JP2019173350A - Local cleaning device - Google Patents

Abstract

To improve the cleanliness of local area washing nozzle without providing nozzle washing chamber.SOLUTION: The local cleaning device that washes the local area by discharging washing water from the local area washing nozzle that has been advanced out of an opening, which includes a washing unit that forms a water screen on the surface of the local area washing nozzle by discharging hot water to the surface of the local area washing nozzle when the local area washing nozzle has advanced from the opening. The washing unit can adjust the flow rate of the hot water discharged on to the surface.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、局部洗浄装置に関する。   The present invention relates to a local cleaning apparatus.

下記特許文献１には、局部洗浄ノズルから洗浄水を吐出させて使用者の局部を洗浄する局部洗浄時や局部洗浄ノズルの移動時において、局部洗浄ノズルの表面を清掃する局部洗浄装置が開示されている。   The following Patent Document 1 discloses a local cleaning device that cleans the surface of a local cleaning nozzle during local cleaning in which the cleaning water is discharged from the local cleaning nozzle to clean the user's local area or when the local cleaning nozzle is moved. ing.

具体的には、上記局部洗浄装置は、局部洗浄ノズルの表面に一定量の水を吐出して当該局部洗浄ノズルの表面に水膜を形成する。これにより、局部洗浄ノズルに付着した汚物を洗い流すとともに、局部洗浄ノズルの表面に汚物が付着することを防止する。   Specifically, the local cleaning device discharges a certain amount of water onto the surface of the local cleaning nozzle to form a water film on the surface of the local cleaning nozzle. Thus, the filth adhering to the local cleaning nozzle is washed away and the filth is prevented from adhering to the surface of the local cleaning nozzle.

特開平１１−１９３５６７号公報JP 11-193567 A

ただし、局部洗浄ノズルの表面に水を吐出すると、その吐出された水は、局部洗浄ノズルの表面を伝って便器本体の便鉢や封水に着水する。したがって、その着水により飛沫が周囲に飛散して、使用者に不快な印象を与えるおそれがある。   However, when water is discharged onto the surface of the local cleaning nozzle, the discharged water reaches the toilet bowl or the sealing water of the toilet body along the surface of the local cleaning nozzle. Therefore, there is a possibility that splashes may scatter to the surroundings due to the landing and give an unpleasant impression to the user.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、その目的は、局部洗浄ノズルの表面に水膜を形成するにあたって、飛沫の飛散を抑制することである。   This invention is made | formed in view of such a situation, The objective is to suppress scattering of a splash in forming a water film on the surface of a local washing nozzle.

本発明の一態様は、開口部から進出させた局部洗浄ノズルから洗浄水を吐出させることで局部を洗浄する局部洗浄装置であって、前記局部洗浄ノズルが前記開口部から進出している状態において、前記局部洗浄ノズルの表面に湯水を吐出することで当該表面に水膜を形成する洗浄部を備え、前記洗浄部は、前記表面に吐出する前記湯水の流量を調整可能であることを特徴とする局部洗浄装置である。   One aspect of the present invention is a local cleaning device that cleans a local part by discharging cleaning water from a local cleaning nozzle that has advanced from the opening, and the local cleaning nozzle has advanced from the opening. A cleaning unit that discharges hot water onto the surface of the local cleaning nozzle to form a water film on the surface, and the cleaning unit is capable of adjusting a flow rate of the hot water discharged onto the surface. It is a local cleaning device.

本発明の一態様は、上述の局部洗浄装置であって、前記洗浄部は、前記局部洗浄ノズルが前記開口部から進出している状態における当該局部洗浄ノズルの動作に応じて前記表面に吐出する前記湯水の流量を調整する。   One aspect of the present invention is the above-described local cleaning device, in which the cleaning unit discharges the surface according to the operation of the local cleaning nozzle in a state where the local cleaning nozzle has advanced from the opening. The flow rate of the hot water is adjusted.

本発明の一態様は、上述の局部洗浄装置であって、前記洗浄部は、前記局部洗浄ノズルが待機位置から洗浄位置に移動する場合、前記局部洗浄を実行している場合、前記洗浄位置から前記待機位置に移動する場合との少なくともいずれかの場合において、前記表面に吐出する前記湯水の流量を調整する。   One aspect of the present invention is the above-described local cleaning device, in which the cleaning unit moves from the cleaning position when the local cleaning nozzle moves from the standby position to the cleaning position, or when performing the local cleaning. In at least one of the cases of moving to the standby position, the flow rate of the hot water discharged to the surface is adjusted.

本発明の一態様は、上述の局部洗浄装置であって、前記洗浄部は、前記局部洗浄ノズルが前記開口部から進出している位置に応じて前記表面に吐出する前記湯水の流量を調整する。   One aspect of the present invention is the above-described local cleaning device, wherein the cleaning unit adjusts a flow rate of the hot water discharged to the surface in accordance with a position where the local cleaning nozzle has advanced from the opening. .

本発明の一態様は、上述の局部洗浄装置であって、前記洗浄部は、局部洗浄時において、前記局部洗浄ノズルから吐出している洗浄水の流量に応じて、前記表面に吐出される前記湯水の流量を調整する。   One aspect of the present invention is the above-described local cleaning device, wherein the cleaning unit is discharged onto the surface according to a flow rate of cleaning water discharged from the local cleaning nozzle during the local cleaning. Adjust the hot water flow rate.

以上説明したように、本発明によれば、局部洗浄ノズルの表面に水膜を形成するにあたって、飛沫の飛散を抑制することができる。   As described above, according to the present invention, splashing of splashes can be suppressed when forming a water film on the surface of the local cleaning nozzle.

本発明の一実施形態に係る局部洗浄装置９を備えるトイレシステムＡの概略構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of schematic structure of the toilet system A provided with the local cleaning apparatus 9 which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る局部洗浄装置９の概略構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of schematic structure of the local washing | cleaning apparatus 9 which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る水膜形成の動作を説明する図である。It is a figure explaining operation | movement of the water film formation which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る水膜形成の動作の第１の変形例を示す図である。It is a figure which shows the 1st modification of the operation | movement of water film formation which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る水膜形成の動作の第２の変形例を示す図である。It is a figure which shows the 2nd modification of operation | movement of the water film formation which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る水膜口１７１の位置を示す図である。It is a figure which shows the position of the water film opening | mouth 171 which concerns on one Embodiment of this invention.

以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。なお、図面において、同一又は類似の部分には同一の符号を付して、重複する説明を省く場合がある。また、図面における要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために誇張されることがある。   Hereinafter, the present invention will be described through embodiments of the invention, but the following embodiments do not limit the invention according to the claims. In addition, not all the combinations of features described in the embodiments are essential for the solving means of the invention. In the drawings, the same or similar parts may be denoted by the same reference numerals and redundant description may be omitted. In addition, the shape and size of elements in the drawings may be exaggerated for a clearer description.

図１は、本発明の一実施形態に係る局部洗浄装置を備えるトイレシステムＡの概略構成の一例を示す図である。図１に示すように、トイレシステムＡは、トイレ装置１及びリモコン装置２を備える。   FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a schematic configuration of a toilet system A including a local cleaning device according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the toilet system A includes a toilet device 1 and a remote control device 2.

トイレ装置１は、トイレルームに設けられており、リモコン装置２と有線又は無線通信することで情報を送受する。   The toilet device 1 is provided in a toilet room, and transmits and receives information by wired or wireless communication with the remote control device 2.

リモコン装置２は、トイレルームの所定位置に設置されている。例えば、この所定位置とは、トイレルームの壁面である。リモコン装置２には、複数の操作スイッチが設けられており、使用者は、例えば、便器洗浄や局部洗浄に対応した操作スイッチを押下操作することで、トイレ装置１に対して便器洗浄や局部洗浄を実行させることができる。   The remote control device 2 is installed at a predetermined position in the toilet room. For example, the predetermined position is a wall surface of a toilet room. The remote control device 2 is provided with a plurality of operation switches, and the user presses the operation switch corresponding to toilet cleaning or local cleaning, for example, to perform toilet cleaning or local cleaning on the toilet device 1. Can be executed.

トイレ装置１は、便器本体３及び便座装置４を備える。   The toilet device 1 includes a toilet body 3 and a toilet seat device 4.

便器本体３は、トイレルーム内の床面に設置されている。便器本体３の上部には、便座装置４が設置されている。   The toilet body 3 is installed on the floor in the toilet room. A toilet seat device 4 is installed on the upper part of the toilet body 3.

