JP2019536071A - 光学システムにおける物理的効果の補償 - Google Patents
光学システムにおける物理的効果の補償 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019536071A JP2019536071A JP2019515280A JP2019515280A JP2019536071A JP 2019536071 A JP2019536071 A JP 2019536071A JP 2019515280 A JP2019515280 A JP 2019515280A JP 2019515280 A JP2019515280 A JP 2019515280A JP 2019536071 A JP2019536071 A JP 2019536071A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acousto
- optic
- wavefront
- optic material
- light beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
- G02F1/33—Acousto-optical deflection devices
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
- G02B27/0068—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration having means for controlling the degree of correction, e.g. using phase modulators, movable elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/11—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on acousto-optical elements, e.g. using variable diffraction by sound or like mechanical waves
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
- G02F1/291—Two-dimensional analogue deflection
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
- G03F7/70041—Production of exposure light, i.e. light sources by pulsed sources, e.g. multiplexing, pulse duration, interval control or intensity control
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70591—Testing optical components
- G03F7/706—Aberration measurement
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
- G03F7/70941—Stray fields and charges, e.g. stray light, scattered light, flare, transmission loss
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2203/00—Function characteristic
- G02F2203/18—Function characteristic adaptive optics, e.g. wavefront correction
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2203/00—Function characteristic
- G02F2203/60—Temperature independent
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
Description
本願は2016年11月11日出願の米国出願第15/349,600号の優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
Claims (29)
- 音響光学材料を出る光ビームの波面を推定すること、
前記音響光学材料を含む音響光学システムのための制御信号を生成することであって、前記制御信号は、前記光ビームの前記推定された波面に基づくものである、生成すること、及び、
前記制御信号を、前記音響光学材料内を伝搬する周波数チャープ音波を生成するために前記音響光学システムに適用することであって、前記周波数チャープ音波は、前記音響光学材料内に過渡回折素子を形成し、前記過渡回折素子と前記光ビームとの間の相互作用は、前記光ビームの前記波面のディストーションを補償するために前記光ビームの前記波面を調節し、前記波面の前記ディストーションは前記音響光学材料内の物理的効果によって少なくとも部分的に生じる、適用すること、
を含む、方法。 - 前記音響光学材料を出る前記光ビームの前記波面を推定することは、
前記音響光学材料を出る前記光ビームの少なくとも一部を受信すること、及び、
前記光ビームの第1のパルスのうちの前記受信した部分に基づいて、前記音響光学材料を出る前記光ビームの前記波面を推定すること、
を含む、請求項1に記載の方法。 - 前記音響光学材料の前記物理的効果は、前記音響光学材料の熱的ディストーションを含み、前記熱的ディストーションは、前記音響光学材料を出る前記光ビームの前記波面の前記ディストーションを少なくとも部分的に発生させる、請求項1に記載の方法。
- 前記音響光学材料を出る前記光ビームの前記波面を推定することは、
前記音響光学材料の複数の温度測定値を評価することであって、前記複数の温度測定値の各々は前記音響光学材料の異なる部分の温度である、評価すること、
前記評価された複数の温度に基づいて、前記音響光学材料の温度分布を推定すること、
