JP2019104689A - （ポリ）スルフィド化合物の製造方法およびエピスルフィド化合物の製造方法 - Google Patents
（ポリ）スルフィド化合物の製造方法およびエピスルフィド化合物の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】生産効率に優れ、かつ製造コストが低減された（ポリ）スルフィド化合物の製造方法の提供。【解決手段】式（１）で表されるチオール化合物同士をエピハロヒドリン類と、Ｍ（ＳＨ）ｎ、アミン及びピリジン類から選択される一種または２種以上と、硫黄との存在下で反応させて、（ポリ）スルフィド化合物を得るとともに、副生する硫化水素をエピハロヒドリン類と反応させて前記チオール化合物を生成する（ポリ）スルフィド化合物の製造方法。【選択図】なし
Description
本発明は、ビスハロヒドリン基を有する（ポリ）スルフィド化合物の製造方法、および（ポリ）スルフィド結合を有するエピスルフィド化合物の製造方法に関する。
プラスチックレンズは、無機レンズに比べ軽量で割れ難く、染色が可能なため近年、眼鏡レンズ、カメラレンズ等の光学素子に急速に普及してきている。
プラスチックレンズ用樹脂には、さらなる高性能化が要求されてきており、高屈折率化、高アッベ数化、低比重化、高耐熱性化等が求められてきた。これまでにも様々なレンズ用樹脂素材が開発され使用されている。
その中でも、スルフィド系樹脂からなる光学材料は、高屈折率、高アッベ数であり、屈折率１．６を超える超高屈折率材料として検討が行われている。スルフィド系樹脂は、エピスルフィド化合物を含む重合性組成物を重合させて得られる。
スルフィド系樹脂からなる成形体においては、高屈折率化を目的として、樹脂中の硫黄含有率を向上させる方法が提案されている。当該目的のため、ジスルフィド結合（−Ｓ−Ｓ−）を備えるエピスルフィド化合物が使用されている（特許文献１〜３）。特許文献１には、モノマーとして、分子内に１つ以上のジスルフィド結合と分子内に２つ以上の２，３−エピチオプロピル基を有するエピスルフィド化合物を用いることにより、屈折率が１．７１を超えるスルフィド系樹脂が得られることが記載されている。
スルフィド系樹脂からなる成形体においては、高屈折率化を目的として、樹脂中の硫黄含有率を向上させる方法が提案されている。当該目的のため、ジスルフィド結合（−Ｓ−Ｓ−）を備えるエピスルフィド化合物が使用されている（特許文献１〜３）。特許文献１には、モノマーとして、分子内に１つ以上のジスルフィド結合と分子内に２つ以上の２，３−エピチオプロピル基を有するエピスルフィド化合物を用いることにより、屈折率が１．７１を超えるスルフィド系樹脂が得られることが記載されている。
特許文献１および４〜８には、エピスルフィド化合物の製造方法が開示されており、特許文献１、６〜８には、チオールの酸化反応によりジスルフィド結合を有するエピスルフィド化合物を合成する方法が開示されている。
特許文献１の合成例１には、クロロメルカプトプロパノールを、炭酸水素ナトリウムとヨウ素の存在下で反応させ、次いで苛性ソーダ存在下で反応することによりビス（２，３−エポキシプロピル）ジスルフィドを得たことが記載されている。
特許文献６の実施例５や特許文献７の実施例５、６には、クロロメルカプトプロパノールを炭酸水素ナトリウムとヨウ素の存在下で反応させジスルフィド体を得たと記載されている。
特許文献８には、塩基性触媒の存在下、ポリチオール化合物と硫黄とを反応させてジスルフィド結合を介したポリチオールオリゴマーの製造方法が提案されている。実施例１には、具体的に２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアンを、硫黄と塩基性触媒であるトリエチルアミンとの存在下で反応させ、当該化合物のオリゴマー（ジスルフィド体等）を得たと記載されている。
特許文献９には、塩基性化合物および硫黄の存在下、チオール化合物同士を反応させて、（ポリ）スルフィド化合物の製造方法が記載されている。
特許文献１の合成例１には、クロロメルカプトプロパノールを、炭酸水素ナトリウムとヨウ素の存在下で反応させ、次いで苛性ソーダ存在下で反応することによりビス（２，３−エポキシプロピル）ジスルフィドを得たことが記載されている。
特許文献６の実施例５や特許文献７の実施例５、６には、クロロメルカプトプロパノールを炭酸水素ナトリウムとヨウ素の存在下で反応させジスルフィド体を得たと記載されている。
特許文献８には、塩基性触媒の存在下、ポリチオール化合物と硫黄とを反応させてジスルフィド結合を介したポリチオールオリゴマーの製造方法が提案されている。実施例１には、具体的に２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアンを、硫黄と塩基性触媒であるトリエチルアミンとの存在下で反応させ、当該化合物のオリゴマー（ジスルフィド体等）を得たと記載されている。