便座装置４は、本体カバー５、便座６、便蓋７、便器洗浄装置８及び局部洗浄装置９を備える。   The toilet seat device 4 includes a main body cover 5, a toilet seat 6, a toilet lid 7, a toilet bowl cleaning device 8, and a local cleaning device 9.

本体カバー５は、便器本体３の後部かつ上部に載置された便器洗浄装置８及び局部洗浄装置９を収容するように便器洗浄装置８及び局部洗浄装置９を上側から覆うカバーである。   The body cover 5 is a cover that covers the toilet cleaning device 8 and the local cleaning device 9 from above so as to accommodate the toilet cleaning device 8 and the local cleaning device 9 placed on the rear and upper part of the toilet body 3.

便座６は、本体カバー５に対して上下方向に回動可能に支持されている。すなわち、便座６は、本体カバー５に軸支されており、便器本体３に対して起立状態と倒伏状態との間で回動自在である。   The toilet seat 6 is supported so as to be rotatable in the vertical direction with respect to the main body cover 5. That is, the toilet seat 6 is pivotally supported by the main body cover 5, and is rotatable between a standing state and a lying state with respect to the toilet body 3.

便蓋７は、本体カバー５に対して上下方向に回動可能に支持されている。すなわち、便蓋７は、本体カバー５に軸支されており、便器本体３に対して起立状態と倒伏状態との間で回動自在である。   The toilet lid 7 is supported so as to be rotatable in the vertical direction with respect to the main body cover 5. That is, the toilet lid 7 is pivotally supported by the main body cover 5, and is rotatable between the standing state and the lying state with respect to the toilet body 3.

便器洗浄装置８は、本体カバー５内に収容して設けられ、例えば使用者により便器洗浄に対応する操作スイッチが操作されることで、便器本体３内に洗浄水を吐出させる便器洗浄を実行する。   The toilet bowl cleaning device 8 is housed and provided in the main body cover 5, and executes toilet flushing for discharging flush water into the toilet bowl body 3 by operating an operation switch corresponding to toilet bowl cleaning by a user, for example. .

局部洗浄装置９は、局部洗浄ノズル１０、ノズル開口部１１、及びシャッタユニット１２を備える。なお、ノズル開口部１１は、本発明の「開口部」の一例である。   The local cleaning device 9 includes a local cleaning nozzle 10, a nozzle opening 11, and a shutter unit 12. The nozzle opening 11 is an example of the “opening” in the present invention.

局部洗浄装置９は、例えば、リモコン装置２において使用者により局部洗浄の実行を指示する操作が行われると、待機位置にある局部洗浄ノズル１０をノズル開口部１１から便器本体３の内側にある洗浄位置まで進出させ、当該局部洗浄ノズル１０の先端部から洗浄水を吐出することで、人体の局部を洗浄する局部洗浄を実行する。そして、局部洗浄装置９は、例えば、リモコン装置２において使用者により局部洗浄の停止を指示する操作が行われると、局部洗浄を停止して、洗浄位置にある局部洗浄ノズル１０を待機位置まで退避させる。   For example, when the remote controller 2 performs an operation to instruct execution of the local cleaning by the user, the local cleaning device 9 cleans the local cleaning nozzle 10 in the standby position from the nozzle opening 11 inside the toilet body 3. The local cleaning for cleaning the local part of the human body is performed by advancing to the position and discharging the cleaning water from the tip of the local cleaning nozzle 10. Then, the local cleaning device 9 stops the local cleaning when the user performs an operation to stop the local cleaning in the remote control device 2, for example, and retracts the local cleaning nozzle 10 at the cleaning position to the standby position. Let

なお、シャッタユニット１２は、局部洗浄ノズル１０が本体カバー５内の待機位置に退避した状態でノズル開口部１１を閉じることで、汚物、洗浄水の飛沫などが局部洗浄ノズル１０にかかったり、本体カバー５の内部に入り込むことを防止する。また、シャッタユニット１２は、局部洗浄ノズル１０の進出とともに回動してノズル開口部１１を開く。   The shutter unit 12 closes the nozzle opening 11 in a state where the local cleaning nozzle 10 is retracted to the standby position in the main body cover 5, so that dirt, washing water splashes, etc. are applied to the local cleaning nozzle 10, This prevents entry into the cover 5. Further, the shutter unit 12 rotates with the advance of the local cleaning nozzle 10 to open the nozzle opening 11.

さらに、局部洗浄装置９は、局部洗浄ノズル１０がノズル開口部１１から進出している状態において、当該局部洗浄ノズル１０の表面に湯水で水膜を形成する。ここで、湯水とは、冷水であってもよいし、温水であってもよい。以下に、本実施形態に係る局部洗浄装置９の構成について、図２を用いて具体的に説明する。   Further, the local cleaning device 9 forms a water film with hot water on the surface of the local cleaning nozzle 10 in a state where the local cleaning nozzle 10 has advanced from the nozzle opening 11. Here, the hot water may be cold water or hot water. Below, the structure of the local washing | cleaning apparatus 9 which concerns on this embodiment is demonstrated concretely using FIG.

図２に示すように、局部洗浄装置９は、第１の流路１３、第２の流路１４、給水バルブ１５、温水生成部１６、及び洗浄部１７を備える。   As shown in FIG. 2, the local cleaning device 9 includes a first flow path 13, a second flow path 14, a water supply valve 15, a hot water generation section 16, and a cleaning section 17.

第１の流路１３は、給水源Ｓからの水を、給水バルブ１５を介して温水生成部１６に流入させる流路である。
第２の流路１４は、温水生成部１６からの温水を洗浄部１７に送水するための流路である。 The first flow path 13 is a flow path for allowing water from the water supply source S to flow into the hot water generating unit 16 via the water supply valve 15.
The second flow path 14 is a flow path for supplying hot water from the hot water generating unit 16 to the cleaning unit 17.

給水バルブ１５は、第１の流路１３に設けられ、その第１の流路１３を開放又は閉塞することで、給水源Ｓから温水生成部１６への給水を制御する。具体的には、給水バルブ１５は、洗浄部１７の制御により開状態に制御された場合には、第１の流路１３を開放する。これにより、給水源Ｓからの水が第１の流路１３を介して温水生成部１６に流入する。一方、給水バルブ１５は、洗浄部１７の制御により閉状態に制御された場合には、第１の流路１３を閉塞する。これにより、温水生成部１６への水の流入が停止される。   The water supply valve 15 is provided in the first flow path 13 and controls the water supply from the water supply source S to the hot water generation unit 16 by opening or closing the first flow path 13. Specifically, the water supply valve 15 opens the first flow path 13 when controlled to the open state by the control of the cleaning unit 17. As a result, water from the water supply source S flows into the hot water generator 16 via the first flow path 13. On the other hand, when the water supply valve 15 is controlled to be closed by the control of the cleaning unit 17, the water supply valve 15 closes the first flow path 13. Thereby, the inflow of the water to the warm water production | generation part 16 is stopped.

温水生成部１６は、第１の流路１３を介して流入してきた水を所定の温度に加熱して温水を生成する。そして、温水生成部１６は、所定の温度に加熱した温水を第２の流路１４を介して洗浄部１７に送水する。以下に、温水生成部１６の構成について、具体的に説明する。   The warm water generator 16 heats the water flowing in through the first flow path 13 to a predetermined temperature to generate warm water. Then, the hot water generation unit 16 supplies hot water heated to a predetermined temperature to the cleaning unit 17 via the second flow path 14. Below, the structure of the warm water production | generation part 16 is demonstrated concretely.

温水生成部１６は、ヒータ１６１、温度センサ１６２、及び温度制御部１６３を備える。   The hot water generator 16 includes a heater 161, a temperature sensor 162, and a temperature controller 163.

ヒータ１６１は、第１の流路１３を介して流入してきた水を、温度制御部１６３の制御に基づいて所定の温度に加熱する。そして、ヒータ１６１により加熱されて生成された温水は、第２の流路１４を介して洗浄部１７に供給される。   The heater 161 heats the water flowing in through the first flow path 13 to a predetermined temperature based on the control of the temperature control unit 163. Then, the hot water generated by heating by the heater 161 is supplied to the cleaning unit 17 through the second flow path 14.

温度センサ１６２は、第２の流路１４に設けられ、ヒータ１６１により加熱された温水の温度を測定するセンサであって、例えば、サーミスタである。温度センサ１６２は、測定した温度を温度制御部１６３に出力する。   The temperature sensor 162 is a sensor that is provided in the second flow path 14 and measures the temperature of hot water heated by the heater 161, and is, for example, a thermistor. The temperature sensor 162 outputs the measured temperature to the temperature control unit 163.