前記音響光学材料の前記推定された温度分布に基づいて、前記音響光学材料の屈折率の空間分布を推定すること、及び、
前記音響光学材料の前記推定された屈折率を使用して、前記音響光学材料を出る前記光ビームの前記波面を推定すること、
を含む、請求項3に記載の方法。 - 前記音響光学材料は、前記光ビーム、前記周波数チャープ音波、及び、熱として前記音響光学材料内を伝搬する前記周波数チャープ音波以外の音波のうちの、1つ以上を吸収し、前記音響光学材料の前記物理的効果は、前記吸収された熱から生じる熱的ディストーションを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記過渡回折素子は、前記音響光学材料の前記物理的効果以外の効果について前記光ビームを更に補償する、請求項2に記載の方法。
- 前記音響光学材料の前記物理的効果以外の前記効果は、前記音響光学材料以外の光学素子の物理的効果を含み、前記光学素子は前記光ビームと相互作用するように位置決めされる、請求項6に記載の方法。
- 前記光ビームはパルス光ビームを含み、
前記光ビームの少なくとも一部を受信することは、前記光ビームの第1のパルスの一部を受信することを含み、
前記光ビームの波面を決定することは、前記光ビームの前記第1のパルスのうちの前記受信した部分に基づいて波面を決定することを含み、また、
前記生成された周波数チャープ音波は、前記音響光学材料内を伝搬し、前記光ビームの第2のパルスが前記音響光学材料を通過する間に前記過渡回折素子を形成し、前記光ビームの前記第2のパルスは前記光ビームの前記第1のパルスの後に発生する、
請求項2に記載の方法。 - 前記第1及び第2のパルスは100ナノ秒(ns)以下の持続時間を有し、
前記第2のパルスが前記過渡回折素子と相互作用し、前記周波数チャープ音波の周波数に依存する角度で前記過渡回折素子によって回折されるように、前記過渡回折素子は、前記第2のパルスが前記音響光学材料を通過する間に、前記音響光学材料内を500ミクロン(μm)以下で伝搬する、
請求項8に記載の方法。 - 前記音響光学材料の前記物理的効果は、前記音響光学材料の熱的ディストーションを含み、前記熱的ディストーションは少なくとも部分的に、前記音響光学材料を出る前記光ビームの前記波面のディストーションを発生させる、請求項1に記載の方法。
- 前記音響光学システムのための初期制御信号を生成することであって、前記初期制御信号は、前記光ビームの前記推定された波面とは無関係である、生成すること、及び、
前記光ビームの前記波面を推定する前に、前記音響光学材料内に一定周波数音波を生成するために、前記初期制御信号を前記音響光学システムに印加することであって、前記一定周波数音波は前記音響光学材料内に初期過渡回折素子を形成し、前記初期過渡回折素子の生成は、少なくとも部分的に前記波面の前記ディストーションを発生させる前記物理的効果である、印加すること、
を更に含む、請求項1に記載の方法。 - 極端紫外(EUV)光源のためのシステムであって、
光学システムと、
センシング装置と、
制御システムと、
を備え、
前記光学システムは、
音波が内部を伝搬する音響光学材料であって、ビームパス上に位置決めされるように構成される音響光学材料、及び、
音波ジェネレータであって、
前記音響光学材料に結合するように構成されたトランスデューサと、
前記トランスデューサに結合するように構成された波形ジェネレータと、
を備える、音波ジェネレータ、
を備え、
前記センシング装置は、前記ビームパス上を伝搬する光ビームに関するデータ、又は前記音響光学材料の状態に関するデータを、測定するように構成され、
前記制御システムは、前記センシング装置及び前記波形ジェネレータに結合され、
前記センシング装置によって測定されたデータに基づいて前記光ビームの波面を推定するように、
前記光ビームの前記推定された波面に基づいて制御信号を生成するように、及び、
前記制御信号を前記光学システムに提供するように、
構成され、前記制御信号は、前記音波ジェネレータに周波数チャープ音波を前記音響光学材料に提供させるのに十分であり、前記周波数チャープ音波は前記音響光学材料内に過渡回折素子を形成し、前記過渡回折素子と前記光ビームとの間の相互作用が、前記音響光学材料の物理的効果を補償するように前記光ビームの前記波面を調節する、
EUV光源のためのシステム。 - 前記音響光学材料の前記物理的効果は、前記音響光学材料内の空間的に変化する屈折率を含む、請求項12に記載のシステム。
- 前記音響光学材料の前記物理的効果は熱的ディストーションを含み、前記音響光学材料内の任意の特定ロケーションでの前記屈折率は、前記音響光学材料によって吸収される熱の量、及び、1つ以上の吸収ロケーションと前記特定のロケーションとの間の距離に関連し、前記吸収ロケーションは熱が吸収される結晶内の領域である、請求項13に記載のシステム。
- 前記音響光学材料は、光ビーム、前記周波数チャープ音波、及び、前記音響光学材料内を伝搬する前記周波数チャープ音波以外の音波のうちの、1つ以上を吸収し、前記音響光学材料の前記物理的効果は、前記吸収された熱から生じる熱的ディストーションを含む、請求項12に記載のシステム。
- 前記音響光学材料は、10μmから11μmの間の波長を有する光に対して実質的にトランスペアレントな材料を含む、請求項12に記載のシステム。
- 前記音響光学材料は、ゲルマニウム(Ge)又はガリウムヒ素(GaAs)を含む、請求項12に記載のシステム。
- 前記光学システムには音響ターミネータがなく、前記音響ターミネータは、前記音響光学材料との物理的接続の一部であるか又は物理的に接続されており、前記周波数チャープ音波の吸収、散乱、伝送、又は方向転換のうちの1つ以上を実行するように構成された、要素である、請求項12に記載のシステム。
- 前記光源は、極端紫外(EUV)光源を含む、請求項12に記載のシステム。
- 前記光学システムは、前記波形ジェネレータ及び前記トランスデューサに結合された無線周波数(RF)電気増幅器を更に含み、前記波形ジェネレータは、前記RF電気増幅器を介して前記トランスデューサに結合するように構成される、請求項12に記載のシステム。
- 前記センシング装置は、前記音響光学材料の状態に関するデータを測定するように構成され、前記状態は前記音響光学材料の温度に関する、請求項12に記載のシステム。
- 極端紫外(EUV)光源であって、
光発生モジュール、
1つ以上の前置増幅器、
