable of performing a polymerization reaction. As the polymerizable group, for example, a functional group capable of performing an addition polymerization reaction such as a polymerizable ethylenically unsaturated group or a ring polymerizable group is preferable. More specifically, examples of the polymerizable group include a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group is preferable. The (meth) acryloyl group is a concept including both a methacryloyl group and an acryloyl group.

重合性液晶化合物が硬化した層は、後述するように、重合性液晶化合物を含む組成物を、例えば配向層上に塗工し、活性エネルギー線を照射することによって形成することができる。前記組成物には、上述した重合性液晶化合物以外の成分が含まれていてもよい。例えば、前記組成物には、重合開始剤が含まれていることが好ましい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて、例えば、熱重合開始剤や光重合開始剤が選択される。例えば、光重合開始剤としては、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせなどが挙げられる。重合開始剤の使用量は、前記塗工液中の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。
本発明における「硬化した」とは、形成された層単独でも変形、流動することなく自立して存在できる状態を示し、形成された層の突刺し弾性率は、通常３ｇ／ｍｍ以上である。 As described later, the layer in which the polymerizable liquid crystal compound is cured can be formed by applying a composition containing the polymerizable liquid crystal compound to, for example, an alignment layer and irradiating the composition with an active energy ray. The composition may contain components other than the polymerizable liquid crystal compound described above. For example, it is preferable that the composition contains a polymerization initiator. As the polymerization initiator to be used, for example, a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator is selected according to the type of the polymerization reaction. For example, examples of the photopolymerization initiator include an α-carbonyl compound, an acyloin ether, an α-hydrocarbon-substituted aromatic acyloin compound, a polynuclear quinone compound, and a combination of a triarylimidazole dimer and p-aminophenyl ketone. The amount of the polymerization initiator used is preferably from 0.01 to 20% by mass, more preferably from 0.5 to 5% by mass, based on the total solids in the coating solution.
The term “hardened” in the present invention indicates a state in which the formed layer alone can exist independently without deformation and flow, and the piercing elastic modulus of the formed layer is usually 3 g / mm or more.

また、前記組成物には、塗工膜の均一性及び膜の強度の点から、重合性モノマーが含まれていてもよい。重合性モノマーとしては、ラジカル重合性又はカチオン重合性の化合物が挙げられる。その中でも、多官能性ラジカル重合性モノマーが好ましい。 In addition, the composition may contain a polymerizable monomer from the viewpoint of uniformity of the coating film and strength of the film. Examples of the polymerizable monomer include radically polymerizable and cationically polymerizable compounds. Among them, a polyfunctional radical polymerizable monomer is preferable.

なお、重合性モノマーとしては、上述した重合性液晶化合物と共重合することができるものが好ましい。重合性モノマーの使用量は、重合性液晶化合物の全質量に対して、１〜５０質量％であることが好ましく、２〜３０質量％であることがより好ましい。 Note that, as the polymerizable monomer, those that can be copolymerized with the above-described polymerizable liquid crystal compound are preferable. The amount of the polymerizable monomer used is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 2 to 30% by mass, based on the total mass of the polymerizable liquid crystal compound.

また、前記組成物には、塗工膜の均一性及び膜の強度の点から、界面活性剤が含まれていてもよい。界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられる。その中でも特に、フッ素系化合物が好ましい。 Further, the composition may contain a surfactant from the viewpoint of the uniformity of the coating film and the strength of the film. Examples of the surfactant include conventionally known compounds. Among them, a fluorine compound is particularly preferable.

また、前記組成物には、溶媒が含まれていてもよく、有機溶媒が好ましく用いられる。
有機溶媒としては、例えば、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が挙げられる。その中でも、アルキルハライド、ケトンが好ましい。また、２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。 The composition may contain a solvent, and an organic solvent is preferably used.
Examples of the organic solvent include amides (eg, N, N-dimethylformamide), sulfoxides (eg, dimethylsulfoxide), heterocyclic compounds (eg, pyridine), hydrocarbons (eg, benzene, hexane), alkyl halides (eg, , Chloroform, dichloromethane), esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone), and ethers (eg, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane). Among them, alkyl halides and ketones are preferable. Further, two or more organic solvents may be used in combination.

また、前記組成物には、偏光子界面側垂直配向剤、空気界面側垂直配向剤などの垂直配向促進剤、並びに、偏光子界面側水平配向剤、空気界面側水平配向剤などの水平配向促進剤といった各種配向剤が含まれていてもよい。さらに、前記組成物には、上記成分以外にも、密着改良剤、可塑剤、ポリマーなどが含まれていてもよい。 Further, the composition includes a vertical alignment accelerator such as a polarizer interface side vertical alignment agent and an air interface side vertical alignment agent, and a horizontal alignment accelerator such as a polarizer interface side horizontal alignment agent and an air interface side horizontal alignment agent. Various alignment agents such as an agent may be included. Further, in addition to the above components, the composition may contain an adhesion improver, a plasticizer, a polymer, and the like.

上記活性エネルギー線は、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線を含み、好ましくは紫外線である。前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０〜４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。 The active energy rays include ultraviolet rays, visible light, electron beams, and X-rays, and are preferably ultraviolet rays. Examples of the light source of the active energy ray include a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a halogen lamp, a carbon arc lamp, a tungsten lamp, a gallium lamp, an excimer laser, and a wavelength range. LED light sources emitting 380 to 440 nm, chemical lamps, black light lamps, microwave-excited mercury lamps, metal halide lamps, and the like.

紫外線の照射強度は、通常、紫外線Ｂ波（波長域２８０〜３１０nm）の場合、１００ｍＷ／ｃｍ^２〜３，０００ｍＷ／ｃｍ^２である。紫外線照射強度は、好ましくはカチオン重合開始剤又はラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。紫外線を照射する時間は、通常０．１秒〜１０分であり、好ましくは０．１秒〜５分であり、より好ましくは０．１秒〜３分であり、さらに好ましくは０．１秒〜１分である。 The irradiation intensity of ultraviolet radiation is typically the case of ultraviolet B wave (wavelength region ^{280～310Nm),} a ^{100mW / cm 2 ~3,000mW / cm 2} . The ultraviolet irradiation intensity is preferably an intensity in a wavelength region effective for activating a cationic polymerization initiator or a radical polymerization initiator. The time for irradiating ultraviolet rays is usually 0.1 second to 10 minutes, preferably 0.1 second to 5 minutes, more preferably 0.1 second to 3 minutes, and further preferably 0.1 second. ~ 1 minute.

紫外線は、１回または複数回に分けて照射することができる。使用する重合開始剤にもよるが、波長３６５ｎｍにおける積算光量は、７００ｍＪ／ｃｍ^２以上とすることが好ましく、１，１００ｍＪ／ｃｍ^２以上とすることがより好ましく、１，３００ｍＪ／ｃｍ^２以上とすることがさらに好ましい。上記積算光量とすることは、位相差フィルムを構成する重合性液晶化合物の重合率を高め、耐熱性を向上させるのに有利である。波長３６５ｎｍにおける積算光量は、２，０００ｍＪ／ｃｍ^２以下とすることが好ましく、１，８００ｍＪ／ｃｍ^２以下とすることがより好ましい。上記積算光量とすることは、位相差フィルムの着色を招くおそれがある。また、紫外線の照射後に、冷却工程を設けてもよい。冷却温度は、例えば、２０℃以下とすることができ、１０℃以下とすることができる。冷却時間は、例えば、１０秒間以上とすることができ、２０秒間以上とすることができる。 Ultraviolet rays can be irradiated once or in a plurality of times. Depending on the polymerization initiator used, the accumulated amount of light at a wavelength of 365nm is preferably in a 700 mJ / cm ² or more, more preferably, to 1,100mJ / cm ² or more, 1,300mJ / cm ² or more and More preferably, The use of the above-mentioned integrated light amount is advantageous for increasing the polymerization rate of the polymerizable liquid crystal compound constituting the retardation film and improving the heat resistance. Integrated light intensity at a wavelength of 365nm is preferably in a 2,000 mJ / cm ² or less, and more preferably to 1,800mJ / cm ² or less. The use of the integrated light amount may cause coloring of the retardation film. Further, a cooling step may be provided after the irradiation with the ultraviolet rays. The cooling temperature can be, for example, 20 ° C. or lower, and can be 10 ° C. or lower. The cooling time can be, for example, 10 seconds or more, and can be 20 seconds or more.

本実施形態において位相差層の厚みは、０．５μｍ以上であることが好ましい。また、前記位相差層の厚みは、１０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがより好ましい。なお、上述した上限値及び下限値は、任意に組み合わせることができる。位相差層の厚みが前記下限値以上であると、十分な耐久性が得られる。位相差層の厚みが前記上限値以下であると、光学積層体の薄層化に貢献し得る。位相差層の厚みは、λ／４の位相差を与える層、λ／２の位相差を与える層、又はポジティブＣ層の所望の面内位相差値、及び厚み方向の位相差値が得られるよう調整され得る。
位相差フィルム中には、それぞれ別の異なる位相差特性を有する複数の位相差層が積層されたものが含まれていてもよい。それぞれの位相差層は、接着剤や粘着剤を介して積層してもよいし、すでに形成された位相差層の表面に重合性液晶化合物を含む組成物を塗工し、硬化させてもよい。 In the present embodiment, the thickness of the retardation layer is preferably 0.5 μm or more. Further, the thickness of the retardation layer is preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less. Note that the upper limit and the lower limit described above can be arbitrarily combined. When the thickness of the retardation layer is equal to or more than the lower limit, sufficient durability can be obtained. When the thickness of the retardation layer is equal to or less than the upper limit, it can contribute to thinning of the optical laminate. As the thickness of the retardation layer, a desired in-plane retardation value and a thickness direction retardation value of a layer giving a λ / 4 phase difference, a layer giving a λ / 2 phase difference, or a positive C layer can be obtained. Can be adjusted as follows.
The retardation film may include a laminate of a plurality of retardation layers having different retardation characteristics. Each retardation layer may be laminated via an adhesive or a pressure-sensitive adhesive, or a composition containing a polymerizable liquid crystal compound may be applied to the surface of an already formed retardation layer and cured. .

位相差フィルムが、重合性液晶化合物が硬化した位相差層のみから形成される場合、突刺し弾性率を大幅に小さくすることができるため、熱衝撃によるクラック発生を抑えることができるので好ましい。位相差フィルムが、重合性液晶化合物が硬化した位相差層のみから形成される場合、位相差フィルムの突刺し弾性率は、例えば４０ｇ／ｍｍ以下や３５ｇ／ｍｍ以下であることができ、好ましくは３０ｇ／ｍｍ以下、より好ましくは２５ｇ／ｍｍ以下、さらに好ましくは１５ｇ／ｍｍ以下であり、通常３ｇ／ｍｍ以上である。膜強度を保持する観点から突刺し弾性率は７ｇ／ｍｍ以上であることが好ましい。 It is preferable that the retardation film is formed only of the retardation layer in which the polymerizable liquid crystal compound is cured, because the piercing elastic modulus can be significantly reduced, and the occurrence of cracks due to thermal shock can be suppressed. When the retardation film is formed only of the retardation layer in which the polymerizable liquid crystal compound is cured, the piercing elastic modulus of the retardation film can be, for example, 40 g / mm or less or 35 g / mm or less, and is preferably. It is 30 g / mm or less, more preferably 25 g / mm or less, still more preferably 15 g / mm or less, and usually 3 g / mm or more. From the viewpoint of maintaining the film strength, the piercing elastic modulus is preferably 7 g / mm or more.

一方、位相差フィルムは、重合性液晶化合物が硬化した位相差層と配向層から形成される場合、温度変化よるクラック抑制と適度な基材との剥離性および膜強度を維持する観点から、位相差フィルムの突刺し弾性率の下限値は、好ましくは１５ｇ／ｍｍ以上、より好ましくは２０ｇ／ｍｍ以上であり、上限値としては５０ｇ／ｍｍ以下、好ましくは４０ｇ／ｍｍ以下、さらに好ましくは３０ｇ／ｍｍ以下（通常５ｇ／ｍｍ以上）とすることができる。 On the other hand, when the retardation film is formed from a cured retardation layer and an alignment layer of a polymerizable liquid crystal compound, the retardation film is not suitable from the viewpoints of suppressing cracks due to temperature change and maintaining appropriate peelability from the substrate and film strength. The lower limit value of the piercing elastic modulus of the retardation film is preferably 15 g / mm or more, more preferably 20 g / mm or more, and the upper limit value is 50 g / mm or less, preferably 40 g / mm or less, more preferably 30 g / mm or less. mm or less (usually 5 g / mm or more).

上記のとおり、本発明の位相差フィルムは、位相差層のみから構成されていてもよいし、位相差層と配向層とから構成されていてもよいが、この位相差フィルムは、以下の計算式（Ａ）

で示される重合性基量Ｎが０．６７以下、さらには０．６４以下であることが好ましい。
重合性基量Ｎは通常０．０１以上、好ましくは０．０３以上である。
ここで、
ＡＬは、位相差フィルムを構成する配向層を構成する樹脂を構成する重合性化合物に由来する構成単位の種類数を示す。なお、位相差フィルムが位相差層のみから構成されている場合には、ＡＬ＝０である。
Ｃｗｉは、配向層を構成する樹脂における重合性化合物に由来する全構成単位を基準として、重合性化合物ｉに由来する構成単位の含有量（質量％）を示し、
Ｍｉは、配向層を構成する重合性化合物ｉの分子量を示し、
Ｎｉは、配向層を構成する重合性化合物ｉが有する重合性基の数を示す。
ＬＣは、位相差層が重合性液晶化合物の硬化した層である場合に、位相差層を構成する重合性液晶化合物に由来する構成単位の種類数を示す。
Ｃｗｊは、位相差層における重合性液晶化合物に由来する全構成単位を基準として、重合性液晶化合物ｊに由来する構成単位の含有量（質量％）を示し、
Ｍｊは、位相差層を構成する重合性液晶化合物ｊの分子量を示し、
Ｎｊは、位相差層を構成する重合性液晶化合物ｉが有する重合性基の数を示す。
Ｌ_ＡＬは配向層の厚さ（μｍ）を示し、Ｌ_ＬＣは位相差層の厚さ（μｍ）を示す。Ｌ_{ｔｏｔａｌ}は、Ｌ_ＡＬとＬ_ＬＣとの和を示す。 As described above, the retardation film of the present invention may be composed of only the retardation layer, or may be composed of the retardation layer and the alignment layer. Formula (A)

Is preferably 0.67 or less, more preferably 0.64 or less.
The amount N of the polymerizable group is usually 0.01 or more, preferably 0.03 or more.
here,
AL indicates the number of types of structural units derived from the polymerizable compound constituting the resin constituting the alignment layer constituting the retardation film. When the retardation film is composed of only the retardation layer, AL = 0.
Cwi indicates the content (% by mass) of the structural unit derived from the polymerizable compound i, based on all the structural units derived from the polymerizable compound in the resin constituting the alignment layer,
Mi indicates the molecular weight of the polymerizable compound i constituting the alignment layer,
Ni indicates the number of polymerizable groups of the polymerizable compound i constituting the alignment layer.
LC indicates the number of types of structural units derived from the polymerizable liquid crystal compound constituting the retardation layer when the retardation layer is a cured layer of the polymerizable liquid crystal compound.
Cwj represents the content (% by mass) of the structural unit derived from the polymerizable liquid crystal compound j, based on all the structural units derived from the polymerizable liquid crystal compound in the retardation layer,
Mj represents the molecular weight of the polymerizable liquid crystal compound j constituting the retardation layer;
Nj indicates the number of polymerizable groups of the polymerizable liquid crystal compound i constituting the retardation layer.
L _AL denotes the thickness of the alignment layer _{(μm), L LC} denotes the thickness of the retardation layer ([mu] m). L _total _shows the sum of the _{L AL} and _{L LC.}

光学積層体が積層された表示装置の使用環境下において、温度変化が生じると光学積層体を構成する位相差フィルム、他光学フィルムや接着剤、粘着剤層において膨張、収縮が生じる。他構成部材の膨張、収縮による寸法変化の影響が位相差フィルムに集中し易い。
温度変化による他部材の寸法変化に対し、位相差フィルムが追従できなくなり、位相差フィルムを起点としたクラックが生じやすい。
この様な温度変化によるクラックは、位相差フィルムが１０μｍ以下の薄膜である場合や位相差フィルムが、重合性液晶化合物が硬化した位相差層を有する場合に生じやすい。
特に位相差フィルムが位相差層または位相差層と配向層から形成され、位相差層または配向層に直接粘着剤や接着剤層が積層された場合にクラックが生じやすく、位相差層の配向性が、ポジティブＣ層の様な垂直配向性を有する場合は、その傾向が顕著となることがある。
本願の光学積層体は、その構成要素である位相差フィルムの突刺し弾性率を５０ｇ／ｍｍ以下とすることにより、前述の温度変化による他部材の寸法変化に対しても位相差フィルムが追従でき、上述のクラックが生じやすい位相差フィルムや光学積層体の構成でも好適にその発生を抑制することができる。 In a use environment of a display device on which an optical laminate is laminated, when a temperature change occurs, expansion and contraction occur in a retardation film, another optical film, an adhesive, and an adhesive layer constituting the optical laminate. The influence of dimensional changes due to expansion and contraction of other components tends to concentrate on the retardation film.
The retardation film cannot follow a dimensional change of another member due to a temperature change, and cracks starting from the retardation film tend to occur.
Cracks due to such a temperature change are likely to occur when the retardation film is a thin film having a thickness of 10 μm or less or when the retardation film has a retardation layer in which a polymerizable liquid crystal compound is cured.
In particular, when a retardation film is formed from a retardation layer or a retardation layer and an alignment layer, and a pressure-sensitive adhesive or an adhesive layer is directly laminated on the retardation layer or the alignment layer, cracks easily occur, and the orientation of the retardation layer is However, when it has a vertical orientation like the positive C layer, the tendency may be remarkable.
The optical laminate of the present invention can follow the dimensional change of other members due to the above-mentioned temperature change by setting the piercing elastic modulus of the phase difference film as a component thereof to 50 g / mm or less. In addition, even in the configuration of the retardation film or the optical laminate in which the above-described crack is likely to occur, the occurrence thereof can be suitably suppressed.