温度制御部１６３は、温度センサ１６２で測定された温度が上記所定の温度になるようにヒータ１６１の出力を制御する。なお、温度制御部１６３は、第２の流路１４に供給する温水の温度を任意の温度に制御可能である。   The temperature control unit 163 controls the output of the heater 161 so that the temperature measured by the temperature sensor 162 becomes the predetermined temperature. The temperature control unit 163 can control the temperature of the hot water supplied to the second flow path 14 to an arbitrary temperature.

洗浄部１７は、局部洗浄ノズル１０、水膜口１７１、分岐流路１７２〜１７４、流調バルブ１７５、流調バルブ１７６、駆動部１７７、及び制御装置１７８を備える。   The cleaning unit 17 includes a local cleaning nozzle 10, a water film port 171, branch channels 172 to 174, a flow control valve 175, a flow control valve 176, a drive unit 177, and a control device 178.

局部洗浄ノズル１０は、おしり洗浄用ノズル１１１及びビデ用ノズル１１２の一対の局部洗浄ノズルの少なくともいずれかである。なお、以下の説明において、おしり洗浄用ノズル１１１及びビデ用ノズル１１２のそれぞれを区別しない場合には、単に「局部洗浄ノズル１０」と標記する。   The local cleaning nozzle 10 is at least one of a pair of local cleaning nozzles including a buttocks cleaning nozzle 111 and a bidet nozzle 112. In the following description, when each of the buttocks cleaning nozzle 111 and the bidet nozzle 112 is not distinguished, it is simply denoted as “local cleaning nozzle 10”.

水膜口１７１は、局部洗浄ノズル１０の表面に冷水又は温水の水膜を形成するための開口部である。本実施形態では、洗浄部１７は、水膜口１７１から局部洗浄ノズル１０の表面に向けて温水を吐出させることで、ノズル開口部１１から進出している局部洗浄ノズル１０の表面に温水の水膜（以下、「温水膜」という。）を形成する。   The water film port 171 is an opening for forming a water film of cold water or hot water on the surface of the local cleaning nozzle 10. In the present embodiment, the cleaning unit 17 discharges hot water from the water film port 171 toward the surface of the local cleaning nozzle 10, so that water of hot water is applied to the surface of the local cleaning nozzle 10 that has advanced from the nozzle opening 11. A film (hereinafter referred to as “warm water film”) is formed.

分岐流路１７２〜１７４は、第２の流路１４から分岐する流路である。   The branch channels 172 to 174 are channels that branch from the second channel 14.

分岐流路１７２は、第２の流路１４から分岐し、おしり洗浄用ノズル１１１の先端部に連通する。
分岐流路１７３は、第２の流路１４から分岐し、ビデ用ノズル１１２の先端部に連通する。
分岐流路１７４は、第２の流路１４から分岐し、水膜口１７１に連通する。 The branch flow path 172 branches from the second flow path 14 and communicates with the tip of the buttocks cleaning nozzle 111.
The branch channel 173 branches from the second channel 14 and communicates with the tip of the bidet nozzle 112.
The branch channel 174 branches from the second channel 14 and communicates with the water film port 171.

流調バルブ１７５は、分岐流路１７２及び分岐流路１７３のうち、温水生成部１６で生成された温水を流す分岐流路を一以上選択し、その選択した分岐流路（以下、「選択分岐流路」という。）に温水生成部１６で生成された温水を供給する。ただし、流調バルブ１７５は、分岐流路１７２及び分岐流路１７３のどの分岐流路にも、温水生成部１６で生成された温水を流さない場合には、選択分岐流路を選択しないこともできる。さらに、流調バルブ１７５は、その選択分岐流路に流れる温水の流量を調整可能である。具体的には、流調バルブ１７５は、制御装置１７８から開度が調整されることで、局部洗浄ノズル１０の先端部から吐出させる洗浄水の流量を調整可能である。   The flow control valve 175 selects one or more branch flow channels through which the hot water generated by the hot water generating unit 16 flows from the branch flow channel 172 and the branch flow channel 173, and selects the selected branch flow channel (hereinafter, “selected branch”). The hot water generated by the hot water generator 16 is supplied to the “flow channel”. However, the flow control valve 175 may not select the selected branch flow path when the hot water generated by the hot water generation unit 16 is not flowed into any branch flow path of the branch flow path 172 and the branch flow path 173. it can. Furthermore, the flow control valve 175 can adjust the flow rate of the hot water flowing through the selected branch flow path. Specifically, the flow control valve 175 can adjust the flow rate of the cleaning water discharged from the tip of the local cleaning nozzle 10 by adjusting the opening degree from the control device 178.

流調バルブ１７６は、分岐流路１７４に設けられ、制御装置１７８から開度が調整されることで、分岐流路１７４に流れる温水の流量を調整可能する。すなわち、流調バルブ１７６は、水膜口１７１から局部洗浄ノズル１０の表面に吐出させる温水の流量を調整可能である。   The flow control valve 176 is provided in the branch flow path 174, and the flow rate of the hot water flowing through the branch flow path 174 can be adjusted by adjusting the opening degree from the control device 178. That is, the flow control valve 176 can adjust the flow rate of hot water discharged from the water film port 171 to the surface of the local cleaning nozzle 10.

なお、流調バルブ１７６及び制御装置１７８は、局部洗浄ノズル１０の表面に温水膜を形成するために水膜口１７１から吐出させる温水の流量を調整する流量調整手段として機能する。   The flow control valve 176 and the control device 178 function as a flow rate adjusting unit that adjusts the flow rate of hot water discharged from the water film port 171 in order to form a hot water film on the surface of the local cleaning nozzle 10.

駆動部１７７は、制御装置１７８による制御に基づいて、一対のおしり洗浄用ノズル１１１とビデ用ノズル１１２を、待機位置と洗浄位置との間で、それぞれ個別に進退させることが可能である。   Based on the control by the control device 178, the drive unit 177 can advance and retract the pair of butt cleaning nozzles 111 and the bidet nozzle 112 individually between the standby position and the cleaning position.

制御装置１７８は、給水バルブ１５の駆動を制御することで、第１の流路１３を開放又は閉塞を制御する。
制御装置１７８は、流調バルブ１７５を開弁又は閉弁させることで局部洗浄ノズル１０による局部洗浄を制御する。また、制御装置１７８は、流調バルブ１７５の開度を調整することで、局部洗浄ノズル１０から吐出させる温水の流量を調整する。 The control device 178 controls opening or closing of the first flow path 13 by controlling driving of the water supply valve 15.
The control device 178 controls the local cleaning by the local cleaning nozzle 10 by opening or closing the flow control valve 175. Further, the control device 178 adjusts the flow rate of the hot water discharged from the local cleaning nozzle 10 by adjusting the opening degree of the flow control valve 175.

制御装置１７８は、流調バルブ１７６を開弁又は閉弁させることで、局部洗浄ノズル１０の表面に対する温水膜の形成を制御する。さらに、制御装置１７８は、流調バルブ１７６の開度を調整することで、上記温水膜を形成するために局部洗浄ノズル１０の表面に吐出させる温水の流量を調整することができる。   The control device 178 controls the formation of the hot water film on the surface of the local cleaning nozzle 10 by opening or closing the flow control valve 176. Furthermore, the control device 178 can adjust the flow rate of the hot water discharged on the surface of the local cleaning nozzle 10 in order to form the hot water film by adjusting the opening degree of the flow control valve 176.

ここで、制御装置１７８は、局部洗浄ノズル１０がノズル開口部１１から進出している状態において、水膜口１７１から局部洗浄ノズル１０の表面に温水を吐出させて温水膜を形成する。そして、制御装置１７８は、上記温水膜を形成するにあたって、流調バルブ１７６の開度を調整することで、水膜口１７１から局部洗浄ノズル１０の表面に吐出させる温水の流量を任意に調整することが可能である。すなわち、制御装置１７８は、局部洗浄中や、局部洗浄ノズル１０が待機位置と洗浄位置との間を移動している間において、局部洗浄ノズル１０の表面に温水を吐出させて温水膜を形成するとともに、その温水の流量を任意に調整可能である。   Here, in a state where the local cleaning nozzle 10 has advanced from the nozzle opening 11, the control device 178 discharges hot water from the water film port 171 to the surface of the local cleaning nozzle 10 to form a hot water film. And in forming the said hot water film, the control apparatus 178 adjusts the flow volume of the warm water discharged from the water film port 171 to the surface of the local washing nozzle 10 arbitrarily by adjusting the opening degree of the flow control valve 176. It is possible. That is, the control device 178 forms hot water film by discharging hot water onto the surface of the local cleaning nozzle 10 during local cleaning or while the local cleaning nozzle 10 is moving between the standby position and the cleaning position. At the same time, the flow rate of the hot water can be arbitrarily adjusted.

なお、「局部洗浄ノズル１０がノズル開口部１１から進出している状態」とは、局部洗浄ノズル１０が待機位置から洗浄位置に移動している状態、局部洗浄を実行している状態、及び洗浄位置から待機位置に移動している状態の少なくともいずれかの状態を含む。   Note that “the state in which the local cleaning nozzle 10 has advanced from the nozzle opening 11” means that the local cleaning nozzle 10 has moved from the standby position to the cleaning position, a state in which local cleaning is being performed, and cleaning. It includes at least one of the states of moving from the position to the standby position.

以下に、本発明の一実施形態に係る局部洗浄装置９の温水膜形成の動作について、図３を用いて説明する。なお、以下の説明において、局部洗浄ノズル１０の進退動作として、おしり洗浄用ノズル１１１の進退動作を例として説明する。   Below, operation | movement of the hot water film formation of the local washing | cleaning apparatus 9 which concerns on one Embodiment of this invention is demonstrated using FIG. In the following description, as the advance / retreat operation of the local cleaning nozzle 10, the advance / retreat operation of the buttocks cleaning nozzle 111 will be described as an example.

例えば、使用者がリモコン装置２における局部洗浄ボタンを操作すると、制御装置１７８は、当該操作を検出する。そして、制御装置１７８は、その局部洗浄ボタンが操作されたことを検出すると、給水バルブ１５を制御して第１の流路１３を開放させるとともに、駆動部１７７の駆動を制御して、待機位置ＨＰにあるおしり洗浄用ノズル１１１の進出動作を開始させる（時刻ｔ１）。   For example, when the user operates the local cleaning button in the remote control device 2, the control device 178 detects the operation. When the control device 178 detects that the local washing button has been operated, the control device 178 controls the water supply valve 15 to open the first flow path 13 and also controls the driving of the driving unit 177 to set the standby position. The advance operation of the buttocks cleaning nozzle 111 in the HP is started (time t1).

また、制御装置１７８は、時刻ｔ１において、おしり洗浄用ノズル１１１がノズル開口部１１から進出すると、流調バルブ１７６を開弁させる。さらに、制御装置１７８は、流調バルブ１７６の開度を第１の開度に制御する。これにより、温水生成部１６で生成された温水は、分岐流路１７４を通り、水膜口１７１から第１の流量Ｆ１で吐出される。したがって、この第１の流量Ｆ１の温水により、洗浄用ノズル１１１の表面に温水膜が形成される。   In addition, when the buttocks cleaning nozzle 111 advances from the nozzle opening 11 at time t1, the control device 178 opens the flow control valve 176. Furthermore, the control device 178 controls the opening degree of the flow control valve 176 to the first opening degree. As a result, the hot water generated by the hot water generator 16 passes through the branch channel 174 and is discharged from the water film port 171 at the first flow rate F1. Therefore, a warm water film is formed on the surface of the cleaning nozzle 111 by the warm water at the first flow rate F1.

おしり洗浄用ノズル１１１が洗浄位置ＴＰまで進出すると（時刻ｔ２）、制御装置１７８は、駆動部１７７を制御しておしり洗浄用ノズル１１１の進出動作を停止させる。そして、制御装置１７８は、局部洗浄を実施するために、流調バルブ１７５を制御して、分岐流路１７２を選択分岐流路に選択するとともに流調バルブ１７５を開弁させる。これにより、おしり洗浄用ノズル１１１の先端部から使用者の局部に向けて温水が洗浄水として吐出され、局部洗浄が実行される。   When the buttocks cleaning nozzle 111 advances to the cleaning position TP (time t2), the control device 178 controls the driving unit 177 to stop the advancement operation of the buttocks cleaning nozzle 111. Then, the control device 178 controls the flow control valve 175 to select the branch flow path 172 as the selected branch flow path and open the flow control valve 175 in order to perform local cleaning. Thereby, warm water is discharged as washing water from the front-end | tip part of the nozzle 111 for butt washing | cleaning toward a user's local part, and local cleaning is performed.

ここで、制御装置１７８は、時刻ｔ２において局部洗浄が実行されると、流調バルブ１７６の開度を第１の開度から第２の開度（＜第１の開度）に下げて、水膜口１７１から吐出される温水の流量を第１の流量Ｆ１から第２の流量Ｆ２に下げる。そして、制御装置１７８は、局部洗浄中（時刻ｔ２〜ｔ３）においては、流調バルブ１７６の開度を第２の開度に制御し、水膜口１７１から第２の流量Ｆ２の温水を吐出させる。これは、おしり洗浄用ノズル１１１の進出動作（時刻ｔ１〜ｔ２）時よりも局部洗浄時の方がおしり洗浄用ノズル１１１に汚物が付着する可能性が低い場合が想定されるためである。そのため、制御装置１７８は、局部洗浄中においては、おしり洗浄用ノズル１１１の進出動作よりも、水膜口１７１から吐出される温水の流量を減らす。これにより、水膜口１７１から吐出される温水が便器本体の便鉢や封水に着水することで発生する飛沫の飛散を低減することができる。   Here, when the local cleaning is executed at time t2, the control device 178 reduces the opening of the flow control valve 176 from the first opening to the second opening (<first opening). The flow rate of the hot water discharged from the water film port 171 is decreased from the first flow rate F1 to the second flow rate F2. Then, during the local cleaning (time t2 to t3), the control device 178 controls the opening of the flow control valve 176 to the second opening, and discharges hot water at the second flow rate F2 from the water film port 171. Let This is because there is a possibility that dirt is less likely to adhere to the buttocks cleaning nozzle 111 during local cleaning than during the advancement operation (time t1 to t2) of the buttocks cleaning nozzle 111. Therefore, the control device 178 reduces the flow rate of the hot water discharged from the water film port 171 during the local cleaning, rather than the advance operation of the buttocks cleaning nozzle 111. Thereby, the splash of the splash which generate | occur | produces when the warm water discharged from the water film opening | mouth 171 lands on the toilet bowl and sealing water of a toilet bowl main body can be reduced.

局部洗浄中において、使用者により局部洗浄の停止を指示する操作がリモコン装置２にて行われると、制御装置１７８は、当該操作を検出して、流調バルブ１７５を閉弁することで第２の流路１４から分岐流路１７２への温水の供給を停止する。これにより、局部洗浄を停止する。そして、制御装置１７８は、駆動部１７７の駆動を制御して、洗浄位置にあるおしり洗浄用ノズル１１１の退避動作を開始させる（時刻ｔ３）。   When an operation for instructing the user to stop the local cleaning is performed by the remote control device 2 during the local cleaning, the control device 178 detects the operation and closes the flow control valve 175 to perform the second operation. The supply of hot water from the flow path 14 to the branch flow path 172 is stopped. As a result, the local cleaning is stopped. Then, the control device 178 controls the driving of the drive unit 177 to start the retreat operation of the butt cleaning nozzle 111 at the cleaning position (time t3).

ここで、制御装置１７８は、時刻ｔ３においておしり洗浄用ノズル１１１の退避動作が開始すると、流調バルブ１７６の開度を第２の開度から第３の開度（＜第２の開度）に下げて、水膜口１７１から吐出される温水の流量を第２の流量Ｆ２から第３の流量Ｆ３に下げる。これは、おしり洗浄用ノズル１１１の退避動作（時刻ｔ３〜ｔ４）時は、すでに局部洗浄が終了しているため、洗浄用ノズル１１１に汚物が付着する可能性が極めて低いことが想定されるためである。そのため、制御装置１７８は、おしり洗浄用ノズル１１１の退避動作時においては、局部洗浄中よりも、水膜口１７１から吐出される温水の流量を減らす。これにより、水膜口１７１から吐出される温水が便器本体の便鉢や封水に着水することで発生する飛沫の飛散を低減することができる。   Here, when the retracting operation of the buttocks cleaning nozzle 111 starts at time t3, the control device 178 changes the opening degree of the flow control valve 176 from the second opening degree to the third opening degree (<second opening degree). The flow rate of the hot water discharged from the water film port 171 is decreased from the second flow rate F2 to the third flow rate F3. This is because it is assumed that during the retraction operation of the buttocks cleaning nozzle 111 (time t3 to t4), the local cleaning has already been completed, and therefore the possibility that dirt is attached to the cleaning nozzle 111 is extremely low. It is. Therefore, the control device 178 reduces the flow rate of the hot water discharged from the water film port 171 during the retracting operation of the buttocks cleaning nozzle 111 than during the local cleaning. Thereby, the splash of the splash which generate | occur | produces when the warm water discharged from the water film opening | mouth 171 lands on the toilet bowl and sealing water of a toilet bowl main body can be reduced.