1つ以上のパワー増幅器であって、1つ以上の前置増幅器が前記光発生モジュールと前記1つ以上のパワー増幅器との間にある、1つ以上のパワー増幅器、及び、
音響光学システムであって、
前記1つ以上のパワー増幅器のうちの1つと前記光発生モジュールとの間の音響光学材料と、
波形ジェネレータと、
前記波形ジェネレータから前記音響光学材料内へ音波として波形を送信するように構成されたトランスデューサと、
前記波形ジェネレータに結合された制御システムと、
を備える、音響光学システム、
を備え、
前記制御システムは、前記音響光学材料を出る光ビームの波面を推定するように、及び、前記推定された波面に基づいて前記波形ジェネレータに制御信号を提供するように、構成され、前記制御信号は、前記トランスデューサによって前記音響光学材料内に投入されたときに、前記音響光学材料の物理的効果について前記音響光学材料内を伝搬する光ビームの前記波面を補償する周波数チャープ波形を、前記波形ジェネレータに生成させるのに十分である、
EUV光源。 - 前記音響光学材料は、前記前置増幅器のうちの1つと前記パワー増幅器のうちの1つとの間にある、請求項22に記載のEUV光源。
- 前記制御システムに結合された温度センサを更に含み、前記温度センサは前記音響光学材料の温度を測定するように構成され、
前記音響光学材料の特徴を決定するように構成された前記制御システムは、前記温度センサからのデータに基づいて前記音響光学材料の温度を決定するように構成された前記制御システムを含む、
請求項22に記載のEUV光源。 - 前記音響光学材料を介して伝搬する光を受信するように、及び、前記受信した光の波面を感知するように構成された、光学センシング装置を含み、
前記音響光学材料の特徴を決定するように構成された前記制御システムは、前記光学センシング装置からのデータに基づいて前記受信した光の前記波面を決定するように構成された前記制御システムを含む、
請求項22に記載のEUV光源。 - 前記光学センシング装置は、段階的位相マスク、波面センシングカメラ、及び干渉計のうちの、1つ以上を含む、請求項25に記載のEUV光源。
- 一定周波数音波を音響光学材料に印加することであって、前記一定周波数音波は前記音響光学材料内に初期過渡回折素子を形成する、印加すること、
前記音響光学材料を出る光ビームの波面を、前記初期過渡回折素子と相互作用した後に推定すること、
修正された音波を形成するために前記推定された波面に基づいて前記一定周波数音波を修正することであって、前記修正された音波は周波数チャープを含む、修正すること、及び、
前記修正された音波を前記音響光学材料に印加することであって、前記修正された音波は補正過渡回折素子を形成し、前記補正過渡回折素子と前記光ビームとの間の相互作用が、前記波面のディストーションを補償するように前記光ビームの前記波面を調節し、前記ディストーションは前記初期過渡回折素子の前記生成によって少なくとも部分的に発生する、印加すること、
を含む、方法。 - 前記音響光学材料を出る前記光ビームの前記波面は、前記音響光学材料の前記温度に基づいて推定される、請求項27に記載の方法。
- 前記音響光学材料を出る前記光ビームの前記波面を推定することは、前記音響光学材料を出る前記光ビームの前記波面を測定することを含む、請求項27に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022159242A JP2022183194A (ja) | 2016-11-11 | 2022-10-03 | 光学システムにおける物理的効果の補償 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US15/349,600 | 2016-11-11 | ||
US15/349,600 US10401704B2 (en) | 2016-11-11 | 2016-11-11 | Compensating for a physical effect in an optical system |
PCT/US2017/056870 WO2018089177A1 (en) | 2016-11-11 | 2017-10-17 | Compensating for a physical effect in an optical system technical field |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022159242A Division JP2022183194A (ja) | 2016-11-11 | 2022-10-03 | 光学システムにおける物理的効果の補償 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019536071A true JP2019536071A (ja) | 2019-12-12 |
JP7153641B2 JP7153641B2 (ja) | 2022-10-14 |
Family
ID=62107808
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019515280A Active JP7153641B2 (ja) | 2016-11-11 | 2017-10-17 | 光学システムにおける物理的効果の補償 |
JP2022159242A Ceased JP2022183194A (ja) | 2016-11-11 | 2022-10-03 | 光学システムにおける物理的効果の補償 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022159242A Ceased JP2022183194A (ja) | 2016-11-11 | 2022-10-03 | 光学システムにおける物理的効果の補償 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10401704B2 (ja) |
JP (2) | JP7153641B2 (ja) |
KR (1) | KR102435367B1 (ja) |
CN (1) | CN109923384B (ja) |
NL (1) | NL2019824A (ja) |
TW (1) | TWI754692B (ja) |