特許文献９には、塩基性化合物および硫黄の存在下、チオール化合物同士を反応させて、（ポリ）スルフィド化合物の製造方法が記載されている。
チオール化合物の酸化剤として硫黄、および塩基化合物を用いる方法は、（ポリ）スルフィド化合物を工業的に安価かつ安定的に製造することができる有効な手段である。
しかしながら、硫黄および塩基化合物を用いたチオール化合物の酸化反応は平衡反応であり目的化合物である（ポリ）スルフィド化合物が生成する過程で硫化水素が副生する。そのため反応を短時間で完了するためには、硫化水素を留去する必要があり、製造工程が煩雑となる点に改善の余地があり、さらに安全性の観点から反応混合槽は耐圧設備を必要とし、製造コストが高くなる点に改善の余地があった。一方、大気圧下で上記反応を行った場合、反応を完了するのに長時間を要し、生産性が悪くなる傾向があった。さらに硫化水素を除害する方法は、大規模な除害設備が必要となる等、工程が煩雑であるばかりか、製造コストが過大となる問題があった。
しかしながら、硫黄および塩基化合物を用いたチオール化合物の酸化反応は平衡反応であり目的化合物である（ポリ）スルフィド化合物が生成する過程で硫化水素が副生する。そのため反応を短時間で完了するためには、硫化水素を留去する必要があり、製造工程が煩雑となる点に改善の余地があり、さらに安全性の観点から反応混合槽は耐圧設備を必要とし、製造コストが高くなる点に改善の余地があった。一方、大気圧下で上記反応を行った場合、反応を完了するのに長時間を要し、生産性が悪くなる傾向があった。さらに硫化水素を除害する方法は、大規模な除害設備が必要となる等、工程が煩雑であるばかりか、製造コストが過大となる問題があった。
そのため、酸化剤として硫黄、および塩基化合物を用いる（ポリ）スルフィド化合物の製造法における、このような問題の発生を極力抑え、目的とする（ポリ）スルフィド化合物を、効率的に安価に製造できる製造法の開発が強く望まれていた。
すなわち、本発明の課題は、酸化剤として硫黄、および塩基化合物を用いる（ポリ）スルフィド化合物を製造するに際し、副生する硫化水素の量を削減し、大気圧下において生産性よくチオール化合物を得るための製造法を提供するものである。
本発明者らは鋭意検討の結果、本発明に到達した。すなわち本発明は硫黄および特定の塩基化合物を用いた、ハロヒドリン構造を有するチオール化合物同士の酸化反応を、エピハロヒドリン類の存在下で行うこと特徴とする（ポリ）スルフィド化合物の製造法である。
本発明は、以下に示すことができる。
［１］ 下記一般式（１）
（一般式（１）中、Ｘ１およびＸ２は水酸基またはハロゲン原子を示し、一方は水酸基であり、他方はハロゲン原子である。Ｒ１〜Ｒ７は同一または異なっていてもよく、水素原子、Ｃ１以上Ｃ１０以下の直鎖または分岐アルキル基、Ｃ６以上Ｃ１８以下の置換または無置換アリール基を示す。Ｒ１〜Ｒ７は、それぞれ同一または異なっていてもよい。ｍは０以上２以下の整数を示す。）
で表されるチオール化合物同士を、下記一般式（３）で表されるエピハロヒドリン類と、下記一般式（４）で表される塩基化合物、下記一般式（５）で表される塩基化合物およびピリジン類から選択される一種または２種以上と、硫黄との存在下で反応させて、下記一般式（２）で表される（ポリ）スルフィド化合物を得るとともに、前記反応において副生する硫化水素を前記エピハロヒドリン類と反応させて前記チオール化合物を生成する、（ポリ）スルフィド化合物の製造方法；
（一般式（３）中、Ｘは、ハロゲン原子を示す。Ｒ１〜Ｒ７は同一または異なっていてもよく、水素原子、Ｃ１以上Ｃ１０以下の直鎖または分岐アルキル基、Ｃ６以上Ｃ１８以下の置換または無置換アリール基を示す。Ｒ１〜Ｒ７は、それぞれ同一または異なっていてもよい。ｍは０以上２以下の整数を示す。）
Ｍ（ＳＨ）ｎ （４）
（一般式（４）中、Ｍは、アルカリ金属またはアルカリ土類金属を表す。ｎは、Ｍで表されるアルカリ金属またはアルカリ土類金属の価数を表す。）、
（一般式（５）中、Ｑ１、Ｑ２およびＱ３は、互いに同一または異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基またはアルコキシ基を表す。）
（一般式（２）中、Ｘ１〜Ｘ２、Ｒ１〜Ｒ７およびｍは一般式（１）と同義であり、複数存在するＸ１〜Ｘ２、Ｒ１〜Ｒ７およびｍは同一でも異なっていてもよい。ｐは０以上４以下の整数を示す。）。
［２］ 前記チオール化合物同士を、大気圧下で反応させる、［１］に記載の（ポリ）スルフィド化合物の製造方法。
［３］ Ｘ１およびＸ２における前記ハロゲン原子が塩素原子である、［１］または［２］に記載の（ポリ）スルフィド化合物の製造方法。
［４］ 前記一般式（３）で表されるエピハロヒドリン類が、下記一般式（３ａ）で表される化合物である、［１］〜［３］のいずれかに記載の（ポリ）スルフィド化合物の製造方法。
（一般式（３ａ）中、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であるハロゲン原子である。）
