JP2019160969A - Power conversion device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電力変換装置に関する。 The present invention relates to a power conversion device.
従来、ハイブリッドパワーコントロールユニットを含むハイブリッド車両が知られている(例えば、特許文献1参照)。このハイブリッドパワーコントロールユニットは、動作中に熱を発生するチップが内部に配置されたパワーモジュールと、パワーモジュールからの熱を冷却する冷却器とを含む。このハイブリッドパワーコントロールユニットには、チップとパワーモジュールとを接合するチップはんだ付け界面材料が設けられ、内部はんだ層を形成する。より低温のはんだ付け界面材料は、電力モジュールおよび冷却器を接着して外部はんだ層を形成する。 Conventionally, a hybrid vehicle including a hybrid power control unit is known (see, for example, Patent Document 1). The hybrid power control unit includes a power module in which a chip that generates heat during operation is disposed, and a cooler that cools the heat from the power module. The hybrid power control unit is provided with a chip soldering interface material that joins the chip and the power module to form an internal solder layer. The cooler soldering interface material bonds the power module and cooler to form an external solder layer.
上述したハイブリッド車両では、チップと冷却器とが、DBC(Direct bonded Copper)基板を介して熱的に接続されている。ところで、上述したハイブリッド車両では、DBC基板のチップ側の導電層の厚さと、冷却器側の導電層(熱伝導層)の厚さとが等しく設定されている。そのため、上述したハイブリッド車両では、チップ側の導電層の表面積が小さくなり、パワーモジュールの浮遊インダクタンスが増加するおそれがある。 In the hybrid vehicle described above, the chip and the cooler are thermally connected via a DBC (Direct bonded Copper) substrate. By the way, in the hybrid vehicle described above, the thickness of the conductive layer on the chip side of the DBC substrate is set equal to the thickness of the conductive layer (thermal conductive layer) on the cooler side. Therefore, in the hybrid vehicle described above, the surface area of the conductive layer on the chip side may be reduced, and the floating inductance of the power module may increase.
上述した問題点に鑑み、本発明は、スイッチング素子の電極に対向しかつ電気的に接続されている導電層の表面積の低下を抑制し、浮遊インダクタンスの増加を抑制することができる電力変換装置を提供することを目的とする。 In view of the above-described problems, the present invention provides a power converter that can suppress a decrease in the surface area of a conductive layer facing and electrically connected to an electrode of a switching element, and can suppress an increase in stray inductance. The purpose is to provide.
(1)本発明の一態様に係る電力変換装置は、一方の面に第1電極が配置されたスイッチング素子と、前記第1電極に対向しかつ電気的に接続されている第1導電層と、セラミックで構成された第1電気絶縁層と、前記第1電気絶縁層を隔てて前記第1導電層の反対側に配置された第2導電層とを有する第1基板と、前記スイッチング素子と前記第1基板の一部とを覆う樹脂部とを備え、前記第1導電層の厚さは、前記第2導電層の厚さよりも大きい。 (1) A power converter according to an aspect of the present invention includes a switching element having a first electrode disposed on one surface, a first conductive layer facing and electrically connected to the first electrode. A first substrate having a first electrically insulating layer made of ceramic and a second electrically conductive layer disposed on the opposite side of the first electrically conductive layer across the first electrically insulating layer; and the switching element. A resin portion covering a part of the first substrate, wherein the thickness of the first conductive layer is greater than the thickness of the second conductive layer.
(2)上記(1)に記載の電力変換装置では、前記第1導電層の線膨張係数は、銅の線膨張係数よりも小さく、前記第2導電層の線膨張係数は、銅の線膨張係数よりも小さくてもよい。 (2) In the power conversion device according to (1), the linear expansion coefficient of the first conductive layer is smaller than the linear expansion coefficient of copper, and the linear expansion coefficient of the second conductive layer is the linear expansion coefficient of copper. It may be smaller than the coefficient.
(3)上記(1)に記載の電力変換装置では、前記第1導電層の線膨張係数は、前記第2導電層の線膨張係数よりも小さくてもよい。 (3) In the power converter described in (1) above, the linear expansion coefficient of the first conductive layer may be smaller than the linear expansion coefficient of the second conductive layer.
(4)上記(1)に記載の電力変換装置では、前記第1基板は、前記第1導電層の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する第1低熱膨張率部と、前記第2導電層の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する第2低熱膨張率部とを更に備え、前記第1低熱膨張率部は、前記第1電気絶縁層と前記第1導電層との間に配置され、前記第2低熱膨張率部は、前記第1電気絶縁層と前記第2導電層との間に配置されてもよい。 (4) In the power conversion device according to (1), the first substrate has a first low thermal expansion coefficient part having a linear expansion coefficient smaller than that of the first conductive layer, and the second conductive material. A second low thermal expansion coefficient portion having a linear expansion coefficient smaller than the linear expansion coefficient of the layer, and the first low thermal expansion coefficient portion is disposed between the first electrical insulating layer and the first conductive layer. The second low thermal expansion coefficient part may be disposed between the first electrical insulating layer and the second conductive layer.
(5)上記(1)に記載の電力変換装置では、前記スイッチング素子の他方の面には、第2電極が配置され、前記第2電極に対向しかつ電気的に接続されている第3導電層と、セラミックで構成された第2電気絶縁層と、前記第2電気絶縁層を隔てて前記第3導電層の反対側に配置された第4導電層とを有する第2基板を更に備え、前記第2基板の一部は、前記樹脂部によって覆われ、前記第3導電層の厚さは、前記第4導電層の厚さよりも大きくてもよい。 (5) In the power conversion device according to (1), the second electrode is disposed on the other surface of the switching element, and the third conductivity is opposed to and electrically connected to the second electrode. A second substrate having a layer, a second electrically insulating layer made of ceramic, and a fourth electrically conductive layer disposed on the opposite side of the third electrically conductive layer across the second electrically insulating layer, A part of the second substrate may be covered with the resin part, and the thickness of the third conductive layer may be larger than the thickness of the fourth conductive layer.
(6)上記(5)に記載の電力変換装置では、前記第3導電層の線膨張係数は、銅の線膨張係数よりも小さく、前記第4導電層の線膨張係数は、銅の線膨張係数よりも小さくてもよい。 (6) In the power converter described in (5) above, the linear expansion coefficient of the third conductive layer is smaller than the linear expansion coefficient of copper, and the linear expansion coefficient of the fourth conductive layer is the linear expansion coefficient of copper. It may be smaller than the coefficient.
(7)上記(5)に記載の電力変換装置では、前記第3導電層の線膨張係数は、前記第4導電層の線膨張係数よりも小さくてもよい。 (7) In the power converter according to (5) above, the linear expansion coefficient of the third conductive layer may be smaller than the linear expansion coefficient of the fourth conductive layer.
(8)上記(5)に記載の電力変換装置では、前記第2基板は、前記第3導電層の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する第3低熱膨張率部と、前記第4導電層の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する第4低熱膨張率部とを更に備え、前記第3低熱膨張率部は、前記第2電気絶縁層と前記第3導電層との間に配置され、前記第4低熱膨張率部は、前記第2電気絶縁層と前記第4導電層との間に配置されてもよい。 (8) In the power conversion device according to (5), the second substrate includes a third low thermal expansion coefficient part having a linear expansion coefficient smaller than that of the third conductive layer, and the fourth conductive material. A fourth low thermal expansion coefficient portion having a linear expansion coefficient smaller than the linear expansion coefficient of the layer, and the third low thermal expansion coefficient portion is disposed between the second electrically insulating layer and the third conductive layer. The fourth low coefficient of thermal expansion may be disposed between the second electrical insulating layer and the fourth conductive layer.
上記(1)に記載の電力変換装置では、スイッチング素子を流れる電流経路の一部を構成する第1導電層の厚さが第2導電層の厚さよりも大きい。
そのため、上記(1)に記載の電力変換装置では、第1導電層の厚さと第2導電層の厚さとが等しい場合よりも、第1導電層の表面積の低下を抑制することができ、電力変換装置における浮遊インダクタンスの増加を抑制することができる。
In the power conversion device described in (1) above, the thickness of the first conductive layer constituting a part of the current path flowing through the switching element is larger than the thickness of the second conductive layer.
Therefore, in the power conversion device described in (1) above, it is possible to suppress a decrease in the surface area of the first conductive layer, compared to the case where the thickness of the first conductive layer is equal to the thickness of the second conductive layer, An increase in stray inductance in the converter can be suppressed.
上記(2)に記載の電力変換装置では、第1導電層の線膨張係数は、銅の線膨張係数よりも小さく、第2導電層の線膨張係数は、銅の線膨張係数よりも小さくてもよい。
そのように構成する場合、上記(2)に記載の電力変換装置では、第1導電層の線膨張係数が銅の線膨張係数と等しく、第2導電層の線膨張係数が銅の線膨張係数と等しい場合よりも、第1電気絶縁層にかかる熱応力を抑制することができる。
In the power converter described in (2) above, the linear expansion coefficient of the first conductive layer is smaller than that of copper, and the linear expansion coefficient of the second conductive layer is smaller than that of copper. Also good.
In such a configuration, in the power conversion device described in (2) above, the linear expansion coefficient of the first conductive layer is equal to the linear expansion coefficient of copper, and the linear expansion coefficient of the second conductive layer is equal to the linear expansion coefficient of copper. It is possible to suppress the thermal stress applied to the first electrical insulating layer, compared to the case where
上記(3)に記載の電力変換装置では、第1導電層の線膨張係数は、第2導電層の線膨張係数よりも小さくてもよい。
そのように構成する場合、上記(3)に記載の電力変換装置では、第1導電層の全体の熱膨張量と第2導電層の全体の熱膨張量との差を小さくすることができ、第1電気絶縁層にかかる熱応力を抑制することができる。
In the power converter described in (3) above, the linear expansion coefficient of the first conductive layer may be smaller than the linear expansion coefficient of the second conductive layer.
In such a configuration, in the power conversion device according to (3) above, the difference between the total thermal expansion amount of the first conductive layer and the total thermal expansion amount of the second conductive layer can be reduced, Thermal stress applied to the first electrical insulating layer can be suppressed.
上記(4)に記載の電力変換装置では、第1基板は、第1導電層の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する第1低熱膨張率部と、第2導電層の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する第2低熱膨張率部とを更に備えてもよい。
そのように構成する場合、上記(4)に記載の電力変換装置では、第1基板が第1低熱膨張率部と第2低熱膨張率部とを備えない場合よりも、第1電気絶縁層にかかる熱応力を抑制することができる。
In the power conversion device according to (4) above, the first substrate has a first low thermal expansion coefficient part having a linear expansion coefficient smaller than that of the first conductive layer, and a linear expansion coefficient of the second conductive layer. And a second low coefficient of thermal expansion having a small linear expansion coefficient.
In the case of such a configuration, in the power conversion device described in (4) above, the first electric insulating layer is formed in the first substrate as compared with the case where the first substrate does not include the first low thermal expansion coefficient portion and the second low thermal expansion coefficient portion. Such thermal stress can be suppressed.
上記(5)に記載の電力変換装置では、スイッチング素子を流れる電流経路の一部を構成する第3導電層の厚さが第4導電層の厚さよりも大きくてもよい。
そのように構成する場合、上記(5)に記載の電力変換装置では、第3導電層の厚さと第4導電層の厚さとが等しい場合よりも、第3導電層の表面積の低下を抑制することができ、電力変換装置における浮遊インダクタンスの増加を抑制することができる。
In the power converter described in (5) above, the thickness of the third conductive layer that constitutes part of the current path that flows through the switching element may be greater than the thickness of the fourth conductive layer.
In such a configuration, in the power conversion device described in (5) above, it is possible to suppress a decrease in the surface area of the third conductive layer, compared to the case where the thickness of the third conductive layer is equal to the thickness of the fourth conductive layer. And increase in stray inductance in the power converter can be suppressed.
上記(6)に記載の電力変換装置では、第3導電層の線膨張係数は、銅の線膨張係数よりも小さく、第4導電層の線膨張係数は、銅の線膨張係数よりも小さくてもよい。
そのように構成する場合、上記(6)に記載の電力変換装置では、第3導電層の線膨張係数が銅の線膨張係数と等しく、第4導電層の線膨張係数が銅の線膨張係数と等しい場合よりも、第2電気絶縁層にかかる熱応力を抑制することができる。
In the power conversion device according to (6) above, the linear expansion coefficient of the third conductive layer is smaller than the linear expansion coefficient of copper, and the linear expansion coefficient of the fourth conductive layer is smaller than the linear expansion coefficient of copper. Also good.
In such a configuration, in the power conversion device described in (6) above, the linear expansion coefficient of the third conductive layer is equal to the linear expansion coefficient of copper, and the linear expansion coefficient of the fourth conductive layer is the linear expansion coefficient of copper. It is possible to suppress the thermal stress applied to the second electrical insulating layer, compared to the case where
上記(7)に記載の電力変換装置では、第3導電層の線膨張係数は、第4導電層の線膨張係数よりも小さくてもよい。
そのように構成する場合、上記(7)に記載の電力変換装置では、第3導電層の全体の熱膨張量と第4導電層の全体の熱膨張量との差を小さくすることができ、第2電気絶縁層にかかる熱応力を抑制することができる。
In the power converter described in (7) above, the linear expansion coefficient of the third conductive layer may be smaller than the linear expansion coefficient of the fourth conductive layer.