WO (1) | WO2018089177A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9904068B1 (en) * | 2017-01-09 | 2018-02-27 | Asml Netherlands B.V. | Reducing an optical power of a reflected light beam |
CN112867578A (zh) * | 2019-01-31 | 2021-05-28 | 伊雷克托科学工业股份有限公司 | 激光加工设备、其操作方法及使用其加工工件的方法 |
US10996572B2 (en) * | 2019-02-15 | 2021-05-04 | Applied Materials, Inc. | Model based dynamic positional correction for digital lithography tools |
KR102681561B1 (ko) | 2019-09-24 | 2024-07-03 | 삼성전자주식회사 | 극자외선 발생 장치 |
WO2021073829A1 (en) * | 2019-10-14 | 2021-04-22 | Asml Netherlands B.V. | Optical modulator |
WO2021090963A1 (ko) * | 2019-11-04 | 2021-05-14 | 엘지전자 주식회사 | 무선 광 통신 시스템에서 신호를 송수신하는 방법 및 이를 위한 송신 단말과 수신 단말 |
DE102022119609A1 (de) | 2022-08-04 | 2024-02-15 | Trumpf Laser Gmbh | Lasersystem und Verfahren zur Bereitstellung eines zur Wechselwirkung mit einem Targetmaterial vorgesehenen gepulsten Laserstrahls |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011124586A (ja) * | 1999-11-17 | 2011-06-23 | Micronic Laser Systems Ab | マイクロリソグラフィ描画におけるビーム位置決め |
JP2013534643A (ja) * | 2010-06-09 | 2013-09-05 | ライカ マイクロシステムス ツェーエムエス ゲーエムベーハー | 音響光学システム、顕微鏡、および音響光学システムの使用方法 |
JP2013229553A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-11-07 | Gigaphoton Inc | レーザ装置及び極端紫外光生成装置 |
JP2014517929A (ja) * | 2011-04-20 | 2014-07-24 | ユーシーエル ビジネス ピーエルシー | 音響光学偏向器を制御するための方法及び装置 |
Family Cites Families (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4105953A (en) * | 1977-01-24 | 1978-08-08 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Chirped acousto-optic Q switch |
US4262996A (en) | 1979-05-29 | 1981-04-21 | Rockwell International Corporation | Chirp-grating lens for guided-wave optics |
JPS5862630A (ja) * | 1981-10-08 | 1983-04-14 | Sony Corp | 光変調装置 |
US5633885A (en) * | 1994-09-29 | 1997-05-27 | Imra America, Inc. | Frequency chirp control and compensation for obtaining broad bandwidth ultrashort optical pulses from wavelength-tunable lasers |
US6198531B1 (en) * | 1997-07-11 | 2001-03-06 | University Of South Carolina | Optical computational system |
US6052190A (en) * | 1997-09-09 | 2000-04-18 | Utoptics, Inc. | Highly accurate three-dimensional surface digitizing system and methods |
DE19840926B4 (de) * | 1998-09-08 | 2013-07-11 | Hell Gravure Systems Gmbh & Co. Kg | Anordnung zur Materialbearbeitung mittels Laserstrahlen und deren Verwendung |
IL140309A0 (en) * | 2000-12-14 | 2002-02-10 | Yeda Res & Dev | Acousto-optic scanner with fast non-linear scan |
JP2002273583A (ja) * | 2001-03-19 | 2002-09-25 | Inst Of Physical & Chemical Res | 透明媒質加工装置 |
US7667851B2 (en) * | 2001-07-24 | 2010-02-23 | Lockheed Martin Corporation | Method and apparatus for using a two-wave mixing ultrasonic detection in rapid scanning applications |
US6751009B2 (en) * | 2002-04-30 | 2004-06-15 | The Boeing Company | Acousto-micro-optic deflector |