［５］ 前記一般式（１）で表されるチオール化合物は、下記式（１ａ）
で表される化合物を含む、［１］〜［４］のいずれかに記載の（ポリ）スルフィド化合物の製造方法。
［６］ 前記一般式（５）で表される化合物が、第３級アミンである、［１］〜［５］のいずれかに記載の（ポリ）スルフィド化合物の製造方法。
［７］ ［１］〜［６］のいずれかに記載の製造方法により（ポリ）スルフィド化合物を製造する工程と、
前記（ポリ）スルフィド化合物を、塩基条件下でエポキシ化し、下記一般式（７）
（一般式（７）中、Ｒ１〜Ｒ７およびｍは一般式（１）と同義であり、複数存在するＲ１〜Ｒ７およびｍは同一でも異なっていてもよい。ｐは０以上４以下の整数を示す。）
で表されるエポキシ化合物を得る工程と、
前記エポキシ化合物を硫化剤と反応させて下記一般式（８）
（一般式（８）中、Ｒ１〜Ｒ７、ｍおよびｐは一般式（７）と同義である。）
で表されるエピスルフィド化合物を得る工程と、
を含む、エピスルフィド化合物の製造方法。
［８］ 前記エピスルフィド化合物が、下記一般式（９）
（一般式（９）中、ｐは０以上４以下の整数を示す。）
で表される化合物を含む、［７］に記載のエピスルフィド化合物の製造方法。
［９］ 前記エピスルフィド化合物が、下記式（１０）
で表される化合物を含む、［７］または［８］に記載のエピスルフィド化合物の製造方法。
なお、本発明において「一般式（１）で表されるチオール化合物同士を反応させる」とは、一般式（１）で表される同一のチオール化合物同士を反応させる態様、一般式（１）で表される異なるチオール化合物同士を反応させる態様のいずれも含むものである。
［１］ 下記一般式（１）
で表されるチオール化合物同士を、下記一般式（３）で表されるエピハロヒドリン類と、下記一般式（４）で表される塩基化合物、下記一般式（５）で表される塩基化合物およびピリジン類から選択される一種または２種以上と、硫黄との存在下で反応させて、下記一般式（２）で表される（ポリ）スルフィド化合物を得るとともに、前記反応において副生する硫化水素を前記エピハロヒドリン類と反応させて前記チオール化合物を生成する、（ポリ）スルフィド化合物の製造方法；
Ｍ（ＳＨ）ｎ （４）
（一般式（４）中、Ｍは、アルカリ金属またはアルカリ土類金属を表す。ｎは、Ｍで表されるアルカリ金属またはアルカリ土類金属の価数を表す。）、
［２］ 前記チオール化合物同士を、大気圧下で反応させる、［１］に記載の（ポリ）スルフィド化合物の製造方法。
［３］ Ｘ１およびＸ２における前記ハロゲン原子が塩素原子である、［１］または［２］に記載の（ポリ）スルフィド化合物の製造方法。
［４］ 前記一般式（３）で表されるエピハロヒドリン類が、下記一般式（３ａ）で表される化合物である、［１］〜［３］のいずれかに記載の（ポリ）スルフィド化合物の製造方法。
［５］ 前記一般式（１）で表されるチオール化合物は、下記式（１ａ）
［６］ 前記一般式（５）で表される化合物が、第３級アミンである、［１］〜［５］のいずれかに記載の（ポリ）スルフィド化合物の製造方法。
［７］ ［１］〜［６］のいずれかに記載の製造方法により（ポリ）スルフィド化合物を製造する工程と、
前記（ポリ）スルフィド化合物を、塩基条件下でエポキシ化し、下記一般式（７）
で表されるエポキシ化合物を得る工程と、
前記エポキシ化合物を硫化剤と反応させて下記一般式（８）
で表されるエピスルフィド化合物を得る工程と、
を含む、エピスルフィド化合物の製造方法。
［８］ 前記エピスルフィド化合物が、下記一般式（９）
で表される化合物を含む、［７］に記載のエピスルフィド化合物の製造方法。
［９］ 前記エピスルフィド化合物が、下記式（１０）
なお、本発明において「一般式（１）で表されるチオール化合物同士を反応させる」とは、一般式（１）で表される同一のチオール化合物同士を反応させる態様、一般式（１）で表される異なるチオール化合物同士を反応させる態様のいずれも含むものである。
本発明の製造方法よれば、所定の構造を有するエピハロヒドリン類の存在下で、所定のハロヒドリン構造を有するチオール化合物同士を反応させるので、反応において副生する硫化水素がエピハロヒドリン類と反応し、前記チオール化合物が生成される。そのため、（ポリ）スルフィド化合物を高収率で得ることができ、チオール化合物の使用量を低減することもできる。さらに、反応において副生する有害な硫化水素の量が大幅に低減されるため、硫化水素を留去する必要がなく、大気圧下で反応を行うことができる。これにより、簡便な製造設備および製造方法で（ポリ）スルフィド化合物を合成することができ、生産効率が向上するとともに、製造コストを削減できることから工業上有利である。さらに、引き続いて、（ポリ）スルフィド化合物のハロヒドリン構造をエポキシ基に変換した後、硫化剤によりエポキシ基をエピスルフィド基に変換することにより、エピスルフィド化合物を高収率で得ることができるとともに、当該（ポリ）スルフィド化合物の製造方法を含むことにより上記効果も得ることができる。
本発明の（ポリ）スルフィド化合物の製造方法は、