制御装置１７８は、おしり洗浄用ノズル１１１が待機位置ＨＰまで退避されると、流調バルブ１７６を閉弁させることで、水膜口１７１からの温水の吐出を停止する。これにより、おしり洗浄用ノズル１１１の表面における水膜の形成が停止される。
なお、上記実施形態において、制御装置１７８は、おしり洗浄用ノズル１１１の退避動作（時刻ｔ３〜ｔ４）時に、流調バルブ１７６の開度を第３の開度に下げて、水膜口１７１から吐出される温水の流量を第３の流量Ｆ３に下げたが、本発明はこれに限定されない。例えば、制御装置１７８は、おしり洗浄用ノズル１１１の退避動作（時刻ｔ３〜ｔ４）時に、流調バルブ１７６を閉弁させて、水膜口１７１からの温水の吐出を停止させてもよい。 When the buttocks cleaning nozzle 111 is retracted to the standby position HP, the control device 178 closes the flow adjustment valve 176 to stop the discharge of hot water from the water film port 171. Thereby, the formation of the water film on the surface of the buttocks cleaning nozzle 111 is stopped.
In the above embodiment, the controller 178 lowers the opening of the flow control valve 176 to the third opening during the retraction operation of the buttocks cleaning nozzle 111 (time t3 to t4), and from the water film port 171. Although the flow rate of the discharged hot water is lowered to the third flow rate F3, the present invention is not limited to this. For example, the control device 178 may close the flow control valve 176 and stop the discharge of hot water from the water film port 171 during the retracting operation (time t3 to t4) of the buttocks cleaning nozzle 111.

以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は、上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。そのような変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。   As mentioned above, although this invention was demonstrated using embodiment, the technical scope of this invention is not limited to the range as described in the said embodiment. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications or improvements can be added to the above embodiment. It is apparent from the scope of the claims that the embodiments added with such changes or improvements can be included in the technical scope of the present invention.

（変形例１）
上記実施形態では、洗浄部１７は、局部洗浄ノズル１０の進出動作時のすべての期間で温水を水膜口１７１から吐出させたが、本発明はこれに限定されない。例えば、洗浄部１７は、局部洗浄ノズル１０の進出動作時における所定の期間内にのみ水膜口１７１から温水を吐出させてもよい。
以下に、局部洗浄ノズル１０の進出動作時における所定の期間内にのみ水膜口１７１から温水を吐出させる動作について、図４を用いて説明する。 (Modification 1)
In the above embodiment, the cleaning unit 17 discharges the hot water from the water film port 171 during the entire period when the local cleaning nozzle 10 is advanced, but the present invention is not limited to this. For example, the cleaning unit 17 may discharge hot water from the water film port 171 only within a predetermined period during the advance operation of the local cleaning nozzle 10.
Hereinafter, an operation of discharging hot water from the water film port 171 only within a predetermined period during the advance operation of the local cleaning nozzle 10 will be described with reference to FIG.

例えば、使用者がリモコン装置２における局部洗浄ボタンを操作すると、制御装置１７８は、当該操作を検出する。そして、制御装置１７８は、その局部洗浄ボタンが操作されたことを検出すると、給水バルブ１５を制御して第１の流路１３を開放させるとともに、駆動部１７７の駆動を制御して、待機位置ＨＰにあるおしり洗浄用ノズル１１１の進出動作を開始させる（時刻ｔ１）。   For example, when the user operates the local cleaning button in the remote control device 2, the control device 178 detects the operation. When the control device 178 detects that the local washing button has been operated, the control device 178 controls the water supply valve 15 to open the first flow path 13 and also controls the driving of the driving unit 177 to set the standby position. The advance operation of the buttocks cleaning nozzle 111 in the HP is started (time t1).

制御装置１７８は、進出動作時において、待機位置ＨＰにあるおしり洗浄用ノズル１１１がノズル開口から進出して所定位置ＭＰに到達した場合には、流調バルブ１７６を開弁させるとともに、その流調バルブ１７６の開度を第１の開度に制御する（時刻ｔ１´）。ここで、例えば、所定位置ＭＰとは、待機位置ＨＰと洗浄位置ＴＰとの間の位置であって、進出した局部洗浄ノズル１０に汚物が付着しにくい領域（待機位置ＨＰと所定位置ＭＰとの間の位置）と進出した局部洗浄ノズル１０に汚物が付着しやすい領域（所定位置ＭＰと洗浄位置ＴＰとの間の位置）との境界を示す位置である。   The control device 178 opens the flow adjustment valve 176 and opens the flow adjustment valve 176 when the buttocks cleaning nozzle 111 in the standby position HP advances from the nozzle opening and reaches the predetermined position MP during the advance operation. The opening degree of the valve 176 is controlled to the first opening degree (time t1 ′). Here, for example, the predetermined position MP is a position between the standby position HP and the cleaning position TP, and is an area in which filth does not easily adhere to the advanced local cleaning nozzle 10 (the distance between the standby position HP and the predetermined position MP). Between the predetermined position MP and the cleaning position TP).

このように、制御装置１７８は、進出動作を開始してからおしり洗浄用ノズル１１１が所定位置ＭＰに到達するまでは、当該おしり洗浄用ノズル１１１に汚物が付着しにくいため、おしり洗浄用ノズル１１１の表面に温水膜を形成しない。これにより、水膜口１７１から吐出される温水が便器本体の便鉢や封水に着水することで発生する飛沫の飛散を低減することができる。そして、制御装置１７８は、おしり洗浄用ノズル１１１が所定位置ＭＰに到達すると、当該おしり洗浄用ノズル１１１に汚物が付着しやすくなるため、おしり洗浄用ノズル１１１の表面に温水膜を形成する。   As described above, since the control device 178 does not easily attach dirt to the butt washing nozzle 111 from the start of the advance operation until the butt washing nozzle 111 reaches the predetermined position MP, the butt washing nozzle 111 is used. Does not form a hot water film on the surface of Thereby, the splash of the splash which generate | occur | produces when the warm water discharged from the water film opening | mouth 171 lands on the toilet bowl and sealing water of a toilet bowl main body can be reduced. Then, the control device 178 forms a hot water film on the surface of the buttocks cleaning nozzle 111 because the filth easily adheres to the buttocks cleaning nozzle 111 when the buttocks cleaning nozzle 111 reaches the predetermined position MP.

おしり洗浄用ノズル１１１が洗浄位置ＴＰまで進出すると（時刻ｔ２）、制御装置１７８は、駆動部１７７を制御しておしり洗浄用ノズル１１１の進出動作を停止させる。そして、制御装置１７８は、局部洗浄を実施するために、流調バルブ１７５を制御して、分岐流路１７２を選択分岐流路に選択するとともに流調バルブ１７５を開弁させる。これにより、おしり洗浄用ノズル１１１の先端部から使用者の局部に向けて温水が洗浄水として吐出され、局部洗浄が実行される。   When the buttocks cleaning nozzle 111 advances to the cleaning position TP (time t2), the control device 178 controls the driving unit 177 to stop the advancement operation of the buttocks cleaning nozzle 111. Then, the control device 178 controls the flow control valve 175 to select the branch flow path 172 as the selected branch flow path and open the flow control valve 175 in order to perform local cleaning. Thereby, warm water is discharged as washing water from the front-end | tip part of the nozzle 111 for butt washing | cleaning toward a user's local part, and local cleaning is performed.

また、制御装置１７８は、時刻ｔ２において、局部洗浄が実行されると、流調バルブ１７６の開度を第２の開度に下げて、水膜口１７１から吐出される温水の流量を第２の流量Ｆ２に下げる。そして、制御装置１７８は、局部洗浄中（時刻ｔ２〜ｔ３）においては、流調バルブ１７６の開度を第２の開度に制御し、水膜口１７１から第２の流量Ｆ２の温水を吐出させる。   In addition, when the local cleaning is executed at time t2, the control device 178 lowers the opening of the flow control valve 176 to the second opening, and sets the flow rate of the hot water discharged from the water film port 171 to the second. The flow rate is reduced to F2. Then, during the local cleaning (time t2 to t3), the control device 178 controls the opening of the flow control valve 176 to the second opening, and discharges hot water at the second flow rate F2 from the water film port 171. Let

局部洗浄中において、使用者により局部洗浄の停止を指示する操作がリモコン装置２にて行われると、制御装置１７８は、当該操作を検出して、流調バルブ１７５を閉弁することで第２の流路１４から分岐流路１７２への温水の供給を停止する。これにより、局部洗浄を停止する。そして、制御装置１７８は、駆動部１７７の駆動を制御して、洗浄位置ＴＰにあるおしり洗浄用ノズル１１１の退避動作を開始させる（時刻ｔ３）。   When an operation for instructing the user to stop the local cleaning is performed by the remote control device 2 during the local cleaning, the control device 178 detects the operation and closes the flow control valve 175 to perform the second operation. The supply of hot water from the flow path 14 to the branch flow path 172 is stopped. As a result, the local cleaning is stopped. Then, the control device 178 controls the drive of the drive unit 177 to start the retracting operation of the weed cleaning nozzle 111 at the cleaning position TP (time t3).