US7075698B2 (en) * | 2002-05-03 | 2006-07-11 | Technion Research And Development Foundation, Ltd. | Variable lenslet array |
US20040105485A1 (en) * | 2002-07-29 | 2004-06-03 | Unaxis Usa, Inc. | Temperature compensation for acousto-optc devices |
JP4202156B2 (ja) * | 2003-02-28 | 2008-12-24 | 財団法人電力中央研究所 | 撮影装置およびこれを利用するレーザー干渉縞計測装置とレーザー波面計測装置、並びにレーザー干渉縞計測方法とレーザー波面計測方法 |
FR2897426B1 (fr) * | 2006-02-16 | 2012-07-27 | Onera (Off Nat Aerospatiale) | Procede d'analyse de surface d'onde par interferometrie multilaterale a difference de frequences |
US7595929B1 (en) | 2006-05-30 | 2009-09-29 | Crystal Technology, Inc. | Grooved backside acoustic termination of acousto-optic devices |
GB0617945D0 (en) * | 2006-09-12 | 2006-10-18 | Ucl Business Plc | Imaging apparatus and methods |
US7903699B2 (en) * | 2007-05-24 | 2011-03-08 | Coherent, Inc. | Acousto-optically Q-switched CO2 laser |
US8687267B2 (en) * | 2009-02-24 | 2014-04-01 | Peiliang GAO | Optical wavelength tunable filter |
NL2004400A (en) * | 2009-04-09 | 2010-10-12 | Asml Holding Nv | Tunable wavelength illumination system. |
GB0907277D0 (en) * | 2009-04-29 | 2009-06-10 | Univ Kent Kanterbury | Method for depth resolved wavefront sensing, depth resolved wavefront sensors and method and apparatus for optical imaging |
TWI594828B (zh) * | 2009-05-28 | 2017-08-11 | 伊雷克托科學工業股份有限公司 | 應用於雷射處理工件中的特徵的聲光偏轉器及相關雷射處理方法 |
WO2011082065A2 (en) * | 2009-12-30 | 2011-07-07 | Gsi Group Corporation | Link processing with high speed beam deflection |
CN101968567B (zh) * | 2010-09-30 | 2012-06-06 | 华中科技大学 | 无波前传感器的新型自适应光学方法及*** |
US8716677B2 (en) * | 2011-01-19 | 2014-05-06 | Howard Hughes Medical Institute | Wavefront correction of light beam |
WO2012116226A2 (en) * | 2011-02-25 | 2012-08-30 | Gsi Group Corporation | Predictive link processing |
US8848277B2 (en) * | 2012-05-31 | 2014-09-30 | Asml Netherlands B.V. | System and method for protecting a seed laser in an EUV light source with a Bragg AOM |
US8791440B1 (en) * | 2013-03-14 | 2014-07-29 | Asml Netherlands B.V. | Target for extreme ultraviolet light source |
US9018579B2 (en) * | 2013-05-07 | 2015-04-28 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Atom interferometry having spatially resolved phase |
JP6364002B2 (ja) * | 2013-05-31 | 2018-07-25 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成システム |
US9832855B2 (en) | 2015-10-01 | 2017-11-28 | Asml Netherlands B.V. | Optical isolation module |
HUP1500264A2 (en) * | 2015-06-01 | 2018-05-02 | Femtonics Kft | Layered structured acousto-optical deflector and method for optical beam deflection with deflectior |
-
2016
- 2016-11-11 US US15/349,600 patent/US10401704B2/en active Active
-
2017
- 2017-10-17 KR KR1020197015751A patent/KR102435367B1/ko active IP Right Grant
- 2017-10-17 JP JP2019515280A patent/JP7153641B2/ja active Active