分子内にハロゲン原子と水酸基を有する特定のチオール化合物同士を、一般式（３）で表されるエピハロヒドリン類と、一般式（４）または一般式（５）で表される塩基化合物およびピリジン類から選択される一種または二種以上と、硫黄との存在下で反応させて（ポリ）スルフィド化合物を得るとともに、前記反応において副生する硫化水素を前記エピハロヒドリン類と反応させて前記チオール化合物を生成する工程を含む。
さらに、本発明のエピスルフィド化合物の製造方法は、
前記の方法で得られた（ポリ）スルフィド化合物を塩基条件下でエポキシ化する工程と、
前記工程で得られたエポキシ化合物を硫化剤と反応させて、エピスルフィド化合物を得る工程と、を含む。
以下、本発明の実施の形態を説明する。
分子内にハロゲン原子と水酸基を有する特定のチオール化合物同士を、一般式（３）で表されるエピハロヒドリン類と、一般式（４）または一般式（５）で表される塩基化合物およびピリジン類から選択される一種または二種以上と、硫黄との存在下で反応させて（ポリ）スルフィド化合物を得るとともに、前記反応において副生する硫化水素を前記エピハロヒドリン類と反応させて前記チオール化合物を生成する工程を含む。
さらに、本発明のエピスルフィド化合物の製造方法は、
前記の方法で得られた（ポリ）スルフィド化合物を塩基条件下でエポキシ化する工程と、
前記工程で得られたエポキシ化合物を硫化剤と反応させて、エピスルフィド化合物を得る工程と、を含む。
以下、本発明の実施の形態を説明する。
（（ポリ）スルフィドの製造方法）
本実施形態の（ポリ）スルフィド化合物の製造方法は、
下記一般式（１）で表されるチオール化合物同士を、一般式（３）で表されるエピハロヒドリン類と、一般式（４）で表される塩基化合物、一般式（５）で表される塩基化合物およびピリジン類から選択される一種または二種以上と、硫黄との存在下で反応させて、一般式（２）で表される（ポリ）スルフィド化合物を得るとともに、前記反応において副生する硫化水素を前記エピハロヒドリン類と反応させて前記チオール化合物を生成する工程を含む。
本実施形態の（ポリ）スルフィド化合物の製造方法は、
下記一般式（１）で表されるチオール化合物同士を、一般式（３）で表されるエピハロヒドリン類と、一般式（４）で表される塩基化合物、一般式（５）で表される塩基化合物およびピリジン類から選択される一種または二種以上と、硫黄との存在下で反応させて、一般式（２）で表される（ポリ）スルフィド化合物を得るとともに、前記反応において副生する硫化水素を前記エピハロヒドリン類と反応させて前記チオール化合物を生成する工程を含む。
一般式（１）中、Ｘ１およびＸ２は水酸基またはハロゲン原子を示し、一方は水酸基であり、他方はハロゲン原子である。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、本発明の効果の観点から塩素原子であることが好ましい。
Ｒ１〜Ｒ７は同一または異なっていてもよく、水素原子、Ｃ１以上Ｃ１０以下の直鎖または分岐アルキル基、Ｃ６以上Ｃ１８以下の置換または無置換アリール基を示す。Ｒ１〜Ｒ７は、それぞれ同一または異なっていてもよい。
Ｃ１以上Ｃ１０以下の直鎖または分岐アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。
アリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、ビフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリルなどの炭素数６以上１８以下のアリール基等が挙げられる。
Ｃ１以上Ｃ１０以下の直鎖または分岐アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。
アリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、ビフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリルなどの炭素数６以上１８以下のアリール基等が挙げられる。
置換アリール基の置換基としては、炭素原子数１以上１０以下のアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、炭素原子１以上１０以下のアルコキシル基またはアルキルチオ基、アミノ基等が挙げられる。
Ｒ１〜Ｒ７は同一または異なっていてもよく、水素原子またはＣ１以上Ｃ１０以下の直鎖または分岐アルキル基が好ましく、いずれも水素原子であることが好ましい。
Ｒ１〜Ｒ７は同一または異なっていてもよく、水素原子またはＣ１以上Ｃ１０以下の直鎖または分岐アルキル基が好ましく、いずれも水素原子であることが好ましい。
ｍは０以上２以下の整数を示し、好ましくは０または１、さらに好ましくは０である。
本実施形態において、チオール化合物としては、本発明の効果の観点から下記式（１ａ）で表される化合物を好ましく用いることができる。
本実施形態において、チオール化合物としては、本発明の効果の観点から下記式（１ａ）で表される化合物を好ましく用いることができる。
本実施形態において、エピハロヒドリン類としては一般式（３）で表されるエピハロヒドリン化合物を用いることができる。
一般式（３）中、Ｘは、ハロゲン原子を示す。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、本発明の効果の観点から塩素原子であることが好ましい。Ｒ１〜Ｒ７は同一または異なっていてもよく、水素原子、Ｃ１以上Ｃ１０以下の直鎖または分岐アルキル基、Ｃ６以上Ｃ１８以下の置換または無置換アリール基を示す。Ｒ１〜Ｒ７は、それぞれ同一または異なっていてもよい。Ｒ１〜Ｒ７の基としては、一般式（１）のＲ１〜Ｒ７において例示された基を用いることができ、水素原子またはＣ１以上Ｃ１０以下の直鎖または分岐アルキル基が好ましく、いずれも水素原子であることが好ましい。
ｍは０以上２以下の整数を示し、好ましくは０または１、さらに好ましくは０である。
ｍは０以上２以下の整数を示し、好ましくは０または１、さらに好ましくは０である。
本発明の効果の観点から、エピハロヒドリン類としては一般式（３ａ）で表されるエピハロヒドリン化合物を用いることが好ましい。
一般式（３ａ）中、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であるハロゲン原子であり、好ましくは塩素原子である。一般式（３ａ）の化合物としては、エピクロロヒドリンが好ましい。
本実施形態において、塩基化合物としては、一般式（４）で表される化合物、などの無機塩基または下記一般式（５）で表されるアミン化合物、ピリジン類、などの有機塩基を用いることができる。
Ｍ（ＳＨ）ｎ （４）
一般式（４）中、Ｍは、アルカリ金属またはアルカリ土類金属を表し、好ましくはリチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属であり、より好ましくはナトリウムである。ｎは、Ｍで表されるアルカリ金属またはアルカリ土類金属の価数を表す。
一般式（４）中、Ｍは、アルカリ金属またはアルカリ土類金属を表し、好ましくはリチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属であり、より好ましくはナトリウムである。ｎは、Ｍで表されるアルカリ金属またはアルカリ土類金属の価数を表す。
一般式（４）で表される化合物としては、硫化水素ナトリウム、硫化水素カリウム、硫化水素マグネシウム、硫化水素カルシウム等が挙げられる。本実施形態においては、硫化水素ナトリウムを用いることが好ましい。
一般式（５）中、Ｑ１、Ｑ２およびＱ３は、互いに同一または異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基またはアルコキシ基を表す。
一般式（５）で表される化合物としては、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｓ− ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、エチルメチルアミン、アニリン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチルアニリン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジｎ−ブチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリｎ−ブチルアミン、トリｎ−ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、ジヘプチルアミン、トリヘプチルアミン、オクチルアミン、ジオクチルアミン、トリオクチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｎ−オクタデシルアミン、トリエチレンジアミン、フェニルアミン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルブチルアミン、Ｎ−メチルジシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等が挙げられる。
一般式（５）で表される化合物としては、第３級アミンであることが好ましい。
一般式（５）で表される化合物としては、第３級アミンであることが好ましい。
上記ピリジン類としては、一般式（６）で表される化合物等を用いることができる。
一般式（６）中、Ｒ１は炭素数１〜２０の直鎖アルキル基、炭素数３〜２０の分岐アルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、またはハロゲン原子を示し、複数存在するＲ１は同一でも異なっていてもよい。Ｑは炭素原子または窒素原子を示す。ｍは０〜５の整数を示す。
