JP2019137575A - カバー部材及びその製造方法 - Google Patents
カバー部材及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019137575A JP2019137575A JP2018021426A JP2018021426A JP2019137575A JP 2019137575 A JP2019137575 A JP 2019137575A JP 2018021426 A JP2018021426 A JP 2018021426A JP 2018021426 A JP2018021426 A JP 2018021426A JP 2019137575 A JP2019137575 A JP 2019137575A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cover member
- optical film
- light source
- less
- member according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
Description
上記カバー部材において、前記基材は、絶縁性を有し、前記光学膜は、絶縁性成分を含有することが好ましい。
上記カバー部材において、前記光学膜中におけるTi、Nb、及びSiの合計量に対するSiの原子数比は、0.05以上であることが好ましい。
上記カバー部材において、前記部品は、タッチセンサをさらに含むことが好ましい。
上記カバー部材において、前記光源は、青色光源及び赤色光源を含むことが好ましい。
上記カバー部材の製造方法において、前記物理的堆積法は、パルスレーザー堆積法であることが好ましい。
図1に示すように、カバー部材11は、光透過性を有する基材12と、基材12に設けられた光学膜13とを有している。カバー部材11は、部品E1,E2,E3を覆う用途に用いられる。本実施形態の部品E1,E2は、光源であり、部品E3は、タッチセンサである。
カバー部材11を調理器用のトッププレートとして用いる場合、基材12は、耐熱衝撃性を有するガラス基板であることが好ましい。このガラス基板は、例えば、30〜500℃における平均熱膨張係数が50×10−7/℃以下の熱膨張係数を有するガラス基板であることがより好ましく、30〜500℃における平均熱膨張係数が−10×10−7〜+30×10−7/℃であるガラス基板であることがさらに好ましく、30〜500℃における平均熱膨張係数が−10×10−7〜+20×10−7/℃であるガラス基板であることが特に好ましい。このような低熱膨張性を有するガラス基板としては、例えば、低熱膨張のホウケイ酸ガラス基板、石英ガラス基板、β−石英固溶体を主結晶とする低膨張結晶化ガラス基板が挙げられる。
光学膜13は、Ti−Nb系複合酸化物成分を含有する。
式(1)中、Tintは、光学膜13の内部透過率であり、tは、光学膜13の膜厚(nm)である。
カバー部材11の光学膜13は、基板の両主面に設けてもよいし、いずれか一方の主面に設けてもよい。本実施形態のように部品E1,E2,E3側の主面(カバー部材11の内側となる基板の裏面)に設けることで、基材12によって光学膜13を保護することができる。なお、カバー部材11は、上記光学膜13からなる層以外の機能層(例えば、保護層、電極層、反射防止層等)をさらに有していてもよい。光学膜13を部品E1,E2,E3とは反対側の主面(カバー部材11の外側となる基板の表面)に設ける場合、光学膜13を保護するという観点から、光学膜13上に機能層をさらに設けることが好ましい。また、基板の上に機能層を設け、その上に光学膜13を設けてもよい。さらに、基板の上に機能層を設け、その上に光学膜13を設け、さらに光学膜13の上に機能層を設けてもよい。なお、光学膜13を部品E1,E2,E3とは反対側の主面(カバー部材11の外側となる基板の表面)に設ける場合、光学膜13上に機能層を設けなくてもよい。
カバー部材11は、機器の筐体に取り付けて用いることができる。部品E1,E2の光源としては、例えば、点光源、面光源、ライン光源等が挙げられる。光源は、LED光源であることが好ましい。光源は、機器の各種表示に用いられる。本実施形態の部品E1,E2は、互いに色の異なる光源(赤色光源及び青色光源)である。部品E3のタッチセンサは、例えば、静電容量方式タッチセンサである。
カバー部材11は、基材12上に光学膜13を物理的堆積法により成膜することで得られる。物理的堆積法は、例えば、基材12の温度を50℃以上、650℃以下の範囲内とし、酸素分圧を0.1Pa以上、5.0Pa以下の範囲内とした条件で行われる。物理的堆積法としては、例えば、パルスレーザー堆積法(PLD法)、スパッタリング法、及び電子ビーム蒸着法が挙げられる。物理的堆積法の中でも、パルスレーザー堆積法が好適である。また、大きな面積に均一に成膜し易いという観点からは、スパッタリング法も好適である。
<Ti−Nb系複合酸化物成分の光学特性>
TiO2(株式会社高純度化学研究所製、純度99.9%)とNb2O5(株式会社高純度化学研究所製、純度99.95%)とを混合して酸化物粉末10gを得た。酸化物粉末10gと2−プロパノール30ccとを部分安定化ジルコニア製の容器に入れ、遊星型ボールミル装置を用いて1時間混合し、酸化物のスラリーを調製した。スラリーを乾燥し、80MPaで一軸プレスした後、200MPaの圧力で静水圧プレスし、1250℃、12時間、大気雰囲気下の条件で焼成してターゲットA1を得た。