また、制御装置１７８は、時刻ｔ３において、おしり洗浄用ノズル１１１の退避動作を開始すると、流調バルブ１７６の開度を第３の開度に下げて、水膜口１７１から吐出される温水の流量を第３の流量Ｆ３に下げる。   In addition, when the retracting operation of the buttocks cleaning nozzle 111 is started at time t3, the control device 178 lowers the opening degree of the flow control valve 176 to the third opening degree, and warm water discharged from the water film port 171. The flow rate is lowered to the third flow rate F3.

制御装置１７８は、おしり洗浄用ノズル１１１が洗浄位置ＴＰから所定位置ＭＰまで退避されると（時刻ｔ３´）、流調バルブ１７６を閉弁させることで、水膜口１７１からの温水の吐出を停止する。これにより、水膜口１７１から吐出される温水が便器本体の便鉢や封水に着水することで発生する飛沫の飛散を低減することができる。   When the buttocks cleaning nozzle 111 is retracted from the cleaning position TP to the predetermined position MP (time t3 ′), the control device 178 closes the flow control valve 176, thereby discharging hot water from the water film port 171. Stop. Thereby, the splash of the splash which generate | occur | produces when the warm water discharged from the water film opening | mouth 171 lands on the toilet bowl and sealing water of a toilet bowl main body can be reduced.

制御装置１７８は、おしり洗浄用ノズル１１１が待機位置ＨＰまで退避されると退避動作を停止する（時刻ｔ４）。なお、上記変形例１において、制御装置１７８は、おしり洗浄用ノズル１１１の退避動作（時刻ｔ３〜ｔ３´）時に、流調バルブ１７６の開度を第３の開度に下げて、水膜口１７１から吐出される温水の流量を第３の流量Ｆ３に下げたが、本発明はこれに限定されない。例えば、制御装置１７８は、おしり洗浄用ノズル１１１の退避動作（時刻ｔ３〜ｔ４）時に、流調バルブ１７６を閉弁させて、水膜口１７１からの温水の吐出を停止させてもよい。   The control device 178 stops the retracting operation when the buttocks cleaning nozzle 111 is retracted to the standby position HP (time t4). In the first modification, the control device 178 lowers the opening of the flow control valve 176 to the third opening during the retracting operation of the buttocks cleaning nozzle 111 (time t3 to t3 ′), Although the flow rate of the hot water discharged from 171 is lowered to the third flow rate F3, the present invention is not limited to this. For example, the control device 178 may close the flow control valve 176 and stop the discharge of hot water from the water film port 171 during the retracting operation (time t3 to t4) of the buttocks cleaning nozzle 111.

（変形例２）
上記実施形態では、洗浄部１７は、局部洗浄ノズル１０の進出動作時のすべての期間で一定量の流量の温水を水膜口１７１から吐出させたが、本発明はこれに限定されない。例えば、洗浄部１７は、局部洗浄ノズル１０の進出動作や退避動作時において、局部洗浄ノズル１０の移動位置に応じて水膜口１７１から吐出させる温水の流量を調整してもよい。
以下に、局部洗浄ノズル１０の移動位置に応じて水膜口１７１から吐出させる温水の流量を調整する動作について、図５を用いて説明する。 (Modification 2)
In the above embodiment, the cleaning unit 17 discharges a constant amount of hot water from the water film port 171 during the entire period of the advance operation of the local cleaning nozzle 10, but the present invention is not limited to this. For example, the cleaning unit 17 may adjust the flow rate of the hot water discharged from the water film port 171 according to the movement position of the local cleaning nozzle 10 when the local cleaning nozzle 10 is advanced or retracted.
Below, the operation | movement which adjusts the flow volume of the warm water discharged from the water film port 171 according to the movement position of the local washing nozzle 10 is demonstrated using FIG.

例えば、使用者がリモコン装置２における局部洗浄ボタンを操作すると、制御装置１７８は、当該操作を検出する。そして、制御装置１７８は、その局部洗浄ボタンが操作されたことを検出すると、給水バルブ１５を制御して第１の流路１３を開放させるとともに、駆動部１７７の駆動を制御して、待機位置ＨＰにあるおしり洗浄用ノズル１１１の進出動作を開始させる（時刻ｔ１）。   For example, when the user operates the local cleaning button in the remote control device 2, the control device 178 detects the operation. When the control device 178 detects that the local washing button has been operated, the control device 178 controls the water supply valve 15 to open the first flow path 13 and also controls the driving of the driving unit 177 to set the standby position. The advance operation of the buttocks cleaning nozzle 111 in the HP is started (time t1).

制御装置１７８は、時刻ｔ１において、おしり洗浄用ノズル１１１が進出動作を開始すると、流調バルブ１７６を開弁させる。そして、制御装置１７８は、おしり洗浄用ノズル１１１の進出動作時において、おしり洗浄用ノズル１１１が移動する位置（移動位置）に応じて流調バルブ１７６の開度を変化させる。   The control device 178 opens the flow control valve 176 when the buttocks cleaning nozzle 111 starts the advance operation at time t1. Then, the control device 178 changes the opening degree of the flow control valve 176 in accordance with the position (movement position) at which the buttocks cleaning nozzle 111 moves when the buttocks cleaning nozzle 111 moves forward.

具体的には、制御装置１７８は、おしり洗浄用ノズル１１１の進出動作時において、おしり洗浄用ノズル１１１が洗浄位置ＴＰに近づくほど流調バルブ１７６の開度を増加させる。これにより、制御装置１７８は、おしり洗浄用ノズル１１１が洗浄位置ＴＰに近づくほど、水膜口１７１から吐出される温水の流量が増加させることができる。   Specifically, the control device 178 increases the opening degree of the flow control valve 176 as the buttocks cleaning nozzle 111 approaches the cleaning position TP when the buttocks cleaning nozzle 111 moves forward. Accordingly, the control device 178 can increase the flow rate of the hot water discharged from the water film port 171 as the buttocks cleaning nozzle 111 approaches the cleaning position TP.

おしり洗浄用ノズル１１１が洗浄位置ＴＰまで進出すると（時刻ｔ２）、制御装置１７８は、駆動部１７７を制御しておしり洗浄用ノズル１１１の進出動作を停止させる。そして、制御装置１７８は、局部洗浄を実施するために、流調バルブ１７５を制御して、分岐流路１７２を選択分岐流路に選択するとともに流調バルブ１７５を開弁させる。これにより、おしり洗浄用ノズル１１１の先端部から使用者の局部に向けて温水が洗浄水として吐出され、局部洗浄が実行される。   When the buttocks cleaning nozzle 111 advances to the cleaning position TP (time t2), the control device 178 controls the driving unit 177 to stop the advancement operation of the buttocks cleaning nozzle 111. Then, the control device 178 controls the flow control valve 175 to select the branch flow path 172 as the selected branch flow path and open the flow control valve 175 in order to perform local cleaning. Thereby, warm water is discharged as washing water from the front-end | tip part of the nozzle 111 for butt washing | cleaning toward a user's local part, and local cleaning is performed.

また、制御装置１７８は、時刻ｔ２において、局部洗浄が実行されると、流調バルブ１７６の開度を一定（例えば、第１の開度や第２の開度）に維持することで、その水膜口１７１から吐出される温水の流量を一定に保持する。   In addition, when the local cleaning is executed at time t2, the control device 178 maintains the opening of the flow control valve 176 at a constant value (for example, the first opening or the second opening). The flow rate of the hot water discharged from the water film port 171 is kept constant.

局部洗浄中において、使用者により局部洗浄の停止を指示する操作がリモコン装置２にて行われると、制御装置１７８は、当該操作を検出して、流調バルブ１７５を閉弁することで第２の流路１４から分岐流路１７２への温水の供給を停止する。これにより、局部洗浄を停止する。そして、制御装置１７８は、駆動部１７７の駆動を制御して、洗浄位置にあるおしり洗浄用ノズル１１１の退避動作を開始させる（時刻ｔ３）。   When an operation for instructing the user to stop the local cleaning is performed by the remote control device 2 during the local cleaning, the control device 178 detects the operation and closes the flow control valve 175 to perform the second operation. The supply of hot water from the flow path 14 to the branch flow path 172 is stopped. As a result, the local cleaning is stopped. Then, the control device 178 controls the driving of the drive unit 177 to start the retreat operation of the butt cleaning nozzle 111 at the cleaning position (time t3).