ピリジン類としては、例えば、２−メチルピラジン、ピリジン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、２,６−ルチジン、３,５−ルチジン、２，４，６−トリメチルピリジン、または３−クロルピリジン等を挙げることができ、これらから選択される少なくとも１種を用いることができる。
本実施形態においては、（ポリ）スルフィド化合物を高収率で得る観点からトリエチルアミンを用いることが好ましい。
塩基は水溶液、アルコール溶液、トルエン溶液等として用いることができ、溶液として用いる場合、塩基の濃度は適宜選択することができる。
本実施形態においては、（ポリ）スルフィド化合物を高収率で得る観点からトリエチルアミンを用いることが好ましい。
塩基は水溶液、アルコール溶液、トルエン溶液等として用いることができ、溶液として用いる場合、塩基の濃度は適宜選択することができる。
本実施形態においては、反応において副生する硫化水素がエピハロヒドリン類と反応し原料であるチオール化合物が生成されるため、（ポリ）スルフィド化合物を高収率で得ることができ、チオール化合物の使用量を低減することもできる。さらに、反応において副生する有害な硫化水素の量が大幅に低減されるため、硫化水素を留去する必要がなく、大気圧下で反応を行うことができる。これにより、簡便な製造設備および製造方法で（ポリ）スルフィド化合物を合成することができ、生産効率が向上し、かつ製造コストを削減できることから工業上有利である。
本発明の効果の観点からチオール化合物として式（１ａ）の化合物、式（３ａ）の化合物としてエピクロロヒドリンを用いることが好ましい。
本発明の効果の観点からチオール化合物として式（１ａ）の化合物、式（３ａ）の化合物としてエピクロロヒドリンを用いることが好ましい。
本工程においては、上記のような塩基化合物および硫黄の存在下、上記一般式（１）で表されるチオール化合物を反応させ、下記一般式（２）で表される（ポリ）スルフィド化合物を得る。
本工程は、反応溶媒中で行うことができ、反応溶媒としては、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族系溶媒類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等の脂肪族系溶媒類、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、メトキシエタノール、エチレングリコール、グリセリン等のアルコール類、水等が用いられる。これらは単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
硫黄の使用量は、一般式（１）で表されるチオール化合物１ｍｏｌに対して、０．３ｍｏｌ以上２．０ｍｏｌ以下が好ましく、０．５ｍｏｌ以上１．５ｍｏｌ以下であれば更に好ましく、０．６ｍｏｌ以上１．２ｍｏｌ以下であると特に好ましい。上記範囲であることにより、副生物の生成を抑制し、（ポリ）スルフィド体を選択的に製造することができるため、（ポリ）スルフィド化合物の収率を改善することができる。
塩基化合物の使用量は、一般式（１）で表されるチオール化合物に対して、１．０ｍｏｌ％以上７．０ｍｏｌ％以下が好ましく、３．０ｍｏｌ％以上５．０ｍｏｌ％以下がさらに好ましい。
塩基化合物の使用量は、一般式（１）で表されるチオール化合物に対して、１．０ｍｏｌ％以上７．０ｍｏｌ％以下が好ましく、３．０ｍｏｌ％以上５．０ｍｏｌ％以下がさらに好ましい。
硫黄の使用量は、エピハロヒドリン類１ｍｏｌに対して、０．５ｍｏｌ以上２．５ｍｏｌ以下が好ましく、０．７ｍｏｌ以上２．３ｍｏｌ以下がより好ましく、１．０ｍｏｌ以上２．０ｍｏｌ以下が特に好ましい。上記範囲であることにより、副生物の生成を抑制し、（ポリ）スルフィド体を選択的に製造することができるため、（ポリ）スルフィド化合物の収率を改善することができる。さらに、副生する硫化水素をエピハロヒドリン類と効率的に反応させて原料であるチオール化合物を副生物から効率良く得ることができるため、目的化合物である（ポリ）スルフィド化合物をより高収率で得ることができる。
エピハロヒドリン類／一般式（１）で表されるチオール化合物のモル比が０．０２５以上１以下が好ましく、０．１以上１以下であれば更に好ましく、０．４以上０．８以下であると特に好ましい。上記範囲であることにより、一般式（１）で表されるチオール化合物の使用量を低減できるばかりか、反応時間がより短くなる。
反応温度は５℃以上３０℃以下が好ましく、１０℃以上２０℃以下であれば更に好ましい。反応温度が５℃より高いと、反応前半で反応が十分に進行し、反応系内に未反応物が滞留することなくおだやかに反応が進行し、３０℃より低いとレンズの色相に優れる。
反応時間は、特に限定されないが３時間以上２０時間以下である。
反応時間は、特に限定されないが３時間以上２０時間以下である。
反応は、大気圧下または減圧下で行うことができる。大気圧下での反応では、エピハロヒドリン類と硫化水素とをより効率よく反応でき、収率の点からより好ましい。大気圧下での反応が可能なため、減圧装置を必要とせず、工業上有利である。
また、本工程は、たとえば下記（ａ）〜（ｇ）の反応形態で実施することが可能である。
（ａ）塩基化合物、硫黄および上記一般式（１）で表されるチオール化合物を一括装入後、反応液中にエピハロヒドリン類を滴下
（ｂ）塩基化合物および硫黄に対して、上記一般式（１）で表されるチオール化合物を添加後、反応液中にエピハロヒドリン類を滴下
（ｃ）塩基化合物および硫黄に対して、上記一般式（１）で表されるチオール化合物およびエピハロヒドリン類を同時装入、またはチオール化合物およびエピハロヒドリン類の混合物を滴下
（ｄ）上記一般式（１）で表されるチオール化合物および硫黄に対して、塩基化合物を添加後、反応液中にエピハロヒドリン類を滴下
（ｅ）エピハロヒドリン類、上記一般式（１）で表されるチオール化合物および硫黄に対して、塩基化合物を添加
（ｆ）上記一般式（１）で表されるチオール化合物および塩基化合物に対し、硫黄およびエピハロヒドリン類を同時装入、または硫黄を添加した後にエピハロヒドリン類を滴下
（ｇ）上記一般式（１）で表されるチオール化合物およびエピハロヒドリン類に対し、硫黄および塩基化合物を同時装入、または硫黄を添加した後に塩基化合物を添加
（ａ）塩基化合物、硫黄および上記一般式（１）で表されるチオール化合物を一括装入後、反応液中にエピハロヒドリン類を滴下
（ｂ）塩基化合物および硫黄に対して、上記一般式（１）で表されるチオール化合物を添加後、反応液中にエピハロヒドリン類を滴下
（ｃ）塩基化合物および硫黄に対して、上記一般式（１）で表されるチオール化合物およびエピハロヒドリン類を同時装入、またはチオール化合物およびエピハロヒドリン類の混合物を滴下
（ｄ）上記一般式（１）で表されるチオール化合物および硫黄に対して、塩基化合物を添加後、反応液中にエピハロヒドリン類を滴下
（ｅ）エピハロヒドリン類、上記一般式（１）で表されるチオール化合物および硫黄に対して、塩基化合物を添加
（ｆ）上記一般式（１）で表されるチオール化合物および塩基化合物に対し、硫黄およびエピハロヒドリン類を同時装入、または硫黄を添加した後にエピハロヒドリン類を滴下
（ｇ）上記一般式（１）で表されるチオール化合物およびエピハロヒドリン類に対し、硫黄および塩基化合物を同時装入、または硫黄を添加した後に塩基化合物を添加
以上の工程により、一般式（１）で表されるチオール化合物間でメルカプト基同士の酸化反応を大気圧下で選択的に進行させることができ、下記一般式（２）で表されるビスハロヒドリン基を有する（ポリ）スルフィド化合物を得ることができる。本実施形態においては、当該反応において副生する硫化水素を前記エピハロヒドリン類と反応させ、原料である前記チオール化合物を生成することができるため、（ポリ）スルフィド化合物を高収率で得ることができ、チオール化合物の使用量を低減することもできる。
一般式（２）中、Ｘ１〜Ｘ２、Ｒ１〜Ｒ７およびｍは一般式（１）と同義であり、複数存在するＸ１〜Ｘ２、Ｒ１〜Ｒ７およびｍは同一でも異なっていてもよい。ｐは０以上４以下の整数を示す。
本実施形態において、一般式（２）で表される（ポリ）スルフィド化合物としては、1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンが好ましい。
本実施形態において、一般式（２）で表される（ポリ）スルフィド化合物としては、1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンが好ましい。
また、一般式（２）で表される（ポリ）スルフィド化合物の収率は好ましくは８０％以上である。このように、本実施形態においては、副反応物である含硫環化合物の生成が抑制されており、一般式（２）で表される（ポリ）スルフィド化合物を光学材料用モノマーとして好適に用いることができる。
さらに、必要に応じて、一般式（２）で表される（ポリ）スルフィド化合物を得た後、公知の精製工程を行うこともできる。
（エピスルフィドの製造方法）
本実施形態のエピスルフィド化合物の製造方法は、以下の工程を含む。
工程（ｉ）：一般式（２）で表される（ポリ）スルフィド化合物を塩基条件下でエポキシ化し、下記一般式（７）で表されるエポキシ化合物を得る。
本実施形態のエピスルフィド化合物の製造方法は、以下の工程を含む。
工程（ｉ）：一般式（２）で表される（ポリ）スルフィド化合物を塩基条件下でエポキシ化し、下記一般式（７）で表されるエポキシ化合物を得る。
一般式（７）中、Ｒ１〜Ｒ７およびｍは一般式（１）と同義であり、複数存在するＲ１〜Ｒ７およびｍは同一でも異なっていてもよい。ｐは０以上４以下の整数を示す。
工程（ii）：前記エポキシ化合物を硫化剤と反応させて、下記一般式（８）で表されるエピスルフィド化合物を得る。
一般式（８）中、Ｒ１〜Ｒ７、ｍおよびｐは一般式（７）と同義である。