In such a configuration, in the power conversion device according to (7) above, the difference between the total thermal expansion amount of the third conductive layer and the total thermal expansion amount of the fourth conductive layer can be reduced, Thermal stress applied to the second electrical insulating layer can be suppressed.
上記(8)に記載の電力変換装置では、第2基板は、第3導電層の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する第3低熱膨張率部と、第4導電層の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する第4低熱膨張率部とを更に備えてもよい。
そのように構成する場合、上記(8)に記載の電力変換装置では、第2基板が第3低熱膨張率部と第4低熱膨張率部とを備えない場合よりも、第2電気絶縁層にかかる熱応力を抑制することができる。
In the power conversion device according to (8) above, the second substrate has a third low thermal expansion coefficient part having a linear expansion coefficient smaller than that of the third conductive layer, and a linear expansion coefficient of the fourth conductive layer. And a fourth low coefficient of thermal expansion having a smaller linear expansion coefficient.
In the case of such a configuration, in the power conversion device according to (8) above, the second electric insulating layer is formed in the second substrate more than in the case where the second substrate does not include the third low thermal expansion coefficient portion and the fourth low thermal expansion coefficient portion. Such thermal stress can be suppressed.
以下、本発明の電力変換装置の実施形態について添付図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, embodiments of a power conversion device of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
<第1実施形態>
図1は第1実施形態の電力変換装置1の一例を示す図である。詳細には、図1は樹脂部MLの内部を透視して見た第1実施形態の電力変換装置1の左側面図である。図2は図1中のスイッチング素子UHのみを抽出して示した図である。図3は図1中の基板SA、SBのみを抽出して示した図である。詳細には、図3(A)は図1中の基板SAのみを抽出して示した図である。図3(B)は図1中の基板SBのみを抽出して示した図である。
<First Embodiment>
Drawing 1 is a figure showing an example of
図1〜図3に示す例では、電力変換装置1が、スイッチング素子UHと、基板SAと、基板SBと、スペーサSPUHと、正極側導電体(Pバスバー)PIと、出力側導電体(出力バスバー)51と、樹脂部MLとを備えている。
スイッチング素子UHは、例えばIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)、MOSFET(Metal Oxide Semi-conductor Field Effect Transistor)等のような半導体素子である。
図2に示すように、スイッチング素子UHの一方(図2の下側)の面UHAには、電極UHA1が配置されている。スイッチング素子UHの他方(図2の上側)の面UHBには、電極UHB1と、駆動信号が入力されるゲート電極(図示せず)とが配置されている。
In the example illustrated in FIGS. 1 to 3, the
The switching element UH is a semiconductor element such as an IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor) or a MOSFET (Metal Oxide Semi-conductor Field Effect Transistor).
As shown in FIG. 2, the electrode UHA1 is arranged on one surface UHA of the switching element UH (the lower side in FIG. 2). An electrode UHB1 and a gate electrode (not shown) to which a drive signal is input are arranged on the other surface UHB of the switching element UH (upper side in FIG. 2).
図3(A)に示すように、基板SAは、スイッチング素子UHの電極UHA1に対向して配置された導電層SA1と、セラミックで構成された電気絶縁層SA2と、電気絶縁層SA2を隔てて導電層SA1の反対側(図3(A)の下側)に配置された導電層SA3とを有する。
図3(B)に示すように、基板SBは、スイッチング素子UHの電極UHB1に対向して配置された導電層SB1と、セラミックで構成された電気絶縁層SB2と、電気絶縁層SB2を隔てて導電層SB1の反対側(図3(B)の上側)に配置された導電層SB3とを有する。
すなわち、基板SA及び基板SBの各々は、DCB(Direct Copper Bonding)基板である。
As shown in FIG. 3A, the substrate SA separates the conductive layer SA1 disposed facing the electrode UHA1 of the switching element UH, the electrical insulating layer SA2 made of ceramic, and the electrical insulating layer SA2. The conductive layer SA3 is disposed on the opposite side of the conductive layer SA1 (the lower side in FIG. 3A).
As shown in FIG. 3B, the substrate SB has a conductive layer SB1 disposed opposite to the electrode UHB1 of the switching element UH, an electric insulating layer SB2 made of ceramic, and an electric insulating layer SB2. A conductive layer SB3 disposed on the opposite side of the conductive layer SB1 (the upper side in FIG. 3B).
That is, each of the substrate SA and the substrate SB is a DCB (Direct Copper Bonding) substrate.
図1〜図3に示す例では、基板SAの導電層SA1が、スイッチング素子UHの電極UHA1に電気的に接続されている。スイッチング素子UHの電極UHB1と基板SBの導電層SB1との間には、スペーサSPUHが配置されている。基板SBの導電層SB1は、スペーサSPUHを介してスイッチング素子UHの電極UHB1に電気的に接続されている。
正極側導電体PIは、基板SAの導電層SA1に電気的に接続されている。出力側導電体51は、基板SBの導電層SB1に電気的に接続されている。
スイッチング素子UHのオン時に、正極側導電体PIから基板SAの導電層SA1に流れる電流は、次いで、スイッチング素子UHの電極UHA1から電極UHB1に流れ、次いで、スペーサSPUHを介して、基板SBの導電層SB1から出力側導電体51に流れる。
スイッチング素子UH、スペーサSPUH、基板SAの一部、基板SBの一部、正極側導電体PIの一部、および、出力側導電体51の一部は、樹脂部MLによって覆われている。基板SAの導電層SA3の少なくとも一部は、樹脂部MLの外部に露出させられる。好ましくは、基板SAの導電層SA3のうちの樹脂部MLの外部に露出させられた部分が、放熱部(図示せず)に接続される。基板SBの導電層SB3の少なくとも一部は、樹脂部MLの外部に露出させられる。好ましくは、基板SBの導電層SB3のうちの樹脂部MLの外部に露出させられた部分が、他の放熱部(図示せず)に接続される。
In the example shown in FIGS. 1 to 3, the conductive layer SA1 of the substrate SA is electrically connected to the electrode UHA1 of the switching element UH. A spacer SPUH is disposed between the electrode UHB1 of the switching element UH and the conductive layer SB1 of the substrate SB. The conductive layer SB1 of the substrate SB is electrically connected to the electrode UHB1 of the switching element UH via the spacer SPUH.
The positive electrode side conductor PI is electrically connected to the conductive layer SA1 of the substrate SA. The output-
When the switching element UH is turned on, the current that flows from the positive electrode side conductor PI to the conductive layer SA1 of the substrate SA then flows from the electrode UHA1 of the switching element UH to the electrode UHB1, and then the conductivity of the substrate SB via the spacer SPUH. It flows from the layer SB1 to the output-
Switching element UH, spacer SPUH, part of substrate SA, part of substrate SB, part of positive electrode side conductor PI, and part of
図3(A)に示すように、スイッチング素子UHを流れる電流経路の一部を構成する基板SAの導電層SA1の厚さは、導電層SA3の厚さよりも大きく設定されている。そのため、図1〜図3に示す例では、導電層SA1の厚さと導電層SA3の厚さとが等しい場合よりも、導電層SA1の表面積の低下を抑制することができ、電力変換装置1における浮遊インダクタンスの増加を抑制することができる。詳細には、図1〜図3に示す例では、基板SAにおける熱抵抗を、導電層SA1の厚さと導電層SA3の厚さとが等しい場合と同等に維持しつつ、導電層SA1の表面積を、導電層SA1の厚さと導電層SA3の厚さとが等しい場合よりも増加させることができる。
図3(B)に示すように、スイッチング素子UHを流れる電流経路の一部を構成する基板SBの導電層SB1の厚さは、導電層SB3の厚さよりも大きく設定されている。そのため、図1〜図3に示す例では、導電層SB1の厚さと導電層SB3の厚さとが等しい場合よりも、導電層SB1の表面積の低下を抑制することができ、電力変換装置1における浮遊インダクタンスの増加を抑制することができる。詳細には、図1〜図3に示す例では、基板SBにおける熱抵抗を、導電層SB1の厚さと導電層SB3の厚さとが等しい場合と同等に維持しつつ、導電層SB1の表面積を、導電層SB1の厚さと導電層SB3の厚さとが等しい場合よりも増加させることができる。
つまり、図1〜図3に示す例では、スイッチング素子UHの冷却性能を維持しつつ、電力変換装置1を低インダクタンス化することができる。
As shown in FIG. 3A, the thickness of the conductive layer SA1 of the substrate SA that forms part of the current path that flows through the switching element UH is set to be larger than the thickness of the conductive layer SA3. Therefore, in the example shown in FIGS. 1 to 3, a decrease in the surface area of the conductive layer SA1 can be suppressed as compared with the case where the thickness of the conductive layer SA1 is equal to the thickness of the conductive layer SA3. An increase in inductance can be suppressed. Specifically, in the example shown in FIGS. 1 to 3, the surface area of the conductive layer SA1 is maintained while maintaining the thermal resistance of the substrate SA equal to the case where the thickness of the conductive layer SA1 is equal to the thickness of the conductive layer SA3. The thickness can be increased as compared with the case where the thickness of the conductive layer SA1 is equal to the thickness of the conductive layer SA3.
As shown in FIG. 3B, the thickness of the conductive layer SB1 of the substrate SB constituting a part of the current path flowing through the switching element UH is set to be larger than the thickness of the conductive layer SB3. Therefore, in the example shown in FIGS. 1 to 3, a decrease in the surface area of the conductive layer SB1 can be suppressed as compared with the case where the thickness of the conductive layer SB1 is equal to the thickness of the conductive layer SB3. An increase in inductance can be suppressed. Specifically, in the example illustrated in FIGS. 1 to 3, the surface area of the conductive layer SB1 is maintained while maintaining the thermal resistance of the substrate SB equal to the case where the thickness of the conductive layer SB1 is equal to the thickness of the conductive layer SB3. The thickness can be increased as compared with the case where the thickness of the conductive layer SB1 is equal to the thickness of the conductive layer SB3.
That is, in the example shown in FIGS. 1 to 3, the
図1〜図3に示す例では、基板SAが導電層SA1と電気絶縁層SA2と導電層SA3とを有すると共に、基板SBが導電層SB1と電気絶縁層SB2と導電層SB3とを有するが、他の例では、基板SAが導電層SA1と電気絶縁層SA2と導電層SA3とを有すると共に、基板SBが導電層SB1のみを有してもよい。更に他の例では、基板SAが導電層SA1のみを有すると共に、基板SBが導電層SB1と電気絶縁層SB2と導電層SB3とを有してもよい。 In the example shown in FIGS. 1 to 3, the substrate SA has a conductive layer SA1, an electrical insulating layer SA2, and a conductive layer SA3, and the substrate SB has a conductive layer SB1, an electrical insulating layer SB2, and a conductive layer SB3. In another example, the substrate SA may include the conductive layer SA1, the electrical insulating layer SA2, and the conductive layer SA3, and the substrate SB may include only the conductive layer SB1. In yet another example, the substrate SA may include only the conductive layer SA1, and the substrate SB may include the conductive layer SB1, the electrical insulating layer SB2, and the conductive layer SB3.
図1〜図3に示す例では、基板SAの導電層SA1の厚さが、導電層SA3の厚さより大きく設定されると共に、基板SBの導電層SB1の厚さが、導電層SB3の厚さより大きく設定されているが、他の例では、基板SAの導電層SA1の厚さが、導電層SA3の厚さより大きく設定されると共に、基板SBの導電層SB1の厚さが、導電層SB3の厚さと等しく設定されてもよい。更に他の例では、基板SAの導電層SA1の厚さが、導電層SA3の厚さと等しく設定されると共に、基板SBの導電層SB1の厚さが、導電層SB3の厚さより大きく設定されてもよい。 1 to 3, the thickness of the conductive layer SA1 of the substrate SA is set larger than the thickness of the conductive layer SA3, and the thickness of the conductive layer SB1 of the substrate SB is larger than the thickness of the conductive layer SB3. In another example, the thickness of the conductive layer SA1 of the substrate SA is set to be larger than the thickness of the conductive layer SA3, and the thickness of the conductive layer SB1 of the substrate SB is equal to that of the conductive layer SB3. It may be set equal to the thickness. In yet another example, the thickness of the conductive layer SA1 of the substrate SA is set equal to the thickness of the conductive layer SA3, and the thickness of the conductive layer SB1 of the substrate SB is set larger than the thickness of the conductive layer SB3. Also good.
<第2実施形態>
以下、本発明の電力変換装置1の第2実施形態について説明する。
第2実施形態の電力変換装置1は、後述する点を除き、上述した第1実施形態の電力変換装置1と同様に構成されている。従って、第2実施形態の電力変換装置1によれば、後述する点を除き、上述した第1実施形態の電力変換装置1と同様の効果を奏することができる。
Second Embodiment
Hereinafter, 2nd Embodiment of the
The
図1〜図3に示す例では、基板SAの導電層SA1の材料として銅が用いられ、導電層SA3の材料として銅が用いられると共に、基板SBの導電層SB1の材料として銅が用いられ、導電層SB3の材料として銅が用いられている。
銅によって形成された導電層SA1の厚さが、銅によって形成された導電層SA3の厚さよりも大きい場合には、熱膨張に伴って導電層SA1が広がる力が、熱膨張に伴って導電層SA3が広がる力よりも大きくなる。その結果、基板SAの電気絶縁層SA2に熱応力がかかるおそれがある。同様に、銅によって形成された導電層SB1の厚さが、銅によって形成された導電層SB3の厚さよりも大きい場合には、熱膨張に伴って導電層SB1が広がる力が、熱膨張に伴って導電層SB3が広がる力よりも大きくなる。その結果、基板SBの電気絶縁層SB2に熱応力がかかるおそれがある。
In the example shown in FIGS. 1 to 3, copper is used as the material of the conductive layer SA1 of the substrate SA, copper is used as the material of the conductive layer SA3, and copper is used as the material of the conductive layer SB1 of the substrate SB. Copper is used as the material of the conductive layer SB3.
When the thickness of the conductive layer SA1 formed of copper is larger than the thickness of the conductive layer SA3 formed of copper, the force that the conductive layer SA1 spreads along with the thermal expansion causes the conductive layer to expand along with the thermal expansion. SA3 becomes larger than the spreading force. As a result, thermal stress may be applied to the electrical insulating layer SA2 of the substrate SA. Similarly, when the thickness of the conductive layer SB1 formed of copper is larger than the thickness of the conductive layer SB3 formed of copper, the force that the conductive layer SB1 spreads along with the thermal expansion is accompanied by the thermal expansion. As a result, the force becomes larger than the spreading force of the conductive layer SB3. As a result, thermal stress may be applied to the electrical insulating layer SB2 of the substrate SB.
この点に鑑み、第2実施形態の電力変換装置1では、基板SAの導電層SA1の線膨張係数が、銅の線膨張係数よりも小さく設定されている。詳細には、導電層SA1が、例えばCuMo合金などのような、銅の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する材料によって形成されている。そのため、第2実施形態の電力変換装置1では、導電層SA1の線膨張係数が銅の線膨張係数と等しい場合よりも、電気絶縁層SA2にかかる熱応力を抑制することができる。
また、第2実施形態の電力変換装置1では、基板SAの導電層SA3の線膨張係数が、銅の線膨張係数よりも小さく設定されている。詳細には、導電層SA3が、例えばCuMo合金などのような、銅の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する材料によって形成されている。そのため、第2実施形態の電力変換装置1では、導電層SA3の線膨張係数が銅の線膨張係数と等しい場合よりも、電気絶縁層SA2にかかる熱応力を抑制することができる。
In view of this point, in the
Moreover, in the
また、第2実施形態の電力変換装置1では、基板SBの導電層SB1の線膨張係数が、銅の線膨張係数よりも小さく設定されている。詳細には、導電層SB1が、例えばCuMo合金などのような、銅の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する材料によって形成されている。そのため、第2実施形態の電力変換装置1では、導電層SB1の線膨張係数が銅の線膨張係数と等しい場合よりも、電気絶縁層SB2にかかる熱応力を抑制することができる。
また、第2実施形態の電力変換装置1では、基板SBの導電層SB3の線膨張係数が、銅の線膨張係数よりも小さく設定されている。詳細には、導電層SB3が、例えばCuMo合金などのような、銅の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する材料によって形成されている。そのため、第2実施形態の電力変換装置1では、導電層SB3の線膨張係数が銅の線膨張係数と等しい場合よりも、電気絶縁層SB2にかかる熱応力を抑制することができる。
Moreover, in the
Moreover, in the
第2実施形態の電力変換装置1の上述した例では、基板SAの導電層SA1の線膨張係数、導電層SA3の線膨張係数、基板SBの導電層SB1の線膨張係数、および、導電層SB3の線膨張係数のすべてが、銅の線膨張係数よりも小さい。
第2実施形態の電力変換装置1の他の例では、基板SAの導電層SA1の線膨張係数、および、導電層SA3の線膨張係数が、銅の線膨張係数より小さく、基板SBの導電層SB1の線膨張係数、および、導電層SB3の線膨張係数が、銅の線膨張係数と等しくてもよい。あるいは、基板SAの導電層SA1の線膨張係数、および、導電層SA3の線膨張係数が、銅の線膨張係数より小さく、基板SBが導電層SB1のみを有してもよい(つまり、基板SBが電気絶縁層SB2および導電層SB3を有さなくてもよい)。
第2実施形態の電力変換装置1の更に他の例では、基板SBの導電層SB1の線膨張係数、および、導電層SB3の線膨張係数が、銅の線膨張係数より小さく、基板SAの導電層SA1の線膨張係数、および、導電層SA3の線膨張係数が、銅の線膨張係数と等しくてもよい。あるいは、基板SBの導電層SB1の線膨張係数、および、導電層SB3の線膨張係数が、銅の線膨張係数より小さく、基板SAが導電層SA1のみを有してもよい(つまり、基板SAが電気絶縁層SA2および導電層SA3を有さなくてもよい)。
In the above-described example of the
In another example of the
In still another example of the
<第3実施形態>
以下、本発明の電力変換装置1の第3実施形態について説明する。
第3実施形態の電力変換装置1は、後述する点を除き、上述した第1実施形態の電力変換装置1と同様に構成されている。従って、第3実施形態の電力変換装置1によれば、後述する点を除き、上述した第1実施形態の電力変換装置1と同様の効果を奏することができる。
<Third Embodiment>
Hereinafter, 3rd Embodiment of the
The
図1〜図3に示す例では、基板SAの導電層SA1の線膨張係数と導電層SA3の線膨張係数とが等しく設定されると共に、基板SBの導電層SB1の線膨張係数と導電層SB3の線膨張係数とが等しく設定されている。
基板SAの導電層SA1の厚さが、導電層SA3の厚さより大きく設定されるにもかかわらず、基板SAの導電層SA1の線膨張係数と導電層SA3の線膨張係数とが等しく設定される場合には、基板SAの電気絶縁層SA2に熱応力がかかるおそれがある。同様に、基板SBの導電層SB1の厚さが、導電層SB3の厚さより大きく設定されるにもかかわらず、基板SBの導電層SB1の線膨張係数と導電層SB3の線膨張係数とが等しく設定される場合には、基板SBの電気絶縁層SB2に熱応力がかかるおそれがある。
In the example shown in FIGS. 1 to 3, the linear expansion coefficient of the conductive layer SA1 of the substrate SA and the linear expansion coefficient of the conductive layer SA3 are set equal, and the linear expansion coefficient of the conductive layer SB1 of the substrate SB and the conductive layer SB3 are set. Is set equal to the linear expansion coefficient.
Although the thickness of the conductive layer SA1 of the substrate SA is set larger than the thickness of the conductive layer SA3, the linear expansion coefficient of the conductive layer SA1 of the substrate SA is set equal to the linear expansion coefficient of the conductive layer SA3. In some cases, thermal stress may be applied to the electrical insulating layer SA2 of the substrate SA. Similarly, although the thickness of the conductive layer SB1 of the substrate SB is set larger than the thickness of the conductive layer SB3, the linear expansion coefficient of the conductive layer SB1 of the substrate SB and the linear expansion coefficient of the conductive layer SB3 are equal. If set, thermal stress may be applied to the electrical insulating layer SB2 of the substrate SB.
この点に鑑み、第3実施形態の電力変換装置1では、基板SAの導電層SA1の線膨張係数が、導電層SA3の線膨張係数よりも小さく設定されている。詳細には、導電層SA3が例えば銅によって形成されると共に、導電層SA1が、例えばCuMo合金などのような、導電層SA3の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する材料によって形成されている。そのため、第3実施形態の電力変換装置1では、導電層SA1の全体の熱膨張量と導電層SA3の全体の熱膨張量との差を小さくすることができる。その結果、導電層SA1の線膨張係数が導電層SA3の線膨張係数と等しい場合よりも、電気絶縁層SA2にかかる熱応力を抑制することができる。
また、第3実施形態の電力変換装置1では、基板SBの導電層SB1の線膨張係数が、導電層SB3の線膨張係数よりも小さく設定されている。詳細には、導電層SB3が例えば銅によって形成されると共に、導電層SB1が、例えばCuMo合金などのような、導電層SB3の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する材料によって形成されている。そのため、第3実施形態の電力変換装置1では、導電層SB1の全体の熱膨張量と導電層SB3の全体の熱膨張量との差を小さくすることができる。その結果、導電層SB1の線膨張係数が導電層SB3の線膨張係数と等しい場合よりも、電気絶縁層SB2にかかる熱応力を抑制することができる。
In view of this point, in the
Moreover, in the
第3実施形態の電力変換装置1の上述した例では、基板SAの導電層SA1の線膨張係数が、導電層SA3の線膨張係数よりも小さく、基板SBの導電層SB1の線膨張係数が、導電層SB3の線膨張係数よりも小さい。
第3実施形態の電力変換装置1の他の例では、基板SAの導電層SA1の線膨張係数が、導電層SA3の線膨張係数よりも小さく、基板SBの導電層SB1の線膨張係数が、導電層SB3の線膨張係数と等しくてもよい。あるいは、基板SAの導電層SA1の線膨張係数が、導電層SA3の線膨張係数よりも小さく、基板SBが導電層SB1のみを有してもよい(つまり、基板SBが電気絶縁層SB2および導電層SB3を有さなくてもよい)。
第3実施形態の電力変換装置1の更に他の例では、基板SBの導電層SB1の線膨張係数が、導電層SB3の線膨張係数よりも小さく、基板SAの導電層SA1の線膨張係数が、導電層SA3の線膨張係数と等しくてもよい。あるいは、基板SBの導電層SB1の線膨張係数が、導電層SB3の線膨張係数よりも小さく、基板SAが導電層SA1のみを有してもよい(つまり、基板SAが電気絶縁層SA2および導電層SA3を有さなくてもよい)。
In the above-described example of the
In another example of the
In still another example of the
<第4実施形態>
以下、本発明の電力変換装置1の第4実施形態について説明する。
第4実施形態の電力変換装置1は、後述する点を除き、上述した第1実施形態の電力変換装置1と同様に構成されている。従って、第4実施形態の電力変換装置1によれば、後述する点を除き、上述した第1実施形態の電力変換装置1と同様の効果を奏することができる。
<Fourth embodiment>
Hereinafter, 4th Embodiment of the
The
図4は第4実施形態の電力変換装置1の一例を示す図である。詳細には、図4は樹脂部MLの内部を透視して見た第4実施形態の電力変換装置1の左側面図である。図5は図4中の基板SA、SBのみを抽出して示した図である。詳細には、図5(A)は図4中の基板SAのみを抽出して示した図である。図5(B)は図4中の基板SBのみを抽出して示した図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating an example of the
図5(A)に示すように、基板SAは、導電層SA1の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する低熱膨張率部SA4と、導電層SA3の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する低熱膨張率部SA5とを更に備えている。低熱膨張率部SA4は、電気絶縁層SA2と導電層SA1との間に配置されている。低熱膨張率部SA5は、電気絶縁層SA2と導電層SA3との間に配置されている。
図5(B)に示すように、基板SBは、導電層SB1の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する低熱膨張率部SB4と、導電層SB3の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する低熱膨張率部SB5とを更に備えている。低熱膨張率部SB4は、電気絶縁層SB2と導電層SB1との間に配置されている。低熱膨張率部SB5は、電気絶縁層SB2と導電層SB3との間に配置されている。
As shown in FIG. 5A, the substrate SA has a low coefficient of thermal expansion SA4 having a linear expansion coefficient smaller than that of the conductive layer SA1, and a linear expansion coefficient smaller than that of the conductive layer SA3. And a low coefficient of thermal expansion SA5. The low coefficient of thermal expansion SA4 is disposed between the electrical insulating layer SA2 and the conductive layer SA1. The low coefficient of thermal expansion SA5 is disposed between the electrical insulating layer SA2 and the conductive layer SA3.
As shown in FIG. 5B, the substrate SB has a low thermal expansion coefficient part SB4 having a linear expansion coefficient smaller than that of the conductive layer SB1, and a linear expansion coefficient smaller than that of the conductive layer SB3. And a low coefficient of thermal expansion SB5. The low coefficient of thermal expansion SB4 is disposed between the electrical insulating layer SB2 and the conductive layer SB1. The low coefficient of thermal expansion SB5 is disposed between the electrical insulating layer SB2 and the conductive layer SB3.
図4および図5に示す例では、基板SAの導電層SA1および導電層SA3が、例えば銅によって形成されている。低熱膨張率部SA4および低熱膨張率部SA5は、例えばCuMo合金などのような、導電層SA1および導電層SA3の構成材料の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する材料によって形成されている。
基板SBの導電層SB1および導電層SB3は、例えば銅によって形成されている。低熱膨張率部SB4および低熱膨張率部SB5は、例えばCuMo合金などのような、導電層SB1および導電層SB3の構成材料の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する材料によって形成されている。
In the example shown in FIGS. 4 and 5, the conductive layer SA1 and the conductive layer SA3 of the substrate SA are made of, for example, copper. The low thermal expansion coefficient part SA4 and the low thermal expansion coefficient part SA5 are formed of a material having a linear expansion coefficient smaller than the linear expansion coefficient of the constituent material of the conductive layer SA1 and the conductive layer SA3, such as a CuMo alloy.
The conductive layer SB1 and the conductive layer SB3 of the substrate SB are made of, for example, copper. The low coefficient of thermal expansion SB4 and the low coefficient of thermal expansion SB5 are formed of a material having a linear expansion coefficient smaller than that of the constituent material of the conductive layer SB1 and the conductive layer SB3, such as a CuMo alloy.
つまり、図4および図5に示す例では、基板SAの導電層SA1および導電層SA3として高熱膨張率材料が用いられるものの、導電層SA1と電気絶縁層SA2との間に低熱膨張率部SA4が挟まれると共に、導電層SA3と電気絶縁層SA2との間に低熱膨張率部SA5が挟まれる。低熱膨張率部SA4は、導電層SA1と電気絶縁層SA2とのバッファとして機能し、低熱膨張率部SA5は、導電層SA3と電気絶縁層SA2とのバッファとして機能する。その結果、電気絶縁層SA2にかかる熱応力を抑制することができる。
また、図4および図5に示す例では、基板SBの導電層SB1および導電層SB3として高熱膨張率材料が用いられるものの、導電層SB1と電気絶縁層SB2との間に低熱膨張率部SB4が挟まれると共に、導電層SB3と電気絶縁層SB2との間に低熱膨張率部SB5が挟まれる。低熱膨張率部SB4は、導電層SB1と電気絶縁層SB2とのバッファとして機能し、低熱膨張率部SB5は、導電層SB3と電気絶縁層SB2とのバッファとして機能する。その結果、電気絶縁層SB2にかかる熱応力を抑制することができる。
That is, in the example shown in FIGS. 4 and 5, although a high thermal expansion coefficient material is used as the conductive layer SA1 and the conductive layer SA3 of the substrate SA, the low thermal expansion coefficient portion SA4 is provided between the conductive layer SA1 and the electrical insulating layer SA2. In addition, the low thermal expansion coefficient portion SA5 is sandwiched between the conductive layer SA3 and the electrical insulating layer SA2. The low coefficient of thermal expansion SA4 functions as a buffer between the conductive layer SA1 and the electric insulating layer SA2, and the low coefficient of thermal expansion SA5 functions as a buffer between the conductive layer SA3 and the electric insulating layer SA2. As a result, it is possible to suppress the thermal stress applied to the electrical insulating layer SA2.
In the example shown in FIGS. 4 and 5, although a high thermal expansion coefficient material is used as the conductive layer SB1 and the conductive layer SB3 of the substrate SB, the low thermal expansion coefficient portion SB4 is provided between the conductive layer SB1 and the electrical insulating layer SB2. In addition, the low thermal expansion coefficient part SB5 is sandwiched between the conductive layer SB3 and the electrical insulating layer SB2. The low coefficient of thermal expansion SB4 functions as a buffer between the conductive layer SB1 and the electrical insulating layer SB2, and the low coefficient of thermal expansion SB5 functions as a buffer between the conductive layer SB3 and the electrical insulating layer SB2. As a result, the thermal stress applied to the electrical insulating layer SB2 can be suppressed.
すなわち、図4および図5に示す例では、基板SAが低熱膨張率部SA4と低熱膨張率部SA5とを備えない場合よりも、電気絶縁層SA2にかかる熱応力を抑制することができる。また、基板SBが低熱膨張率部SB4と低熱膨張率部SB5とを備えない場合よりも、電気絶縁層SB2にかかる熱応力を抑制することができる。 That is, in the example shown in FIGS. 4 and 5, the thermal stress applied to the electrical insulating layer SA2 can be suppressed as compared with the case where the substrate SA does not include the low thermal expansion coefficient part SA4 and the low thermal expansion coefficient part SA5. Further, the thermal stress applied to the electrical insulating layer SB2 can be suppressed as compared with the case where the substrate SB does not include the low thermal expansion coefficient part SB4 and the low thermal expansion coefficient part SB5.
第4実施形態の電力変換装置1の上述した例では、基板SAが低熱膨張率部SA4と低熱膨張率部SA5とを更に備えると共に、基板SBが低熱膨張率部SB4と低熱膨張率部SB5とを更に備えている。
第4実施形態の電力変換装置1の他の例では、基板SAが低熱膨張率部SA4と低熱膨張率部SA5とを更に備えると共に、基板SBが低熱膨張率部SB4と低熱膨張率部SB5とを備えなくてもよい。あるいは、基板SAが低熱膨張率部SA4と低熱膨張率部SA5とを更に備え、基板SBが導電層SB1のみを有してもよい(つまり、基板SBが電気絶縁層SB2、導電層SB3、低熱膨張率部SB4および低熱膨張率部SB5を有さなくてもよい)。
第4実施形態の電力変換装置1の更に他の例では、基板SBが低熱膨張率部SB4と低熱膨張率部SB5とを更に備えると共に、基板SAが低熱膨張率部SA4と低熱膨張率部SA5とを備えなくてもよい。あるいは、基板SBが低熱膨張率部SB4と低熱膨張率部SB5とを更に備え、基板SAが導電層SA1のみを有してもよい(つまり、基板SAが電気絶縁層SA2、導電層SA3、低熱膨張率部SA4および低熱膨張率部SA5を有さなくてもよい)。
In the above-described example of the
In another example of the
In still another example of the
<第5実施形態>
以下、本発明の電力変換装置1の第5実施形態について説明する。
第5実施形態の電力変換装置1は、後述する点を除き、上述した第1実施形態の電力変換装置1と同様に構成されている。従って、第5実施形態の電力変換装置1によれば、後述する点を除き、上述した第1実施形態の電力変換装置1と同様の効果を奏することができる。
<Fifth Embodiment>
Hereinafter, 5th Embodiment of the
The
図6は第5実施形態の電力変換装置1の一例を示す図である。詳細には、図6は樹脂部MLの内部を透視して見た第5実施形態の電力変換装置1の正面図である。図7は図6中のスイッチング素子UH、ULのみを抽出して示した図である。図8は樹脂部MLの内部を透視して見た第5実施形態の電力変換装置1の左側面図である。図9は図6中の基板SA、SBのみを抽出して示した図である。詳細には、図9(A)は図6中の基板SAのみを抽出して示した図である。図9(B)は図6中の基板SBのみを抽出して示した図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating an example of the
図6〜図9に示す例では、電力変換装置1が、上アームスイッチング素子UHと、下アームスイッチング素子ULと、基板SAと、基板SBと、スペーサSPUHと、スペーサSPULと、正極側導電体(Pバスバー)PIと、負極側導電体(Nバスバー)NIと、出力側導電体(出力バスバー)51と樹脂部MLとを備えている。
スイッチング素子UHと同様に、スイッチング素子ULは、例えばIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)、MOSFET(Metal Oxide Semi-conductor Field Effect Transistor)等のような半導体素子である。
図7に示すように、スイッチング素子UHの一方(図7の下側)の面UHAには、電極UHA1が配置されている。スイッチング素子UHの他方(図7の上側)の面UHBには、電極UHB1と、駆動信号が入力されるゲート電極(図示せず)とが配置されている。
スイッチング素子ULの一方(図7の下側)の面ULAには、電極ULA1が配置されている。スイッチング素子ULの他方(図7の上側)の面ULBには、電極ULB1と、駆動信号が入力されるゲート電極(図示せず)とが配置されている。
In the example shown in FIGS. 6 to 9, the
Similar to the switching element UH, the switching element UL is a semiconductor element such as an IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor) and a MOSFET (Metal Oxide Semi-conductor Field Effect Transistor).
As shown in FIG. 7, the electrode UHA1 is arranged on one surface UHA of the switching element UH (the lower side in FIG. 7). An electrode UHB1 and a gate electrode (not shown) to which a drive signal is input are arranged on the other surface UHB of the switching element UH (upper side in FIG. 7).
An electrode ULA1 is disposed on one surface ULA of the switching element UL (lower side in FIG. 7). An electrode ULB1 and a gate electrode (not shown) to which a drive signal is input are arranged on the other surface ULB of the switching element UL (upper side in FIG. 7).
図9(A)に示すように、基板SAは、スイッチング素子UHの電極UHA1に対向して配置された導電層SA1と、スイッチング素子ULの電極ULA1に対向して配置された導電層SA6と、セラミックで構成された電気絶縁層SA2と、電気絶縁層SA2を隔てて導電層SA1、SA6の反対側(図9(A)の下側)に配置された導電層SA3とを有する。
図9(B)に示すように、基板SBは、スイッチング素子UHの電極UHB1に対向して配置された導電層SB1と、スイッチング素子ULの電極ULB1に対向して配置された導電層SB6と、セラミックで構成された電気絶縁層SB2と、電気絶縁層SB2を隔てて導電層SB1、SB6の反対側(図9(B)の上側)に配置された導電層SB3とを有する。
As shown in FIG. 9A, the substrate SA includes a conductive layer SA1 disposed to face the electrode UHA1 of the switching element UH, a conductive layer SA6 disposed to face the electrode ULA1 of the switching element UL, An electric insulating layer SA2 made of ceramic and a conductive layer SA3 disposed on the opposite side of the conductive layers SA1 and SA6 (lower side in FIG. 9A) with the electric insulating layer SA2 interposed therebetween.
As shown in FIG. 9B, the substrate SB includes a conductive layer SB1 disposed opposite to the electrode UHB1 of the switching element UH, a conductive layer SB6 disposed opposite to the electrode ULB1 of the switching element UL, An electric insulating layer SB2 made of ceramic and a conductive layer SB3 arranged on the opposite side of the conductive layers SB1 and SB6 (upper side in FIG. 9B) with the electric insulating layer SB2 interposed therebetween.
図6〜図9に示す例では、基板SAの導電層SA1が、スイッチング素子UHの電極UHA1に電気的に接続されている。スイッチング素子UHの電極UHB1と基板SBの導電層SB1との間には、スペーサSPUHが配置されている。基板SBの導電層SB1は、スペーサSPUHを介してスイッチング素子UHの電極UHA1に電気的に接続されている。
基板SAの導電層SA6は、スイッチング素子ULの電極ULA1に電気的に接続されている。スイッチング素子ULの電極ULB1と基板SBの導電層SB6との間には、スペーサSPULが配置されている。基板SBの導電層SB6は、スペーサSPULを介してスイッチング素子ULの電極ULB1に電気的に接続されている。
正極側導電体PIは、基板SAの導電層SA1に電気的に接続されている。出力側導電体51は、基板SBの導電層SB1と、基板SAの導電層SA6とに電気的に接続されている。つまり、基板SBの導電層SB1は、基板SAの導電層SA6に電気的に接続されている。負極側導電体NIは、基板SBの導電層SB6に電気的に接続されている。
In the example shown in FIGS. 6 to 9, the conductive layer SA1 of the substrate SA is electrically connected to the electrode UHA1 of the switching element UH. A spacer SPUH is disposed between the electrode UHB1 of the switching element UH and the conductive layer SB1 of the substrate SB. The conductive layer SB1 of the substrate SB is electrically connected to the electrode UHA1 of the switching element UH via the spacer SPUH.
The conductive layer SA6 of the substrate SA is electrically connected to the electrode ULA1 of the switching element UL. A spacer SPUL is disposed between the electrode ULB1 of the switching element UL and the conductive layer SB6 of the substrate SB. The conductive layer SB6 of the substrate SB is electrically connected to the electrode ULB1 of the switching element UL via the spacer SPUL.
The positive electrode side conductor PI is electrically connected to the conductive layer SA1 of the substrate SA. The output-
図6〜図9に示す例では、スイッチング素子UHのオン時かつスイッチング素子ULのオフ時に、正極側導電体PIから基板SAの導電層SA1に流れる電流が、次いで、スイッチング素子UHの電極UHA1から電極UHB1に流れ、次いで、スペーサSPUHを介して、基板SBの導電層SB1から出力側導電体51に流れる。
スイッチング素子UHのオフ時かつスイッチング素子ULのオン時に、出力側導電体51から基板SAの導電層SA6に流れる電流が、次いで、スイッチング素子ULの電極ULA1から電極ULB1に流れ、次いで、スペーサSPULを介して、基板SBの導電層SB6から負極側導電体NIに流れる。
スイッチング素子UH、スイッチング素子UL、スペーサSPUH、スペーサSPUL、基板SAの一部、基板SBの一部、正極側導電体PIの一部、負極側導電体NIの一部、および、出力側導電体51の一部は、樹脂部MLによって覆われている。基板SAの導電層SA3の少なくとも一部は、樹脂部MLの外部に露出させられる。基板SBの導電層SB3の少なくとも一部は、樹脂部MLの外部に露出させられる。
In the example shown in FIGS. 6 to 9, when the switching element UH is on and the switching element UL is off, the current flowing from the positive electrode-side conductor PI to the conductive layer SA1 of the substrate SA is next from the electrode UHA1 of the switching element UH. It flows to the electrode UHB1, and then flows from the conductive layer SB1 of the substrate SB to the output-
When the switching element UH is turned off and the switching element UL is turned on, the current flowing from the output-
Switching element UH, switching element UL, spacer SPUH, spacer SPUL, part of substrate SA, part of substrate SB, part of positive electrode side conductor PI, part of negative electrode side conductor NI, and output side conductor A part of 51 is covered with the resin part ML. At least a part of the conductive layer SA3 of the substrate SA is exposed to the outside of the resin part ML. At least a part of the conductive layer SB3 of the substrate SB is exposed to the outside of the resin portion ML.
図9(A)に示すように、スイッチング素子UHを流れる電流経路の一部を構成する基板SAの導電層SA1の厚さ、および、スイッチング素子ULを流れる電流経路の一部を構成する基板SAの導電層SA6の厚さは、導電層SA3の厚さよりも大きく設定されている。そのため、図6〜図9に示す例では、導電層SA1、SA6の厚さと導電層SA3の厚さとが等しい場合よりも、導電層SA1、SA6の表面積の低下を抑制することができ、電力変換装置1における浮遊インダクタンスの増加を抑制することができる。詳細には、図6〜図9に示す例では、基板SAにおける熱抵抗を、導電層SA1、SA6の厚さと導電層SA3の厚さとが等しい場合と同等に維持しつつ、導電層SA1の表面積および導電層SA6の表面積を、導電層SA1、SA6の厚さと導電層SA3の厚さとが等しい場合よりも増加させることができる。
As shown in FIG. 9A, the thickness of the conductive layer SA1 of the substrate SA that forms part of the current path that flows through the switching element UH, and the substrate SA that forms part of the current path that flows through the switching element UL. The thickness of the conductive layer SA6 is set to be larger than the thickness of the conductive layer SA3. Therefore, in the examples shown in FIGS. 6 to 9, it is possible to suppress the decrease in the surface area of the conductive layers SA1 and SA6 as compared with the case where the thickness of the conductive layers SA1 and SA6 is equal to the thickness of the conductive layer SA3. An increase in stray inductance in the
図9(B)に示すように、スイッチング素子UHを流れる電流経路の一部を構成する基板SBの導電層SB1の厚さ、および、スイッチング素子ULを流れる電流経路の一部を構成する基板SBの導電層SB6の厚さは、導電層SB3の厚さよりも大きく設定されている。そのため、図6〜図9に示す例では、導電層SB1、SB6の厚さと導電層SB3の厚さとが等しい場合よりも、導電層SB1、SB6の表面積の低下を抑制することができ、電力変換装置1における浮遊インダクタンスの増加を抑制することができる。詳細には、図6〜図9に示す例では、基板SBにおける熱抵抗を、導電層SB1、SB6の厚さと導電層SB3の厚さとが等しい場合と同等に維持しつつ、導電層SB1の表面積および導電層SB6の表面積を、導電層SB1、SB6の厚さと導電層SB3の厚さとが等しい場合よりも増加させることができる。
つまり、図6〜図9に示す例では、スイッチング素子UH、ULの冷却性能を維持しつつ、電力変換装置1を低インダクタンス化することができる。
As shown in FIG. 9B, the thickness of the conductive layer SB1 of the substrate SB that forms part of the current path that flows through the switching element UH, and the substrate SB that forms part of the current path that flows through the switching element UL. The thickness of the conductive layer SB6 is set larger than the thickness of the conductive layer SB3. Therefore, in the examples shown in FIGS. 6 to 9, the surface area of the conductive layers SB1 and SB6 can be suppressed from being reduced as compared with the case where the thickness of the conductive layers SB1 and SB6 is equal to the thickness of the conductive layer SB3. An increase in stray inductance in the
That is, in the examples illustrated in FIGS. 6 to 9, the
図6〜図9に示す例では、基板SAの導電層SA1、SA6の厚さが、導電層SA3の厚さより大きく設定されると共に、基板SBの導電層SB1、SB6の厚さが、導電層SB3の厚さより大きく設定されているが、他の例では、基板SAの導電層SA1、SA6の厚さが、導電層SA3の厚さより大きく設定されると共に、基板SBの導電層SB1、SB6の厚さが、導電層SB3の厚さと等しく設定されてもよい。更に他の例では、基板SAの導電層SA1、SA6の厚さが、導電層SA3の厚さと等しく設定されると共に、基板SBの導電層SB1、SB6の厚さが、導電層SB3の厚さより大きく設定されてもよい。 In the example shown in FIGS. 6 to 9, the thickness of the conductive layers SA1 and SA6 of the substrate SA is set larger than the thickness of the conductive layer SA3, and the thickness of the conductive layers SB1 and SB6 of the substrate SB is equal to the conductive layer. Although the thickness is set to be larger than the thickness of SB3, in another example, the thickness of the conductive layers SA1 and SA6 of the substrate SA is set to be larger than the thickness of the conductive layer SA3, and the conductive layers SB1 and SB6 of the substrate SB are set. The thickness may be set equal to the thickness of the conductive layer SB3. In yet another example, the thickness of the conductive layers SA1 and SA6 of the substrate SA is set equal to the thickness of the conductive layer SA3, and the thickness of the conductive layers SB1 and SB6 of the substrate SB is greater than the thickness of the conductive layer SB3. It may be set larger.
<第6実施形態>
以下、本発明の電力変換装置1の第6実施形態について説明する。
第6実施形態の電力変換装置1は、後述する点を除き、上述した第5実施形態の電力変換装置1と同様に構成されている。従って、第6実施形態の電力変換装置1によれば、後述する点を除き、上述した第5実施形態の電力変換装置1と同様の効果を奏することができる。
<Sixth Embodiment>
Hereinafter, 6th Embodiment of the
The
図6〜図9に示す例では、基板SAの導電層SA1、SA6の材料として銅が用いられ、導電層SA3の材料として銅が用いられると共に、基板SBの導電層SB1、SB6の材料として銅が用いられ、導電層SB3の材料として銅が用いられている。
銅によって形成された導電層SA1、SA6の厚さが、銅によって形成された導電層SA3の厚さよりも大きい場合には、熱膨張に伴って導電層SA1、SA6が広がる力が、熱膨張に伴って導電層SA3が広がる力よりも大きくなる。その結果、基板SAの電気絶縁層SA2に熱応力がかかるおそれがある。同様に、銅によって形成された導電層SB1、SB6の厚さが、銅によって形成された導電層SB3の厚さよりも大きい場合には、熱膨張に伴って導電層SB1、SB6が広がる力が、熱膨張に伴って導電層SB3が広がる力よりも大きくなる。その結果、基板SBの電気絶縁層SB2に熱応力がかかるおそれがある。
6 to 9, copper is used as the material of the conductive layers SA1 and SA6 of the substrate SA, copper is used as the material of the conductive layer SA3, and copper is used as the material of the conductive layers SB1 and SB6 of the substrate SB. And copper is used as the material of the conductive layer SB3.
When the thickness of the conductive layers SA1 and SA6 formed of copper is larger than the thickness of the conductive layer SA3 formed of copper, the force that the conductive layers SA1 and SA6 spread along with the thermal expansion causes the thermal expansion. Along with this, the force becomes larger than the spreading force of the conductive layer SA3. As a result, thermal stress may be applied to the electrical insulating layer SA2 of the substrate SA. Similarly, when the thickness of the conductive layers SB1 and SB6 formed of copper is larger than the thickness of the conductive layer SB3 formed of copper, the force that the conductive layers SB1 and SB6 spread with thermal expansion is as follows: It becomes larger than the force that the conductive layer SB3 spreads with the thermal expansion. As a result, thermal stress may be applied to the electrical insulating layer SB2 of the substrate SB.
この点に鑑み、第6実施形態の電力変換装置1では、基板SAの導電層SA1、SA6の線膨張係数が、銅の線膨張係数よりも小さく設定されている。詳細には、導電層SA1、SA6が、例えばCuMo合金などのような、銅の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する材料によって形成されている。そのため、第6実施形態の電力変換装置1では、導電層SA1、SA6の線膨張係数が銅の線膨張係数と等しい場合よりも、電気絶縁層SA2にかかる熱応力を抑制することができる。
また、第6実施形態の電力変換装置1では、基板SAの導電層SA3の線膨張係数が、銅の線膨張係数よりも小さく設定されている。詳細には、導電層SA3が、例えばCuMo合金などのような、銅の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する材料によって形成されている。そのため、第6実施形態の電力変換装置1では、導電層SA3の線膨張係数が銅の線膨張係数と等しい場合よりも、電気絶縁層SA2にかかる熱応力を抑制することができる。
In view of this point, in the
Moreover, in the
また、第6実施形態の電力変換装置1では、基板SBの導電層SB1、SB6の線膨張係数が、銅の線膨張係数よりも小さく設定されている。詳細には、導電層SB1、SB6が、例えばCuMo合金などのような、銅の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する材料によって形成されている。そのため、第6実施形態の電力変換装置1では、導電層SB1、SB6の線膨張係数が銅の線膨張係数と等しい場合よりも、電気絶縁層SB2にかかる熱応力を抑制することができる。
また、第6実施形態の電力変換装置1では、基板SBの導電層SB3の線膨張係数が、銅の線膨張係数よりも小さく設定されている。詳細には、導電層SB3が、例えばCuMo合金などのような、銅の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する材料によって形成されている。そのため、第6実施形態の電力変換装置1では、導電層SB3の線膨張係数が銅の線膨張係数と等しい場合よりも、電気絶縁層SB2にかかる熱応力を抑制することができる。
Moreover, in the
Moreover, in the
第6実施形態の電力変換装置1の上述した例では、基板SAの導電層SA1、SA6の線膨張係数、導電層SA3の線膨張係数、基板SBの導電層SB1、SB6の線膨張係数、および、導電層SB3の線膨張係数のすべてが、銅の線膨張係数よりも小さい。
第6実施形態の電力変換装置1の他の例では、基板SAの導電層SA1、SA6の線膨張係数、および、導電層SA3の線膨張係数が、銅の線膨張係数より小さく、基板SBの導電層SB1、SB6の線膨張係数、および、導電層SB3の線膨張係数が、銅の線膨張係数と等しくてもよい。
第6実施形態の電力変換装置1の更に他の例では、基板SBの導電層SB1、SB6の線膨張係数、および、導電層SB3の線膨張係数が、銅の線膨張係数より小さく、基板SAの導電層SA1、SA6の線膨張係数、および、導電層SA3の線膨張係数が、銅の線膨張係数と等しくてもよい。
In the above-described example of the
In another example of the
In still another example of the
<第7実施形態>
以下、本発明の電力変換装置1の第7実施形態について説明する。
第7実施形態の電力変換装置1は、後述する点を除き、上述した第5実施形態の電力変換装置1と同様に構成されている。従って、第7実施形態の電力変換装置1によれば、後述する点を除き、上述した第5実施形態の電力変換装置1と同様の効果を奏することができる。
<Seventh embodiment>
Hereinafter, 7th Embodiment of the
The
図6〜図9に示す例では、基板SAの導電層SA1、SA6の線膨張係数と導電層SA3の線膨張係数とが等しく設定されると共に、基板SBの導電層SB1、SB6の線膨張係数と導電層SB3の線膨張係数とが等しく設定されている。
基板SAの導電層SA1、SA6の厚さが、導電層SA3の厚さより大きく設定されるにもかかわらず、基板SAの導電層SA1、SA6の線膨張係数と導電層SA3の線膨張係数とが等しく設定される場合には、基板SAの電気絶縁層SA2に熱応力がかかるおそれがある。同様に、基板SBの導電層SB1、SB6の厚さが、導電層SB3の厚さより大きく設定されるにもかかわらず、基板SBの導電層SB1、SB6の線膨張係数と導電層SB3の線膨張係数とが等しく設定される場合には、基板SBの電気絶縁層SB2に熱応力がかかるおそれがある。
6 to 9, the linear expansion coefficients of the conductive layers SA1 and SA6 of the substrate SA and the linear expansion coefficient of the conductive layer SA3 are set to be equal, and the linear expansion coefficients of the conductive layers SB1 and SB6 of the substrate SB are set. And the linear expansion coefficient of the conductive layer SB3 are set to be equal.
Although the conductive layers SA1 and SA6 of the substrate SA are set to be larger than the thickness of the conductive layer SA3, the linear expansion coefficient of the conductive layers SA1 and SA6 of the substrate SA and the linear expansion coefficient of the conductive layer SA3 are If they are set equal, thermal stress may be applied to the electrical insulating layer SA2 of the substrate SA. Similarly, although the thicknesses of the conductive layers SB1 and SB6 of the substrate SB are set larger than the thickness of the conductive layer SB3, the linear expansion coefficients of the conductive layers SB1 and SB6 of the substrate SB and the linear expansion of the conductive layer SB3 are set. If the coefficients are set equal, thermal stress may be applied to the electrical insulating layer SB2 of the substrate SB.
この点に鑑み、第7実施形態の電力変換装置1では、基板SAの導電層SA1、SA6の線膨張係数が、導電層SA3の線膨張係数よりも小さく設定されている。詳細には、導電層SA3が例えば銅によって形成されると共に、導電層SA1、SA6が、例えばCuMo合金などのような、導電層SA3の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する材料によって形成されている。そのため、第7実施形態の電力変換装置1では、導電層SA1および導電層SA6の全体の熱膨張量と導電層SA3の全体の熱膨張量との差を小さくすることができる。その結果、導電層SA1、SA6の線膨張係数が導電層SA3の線膨張係数と等しい場合よりも、電気絶縁層SA2にかかる熱応力を抑制することができる。
また、第7実施形態の電力変換装置1では、基板SBの導電層SB1、SB6の線膨張係数が、導電層SB3の線膨張係数よりも小さく設定されている。詳細には、導電層SB3が例えば銅によって形成されると共に、導電層SB1、SB6が、例えばCuMo合金などのような、導電層SB3の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する材料によって形成されている。そのため、第7実施形態の電力変換装置1では、導電層SB1および導電層SB6の全体の熱膨張量と導電層SB3の全体の熱膨張量との差を小さくすることができる。その結果、導電層SB1、SB6の線膨張係数が導電層SB3の線膨張係数と等しい場合よりも、電気絶縁層SB2にかかる熱応力を抑制することができる。
In view of this point, in the
In the
第7実施形態の電力変換装置1の上述した例では、基板SAの導電層SA1、SA6の線膨張係数が、導電層SA3の線膨張係数よりも小さく、基板SBの導電層SB1、SB6の線膨張係数が、導電層SB3の線膨張係数よりも小さい。
第7実施形態の電力変換装置1の他の例では、基板SAの導電層SA1、SA6の線膨張係数が、導電層SA3の線膨張係数よりも小さく、基板SBの導電層SB1、SB6の線膨張係数が、導電層SB3の線膨張係数と等しくてもよい。
第3実施形態の電力変換装置1の更に他の例では、基板SBの導電層SB1、SB6の線膨張係数が、導電層SB3の線膨張係数よりも小さく、基板SAの導電層SA1、SA6の線膨張係数が、導電層SA3の線膨張係数と等しくてもよい。
In the above-described example of the
In another example of the
In still another example of the
<第8実施形態>
以下、本発明の電力変換装置1の第8実施形態について説明する。
第8実施形態の電力変換装置1は、後述する点を除き、上述した第5実施形態の電力変換装置1と同様に構成されている。従って、第8実施形態の電力変換装置1によれば、後述する点を除き、上述した第5実施形態の電力変換装置1と同様の効果を奏することができる。
<Eighth Embodiment>
Hereinafter, 8th Embodiment of the
The
図10は第8実施形態の電力変換装置1の一例を示す図である。詳細には、図10は樹脂部MLの内部を透視して見た第8実施形態の電力変換装置1の正面図である。図11は樹脂部MLの内部を透視して見た第8実施形態の電力変換装置1の左側面図である。図12は図10中の基板SA、SBのみを抽出して示した図である。詳細には、図12(A)は図10中の基板SAのみを抽出して示した図である。図12(B)は図10中の基板SBのみを抽出して示した図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating an example of the
図12(A)に示すように、基板SAは、導電層SA1、SA6の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する低熱膨張率部SA4と、導電層SA3の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する低熱膨張率部SA5とを更に備えている。低熱膨張率部SA4は、電気絶縁層SA2と導電層SA1との間および電気絶縁層SA2と導電層SA6との間に配置されている。低熱膨張率部SA5は、電気絶縁層SA2と導電層SA3との間に配置されている。
図12(B)に示すように、基板SBは、導電層SB1、SB6の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する低熱膨張率部SB4と、導電層SB3の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する低熱膨張率部SB5とを更に備えている。低熱膨張率部SB4は、電気絶縁層SB2と導電層SB1との間および電気絶縁層SB2と導電層SB6との間に配置されている。低熱膨張率部SB5は、電気絶縁層SB2と導電層SB3との間に配置されている。
As shown in FIG. 12A, the substrate SA has a low thermal expansion coefficient part SA4 having a linear expansion coefficient smaller than that of the conductive layers SA1 and SA6, and a linear expansion smaller than the linear expansion coefficient of the conductive layer SA3. And a low coefficient of thermal expansion SA5 having a coefficient. The low coefficient of thermal expansion SA4 is disposed between the electric insulating layer SA2 and the conductive layer SA1 and between the electric insulating layer SA2 and the conductive layer SA6. The low coefficient of thermal expansion SA5 is disposed between the electrical insulating layer SA2 and the conductive layer SA3.
As shown in FIG. 12B, the substrate SB has a low thermal expansion coefficient part SB4 having a linear expansion coefficient smaller than that of the conductive layers SB1 and SB6, and a linear expansion smaller than the linear expansion coefficient of the conductive layer SB3. And a low coefficient of thermal expansion SB5 having a coefficient. The low coefficient of thermal expansion SB4 is disposed between the electric insulating layer SB2 and the conductive layer SB1 and between the electric insulating layer SB2 and the conductive layer SB6. The low coefficient of thermal expansion SB5 is disposed between the electrical insulating layer SB2 and the conductive layer SB3.
図10〜図12に示す例では、基板SAの導電層SA1、SA6および導電層SA3が、例えば銅によって形成されている。低熱膨張率部SA4および低熱膨張率部SA5は、例えばCuMo合金などのような、導電層SA1、SA6および導電層SA3の構成材料の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する材料によって形成されている。
基板SBの導電層SB1、SB6および導電層SB3は、例えば銅によって形成されている。低熱膨張率部SB4および低熱膨張率部SB5は、例えばCuMo合金などのような、導電層SB1、SB6および導電層SB3の構成材料の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する材料によって形成されている。
In the example shown in FIGS. 10 to 12, the conductive layers SA1 and SA6 and the conductive layer SA3 of the substrate SA are made of, for example, copper. The low thermal expansion coefficient part SA4 and the low thermal expansion coefficient part SA5 are formed of a material having a linear expansion coefficient smaller than the linear expansion coefficient of the constituent material of the conductive layers SA1, SA6 and the conductive layer SA3, such as a CuMo alloy, for example. Yes.
The conductive layers SB1 and SB6 and the conductive layer SB3 of the substrate SB are made of copper, for example. The low coefficient of thermal expansion SB4 and the low coefficient of thermal expansion SB5 are formed of a material having a linear expansion coefficient smaller than that of the constituent material of the conductive layers SB1, SB6 and conductive layer SB3, such as a CuMo alloy, for example. Yes.
つまり、図10〜図12に示す例では、基板SAの導電層SA1、SA6および導電層SA3として高熱膨張率材料が用いられるものの、導電層SA1、SA6と電気絶縁層SA2との間に低熱膨張率部SA4が挟まれると共に、導電層SA3と電気絶縁層SA2との間に低熱膨張率部SA5が挟まれる。低熱膨張率部SA4は、導電層SA1、SA6と電気絶縁層SA2とのバッファとして機能し、低熱膨張率部SA5は、導電層SA3と電気絶縁層SA2とのバッファとして機能する。その結果、電気絶縁層SA2にかかる熱応力を抑制することができる。
また、図10〜図12に示す例では、基板SBの導電層SB1、SB6および導電層SB3として高熱膨張率材料が用いられるものの、導電層SB1、SB6と電気絶縁層SB2との間に低熱膨張率部SB4が挟まれると共に、導電層SB3と電気絶縁層SB2との間に低熱膨張率部SB5が挟まれる。低熱膨張率部SB4は、導電層SB1、SB6と電気絶縁層SB2とのバッファとして機能し、低熱膨張率部SB5は、導電層SB3と電気絶縁層SB2とのバッファとして機能する。その結果、電気絶縁層SB2にかかる熱応力を抑制することができる。
That is, in the example shown in FIGS. 10 to 12, although the high thermal expansion coefficient material is used as the conductive layers SA1 and SA6 and the conductive layer SA3 of the substrate SA, the low thermal expansion is provided between the conductive layers SA1 and SA6 and the electrical insulating layer SA2. The rate part SA4 is sandwiched, and the low thermal expansion coefficient part SA5 is sandwiched between the conductive layer SA3 and the electrical insulating layer SA2. The low coefficient of thermal expansion SA4 functions as a buffer between the conductive layers SA1 and SA6 and the electric insulating layer SA2, and the low coefficient of thermal expansion SA5 functions as a buffer between the conductive layer SA3 and the electric insulating layer SA2. As a result, it is possible to suppress the thermal stress applied to the electrical insulating layer SA2.
In the example shown in FIGS. 10 to 12, although the high thermal expansion coefficient material is used as the conductive layers SB1 and SB6 and the conductive layer SB3 of the substrate SB, the low thermal expansion is provided between the conductive layers SB1 and SB6 and the electrical insulating layer SB2. The rate part SB4 is sandwiched, and the low coefficient of thermal expansion SB5 is sandwiched between the conductive layer SB3 and the electrical insulating layer SB2. The low coefficient of thermal expansion SB4 functions as a buffer for the conductive layers SB1 and SB6 and the electric insulating layer SB2, and the low coefficient of thermal expansion SB5 functions as a buffer for the conductive layer SB3 and the electric insulating layer SB2. As a result, the thermal stress applied to the electrical insulating layer SB2 can be suppressed.
第8実施形態の電力変換装置1の他の例では、基板SAが低熱膨張率部SA4と低熱膨張率部SA5とを更に備えると共に、基板SBが低熱膨張率部SB4と低熱膨張率部SB5とを備えなくてもよい。
第8実施形態の電力変換装置1の更に他の例では、基板SBが低熱膨張率部SB4と低熱膨張率部SB5とを更に備えると共に、基板SAが低熱膨張率部SA4と低熱膨張率部SA5とを備えなくてもよい。
In another example of the
In still another example of the
<第9実施形態>
上述したように、第5から第8実施形態の電力変換装置1は、1相分の構成要素を備えている。第8実施形態の電力変換装置1では、上述した第5から第8実施形態の電力変換装置1が、3個分組み合わせられている。つまり、第8実施形態の電力変換装置1は、U相、V相およびW相の3相分の構成要素を備えている。
<Ninth Embodiment>
As described above, the
<適用例>
以下、本発明の電力変換装置1の適用例について添付図面を参照しながら説明する。
図13は第1から第9実施形態の電力変換装置1を適用可能な車両10の一部の一例を示す図である。
<Application example>
Hereinafter, application examples of the
FIG. 13 is a diagram illustrating an example of a part of the
第1から第4実施形態の電力変換装置1が図13に示す例に適用される場合には、14個の第1から第4実施形態の電力変換装置1が図13に示す車両10に用いられる。
第5から第8実施形態の電力変換装置1が図13に示す例に適用される場合には、7個の第5から第8実施形態の電力変換装置1が図13に示す車両10に用いられる。
第9実施形態の電力変換装置1が図13に示す例に適用される場合には、2個の第9実施形態の電力変換装置1と、2個の第1から第4実施形態の電力変換装置1とが、図13に示す車両10に用いられるか、あるいは、2個の第9実施形態の電力変換装置1と、1個の第5から第8実施形態の電力変換装置1とが、図13に示す車両10に用いられる。
When the
When the
When the
図13に示す例では、車両10が、電力変換装置1に加えて、バッテリ11(BATT)と、走行駆動用の第1モータ12(MOT)、発電用の第2モータ13(GEN)とを備えている。
バッテリ11は、バッテリケースと、バッテリケース内に収容される複数のバッテリモジュールとを備えている。バッテリモジュールは、直列に接続される複数のバッテリセルを備えている。バッテリ11は、電力変換装置1の直流コネクタ1aに接続される正極端子PB及び負極端子NBを備えている。正極端子PB及び負極端子NBは、バッテリケース内において直列に接続される複数のバッテリモジュールの正極端及び負極端に接続されている。
In the example shown in FIG. 13, the
The
第1モータ12は、バッテリ11から供給される電力によって回転駆動力(力行動作)を発生させる。第2モータ13は、回転軸に入力される回転駆動力によって発電電力を発生させる。ここで、第2モータ13には、内燃機関の回転動力が伝達可能に構成されている。例えば、第1モータ12及び第2モータ13の各々は、3相交流のブラシレスDCモータである。3相は、U相、V相、及びW相である。第1モータ12及び第2モータ13の各々は、インナーロータ型である。第1モータ12及び第2モータ13は、界磁用の永久磁石を有する回転子と、回転子を回転させる回転磁界を発生させるための3相のステータ巻線を有する固定子とをそれぞれ備えている。第1モータ12の3相のステータ巻線は、電力変換装置1の第1の3相コネクタ1bに接続されている。第2モータ13の3相のステータ巻線は、電力変換装置1の第2の3相コネクタ1cに接続されている。
The
図13に示す電力変換装置1は、パワーモジュール21と、リアクトル22と、コンデンサユニット23と、抵抗器24と、第1電流センサ25と、第2電流センサ26と、第3電流センサ27と、電子制御ユニット28(MOT GEN ECU)と、ゲートドライブユニット29とを備えている。
パワーモジュール21は、第1電力変換回路部31と、第2電力変換回路部32と、第3電力変換回路部33とを備えている。
The
The
14個の第1から第4実施形態の電力変換装置1が、図13に示す車両10に用いられる場合には、第1電力変換回路部31が、6個の第1から第4実施形態の電力変換装置1によって構成され、第2電力変換回路部32が、6個の第1から第4実施形態の電力変換装置1によって構成され、第3電力変換回路部33が、2個の第1から第4実施形態の電力変換装置1によって構成される。
詳細には、1個目の第1から第4実施形態の電力変換装置1が、第1電力変換回路部31のU相の上アームを構成する。2個目の第1から第4実施形態の電力変換装置1が、第1電力変換回路部31のU相の下アームを構成する。3個目の第1から第4実施形態の電力変換装置1が、第1電力変換回路部31のV相の上アームを構成する。4個目の第1から第4実施形態の電力変換装置1が、第1電力変換回路部31のV相の下アームを構成する。5個目の第1から第4実施形態の電力変換装置1が、第1電力変換回路部31のW相の上アームを構成する。6個目の第1から第4実施形態の電力変換装置1が、第1電力変換回路部31のW相の下アームを構成する。
7個目の第1から第4実施形態の電力変換装置1が、第2電力変換回路部32のU相の上アームを構成する。8個目の第1から第4実施形態の電力変換装置1が、第2電力変換回路部32のU相の下アームを構成する。9個目の第1から第4実施形態の電力変換装置1が、第2電力変換回路部32のV相の上アームを構成する。10個目の第1から第4実施形態の電力変換装置1が、第2電力変換回路部32のV相の下アームを構成する。11個目の第1から第4実施形態の電力変換装置1が、第2電力変換回路部32のW相の上アームを構成する。12個目の第1から第4実施形態の電力変換装置1が、第2電力変換回路部32のW相の下アームを構成する。
13個目の第1から第4実施形態の電力変換装置1が、第3電力変換回路部33の上アームを構成する。14個目の第1から第4実施形態の電力変換装置1が、第3電力変換回路部33の下アームを構成する。
When the 14
Specifically, the
The seventh
The thirteenth
7個の第5から第8実施形態の電力変換装置1が、図13に示す車両10に用いられる場合には、第1電力変換回路部31が、3個の第5から第8実施形態の電力変換装置1によって構成され、第2電力変換回路部32が、3個の第5から第8実施形態の電力変換装置1によって構成され、第3電力変換回路部33が、1個の第5から第8実施形態の電力変換装置1によって構成される。
詳細には、1個目の第5から第8実施形態の電力変換装置1が、第1電力変換回路部31のU相を構成する。2個目の第5から第8実施形態の電力変換装置1が、第1電力変換回路部31のV相を構成する。3個目の第5から第8実施形態の電力変換装置1が、第1電力変換回路部31のW相を構成する。
4個目の第5から第8実施形態の電力変換装置1が、第2電力変換回路部32のU相を構成する。5個目の第5から第8実施形態の電力変換装置1が、第2電力変換回路部32のV相を構成する。6個目の第5から第8実施形態の電力変換装置1が、第2電力変換回路部32のW相を構成する。
7個目の第5から第8実施形態の電力変換装置1が、第3電力変換回路部33を構成する。
When the seven
Specifically, the first
The fourth
The seventh
2個の第9実施形態の電力変換装置1と、2個の第1から第4実施形態の電力変換装置1とが、図13に示す車両10に用いられる場合には、第1電力変換回路部31が、1個の第9実施形態の電力変換装置1によって構成され、第2電力変換回路部32が、1個の第9実施形態の電力変換装置1によって構成され、第3電力変換回路部33が、2個の第1から第4実施形態の電力変換装置1によって構成される。
詳細には、1個目の第9実施形態の電力変換装置1が、第1電力変換回路部31を構成する。2個目の第9実施形態の電力変換装置1が、第2電力変換回路部32を構成する。
1個目の第1から第4実施形態の電力変換装置1が、第3電力変換回路部33の上アームを構成する。2個目の第1から第4実施形態の電力変換装置1が、第3電力変換回路部33の下アームを構成する。
When the two
Specifically, the first
The
2個の第9実施形態の電力変換装置1と、1個の第5から第8実施形態の電力変換装置1とが、図13に示す車両10に用いられる場合には、第1電力変換回路部31が、1個の第9実施形態の電力変換装置1によって構成され、第2電力変換回路部32が、1個の第9実施形態の電力変換装置1によって構成され、第3電力変換回路部33が、1個の第5から第8実施形態の電力変換装置1によって構成される。
詳細には、1個目の第9実施形態の電力変換装置1が、第1電力変換回路部31を構成する。2個目の第9実施形態の電力変換装置1が、第2電力変換回路部32を構成する。
1個の第5から第8実施形態の電力変換装置1が、第3電力変換回路部33を構成する。
When two
Specifically, the first
One
第1電力変換回路部31の出力側導電体51は、U相、V相およびW相の3相分まとめられて、第1の3相コネクタ1bに接続されている。すなわち、第1電力変換回路部31の出力側導電体51は、第1の3相コネクタ1bを介して第1モータ12の3相のステータ巻線に接続されている。
第1電力変換回路部31の正極側導電体PIは、U相、V相およびW相の3相分まとめられて、バッテリ11の正極端子PBに接続されている。
第1電力変換回路部31の負極側導電体NIは、U相、V相およびW相の3相分まとめられて、バッテリ11の負極端子NBに接続されている。
つまり、第1電力変換回路部31は、バッテリ11から第3電力変換回路部33を介して入力される直流電力を3相交流電力に変換する。
The output-
The positive electrode-side conductor PI of the first power
The negative electrode-side conductor NI of the first power
That is, the first power
第2電力変換回路部32の出力側導電体(出力バスバー)52は、U相、V相およびW相の3相分まとめられて、第2の3相コネクタ1cに接続されている。すなわち、第2電力変換回路部32の出力側導電体52は、第2の3相コネクタ1cを介して第2モータ13の3相のステータ巻線に接続されている。
第2電力変換回路部32の正極側導電体PIは、U相、V相およびW相の3相分まとめられて、バッテリ11の正極端子PBと、第1電力変換回路部31の正極側導電体PIとに接続されている。
第2電力変換回路部32の負極側導電体NIは、U相、V相およびW相の3相分まとめられて、バッテリ11の負極端子NBと、第2電力変換回路部32の負極側導電体NIとに接続されている。
第2電力変換回路部32は、第2モータ13から入力される3相交流電力を直流電力に変換する。第2電力変換回路部32によって変換された直流電力は、バッテリ11及び第1電力変換回路部31の少なくとも一方に供給することが可能である。
The output side conductor (output bus bar) 52 of the second power
The positive-side conductor PI of the second power
The negative electrode side conductor NI of the second power
The second power
図13に示す例では、第1電力変換回路部31のU相スイッチング素子UH、V相スイッチング素子VH、W相スイッチング素子WH、および、第2電力変換回路部32のU相スイッチング素子UH、V相スイッチング素子VH、W相スイッチング素子WHが、正極側導電体PIに接続されている。正極側導電体PIは、コンデンサユニット23の正極バスバー50pに接続されている。
第1電力変換回路部31のU相スイッチング素子UL、V相スイッチング素子VL、W相スイッチング素子WL、および、第2電力変換回路部32のU相スイッチング素子UL、V相スイッチング素子VL、W相スイッチング素子WLが、負極側導電体NIに接続されている。負極側導電体NIは、コンデンサユニット23の負極バスバー50nに接続されている。
In the example illustrated in FIG. 13, the U-phase switching element UH, the V-phase switching element VH, the W-phase switching element WH of the first power
U phase switching element UL, V phase switching element VL, W phase switching element WL of first power
図13に示す例では、第1電力変換回路部31のU相スイッチング素子UHとU相スイッチング素子ULとの接続点TIと、V相スイッチング素子VHとV相スイッチング素子VLとの接続点TIと、W相スイッチング素子WHとW相スイッチング素子WLとの接続点TIとが、出力側導電体51に接続されている。
第2電力変換回路部32のU相スイッチング素子UHとU相スイッチング素子ULとの接続点TIと、V相スイッチング素子VHとV相スイッチング素子VLとの接続点TIと、W相スイッチング素子WHとW相スイッチング素子WLとの接続点TIとは、出力側導電体52に接続されている。
In the example shown in FIG. 13, the connection point TI between the U-phase switching element UH and the U-phase switching element UL of the first power
The connection point TI between the U-phase switching element UH and the U-phase switching element UL, the connection point TI between the V-phase switching element VH and the V-phase switching element VL, the W-phase switching element WH, A connection point TI with the W-phase switching element WL is connected to the output-
図13に示す例では、第1電力変換回路部31の出力側導電体51が、第1入出力端子Q1に接続されている。第1入出力端子Q1は、第1の3相コネクタ1bに接続されている。第1電力変換回路部31の各相の接続点TIは、出力側導電体51、第1入出力端子Q1、及び第1の3相コネクタ1bを介して第1モータ12の各相のステータ巻線に接続されている。
第2電力変換回路部32の出力側導電体52は、第2入出力端子Q2に接続されている。第2入出力端子Q2は、第2の3相コネクタ1cに接続されている。第2電力変換回路部32の各相の接続点TIは、出力側導電体52、第2入出力端子Q2、及び第2の3相コネクタ1cを介して第2モータ13の各相のステータ巻線に接続されている。
In the example shown in FIG. 13, the output-
The output-
図13に示す例では、第1電力変換回路部31のスイッチング素子UH、VH、WH、および、スイッチング素子UL、VL、WLのそれぞれが、フライホイールダイオードを備えている。
同様に、第2電力変換回路部32のスイッチング素子UH、VH、WH、および、スイッチング素子UL、VL、WLのそれぞれが、フライホイールダイオードを備えている。
In the example shown in FIG. 13, each of the switching elements UH, VH, WH and the switching elements UL, VL, WL of the first power
Similarly, each of the switching elements UH, VH, WH and the switching elements UL, VL, WL of the second power
図13に示す例では、ゲートドライブユニット29が、第1電力変換回路部31のスイッチング素子UH、VH、WH、および、スイッチング素子UL、VL、WLのそれぞれにゲート信号を入力する。
同様に、ゲートドライブユニット29は、第2電力変換回路部32のスイッチング素子UH、VH、WH、および、スイッチング素子UL、VL、WLのそれぞれにゲート信号を入力する。
第1電力変換回路部31は、バッテリ11から第3電力変換回路部33を介して入力される直流電力を3相交流電力に変換し、第1モータ12の3相のステータ巻線に交流のU相電流、V相電流、及びW相電流を供給する。第2電力変換回路部32は、第2モータ13の回転に同期がとられた第2電力変換回路部32のスイッチング素子UH、VH、WH、および、スイッチング素子UL、VL、WLのそれぞれのオン(導通)/オフ(遮断)駆動によって、第2モータ13の3相のステータ巻線から出力される3相交流電力を直流電力に変換する。
In the example illustrated in FIG. 13, the gate drive unit 29 inputs a gate signal to each of the switching elements UH, VH, and WH and the switching elements UL, VL, and WL of the first power
Similarly, the gate drive unit 29 inputs a gate signal to each of the switching elements UH, VH, WH and the switching elements UL, VL, WL of the second power
The first power
第3電力変換回路部33は、電圧コントロールユニット(VCU)である。第3電力変換回路部33は、1相分のスイッチング素子S1と、スイッチング素子S2とを備えている。
スイッチング素子S1の正極側の電極は、正極バスバーPVに接続されている。正極バスバーPVは、コンデンサユニット23の正極バスバー50pに接続されている。スイッチング素子S2の負極側の電極は、負極バスバーNVに接続されている。負極バスバーNVは、コンデンサユニット23の負極バスバー50nに接続されている。コンデンサユニット23の負極バスバー50nは、バッテリ11の負極端子NBに接続されている。スイッチング素子S1の負極側の電極は、スイッチング素子S2の正極側の電極に電気的に接続されている。スイッチング素子S1と、スイッチング素子S2とは、フライホイールダイオードを備えている。
The third power
The positive electrode on the switching element S1 is connected to the positive bus bar PV. The positive electrode bus bar PV is connected to the positive
第3電力変換回路部33のスイッチング素子S1とスイッチング素子S2との接続点を構成するバスバー53は、リアクトル22の一端に接続されている。リアクトル22の他端は、バッテリ11の正極端子PBに接続されている。リアクトル22は、コイルと、コイルの温度を検出する温度センサとを備えている。温度センサは、信号線によって電子制御ユニット28に接続されている。
A
第3電力変換回路部33は、ゲートドライブユニット29からスイッチング素子S1のゲート電極とスイッチング素子S2のゲート電極とに入力されるゲート信号に基づき、スイッチング素子S1とスイッチング素子S2とのオン(導通)/オフ(遮断)を切り替える。
The third power
第3電力変換回路部33は、昇圧時において、スイッチング素子S2がオン(導通)及びスイッチング素子S1がオフ(遮断)に設定される第1状態と、スイッチング素子S2がオフ(遮断)及びスイッチング素子S1がオン(導通)に設定される第2状態とを交互に切り替える。第1状態では、順次、バッテリ11の正極端子PB、リアクトル22、スイッチング素子S2、バッテリ11の負極端子NBへと電流が流れ、リアクトル22が直流励磁されて磁気エネルギーが蓄積される。第2状態では、リアクトル22に流れる電流が遮断されることに起因する磁束の変化を妨げるようにしてリアクトル22の両端間に起電圧(誘導電圧)が発生する。リアクトル22に蓄積された磁気エネルギーによる誘導電圧はバッテリ電圧に重畳されて、バッテリ11の端子間電圧よりも高い昇圧電圧が第3電力変換回路部33の正極バスバーPVと負極バスバーNVとの間に印加される。
The third power
第3電力変換回路部33は、回生時において、第2状態と、第1状態とを交互に切り替える。第2状態では、順次、第3電力変換回路部33の正極バスバーPV、スイッチング素子S1、リアクトル22、バッテリ11の正極端子PBへと電流が流れ、リアクトル22が直流励磁されて磁気エネルギーが蓄積される。第1状態では、リアクトル22に流れる電流が遮断されることに起因する磁束の変化を妨げるようにしてリアクトル22の両端間に起電圧(誘導電圧)が発生する。リアクトル22に蓄積された磁気エネルギーによる誘導電圧は降圧されて、第3電力変換回路部33の正極バスバーPV及び負極バスバーNV間の電圧よりも低い降圧電圧がバッテリ11の正極端子PBと負極端子NBとの間に印加される。
The third power
コンデンサユニット23は、第1平滑コンデンサ41と、第2平滑コンデンサ42と、ノイズフィルタ43とを備えている。
第1平滑コンデンサ41は、バッテリ11の正極端子PBと負極端子NBとの間に接続されている。第1平滑コンデンサ41は、第3電力変換回路部33の回生時におけるスイッチング素子S1及びスイッチング素子S2のオン/オフの切換動作に伴って発生する電圧変動を平滑化する。
第2平滑コンデンサ42は、第1電力変換回路部31及び第2電力変換回路部32の各々の正極側導電体PI及び負極側導電体NI間、並びに第3電力変換回路部33の正極バスバーPV及び負極バスバーNV間に接続されている。第2平滑コンデンサ42は、正極バスバー50p及び負極バスバー50nを介して、複数の正極側導電体PI及び負極側導電体NI、並びに正極バスバーPV及び負極バスバーNVに接続されている。第2平滑コンデンサ42は、第1電力変換回路部31及び第2電力変換回路部32のスイッチング素子UH、VH、WH、および、スイッチング素子UL、VL、WLのそれぞれのオン/オフの切換動作に伴って発生する電圧変動を平滑化する。第2平滑コンデンサ42は、第3電力変換回路部33の昇圧時におけるスイッチング素子S1及びスイッチング素子S2のオン/オフの切換動作に伴って発生する電圧変動を平滑化する。
The
The
The
ノイズフィルタ43は、第1電力変換回路部31及び第2電力変換回路部32の各々の正極側導電体PI及び負極側導電体NI間、並びに第3電力変換回路部33の正極バスバーPV及び負極バスバーNV間に接続されている。ノイズフィルタ43は、直列に接続される2つのコンデンサを備えている。2つのコンデンサの接続点は、車両10のボディグラウンド等に接続されている。
抵抗器24は、第1電力変換回路部31及び第2電力変換回路部32の各々の正極側導電体PI及び負極側導電体NI間、並びに第3電力変換回路部33の正極バスバーPV及び負極バスバーNV間に接続されている。
The
The
第1電流センサ25は、第1電力変換回路部31の各相の接続点TIを成し、第1入出力端子Q1と接続される出力側導電体51に配置され、U相、V相、及びW相の各々の電流を検出する。第2電流センサ26は、第2電力変換回路部32の各相の接続点TIを成すとともに第2入出力端子Q2と接続される出力側導電体52に配置され、U相、V相、及びW相の各々の電流を検出する。第3電流センサ27は、スイッチング素子S1及びスイッチング素子S2の接続点を成すとともにリアクトル22と接続されるバスバー53に配置され、リアクトル22に流れる電流を検出する。
第1電流センサ25、第2電流センサ26、及び第3電流センサ27の各々は、信号線によって電子制御ユニット28に接続されている。
The first
Each of the first
電子制御ユニット28は、第1モータ12及び第2モータ13の各々の動作を制御する。例えば、電子制御ユニット28は、CPU(Central Processing Unit)等のプロセッサによって所定のプログラムが実行されることにより機能するソフトウェア機能部である。ソフトウェア機能部は、CPU等のプロセッサ、プログラムを格納するROM(Read Only Memory)、データを一時的に記憶するRAM(Random Access Memory)、及びタイマー等の電子回路を備えるECU(Electronic Control Unit)である。なお、電子制御ユニット28の少なくとも一部は、LSI(Large Scale Integration)等の集積回路であってもよい。例えば、電子制御ユニット28は、第1電流センサ25の電流検出値と第1モータ12に対するトルク指令値に応じた電流目標値とを用いる電流のフィードバック制御等を実行し、ゲートドライブユニット29に入力する制御信号を生成する。例えば、電子制御ユニット28は、第2電流センサ26の電流検出値と第2モータ13に対する回生指令値に応じた電流目標値とを用いる電流のフィードバック制御等を実行し、ゲートドライブユニット29に入力する制御信号を生成する。制御信号は、第1電力変換回路部31及び第2電力変換回路部32のスイッチング素子UH、VH、WH、および、スイッチング素子UL、VL、WLのそれぞれをオン(導通)/オフ(遮断)駆動するタイミングを示す信号である。例えば、制御信号は、パルス幅変調された信号等である。
The electronic control unit 28 controls each operation of the
ゲートドライブユニット29は、電子制御ユニット28から受け取る制御信号に基づいて、第1電力変換回路部31及び第2電力変換回路部32のスイッチング素子UH、VH、WH、および、スイッチング素子UL、VL、WLのそれぞれを実際にオン(導通)/オフ(遮断)駆動するためのゲート信号を生成する。例えば、ゲートドライブユニット29は、制御信号の増幅及びレベルシフト等を実行して、ゲート信号を生成する。
ゲートドライブユニット29は、第3電力変換回路部33のスイッチング素子S1及びスイッチング素子S2の各々をオン(導通)/オフ(遮断)駆動するためのゲート信号を生成する。例えば、ゲートドライブユニット29は、第3電力変換回路部33の昇圧時における昇圧電圧指令又は第3電力変換回路部33の回生時における降圧電圧指令に応じたデューティー比のゲート信号を生成する。デューティー比は、スイッチング素子S1及びスイッチング素子S2の比率である。
Based on the control signal received from the electronic control unit 28, the gate drive unit 29 switches the switching elements UH, VH, WH and the switching elements UL, VL, WL of the first power
The gate drive unit 29 generates a gate signal for driving each of the switching element S1 and the switching element S2 of the third power
図13に示す例では、第1から第9実施形態の電力変換装置1が車両10に適用されるが、他の例では、交流モータと直流電源とを有する例えばエレベータ、ポンプ、ファン、鉄道車両、空気調和機、冷蔵庫、洗濯機などのような車両10以外のものの交流モータと直流電源との間に、第1から第9実施形態の電力変換装置1を適用してもよい。
In the example illustrated in FIG. 13, the
本発明の実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。 The embodiments of the present invention are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the spirit of the invention. These embodiments and their modifications are included in the scope and gist of the invention, and are also included in the invention described in the claims and the equivalents thereof.
1…電力変換装置、UH…スイッチング素子、UHA…面、UHA1…電極、UHB…面、UHB1…電極、UL…スイッチング素子、ULA…面、ULA1…電極、ULB…面、ULB1…電極、SA…基板、SA1…導電層、SA2…電気絶縁層、SA3…導電層、SA4…低熱膨張率部、SA5…低熱膨張率部、SA6…導電層、SB…基板、SB1…導電層、SB2…電気絶縁層、SB3…導電層、SB4…低熱膨張率部、SB5…低熱膨張率部、SB6…導電層、SPUH…スペーサ、SPUL…スペーサ、ML…樹脂部、PI…正極側導電体、NI…負極側導電体、51…出力側導電体、10…車両
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記第1電極に対向しかつ電気的に接続されている第1導電層と、セラミックで構成された第1電気絶縁層と、前記第1電気絶縁層を隔てて前記第1導電層の反対側に配置された第2導電層とを有する第1基板と、
前記スイッチング素子と前記第1基板の一部とを覆う樹脂部とを備え、
前記第1導電層の厚さは、前記第2導電層の厚さよりも大きい、
電力変換装置。 A switching element having a first electrode disposed on one surface;
A first conductive layer facing and electrically connected to the first electrode, a first electric insulating layer made of ceramic, and the opposite side of the first conductive layer across the first electric insulating layer A first substrate having a second conductive layer disposed on the substrate;
A resin portion covering the switching element and a part of the first substrate;
A thickness of the first conductive layer is greater than a thickness of the second conductive layer;
Power conversion device.
前記第2導電層の線膨張係数は、銅の線膨張係数よりも小さい、
請求項1に記載の電力変換装置。 The linear expansion coefficient of the first conductive layer is smaller than the linear expansion coefficient of copper,
The linear expansion coefficient of the second conductive layer is smaller than the linear expansion coefficient of copper,
The power conversion device according to claim 1.
請求項1に記載の電力変換装置。 The linear expansion coefficient of the first conductive layer is smaller than the linear expansion coefficient of the second conductive layer.
The power conversion device according to claim 1.
前記第1導電層の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する第1低熱膨張率部と、
前記第2導電層の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する第2低熱膨張率部とを更に備え、
前記第1低熱膨張率部は、前記第1電気絶縁層と前記第1導電層との間に配置され、
前記第2低熱膨張率部は、前記第1電気絶縁層と前記第2導電層との間に配置される、
請求項1に記載の電力変換装置。 The first substrate is
A first low thermal expansion coefficient part having a linear expansion coefficient smaller than the linear expansion coefficient of the first conductive layer;
A second low thermal expansion coefficient portion having a linear expansion coefficient smaller than the linear expansion coefficient of the second conductive layer,
The first low coefficient of thermal expansion is disposed between the first electrical insulating layer and the first conductive layer,
The second low coefficient of thermal expansion is disposed between the first electrically insulating layer and the second conductive layer.
The power conversion device according to claim 1.
前記第2電極に対向しかつ電気的に接続されている第3導電層と、セラミックで構成された第2電気絶縁層と、前記第2電気絶縁層を隔てて前記第3導電層の反対側に配置された第4導電層とを有する第2基板を更に備え、
前記第2基板の一部は、前記樹脂部によって覆われ、
前記第3導電層の厚さは、前記第4導電層の厚さよりも大きい、
請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の電力変換装置。 A second electrode is disposed on the other surface of the switching element,
A third conductive layer facing and electrically connected to the second electrode, a second electrical insulating layer made of ceramic, and the opposite side of the third conductive layer across the second electrical insulating layer A second substrate having a fourth conductive layer disposed on the substrate,
A part of the second substrate is covered with the resin part,
A thickness of the third conductive layer is greater than a thickness of the fourth conductive layer;
The power converter device as described in any one of Claims 1-4.
前記第4導電層の線膨張係数は、銅の線膨張係数よりも小さい、
請求項5に記載の電力変換装置。 The linear expansion coefficient of the third conductive layer is smaller than that of copper,
The linear expansion coefficient of the fourth conductive layer is smaller than the linear expansion coefficient of copper,
The power conversion device according to claim 5.
請求項5に記載の電力変換装置。 The linear expansion coefficient of the third conductive layer is smaller than the linear expansion coefficient of the fourth conductive layer.
The power conversion device according to claim 5.
前記第3導電層の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する第3低熱膨張率部と、
前記第4導電層の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する第4低熱膨張率部とを更に備え、
前記第3低熱膨張率部は、前記第2電気絶縁層と前記第3導電層との間に配置され、
前記第4低熱膨張率部は、前記第2電気絶縁層と前記第4導電層との間に配置される、
請求項5に記載の電力変換装置。 The second substrate is
A third low thermal expansion coefficient part having a linear expansion coefficient smaller than the linear expansion coefficient of the third conductive layer;
A fourth low thermal expansion coefficient part having a linear expansion coefficient smaller than the linear expansion coefficient of the fourth conductive layer,
The third low coefficient of thermal expansion is disposed between the second electrical insulating layer and the third conductive layer,
The fourth low coefficient of thermal expansion is disposed between the second electrical insulating layer and the fourth conductive layer.
The power conversion device according to claim 5.
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