- 2017-10-17 CN CN201780069369.XA patent/CN109923384B/zh active Active
- 2017-10-17 WO PCT/US2017/056870 patent/WO2018089177A1/en active Application Filing
- 2017-10-30 NL NL2019824A patent/NL2019824A/en unknown
- 2017-11-02 TW TW106137941A patent/TWI754692B/zh active
-
2022
- 2022-10-03 JP JP2022159242A patent/JP2022183194A/ja not_active Ceased
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011124586A (ja) * | 1999-11-17 | 2011-06-23 | Micronic Laser Systems Ab | マイクロリソグラフィ描画におけるビーム位置決め |
JP2013534643A (ja) * | 2010-06-09 | 2013-09-05 | ライカ マイクロシステムス ツェーエムエス ゲーエムベーハー | 音響光学システム、顕微鏡、および音響光学システムの使用方法 |
JP2014517929A (ja) * | 2011-04-20 | 2014-07-24 | ユーシーエル ビジネス ピーエルシー | 音響光学偏向器を制御するための方法及び装置 |
JP2013229553A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-11-07 | Gigaphoton Inc | レーザ装置及び極端紫外光生成装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN109923384B (zh) | 2021-11-02 |
WO2018089177A1 (en) | 2018-05-17 |
CN109923384A (zh) | 2019-06-21 |
NL2019824A (en) | 2018-05-23 |
KR20190084069A (ko) | 2019-07-15 |
JP2022183194A (ja) | 2022-12-08 |
US10401704B2 (en) | 2019-09-03 |
TWI754692B (zh) | 2022-02-11 |
JP7153641B2 (ja) | 2022-10-14 |
US20180136541A1 (en) | 2018-05-17 |
KR102435367B1 (ko) | 2022-08-22 |
TW201830159A (zh) | 2018-08-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7153641B2 (ja) | 光学システムにおける物理的効果の補償 | |
JP7366979B2 (ja) | 光学アイソレーションモジュール | |
US9167679B2 (en) | Beam position control for an extreme ultraviolet light source | |
US11096266B2 (en) | Target expansion rate control in an extreme ultraviolet light source | |
KR102631831B1 (ko) | 극자외 광원 내에서의 타겟 팽창 속도 제어 방법 | |
US9713240B2 (en) | Stabilizing EUV light power in an extreme ultraviolet light source | |
KR102214861B1 (ko) | 극자외 광원을 위한 빔 위치 제어 | |
US11054305B2 (en) | Method and device for beam analysis | |
US20220350181A1 (en) | Optical modulator | |
TWI825198B (zh) | 極紫外線(euv)光源及用於euv光源之設備、用於形成光學脈衝之設備及調整光學脈衝之性質的方法 | |
CN112197712B (zh) | 一种基于z扫描的光束束腰半径测量方法及*** | |
Vorontsov et al. | Coherent beam combining and atmospheric compensation with adaptive fiber array systems | |
Gatz et al. | Mikhail Vorontsov, Thomas Weyrauch, Svetlana Lachinova, Thomas Ryan, Andrew Deck |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190520 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201012 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210714 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210719 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211018 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220301 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220530 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220905 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221003 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7153641 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |