JP2019200383A - 共振器構造体、撮像素子、および電子機器 - Google Patents

共振器構造体、撮像素子、および電子機器 Download PDF

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Abstract

【課題】高精度の分光スペクトルが得られる共振器構造体を提供する。【解決手段】この共振器構造体は、第1の平均屈折率を有する半導体層と、第1の平均屈折率よりも低い第2の平均屈折率を有する第1の共振器と、第2の平均屈折率よりも高い第3の平均屈折率を有する第1の反射層と、第2の共振器と、第2の反射層とが順に積層されて特定の波長域の光を透過させる積層構造を含むものである。【選択図】図2

Description

本開示は、共振器を有する共振器構造体、ならびにこれを備えた撮像素子および電子機器に関する。
これまでに、厚さの異なるファブリペロ共振器構造を複数設けることにより複数の波長域の光を選択的に透過させることのできる多層干渉フィルタを有する固体撮像装置が提案されている(例えば特許文献1)。
特開2006−351800号公報
このようなマルチ分光を行うことのできる撮像素子は、精度の高い分光スペクトルを獲得しつつ、量産性に優れた構造であることが好ましい。
したがって、簡素な構造でありながら、高精度の分光スペクトルが得られる共振器構造体、ならびにそれを備えた撮像素子および電子機器が望まれる。
本開示の一実施形態としての共振器構造体は、第1の平均屈折率を有する半導体層と、第1の平均屈折率よりも低い第2の平均屈折率を有する第1の共振器と、第2の平均屈折率よりも高い第3の平均屈折率を有する第1の反射層と、第2の共振器と、第2の反射層とが順に積層されて特定の波長域の光を透過させる積層構造を含むものである。また、本開示の一実施形態としての撮像素子および電子機器は、上記共振器構造体を備えたものである。
本開示の一実施形態としての共振器構造体、撮像素子および電子機器によれば、簡素な構造でありながら、高精度の分光スペクトルを得ることができる。
なお、本開示の効果はこれに限定されるものではなく、以下に記載のいずれの効果であってもよい。
本開示の第1の実施の形態に係る撮像素子の全体構成例を表す断面模式図である。 図1に示した撮像素子の要部を拡大して表す断面模式図である。 図1に示した撮像素子の共振器フィルタによる分光の周期的な配置の一例を示す図である。 図1に示した撮像素子の製造方法の一工程を表す断面図である。 図4Aに続く一工程を表す断面図である。 図1に示した共振器構造体を透過する光の透過率における、第1の共振器の厚さ依存性の一例を表す特性図である。 図1に示した共振器構造体における分光特性の一例を表す特性図である。 本開示の第1の実施の形態の第1の変形例に係る撮像素子の全体構成例を表す断面模式図である。 図7に示した撮像素子の要部を拡大して表す断面模式図である。 図7に示した共振器構造体における分光特性を表す特性図である。 図7に示した共振器構造体における分光特性を表す他の特性図である。 本開示の第1の実施の形態の第2の変形例に係る撮像素子の全体構成例を表す断面模式図である。 図11に示した撮像素子の要部を表す平面模式図である。 本開示の第2の実施の形態に係るカメラモジュールの全体構成例を表す平面模式図である。 図13に示した撮像素子の要部を拡大して表す断面模式図である。 植物等の育成状態による反射率の分光特性を表す特性図である。 人肌の反射率の分光スペクトル特性を示す図である。 電子機器に搭載される撮像装置の構成例を示すブロック図である。 内視鏡手術システムの概略的な構成の一例を示す図である。 カメラヘッド及びCCUの機能構成の一例を示すブロック図である。 体内情報取得システムの概略的な構成の一例を示すブロック図である。 車両制御システムの概略的な構成の一例を示すブロック図である。 車外情報検出部及び撮像部の設置位置の一例を示す説明図である。 本開示の第1の実施の形態の第3の変形例に係る撮像素子の全体構成例を表す断面模式図である。 本開示の第2の実施の形態の第1の変形例に係る撮像素子の全体構成例を表す断面模式図である。
以下、本開示の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
1.第1の実施の形態:共振器構造体を有する撮像素子の例
2.第1の実施の形態の変形例:共振器構造体を有する撮像素子の変形例
3.第2の実施の形態:複数の撮像素子を備えたカメラモジュールの例
4.撮像装置の適用例
5.内視鏡手術システムへの応用例
6.体内情報取得システムへの応用例
7.移動体への応用例
8.その他の変形例
<1.第1の実施の形態:撮像素子の例>
[撮像素子1の構成]
図1は、本開示の第1の実施の形態としての撮像素子1の全体構成例を表した断面模式図である。図2は、撮像素子1を構成する複数の画素22のうちの任意の1つの画素22を拡大して表した断面模式図である。撮像素子1は、例えば可視光分光型のCOMSイメージセンサである。
図1に示したように、撮像素子1は、光電変換部としてのフォトダイオードPDと、そのフォトダイオードPDに向けて特定の波長域の光を透過させる共振器構造体10とをそれぞれ有する複数の画素22(22−1〜22−4)を備えている。図1では、4つの画素22−1〜22−4を例示しているが、撮像素子1が有する画素22の数はこれに限定されるものではない。
フォトダイオードPDは、例えば半導体基板12に埋設されている。半導体基板12の表面12Aには、複数の画素22の各々の駆動に用いられるMOSFETなどを含む駆動回路を構成する配線11Aを含む配線層11が設けられている。半導体基板12は、共振器構造体10を構成する一構成要素であり、第1の平均屈折率N1を有する。半導体基板12は、例えばSi(シリコン)などの半導体材料からなる。第1の平均屈折率N1は、例えば4程度である。なお、本出願でいう「平均屈折率」とは、その対象とする物体、例えば半導体基板12が異なる屈折率を各々有する2種以上の構成要素からなる場合に、体積比で平均化した屈折率をいう。例えば、半導体基板12が、第1の屈折率n1を有する第1の材料と第2の屈折率n2を有する第2の材料との体積比がV1:V2の混合物である場合、平均屈折率Nは、
N=(V1*n1+V2*n2)/(V1+V2)
で求められる値である。対象とする物体が3種以上の異なる屈折率を各々有する構成要素からなる場合も同様である。また、対象とする物体が1種の構成要素のみからなる場合は、その構成要素の屈折率が平均屈折率Nとなる。
(共振器構造体10)
共振器構造体10は、半導体基板12と、その裏面12Bに設けられた積層構造とを有する。その積層構造は、半導体基板12の裏面12Bから順に、第1の共振器13と、第1の反射層14と、第2の共振器15と、第2の反射層16と、透明層17とが順に積層されたものである。ここで第1の共振器13は、第1の平均屈折率N1よりも低い第2の平均屈折率N2を有する。また、第1の反射層14は、第2の平均屈折率N2よりも高い第3の平均屈折率N3を有する。
第1の共振器13は、複数の膜が積層された多層膜構造を含むものである。それら複数の膜は、珪素酸化物、珪素窒化物、タンタル酸化物およびアルミニウム酸化物のうちの少なくとも1種を含む材料からなる。具体的には、第1の共振器13は、例えば二酸化珪素(SiO2)からなる第1の膜131と、窒化珪素(SiN)からなる第2の膜132と、二酸化珪素(SiO2)からなる第3の膜133とが裏面12B側から順に積層されたものである。第1の共振器13の厚さ13Tは、例えば400nm以下であることが望ましい。
第1の反射層14と、第2の共振器15と、第2の反射層16とは、いわゆるファブリペロ共振器構造を形成している。このため、第1の反射層14と、第2の共振器15と、第2の反射層16とを透過する光Lの透過率に波長選択性が現れることとなる。第1の反射層14および第2の反射層16は、いずれも例えば多結晶シリコン(Si)からなり、反射膜として機能する。第1の反射層14の厚さおよび第2の反射層16の厚さは、いずれも50nm以下であるとよい。多結晶シリコン(Si)は短波長域での光吸収係数が大きく透過光の透過率が低下する。このため、第1の反射層14の厚さおよび第2の反射層16の厚さをいずれも50nm以下、例えば30nm程度に薄くすることにより、第1の反射層14および第2の反射層16での光吸収を最小限度に抑制できる。第2の共振器15は、例えば二酸化珪素(SiO2)からなる。この撮像素子1では、第1の反射層14と、第2の反射層16と、半導体基板12とを除き、他は単体シリコン以外の材料からなるとよい。この撮像素子1では、例えば図3に示した画素配列の模式図のように、互いに異なる厚さの第2の共振器15を含む複数の画素22が積層面内(積層方向であるZ軸方向と直交するXY面内)において周期配列されている。なお、図3では、それぞれ異なる厚さ15Tを有する第2の共振器15を含む画素22−1〜22−16を周期配列した例を表している。図1では、画素22−1〜22−16のうち、厚さ15T1〜15T4をそれぞれ有する第2の共振器15を含む画素22−1〜22−4を例示している。すなわち、画素22−1〜22−16を1周期分の画素群22Gとして、積層面内において複数の画素群22Gを繰り返し配列するようにしている。ここで、第1の反射層14と第2の共振器15と第2の反射層16とが形成するファブリペロ共振器構造における光Lに対する波長選択性は、第2の共振器15の厚さ15Tに依存する。このため、第2の共振器15の厚さが異なる複数の画素22が図3のように周期配列されていることにより、撮像素子1ではマルチ分光が可能となっている。
透明層17は、例えば二酸化珪素(SiO2)を主たる構成材料として有する透明体である。複数の画素22における透明層17の表面17Sは、互いに実質的に等しい高さ位置にある。
隣り合う画素22同士の境界近傍には、遮光層18,19がそれぞれ設けられているとよい。遮光層18は、例えば第1の共振器13のうちの第3の膜133に埋設されている。また、遮光層18は、例えば半導体基板12の裏面12B近傍に設けられている。隣り合う画素22同士の間での光漏れを防止し、混色を回避するためである。
透明層17の表面17S上には、例えばモス・アイ(Moth Eye)構造21が設けられている。透明層17の表面17Sにおける表面反射を抑制し、スペクトル振動を低減するためである。モス・アイ構造21は、波長λ以下のピッチ、特に1/3×λ以下のピッチで表面17S上に配列された、先が尖がった形状の突起物を複数有する構造である。モス・アイ構造21は、以下のように形成することができる。まず、例えば図4Aに示したように、透明層17の表面17Sを覆うように、例えばスピンコート法により、均質な厚さを有する透明な紫外線硬化樹脂層21Zを塗布する。一方で、所定の凹凸パターン23Pが形成されたモールド23を用意しておく。モールド23は、例えばSi基板などの紫外線を透過する基板に、例えば電子線リソグラフィにより形成したレジストパターンを用いてドライエッチングすることにより微細な凹凸パターン23Pを形成したものである。次に、図4Bに示したように、凹凸パターン23Pを紫外線硬化樹脂層21Zに押し当てる。さらに、その状態、すなわち、凹凸パターン23Pを紫外線硬化樹脂層21Zに押し当てた状態を維持しつつ、所定時間に亘って所定の強度の紫外線UVを紫外線硬化樹脂層21Zに照射し、紫外線硬化樹脂層21Zを硬化させる。紫外線硬化樹脂層21Zが硬化したのち、モールド23を除去することにより、モス・アイ構造21が得られる。
[撮像素子1の作用]
撮像素子1では、例えば第1の共振器13における共振器長、すなわち、第1の共振器13のZ軸方向の寸法である厚さ13T(図2参照)を変えることにより、共振器構造体10を透過する透過光のピーク波長の形状を変えることができる。既に述べたように、第1の共振器13は、フォトダイオードPDを埋設する半導体基板12と、ファブリペロ共振器構造を形成する第1の反射層14との間に設けられている。第1の共振器13の第2の平均屈折率N2は、半導体基板12における第1の平均屈折率N1よりも低く、かつ、第1の反射層14における第3の平均屈折率N3よりも低い。このため、第1の共振器13は干渉性を発現し、共振器構造体10における透過光に対する波長選択性が向上する。半導体基板12および第1の反射層14の構成材料としてはSi(珪素)が好適である。Si(珪素)の平均屈折率は約4である。したがって、第1の共振器13の第2の平均屈折率N2は、1以上4以下であることが望ましい。第1の共振器13における十分な干渉効果が得られるからである。第1の共振器13の第2の平均屈折率N2は特に1以上2以下であるとよい。第1の共振器13における干渉効果がよりいっそう向上するからである。
図5は、共振器構造体10を透過する光の透過率Tにおける、第1の共振器13の厚さ13T依存性の一例を表している。図5では、左上のグラフが厚さ13T=1100nmの場合を表し、右上のグラフが厚さ13T=1100nmの場合を表し、左下のグラフが厚さ13T=400nmの場合を表し、右下のグラフが厚さ13T=200nmの場合を表している。なお、図5は、表面17Sから共振器構造体10へ入射した光Lが共振器構造体10を透過する際の分光スペクトルを有効フレネル係数法によりシミュレーションした結果を表している。また、図5は、いずれの場合も、半導体基板12はSi(珪素)からなり、第1の膜131はSiO2からなり、第2の膜132はSiO2からなり、第3の膜133はSiO2からなり、第1の反射層14は厚さ31nmの多結晶シリコン(Si)からなり、第2の共振器15は厚さ147nmのSiO2からなり、第2の反射層16は厚さ31nmの多結晶シリコン(Si)からなり、透明層17は厚さ100nmのSiO2からなる場合に相当する。図5に示したように、第1の共振器13の厚さ13Tが400nm以下であれば、透過する光Lの透過率分布において400nm〜500nmの波長域に現れる単峰性ピークが得られ、マルチ分光を行う上で好適な波長選択性が得られることがわかる。
撮像素子1では、例えば第2の共振器15における共振器長、すなわち、第2の共振器15のZ軸方向の寸法である厚さ15T(図2参照)を変えることにより、共振器構造体10を透過する可視光のピーク波長の位置を変えることができる。具体的には、撮像素子1では、例えば厚さ15Tを147nmから215nmの範囲において変化させることにより、青色光、緑色光および赤色光への分光が可能である。
図6は、共振器構造体10を透過する光Lの透過率Tにおける、第2の共振器15の厚さ15T依存性の一例を表している。図6では、曲線R61が厚さ15T=147nmの場合を表し、曲線R62が厚さ15T=180nmの場合を表し、曲線R63が厚さ15T=215nmの場合を表している。なお、図6は、半導体基板12はSi(珪素)からなり、第1の膜131は厚さ10nmのSiO2からなり、第2の膜132は厚さ56nmのSiO2からなり、第3の膜133は厚さ20nmのSiO2からなり、第1の反射層14は厚さ31nmの多結晶シリコン(Si)からなり、第2の共振器15はSiO2からなり、第2の反射層16は厚さ31nmの多結晶シリコン(Si)からなり、透明層17は厚さ100nmのSiO2からなる場合に対応する。図6に示したように、第2の共振器15の厚さ15Tを変化させることにより、例えば青、緑および赤の3色についての分光が可能である。また、各ピークの半値幅も50nm以下の狭い幅に抑えることができる。したがって、撮像素子1では、図3に示したように、異なる厚さ15Tを有する第2の共振器15を含む画素22−1〜22−15を周期配列することにより、マルチ分光が可能となっている。
[撮像素子1の効果]
このように、撮像素子1の共振器構造体10は、半導体基板12と、第1の共振器13と、第1の反射層14と、第2の共振器15と、第2の反射層16とが順に積層されて特定の波長域の光Lを透過させるものである。第1の共振器13は、半導体基板12における第1の平均屈折率N1および第1の反射層14における第3の平均屈折率N3の双方よりも低い第2の平均屈折率N2を有する。このため、共振器構造体10および撮像素子1は、比較的層数の少ない簡素な構成でありながら、高精度の分光スペクトルが得られる。
撮像素子1では、共振器構造体10のうち、例えば、第1の共振器13から見て半導体基板12と反対側に設けられた第2の共振器15の厚さ15Tに依存して、透過する光Lの強度のピーク波長が変化する。撮像素子1では、この性質を利用して、異なる厚さ15Tを有する複数の共振器構造体10を含む画素22を周期配列するようにしたので、マルチ分光を行うことができる。
特に、共振器構造体10では、第1の共振器13の厚さ13Tが400nm以下とすることにより、透過する光Lの透過率分布において400nm〜500nmの波長域に現れる単峰性ピークが得られ、マルチ分光を行う上で好適な波長選択性が得られる。
また、共振器構造体10では、第1の反射層14の厚さおよび第2の反射層16の厚さをそれぞれ50nm以下とすることにより、第1の反射層14および第2の反射層16での光吸収を最小限度に抑制できる。
<2.第1の実施の形態の変形例:撮像素子の変形例>
(2.1 第1の変形例)
[撮像素子1Aの構成]
図7は、本開示の第1の実施の形態の第1の変形例としての撮像素子1Aの全体構成例を表した断面模式図である。図8は、撮像素子1Aを構成する複数の画素22のうちの任意の1つの画素22を拡大して表した断面模式図である。撮像素子1Aは、例えば赤外光分光型のCOMSイメージセンサである。
上記第1の実施の形態における撮像素子1では、3層構造の第1の共振器13を例示して説明した。これに対し、本変形例としての撮像素子1Aは、4層構造の第1の共振器13Aを含む共振器構造体10Aを有するものである。具体的には、共振器構造体10Aにおける第1の共振器13Aは、第1の膜131と、第2の膜132と、第3の膜133と、第4の膜134とが裏面12B側から順に積層されたものである。第1の膜131および第4の膜134は、いずれも、例えば二酸化珪素(SiO2)からなる。第2の膜132は、例えば酸化アルミニウム(AlO)からなる。第3の膜133は、例えば酸化タンタル(TaO)からなる。第1の共振器13Aの厚さ13ATは、例えば400nm以下であることが望ましい。第1の共振器13Aは、半導体基板12における第1の平均屈折率N1および第1の反射層14における第3の平均屈折率N3の双方よりも低い第2の平均屈折率N2を有する。
また、撮像素子1Aは、透明層17の表面17S上に、モス・アイ構造21の代わりに可視光カットフィルタ24を有している。
これらの点を除き、変形例1としての撮像素子1Aは、撮像素子1と実質的に同じ構成を有する。
[撮像素子1Aの作用]
撮像素子1Aにおける共振器構造体10Aは、例えば全体の厚さが1μm以下であり、混色が十分に抑制されるものである。さらに、第2の共振器15の厚さ15Tを例えば250nmから350nmの範囲において変化させることにより、赤外光の分光を行うことができる。
図9は、共振器構造体10Aを透過する光Lの透過率Tにおける、第2の共振器15の厚さ15T依存性の一例を表す特性図である。図9では、曲線R91が厚さ15T=250nmの場合を表し、曲線R92が厚さ15T=275nmの場合を表し、曲線R93が厚さ15T=300nmの場合を表し、曲線R94が厚さ15T=325nmの場合を表し、曲線R95が厚さ15T=350nmの場合を表している。なお、図9は、半導体基板12はSi(珪素)からなり、第1の膜131は厚さ1nmのSiO2からなり、第2の膜132は厚さ7nmのAlOからなり、第3の膜133は厚さ54nmのTaOからなり、第4の膜134は厚さ20nmのSiO2からなり、第1の反射層14は厚さ31nmの多結晶シリコン(Si)からなり、第2の共振器15はSiO2からなり、第2の反射層16は厚さ31nmの多結晶シリコン(Si)からなり、透明層17は厚さ110nmのSiO2からなる場合に対応する。
また、撮像素子1Aにおける共振器構造体10Aでは、高次モードのファブリペロ構造として、第2の共振器15の厚さ15Tを例えば500nmから625nmの範囲において変化させることにより、各ピークの半値幅の狭い分光スペクトルを得ることができる。
図10は、共振器構造体10Aを透過する光Lの透過率Tにおける、第2の共振器15の厚さ15T依存性の一例を表す他の特性図である。図10では、曲線R101が厚さ15T=500nmの場合を表し、曲線R102が厚さ15T=525nmの場合を表し、曲線R103が厚さ15T=550nmの場合を表し、曲線R104が厚さ15T=575nmの場合を表し、曲線R105が厚さ15T=600nmの場合を表し、曲線R106が厚さ15T=625nmの場合を表し、曲線R107が厚さ15T=650nmの場合を表し、曲線R108が厚さ15T=675nmの場合を表している。なお、図10は、半導体基板12はSi(珪素)からなり、第1の膜131は厚さ1nmのSiO2からなり、第2の膜132は厚さ7nmのAlOからなり、第3の膜133は厚さ54nmのTaOからなり、第4の膜134は厚さ20nmのSiO2からなり、第1の反射層14は厚さ31nmの多結晶シリコン(Si)からなり、第2の共振器15はSiO2からなり、第2の反射層16は厚さ31nmの多結晶シリコン(Si)からなり、透明層17は厚さ110nmのSiO2からなる場合に対応する。
[撮像素子1Aの効果]
図9および図10に示したように、第2の共振器15の厚さ15Tを変化させることにより、赤外領域において例えば5つの異なるピーク波長を有する光に分光が可能である。なお、共振器構造体10Aにおける分光スペクトルには可視光のピークも含まれる。このため、共振器構造体10Aに入射する光Lのうちの可視光領域R24の成分を可視光カットフィルタ24により除去することで、撮像素子1Aでは赤外領域のみの分光スペクトルを得ることができる。
また、第1の共振器13Aは、半導体基板12における第1の平均屈折率N1および第1の反射層14における第3の平均屈折率N3の双方よりも低い第2の平均屈折率N2を有する。このため、共振器構造体10Aおよび撮像素子1Aは、簡素な構造でありながら、高精度の分光スペクトルが得られる。
(2.2 第2の変形例)
[撮像素子1Bの構成]
図11は、本開示の第1の実施の形態の第2の変形例としての撮像素子1Bの全体構成例を表した断面模式図である。図12は、撮像素子1Bを構成する共振器構造体10Bのうちの、第2の共振器15の構成例を模式的に表す平面図である。
上記第1の実施の形態における撮像素子1では、第2の共振器15の厚さ15Tが異なる複数の画素を周期配列することにより、各画素22を透過する光Lの強度のピーク波長を変化させ、マルチ分光を行うようにした。これに対し、本変形例としての撮像素子1Bでは、複数の画素22における共振器長、すなわち第2の共振器15の厚さ15Tを一定にしつつ、各画素22の第2の共振器15において、画素22ごとに異なる微細構造体を形成するようにした。具体的には、第2の共振器15が、第1の屈折率を有する第1の部分151と、積層面内(XY面内)において第1の部分151に分散配置されると共に第2の屈折率を有する、微細構造体としての第2の部分152とを含むようにした。これにより第2の共振器15は、積層面内において屈折率分布を有するようにした。なお、ここでいう屈折率分布を有する、とは、第2の共振器15が画素22ごとに異なる実効屈折率を有する、という意味である。ここで、第1の部分151は、例えばSi34からなり、第2の部分152は、例えばSiO2からなる。図12では、第2の共振器15における第1の部分151と第2の部分152との存在比率が互いに異なる16種類の画素22−1〜22−16がマトリクス状に周期配列された状態を例示している。
[撮像素子1Bの作用効果]
第1の実施の形態の第2の変形例としての撮像素子1Bにおいても、16種類の異なるピーク波長を有する分光スペクトルを得ることができる。
<3.第2の実施の形態:カメラモジュールの例>
[カメラモジュール2の構成]
図13は、本開示の第2の実施の形態としてのカメラモジュール2の全体構成例を表した平面模式図である。図14は、カメラモジュール2を構成する複数の撮像素子1C(1C1〜1C9)のうちの任意の1つを拡大して表した断面模式図である。撮像素子1Cは、例えば可視光分光型のCOMSイメージセンサである。
このカメラモジュール2では、XY面内において例えば3行3列で配列された9つの撮像素子1C1〜1C9を備えている。撮像素子1C1〜1C9は、いずれも、モス・アイ構造21の代わりに透明層17の表面17S上に設けられた結像レンズ25をそれぞれ有している。ここでは、撮像素子1C1〜1C9の各々における複数の画素22に対し、1つの結像レンズ25が共通に設けられている。結像レンズ25は、共振器構造体10Cへ向かう光L(L1〜L9)に屈折力を与えるものである。なお、撮像素子1C1〜1C9における各結像レンズ25の形状や屈折力はいずれも同一であってもよいし互いに異なっていてもよい。この点を除き、撮像素子1C(1C1〜1C9)は、上記第1の実施の形態における撮像素子1と実質的に同じ構成を有する。
撮像素子1C1〜1C9における共振器構造体10Cは、ピーク波長の異なる光L、すなわち、波長λ1〜λ9を有する光L1〜L9をそれぞれ選択的に透過させるものである。したがって撮像素子1C1〜1C9は、波長λ1〜λ9を有する光L1〜L9をそれぞれ選択的に取得するものである。
[カメラモジュール2の作用効果]
このように、カメラモジュール2は、それぞれ取得する波長の異なる複数の撮像素子1C1〜1C9を備えるものである。各撮像素子1C1〜1C9は、上記第1の実施の形態で説明したように、比較的層数の少ない簡素な構成を有するので、カメラモジュール2全体としても簡素化、薄型化を図ることができる。よって、カメラモジュール2は、簡易な製造プロセスにより製造でき、量産化に資する。また、共振器構造体10Cにおいて高精度の分光スペクトルが得られるので、カメラモジュール2における撮像性能も向上する。
<4.撮像装置の適用例>
続いて図15および図16を参照して、撮像素子1が適用可能なアプリケーションについて説明する。
[4.1 農作物等の育成状態観測への適用例]
撮像素子1は、農作物や植物(以下、植物等という。)の育成などの正規化差植生指数(NDVI:Normalized Difference Vegetation Index)を測定するためのマルチ分光またはハイパースペクトル分光を行う分光装置に用いることができる。図15は、植物等の育成状態による反射率の分光特性を示すものである。
図15に示したように、波長600nm〜800nmの範囲において、植物等は、その育成状態によって異なる反射率分布を有している。すなわち、植物等が健康であるか、弱った状態であるか、枯れた状態であるかによって異なる反射率分布を示している。この反射率分布は主として植物等の葉における反射光によるものである。図15の反射率分布の結果から、少なくとも波長600nm〜800nmを含む波長域において、植物等からの2以上の光についての分光特性を取得することにより、植物等の育成状態(植生状態)を感知できることができる。
例えば、波長600nm〜700nmの範囲の波長域を検出可能な撮像素子1と、波長700nm〜800nmの範囲の波長域を検出可能な他の撮像素子1との2つを用いて、2つの信号値の関係から植生状態を感知することができる。または、波長400nm〜600nmの範囲の波長域を検出可能な撮像素子1と、波長800nm〜1000nmの範囲の波長域を検出可能な他の撮像素子1との2つを用いて、2つの信号値の関係から植生状態を感知することができる。さらに、検出精度の向上を図るために、3つ以上の撮像素子1を用いて、3つ以上の複数の波長域を検出して、それらの信号値の関係から植生状態を感知してもよい。