本願の光学積層体は、２つ以上の位相差フィルムを有してもよい。光学積層体が、位相差フィルムを２層含む場合、２層はλ／４の位相差を与える層およびポジティブＣ層、またはλ／４の位相差を与える層およびλ／２の位相差を与える層であることが好ましい。
光学積層体が、位相差フィルムを２層含む場合、それぞれの位相差フィルムの位相差層を接着剤層や粘着剤層を介して積層してもよい。光学積層体の薄膜化の観点から複数の層を積層した位相差フィルムの厚みは、３〜３０μｍであることが好ましく、５〜２５μｍであることがより好ましい。 The optical laminate of the present application may have two or more retardation films. When the optical laminate includes two retardation films, the two layers provide a λ / 4 retardation layer and a positive C layer, or a λ / 4 retardation layer and a λ / 2 retardation. It is preferably a layer.
When the optical laminate includes two retardation films, the retardation layers of each retardation film may be laminated via an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer. The thickness of the retardation film formed by laminating a plurality of layers is preferably 3 to 30 μm, and more preferably 5 to 25 μm, from the viewpoint of reducing the thickness of the optical laminate.

光学積層体の構成において、２つ以上の位相差フィルムを有し、それら位相差フィルムの少なくとも一つが、重合性液晶化合物が硬化した垂直配向性を示す位相差層を有する場合、熱衝撃によりクラックがより発生しやすい傾向がある。特に活性エネルギー線硬化性接着剤を介して位相差フィルム同士が積層され、且つその接着剤層の貯蔵弾性率が３０００ＭＰａ以上である場合にクラックの発生が顕著となることがある。光学積層体が二つの位相差フィルムを有する場合の位相差特性の組み合わせとしては、例えば、位相差層がλ／４の位相差を与える層を有する位相差フィルムと垂直配向性を与える層を有する位相差フィルムの組み合わせが挙げられる。この様な構成の光学積層体でも、位相差フィルムの突刺し弾性率を本願で規定する範囲とすることにより、効率的にクラックの発生を抑制することができる。 In the configuration of the optical laminate, when two or more retardation films are provided, and at least one of the retardation films has a retardation layer showing a vertical alignment property in which a polymerizable liquid crystal compound is cured, cracks due to thermal shock Tends to occur more easily. In particular, when the retardation films are laminated via an active energy ray-curable adhesive and the storage elastic modulus of the adhesive layer is 3000 MPa or more, cracks may be remarkably generated. As the combination of the retardation characteristics when the optical laminate has two retardation films, for example, the retardation layer has a retardation film having a layer giving a λ / 4 retardation and a layer giving a vertical alignment property. Examples include a combination of retardation films. Even in the optical laminate having such a configuration, generation of cracks can be efficiently suppressed by setting the piercing elastic modulus of the retardation film within the range specified in the present application.

位相差フィルム中に配向層が含まれる場合は、配向層の鉛筆硬度やスチールウール硬度等の耐摩耗性評価を熱衝撃によるクラック抑制の指標として用いることができる。
例えば鉛筆硬度は、ＪＩＳＫ５６００−５−４：１９９９に準じて求められ、各硬度の鉛筆を用いて引っかいたときに傷が生じない最も硬い鉛筆の硬度で表される。配向層の鉛筆硬度は、３Ｂ以下とすると熱衝撃によるクラック発生を抑制することができるので好ましい。
他指標としてのスチールウール硬度は、例えばスチールウール試験機（大栄精機社製）にて、クリーンルーム用ワイパー（旭化成株式会社製ＢＥＭＣＯＴＡＺ-８）を試験対象の表面にそれぞれ５００ｇの荷重で接触させ、４０ｒ／ｍｉｎの速度で４往復摩耗試験を行い、目視にて確認されたキズの本数にて示すことができる。配向層に対するスチールウール試験にて測定されるキズの本数は、熱衝撃によるクラック発生を抑制するうえで、４本以上であることが好ましく、８本以上であることがさらに好ましい。
取り扱い性や有機ＥＬ表示装置等の表示装置の視認性の観点から、鉛筆硬度は通常５Ｂ以上であり、スチールウール試験で測定されるキズの本数は、通常５０本以下であり、２０本以下であることが好ましく、１０本以下であることがより好ましい。 When an alignment layer is included in the retardation film, evaluation of abrasion resistance such as pencil hardness and steel wool hardness of the alignment layer can be used as an index of crack suppression by thermal shock.
For example, the pencil hardness is determined according to JIS K 5600-5-4: 1999, and is represented by the hardness of the hardest pencil that does not scratch when scratched using a pencil of each hardness. It is preferable that the pencil hardness of the alignment layer is 3B or less because crack generation due to thermal shock can be suppressed.
The steel wool hardness as another index is, for example, by using a steel wool tester (manufactured by Daiei Seiki Co., Ltd.) to bring a wiper for clean room (BEMCOT AZ-8 manufactured by Asahi Kasei Corporation) into contact with the surface of the test object with a load of 500 g, A four-way reciprocating abrasion test is performed at a speed of 40 r / min, and the number of scratches visually observed can be indicated. The number of scratches measured by a steel wool test on the orientation layer is preferably 4 or more, and more preferably 8 or more, in order to suppress the occurrence of cracks due to thermal shock.
From the viewpoint of handleability and visibility of a display device such as an organic EL display device, the pencil hardness is usually 5B or more, and the number of scratches measured by a steel wool test is usually 50 or less, and 20 or less. The number is preferably, and more preferably 10 or less.

上記位相差フィルムの光弾性係数は、好ましくは３〜１００×１０^−１３Ｐａ^−１、より好ましくは５〜７０×１０^−１３Ｐａ^−１であり、さらに好ましくは１５〜６０×１０^−１３Ｐａ^−１であり、よりさらに好ましくは２０〜６０×１０^−１３Ｐａ^−１である。
なお、光弾性係数は、例えば、位相差測定装置ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ（王子計測機器株式会社製）を用いて、サンプル（サイズ１ｃｍ×１０ｃｍ）の両端を挟持して応力（０．５Ｎ〜３Ｎ）をかけながら、サンプル中央の位相差値（２３℃／波長５５０ｎｍ）を測定し、応力と位相差値の関数の傾きから算出することができる。 The photoelastic coefficient of the retardation film is preferably 3 to 100 × 10 ⁻¹³ Pa ⁻¹ , more preferably 5 to 70 × 10 ⁻¹³ Pa ⁻¹ , and still more preferably 15 to 60 × 10 ⁻¹³ Pa ^−1. ⁻¹ , and still more preferably 20 to 60 × 10 ⁻¹³ Pa ⁻¹ .
The photoelastic coefficient is obtained by, for example, using a phase difference measuring device KOBRA-WPR (manufactured by Oji Scientific Instruments) to measure the stress (0.5N to 3N) by sandwiching both ends of a sample (1 cm × 10 cm). While applying, the phase difference value (23 ° C./wavelength 550 nm) at the center of the sample is measured, and can be calculated from the slope of the function of the stress and the phase difference value.

光学積層体は、図１に示した層以外の層を有することができる。光学積層体がさらに有していてもよい層としては、前面板、遮光パターン、偏光板などの光学機能層や、他光学機能層と積層させるための接着剤層や粘着剤層、タッチセンサ等が挙げられる。前面板は、偏光板３における位相差フィルムが積層された側とは反対側に配置されることができる。遮光パターンは、前面板における偏光板側の面上に形成することができる。遮光パターンは、画像表示装置の額縁（非表示領域）に形成され、画像表示装置の配線が使用者に視認されないようにすることができる。タッチセンサは、粘着剤層１２を介して、光学積層体に積層されることができる。 The optical laminate can have layers other than the layers shown in FIG. The layers that the optical laminate may further have include an optical functional layer such as a front plate, a light shielding pattern, and a polarizing plate, and an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer for laminating with another optical functional layer, a touch sensor, and the like. Is mentioned. The front plate can be disposed on the opposite side of the polarizing plate 3 from the side on which the retardation film is laminated. The light-shielding pattern can be formed on the surface of the front plate on the side of the polarizing plate. The light-shielding pattern is formed in a frame (non-display area) of the image display device, and can prevent the wiring of the image display device from being visually recognized by a user. The touch sensor can be laminated on the optical laminate via the pressure-sensitive adhesive layer 12.

光学積層体の主面の形状は、実質的に矩形であることができる。主面とは表示面に対応する最も広い面積を有する面を意味する。実質的に矩形であるとは、４つの隅（角部）のうち少なくとも１つの角部が鈍角となるように切除された形状や丸みを設けた形状であったり、主面に垂直な端面の一部が面内方向に窪んだ凹み部（切り欠け）を有したり、主面内の一部が、円形、楕円形、多角形及びそれらの組合せ等の形状にくり抜かれた穴あき部を有したりしてもよいことをいう。 The shape of the main surface of the optical laminate can be substantially rectangular. The main surface means a surface having the widest area corresponding to the display surface. The term “substantially rectangular” means that at least one of the four corners (corners) is cut or rounded so as to form an obtuse angle, or an end face perpendicular to the main surface. A part has a concave part (notch) that is depressed in the in-plane direction, and a part of the main surface has a holed part that is hollowed out into a shape such as a circle, an ellipse, a polygon, and a combination thereof. It means that you may have it.

光学積層体の大きさは特に限定されない。光学積層体が実質的に矩形である場合、長辺の長さは６ｃｍ以上３５ｃｍ以下であることが好ましく、１０ｃｍ以上３０ｃｍ以下であることがより好ましく、短辺の長さは５ｃｍ以上３０ｃｍ以下であることが好ましく、６ｃｍ以上２５ｃｍ以下であることがより好ましい。 The size of the optical laminate is not particularly limited. When the optical laminate is substantially rectangular, the length of the long side is preferably from 6 cm to 35 cm, more preferably from 10 cm to 30 cm, and the length of the short side is from 5 cm to 30 cm. It is preferable that the distance is 6 cm or more and 25 cm or less.

光学積層体の厚さは、通常５０〜５００μｍであるが、薄膜化の観点から、１５０μｍ以下が好ましく、１０５μｍ以下がより好ましいが、光学積層体の厚さが１０５μｍ以下となると熱衝撃を受けた際、位相差フィルムを起点としたクラックが光学積層体全体に広がりやすい。
この様な薄膜の光学積層体となっても、位相差フィルムの突刺し弾性率を本願で規定する範囲とすることにより、温度変化によるクラック発生を好適に抑制することができる。 The thickness of the optical laminate is usually 50 to 500 μm, but from the viewpoint of thinning, is preferably 150 μm or less, more preferably 105 μm or less, but when the thickness of the optical laminate becomes 105 μm or less, a thermal shock was applied. In this case, cracks originating from the retardation film tend to spread throughout the optical laminate.
Even in the case of such an optical laminate of a thin film, the generation of cracks due to a temperature change can be suitably suppressed by setting the piercing elastic modulus of the retardation film within the range specified in the present application.

本願の位相差フィルムは、熱衝撃によるクラック発生を抑えるという観点から、基材付きのカール量を低減させた方がよい。カール量は基材付きの構成で、１０ｃｍ×１０ｃｍ角に切り出し、２３℃５５％に２４時間調湿後に測定することができる。カール量は、基材の種類、厚みによって異なるが、基材が１５〜２５μｍ（例えば２０μｍ）の環状ポリオレフィン系樹脂（ＣＯＰ）フィルムの場合、４辺のカール量の平均値として、１０ｍｍ以下が好ましく、さら５ｍｍ以下が好ましい。 In the retardation film of the present invention, it is better to reduce the amount of curl with a substrate from the viewpoint of suppressing the occurrence of cracks due to thermal shock. The curl amount can be measured after cutting out a 10 cm × 10 cm square in a configuration with a base material and adjusting the humidity to 23 ° C. and 55% for 24 hours. The curl amount varies depending on the type and thickness of the substrate, but when the substrate is a cyclic polyolefin-based resin (COP) film having a thickness of 15 to 25 μm (for example, 20 μm), the average value of the curl amounts on the four sides is preferably 10 mm or less. And more preferably 5 mm or less.

＜偏光板＞
本発明において偏光板とは、偏光子単独、または、偏光子の少なくとも１つの面に貼合された保護フィルムとからなる積層体のことをいう。偏光フィルムが備える保護フィルムは、後述のハードコート層、反射防止層、帯電防止層などの表面処理層を有していてもよい。偏光子と保護フィルムとは、例えば接着剤層や粘着剤層を介して積層することができる。偏光板が備える部材について、以下に説明する。 <Polarizing plate>
In the present invention, the polarizing plate refers to a polarizer alone or a laminate comprising a protective film bonded to at least one surface of the polarizer. The protective film included in the polarizing film may have a surface treatment layer such as a hard coat layer, an antireflection layer, and an antistatic layer described below. The polarizer and the protective film can be laminated via, for example, an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer. The members included in the polarizing plate will be described below.

（１）偏光子
偏光板が備える偏光子は、その吸収軸に平行な振動面をもつ直線偏光を吸収し、吸収軸に直交する（透過軸と平行な）振動面をもつ直線偏光を透過する性質を有する吸収型の偏光子であることができる。第１の層が有する偏光子としては、一軸延伸されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させた偏光子を好適に用いることができる。偏光子は、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程；ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより二色性色素を吸着させる工程；二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液等の架橋液で処理する工程；及び、架橋液による処理後に水洗する工程を含む方法によって製造できる。 (1) Polarizer A polarizer included in a polarizing plate absorbs linearly polarized light having a vibration plane parallel to its absorption axis and transmits linearly polarized light having a vibration plane perpendicular to the absorption axis (parallel to the transmission axis). It can be an absorbing polarizer having properties. As the polarizer included in the first layer, a polarizer in which a dichroic dye is adsorbed and oriented on a uniaxially stretched polyvinyl alcohol-based resin film can be suitably used. The polarizer is, for example, a step of uniaxially stretching a polyvinyl alcohol-based resin film; a step of dyeing the polyvinyl alcohol-based resin film with a dichroic dye to adsorb the dichroic dye; a polyvinyl to which the dichroic dye is adsorbed It can be manufactured by a method including a step of treating an alcohol-based resin film with a crosslinking solution such as an aqueous boric acid solution; and a step of washing with water after the treatment with the crosslinking solution.

ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化したものを用いることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他、酢酸ビニルと共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体の例は、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、及びアンモニウム基を有する（メタ）アクリルアミド類等を含む。 As the polyvinyl alcohol-based resin, a saponified polyvinyl acetate-based resin can be used. Examples of the polyvinyl acetate-based resin include polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, and a copolymer with another monomer copolymerizable with vinyl acetate. Examples of other monomers copolymerizable with vinyl acetate include unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonic acids, and (meth) acrylamides having an ammonium group.

本明細書において「（メタ）アクリル」とは、アクリル及びメタクリルから選択される少なくとも一方を意味する。「（メタ）アクリロイル」、「（メタ）アクリレート」等においても同様である。 In the present specification, “(meth) acryl” means at least one selected from acryl and methacryl. The same applies to “(meth) acryloyl”, “(meth) acrylate” and the like.

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は通常、８５〜１００ｍｏｌ％であり、９８ｍｏｌ％以上が好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマール又はポリビニルアセタール等を用いることもできる。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は通常、１０００〜１００００であり、１５００〜５０００が好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、ＪＩＳＫ６７２６に準拠して求めることができる。 The saponification degree of the polyvinyl alcohol-based resin is usually 85 to 100 mol%, preferably 98 mol% or more. The polyvinyl alcohol-based resin may be modified, for example, polyvinyl formal or polyvinyl acetal modified with aldehydes may be used. The average degree of polymerization of the polyvinyl alcohol-based resin is usually from 1,000 to 10,000, preferably from 1,500 to 5,000. The average degree of polymerization of the polyvinyl alcohol-based resin can be determined in accordance with JIS K 6726.

このようなポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものが、偏光子（偏光子）の原反フィルムとして用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は、特に限定されるものではなく、公知の方法が採用される。ポリビニルアルコール系原反フィルムの厚みは特に制限されないが、偏光子の厚みを１５μｍ以下とするためには、５〜３５μｍのものを用いることが好ましい。より好ましくは、２０μｍ以下である。 A film formed of such a polyvinyl alcohol-based resin is used as a raw film of a polarizer (polarizer). The method for forming the polyvinyl alcohol-based resin into a film is not particularly limited, and a known method is employed. The thickness of the polyvinyl alcohol-based raw film is not particularly limited. However, in order to make the thickness of the polarizer 15 μm or less, it is preferable to use a film having a thickness of 5 to 35 μm. More preferably, it is 20 μm or less.