また、Ti及びNiの合計量に対するNbの原子数比R1が0.67となるように酸化物の混合比を変更した以外は、ターゲットA1と同様にしてターゲットA2を得た。
雰囲気:高真空(8×10−5Pa以下)
ターゲットと基板との距離:50mm
成膜時の基板の温度:600℃
レーザー:波長248nmのKrFエキシマレーザー(レーザーパワー:300mJ/パルス、レーザーの周波数:5Hz)
成膜時間:30分
上記の条件で得られたサンプルA1,A2の各光学膜の膜厚は、それぞれ44nm及び59nmであった。
図2のグラフは、サンプルA1,A2に照射した可視光の波長λと、吸収係数αとの関係を示す。なお、図2のグラフのサンプルB1は、TiO2からなるターゲットB1を用いた以外は、サンプルA1と同様に基材に光学膜を成膜したものである。また、図2のグラフのサンプルB2は、Nb2O5からなるターゲットB2を用いた以外は、サンプルA1と同様に基材に光学膜を成膜したものである。
・サンプルA1
380nm:15.7μm−1
780nm:15.2μm−1
最大値と最小値との差:2.4μm−1
・サンプルA2
380nm:19.9μm−1
780nm:15.3μm−1
最大値と最小値との差:4.6μm−1
・サンプルB1
380nm:4.8μm−1
780nm:14.5μm−1
最大値と最小値との差:9.7μm−1
・サンプルB2
380nm:17.2μm−1
780nm:9.9μm−1
最大値と最小値との差:7.3μm−1
<光学膜の絶縁性>
TiO2(株式会社高純度化学研究所製、純度99.9%)とNb2O5(株式会社高純度化学研究所製、純度99.95%)とSiO2(アモルファス、株式会社高純度化学研究所製、純度99.9%)と混合して酸化物粉末10gを得た。酸化物粉末10gと2−プロパノール30ccとを部分安定化ジルコニア製の容器に入れ、遊星型ボールミル装置を用いて1時間混合し、酸化物のスラリーを調製した。スラリーを乾燥し、80MPaで一軸プレスした後、200MPaの圧力で静水圧プレスし、1400℃、12時間、大気雰囲気下の条件で焼成してターゲットA11を得た。
また、Ti、Nb、及びSiの合計量に対するSiの原子数比R2が0.3である以外は、ターゲットA11と同様にしてターゲットA12を得た。
PLD法の成膜条件を以下に示す。
ターゲットと基板との距離:50mm
成膜時の基板の温度:300℃
レーザー:波長248nmのKrFエキシマレーザー(レーザーパワー:200mJ/パルス、レーザーの周波数:5Hz)
成膜時間:30分
上記の条件で得られたサンプルA11,A12の各光学膜の膜厚は、それぞれ40nm、48nmであった。
図3のグラフは、サンプルA11,A12に照射した可視光の波長λと、吸収係数αとの関係を示す。
・サンプルA11
380nm:13.3μm−1
780nm:10.5μm−1
最大値と最小値との差:2.8μm−1
・サンプルA12
380nm:13.7μm−1
780nm:7.9μm−1
最大値と最小値との差:5.8μm−1
次に、サンプルA1,A11,A12のシート抵抗RSをサブフェムトアンペア・リモート・ソースメータ(MODEL6430、KEITHLEY INSTRUMENTS LLC)を用いた定電圧直流4端子法により測定した。その結果を図4のグラフに示す。
(1)カバー部材11は、部品E1,E2,E3を覆う用途に用いられる。カバー部材11は、光透過性を有する基材12と、基材12に設けられた光学膜13とを有している。カバー部材11の光学膜13は、Ti−Nb系複合酸化物成分を含有する。カバー部材11の吸収係数は、波長380nm以上、780nm以下の可視光領域の全領域において、5μm−1以上、30μm−1以下の範囲内である。また、カバー部材11において、波長380nm以上、波長780nm以下の可視光領域における吸収係数の最大値と最小値との差は、7μm−1以下である。
(5)カバー部材11の光学膜13における絶縁性成分は、SiO2を含み、光学膜13中におけるTi、Nb、及びSiの合計量に対するSiの原子数比R2は、0.05以上であることが好ましい。この場合、カバー部材11の絶縁性をより高めることができる。
(7)カバー部材11は、光源及びタッチセンサを含む部品E1,E2,E3を覆う用途に好適に用いることができる。この場合、光源(部品E1,E2)からの照射光の視認性と、タッチセンサ(部品E3)の動作の安定性とのいずれも確保することができる。
本実施形態は、以下のように変更して実施することができる。
・カバー部材11で覆われる部品E1,E2,E3は、それぞれ単数であってもよいし、複数であってもよい。
・カバー部材11は、電気的な絶縁性が要求されない部品を覆う用途に用いることもできる。
Claims (10)
- 光源を含む部品を覆う用途に用いられるカバー部材であって、
光透過性を有する基材と、前記基材に設けられた光学膜とを有し、
前記光学膜は、Ti−Nb系複合酸化物成分を含有し、