また、制御装置１７８は、時刻ｔ３においておしり洗浄用ノズル１１１の退避動作を開始すると、おしり洗浄用ノズル１１１の移動位置に応じて流調バルブ１７６の開度を変化させる。具体的には、制御装置１７８は、おしり洗浄用ノズル１１１の退避動作時において、おしり洗浄用ノズル１１１が待機位置ＨＰに近づくほど流調バルブ１７６の開度を減少させる。これにより、制御装置１７８は、おしり洗浄用ノズル１１１が待機位置ＨＰに近づくほど、水膜口１７１から吐出される温水の流量が減少させることができる。   Further, when the retracting operation of the buttocks cleaning nozzle 111 is started at time t3, the control device 178 changes the opening degree of the flow control valve 176 according to the movement position of the buttocks cleaning nozzle 111. Specifically, the control device 178 decreases the opening degree of the flow control valve 176 as the buttocks cleaning nozzle 111 approaches the standby position HP during the retracting operation of the buttocks cleaning nozzle 111. Thereby, the control apparatus 178 can reduce the flow volume of the hot water discharged from the water film port 171 as the buttocks cleaning nozzle 111 approaches the standby position HP.

したがって、水膜口１７１から吐出される温水が便器本体の便鉢や封水に着水することで発生する飛沫の飛散を低減することができる。   Therefore, it is possible to reduce splashing of splashes generated by the hot water discharged from the water film port 171 landing on the toilet bowl or the sealing water of the toilet body.

制御装置１７８は、おしり洗浄用ノズル１１１が待機位置ＨＰまで退避されると、流調バルブ１７６を閉弁させることで、水膜口１７１からの温水の吐出を停止する。これにより、おしり洗浄用ノズル１１１の表面における水膜の形成が停止される。
なお、変形例２において、制御装置１７８は、おしり洗浄用ノズル１１１の退避動作（時刻ｔ３〜ｔ４）時に、流調バルブ１７６を閉弁させて、水膜口１７１からの温水の吐出を停止させてもよい。 When the buttocks cleaning nozzle 111 is retracted to the standby position HP, the control device 178 closes the flow adjustment valve 176 to stop the discharge of hot water from the water film port 171. Thereby, the formation of the water film on the surface of the buttocks cleaning nozzle 111 is stopped.
In the second modification, the control device 178 closes the flow control valve 176 and stops the discharge of hot water from the water film port 171 during the retracting operation (time t3 to t4) of the buttocks cleaning nozzle 111. May be.

また、変形例２では、進出動作時や退避動作時において、おしり洗浄用ノズル１１１が移動した距離に応じて比例的に水膜口１７１から吐出される温水の流量が増加させたが、これに限定されない。すなわち、進出動作や退避動作時において、制御装置１７８は、局部洗浄ノズル１０が移動した位置や距離に応じて水膜口１７１から吐出される温水の流量が増加又は減少すればよく、例えば、その温水の流量を指数関数的に増加又は減少させてもよい。   In the second modification, the flow rate of the hot water discharged from the water film port 171 is proportionally increased in accordance with the distance traveled by the buttocks cleaning nozzle 111 during the advance operation and the retreat operation. It is not limited. That is, at the time of the advance operation and the retreat operation, the control device 178 may increase or decrease the flow rate of the hot water discharged from the water film port 171 according to the position and distance to which the local cleaning nozzle 10 has moved. The flow rate of hot water may be increased or decreased exponentially.

（変形例３）
上記実施形態において、洗浄部１７は、局部洗浄時において、局部洗浄ノズル１０から吐出している洗浄水の流量に応じて、局部洗浄ノズル１０の表面に吐出させる温水の流量を調整してもよい。これは、本実施形態では、局部洗浄に用いられる温水（洗浄水）と、水膜口１７１から吐出させる温水とは、同一の温水生成部１６で生成されるものであり、その温水生成部１６で生成される温水の流量には限りがあるためである。 (Modification 3)
In the said embodiment, the washing | cleaning part 17 may adjust the flow volume of the warm water discharged on the surface of the local washing nozzle 10 according to the flow volume of the washing water discharged from the local washing nozzle 10 at the time of local washing | cleaning. . In this embodiment, the hot water (washing water) used for local cleaning and the hot water discharged from the water film port 171 are generated by the same hot water generation unit 16, and the hot water generation unit 16. This is because the flow rate of the hot water generated in is limited.

例えば、局部洗浄の洗浄水の流量、すなわち局部洗浄ノズル１０から吐出する洗浄水の流量を、使用者がリモコン装置２で「強」「中」「弱」の三段階で設定可能であるとする。この場合において、洗浄水の流量が「中」に設定されている場合には、制御装置１７８は、局部洗浄時に水膜口１７１から吐出させる温水の流量を第２の流量Ｆ２に設定する。また、洗浄水の流量が「強」に設定されている場合には、制御装置１７８は、局部洗浄の洗浄水の流量が減少しないように、局部洗浄時に水膜口１７１から吐出させる温水の流量を第２の流量Ｆ２よりも少ない第３の流量Ｆ３に設定する。一方、洗浄水の流量が「小」に設定されている場合には、制御装置１７８は、温水生成部１６で生成される温水の流量に余裕があるため、局部洗浄時に水膜口１７１から吐出させる温水の流量を第２の流量Ｆ２よりも多い第１の流量Ｆ１に設定する。   For example, it is assumed that the flow rate of cleaning water for local cleaning, that is, the flow rate of cleaning water discharged from the local cleaning nozzle 10, can be set by the remote control device 2 in three stages of “strong”, “medium”, and “weak”. . In this case, when the flow rate of the cleaning water is set to “medium”, the control device 178 sets the flow rate of the hot water discharged from the water film port 171 during the local cleaning to the second flow rate F2. In addition, when the flow rate of the cleaning water is set to “strong”, the control device 178 causes the flow rate of the hot water to be discharged from the water film port 171 during the local cleaning so that the flow rate of the cleaning water for the local cleaning does not decrease. Is set to a third flow rate F3 smaller than the second flow rate F2. On the other hand, when the flow rate of the cleaning water is set to “small”, the control device 178 discharges from the water film port 171 during the local cleaning because there is a surplus in the flow rate of the hot water generated by the hot water generation unit 16. The flow rate of the hot water to be set is set to the first flow rate F1 that is larger than the second flow rate F2.

（変形例４）
上記実施形態では、局部洗浄装置９は、給水バルブ１５を通流した水を温水生成部１６で加熱することで温水を生成する、所謂瞬間方式で温水を生成したが、本発明はこれに限定されない。例えば、局部洗浄装置９は、貯湯タンクに温水を貯留するとともに、常時ヒータに通電して所定の温度の温水に制御する方式である、所謂貯湯方式で温水を生成してもよい。 (Modification 4)
In the above embodiment, the local cleaning device 9 generates hot water by a so-called instantaneous method in which hot water is generated by heating the water flowing through the water supply valve 15 with the hot water generating unit 16, but the present invention is not limited thereto. Not. For example, the local cleaning device 9 may generate hot water by a so-called hot water storage system in which hot water is stored in a hot water storage tank and the heater is always energized to control the hot water at a predetermined temperature.

（変形例５）
なお、上記実施形態における水膜口１７１の位置は、温水生成部１６で生成された温水の一部を水膜口１７１から局部洗浄ノズル１０の表面に吐出できる位置であれば、特に限定されない。例えば、図６に示すように、水膜口１７１は、局部洗浄ノズル１０を出し入れ可能な支持部本体３００の上部に形成されてもよい。 (Modification 5)
In addition, the position of the water film port 171 in the above embodiment is not particularly limited as long as a part of the hot water generated by the hot water generating unit 16 can be discharged from the water film port 171 to the surface of the local cleaning nozzle 10. For example, as shown in FIG. 6, the water film port 171 may be formed on the upper portion of the support body 300 that allows the local cleaning nozzle 10 to be taken in and out.