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素の染色前、染色と同時、又は染色の後に行うことができる。一軸延伸を染色の後で行う場合、この一軸延伸は、架橋処理の前又は架橋処理中に行ってもよい。また、これらの複数の段階で一軸延伸を行ってもよい。 The uniaxial stretching of the polyvinyl alcohol-based resin film can be performed before, simultaneously with, or after dyeing the dichroic dye. When the uniaxial stretching is performed after the dyeing, the uniaxial stretching may be performed before or during the crosslinking treatment. In addition, uniaxial stretching may be performed in these plural stages.

一軸延伸にあたっては、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶剤や水を用いてポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は通常、３〜８倍である。 In the uniaxial stretching, the film may be uniaxially stretched between rolls having different peripheral speeds, or may be uniaxially stretched using a hot roll. The uniaxial stretching may be dry stretching in which stretching is performed in the air, or wet stretching in which a polyvinyl alcohol-based resin film is stretched using a solvent or water while being stretched. The stretching ratio is usually 3 to 8 times.

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色する方法としては、例えば、該フィルムを二色性色素が含有された水溶液に浸漬する方法が採用される。二色性色素としては、ヨウ素や二色性有機染料が用いられる。なお、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、染色処理の前に水への浸漬処理を施しておくことが好ましい。 As a method of dyeing a polyvinyl alcohol-based resin film with a dichroic dye, for example, a method of immersing the film in an aqueous solution containing a dichroic dye is adopted. As the dichroic dye, iodine or a dichroic organic dye is used. The polyvinyl alcohol-based resin film is preferably subjected to a dipping treatment in water before the dyeing treatment.

二色性色素による染色後の架橋処理としては通常、染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸含有水溶液に浸漬する方法が採用される。二色性色素としてヨウ素を用いる場合、このホウ酸含有水溶液は、ヨウ化カリウムを含有することが好ましい。 As a crosslinking treatment after dyeing with a dichroic dye, a method of immersing a dyed polyvinyl alcohol-based resin film in a boric acid-containing aqueous solution is usually employed. When iodine is used as the dichroic dye, the aqueous solution containing boric acid preferably contains potassium iodide.

偏光子の厚みは、通常３０μｍ以下であり、好ましくは１５μｍ以下であり、より好ましくは１３μｍ以下であり、さらに好ましくは１０μｍ以下であり、特に好ましくは８μｍ以下である。偏光子の厚みは、通常２μｍ以上であり、３μｍ以上であることが好ましい。 The thickness of the polarizer is usually 30 μm or less, preferably 15 μm or less, more preferably 13 μm or less, further preferably 10 μm or less, and particularly preferably 8 μm or less. The thickness of the polarizer is usually at least 2 μm, preferably at least 3 μm.

偏光子としては、例えば特開２０１６−１７０３６８号公報に記載されるように、液晶化合物が重合した硬化膜中に、二色性色素が配向したものを使用してもよい。二色性色素としては、波長３８０〜８００ｎｍの範囲内に吸収を有するものを用いることができ、有機染料を用いることが好ましい。二色性色素として、例えば、アゾ化合物が挙げられる。
液晶化合物は、配向したまま重合することができる液晶化合物であり、分子内に重合性基を有することができる。また、ＷＯ２０１１／０２４８９１に記載されるように、液晶性を有する二色性色素から偏光子を形成してもよい。 As described in, for example, JP-A-2006-170368, a polarizer in which a dichroic dye is oriented in a cured film in which a liquid crystal compound is polymerized may be used. As the dichroic dye, those having absorption in a wavelength range of 380 to 800 nm can be used, and it is preferable to use an organic dye. An example of the dichroic dye is an azo compound.
The liquid crystal compound is a liquid crystal compound that can be polymerized while being aligned, and can have a polymerizable group in the molecule. Further, as described in WO2011 / 024891, a polarizer may be formed from a dichroic dye having liquid crystallinity.

偏光子の収縮力は、好ましくは２．０Ｎ／２ｍｍ以下であり、より好ましくは１．８Ｎ／ｍｍ以下であり、さらに好ましくは１．５Ｎ以下である。 The contraction force of the polarizer is preferably 2.0 N / 2 mm or less, more preferably 1.8 N / mm or less, and even more preferably 1.5 N or less.

（２）保護フィルム
本発明の偏光板は、偏光子の少なくとも1つの面に保護フィルムを有していてもよい。
偏光子と位相差フィルムの間に保護フィルムを有する場合は、負の複屈折性を持つことが好ましい。ここで、負の複屈折性とは、樹脂の延伸方向と垂直な方向に遅相軸が発現することを意味する。位相差フィルムとしては、正の複屈折性を持つ位相差層を含むものを用いることから、偏光子の熱収縮に伴う位相差フィルムの位相差発現とは逆の位相差が発現されるため、色変化が小さくなると考えられる。ここで、正の複屈折性とは、位相差フィルムの延伸方向と平行な方向に遅相軸が発現することを意味する。 (2) Protective film The polarizing plate of the present invention may have a protective film on at least one surface of the polarizer.
When a protective film is provided between the polarizer and the retardation film, it preferably has negative birefringence. Here, the negative birefringence means that a slow axis is developed in a direction perpendicular to the stretching direction of the resin. Since the retardation film includes a retardation layer having a positive birefringence, since a retardation opposite to the retardation of the retardation film due to heat shrinkage of the polarizer is developed, It is considered that the color change becomes smaller. Here, the positive birefringence means that a slow axis appears in a direction parallel to the stretching direction of the retardation film.

偏光子に積層される保護フィルムは、透光性を有する（好ましくは光学的に透明な）熱可塑性樹脂、例えば、鎖状ポリオレフィン系樹脂（ポリプロピレン系樹脂等）、環状ポリオレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂等）のようなポリオレフィン系樹脂；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースのようなセルロース系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートのようなポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；メタクリル酸メチル系樹脂のような（メタ）アクリル系樹脂；ポリスチレン系樹脂；ポリ塩化ビニル系樹脂；アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン系樹脂；アクリロニトリル・スチレン系樹脂；ポリ酢酸ビニル系樹脂；ポリ塩化ビニリデン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリアセタール系樹脂；変性ポリフェニレンエーテル系樹脂；ポリスルホン系樹脂；ポリエーテルスルホン系樹脂；ポリアリレート系樹脂；ポリアミドイミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；マレイミド系樹脂等からなるフィルムであることができる。 The protective film laminated on the polarizer is a translucent (preferably optically transparent) thermoplastic resin, for example, a chain polyolefin resin (eg, a polypropylene resin) or a cyclic polyolefin resin (a norbornene resin). Polyolefin resins such as triacetyl cellulose and diacetyl cellulose; polyester resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate; polycarbonate resins; (meth) such as methyl methacrylate resins Acrylic resin; polystyrene resin; polyvinyl chloride resin; acrylonitrile / butadiene / styrene resin; acrylonitrile / styrene resin; polyvinyl acetate resin; polyvinylidene chloride resin; polyamide resin; ; It can be a film made of a maleimide resin and the like; modified polyphenylene ether resin; polysulfone resins; poly (ether sulfone) resins; polyarylate resin; polyamideimide resin; polyimide resin.

特に、偏光子と位相差フィルムの間に用いる保護フィルムは、負の複屈折性を持つものを用いることが好ましい。つまり、（メタ）アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、マレイミド系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むフィルムを用いることが好ましい。このような樹脂フィルムを保護フィルムとして用いることで、異形形状に加工した場合でも、耐久性に優れた偏光板とすることができる。 In particular, it is preferable to use a protective film having a negative birefringence as the protective film used between the polarizer and the retardation film. That is, it is preferable to use a film containing at least one selected from the group consisting of a (meth) acrylic resin, a polystyrene resin, and a maleimide resin. By using such a resin film as a protective film, a polarizing plate having excellent durability can be obtained even when processed into an irregular shape.

（メタ）アクリル系樹脂は、（メタ）アクリロイル基を有する化合物を主な構成モノマーとする樹脂である。（メタ）アクリル系樹脂の具体例は、例えば、ポリメタクリル酸メチルのようなポリ（メタ）アクリル酸エステル；メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合体；メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体；メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−（メタ）アクリル酸共重合体；（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体（ＭＳ樹脂等）；メタクリル酸メチルと脂環族炭化水素基を有する化合物との共重合体（例えば、メタクリル酸メチル−メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ノルボルニル共重合体等）を含む。好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸メチルのようなポリ（メタ）アクリル酸Ｃ_1-6アルキルエステルを主成分とする重合体が用いられ、より好ましくは、メタクリル酸メチルを主成分（５０〜１００重量％、好ましくは７０〜１００重量％）とするメタクリル酸メチル系樹脂が用いられる。 The (meth) acrylic resin is a resin having a compound having a (meth) acryloyl group as a main constituent monomer. Specific examples of the (meth) acrylic resin include, for example, poly (meth) acrylates such as polymethyl methacrylate; methyl methacrylate- (meth) acrylic acid copolymer; methyl methacrylate- (meth) acrylic acid Ester copolymer; methyl methacrylate-acrylate- (meth) acrylic acid copolymer; methyl (meth) acrylate-styrene copolymer (MS resin, etc.); methyl methacrylate and alicyclic hydrocarbon group And a copolymer having the compound (e.g., methyl methacrylate-cyclohexyl methacrylate copolymer, methyl methacrylate-norbornyl (meth) acrylate copolymer). Preferably, a polymer having a poly (meth) acrylate C _1-6 alkyl ester as a main component such as poly (methyl meth) acrylate is used, and more preferably, a methyl methacrylate as a main component (50 to 100). % By weight, preferably 70 to 100% by weight).

前記（メタ）アクリル系樹脂フィルムの波長５９０ｎｍにおける面内の位相差値Ｒｅは、好ましくは１０ｎｍ以下であり、より好ましくは７ｎｍ以下であり、さらに好ましくは５ｎｍ以下であり、特に好ましくは３ｎｍ以下であり、最も好ましくは１ｎｍ以下である。
波長５９０ｎｍにおける（メタ）アクリル系樹脂フィルムの厚み方向の位相差値Ｒｔｈは、好ましくは１５ｎｍ以下であり、より好ましくは１０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは５ｎｍ以下であり、特に好ましくは３ｎｍ以下であり、最も好ましくは１ｎｍ以下である。面内の位相差値および厚み方向の位相差値がこのような範囲であれば、位相差フィルムの特性を損なうことなく、耐熱試験時における色変化を抑制することができる。面内の位相差値および厚み方向の位相差値をこのような範囲とするためには、例えば、後述のグルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂を用いて得ることができる。 The in-plane retardation value Re at a wavelength of 590 nm of the (meth) acrylic resin film is preferably 10 nm or less, more preferably 7 nm or less, further preferably 5 nm or less, particularly preferably 3 nm or less. And most preferably 1 nm or less.
The retardation value Rth in the thickness direction of the (meth) acrylic resin film at a wavelength of 590 nm is preferably 15 nm or less, more preferably 10 nm or less, still more preferably 5 nm or less, and particularly preferably 3 nm or less. , Most preferably 1 nm or less. When the in-plane retardation value and the retardation value in the thickness direction are within such ranges, the color change during the heat resistance test can be suppressed without impairing the properties of the retardation film. In order to set the in-plane retardation value and the retardation value in the thickness direction within such ranges, for example, a (meth) acrylic resin having a glutarimide structure described later can be used.

前記（メタ）アクリル系樹脂は、負の複屈折性を持つ範囲で好ましくは、正の複屈折を発現する構造単位を有していてもよい。正の複屈折を発現する構造単位と負の複屈折を発現する構造単位とを有していれば、その存在比を調整して、（メタ）アクリル系樹脂フィルムの位相差を制御することができ、低位相差の（メタ）アクリル系樹脂フィルムを得ることができる。正の複屈折を発現する構造単位としては、例えば、ラクトン環、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、酢酸セルロース、ポリエステル、ポリアリレート、ポリイミド、ポリオレフィン等を構成する構造単位、後述の一般式（１）で示される構造単位が挙げられる。負の複屈折を発現する構造単位としては、例えば、スチレン系モノマー、マレイミド系モノマー等を由来とする構造単位、ポリメチルメタクリレートの構造単位、後述の一般式（３）で示される構造単位等が挙げられる。 The (meth) acrylic resin may preferably have a structural unit exhibiting positive birefringence within a range having negative birefringence. If it has a structural unit that expresses positive birefringence and a structural unit that expresses negative birefringence, the abundance ratio can be adjusted to control the phase difference of the (meth) acrylic resin film. As a result, a (meth) acrylic resin film having a low retardation can be obtained. Examples of the structural unit exhibiting positive birefringence include a lactone ring, a structural unit constituting polycarbonate, polyvinyl alcohol, cellulose acetate, polyester, polyarylate, polyimide, polyolefin, and the like, and a general formula (1) described below. Structural units. Examples of the structural unit that exhibits negative birefringence include a structural unit derived from a styrene-based monomer, a maleimide-based monomer, and the like, a polymethyl methacrylate structural unit, and a structural unit represented by the following general formula (3). No.

前記（メタ）アクリル系樹脂として、ラクトン環構造またはグルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂が好ましく用いられる。ラクトン環構造またはグルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂は耐熱性に優れる。より好ましくは、グルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂である。グルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂を用いれば、上記のように、低透湿、かつ、位相差および紫外線透過率の小さい（メタ）アクリル系樹脂フィルムを得ることができる。グルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂（以下、グルタルイミド樹脂とも称する）は、例えば、特開２００６−３０９０３３号公報、特開２００６−３１７５６０号公報、特開２００６−３２８３２９号公報、特開２００６−３２８３３４号公報、特開２００６−３３７４９１号公報、特開２００６−３３７４９２号公報、特開２００６−３３７４９３号公報、特開２００６−３３７５６９号公報、特開２００７−００９１８２号公報、特開２００９−１６１７４４号公報に記載されている。これらの記載は、本明細書に参考として援用される。 As the (meth) acrylic resin, a (meth) acrylic resin having a lactone ring structure or a glutarimide structure is preferably used. A (meth) acrylic resin having a lactone ring structure or a glutarimide structure has excellent heat resistance. More preferably, it is a (meth) acrylic resin having a glutarimide structure. If a (meth) acrylic resin having a glutarimide structure is used, as described above, a (meth) acrylic resin film having low moisture permeability and small retardation and ultraviolet transmittance can be obtained. A (meth) acrylic resin having a glutarimide structure (hereinafter, also referred to as a glutarimide resin) is disclosed in, for example, JP-A-2006-309033, JP-A-2006-317560, JP-A-2006-328329, and JP-A-2006-328329. 2006-338334, JP-A-2006-337492, JP-A-2006-337492, JP-A-2006-337493, JP-A-2006-337569, JP-A-2007-001982, JP-A-2009- No. 161744. These descriptions are incorporated herein by reference.

好ましくは、上記グルタルイミド樹脂は、下記一般式（１）で表される構造単位（以下、グルタルイミド単位とも称する）と、下記一般式（２）で表される構造単位（以下、（メタ）アクリル酸エステル単位とも称する）とを含む。 Preferably, the glutarimide resin includes a structural unit represented by the following general formula (1) (hereinafter, also referred to as a glutarimide unit) and a structural unit represented by the following general formula (2) (hereinafter, (meth) Acrylate units).

式（１）において、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、水素または炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ^３は、水素、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または炭素数５〜１５の芳香環を含む置換基である。式（２）において、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立して、水素または炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ^６は、水素、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または炭素数５〜１５の芳香環を含む置換基である。

In the formula (1), R ¹ and R ² are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R ³ is hydrogen, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and 3 to 3 carbon atoms. It is a substituent containing 12 cycloalkyl groups or an aromatic ring having 5 to 15 carbon atoms. In the formula (2), ^{R 4} and ^{R 5} are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, ^{R 6} is hydrogen, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, 3 carbon It is a substituent containing 12 cycloalkyl groups or an aromatic ring having 5 to 15 carbon atoms.

グルタルイミド樹脂は、必要に応じて、下記一般式（３）で表される構造単位（以下、芳香族ビニル単位とも称する）をさらに含んでいてもよい。 The glutarimide resin may further include a structural unit represented by the following general formula (3) (hereinafter, also referred to as an aromatic vinyl unit) as necessary.

式（３）において、Ｒ^７は、水素または炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ^８は、炭素数６〜１０のアリール基である。 In the formula (3), R ⁷ is hydrogen or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R ⁸ is an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.

上記一般式（１）において、好ましくは、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、Ｒ^３は水素、メチル基、ブチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、Ｒ^１はメチル基であり、Ｒ^２は水素であり、Ｒ^３はメチル基である。 In the general formula (1), preferably, R ¹ and R ² are each independently hydrogen or a methyl group, and R ³ is hydrogen, a methyl group, a butyl group, or a cyclohexyl group, more preferably , R ¹ is a methyl group, R ² is hydrogen, and R ³ is a methyl group.

上記グルタルイミド樹脂は、グルタルイミド単位として、単一の種類のみを含んでいてもよいし、上記一般式（１）におけるＲ^１、Ｒ^２、およびＲ^３が異なる複数の種類を含んでいてもよい。 The glutarimide resin may include only a single type as a glutarimide unit, or may include a plurality of types in which R ¹ , R ² , and R ³ in the general formula (1) are different. Good.

グルタルイミド単位は、上記一般式（２）で表される（メタ）アクリル酸エステル単位をイミド化することにより、形成することができる。また、グルタルイミド単位は、無水マレイン酸等の酸無水物、または、このような酸無水物と炭素数１〜２０の直鎖または分岐のアルコールとのハーフエステル；アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、クロトン酸、フマル酸、シトラコン酸等のα，β−エチレン性不飽和カルボン酸等をイミド化することによっても、形成することができる。 The glutarimide unit can be formed by imidizing the (meth) acrylate unit represented by the general formula (2). The glutarimide unit is an acid anhydride such as maleic anhydride, or a half ester of such an acid anhydride and a linear or branched alcohol having 1 to 20 carbon atoms; acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid And α, β-ethylenically unsaturated carboxylic acids such as maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, crotonic acid, fumaric acid, citraconic acid, and the like.

上記一般式（２）において、好ましくは、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、Ｒ^６は水素またはメチル基であり、さらに好ましくは、Ｒ^４は水素であり、Ｒ^５はメチル基であり、Ｒ^６はメチル基である。 In the general formula (2), preferably, R ⁴ and R ⁵ are each independently a hydrogen or a methyl group, R ⁶ is a hydrogen or a methyl group, and more preferably, R ⁴ is a hydrogen. , R ⁵ is a methyl group, and R ⁶ is a methyl group.

上記グルタルイミド樹脂は、（メタ）アクリル酸エステル単位として、単一の種類のみを含んでいてもよいし、上記一般式（２）におけるＲ^４、Ｒ^５、およびＲ^６が異なる複数の種類を含んでいてもよい。 The glutarimide resin may include only a single type as the (meth) acrylate unit, or a plurality of types having different R ⁴ , R ⁵ , and R ⁶ in the general formula (2). May be included.

上記グルタルイミド樹脂は、上記一般式（３）で表される芳香族ビニル単位として、好ましくはスチレン、α−メチルスチレン等を含み、さらに好ましくはスチレンを含む。このような芳香族ビニル単位を有することにより、グルタルイミド構造の正の複屈折性を低減し、より低位相差の（メタ）アクリル系樹脂フィルムを得ることができる。 The glutarimide resin preferably contains styrene, α-methylstyrene, or the like as the aromatic vinyl unit represented by the general formula (3), and more preferably contains styrene. By having such an aromatic vinyl unit, the positive birefringence of the glutarimide structure can be reduced, and a (meth) acrylic resin film having a lower retardation can be obtained.

上記グルタルイミド樹脂は、芳香族ビニル単位として、単一の種類のみを含んでいてもよいし、Ｒ^７およびＲ^８が異なる複数の種類を含んでいてもよい。 The glutarimide resin may include only a single type as the aromatic vinyl unit, or may include a plurality of types having different R ⁷ and R ⁸ .

上記グルタルイミド樹脂における上記グルタルイミド単位の含有量は、例えばＲ^３の構造等に依存して変化させることが好ましい。グルタルイミド単位の含有量は、グルタルイミド樹脂の総構造単位を基準として、好ましくは１重量％〜８０重量％であり、より好ましくは１重量％〜７０重量％であり、さらに好ましくは１重量％〜６０重量％であり、特に好ましくは１重量％〜５０重量％である。グルタルイミド単位の含有量がこのような範囲であれば、耐熱性に優れた低位相差の（メタ）アクリル系樹脂フィルムが得られ得る。 The content of the glutarimide unit in the glutarimide resin is preferably varied depending on for example the structure of R ³ or the like. The content of the glutarimide unit is preferably 1% by weight to 80% by weight, more preferably 1% by weight to 70% by weight, and still more preferably 1% by weight, based on the total structural units of the glutarimide resin. To 60% by weight, particularly preferably 1% to 50% by weight. When the content of the glutarimide unit is in such a range, a (meth) acrylic resin film having excellent heat resistance and low retardation can be obtained.

上記グルタルイミド樹脂における上記芳香族ビニル単位の含有量は、目的や所望の特性に応じて適切に設定され得る。用途によっては、芳香族ビニル単位の含有量は０であってもよい。芳香族ビニル単位が含まれる場合、その含有量は、グルタルイミド樹脂のグルタルイミド単位を基準として、好ましくは１０重量％〜８０重量％であり、より好ましくは２０重量％〜８０重量％であり、さらに好ましくは２０重量％〜６０重量％であり、特に好ましくは２０重量％〜５０重量％である。芳香族ビニル単位の含有量がこのような範囲であれば、低位相差、かつ、耐熱性および機械的強度に優れた（メタ）アクリル系樹脂フィルムが得られ得る。 The content of the aromatic vinyl unit in the glutarimide resin can be appropriately set according to the purpose and desired characteristics. For some applications, the content of the aromatic vinyl unit may be zero. When an aromatic vinyl unit is contained, its content is preferably from 10% by weight to 80% by weight, more preferably from 20% by weight to 80% by weight, based on the glutarimide unit of the glutarimide resin, It is more preferably from 20% by weight to 60% by weight, and particularly preferably from 20% by weight to 50% by weight. When the content of the aromatic vinyl unit is in such a range, a (meth) acrylic resin film having low retardation, and excellent in heat resistance and mechanical strength can be obtained.

上記グルタルイミド樹脂には、必要に応じて、グルタルイミド単位、（メタ）アクリル酸エステル単位、および芳香族ビニル単位以外のその他の構造単位がさらに共重合されていてもよい。その他の構造単位としては、例えば、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のニトリル系単量体、マレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド系単量体から構成される構造単位が挙げられる。これらのその他の構造単位は、上記グルタルイミド樹脂中に、直接共重合していてもよいし、グラフト共重合していてもよい。 If necessary, other structural units other than the glutarimide unit, the (meth) acrylate unit, and the aromatic vinyl unit may be further copolymerized in the glutarimide resin. As other structural units, for example, a structure composed of a nitrile monomer such as acrylonitrile or methacrylonitrile, a maleimide monomer such as maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, or N-cyclohexylmaleimide. Units. These other structural units may be directly copolymerized or graft-copolymerized in the glutarimide resin.

上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムは、目的に応じて任意の適切な添加剤を含有し得る。添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤；耐光安定剤、紫外線吸収剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤；ガラス繊維、炭素繊維等の補強材；近赤外線吸収剤；トリス（ジブロモプロピル）ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃剤；アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤等の帯電防止剤；無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤；有機フィラーや無機フィラー；樹脂改質剤；可塑剤；滑剤；位相差低減剤等が挙げられる。含有される添加剤の種類、組み合わせ、含有量等は、目的や所望の特性に応じて適切に設定され得る。 The (meth) acrylic resin film may contain any appropriate additive depending on the purpose. Examples of the additives include antioxidants such as hindered phenol-based, phosphorus-based, and sulfur-based stabilizers; stabilizers such as light stabilizers, ultraviolet absorbers, weather stabilizers, and heat stabilizers; and glass fibers, carbon fibers, and the like. Reinforcement; Near infrared absorber; Flame retardant such as tris (dibromopropyl) phosphate, triallyl phosphate, antimony oxide; Antistatic agent such as anionic, cationic, nonionic surfactant; Inorganic pigment, organic pigment, Coloring agents such as dyes; organic fillers and inorganic fillers; resin modifiers; plasticizers; lubricants; The type, combination, content, etc. of the additives to be contained can be appropriately set according to the purpose and desired characteristics.

上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムの製造方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、（メタ）アクリル系樹脂と、紫外線吸収剤と、必要に応じてその他の重合体や添加剤等とを、任意の適切な混合方法で充分に混合し、予め熱可塑性樹脂組成物としてから、これをフィルム成形することができる。あるいは、（メタ）アクリル系樹脂と、紫外線吸収剤と、必要に応じてその他の重合体や添加剤等とを、それぞれ別々の溶液にしてから混合して均一な混合液とした後、フィルム成形してもよい。 The method for producing the (meth) acrylic resin film is not particularly limited, but includes, for example, a (meth) acrylic resin, an ultraviolet absorber, and, if necessary, other polymers and additives. Can be sufficiently mixed by any appropriate mixing method to form a thermoplastic resin composition in advance and then form a film. Alternatively, a (meth) acrylic resin, an ultraviolet absorber, and, if necessary, other polymers and additives, etc., are formed into separate solutions and then mixed to form a uniform mixed solution, and then the film is formed. May be.

上記熱可塑性樹脂組成物を製造するには、例えば、オムニミキサー等、任意の適切な混合機で上記のフィルム原料をプレブレンドした後、得られた混合物を押出混練する。この場合、押出混練に用いられる混合機は、特に限定されるものではなく、例えば、単軸押出機、二軸押出機等の押出機や加圧ニーダー等、任意の適切な混合機を用いることができる。 In order to produce the thermoplastic resin composition, for example, the above-mentioned film materials are pre-blended by any appropriate mixer such as an omni mixer, and then the obtained mixture is extruded and kneaded. In this case, the mixer used for extrusion kneading is not particularly limited, and for example, any suitable mixer such as an extruder such as a single screw extruder or a twin screw extruder or a pressure kneader may be used. Can be.

上記フィルム成形の方法としては、例えば、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法、カレンダー法、圧縮成形法等、任意の適切なフィルム成形法が挙げられる。溶融押出法が好ましい。溶融押出法は溶剤を使用しないので、製造コストや溶剤による地球環境や作業環境への負荷を低減することができる。 Examples of the film forming method include any appropriate film forming method such as a solution casting method (solution casting method), a melt extrusion method, a calendar method, and a compression molding method. Melt extrusion is preferred. Since the melt extrusion method does not use a solvent, the load on the global environment and the working environment due to the production cost and the solvent can be reduced.

上記溶融押出法としては、例えば、Ｔダイ法、インフレーション法等が挙げられる。成形温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。 Examples of the melt extrusion method include a T-die method and an inflation method. The molding temperature is preferably from 150 to 350C, more preferably from 200 to 300C.

上記Ｔダイ法でフィルム成形する場合は、公知の単軸押出機や二軸押出機の先端部にＴダイを取り付け、フィルム状に押出されたフィルムを巻取って、ロール状のフィルムを得ることができる。この際、巻取りロールの温度を適宜調整して、押出方向に延伸を加えることで、１軸延伸することも可能である。また、押出方向と垂直な方向にフィルムを延伸することにより、同時２軸延伸、逐次２軸延伸等を行うこともできる。 When the film is formed by the T-die method, a T-die is attached to the tip of a known single-screw extruder or twin-screw extruder, and the film extruded into a film is wound to obtain a roll-shaped film. Can be. At this time, it is also possible to perform uniaxial stretching by appropriately adjusting the temperature of the take-up roll and adding stretching in the extrusion direction. Further, by stretching the film in a direction perpendicular to the extrusion direction, simultaneous biaxial stretching, sequential biaxial stretching, and the like can be performed.

上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムは、上記所望の位相差が得られる限りにおいて、未延伸フィルムまたは延伸フィルムのいずれでもよい。延伸フィルムである場合は、１軸延伸フィルムまたは２軸延伸フィルムのいずれでもよい。２軸延伸フィルムである場合は、同時２軸延伸フィルムまたは逐次２軸延伸フィルムのいずれでもよい。 The (meth) acrylic resin film may be either an unstretched film or a stretched film as long as the desired retardation is obtained. When it is a stretched film, it may be either a uniaxially stretched film or a biaxially stretched film. When it is a biaxially stretched film, it may be either a simultaneous biaxially stretched film or a sequential biaxially stretched film.

上記延伸温度は、フィルム原料である熱可塑性樹脂組成物のガラス転移温度近傍であることが好ましく、具体的には、好ましくは（ガラス転移温度−３０℃）〜（ガラス転移温度＋３０℃）、より好ましくは（ガラス転移温度−２０℃）〜（ガラス転移温度＋２０℃）の範囲内である。延伸温度が（ガラス転移温度−３０℃）未満であると、得られるフィルムのヘイズが大きくなり、あるいは、フィルムが裂けたり、割れたりして所定の延伸倍率が得られないおそれがある。逆に、延伸温度が（ガラス転移温度＋３０℃）を超えると、得られるフィルムの厚みムラが大きくなったり、伸び率、引裂伝播強度、および耐揉疲労等の力学的性質が十分に改善できなかったりする傾向がある。さらに、フィルムがロールに粘着するといったトラブルが発生しやすくなる傾向がある。 The stretching temperature is preferably in the vicinity of the glass transition temperature of the thermoplastic resin composition as a film raw material, and specifically, preferably (glass transition temperature−30 ° C.) to (glass transition temperature + 30 ° C.), Preferably it is in the range of (glass transition temperature -20 ° C) to (glass transition temperature + 20 ° C). If the stretching temperature is lower than (glass transition temperature −30 ° C.), the haze of the obtained film may increase, or the film may be torn or broken, and a predetermined stretching ratio may not be obtained. Conversely, if the stretching temperature exceeds (glass transition temperature + 30 ° C.), the thickness unevenness of the obtained film becomes large, and the mechanical properties such as elongation, tear propagation strength and resistance to rubbing fatigue cannot be sufficiently improved. Or tend to. Further, there is a tendency that trouble such as sticking of the film to the roll is likely to occur.

上記延伸倍率は、好ましくは１．１〜３倍、より好ましくは１．３〜２．５倍である。延伸倍率がこのような範囲であれば、フィルムの伸び率、引裂伝播強度、および耐揉疲労等の力学的性質を大幅に改善することができる。結果として、厚みムラが小さく、複屈折が実質的にゼロであり（したがって、位相差が小さく）、さらに、ヘイズが小さいフィルムを製造することができる。 The stretching ratio is preferably 1.1 to 3 times, more preferably 1.3 to 2.5 times. When the stretching ratio is in such a range, mechanical properties such as elongation rate, tear propagation strength, and massaging fatigue resistance of the film can be significantly improved. As a result, a film having small thickness unevenness, substantially zero birefringence (hence, a small phase difference), and small haze can be produced.

上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムは、その光学的等方性や機械的特性を安定化させるために、延伸処理後に熱処理（アニーリング）等を行うことができる。熱処理の条件は、任意の適切な条件を採用し得る。 The above (meth) acrylic resin film can be subjected to a heat treatment (annealing) after the stretching treatment in order to stabilize its optical isotropy and mechanical properties. Any appropriate condition can be adopted as the condition of the heat treatment.

上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムの光弾性係数は、好ましくは−３〜−１００×１０^−１３Ｐａ^−１、より好ましくは−５〜−７０×１０^−１３Ｐａ^−１であり、さらに好ましくは−１５〜−５０×１０^−１３Ｐａ^−１である。なお、光弾性係数は前述の方法で測定することができる。 The photo-elastic coefficient of the (meth) acrylic resin film is preferably from -3 to -100 x 10 ^-13 Pa ^-1 , more preferably from -5 to -70 x 10 ^-13 Pa ^-1 , and still more preferably. −15 to −50 × 10 ⁻¹³ Pa ⁻¹ . The photoelastic coefficient can be measured by the method described above.

上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムの厚みは、好ましくは１０μｍ〜２００μｍであり、より好ましくは２０μｍ〜１００μｍである。厚みが１０μｍ未満であると、強度が低下するおそれがある。厚みが２００μｍを超えると、透明性が低下するおそれがある。 The thickness of the (meth) acrylic resin film is preferably from 10 μm to 200 μm, more preferably from 20 μm to 100 μm. If the thickness is less than 10 μm, the strength may be reduced. If the thickness exceeds 200 μm, the transparency may be reduced.

偏光子の両面に保護フィルムを積層する場合は、前記と同一のフィルムを両面に貼合してもよいし、その他の樹脂フィルムを用いてもよい。例えば、オレフィン系樹脂フィルム、ポリエステル系樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルムが好ましく用いられる。 When a protective film is laminated on both surfaces of the polarizer, the same film as described above may be laminated on both surfaces, or another resin film may be used. For example, olefin resin films, polyester resin films, and cellulose resin films are preferably used.

鎖状ポリオレフィン系樹脂としては、ポリエチレン樹脂（エチレンの単独重合体であるポリエチレン樹脂や、エチレンを主体とする共重合体）、ポリプロピレン樹脂（プロピレンの単独重合体であるポリプロピレン樹脂や、プロピレンを主体とする共重合体）のような鎖状オレフィンの単独重合体の他、２種以上の鎖状オレフィンからなる共重合体を挙げることができる。 Examples of the chain polyolefin resin include a polyethylene resin (a polyethylene resin which is a homopolymer of ethylene and a copolymer mainly composed of ethylene), a polypropylene resin (a polypropylene resin which is a homopolymer of propylene, and a polymer mainly composed of propylene). A copolymer of two or more chain olefins, as well as a homopolymer of a chain olefin such as

環状ポリオレフィン系樹脂は、環状オレフィンを重合単位として重合される樹脂の総称であり、例えば、特開平１−２４０５１７号公報、特開平３−１４８８２号公報、特開平３−１２２１３７号公報等に記載されている樹脂が挙げられる。環状ポリオレフィン系樹脂の具体例を挙げれば、環状オレフィンの開環（共）重合体、環状オレフィンの付加重合体、環状オレフィンとエチレン、プロピレンのような鎖状オレフィンとの共重合体（代表的にはランダム共重合体）、及びこれらを不飽和カルボン酸やその誘導体で変性したグラフト重合体、並びにそれらの水素化物である。中でも、環状オレフィンとしてノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマーのようなノルボルネン系モノマーを用いたノルボルネン系樹脂が好ましく用いられる。 Cyclic polyolefin-based resin is a general term for resins polymerized with a cyclic olefin as a polymerized unit, and is described, for example, in JP-A-1-240517, JP-A-3-14882, JP-A-3-122137, and the like. Resin. Specific examples of the cyclic polyolefin-based resin include a ring-opening (co) polymer of a cyclic olefin, an addition polymer of a cyclic olefin, and a copolymer of a cyclic olefin with a chain olefin such as ethylene and propylene (typically, Are random copolymers), graft polymers obtained by modifying these with unsaturated carboxylic acids and derivatives thereof, and hydrides thereof. Among them, a norbornene-based resin using a norbornene-based monomer such as norbornene or a polycyclic norbornene-based monomer as the cyclic olefin is preferably used.

ポリエステル系樹脂は、下記セルロースエステル系樹脂を除く、エステル結合を有する樹脂であり、多価カルボン酸又はその誘導体と多価アルコールとの重縮合体からなるものが一般的である。多価カルボン酸又はその誘導体としては２価のジカルボン酸又はその誘導体を用いることができ、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、ジメチルテレフタレート、ナフタレンジカルボン酸ジメチルが挙げられる。多価アルコールとしては２価のジオールを用いることができ、例えばエチレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジメタノールが挙げられる。ポリエステル系樹脂の代表例として、テレフタル酸とエチレングリコールの重縮合体であるポリエチレンテレフタレートが挙げられる。 The polyester-based resin is a resin having an ester bond except for the following cellulose ester-based resin, and generally comprises a polycondensate of a polyvalent carboxylic acid or a derivative thereof and a polyhydric alcohol. As the polyvalent carboxylic acid or a derivative thereof, a divalent dicarboxylic acid or a derivative thereof can be used, and examples thereof include terephthalic acid, isophthalic acid, dimethyl terephthalate, and dimethyl naphthalenedicarboxylate. As the polyhydric alcohol, a dihydric diol can be used, and examples thereof include ethylene glycol, propanediol, butanediol, neopentyl glycol, and cyclohexanedimethanol. A typical example of the polyester resin is polyethylene terephthalate, which is a polycondensate of terephthalic acid and ethylene glycol.

セルロースエステル系樹脂は、セルロースと脂肪酸とのエステルである。セルロースエステル系樹脂の具体例は、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリプロピオネート、セルロースジプロピオネートを含む。また、これらの共重合物や、水酸基の一部が他の置換基で修飾されたものも挙げられる。これらの中でも、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース）が特に好ましい。 The cellulose ester-based resin is an ester of cellulose and a fatty acid. Specific examples of the cellulose ester resin include cellulose triacetate, cellulose diacetate, cellulose tripropionate, and cellulose dipropionate. In addition, these copolymers and those obtained by modifying a part of hydroxyl groups with other substituents are also exemplified. Among these, cellulose triacetate (triacetyl cellulose) is particularly preferred.

保護フィルムの厚みは通常１〜１００μｍであるが、強度や取扱性等の観点から５〜６０μｍであることが好ましく、１０〜５５μｍであることがより好ましく、１５〜４０μｍであることがさらに好ましい。 The thickness of the protective film is usually from 1 to 100 μm, preferably from 5 to 60 μm, more preferably from 10 to 55 μm, and still more preferably from 15 to 40 μm from the viewpoint of strength and handleability.

上述のように、保護フィルムは、その外面（偏光子とは反対側の面）に、ハードコート層、防眩層、光拡散層、反射防止層、低屈折率層、帯電防止層、防汚層のような表面処理層（コーティング層）を備えるものであってもよい。なお、保護フィルムの厚みは、表面処理層の厚みを含んだものである。 As described above, the protective film has a hard coat layer, an antiglare layer, a light diffusion layer, an antireflection layer, a low refractive index layer, an antistatic layer, an antifouling layer on its outer surface (the surface opposite to the polarizer). It may have a surface treatment layer (coating layer) such as a layer. The thickness of the protective film includes the thickness of the surface treatment layer.

保護フィルムは、例えば接着剤層または粘着剤層を介して偏光子に貼合することができる。接着剤層を形成する接着剤としては、水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤又は熱硬化性接着剤を用いることができ、好ましくは水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤である。粘着剤層としては後述のものが使用できる。 The protective film can be attached to the polarizer via, for example, an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer. As an adhesive for forming the adhesive layer, a water-based adhesive, an active energy ray-curable adhesive or a thermosetting adhesive can be used, and a water-based adhesive or an active energy ray-curable adhesive is preferable. The following can be used as the pressure-sensitive adhesive layer.

水系接着剤としては、ポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる接着剤、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等が挙げられる。中でもポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる水系接着剤が好適に用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルをケン化処理して得られるビニルアルコールホモポリマーのほか、酢酸ビニルとこれに共重合可能な他の単量体との共重合体をケン化処理して得られるポリビニルアルコール系共重合体、又はそれらの水酸基を部分的に変性した変性ポリビニルアルコール系重合体等を用いることができる。水系接着剤は、アルデヒド化合物（グリオキザール等）、エポキシ化合物、メラミン系化合物、メチロール化合物、イソシアネート化合物、アミン化合物、多価金属塩等の架橋剤を含むことができる。 Examples of the aqueous adhesive include an adhesive composed of an aqueous solution of a polyvinyl alcohol-based resin, an aqueous two-part urethane-based emulsion adhesive, and the like. Among them, a water-based adhesive composed of an aqueous solution of a polyvinyl alcohol-based resin is preferably used. Examples of the polyvinyl alcohol resin include a vinyl alcohol homopolymer obtained by saponifying polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, and a copolymer of vinyl acetate with another monomer copolymerizable therewith. A polyvinyl alcohol-based copolymer obtained by saponifying a polymer, a modified polyvinyl alcohol-based polymer obtained by partially modifying a hydroxyl group thereof, or the like can be used. The aqueous adhesive can include a crosslinking agent such as an aldehyde compound (such as glyoxal), an epoxy compound, a melamine compound, a methylol compound, an isocyanate compound, an amine compound, and a polyvalent metal salt.

水系接着剤を使用する場合は、偏光子と保護フィルムとを貼合した後、水系接着剤中に含まれる水を除去するための乾燥工程を実施することが好ましい。乾燥工程後、例えば２０〜４５℃の温度で養生する養生工程を設けてもよい。 When an aqueous adhesive is used, it is preferable to perform a drying step for removing water contained in the aqueous adhesive after bonding the polarizer and the protective film. After the drying step, for example, a curing step of curing at a temperature of 20 to 45 ° C may be provided.

上記活性エネルギー線硬化性接着剤とは、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線のような活性エネルギー線の照射によって硬化する硬化性化合物を含有する接着剤であり、好ましくは紫外線硬化性接着剤である。 The active energy ray-curable adhesive is an adhesive containing a curable compound which is cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, electron beams, and X-rays, and is preferably an ultraviolet-curable adhesive. It is.

上記硬化性化合物は、カチオン重合性の硬化性化合物やラジカル重合性の硬化性化合物であることができる。カチオン重合性の硬化性化合物としては、例えば、エポキシ系化合物（分子内に１個又は２個以上のエポキシ基を有する化合物）や、オキセタン系化合物（分子内に１個又は２個以上のオキセタン環を有する化合物）、又はこれらの組み合わせを挙げることができる。ラジカル重合性の硬化性化合物としては、例えば、（メタ）アクリル系化合物（分子内に１個又は２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物）や、ラジカル重合性の二重結合を有するその他のビニル系化合物、又はこれらの組み合わせを挙げることができる。カチオン重合性の硬化性化合物とラジカル重合性の硬化性化合物とを併用してもよい。活性エネルギー線硬化性接着剤は通常、上記硬化性化合物の硬化反応を開始させるためのカチオン重合開始剤及び／又はラジカル重合開始剤をさらに含む。 The curable compound can be a cationically polymerizable curable compound or a radically polymerizable curable compound. Examples of the cationically polymerizable curable compound include an epoxy compound (a compound having one or more epoxy groups in a molecule) and an oxetane compound (one or two or more oxetane rings in a molecule). Or a combination thereof. Examples of the radical polymerizable curable compound include a (meth) acrylic compound (compound having one or more (meth) acryloyloxy groups in a molecule) and a radical polymerizable double bond. Other vinyl compounds or combinations thereof can be mentioned. A cationically polymerizable curable compound and a radically polymerizable curable compound may be used in combination. The active energy ray-curable adhesive usually further contains a cationic polymerization initiator and / or a radical polymerization initiator for initiating a curing reaction of the curable compound.

偏光子と保護フィルムとを貼合するにあたっては、接着性を高めるために、これらの少なくともいずれか一方の貼合面に表面活性化処理を施してもよい。表面活性化処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、放電処理（グロー放電処理等）、火炎処理、オゾン処理、ＵＶオゾン処理、電離活性線処理（紫外線処理、電子線処理等）のような乾式処理；水やアセトン等の溶媒を用いた超音波処理、ケン化処理、アンカーコート処理のような湿式処理を挙げることができる。これらの表面活性化処理は、単独で行ってもよいし、２つ以上を組み合わせてもよい。 In laminating the polarizer and the protective film, at least one of these lamination surfaces may be subjected to a surface activation treatment in order to enhance the adhesiveness. As the surface activation treatment, dry treatment such as corona treatment, plasma treatment, discharge treatment (glow discharge treatment, etc.), flame treatment, ozone treatment, UV ozone treatment, ionization active ray treatment (ultraviolet ray treatment, electron beam treatment, etc.) A wet treatment such as an ultrasonic treatment using a solvent such as water or acetone, a saponification treatment, and an anchor coating treatment. These surface activation treatments may be performed alone or in combination of two or more.

偏光子の両面に保護フィルムが貼合される場合においてこれらの保護フィルムを貼合するための接着剤は、同種の接着剤であってもよいし異種の接着剤であってもよい。
また、前述の接着剤や接着剤を介した貼合方法については、偏光子と保護フィルムの貼合だけでなく、本願発明の光学積層体に含まれる他光学機能層の貼合に用いてもよい。例えば、光学積層体が２層以上の位相差フィルムを有する場合、位相差フィルム同士の貼合に用いることができる。 When protective films are bonded to both surfaces of the polarizer, the adhesive for bonding these protective films may be the same type of adhesive or different types of adhesives.
In addition, regarding the bonding method via the above-mentioned adhesive or the adhesive, not only the bonding of the polarizer and the protective film, but also the bonding of other optical functional layers included in the optical laminate of the present invention. Good. For example, when the optical laminate has two or more layers of retardation films, it can be used for bonding the retardation films to each other.

＜粘着剤層＞
粘着剤層１２は、（メタ）アクリル系、ゴム系、ウレタン系、エステル系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系のような樹脂を主成分とする粘着剤組成物で構成することができる。中でも、透明性、耐候性、耐熱性等に優れる（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好適である。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型、熱硬化型であってもよい。粘着剤層の厚みは、通常３〜３０μｍであり、好ましくは３〜２５μｍである。 <Adhesive layer>
The pressure-sensitive adhesive layer 12 can be composed of a pressure-sensitive adhesive composition containing a resin such as (meth) acrylic, rubber, urethane, ester, silicone, and polyvinyl ether as a main component. Among them, a pressure-sensitive adhesive composition using a (meth) acrylic resin having excellent transparency, weather resistance, heat resistance and the like as a base polymer is preferable. The pressure-sensitive adhesive composition may be an active energy ray-curable type or a thermosetting type. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is usually 3 to 30 μm, and preferably 3 to 25 μm.

粘着剤組成物に用いられる（メタ）アクリル系樹脂（ベースポリマー）としては、例えば、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルのような（メタ）アクリル酸エステルの１種又は２種以上をモノマーとする重合体又は共重合体が好適に用いられる。ベースポリマーには、極性モノマーを共重合させることが好ましい。極性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレートのような、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。 Examples of the (meth) acrylic resin (base polymer) used in the pressure-sensitive adhesive composition include butyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, and 2- (meth) acrylate. A polymer or copolymer having one or more (meth) acrylates such as ethylhexyl as a monomer is preferably used. Preferably, a polar monomer is copolymerized with the base polymer. Examples of the polar monomer include (meth) acrylic acid, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, and glycidyl ( Examples thereof include monomers having a carboxyl group, a hydroxyl group, an amide group, an amino group, an epoxy group, and the like, such as (meth) acrylate.

粘着剤組成物は、上記ベースポリマーのみを含むものであってもよいが、通常は架橋剤をさらに含有する。架橋剤としては、２価以上の金属イオンであって、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成するもの；ポリアミン化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するもの；ポリエポキシ化合物やポリオールであって、カルボキシル基との間でエステル結合を形成するもの；ポリイソシアネート化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するものが例示される。中でも、ポリイソシアネート化合物が好ましい。 The pressure-sensitive adhesive composition may contain only the base polymer, but usually further contains a crosslinking agent. The crosslinking agent is a divalent or higher valent metal ion that forms a carboxylic acid metal salt with a carboxyl group; a polyamine compound that forms an amide bond with a carboxyl group; Epoxy compounds and polyols that form an ester bond with a carboxyl group; polyisocyanate compounds that form an amide bond with a carboxyl group are exemplified. Among them, a polyisocyanate compound is preferable.

粘着剤層及び粘着剤組成物について、本願発明の光学積層体と有機ＥＬ表示素子の貼合に用いる粘着剤層１２に用いる例として説明したが、それに限らない。例えば、本願発明の光学積層体と他光学機能層との貼合や、光学積層体中を構成する光学機能層同士の貼合にも用いてもよい。 Although the pressure-sensitive adhesive layer and the pressure-sensitive adhesive composition have been described as examples used for the pressure-sensitive adhesive layer 12 used for bonding the optical laminate and the organic EL display element of the present invention, the present invention is not limited thereto. For example, it may be used for bonding the optical laminated body of the present invention to another optical functional layer, or for laminating optical functional layers constituting the optical laminated body.

＜前面板＞
前面板は、偏光板の視認側に配置される。前面板は、接着層を介して偏光板に積層されることができる。接着層としては、例えば前述の粘着剤層や接着剤層が挙げられる。図２に示すように、前面板５は、偏光板３上に、不図示の粘着剤層を介して積層されることができる。前面板５は、図２に示すように、遮光パターン６が形成されていてもよい。 <Front plate>
The front plate is disposed on the viewing side of the polarizing plate. The front plate can be laminated on the polarizing plate via an adhesive layer. Examples of the adhesive layer include the above-mentioned pressure-sensitive adhesive layer and adhesive layer. As shown in FIG. 2, the front plate 5 can be laminated on the polarizing plate 3 via an adhesive layer (not shown). The front plate 5 may have a light-shielding pattern 6 formed thereon as shown in FIG.

前面板としては、ガラス、樹脂フィルムの少なくとも一面にハードコート層を含んでなるものなどが挙げられる。ガラスとしては、例えば、高透過ガラスや、強化ガラスを用いることができる。特に薄い透明面材を使用する場合には、化学強化を施したガラスが好ましい。ガラスの厚みは、例えば１００μｍ〜５ｍｍとすることができる。 Examples of the front plate include glass and a resin film that includes a hard coat layer on at least one surface of a resin film. As the glass, for example, high transmission glass or tempered glass can be used. Particularly when a thin transparent surface material is used, chemically strengthened glass is preferable. The thickness of the glass can be, for example, 100 μm to 5 mm.

樹脂フィルムの少なくとも一面にハードコート層を含んでなる前面板は、既存のガラスのように硬直ではなく、フレキシブルな特性を有することができる。ハードコート層の厚さは特に限定されず、例えば、５〜１００μｍであってもよい。 The front plate including the hard coat layer on at least one surface of the resin film is not rigid like the existing glass, but can have flexible characteristics. The thickness of the hard coat layer is not particularly limited, and may be, for example, 5 to 100 μm.

樹脂フィルムとしては、ノルボルネンまたは多環ノルボルネン系単量体のようなシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体、セルロース（ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、イソブチルエステルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース）エチレン-酢酸ビニル共重合体、ポリシクロオレフィン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリアクリル、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタアクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリウレタン、エポキシなどの高分子で形成されたフィルムであってもよい。樹脂フィルムは、未延伸、１軸または２軸延伸フィルムを使用することができる。これらの高分子はそれぞれ単独または２種以上混合して使用することができる。樹脂フィルムとしては、透明性及び耐熱性に優れたポリアミドイミドフィルムまたはポリイミドフィルム、１軸または２軸延伸ポリエステルフィルム、透明性及び耐熱性に優れるとともに、フィルムの大型化に対応できるシクロオレフィン系誘導体フィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム及び透明性と光学的に異方性のないトリアセチルセルロース及びイソブチルエステルセルロースフィルムが好ましい。樹脂フィルムの厚さは５〜２００μｍ、好ましくは、２０〜１００μｍであってもよい。 Examples of the resin film include a cycloolefin derivative having a monomer unit containing a cycloolefin such as norbornene or a polycyclic norbornene monomer, cellulose (diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, acetyl cellulose butyrate, isobutyl ester cellulose). , Propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose) ethylene-vinyl acetate copolymer, polycycloolefin, polyester, polystyrene, polyamide, polyetherimide, polyacryl, polyimide, polyamideimide, polyethersulfone, polysulfone, polyethylene, Polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, polyether Ketones, polyether ether ketone, polyether sulfone, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyurethane, or a film formed of a polymer such as epoxy. As the resin film, an unstretched, uniaxial or biaxially stretched film can be used. These polymers can be used alone or in combination of two or more. As the resin film, a polyamideimide film or a polyimide film having excellent transparency and heat resistance, a uniaxially or biaxially stretched polyester film, a cycloolefin-based derivative film having excellent transparency and heat resistance and capable of coping with an increase in film size And a polymethyl methacrylate film and a triacetyl cellulose and isobutyl ester cellulose film having no optical anisotropy with transparency. The thickness of the resin film may be 5 to 200 μm, preferably 20 to 100 μm.

前記ハードコート層は、光或いは熱エネルギーを照射して架橋構造を形成する反応性材料を含むハードコート組成物の硬化により形成することができる。前記ハードコート層は、光硬化型（メタ）アクリレートモノマー、或いはオリゴマー及び光硬化型エポキシモノマー、或いはオリゴマーを同時に含むハードコート組成物の硬化により形成することができる。前記光硬化型（メタ）アクリレートモノマーは、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート及びポリエステル（メタ）アクリレートで構成された群から選択された１種以上を含むことができる。前記エポキシ（メタ）アクリレートは、エポキシ化合物に対して（メタ）アクリロイル基を有するカルボン酸を反応させて得ることができる。 The hard coat layer can be formed by curing a hard coat composition containing a reactive material that forms a crosslinked structure by irradiating light or heat energy. The hard coat layer can be formed by curing a hard coat composition containing a photo-curable (meth) acrylate monomer or oligomer and a photo-curable epoxy monomer or oligomer simultaneously. The photo-curable (meth) acrylate monomer may include at least one selected from the group consisting of epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, and polyester (meth) acrylate. The epoxy (meth) acrylate can be obtained by reacting a carboxylic acid having a (meth) acryloyl group with an epoxy compound.

ハードコート組成物は溶剤、光開始剤及び添加剤からなる群から選択される一つ以上をさらに含むことができる。添加剤は、無機ナノ粒子、レベリング剤及び安定剤からなる群から選択される一つ以上を含むことができ、それ以外にも当該技術分野で一般的に使用される各成分として、例えば、抗酸化剤、UV吸収剤、界面活性剤、潤滑剤、防汚剤などをさらに含むことができる。 The hard coat composition may further include at least one selected from the group consisting of a solvent, a photoinitiator and an additive. The additive may include one or more selected from the group consisting of inorganic nanoparticles, a leveling agent, and a stabilizer. In addition, as each component generally used in the art, for example, an antimicrobial agent may be used. It may further include an oxidizing agent, a UV absorber, a surfactant, a lubricant, an antifouling agent, and the like.

＜遮光パターン＞
遮光パターンは、前面板または前面板が適用される表示装置のベゼルまたはハウジングの少なくとも一部として提供することができる。遮光パターンは、前面板における表示素子側に形成することができる。遮光パターンは、表示装置の各配線を隠し使用者に視認されないようにすることができる。遮光パターンの色及び／または材質は特に制限されることはなく、黒色、白色、金色などの多様な色を有する樹脂物質で形成することができる。
一実施形態において、遮光パターンの厚さは２μｍ〜５０μｍであってもよく、好ましくは４μｍ〜３０μｍであってもよく、より好ましくは６μｍ〜１５μｍの範囲であってもよい。また、遮光パターンと表示部の間の段差による気泡混入及び境界部の視認を抑制するために、遮光パターンに形状を付与することができる。 <Shading pattern>
The light blocking pattern may be provided as at least a part of a front plate or a bezel or a housing of a display device to which the front plate is applied. The light-shielding pattern can be formed on the display element side of the front panel. The light-shielding pattern can hide each wiring of the display device so as not to be visually recognized by a user. The color and / or material of the light-shielding pattern is not particularly limited, and may be formed of a resin material having various colors such as black, white, and gold.
In one embodiment, the thickness of the light-shielding pattern may be 2 μm to 50 μm, preferably 4 μm to 30 μm, and more preferably 6 μm to 15 μm. Further, a shape can be given to the light-shielding pattern in order to suppress air bubbles from entering due to a step between the light-shielding pattern and the display unit and to visually recognize a boundary portion.

＜タッチセンサ＞
タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が提案されており、いずれの方式でも構わない。中でも静電容量方式が好ましい。静電容量方式タッチセンサは活性領域及び活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域（表示部）に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は画像表示装置で画面が表示されない領域（非表示部）に対応する領域である。タッチセンサは基板と；基板の活性領域に形成された感知パターンと；基板の非活性領域に形成され、感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。基板としては、ガラスや上述の前面板を構成する樹脂フィルムと同様の材料が使用できる。タッチセンサの基板は、靱性が２，０００ＭＰａ％以上のものがタッチセンサのクラック抑制の面から好ましい。より好ましくは靱性が２，０００ＭＰａ％以上３０，０００ＭＰａ％以下であってもよい。 <Touch sensor>
The touch sensor is used as an input unit. Various types of touch sensors have been proposed, such as a resistive film type, a surface acoustic wave type, an infrared type, an electromagnetic induction type, and a capacitance type, and any type may be used. Among them, the capacitance type is preferable. The capacitive touch sensor is divided into an active area and a non-active area located outside the active area. The active area is an area corresponding to an area (display unit) where a screen is displayed on the display panel, and is an area where a user's touch is sensed, and the inactive area is an area where the screen is not displayed on the image display device ( (A non-display portion). The touch sensor includes a substrate; a sensing pattern formed in an active region of the substrate; and sensing lines formed in an inactive region of the substrate and connected to an external driving circuit through the sensing pattern and a pad unit. Can be. As the substrate, a material similar to glass or a resin film constituting the above-described front plate can be used. The substrate of the touch sensor preferably has a toughness of 2,000 MPa% or more from the viewpoint of suppressing cracks in the touch sensor. More preferably, the toughness may be from 2,000 MPa% to 30,000 MPa%.

感知パターンは、第１方向に形成された第１パターン及び第２方向に形成された第２パターンを備えることができる。第１パターンと第２パターンは互いに異なる方向に配置される。第１パターン及び第２パターンは、同一層に形成され、タッチされる地点を感知するためには、それぞれのパターンが電気的に接続されなければならない。第１パターンは各単位パターンが継ぎ手を介して互いに接続された形態であるが、第２パターンは各単位パターンがアイランド形態に互いに分離された構造になっているので、第２パターンを電気的に接続するためには別途のブリッジ電極が必要である。感知パターンは周知の透明電極素材を適用することができる。例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）、インジウム亜鉛スズ酸化物（ＩＺＴＯ）、カドミウムスズ酸化物（ＣＴＯ）、ＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（３，４―ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ））、炭素ナノチューブ（ＣＮＴ）、グラフェン、金属ワイヤなどを挙げることができ、これらは単独または２種以上混合して使用することができる。好ましくはＩＴＯを使用することができる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、テレニウム、クロムなどを挙げることができる。これらは単独または２種以上混合して使用することができる。 The sensing pattern may include a first pattern formed in a first direction and a second pattern formed in a second direction. The first pattern and the second pattern are arranged in different directions. The first pattern and the second pattern are formed on the same layer, and must be electrically connected to each other in order to detect a touched point. The first pattern is a form in which each unit pattern is connected to each other via a joint, whereas the second pattern is a structure in which each unit pattern is separated from each other in an island form. A separate bridge electrode is required for connection. As the sensing pattern, a known transparent electrode material can be applied. For example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), cadmium tin oxide (CTO), PEDOT (poly (3,4- (ethylenedioxythiophene)), carbon nanotube (CNT), graphene, metal wire, etc., and these can be used alone or in combination of two or more. Preferably, ITO can be used. The metal used for the metal wire is not particularly limited, and examples thereof include silver, gold, aluminum, copper, iron, nickel, titanium, terenium, and chromium. These can be used alone or in combination of two or more.

ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して絶縁層上部に形成することができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタンまたはこれらのうちの２種以上の合金などの金属で形成することもできる。第１パターンと第２パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。絶縁層は第１パターンの継ぎ手とブリッジ電極の間にのみ形成することもでき、感知パターンを覆う層の構造に形成することもできる。後者の場合は、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第２パターンを接続することができる。タッチセンサはパターンが形成されたパターン領域と、パターンが形成されていない非パターン領域間の透過率の差、具体的には、これらの領域における屈折率の差によって誘発される光透過率の差を適切に補償するための手段として基板と電極の間に光学調節層をさらに含むことができ、光学調節層は無機絶縁物質または有機絶縁物質を含むことができる。光学調節層は光硬化性有機バインダー及び溶剤を含む光硬化組成物を基板上にコーティングして形成することができる。光硬化組成物は無機粒子をさらに含むことができる。無機粒子によって光学調節層の屈折率が上昇することができる。 The bridge electrode may be formed on the insulating layer above the sensing pattern with an insulating layer interposed therebetween. The bridge electrode is formed on the substrate, and the insulating layer and the sensing pattern may be formed thereon. The bridge electrode may be formed of the same material as the sensing pattern, and may be formed of a metal such as molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, or an alloy of two or more of these. You can also. Since the first and second patterns must be electrically insulated, an insulating layer is formed between the sensing pattern and the bridge electrode. The insulating layer may be formed only between the joint of the first pattern and the bridge electrode, or may be formed in a layer structure covering the sensing pattern. In the latter case, the bridge electrode can connect the second pattern through a contact hole formed in the insulating layer. The touch sensor has a difference in transmittance between a pattern region in which a pattern is formed and a non-pattern region in which no pattern is formed, specifically, a difference in light transmittance induced by a difference in refractive index in these regions. As a means for appropriately compensating the above, an optical adjustment layer may be further included between the substrate and the electrode, and the optical adjustment layer may include an inorganic insulating material or an organic insulating material. The optical control layer can be formed by coating a photocurable composition containing a photocurable organic binder and a solvent on a substrate. The photocurable composition can further include inorganic particles. The refractive index of the optical adjustment layer can be increased by the inorganic particles.

光硬化性有機バインダーは、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。無機粒子は、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などを含むことができる。光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。 The photocurable organic binder can include, for example, a copolymer of each monomer such as an acrylate monomer, a styrene monomer, and a carboxylic acid monomer. The photocurable organic binder may be, for example, a copolymer containing different repeating units such as an epoxy group-containing repeating unit, an acrylate repeating unit, and a carboxylic acid repeating unit. The inorganic particles can include, for example, zirconia particles, titania particles, alumina particles, and the like. The photocurable composition may further include additives such as a photopolymerization initiator, a polymerizable monomer, and a curing aid.

＜光学積層体の製造方法＞
図１（ａ）〜（ｃ）に示した光学積層体を例に、光学積層体の製造方法を説明する。
光学積層体１００（図１（ａ））は、例えば次のように製造することができる。基材上に配向層１１を形成し、配向層１１上に重合性液晶化合物を含む塗工液を塗工する。重合性液晶化合物を配向させた状態で、加熱処理または活性エネルギー線を照射し、重合性液晶化合物を硬化させる。重合性液晶化合物が硬化し、位相差層１０を形成した後、基材を剥離し、剥離フィルム上に形成された粘着剤層１２を配向層１１における基材を剥離した面に積層させる。
図１（ｂ）に示した光学積層体１０１の場合、図１（ａ）に示した光学積層体１００と位相差層１０を形成するところまでは同様であり、位相差層１０を形成後、位相差層１０と第２の位相差フィルムを接着剤層１３を介して積層させる。光学積層体１００と位相差層１０が長尺状である場合は、接着剤層１３を介して、ロール・トゥ・ロールでそれぞれの部材を貼り合わせてもよい。光学積層体１００と第２の位相差フィルムを積層した後、基材を剥離し、剥離フィルム上に形成された粘着剤層１２を配向層１１における基材を剥離した面に積層させる。
図１（ｃ）に示した光学積層体１０２の場合、まず偏光板３を製造する。偏光板３は、偏光子と保護フィルムとを、それぞれ接着剤層を介して積層して製造することができる。
保護フィルムは、偏光子の少なくとも一方の面に積層されていればよい。偏光板は、長尺の部材を準備し、ロール・トゥ・ロールでそれぞれの部材を貼り合わせた後、所定形状に裁断して製造してもよいし、それぞれの部材を所定の形状に裁断した後、貼り合わせてもよい。偏光子に保護フィルムを貼り合わせた後、加熱工程や調湿工程を設けてもよい。位相差フィルムは、図１（ｂ）の光学積層体１０１と同様、第２の位相差フィルムを積層したところまでは同じであり、第２の位相差フィルムの接着剤層１３とは反対側の面に接着剤層または粘着剤層を介して偏光板３と積層させる。偏光板３や光学積層体１０１が長尺状である場合は、ロール・トゥ・ロールでそれぞれの部材を貼り合わせてもよい。偏光板３を積層後、基材を剥離し、剥離フィルム上に形成された粘着剤層１２を配向層１１における基材を剥離した面に積層させる。 <Method for producing optical laminate>
A method for manufacturing an optical laminated body will be described using the optical laminated body shown in FIGS. 1A to 1C as an example.
The optical laminate 100 (FIG. 1A) can be manufactured, for example, as follows. An alignment layer 11 is formed on a substrate, and a coating liquid containing a polymerizable liquid crystal compound is applied on the alignment layer 11. In a state where the polymerizable liquid crystal compound is oriented, heat treatment or irradiation with active energy rays is performed to cure the polymerizable liquid crystal compound. After the polymerizable liquid crystal compound is cured and the retardation layer 10 is formed, the base material is peeled off, and the pressure-sensitive adhesive layer 12 formed on the release film is laminated on the surface of the alignment layer 11 from which the base material has been peeled off.
In the case of the optical laminated body 101 shown in FIG. 1B, the same is true up to the point where the optical laminated body 100 shown in FIG. 1A and the phase difference layer 10 are formed. The retardation layer 10 and the second retardation film are laminated via the adhesive layer 13. When the optical laminate 100 and the retardation layer 10 are long, the respective members may be bonded to each other by the roll-to-roll via the adhesive layer 13. After laminating the optical laminate 100 and the second retardation film, the substrate is peeled off, and the pressure-sensitive adhesive layer 12 formed on the release film is laminated on the surface of the orientation layer 11 from which the substrate has been peeled off.
In the case of the optical laminate 102 shown in FIG. 1C, first, the polarizing plate 3 is manufactured. The polarizing plate 3 can be manufactured by laminating a polarizer and a protective film via respective adhesive layers.
The protective film may be laminated on at least one surface of the polarizer. The polarizing plate may be prepared by preparing a long member, pasting each member by roll-to-roll, and then cutting it into a predetermined shape, or cutting each member into a predetermined shape. Later, they may be attached. After bonding the protective film to the polarizer, a heating step or a humidity control step may be provided. The retardation film is the same as the optical laminate 101 in FIG. 1B up to the point where the second retardation film is laminated, and is the same as that of the second retardation film on the side opposite to the adhesive layer 13. The surface is laminated with the polarizing plate 3 via an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer. When the polarizing plate 3 and the optical laminate 101 are long, the respective members may be bonded by roll-to-roll. After laminating the polarizing plate 3, the substrate is peeled off, and the pressure-sensitive adhesive layer 12 formed on the release film is laminated on the surface of the alignment layer 11 from which the substrate has been peeled off.

そして、粘着剤層１２上に積層された剥離フィルムを剥離し、粘着剤層１２を介して光学積層体と有機ＥＬ表示素子を貼合することにより、有機ＥＬ表示装置を作製することができる。 Then, the release film laminated on the pressure-sensitive adhesive layer 12 is peeled off, and the optical laminate and the organic EL display element are bonded via the pressure-sensitive adhesive layer 12, whereby an organic EL display device can be manufactured.

＜用途＞
本発明の光学積層体は、さまざまな表示装置に用いることができる。表示装置とは、表示素子を有する装置であり、発光源として発光素子又は発光装置を含む。表示装置としては、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（以下、無機ＥＬともいう）表示装置、電子放出表示装置（例えば電場放出表示装置（ＦＥＤともいう）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤともいう））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置、プラズマ表示装置、投射型表示装置（例えばグレーティングライトバルブ（ＧＬＶともいう）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤともいう）を有する表示装置）及び圧電セラミックディスプレイなどが挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置などのいずれをも含む。これらの表示装置は、２次元画像を表示する表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。光学積層体は、特に有機ＥＬ表示装置又は無機ＥＬ表示装置に特に有効に用いることができる。 <Application>
The optical laminate of the present invention can be used for various display devices. A display device is a device having a display element and includes a light-emitting element or a light-emitting device as a light-emitting source. Examples of the display device include a liquid crystal display device, an organic EL display device, an inorganic electroluminescence (hereinafter also referred to as inorganic EL) display device, an electron emission display device (for example, a field emission display device (FED), a surface field emission display). Device (also called SED), electronic paper (display device using electronic ink or electrophoretic element, plasma display device, projection display device (for example, grating light valve (GLV) display device, digital micromirror device (DMD) ), A piezoelectric ceramic display, etc. The liquid crystal display device includes any of a transmission type liquid crystal display device and a transflective type liquid crystal display device. May be a display device that displays a three-dimensional image, or a three-dimensional display device that displays a three-dimensional image. What it may be. Optical stack can be used particularly effectively in particular organic EL display device or an inorganic EL display device.

図２において、有機ＥＬ表示装置１０３は、位相差フィルム１上に積層された粘着剤層１２を介して、光学積層体が有機ＥＬ表示素子４に積層された層構成を有する。 In FIG. 2, the organic EL display device 103 has a layer configuration in which an optical laminate is laminated on the organic EL display element 4 via an adhesive layer 12 laminated on the retardation film 1.

また、表示装置は、フレキシブル表示装置であることもでき、フレキシブル有機ＥＬ表示装置であることができる。フレキシブル有機ＥＬ表示装置は、本発明の光学積層体と、有機ＥＬ表示素子とを含む。有機ＥＬ表示素子に対して視認側に本発明の光学積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。折り曲げ可能とは、クラック及び破断を生じさせずに屈曲できることを意味する。本発明の光学積層体をフレキシブル有機ＥＬ表示装置に適用する場合、光学積層体は、前面板およびタッチセンサの少なくとも一方を備えることが好ましい。 Further, the display device can be a flexible display device or a flexible organic EL display device. A flexible organic EL display device includes the optical laminate of the present invention and an organic EL display element. The optical laminate of the present invention is arranged on the viewing side with respect to the organic EL display element, and is configured to be bendable. Foldable means able to bend without cracking and breaking. When the optical laminate of the present invention is applied to a flexible organic EL display device, the optical laminate preferably includes at least one of a front plate and a touch sensor.

具体的な光学積層体としては、視認側から前面板、偏光板、位相差フィルム、タッチセンサの順に積層された態様、または視認側から前面板、タッチセンサ、偏光板、位相差フィルムの順に積層された態様が挙げられる。タッチセンサの視認側に偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、前面板、偏光板、位相差フィルム、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。 As a specific optical laminate, a front plate, a polarizing plate, a retardation film, and a touch sensor are stacked in this order from the viewing side, or a front plate, a touch sensor, a polarizing plate, and a retardation film are stacked in this order from the viewing side. The embodiment which was performed is mentioned. The presence of the polarizing plate on the viewing side of the touch sensor is preferable because the pattern of the touch sensor is hardly viewed and the visibility of the displayed image is improved. Each member can be laminated using an adhesive, a pressure-sensitive adhesive or the like. Further, a light-shielding pattern formed on at least one surface of any one of a front plate, a polarizing plate, a retardation film, and a touch sensor can be provided.

以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。例中、含有量ないし使用量を表す部及び％は、特記しないかぎり重量基準である。なお、以下の例における各物性の測定は、次の方法で行った。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, parts and percentages representing the content or the use amount are based on weight unless otherwise specified. In addition, the measurement of each physical property in the following examples was performed by the following method.

（１）フィルム厚みの測定
株式会社ニコン製のデジタルマイクロメーターであるＭＨ−１５Ｍを用いて測定した。 (1) Measurement of Film Thickness It was measured using a digital micrometer MH-15M manufactured by Nikon Corporation.

（突刺し弾性率の測定）
実施例、比較例で得られた基材フィルム付き第１の位相差フィルムを、縦４０ｍｍ×横４０ｍｍの断片を切り出した。また縦４０ｍｍ×横４０ｍｍの糊付き台紙を用意した。この糊付き台紙は、中央部が３０ｍｍ×３０ｍｍの正方形で切り抜かれている。位相差層１の表面が糊付き台紙における糊に接するように、上記積層体を糊付き台紙に貼合した後、第１の位相差フィルムから基材を剥離して、突刺し試験用サンプルを作製した。 (Measurement of piercing elastic modulus)
The first retardation film with the base film obtained in each of Examples and Comparative Examples was cut into a piece having a length of 40 mm and a width of 40 mm. In addition, a backing paper with a size of 40 mm × 40 mm was prepared. This glued backing sheet has a central portion cut out in a square of 30 mm × 30 mm. After laminating the above-mentioned laminated body on the glued mount so that the surface of the retardation layer 1 is in contact with the glue of the glued mount, the base material is peeled off from the first retardation film, and the piercing test sample is removed. Produced.

突刺し弾性率の測定は、次のように行った。カトーテック株式会社製の“ＮＤＧ５突き刺し試験機”にニードルを取り付けて行った。ニードルを突刺し試験用サンプルの主面（位相差層１の表面）に対して垂直に突刺し、突刺し試験用サンプルが破断する直前の応力Ｆ（ｇ）とそのときのひずみ量Ｓ（ｍｍ）を算出し、突刺し弾性率（ｇ／ｍｍ）を応力Ｆ（ｇ）／ひずみ量Ｓ（ｍｍ）にて算出した。ニードルとしては、先端径が１ｍｍφ、０．５Ｒであるものを使用した。ニードルを突き刺す速度は、０．３３ｃｍ／秒とした。位相差フィルム１の突刺し弾性率を表１に示す。測定は温度２３℃、湿度５０％の室温環境下で行った。 The piercing elastic modulus was measured as follows. A needle was attached to "NDG5 piercing tester" manufactured by Kato Tech Co., Ltd. The needle is pierced and pierced perpendicularly to the main surface of the test sample (the surface of the retardation layer 1), and the stress F (g) immediately before the puncture test sample is broken and the strain S (mm) at that time. ) Was calculated, and the piercing elastic modulus (g / mm) was calculated as stress F (g) / strain amount S (mm). The needle used had a tip diameter of 1 mmφ and 0.5R. The needle piercing speed was 0.33 cm / sec. Table 1 shows the piercing elastic modulus of the retardation film 1. The measurement was performed in a room temperature environment at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50%.

（３）耐摩耗性評価（スチールウール硬度）
位相差フィルムの配向層表面の耐摩耗性の評価をスチールウール試験にて行った。
スチールウール試験機（大栄精機社製）にて、クリーンルーム用ワイパー（旭化成株式会社製ＢＥＭＣＯＴＡＺ-８）をガラス板上に配置した環状ポリオレフィン系樹脂（ＣＯＰ）基材（厚み２０μｍ）上に各実施例、比較例と同様の方法で製膜した配向層表面に５００ｇの荷重で接触させ、４０ｒ／ｍｉｎの速度で４往復摩耗試験をおこない、蛍光灯下で目視にて発生したキズの本数を数えた。 (3) Wear resistance evaluation (steel wool hardness)
The abrasion resistance of the alignment layer surface of the retardation film was evaluated by a steel wool test.
Using a steel wool tester (manufactured by Daiei Seiki Co., Ltd.), a clean room wiper (BEMCOT AZ-8 manufactured by Asahi Kasei Corporation) was placed on a cyclic polyolefin-based resin (COP) substrate (thickness: 20 μm) arranged on a glass plate. The surface of the alignment layer formed in the same manner as in Examples and Comparative Examples was brought into contact with the surface of the alignment layer at a load of 500 g, a 4-way reciprocating wear test was performed at a speed of 40 r / min, and the number of scratches visually observed under a fluorescent lamp was counted. Was.

（４）耐摩耗性評価（鉛筆硬度評価）
位相差フィルムの配向層表面の表面硬度評価を鉛筆硬度試験にて行った。
鉛筆硬度試験器（安田精機製作所製Ｎｏ．５５３−Ｍ１）にて、試験用の鉛筆（三菱鉛筆株式会社製ユニスター）をガラス板上に配置した環状ポリオレフィン系樹脂（ＣＯＰ）基材（厚み２０μｍ）上に各実施例、比較例と同様の方法で製膜した配向層表面に５００ｇの荷重で斜め４５度から接触させ、０．５ｍｍ／ｓｅｃの速度で硬度試験をおこない、蛍光灯下で目視にて発生したキズの有無を数えた。５本試験の内、１本以下の傷つきとなる硬度を確認した。 (4) Abrasion resistance evaluation (pencil hardness evaluation)
The surface hardness of the alignment layer surface of the retardation film was evaluated by a pencil hardness test.
Cyclic polyolefin-based resin (COP) base material (thickness: 20 μm) in which a test pencil (Unistar manufactured by Mitsubishi Pencil Co., Ltd.) was placed on a glass plate using a pencil hardness tester (No. 553-M1 manufactured by Yasuda Seiki Seisaku-Sho, Ltd.). The surface of the alignment layer formed in the same manner as in the above Examples and Comparative Examples was brought into contact with the surface of the alignment layer at an oblique angle of 45 degrees under a load of 500 g, and a hardness test was performed at a speed of 0.5 mm / sec. The presence or absence of scratches was counted. Out of the five tests, the hardness of one or less scratches was confirmed.

［実施例１］
（第１の位相差フィルム１の作製）
配向層形成用の組成物として、
ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（新中村化学工業(株)製 A−６００）１０．０重量部と、
トリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学工業(株)製 A−ＴＭＰＴ）１０．０重量部と、
１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート（新中村化学工業(株)製Ａ−ＨＤ−Ｎ）１０．０重量部と、
光重合開始材としてイルガキュア９０７（ＢＡＳＦ社製Ｉｒｇ−９０７）１．５０重量部とを、
溶媒メチルエチルケトン７０．０重量部中で溶解させ、配向層形成用塗工液を調整した。 [Example 1]
(Production of First Retardation Film 1)
As a composition for forming an alignment layer,
10.0 parts by weight of polyethylene glycol di (meth) acrylate (A-600 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
10.0 parts by weight of trimethylolpropane triacrylate (A-TMPT manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
10.0 parts by weight of 1,6-hexanediol di (meth) acrylate (A-HD-N manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
1.50 parts by weight of Irgacure 907 (Irg-907 manufactured by BASF) as a photopolymerization initiator,
The solvent was dissolved in 70.0 parts by weight of methyl ethyl ketone to prepare a coating liquid for forming an alignment layer.

基材フィルムとして厚さ２０μｍの長尺状の環状オレフィン系樹脂フィルム（日本ゼオン株式会社製）を準備し、基材フィルムの片面に、得られた配向層形成用塗工液をバーコーターにて塗布した。
塗工後の塗布層に温度８０℃で６０秒間の熱処理を施した後、紫外線（ＵＶＢ）を２２０ｍJ／ｃｍ^２照射し、配向層形成用の組成物を重合、硬化させて、基材フィルム上に厚さ３．５μｍの配向層１を形成した。 A long cyclic olefin-based resin film (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) having a thickness of 20 μm was prepared as a base film, and the obtained coating liquid for forming an alignment layer was applied to one surface of the base film using a bar coater. Applied.
The coated layer after the coating is subjected to a heat treatment at a temperature of 80 ° C. for 60 seconds, and then irradiated with ultraviolet rays (UVB) at 220 mJ / cm ² to polymerize and cure the composition for forming an alignment layer. Then, an alignment layer 1 having a thickness of 3.5 μm was formed.

位相差形成用の組成物として、光重合性ネマチック液晶化合物（メルク社製ＲＭＭ２８Ｂ）２０．０重量部と、光重合開始剤としてイルガキュア９０７（ＢＡＳＦ社製Ｉｒｇ−９０７）１．０重量部とを、溶媒のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８０．０重量部中に溶解させ、位相差層形成用塗工液を調整した。
先に得られた配向層上に位相差層形成用塗工液を塗布し、塗布層に温度８０℃で６０秒間の熱処理を施した。その後、紫外線（ＵＶＢ）を２２０ｍJ／ｃｍ^２照射し、位相差層形成用の組成物を重合、硬化させて、配向層上に厚さ０．７μｍの位相差層１を形成した。この様にして基材フィルム上に配向層１と位相差層１からなる第１の位相差フィルム１を得た。この第１の位相差フィルム１は厚み方向に位相差を示した。また、基材フィルムから第１の位相差フィルム１が剥離可能であることを確認した。 As a composition for forming a retardation, 20.0 parts by weight of a photopolymerizable nematic liquid crystal compound (RMM28B manufactured by Merck) and 1.0 part by weight of Irgacure 907 (Irg-907 manufactured by BASF) as a photopolymerization initiator. Was dissolved in 80.0 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent to prepare a coating solution for forming a retardation layer.
The coating liquid for forming a retardation layer was applied on the alignment layer obtained above, and the applied layer was subjected to a heat treatment at a temperature of 80 ° C. for 60 seconds. Thereafter, ultraviolet rays (UVB) 220mJ / cm ² was irradiated, the composition for forming the retardation layer polymerized and cured to form a retardation layer 1 having a thickness of 0.7μm on the alignment layer. In this way, a first retardation film 1 including the orientation layer 1 and the retardation layer 1 was obtained on the base film. This first retardation film 1 showed retardation in the thickness direction. In addition, it was confirmed that the first retardation film 1 was peelable from the base film.

（偏光板の作製）
厚み２０μｍのポリビニルアルコールフィルム（平均重合度約２４００、ケン化度９９．９モル％以上）を、乾式延伸により約４倍に一軸延伸し、さらに緊張状態を保ったまま、４０℃の純水に４０秒間浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の重量比が０．０５２／５．７／１００の水溶液に２８℃で３０秒間浸漬して染色処理を行った。その後、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の重量比が１１．０／６．２／１００の水溶液に７０℃で１２０秒間浸漬した。引き続き、８℃の純水で１５秒間洗浄した後、３００Ｎの張力で保持した状態で、６０℃で５０秒間、次いで７５℃で２０秒間乾燥して、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素が吸着配向している厚み８μｍの吸収型偏光子フィルムを得た。得られた偏光子フィルムの両面にポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる水系接着剤を塗布し、偏光子フィルムの片面に保護フィルム（ゼオン製ＣＯＰフィルムゼオノアＺＦ１４）ともう一方の面に保護フィルム（富士フィルム製ＴＡＣフィルムフジタックＴＪ２５）貼り合わせて両面保護フィルム付偏光板を得た。 (Preparation of polarizing plate)
A 20 μm-thick polyvinyl alcohol film (average degree of polymerization: about 2400, saponification degree: 99.9 mol% or more) is uniaxially stretched about 4 times by dry stretching, and further kept in a pure state at 40 ° C. while maintaining the tension state. After immersion for 40 seconds, dyeing treatment was performed by immersion in an aqueous solution of iodine / potassium iodide / water having a weight ratio of 0.052 / 5.7 / 100 at 28 ° C. for 30 seconds. Then, it was immersed in an aqueous solution of potassium iodide / boric acid / water having a weight ratio of 11.0 / 6.2 / 100 at 70 ° C. for 120 seconds. Successively, after washing with pure water at 8 ° C. for 15 seconds, while maintaining the tension at 300 N, the film was dried at 60 ° C. for 50 seconds and then at 75 ° C. for 20 seconds, and iodine was adsorbed and oriented on the polyvinyl alcohol film. An absorption polarizer film having a thickness of 8 μm was obtained. An aqueous adhesive composed of a polyvinyl alcohol-based resin aqueous solution is applied to both surfaces of the obtained polarizer film, and a protective film (COP film made by ZEON Zeonor ZF14) is applied to one surface of the polarizer film and a protective film (Fuji film) is applied to the other surface. TAC film manufactured by FUJITAC TJ25) to obtain a polarizing plate with a double-sided protective film.

（光学積層体の作製）
両面剥離フィルム付きシート状粘着剤（厚み２５μｍリンテック株式会社製Ｐ−３１３２）の一方の剥離フィルムを剥離し、得られた偏光板のＴＡＣフィルム側表面に粘着層剤を介して貼り合わせた後、シート状粘着剤の他方側の剥離フィルムを剥離し、粘着剤層を偏光板のＴＡＣフィルム側表面に積層させた。積層された粘着剤層を介して第１の位相差フィルムの位相差層１側表面と偏光板を貼り合わせた後、第１の位相差フィルム１から基材フィルムを剥離した。さらに先の両面剥離フィルム付きシート状粘着剤の一方の剥離フィルムを剥離した後、第１の位相差フィルム１の基材フィルムを剥離した面に粘着剤層を介して貼り合わせ、積層構造が、偏光板／粘着剤層／第１の位相差フィルム１／粘着剤層／剥離フィルムである光学積層体を得た。 (Preparation of optical laminate)
After peeling off one release film of a sheet-like adhesive with a double-sided release film (P-3132 manufactured by Lintec Co., Ltd.) and attaching the obtained polarizing plate to the TAC film side surface via an adhesive layer, The release film on the other side of the sheet-like pressure-sensitive adhesive was peeled off, and the pressure-sensitive adhesive layer was laminated on the TAC film-side surface of the polarizing plate. After the polarizing plate was bonded to the surface of the first retardation film on the side of the retardation layer 1 via the laminated pressure-sensitive adhesive layer, the base film was peeled off from the first retardation film 1. Further, after peeling off one release film of the sheet-like pressure-sensitive adhesive with a double-sided release film, the first retardation film 1 is attached via a pressure-sensitive adhesive layer to a surface from which the base film has been peeled off, and the laminated structure has An optical laminate comprising polarizing plate / adhesive layer / first retardation film 1 / adhesive layer / release film was obtained.

［実施例２、３、比較例１、２］
第１の位相差フィルムを構成する配向層１と位相差層１の形成用の組成物を表１の配合比、厚みを変えた以外は、実施例１と同様の方法で実施例２、３、比較例１、２の光学積層体を作製した。また、実施例２、３、比較例１、２で得られた第１の位相差フィルムは、厚み方向に位相差を示した。 [Examples 2, 3 and Comparative Examples 1, 2]
Examples 2 and 3 were prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition ratio and thickness of the alignment layer 1 and the phase difference layer 1 forming the first retardation film were changed as shown in Table 1. The optical laminates of Comparative Examples 1 and 2 were produced. The first retardation films obtained in Examples 2 and 3 and Comparative Examples 1 and 2 exhibited retardation in the thickness direction.

［実施例４］
配向層形成用の組成物を表１の材料および配合比として配向層形成用塗工液を作成し、その塗工液の塗布層に温度１００℃で１２０秒間の熱処理を施し、硬化させた。
それ以外は実施例１と同様の方法で光学積層体を作製した。また、実施例４で得られた第１の位相差フィルムは、厚み方向に位相差を示した。 [Example 4]
A coating liquid for forming an alignment layer was prepared using the composition for forming an alignment layer as a material and a compounding ratio shown in Table 1, and a coating layer of the coating liquid was subjected to a heat treatment at a temperature of 100 ° C. for 120 seconds to be cured.
Otherwise, an optical laminate was produced in the same manner as in Example 1. Further, the first retardation film obtained in Example 4 showed a retardation in the thickness direction.

［実施例５］
［第１の位相差フィルム２の作製］
下記構造の光配向性材料５．０重量部（重量平均分子量：３０，０００）とシクロペンタノン（溶媒）９５．０重量部とを混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、配向膜形成用組成物を得た。

[Example 5]
[Preparation of First Retardation Film 2]
5.0 parts by weight (weight average molecular weight: 30,000) of a photo-alignment material having the following structure and 95.0 parts by weight of cyclopentanone (solvent) are mixed, and the obtained mixture is stirred at 80 ° C. for 1 hour. Thus, a composition for forming an alignment film was obtained.

以下に示す重合性液晶化合物Ａ、及び重合性液晶化合物Ｂを９：１の質量比で混合した混合物１０重量部に対して、レベリング剤（Ｆ−５５６；ＤＩＣ社製）を０．１重量部、及び重合開始剤である２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（「イルガキュア３６９（Ｉｒｇ３６９）」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を０．６重量部添加した。 0.1 part by weight of a leveling agent (F-556; manufactured by DIC) is added to 10 parts by weight of a mixture of the following polymerizable liquid crystal compound A and polymerizable liquid crystal compound B at a mass ratio of 9: 1. And 0.6 parts by weight of 2-dimethylamino-2-benzyl-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one ("Irgacure 369 (Irg 369)", BASF Japan Ltd.) as a polymerization initiator. Was added.

さらに、固形分濃度が１３％となるようにＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）を添加し、８０℃で１時間攪拌することにより、液晶硬化膜形成用組成物を得た。 Further, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) was added so that the solid content concentration became 13%, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 1 hour to obtain a composition for forming a liquid crystal cured film.

重合性液晶化合物Ａは、特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法で製造した。また、重合性液晶化合物Ｂは、特開２００９−１７３８９３号公報に記載の方法に準じて製造した。以下にそれぞれの分子構造を示す。 Polymerizable liquid crystal compound A was produced by the method described in JP-A-2010-31223. Further, the polymerizable liquid crystal compound B was produced according to the method described in JP-A-2009-173893. The molecular structure of each is shown below.

（重合性液晶化合物Ａ）

(Polymerizable liquid crystal compound A)

（重合性液晶化合物Ｂ）

(Polymerizable liquid crystal compound B)

〔基材、配向膜、重合性液晶化合物が硬化した層からなる積層体の製造〕
基材として５０μｍ厚のシクロオレフィン系フィルム〔日本ゼオン株式会社製の商品名「ＺＦ−１４−５０」〕上にコロナ処理を実施した。コロナ処理が施された面に、配向膜形成用組成物をバーコーターで塗布した。塗布膜を８０℃で１分間乾燥した。乾燥した塗布膜に、偏光ＵＶ照射装置〔ウシオ電機株式会社の商品名「ＳＰＯＴＣＵＲＥＳＰ−９」〕を用いて、軸角度４５°にて偏光ＵＶを照射し、配向膜を得た。偏光ＵＶの照射は、波長３１３ｎｍにおける積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ^２となるように行われた。 [Production of a laminate comprising a substrate, an alignment film, and a cured layer of a polymerizable liquid crystal compound]
A corona treatment was performed on a 50 μm-thick cycloolefin-based film (trade name “ZF-14-50” manufactured by Zeon Corporation) as a substrate. The composition for forming an alignment film was applied to the surface subjected to the corona treatment using a bar coater. The coating film was dried at 80 ° C. for 1 minute. The dried coating film was irradiated with polarized UV at an axis angle of 45 ° using a polarized UV irradiator (trade name “SPOT CURE SP-9” of USHIO Inc.) to obtain an alignment film. The irradiation with the polarized UV was performed so that the integrated light amount at a wavelength of 313 nm was 100 mJ / cm ² .

続いて、配向膜上に、液晶硬化膜形成用組成物を、バーコーターを用いて塗布した。塗布膜を１２０℃で１分間乾燥した。乾燥した塗布膜に、高圧水銀ランプ〔ウシオ電機株式会社の商品名：「ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ」〕を用いて、紫外線を照射した。紫外線の照射工程は、波長３６５ｎｍにおける積算光量が２５０ｍＪ／ｃｍ^２となるように、窒素雰囲気下で行われた。照射直後に冷却工程として、硬化膜を５℃に設定したオーブンに２０秒間投入した。オーブン取り出し後、すぐに再度前記紫外線照射工程および冷却工程を実施し、基材上に配向膜、および重合性液晶化合物が硬化した層からなる第１の位相差フィルム２を得た。この第１の位相差フィルム２は面内方向に位相差を示した。得られた第１の位相差フィルム２を第１の位相差フィルム１の代わりに用いて、実施例１と同様にして光学積層体を得た。 Subsequently, a composition for forming a liquid crystal cured film was applied on the alignment film using a bar coater. The coating film was dried at 120 ° C. for 1 minute. Ultraviolet rays were applied to the dried coating film using a high-pressure mercury lamp (trade name of USHIO Inc .: “Unicure VB-15201BY-A”). The ultraviolet irradiation step was performed in a nitrogen atmosphere such that the integrated light amount at a wavelength of 365 nm was 250 mJ / cm ² . Immediately after the irradiation, as a cooling step, the cured film was put into an oven set at 5 ° C. for 20 seconds. Immediately after the removal from the oven, the ultraviolet irradiation step and the cooling step were performed again to obtain a first retardation film 2 comprising an alignment film and a layer in which a polymerizable liquid crystal compound was cured on a substrate. This first retardation film 2 showed a retardation in the in-plane direction. An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the obtained first retardation film 2 was used in place of the first retardation film 1.

［実施例６］
比較例１と同じ方法で第１の位相差フィルムを作成し、光学積層体を作製する際に配向層１と位相差層１の間で剥離し、第１の位相差フィルムを位相差層１のみとした以外は実施例１と同じ方法で実施例６の光学積層体を作製した。 [Example 6]
A first retardation film was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, and peeled between the alignment layer 1 and the retardation layer 1 when producing an optical laminate. An optical laminate of Example 6 was produced in the same manner as in Example 1 except that only the above was used.

実施例１〜６、比較例１、２にて得られた光学積層体について剥離フィルムを剥離し、露出した粘着剤層を介してそれぞれガラス板に貼合し、図３で示す状態とした上で、次に示す方法で耐熱衝撃性試験を行った。
荷重１０Ｎに設定したエリクセンペン（エリクセン社製型番３１８）のペン先を光学積層体中の偏光板におけるガラス板側とは反対側の面に押し当て起点とした。同様の起点を他２カ所（計３カ所）等間隔で設けた。その後、−２０℃ ３０分と６０℃ ３０分を１サイクルとする熱衝撃性試験（ＥＳＰＥＣＣＯＲＰ．製品名：ＴＳＡ−３０３ＥＬ−Ｗ）を数サイクル実施した。熱衝撃性試験前に光学積層体中の偏光板表面にエリクセンペンを押し当てた各起点から生じたクラックの長さを測定し、３か所の起点のクラック測定結果の平均値をクラック長さ（ｍｍ）とした。 With respect to the optical laminates obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2, the release films were peeled off, bonded to glass plates via the exposed pressure-sensitive adhesive layers, respectively, to obtain the state shown in FIG. A thermal shock resistance test was performed by the following method.
The pen tip of an Ericssen pen (Model No. 318, manufactured by Ericssen) set at a load of 10 N was pressed against the surface of the polarizing plate in the optical laminate opposite to the glass plate side to be a starting point. Similar starting points were provided at other two places (a total of three places) at equal intervals. Thereafter, several cycles of a thermal shock test (ESPE CORP., Product name: TSA-303EL-W) were carried out for one cycle of -20 ° C for 30 minutes and 60 ° C for 30 minutes. Before the thermal shock test, the length of cracks generated from each starting point where the Ericssen pen was pressed against the surface of the polarizing plate in the optical laminate was measured, and the average value of the crack measurement results at the three starting points was calculated as the crack length. (Mm).

実施例１〜６、比較例１、２で得られた第１の位相差フィルムの突刺し弾性率、膜厚、耐摩耗性評価（スチールウール、鉛筆硬度）及び光学積層体の熱衝撃試験の結果について、表２に示す。実施例１〜５、比較例１、２の第１の位相差フィルムの突刺し弾性率は、第１の位相差フィルムと基材フィルムの積層体より、基材フィルムを剥離した後、第１の位相差フィルム（位相差層１＋配向層１）に対して、突刺し冶具を位相差層１側から押圧することにより測定した。実施例６の第１の位相差フィルムは、基材フィルムと配向層１を位相差層１より剥離し、第１の位相差フィルム（位相差層１のみ）に対し測定した結果を示した。また、耐摩耗性評価については、実施例１、２、比較例１の配向層について実施した。 The piercing elastic modulus, film thickness, abrasion resistance evaluation (steel wool, pencil hardness) of the first retardation films obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2 and the thermal shock test of the optical laminate were performed. Table 2 shows the results. The piercing elastic modulus of the first retardation film of each of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 was determined by peeling the substrate film from the laminate of the first retardation film and the substrate film. Was measured by pressing a piercing jig from the retardation layer 1 side to the retardation film (retardation layer 1 + alignment layer 1). The first retardation film of Example 6 shows the results obtained by peeling the base film and the alignment layer 1 from the retardation layer 1 and measuring the first retardation film (only the retardation layer 1). In addition, the evaluation of abrasion resistance was performed on the alignment layers of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1.

表３に、各実施例および各比較例で得た位相差フィルムにおける
配向層の厚さＬ_ＡＬと、配向層を構成する樹脂における重合性化合物ｉに由来する単位の含有量Ｃｗｉ、当該重合性化合物ｉの分子量Ｍｉおよび官能基数Ｎｉを示す。配向層の重合性基量は、計算式（Ａ−１）

により算出された値Ｎ１である。 Table 3, the examples and the thickness L _AL alignment layer in the phase difference film obtained in Comparative Example, the content of units derived from the polymerizable compound i in the resin constituting the orientation layer Cwi, the polymerizable The molecular weight Mi and the number of functional groups Ni of the compound i are shown. The amount of the polymerizable group in the alignment layer is calculated by the formula (A-1).

Is the value N1 calculated by

また、表３に、各実施例および各比較例で得た位相差フィルムにおける
位相差層の厚さＬ_ＬＣと、位相差層を構成する重合性液晶化合物ｊに由来する単位の含有量Ｃｗｊと、当該重合性液晶化合物ｊの分子量Ｍｊおよび官能基数Ｎｊとを示す。位相差層の重合性基量は、計算式（Ａ−２）

により算出される値Ｎ２である。
そして表３に、前記の計算式（Ａ）により算出された重合性基量Ｎを併せて示す。 Further, in Table 3, and the thickness L _LC of the retardation layer in the phase difference film obtained in each of Examples and Comparative Examples, the content Cwj of units derived from the polymerizable liquid crystal compound j constituting the retardation layer And the molecular weight Mj and the number of functional groups Nj of the polymerizable liquid crystal compound j. The amount of the polymerizable group in the retardation layer is calculated by the formula (A-2).

Is calculated as N2.
Table 3 also shows the amount N of polymerizable groups calculated by the above formula (A).

本発明によれば、位相差フィルムを備える光学積層体であって、急激な温度変化を受ける環境下でも、クラックの発生を抑制できる光学積層体を提供することができるので有用である。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is useful since it can provide the optical laminated body provided with a retardation film, and can suppress generation | occurrence | production of a crack even under the environment which receives a rapid temperature change.

１第１の位相差フィルム（位相差フィルム）
２第２の位相差フィルム
３偏光板
４有機ＥＬ表示素子
５前面板
６遮光パターン
１０位相差層
１１配向層
１２粘着剤層
１３接着剤層
１４ガラス板
１００，１０１，１０２，１０４光学積層体
１０３有機ＥＬ表示装置 1 First retardation film (retardation film)
2 second retardation film 3 polarizing plate 4 organic EL display element 5 front plate 6 light-shielding pattern 10 retardation layer 11 orientation layer 12 adhesive layer 13 adhesive layer 14 glass plate 100, 101, 102, 104 optical laminate 103 Organic EL display

［実施例４］（参考例）
配向層形成用の組成物を表１の材料および配合比として配向層形成用塗工液を作成し、その塗工液の塗布層に温度１００℃で１２０秒間の熱処理を施し、硬化させた。それ以外は実施例１と同様の方法で光学積層体を作製した。また、実施例４で得られた第１の位相差フィルムは、厚み方向に位相差を示した。 [Example 4] (Reference example)
A coating liquid for forming an alignment layer was prepared using the composition for forming an alignment layer as a material and a compounding ratio shown in Table 1, and a coating layer of the coating liquid was subjected to a heat treatment at a temperature of 100 ° C. for 120 seconds and cured. Otherwise, an optical laminate was produced in the same manner as in Example 1. Further, the first retardation film obtained in Example 4 showed a retardation in the thickness direction.

［実施例５］（参考例）
［第１の位相差フィルム２の作製］
下記構造の光配向性材料５．０重量部（重量平均分子量：３０，０００）とシクロペンタノン（溶媒）９５．０重量部とを混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、配向膜形成用組成物を得た。

[Example 5] (Reference example)
[Preparation of First Retardation Film 2]
5.0 parts by weight (weight average molecular weight: 30,000) of a photo-alignment material having the following structure and 95.0 parts by weight of cyclopentanone (solvent) are mixed, and the obtained mixture is stirred at 80 ° C. for 1 hour. Thus, a composition for forming an alignment film was obtained.

［実施例６］（参考例）
比較例１と同じ方法で第１の位相差フィルムを作成し、光学積層体を作製する際に配向層１と位相差層１の間で剥離し、第１の位相差フィルムを位相差層１のみとした以外は実施例１と同じ方法で実施例６の光学積層体を作製した。
[Example 6] (Reference Example)
A first retardation film was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, and peeled between the alignment layer 1 and the retardation layer 1 when producing an optical laminate. An optical laminate of Example 6 was produced in the same manner as in Example 1 except that only the above was used.

Claims

位相差フィルムを有する光学積層体であって、
前記位相差フィルムは、
フィルム面に対し突刺し冶具の先端を垂直に押圧し、破断が生じたときの、
前記突刺し冶具の先端から前記位相差フィルムへ加えられた応力Ｆ（ｇ）と前記位相差フィルムのひずみ量Ｓ（ｍｍ）を用いて下記式（１）にて算出される突刺し弾性率が５０ｇ／ｍｍ以下であることを特徴とする光学積層体。

（１）突刺し弾性率（ｇ／ｍｍ）＝Ｆ（ｇ）／Ｓ（ｍｍ）
An optical laminate having a retardation film,
The retardation film,
When the tip of the piercing jig is pressed vertically against the film surface and a break occurs,
Using a stress F (g) applied to the retardation film from the tip of the piercing jig and a strain amount S (mm) of the retardation film, a piercing elastic modulus calculated by the following equation (1) is obtained. An optical laminate characterized by being 50 g / mm or less.

(1) Puncture elastic modulus (g / mm) = F (g) / S (mm)

前記位相差フィルムは、重合性液晶化合物が硬化した位相差層を含む請求項１に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 1, wherein the retardation film includes a retardation layer in which a polymerizable liquid crystal compound is cured.

前記位相差フィルムは、配向層をさらに含む請求項２に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 2, wherein the retardation film further includes an alignment layer.

前記位相差層は、垂直配向性を有する請求項２または３に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 2, wherein the retardation layer has a vertical alignment property.

前記光学積層体は、さらに偏光板を有する請求項１〜４のいずれかに記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the optical laminate further includes a polarizing plate.

請求項１〜５のいずれかに記載の光学積層体が、表示素子に積層されている表示装置。 A display device, wherein the optical laminate according to claim 1 is laminated on a display element.