波長380nm以上、780nm以下の可視光領域の全領域において、吸収係数は5μm−1以上、30μm−1以下の範囲内であり、かつ、波長380nm以上、波長780nm以下の可視光領域における吸収係数の最大値と最小値との差は、7μm−1以下であることを特徴とするカバー部材。 - 前記光学膜中におけるTi及びNbの合計量に対するNbの原子数比は、0.1以上、0.9以下の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載のカバー部材。
- 前記基材は、絶縁性を有し、前記光学膜は、絶縁性成分を含有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のカバー部材。
- 前記絶縁性成分は、SiO2を含むことを特徴とする請求項3に記載のカバー部材。
- 前記光学膜中におけるTi、Nb、及びSiの合計量に対するSiの原子数比は、0.05以上であることを特徴とする請求項4に記載のカバー部材。
- 前記基材は、ガラス基材であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載のカバー部材。
- 前記部品は、タッチセンサをさらに含むことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載のカバー部材。
- 前記光源は、青色光源及び赤色光源を含むことを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか一項に記載のカバー部材。
- 請求項1から請求項8のいずれか一項に記載のカバー部材の製造方法であって、
前記光学膜を物理的堆積法により前記基材上に成膜する工程を備えることを特徴とするカバー部材の製造方法。 - 前記物理的堆積法は、パルスレーザー堆積法であることを特徴とする請求項9に記載のカバー部材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018021426A JP2019137575A (ja) | 2018-02-08 | 2018-02-08 | カバー部材及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018021426A JP2019137575A (ja) | 2018-02-08 | 2018-02-08 | カバー部材及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019137575A true JP2019137575A (ja) | 2019-08-22 |
Family
ID=67694996
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018021426A Pending JP2019137575A (ja) | 2018-02-08 | 2018-02-08 | カバー部材及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2019137575A (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05116988A (ja) * | 1991-04-16 | 1993-05-14 | Nippon Soda Co Ltd | ハーフミラー用複合酸化物薄膜 |
JPH11504987A (ja) * | 1995-05-09 | 1999-05-11 | フレックス プロダクツ インコーポレイテッド | 混合酸化物の高屈折率光学被膜材料及び方法 |
JP2009540112A (ja) * | 2006-06-09 | 2009-11-19 | ヴェー ツェー ヘレーウス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | TiO2をベースとするスパッタ材料を含有するスパッタターゲット並びに製造方法 |
WO2010110412A1 (ja) * | 2009-03-27 | 2010-09-30 | 日鉱金属株式会社 | Ti-Nb系酸化物焼結体スパッタリングターゲット、Ti-Nb系酸化物薄膜及び同薄膜の製造方法 |
WO2014030738A1 (ja) * | 2012-08-23 | 2014-02-27 | Hoya株式会社 | 電子機器用カバーガラスのガラス基板及び電子機器用カバーガラス、並びに電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法 |
-
2018
- 2018-02-08 JP JP2018021426A patent/JP2019137575A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05116988A (ja) * | 1991-04-16 | 1993-05-14 | Nippon Soda Co Ltd | ハーフミラー用複合酸化物薄膜 |
JPH11504987A (ja) * | 1995-05-09 | 1999-05-11 | フレックス プロダクツ インコーポレイテッド | 混合酸化物の高屈折率光学被膜材料及び方法 |