このような波長域を検出可能な撮像素子1を、例えば、小型無人航空機(いわゆるドローン)に搭載して、上空から農作物の育成状態を観測して、作物の育成を管理し、制御することができる。
[4.2 生体認証への適用例]
撮像素子1は、例えば、生体認証において人肌の反射率を測定するために、光の3原色以上の多帯域で複数の分光が行われるマルチ分光またはハイパースペクトル分光を行う分光装置に用いることができる。図16は、人肌の反射率の分光スペクトル特性を示すものである。
図16に示したように、特に波長450nm〜650nmの範囲において反射率が大きく変化することが判る。これらの変化から、被写体が人肌かどうかの認証が可能となる。
例えば、3つの撮像素子1を用いて、波長450nmnm、波長550nm、および波長650nmの3分光を検知することにより、被写体が人肌かどうかの認証を可能とすることができる。例えば、被写体が人肌でない別の材料の場合、反射率の分光特性が変わるため、人肌と区別することができる。
したがって、このような波長域を検出可能な撮像素子1を、例えば、生体認証装置に搭載することで、顔や指紋、虹彩などの偽造防止に応用することができ、より精度の高い生体認証を可能とすることができる。
[4.3 電子機器への適用例]
上述したような撮像素子1は、例えば、デジタルスチルカメラやデジタルビデオカメラなどの撮像システム、撮像機能を備えた携帯電話機、または、撮像機能を備えた他の機器といった各種の電子機器に適用することができる。
図17は、電子機器に搭載される撮像装置101の構成例を示すブロック図である。図17に示したように、撮像装置101は、光学系102、撮像素子103、信号処理回路104、モニタ105、およびメモリ106を備えて構成され、静止画像および動画像を撮像可能である。
光学系102は、1枚または複数枚のレンズを有して構成され、被写体からの像光(入射光)を撮像素子103に導き、撮像素子103の受光面(センサ部)に結像させる。
撮像素子103としては、上述した撮像素子1が適用される。撮像素子103には、光学系102を介して受光面に結像される像に応じて、一定期間、電子が蓄積される。そして、撮像素子103に蓄積された電子に応じた信号が信号処理回路104に供給される。
信号処理回路104は、撮像素子103から出力された画素信号に対して各種の信号処理を施す。信号処理回路104が信号処理を施すことにより得られた画像(画像データ)は、モニタ105に供給されて表示されたり、メモリ106に供給されて記憶(記録)されたりする。
このように構成されている撮像装置101では、上述した撮像素子1を適用することで、簡素な構成でありながら、より高精度の分光スペクトルが得られる。したがって、より高画質な画像を撮像することができる。
<5.内視鏡手術システムへの応用例>
本開示に係る技術(本技術)は、様々な製品へ応用することができる。例えば、本開示に係る技術は、内視鏡手術システムに適用されてもよい。
図18は、本開示に係る技術(本技術)が適用され得る内視鏡手術システムの概略的な構成の一例を示す図である。
図18では、術者(医師)11131が、内視鏡手術システム11000を用いて、患者ベッド11133上の患者11132に手術を行っている様子が図示されている。図示するように、内視鏡手術システム11000は、内視鏡11100と、気腹チューブ11111やエネルギー処置具11112等の、その他の術具11110と、内視鏡11100を支持する支持アーム装置11120と、内視鏡下手術のための各種の装置が搭載されたカート11200と、から構成される。
内視鏡11100は、先端から所定の長さの領域が患者11132の体腔内に挿入される鏡筒11101と、鏡筒11101の基端に接続されるカメラヘッド11102と、から構成される。図示する例では、硬性の鏡筒11101を有するいわゆる硬性鏡として構成される内視鏡11100を図示しているが、内視鏡11100は、軟性の鏡筒を有するいわゆる軟性鏡として構成されてもよい。
鏡筒11101の先端には、対物レンズが嵌め込まれた開口部が設けられている。内視鏡11100には光源装置11203が接続されており、当該光源装置11203によって生成された光が、鏡筒11101の内部に延設されるライトガイドによって当該鏡筒の先端まで導光され、対物レンズを介して患者11132の体腔内の観察対象に向かって照射される。なお、内視鏡11100は、直視鏡であってもよいし、斜視鏡又は側視鏡であってもよい。
カメラヘッド11102の内部には光学系及び撮像素子が設けられており、観察対象からの反射光(観察光)は当該光学系によって当該撮像素子に集光される。当該撮像素子によって観察光が光電変換され、観察光に対応する電気信号、すなわち観察像に対応する画像信号が生成される。当該画像信号は、RAWデータとしてカメラコントロールユニット(CCU: Camera Control Unit)11201に送信される。
CCU11201は、CPU(Central Processing Unit)やGPU(Graphics Processing Unit)等によって構成され、内視鏡11100及び表示装置11202の動作を統括的に制御する。さらに、CCU11201は、カメラヘッド11102から画像信号を受け取り、その画像信号に対して、例えば現像処理(デモザイク処理)等の、当該画像信号に基づく画像を表示するための各種の画像処理を施す。
表示装置11202は、CCU11201からの制御により、当該CCU11201によって画像処理が施された画像信号に基づく画像を表示する。
光源装置11203は、例えばLED(light emitting diode)等の光源から構成され、術部等を撮影する際の照射光を内視鏡11100に供給する。
入力装置11204は、内視鏡手術システム11000に対する入力インタフェースである。ユーザは、入力装置11204を介して、内視鏡手術システム11000に対して各種の情報の入力や指示入力を行うことができる。例えば、ユーザは、内視鏡11100による撮像条件(照射光の種類、倍率及び焦点距離等)を変更する旨の指示等を入力する。
処置具制御装置11205は、組織の焼灼、切開又は血管の封止等のためのエネルギー処置具11112の駆動を制御する。気腹装置11206は、内視鏡11100による視野の確保及び術者の作業空間の確保の目的で、患者11132の体腔を膨らめるために、気腹チューブ11111を介して当該体腔内にガスを送り込む。レコーダ11207は、手術に関する各種の情報を記録可能な装置である。プリンタ11208は、手術に関する各種の情報を、テキスト、画像又はグラフ等各種の形式で印刷可能な装置である。
なお、内視鏡11100に術部を撮影する際の照射光を供給する光源装置11203は、例えばLED、レーザ光源又はこれらの組み合わせによって構成される白色光源から構成することができる。RGBレーザ光源の組み合わせにより白色光源が構成される場合には、各色(各波長)の出力強度及び出力タイミングを高精度に制御することができるため、光源装置11203において撮像画像のホワイトバランスの調整を行うことができる。また、この場合には、RGBレーザ光源それぞれからのレーザ光を時分割で観察対象に照射し、その照射タイミングに同期してカメラヘッド11102の撮像素子の駆動を制御することにより、RGBそれぞれに対応した画像を時分割で撮像することも可能である。当該方法によれば、当該撮像素子にカラーフィルタを設けなくても、カラー画像を得ることができる。
また、光源装置11203は、出力する光の強度を所定の時間ごとに変更するようにその駆動が制御されてもよい。その光の強度の変更のタイミングに同期してカメラヘッド11102の撮像素子の駆動を制御して時分割で画像を取得し、その画像を合成することにより、いわゆる黒つぶれ及び白とびのない高ダイナミックレンジの画像を生成することができる。
また、光源装置11203は、特殊光観察に対応した所定の波長帯域の光を供給可能に構成されてもよい。特殊光観察では、例えば、体組織における光の吸収の波長依存性を利用して、通常の観察時における照射光(すなわち、白色光)に比べて狭帯域の光を照射することにより、粘膜表層の血管等の所定の組織を高コントラストで撮影する、いわゆる狭帯域光観察(Narrow Band Imaging)が行われる。あるいは、特殊光観察では、励起光を照射することにより発生する蛍光により画像を得る蛍光観察が行われてもよい。蛍光観察では、体組織に励起光を照射し当該体組織からの蛍光を観察すること(自家蛍光観察)、又はインドシアニングリーン(ICG)等の試薬を体組織に局注するとともに当該体組織にその試薬の蛍光波長に対応した励起光を照射し蛍光像を得ること等を行うことができる。光源装置11203は、このような特殊光観察に対応した狭帯域光及び/又は励起光を供給可能に構成され得る。
図19は、図18に示すカメラヘッド11102及びCCU11201の機能構成の一例を示すブロック図である。
カメラヘッド11102は、レンズユニット11401と、撮像部11402と、駆動部11403と、通信部11404と、カメラヘッド制御部11405と、を有する。CCU11201は、通信部11411と、画像処理部11412と、制御部11413と、を有する。カメラヘッド11102とCCU11201とは、伝送ケーブル11400によって互いに通信可能に接続されている。
レンズユニット11401は、鏡筒11101との接続部に設けられる光学系である。鏡筒11101の先端から取り込まれた観察光は、カメラヘッド11102まで導光され、当該レンズユニット11401に入射する。レンズユニット11401は、ズームレンズ及びフォーカスレンズを含む複数のレンズが組み合わされて構成される。
撮像部11402を構成する撮像素子は、1つ(いわゆる単板式)であってもよいし、複数(いわゆる多板式)であってもよい。撮像部11402が多板式で構成される場合には、例えば各撮像素子によってRGBそれぞれに対応する画像信号が生成され、それらが合成されることによりカラー画像が得られてもよい。あるいは、撮像部11402は、3D(dimensional)表示に対応する右目用及び左目用の画像信号をそれぞれ取得するための1対の撮像素子を有するように構成されてもよい。3D表示が行われることにより、術者11131は術部における生体組織の奥行きをより正確に把握することが可能になる。なお、撮像部11402が多板式で構成される場合には、各撮像素子に対応して、レンズユニット11401も複数系統設けられ得る。
また、撮像部11402は、必ずしもカメラヘッド11102に設けられなくてもよい。例えば、撮像部11402は、鏡筒11101の内部に、対物レンズの直後に設けられてもよい。
駆動部11403は、アクチュエータによって構成され、カメラヘッド制御部11405からの制御により、レンズユニット11401のズームレンズ及びフォーカスレンズを光軸に沿って所定の距離だけ移動させる。これにより、撮像部11402による撮像画像の倍率及び焦点が適宜調整され得る。
通信部11404は、CCU11201との間で各種の情報を送受信するための通信装置によって構成される。通信部11404は、撮像部11402から得た画像信号をRAWデータとして伝送ケーブル11400を介してCCU11201に送信する。
また、通信部11404は、CCU11201から、カメラヘッド11102の駆動を制御するための制御信号を受信し、カメラヘッド制御部11405に供給する。当該制御信号には、例えば、撮像画像のフレームレートを指定する旨の情報、撮像時の露出値を指定する旨の情報、並びに/又は撮像画像の倍率及び焦点を指定する旨の情報等、撮像条件に関する情報が含まれる。
なお、上記のフレームレートや露出値、倍率、焦点等の撮像条件は、ユーザによって適宜指定されてもよいし、取得された画像信号に基づいてCCU11201の制御部11413によって自動的に設定されてもよい。後者の場合には、いわゆるAE(Auto Exposure)機能、AF(Auto Focus)機能及びAWB(Auto White Balance)機能が内視鏡11100に搭載されていることになる。
カメラヘッド制御部11405は、通信部11404を介して受信したCCU11201からの制御信号に基づいて、カメラヘッド11102の駆動を制御する。
通信部11411は、カメラヘッド11102との間で各種の情報を送受信するための通信装置によって構成される。通信部11411は、カメラヘッド11102から、伝送ケーブル11400を介して送信される画像信号を受信する。
また、通信部11411は、カメラヘッド11102に対して、カメラヘッド11102の駆動を制御するための制御信号を送信する。画像信号や制御信号は、電気通信や光通信等によって送信することができる。
画像処理部11412は、カメラヘッド11102から送信されたRAWデータである画像信号に対して各種の画像処理を施す。
制御部11413は、内視鏡11100による術部等の撮像、及び、術部等の撮像により得られる撮像画像の表示に関する各種の制御を行う。例えば、制御部11413は、カメラヘッド11102の駆動を制御するための制御信号を生成する。
また、制御部11413は、画像処理部11412によって画像処理が施された画像信号に基づいて、術部等が映った撮像画像を表示装置11202に表示させる。この際、制御部11413は、各種の画像認識技術を用いて撮像画像内における各種の物体を認識してもよい。例えば、制御部11413は、撮像画像に含まれる物体のエッジの形状や色等を検出することにより、鉗子等の術具、特定の生体部位、出血、エネルギー処置具11112の使用時のミスト等を認識することができる。制御部11413は、表示装置11202に撮像画像を表示させる際に、その認識結果を用いて、各種の手術支援情報を当該術部の画像に重畳表示させてもよい。手術支援情報が重畳表示され、術者11131に提示されることにより、術者11131の負担を軽減することや、術者11131が確実に手術を進めることが可能になる。
カメラヘッド11102及びCCU11201を接続する伝送ケーブル11400は、電気信号の通信に対応した電気信号ケーブル、光通信に対応した光ファイバ、又はこれらの複合ケーブルである。
ここで、図示する例では、伝送ケーブル11400を用いて有線で通信が行われていたが、カメラヘッド11102とCCU11201との間の通信は無線で行われてもよい。
以上、本開示に係る技術が適用され得る内視鏡手術システムの一例について説明した。本開示に係る技術は、以上説明した構成のうち、カメラヘッド11102(の撮像部11402)、CCU11201(の画像処理部11412)等)に適用され得る。具体的には、例えば、撮像素子1は、撮像部10402に適用することができる。撮像部10402に本開示に係る技術を適用することにより、より鮮明な術部画像を得ることができるため、術者が術部を確実に確認することが可能になる。
なお、ここでは、一例として内視鏡手術システムについて説明したが、本開示に係る技術は、その他、例えば、顕微鏡手術システム等に適用されてもよい。
<6.体内情報取得システムへの応用例>
図20は、本開示に係る技術(本技術)が適用され得る、カプセル型内視鏡を用いた患者の体内情報取得システムの概略的な構成の一例を示すブロック図である。
体内情報取得システム10001は、カプセル型内視鏡10100と、外部制御装置10200とから構成される。
カプセル型内視鏡10100は、検査時に、患者によって飲み込まれる。カプセル型内視鏡10100は、撮像機能及び無線通信機能を有し、患者から自然排出されるまでの間、胃や腸等の臓器の内部を蠕動運動等によって移動しつつ、当該臓器の内部の画像(以下、体内画像ともいう)を所定の間隔で順次撮像し、その体内画像についての情報を体外の外部制御装置10200に順次無線送信する。
外部制御装置10200は、体内情報取得システム10001の動作を統括的に制御する。また、外部制御装置10200は、カプセル型内視鏡10100から送信されてくる体内画像についての情報を受信し、受信した体内画像についての情報に基づいて、表示装置(図示せず)に当該体内画像を表示するための画像データを生成する。
体内情報取得システム10001では、このようにして、カプセル型内視鏡10100が飲み込まれてから排出されるまでの間、患者の体内の様子を撮像した体内画像を随時得ることができる。
カプセル型内視鏡10100と外部制御装置10200の構成及び機能についてより詳細に説明する。
カプセル型内視鏡10100は、カプセル型の筐体10101を有し、その筐体10101内には、光源部10111、撮像部10112、画像処理部10113、無線通信部10114、給電部10115、電源部10116、及び制御部10117が収納されている。
光源部10111は、例えばLED(light emitting diode)等の光源から構成され、撮像部10112の撮像視野に対して光を照射する。
撮像部10112は、撮像素子、及び当該撮像素子の前段に設けられる複数のレンズからなる光学系から構成される。観察対象である体組織に照射された光の反射光(以下、観察光という)は、当該光学系によって集光され、当該撮像素子に入射する。撮像部10112では、撮像素子において、そこに入射した観察光が光電変換され、その観察光に対応する画像信号が生成される。撮像部10112によって生成された画像信号は、画像処理部10113に提供される。
画像処理部10113は、CPU(Central Processing Unit)やGPU(Graphics Processing Unit)等のプロセッサによって構成され、撮像部10112によって生成された画像信号に対して各種の信号処理を行う。画像処理部10113は、信号処理を施した画像信号を、RAWデータとして無線通信部10114に提供する。
無線通信部10114は、画像処理部10113によって信号処理が施された画像信号に対して変調処理等の所定の処理を行い、その画像信号を、アンテナ10114Aを介して外部制御装置10200に送信する。また、無線通信部10114は、外部制御装置10200から、カプセル型内視鏡10100の駆動制御に関する制御信号を、アンテナ10114Aを介して受信する。無線通信部10114は、外部制御装置10200から受信した制御信号を制御部10117に提供する。
給電部10115は、受電用のアンテナコイル、当該アンテナコイルに発生した電流から電力を再生する電力再生回路、及び昇圧回路等から構成される。給電部10115では、いわゆる非接触充電の原理を用いて電力が生成される。
電源部10116は、二次電池によって構成され、給電部10115によって生成された電力を蓄電する。図20では、図面が煩雑になることを避けるために、電源部10116からの電力の供給先を示す矢印等の図示を省略しているが、電源部10116に蓄電された電力は、光源部10111、撮像部10112、画像処理部10113、無線通信部10114、及び制御部10117に供給され、これらの駆動に用いられ得る。
制御部10117は、CPU等のプロセッサによって構成され、光源部10111、撮像部10112、画像処理部10113、無線通信部10114、及び、給電部10115の駆動を、外部制御装置10200から送信される制御信号に従って適宜制御する。
外部制御装置10200は、CPU、GPU等のプロセッサ、又はプロセッサとメモリ等の記憶素子が混載されたマイクロコンピュータ若しくは制御基板等で構成される。外部制御装置10200は、カプセル型内視鏡10100の制御部10117に対して制御信号を、アンテナ10200Aを介して送信することにより、カプセル型内視鏡10100の動作を制御する。カプセル型内視鏡10100では、例えば、外部制御装置10200からの制御信号により、光源部10111における観察対象に対する光の照射条件が変更され得る。また、外部制御装置10200からの制御信号により、撮像条件(例えば、撮像部10112におけるフレームレート、露出値等)が変更され得る。また、外部制御装置10200からの制御信号により、画像処理部10113における処理の内容や、無線通信部10114が画像信号を送信する条件(例えば、送信間隔、送信画像数等)が変更されてもよい。
また、外部制御装置10200は、カプセル型内視鏡10100から送信される画像信号に対して、各種の画像処理を施し、撮像された体内画像を表示装置に表示するための画像データを生成する。当該画像処理としては、例えば現像処理(デモザイク処理)、高画質化処理(帯域強調処理、超解像処理、NR(Noise reduction)処理及び/又は手ブレ補正処理等)、並びに/又は拡大処理(電子ズーム処理)等、各種の信号処理を行うことができる。外部制御装置10200は、表示装置の駆動を制御して、生成した画像データに基づいて撮像された体内画像を表示させる。あるいは、外部制御装置10200は、生成した画像データを記録装置(図示せず)に記録させたり、印刷装置(図示せず)に印刷出力させてもよい。
以上、本開示に係る技術が適用され得る体内情報取得システムの一例について説明した。本開示に係る技術は、以上説明した構成のうち、撮像部10112に適用され得る。具体的には、図1の撮像素子1は、撮像部10112に適用することができる。撮像部10112に本開示に係る技術を適用することにより、より鮮明な術部画像を得ることができるため、検査の精度が向上する。
<7.移動体への応用例>
本開示に係る技術(本技術)は、例えば自動車、電気自動車、ハイブリッド電気自動車、自動二輪車、自転車、パーソナルモビリティ、飛行機、ドローン、船舶、ロボット等のいずれかの種類の移動体に搭載される装置として実現されてもよい。
図21は、本開示に係る技術が適用され得る移動体制御システムの一例である車両制御システムの概略的な構成例を示すブロック図である。
車両制御システム12000は、通信ネットワーク12001を介して接続された複数の電子制御ユニットを備える。図21に示した例では、車両制御システム12000は、駆動系制御ユニット12010、ボディ系制御ユニット12020、車外情報検出ユニット12030、車内情報検出ユニット12040、及び統合制御ユニット12050を備える。また、統合制御ユニット12050の機能構成として、マイクロコンピュータ12051、音声画像出力部12052、及び車載ネットワークI/F(Interface)12053が図示されている。
駆動系制御ユニット12010は、各種プログラムにしたがって車両の駆動系に関連する装置の動作を制御する。例えば、駆動系制御ユニット12010は、内燃機関又は駆動用モータ等の車両の駆動力を発生させるための駆動力発生装置、駆動力を車輪に伝達するための駆動力伝達機構、車両の舵角を調節するステアリング機構、及び、車両の制動力を発生させる制動装置等の制御装置として機能する。
ボディ系制御ユニット12020は、各種プログラムにしたがって車体に装備された各種装置の動作を制御する。例えば、ボディ系制御ユニット12020は、キーレスエントリシステム、スマートキーシステム、パワーウィンドウ装置、あるいは、ヘッドランプ、バックランプ、ブレーキランプ、ウィンカー又はフォグランプ等の各種ランプの制御装置として機能する。この場合、ボディ系制御ユニット12020には、鍵を代替する携帯機から発信される電波又は各種スイッチの信号が入力され得る。ボディ系制御ユニット12020は、これらの電波又は信号の入力を受け付け、車両のドアロック装置、パワーウィンドウ装置、ランプ等を制御する。
車外情報検出ユニット12030は、車両制御システム12000を搭載した車両の外部の情報を検出する。例えば、車外情報検出ユニット12030には、撮像部12031が接続される。車外情報検出ユニット12030は、撮像部12031に車外の画像を撮像させるとともに、撮像された画像を受信する。車外情報検出ユニット12030は、受信した画像に基づいて、人、車、障害物、標識又は路面上の文字等の物体検出処理又は距離検出処理を行ってもよい。
撮像部12031は、光を受光し、その光の受光量に応じた電気信号を出力する光センサである。撮像部12031は、電気信号を画像として出力することもできるし、測距の情報として出力することもできる。また、撮像部12031が受光する光は、可視光であっても良いし、赤外線等の非可視光であっても良い。
車内情報検出ユニット12040は、車内の情報を検出する。車内情報検出ユニット12040には、例えば、運転者の状態を検出する運転者状態検出部12041が接続される。運転者状態検出部12041は、例えば運転者を撮像するカメラを含み、車内情報検出ユニット12040は、運転者状態検出部12041から入力される検出情報に基づいて、運転者の疲労度合い又は集中度合いを算出してもよいし、運転者が居眠りをしていないかを判別してもよい。
マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030又は車内情報検出ユニット12040で取得される車内外の情報に基づいて、駆動力発生装置、ステアリング機構又は制動装置の制御目標値を演算し、駆動系制御ユニット12010に対して制御指令を出力することができる。例えば、マイクロコンピュータ12051は、車両の衝突回避あるいは衝撃緩和、車間距離に基づく追従走行、車速維持走行、車両の衝突警告、又は車両のレーン逸脱警告等を含むADAS(Advanced Driver Assistance System)の機能実現を目的とした協調制御を行うことができる。
また、マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030又は車内情報検出ユニット12040で取得される車両の周囲の情報に基づいて駆動力発生装置、ステアリング機構又は制動装置等を制御することにより、運転者の操作に拠らずに自律的に走行する自動運転等を目的とした協調制御を行うことができる。
また、マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030で取得される車外の情報に基づいて、ボディ系制御ユニット12030に対して制御指令を出力することができる。例えば、マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030で検知した先行車又は対向車の位置に応じてヘッドランプを制御し、ハイビームをロービームに切り替える等の防眩を図ることを目的とした協調制御を行うことができる。
音声画像出力部12052は、車両の搭乗者又は車外に対して、視覚的又は聴覚的に情報を通知することが可能な出力装置へ音声及び画像のうちの少なくとも一方の出力信号を送信する。図21の例では、出力装置として、オーディオスピーカ12061、表示部12062及びインストルメントパネル12063が例示されている。表示部12062は、例えば、オンボードディスプレイ及びヘッドアップディスプレイの少なくとも一つを含んでいてもよい。
図22は、撮像部12031の設置位置の例を示す図である。
図22では、撮像部12031として、撮像部12101、12102、12103、12104、12105を有する。
撮像部12101、12102、12103、12104、12105は、例えば、車両12100のフロントノーズ、サイドミラー、リアバンパ、バックドア及び車室内のフロントガラスの上部等の位置に設けられる。フロントノーズに備えられる撮像部12101及び車室内のフロントガラスの上部に備えられる撮像部12105は、主として車両12100の前方の画像を取得する。サイドミラーに備えられる撮像部12102、12103は、主として車両12100の側方の画像を取得する。リアバンパ又はバックドアに備えられる撮像部12104は、主として車両12100の後方の画像を取得する。車室内のフロントガラスの上部に備えられる撮像部12105は、主として先行車両又は、歩行者、障害物、信号機、交通標識又は車線等の検出に用いられる。
なお、図22には、撮像部12101ないし12104の撮影範囲の一例が示されている。撮像範囲12111は、フロントノーズに設けられた撮像部12101の撮像範囲を示し、撮像範囲12112,12113は、それぞれサイドミラーに設けられた撮像部12102,12103の撮像範囲を示し、撮像範囲12114は、リアバンパ又はバックドアに設けられた撮像部12104の撮像範囲を示す。例えば、撮像部12101ないし12104で撮像された画像データが重ね合わせられることにより、車両12100を上方から見た俯瞰画像が得られる。
撮像部12101ないし12104の少なくとも1つは、距離情報を取得する機能を有していてもよい。例えば、撮像部12101ないし12104の少なくとも1つは、複数の撮像素子からなるステレオカメラであってもよいし、位相差検出用の画素を有する撮像素子であってもよい。
例えば、マイクロコンピュータ12051は、撮像部12101ないし12104から得られた距離情報を基に、撮像範囲12111ないし12114内における各立体物までの距離と、この距離の時間的変化(車両12100に対する相対速度)を求めることにより、特に車両12100の進行路上にある最も近い立体物で、車両12100と略同じ方向に所定の速度(例えば、0km/h以上)で走行する立体物を先行車として抽出することができる。さらに、マイクロコンピュータ12051は、先行車の手前に予め確保すべき車間距離を設定し、自動ブレーキ制御(追従停止制御も含む)や自動加速制御(追従発進制御も含む)等を行うことができる。このように運転者の操作に拠らずに自律的に走行する自動運転等を目的とした協調制御を行うことができる。
例えば、マイクロコンピュータ12051は、撮像部12101ないし12104から得られた距離情報を元に、立体物に関する立体物データを、2輪車、普通車両、大型車両、歩行者、電柱等その他の立体物に分類して抽出し、障害物の自動回避に用いることができる。例えば、マイクロコンピュータ12051は、車両12100の周辺の障害物を、車両12100のドライバが視認可能な障害物と視認困難な障害物とに識別する。そして、マイクロコンピュータ12051は、各障害物との衝突の危険度を示す衝突リスクを判断し、衝突リスクが設定値以上で衝突可能性がある状況であるときには、オーディオスピーカ12061や表示部12062を介してドライバに警報を出力することや、駆動系制御ユニット12010を介して強制減速や回避操舵を行うことで、衝突回避のための運転支援を行うことができる。
撮像部12101ないし12104の少なくとも1つは、赤外線を検出する赤外線カメラであってもよい。例えば、マイクロコンピュータ12051は、撮像部12101ないし12104の撮像画像中に歩行者が存在するか否かを判定することで歩行者を認識することができる。かかる歩行者の認識は、例えば赤外線カメラとしての撮像部12101ないし12104の撮像画像における特徴点を抽出する手順と、物体の輪郭を示す一連の特徴点にパターンマッチング処理を行って歩行者か否かを判別する手順によって行われる。マイクロコンピュータ12051が、撮像部12101ないし12104の撮像画像中に歩行者が存在すると判定し、歩行者を認識すると、音声画像出力部12052は、当該認識された歩行者に強調のための方形輪郭線を重畳表示するように、表示部12062を制御する。また、音声画像出力部12052は、歩行者を示すアイコン等を所望の位置に表示するように表示部12062を制御してもよい。
以上、本開示に係る技術が適用され得る車両制御システムの一例について説明した。本開示に係る技術は、以上説明した構成のうち、撮像部12031に適用され得る。具体的には図1の撮像素子1は、撮像部12031に適用することができる。撮像部12031に本開示に係る技術を適用することにより、より見やすい撮影画像を得ることができるため、ドライバの疲労を軽減することが可能になる。
<8.その他の変形例>
以上、いくつかの実施の形態および変形例を挙げて本開示を説明したが、本開示は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば上記第1の実施の形態の撮像素子1,1Aでは、第1の共振器13,13Aが3層構造もしくは4層構造の場合を例示したが、本開示はそれに限定されるものではなく、第1の共振器の積層数は任意に設定可能である。また、共振器構造体の各層の構成材料や厚さについても上述したものに限定されず、任意に設定可能である。
また、上記第1の実施の形態の撮像素子1,1Aでは、透明層17の表面17S上にモス・アイ構造21を設けるようにしたが、本開示はこれに限定されるものではない。例えば図23に示した第1の実施の形態の第3の変形例に係る撮像素子1Dのように、透明層17の表面17S上に画素22ごとにオンチップレンズ26を設けるようにしてもよい。
また、上記第2の実施の形態の撮像素子1C1〜1C9では、透明層17の表面17S上に結像レンズ25を設けるようにしたが、本開示はこれに限定されるものではない。例えば図24に示した第2の実施の形態の第1の変形例に係る撮像素子1Eのように、透明層17の表面17Sと結像レンズ25との間に空間を設けるようにしてもよい。撮像素子1Eは、表面17S上にモス・アイ構造21をさらに設けるようにしている。但し、モス・アイ構造21の代わりに、表面17S上にオンチップレンズを設けるようにしてもよい。
なお、本明細書中に記載された効果はあくまで例示であってその記載に限定されるものではなく、他の効果があってもよい。また、本技術は以下のような構成を取り得るものである。
(1)
第1の平均屈折率を有する半導体層と、
前記第1の平均屈折率よりも低い第2の平均屈折率を有する第1の共振器と、
前記第2の平均屈折率よりも高い第3の平均屈折率を有する第1の反射層と、
第2の共振器と、
第2の反射層と
が順に積層されて特定の波長域の光を透過させる積層構造
を含む
共振器構造体。
(2)
前記第2の平均屈折率は、1以上4以下である
上記(1)記載の共振器構造体。
(3)
前記第2の平均屈折率は、1以上2以下である
上記(1)記載の共振器構造体。
(4)
前記第2の共振器は、積層面内において屈折率分布を有する
上記(1)から(3)のいずれか1つに記載の共振器構造体。
(5)
前記第2の共振器は、
第1の屈折率を有する第1の部分と、積層面内において前記第1の部分に分散配置されると共に第2の屈折率を有する第2の部分と
を含む
上記(4)記載の共振器構造体。
(6)
前記第1の共振器の厚さは400nm以下である
上記(1)から(5)のいずれか1つに記載の共振器構造体。
(7)
前記第1の反射層および前記第2の反射層が多結晶シリコンを含む材料からなる
上記(1)から(6)のいずれか1つに記載の共振器構造体。
(8)
前記第1の反射層の厚さおよび前記第2の反射層の厚さは、いずれも50nm以下である
上記(7)記載の共振器構造体。
(9)
前記第1の反射層および前記第2の反射層が多結晶シリコンを含む材料からなり、前記第1の反射層と前記第2の反射層と前記半導体層とを除き、他は単体シリコン以外の材料からなる
上記(1)から(8)のいずれか1つに記載の共振器構造体。
(10)
前記第1の反射層の厚さおよび前記第2の反射層の厚さは、いずれも50nm以下である
上記(9)記載の共振器構造体。
(11)
可視光の透過を抑制する可視光カットフィルタをさらに有する
上記(1)から(10)のいずれか1つに記載の共振器構造体。
(12)
前記第1の共振器は、複数の膜が積層された多層膜構造を含む
上記(1)から(11)のいずれか1つに記載の共振器構造体。
請求項1記載の共振器構造体。
(13)
前記第1の共振器における前記複数の膜は、珪素酸化物、珪素窒化物、タンタル酸化物およびアルミニウム酸化物のうちの少なくとも1種を含む材料からなる
上記(12)に記載の共振器構造体。
(14)
光電変換部と、前記光電変換部に向けて特定の波長域の光を透過させる共振器構造体とをそれぞれ有する複数の画素を備え、
前記共振器構造体は、
前記光電変換部を内蔵し、第1の平均屈折率を有する半導体基板と、
前記第1の平均屈折率よりも低い第2の平均屈折率を有する第1の共振器と、
前記第2の平均屈折率よりも高い第3の平均屈折率を有する第1の反射層と、
第2の共振器と、
第2の反射層と
が順に積層された積層構造を含む
撮像素子。
(15)
隣り合う前記複数の画素同士の間に遮光層をさらに備えた
上記(14)記載の撮像素子。
(16)
前記複数の画素には、前記共振器構造体へ向かう光に屈折力を与えるレンズが設けられており、
前記複数の画素における各々の前記共振器構造体は、互いに異なる波長域の光を透過させるものである
上記(14)または(15)記載の撮像素子。
(17)
撮像素子を備え、
前記撮像素子は、
光電変換部と、前記光電変換部に向けて特定の波長域の光を透過させる共振器構造体とをそれぞれ有する複数の画素を有し、
前記共振器構造体は、
前記光電変換部を内蔵し、第1の平均屈折率を有する半導体基板と、
前記第1の平均屈折率よりも低い第2の平均屈折率を有する第1の共振器と、
前記第2の平均屈折率よりも高い第3の平均屈折率を有する第1の反射層と、
