JP2019179934A - パルス光ビームのスペクトルフィーチャ計測 - Google Patents
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Abstract
Description
SEST=[A1×P1+A2×P2+・・・An×Pn]/n
上式でnは感知領域173の数である。
Claims (27)
- パルス光ビームのスペクトルフィーチャを測定するための計測システムであって、
前記パルス光ビームの経路内にあり、前記パルス光ビームと相互作用するように、且つ、前記パルス光ビームのスペクトル成分に対応する複数の空間成分を出力するように、構成された光周波数分離装置と、
前記出力空間成分を受け取り及び感知する複数の感知領域と、
各感知領域の出力に接続される制御システムであって、
1つ以上のパルスについての前記光周波数分離装置からの前記出力空間成分のプロパティを各感知領域出力について測定するように、
前記パルス光ビームの前記スペクトルフィーチャの推定を計算するために、前記測定されたプロパティを平均化することを含む、前記測定されたプロパティを分析するように、及び、
前記パルス光ビームの前記推定スペクトルフィーチャがスペクトルフィーチャの値の許容レンジ内にあるかどうかを判別するように、
構成される制御システムと、
を備える、計測システム。 - 前記光周波数分離装置は、複数の光周波数分離デバイスを含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記パルス光ビームを複数のパルス光ビームに分割するビーム分離デバイスを更に備え、前記分割されたパルス光ビームの各々は、それぞれの光周波数分離デバイスに誘導される、請求項2に記載のシステム。
- 各光周波数分離デバイスは、エタロンを含む、請求項2に記載のシステム。
- 前記複数の感知領域のうちの各感知領域は、前記光周波数分離デバイスのうちの1つの前記出力に配置された別個のセンサ上に形成される、請求項2に記載のシステム。
- 各光周波数分離デバイスは、前記他の光周波数分離デバイスと同じ応答機能を有する、請求項2に記載のシステム。
- 前記光周波数分離装置は、1つ以上のエタロンを備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記光ビームを生成するソースとフォトリソグラフィ露光装置との間の前記経路内にビーム分離デバイスを更に備え、
前記ビーム分離デバイスは、
第1の割合の前記光ビームを前記光周波数分離装置に向けて誘導するとともに、
第2の割合の前記光ビームを前記経路に沿って前記フォトリソグラフィ露光装置に向けて誘導する、請求項1に記載のシステム。 - 前記光ビームは、少なくともいくつかが深紫外線レンジ内にある複数の波長を有する、請求項1に記載のシステム。
- 各感知領域は、前記複数のうちの他の感知領域と同じ性能パラメータを有する、請求項1に記載のシステム。
- 前記スペクトルフィーチャは、前記パルス光ビームの帯域幅である、請求項1に記載のシステム。
- 光学的に前記パルス光ビームに接続されるスペクトルフィーチャ選択システムを更に備え、
前記制御システムは、前記スペクトルフィーチャ選択システムに接続され、
前記制御システムは、前記パルス光ビームの前記推定されたスペクトルフィーチャが前記許容レンジ外にあるものと決定した場合、前記パルス光ビームの前記スペクトルフィーチャを修正するために、調整信号を前記スペクトルフィーチャ選択システムに送信するように構成される、請求項1に記載のシステム。 - 前記1つ以上のパルスのレンジは、単一パルスである、請求項1に記載のシステム。
- 前記測定されたプロパティを平均化することは、いずれの測定されたプロパティが前記スペクトルフィーチャの最も正確な表現であるかを決定することを含み、
前記パルス光ビームの前記スペクトルフィーチャを計算することは、前記スペクトルフィーチャを最も正確に表す前記測定されたプロパティを選択することを含む、請求項1に記載のシステム。 - 前記制御システムは、いずれの前記測定されたプロパティが値のターゲットレンジ内に入るかを決定するように構成され、
前記制御システムは、前記値のターゲットレンジ内に入る測定されたプロパティのみを平均化することによって、推定を計算するために、前記測定されたプロパティを平均化する、請求項1に記載のシステム。 - 前記測定されたプロパティを平均化することは、前記測定されたプロパティの重み付き平均を実行することを含み、
前記パルス光ビームの前記スペクトルフィーチャの前記推定を計算することは、前記重み付き平均を前記スペクトルフィーチャの推定として選択することを含む、請求項1に記載のシステム。 - 前記光周波数分離装置は、単一の光周波数分離デバイスを備え、
前記複数の感知領域は、1つ以上のスペクトル成分全体を受け取る単一の2次元センサ上に形成される、請求項1に記載のシステム。 - 前記複数の感知領域のうちの各感知領域は、前記出力される空間成分の光軸に対して垂直な感知軸を有する、請求項1に記載のシステム。
- 前記複数の感知領域のうちの各感知領域は、前記光周波数分離装置の前記出力に配置された単一のセンサの別個の場所に形成される、請求項1に記載のシステム。
- パルス光ビームのスペクトルフィーチャを測定するための方法であって、
前記パルス光ビームを、前記パルス光ビームの前記スペクトル成分に対応する複数の空間成分を出力する光周波数分離装置と相互作用させること、
前記出力空間成分の経路内に配置された複数の感知領域の各々で前記複数の空間成分を感知すること、
前記パルス光ビームの1つ以上のパルスについての前記出力空間成分のプロパティを前記感知領域の各々で測定すること、
前記パルス光ビームの前記スペクトルフィーチャの推定を計算するために前記測定されたプロパティを平均化することを含む、前記測定されたプロパティを分析すること、及び、
前記パルス光ビームの前記推定スペクトルフィーチャがスペクトルフィーチャの許容レンジ内にあるかどうかを判別すること、
を含む、方法。 - 前記の感知領域の各々で前記複数の空間成分を感知することは、前記複数の感知領域の各々で前記光ビームの同じパルスについて同時に前記複数の空間成分を感知することを含む、請求項20に記載の方法。
- 前記パルス光ビームの前記推定されたスペクトルフィーチャが前記許容レンジ外にあるものと決定された場合、前記パルス光ビームの前記スペクトルフィーチャを修正するために、調整信号をスペクトルフィーチャ選択システムに送信することを更に含む、請求項20に記載の方法。
- 前記測定されたプロパティを平均化することは、いずれの測定されたプロパティが前記スペクトルフィーチャの最も正確な表現であるかを決定することを含み、
前記パルス光ビームの前記スペクトルフィーチャを計算することは、前記スペクトルフィーチャを最も正確に表す前記測定されたプロパティを選択することを含む、請求項20に記載の方法。 - いずれの前記測定されたプロパティが値の標準レンジ内に入るかを決定することを更に含み、
推定を計算するために、前記測定されたプロパティを平均化することは、前記値の標準レンジ内に入るそれらの測定されたプロパティのみを平均化することを含む、請求項20に記載の方法。 - 前記測定されたプロパティを平均化することは、前記測定されたプロパティの重み付き平均を実行することを含み、
前記パルス光ビームの前記スペクトルフィーチャの前記推定を計算することは、前記重み付き平均を前記スペクトルフィーチャの推定として選択することを含む、請求項20に記載の方法。 - 前記パルス光ビームの1つ以上のパルスについて、前記出力空間成分の前記プロパティを前記感知領域の各々で測定することは、前記同じ測定技法を用いて前記感知領域の各々について前記出力空間成分の前記プロパティを測定することを含む、請求項20に記載の方法。
- パルス光ビームを生成する少なくとも1つの利得媒体を含む光源と、
前記パルス光ビームの第1の部分を計測経路に沿って誘導し、前記パルス光ビームの第2の部分をリソグラフィ経路に沿って誘導するビーム分離デバイスと、
前記計測経路内の計測システムであって、
前記パルス光ビームの前記経路内にあり、前記パルス光ビームと相互作用するように、且つ、前記パルス光ビームのスペクトル成分に対応する複数の空間成分を出力するように、構成された光周波数分離装置と、
前記出力空間成分を受け取るとともに感知する複数の感知領域と、
前記複数のうちの各感知領域の出力に接続され、前記パルス光ビームの1つ以上のパルスについての前記出力空間成分のプロパティを各感知領域出力について測定するように、前記パルス光ビームの前記スペクトルフィーチャの推定を計算するために前記測定されたプロパティを平均化するように、及び、前記パルス光ビームの前記推定スペクトルフィーチャがスペクトルフィーチャの値の許容レンジ内にあるかどうかを判別するように、構成された制御システムと、
を備える、計測システムと、
前記光源から前記パルス光ビームを受け取り、前記パルス光ビームをフォトリソグラフィ露光装置に誘導する、前記リソグラフィ経路内のビームデリバリシステムと、
を備える、光学システム。
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