JP2009540112A (ja) * | 2006-06-09 | 2009-11-19 | ヴェー ツェー ヘレーウス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | TiO2をベースとするスパッタ材料を含有するスパッタターゲット並びに製造方法 |
WO2010110412A1 (ja) * | 2009-03-27 | 2010-09-30 | 日鉱金属株式会社 | Ti-Nb系酸化物焼結体スパッタリングターゲット、Ti-Nb系酸化物薄膜及び同薄膜の製造方法 |
WO2014030738A1 (ja) * | 2012-08-23 | 2014-02-27 | Hoya株式会社 | 電子機器用カバーガラスのガラス基板及び電子機器用カバーガラス、並びに電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8794227B2 (en) | Top plate for cooking appliance | |
KR20060102284A (ko) | 터치 패널 | |
US20210204366A1 (en) | Pane having heatable tco coating | |
US20200299825A1 (en) | Cesium tungsten oxide film and method for manufacturing same | |
JP2008508173A5 (ja) | ||
AU2019265050B2 (en) | Composite tungsten oxide film and method for producing same, and film-deposited base material and article each provided with said film | |
JP4067141B2 (ja) | 透明導電膜とその製造方法およびスパッタリングターゲット | |
ES2622715T3 (es) | Vitrocerámica | |
WO2009081649A1 (ja) | 調理器用トッププレート及びその製造方法 | |
JP2017100921A (ja) | 反射防止膜付きガラス板 | |
JP2009224152A (ja) | 透明電極、透明導電性基板および透明タッチパネル | |
CN114026054B (zh) | 带膜的透明基板和烹调器用顶板 | |
JP2019137575A (ja) | カバー部材及びその製造方法 | |
JP2008159534A (ja) | 導電性フリット材、透明面状ヒーター及び電磁波シールド体 | |
Li et al. | Effect of temperature fields on optical properties of La2Ti2O7 thin films | |
EP4265576A1 (en) | Film-covered transparent substrate and top plate for cooking device | |
JP2000273619A (ja) | 薄膜の製造方法 | |
US20220377857A1 (en) | Pane-like article and its use, and household appliance comprising the same | |
WO2023120270A1 (ja) | 膜付き透明基板、調理器用トッププレート、加熱調理器用窓ガラス、及びカバーガラス | |
Kim et al. | Thermal and dielectric properties of ZnO-B 2 O 3-MO 3 glasses (M= W, Mo) | |
Kim et al. | Investigation of VO2 directly deposited on a glass substrate using RF sputtering for a smart window | |
WO2023120047A1 (ja) | 膜付き透明基板、調理器用トッププレート、加熱調理器用窓ガラス、及びカバーガラス | |
KR20010071668A (ko) | 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품 및 이를사용한 음극선관 | |
Wang et al. | Composition and optical properties of chromium oxynitride films | |
RU51281U1 (ru) | Защитный оптически-прозрачный электромагнитный экран |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180425 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201127 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210907 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211019 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20220412 |