第2の共振器と、
第2の反射層と
が順に積層された積層構造を含む
電子機器。
1,1A〜1E…撮像素子、10…共振器構造体、11…配線層、11A…配線、12…半導体基板、13…第1の共振器、14…第1の反射層、15…第2の共振器、16…第2の反射層、17…透明層、18,19…遮光層、21…モス・アイ構造、22…画素、23…モールド、24…可視光カットフィルタ、25…結像レンズ、26…オンチップレンズ、FD…フォトダイオード。

Claims (17)

  1. 第1の平均屈折率を有する半導体層と、
    前記第1の平均屈折率よりも低い第2の平均屈折率を有する第1の共振器と、
    前記第2の平均屈折率よりも高い第3の平均屈折率を有する第1の反射層と、
    第2の共振器と、
    第2の反射層と
    が順に積層されて特定の波長域の光を透過させる積層構造
    を含む
    共振器構造体。
  2. 前記第2の平均屈折率は、1以上4以下である
    請求項1記載の共振器構造体。
  3. 前記第2の平均屈折率は、1以上2以下である
    請求項1記載の共振器構造体。
  4. 前記第2の共振器は、積層面内において屈折率分布を有する
    請求項1記載の共振器構造体。
  5. 前記第2の共振器は、
    第1の屈折率を有する第1の部分と、積層面内において前記第1の部分に分散配置されると共に第2の屈折率を有する第2の部分と
    を含む
    請求項4記載の共振器構造体。
  6. 前記第1の共振器の厚さは400nm以下である
    請求項1記載の共振器構造体。
  7. 前記第1の反射層および前記第2の反射層が多結晶シリコンを含む材料からなる
    請求項1記載の共振器構造体。
  8. 前記第1の反射層の厚さおよび前記第2の反射層の厚さは、いずれも50nm以下である
    請求項7記載の共振器構造体。
  9. 前記第1の反射層および前記第2の反射層が多結晶シリコンを含む材料からなり、前記第1の反射層と前記第2の反射層と前記半導体層とを除き、他は単体シリコン以外の材料からなる
    請求項1記載の共振器構造体。
  10. 前記第1の反射層の厚さおよび前記第2の反射層の厚さは、いずれも50nm以下である
    請求項9記載の共振器構造体。
  11. 可視光の透過を抑制する可視光カットフィルタをさらに有する
    請求項1記載の共振器構造体。
  12. 前記第1の共振器は、複数の膜が積層された多層膜構造を含む
    請求項1記載の共振器構造体。
  13. 前記第1の共振器における前記複数の膜は、珪素酸化物、珪素窒化物、タンタル酸化物およびアルミニウム酸化物のうちの少なくとも1種を含む材料からなる
    請求項12記載の共振器構造体。
  14. 光電変換部と、前記光電変換部に向けて特定の波長域の光を透過させる共振器構造体とをそれぞれ有する複数の画素を備え、
    前記共振器構造体は、
    前記光電変換部を内蔵し、第1の平均屈折率を有する半導体基板と、
    前記第1の平均屈折率よりも低い第2の平均屈折率を有する第1の共振器と、
    前記第2の平均屈折率よりも高い第3の平均屈折率を有する第1の反射層と、
    第2の共振器と、
    第2の反射層と
    が順に積層された積層構造を含む
    撮像素子。
  15. 隣り合う前記複数の画素同士の間に遮光層をさらに備えた
    請求項14記載の撮像素子。
  16. 前記複数の画素には、前記共振器構造体へ向かう光に屈折力を与えるレンズが設けられており、
    前記複数の画素における各々の前記共振器構造体は、互いに異なる波長域の光を透過させるものである
    請求項14記載の撮像素子。
  17. 撮像素子を備え、
    前記撮像素子は、
    光電変換部と、前記光電変換部に向けて特定の波長域の光を透過させる共振器構造体とをそれぞれ有する複数の画素を有し、
    前記共振器構造体は、
    前記光電変換部を内蔵し、第1の平均屈折率を有する半導体基板と、
    前記第1の平均屈折率よりも低い第2の平均屈折率を有する第1の共振器と、
    前記第2の平均屈折率よりも高い第3の平均屈折率を有する第1の反射層と、
    第2の共振器と、
    第2の反射層と
    が順に積層された積層構造を含む
    電子機器。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022163223A1 (ja) * 2021-01-28 2022-08-04 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 固体撮像装置及び電子機器
WO2023127462A1 (ja) * 2021-12-27 2023-07-06 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 光検出装置及び電子機器

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017009725A (ja) * 2015-06-19 2017-01-12 ソニー株式会社 表示装置
CN115668516A (zh) * 2020-06-04 2023-01-31 浜松光子学株式会社 半导体光检测元件
WO2023149963A1 (en) 2022-02-01 2023-08-10 Landscan Llc Systems and methods for multispectral landscape mapping

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2637616A1 (de) * 1976-08-20 1978-02-23 Siemens Ag Filter fuer fotodetektoren
US5914804A (en) * 1998-01-28 1999-06-22 Lucent Technologies Inc Double-cavity micromechanical optical modulator with plural multilayer mirrors
US7521666B2 (en) * 2005-02-17 2009-04-21 Capella Microsystems Inc. Multi-cavity Fabry-Perot ambient light filter apparatus
CN1828345A (zh) * 2005-03-04 2006-09-06 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 一种滤光装置及其制造方法
US20100096011A1 (en) * 2008-10-16 2010-04-22 Qualcomm Mems Technologies, Inc. High efficiency interferometric color filters for photovoltaic modules
FR2960654B1 (fr) * 2010-05-27 2012-06-15 Commissariat Energie Atomique Filtre optique propre a traiter un rayonnement d'incidence variable et detecteur comprenant un tel filtre
JP2012019113A (ja) * 2010-07-08 2012-01-26 Panasonic Corp 固体撮像装置
JP5866577B2 (ja) * 2013-07-29 2016-02-17 パナソニックIpマネジメント株式会社 光学フィルタおよびそれを用いた偏光撮像装置
FR3020878A1 (fr) * 2014-05-06 2015-11-13 Commissariat Energie Atomique Dispositif de filtrage optique comportant des cavites fabry-perot a couche structuree et d'epaisseurs differentes
EP3182079B1 (en) * 2015-12-14 2023-08-23 ams AG Optical sensing device and method for manufacturing an optical sensing device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022163223A1 (ja) * 2021-01-28 2022-08-04 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 固体撮像装置及び電子機器
WO2023127462A1 (ja) * 2021-12-27 2023-07-06 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 光検出装置及び電子機器

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