（変形例６）
上記制御装置１７８に含まれる構成要素の少なくとも一部がソフトウエアにより実現される場合、当該構成要素は、一般的な構成の情報処理装置において、当該構成要素に関する動作を規定したソフトウエア又はプログラムを起動することにより実現されてよい。例えば、上記制御装置１７８は、ＣＰＵ、ＧＰＵなどのプロセッサ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、通信インタフェースなどを有して構成される。 (Modification 6)
When at least a part of the constituent elements included in the control device 178 is realized by software, the constituent elements are software or programs that specify operations related to the constituent elements in an information processing apparatus having a general configuration. It may be realized by starting up. For example, the control device 178 includes a processor such as a CPU and a GPU, a ROM, a RAM, a communication interface, and the like.

以上、説明したように、本発明の一実施形態に係る局部洗浄装置９は、局部洗浄ノズル１０の表面に水膜を形成するために当該局部洗浄ノズル１０の表面に吐出する湯水の流量を調整可能な構成を備える。   As described above, the local cleaning device 9 according to an embodiment of the present invention adjusts the flow rate of hot water discharged to the surface of the local cleaning nozzle 10 in order to form a water film on the surface of the local cleaning nozzle 10. It has a possible configuration.

このような構成によれば、局部洗浄ノズル１０の表面に吐出される湯水を低減させることができるため、当該湯水が便器本体の便鉢や封水に着水することで発生する飛沫の飛散を抑制することが可能となる。   According to such a configuration, since hot water discharged to the surface of the local cleaning nozzle 10 can be reduced, splashing of splashes generated by the hot water landing on the toilet bowl and the sealing water of the toilet body is prevented. It becomes possible to suppress.

また、局部洗浄装置９は、局部洗浄ノズル１０がノズル開口部１１から進出している状態における当該局部洗浄ノズル１０の動作に応じて、その局部洗浄ノズル１０の表面に吐出する湯水の流量を調整してもよい。   Further, the local cleaning device 9 adjusts the flow rate of hot water discharged to the surface of the local cleaning nozzle 10 in accordance with the operation of the local cleaning nozzle 10 in a state where the local cleaning nozzle 10 has advanced from the nozzle opening 11. May be.

このような構成によれば、局部洗浄装置９は、局部洗浄ノズル１０の動作に応じて水膜形成のための流量を調整することができる。そのため、局部洗浄ノズル１０の動作によって当該局部洗浄ノズル１０に汚物が付着する蓋然性が変わる場合には、その蓋然性が低い局部洗浄ノズル１０の動作時に上記湯水の流量を低減させることができる。その結果、その湯水が便器本体の便鉢や封水に着水することで発生する飛沫の飛散を抑制することが可能となる。   According to such a configuration, the local cleaning device 9 can adjust the flow rate for forming a water film in accordance with the operation of the local cleaning nozzle 10. Therefore, when the probability that filth adheres to the local cleaning nozzle 10 is changed by the operation of the local cleaning nozzle 10, the flow rate of the hot water can be reduced during the operation of the local cleaning nozzle 10 having a low probability. As a result, it is possible to suppress splashing of the splashes generated when the hot water reaches the toilet bowl or the sealing water of the toilet body.

また、局部洗浄装置９は、局部洗浄ノズル１０が待機位置ＨＰから洗浄位置ＴＰに移動する場合、局部洗浄を実行している場合、洗浄位置ＴＰから待機位置ＨＰに移動する場合との少なくともいずれかの場合において、局部洗浄ノズル１０の表面に吐出する湯水の流量を調整してもよい。   The local cleaning device 9 is at least one of the case where the local cleaning nozzle 10 moves from the standby position HP to the cleaning position TP, the case where local cleaning is being performed, and the case where the local cleaning nozzle 10 moves from the cleaning position TP to the standby position HP. In this case, the flow rate of hot water discharged to the surface of the local cleaning nozzle 10 may be adjusted.

また、局部洗浄装置９は、局部洗浄ノズル１０がノズル開口部１１から進出している位置に応じて、局部洗浄ノズル１０の表面に吐出する湯水の流量を調整してもよい。   Further, the local cleaning device 9 may adjust the flow rate of hot water discharged to the surface of the local cleaning nozzle 10 according to the position where the local cleaning nozzle 10 has advanced from the nozzle opening 11.

このような構成によれば、局部洗浄装置９は、局部洗浄ノズル１０の退避動作時において、移動している局部洗浄ノズル１０に汚物が付着する可能性が低い場合には、当該局部洗浄ノズル１０の表面に吐出される湯水を減少させることができ、飛沫の飛散を抑制することが可能となる。   According to such a configuration, when the local cleaning nozzle 9 is in the retracting operation of the local cleaning nozzle 10 and the possibility that dirt is attached to the moving local cleaning nozzle 10 is low, the local cleaning nozzle 10 Hot water discharged on the surface of the water can be reduced, and splashing of the splash can be suppressed.

また、局部洗浄装置９は、局部洗浄時において、局部洗浄ノズル１０から吐出される洗浄水の流量に応じて、局部洗浄ノズル１０の表面に吐出される湯水の流量を調整してもよい。   Further, the local cleaning device 9 may adjust the flow rate of hot water discharged to the surface of the local cleaning nozzle 10 according to the flow rate of cleaning water discharged from the local cleaning nozzle 10 during local cleaning.

このような構成によれば、局部洗浄に用いる温水と水膜形成に用いる温水とを瞬間方式の温水生成部１６で生成する場合には、その温水生成部１６で生成される温度をより効率よく使用することができる。   According to such a configuration, when the hot water used for local cleaning and the hot water used for water film formation are generated by the instantaneous hot water generator 16, the temperature generated by the hot water generator 16 is more efficiently generated. Can be used.

Ａ トイレシステム
１ トイレ装置
２ リモコン装置
９ 局部洗浄装置
１０ 局部洗浄ノズル
１１ ノズル開口部（開口部）
１６ 温水生成部
１７ 洗浄部
Ｓ 給水源 A Toilet system 1 Toilet device 2 Remote control device 9 Local cleaning device 10 Local cleaning nozzle 11 Nozzle opening (opening)
16 Hot water generation part 17 Cleaning part S Water supply source

Claims (5)

開口部から進出させた局部洗浄ノズルから洗浄水を吐出させることで局部洗浄を実行する局部洗浄装置であって、
前記局部洗浄ノズルが前記開口部から進出している状態において、前記局部洗浄ノズルの表面に湯水を吐出することで当該表面に水膜を形成する洗浄部を備え、
前記洗浄部は、前記表面に吐出する前記湯水の流量を調整可能であることを特徴とする局部洗浄装置。 A local cleaning device that performs local cleaning by discharging cleaning water from a local cleaning nozzle that has advanced from an opening,
In a state where the local cleaning nozzle has advanced from the opening, a cleaning unit that forms a water film on the surface by discharging hot water onto the surface of the local cleaning nozzle,
The local cleaning apparatus, wherein the cleaning unit is capable of adjusting a flow rate of the hot water discharged to the surface. 前記洗浄部は、前記局部洗浄ノズルが前記開口部から進出している状態における当該局部洗浄ノズルの動作に応じて前記表面に吐出する前記湯水の流量を調整する請求項１に記載の局部洗浄装置。   The local cleaning apparatus according to claim 1, wherein the cleaning unit adjusts a flow rate of the hot water discharged to the surface in accordance with an operation of the local cleaning nozzle in a state where the local cleaning nozzle is advanced from the opening. . 前記洗浄部は、前記局部洗浄ノズルが待機位置から洗浄位置に移動する場合、前記局部洗浄を実行している場合、前記洗浄位置から前記待機位置に移動する場合との少なくともいずれかの場合において、前記表面に吐出する前記湯水の流量を調整する請求項１に記載の局部洗浄装置。   In the case of at least one of the case where the local cleaning nozzle moves from the standby position to the cleaning position, the local cleaning is performed, and the case where the local cleaning nozzle moves from the cleaning position to the standby position, The local cleaning apparatus of Claim 1 which adjusts the flow volume of the said hot water discharged to the said surface. 前記洗浄部は、前記局部洗浄ノズルが前記開口部から進出している位置に応じて前記表面に吐出する前記湯水の流量を調整する請求項２から４のいずれか一項に記載の局部洗浄装置。   The local cleaning device according to any one of claims 2 to 4, wherein the cleaning unit adjusts a flow rate of the hot water discharged to the surface according to a position where the local cleaning nozzle has advanced from the opening. . 前記洗浄部は、局部洗浄時において、前記局部洗浄ノズルから吐出している洗浄水の流量に応じて、前記表面に吐出される前記湯水の流量を調整する請求項１から４のいずれか一項に記載の局部洗浄装置。   The said washing | cleaning part adjusts the flow volume of the said hot water discharged to the said surface according to the flow volume of the washing water currently discharged from the said local washing nozzle at the time of local washing | cleaning. The local cleaning device described in 1.

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