本実施形態のエピスルフィド化合物の製造方法は、上述の（ポリ）スルフィド化合物の製造方法を一工程として含むことから、ひいてはエピスルフィド化合物の生産性に優れ、製造コストを抑制することができる。さらに、当該エピスルフィド化合物を用いて製造されるレンズについても、生産性に優れ、製造コストを抑制することができる。
本実施形態のエピスルフィド化合物の製造方法は、上述の（ポリ）スルフィド化合物の製造方法を一工程として含むことから、ひいてはエピスルフィド化合物の生産性に優れ、製造コストを抑制することができる。さらに、当該エピスルフィド化合物を用いて製造されるレンズについても、生産性に優れ、製造コストを抑制することができる。
また、本実施形態においては、従来の方法と異なりハロゲンを用いることなく（ポリ）スルフィド化合物が製造されるため、（ポリ）スルフィド化合物のハロゲン含有量は低い。そして、当該（ポリ）スルフィド化合物を用いて製造されるエピスルフィド化合物のハロゲン含有量も低い。そのため、当該エピスルフィド化合物を用いてレンズ等の光学材料を製造する場合において、ハロゲンに由来する副反応や副生物の生成が抑制され、品質に優れた光学材料を得ることもできる。
これらの工程について、以下詳細に説明する。
これらの工程について、以下詳細に説明する。
工程（ｉ）
一般式（１）で表されるチオール化合物同士を、一般式（３）で表されるエピハロヒドリン類と、一般式（４）または一般式（５）で表される塩基化合物およびピリジン類から選択される一種または二種以上と、硫黄との存在下で反応させて得られた一般式（２）で表される（ポリ）スルフィド化合物に、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、ジエチルアニリン、ピリジン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメチラート、ｔ−ブトキシカリウム、燐酸一水素二ナトリウム、酢酸ナトリウム等の有機・無機塩基類を加えて、一般式（７）で表されるエポキシ化合物を含む組成物を得る。
一般式（１）で表されるチオール化合物同士を、一般式（３）で表されるエピハロヒドリン類と、一般式（４）または一般式（５）で表される塩基化合物およびピリジン類から選択される一種または二種以上と、硫黄との存在下で反応させて得られた一般式（２）で表される（ポリ）スルフィド化合物に、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、ジエチルアニリン、ピリジン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメチラート、ｔ−ブトキシカリウム、燐酸一水素二ナトリウム、酢酸ナトリウム等の有機・無機塩基類を加えて、一般式（７）で表されるエポキシ化合物を含む組成物を得る。
これら塩基は、単独でも２種類以上を併用してもよい。用いる塩基の種類は有機溶媒に溶解する有機塩基類が好ましく、トリエチルアミンが特に好ましい。
これらの塩基の使用量は、（ポリ）スルフィド化合物に対して、１当量以上１０当量以下が好ましく、２当量以上５当量以下であれば更に好ましい。
また、反応温度は−１０℃以上６０℃以下が好ましく、１０℃以上３０℃以下であれば更に好ましい。
これらの塩基の使用量は、（ポリ）スルフィド化合物に対して、１当量以上１０当量以下が好ましく、２当量以上５当量以下であれば更に好ましい。
また、反応温度は−１０℃以上６０℃以下が好ましく、１０℃以上３０℃以下であれば更に好ましい。
本工程は、反応溶媒中で行うことができ、反応溶媒としては、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族系溶媒類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等の脂肪族系溶媒類、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、メトキシエタノール、エチレングリコール、グリセリン等のアルコール類、水等が用いられる。特に好ましくはトルエンである。これらは単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
工程（ii）
工程（ｉ）で得られた一般式（７）で表されるエポキシ化合物を硫化剤と反応させ、一般式（８）で表されるエピスルフィド化合物を得る。
硫化剤としては、チオ尿素、又はチオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸アンモニウム、チオシアン酸カルシウム、チオシアン酸鉛等のチオシアン酸塩等が挙げられる。チオシアン酸塩を使用する場合は、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸アンモニウムが好ましく、チオシアン酸ナトリウムが更に好ましい。
工程（ｉ）で得られた一般式（７）で表されるエポキシ化合物を硫化剤と反応させ、一般式（８）で表されるエピスルフィド化合物を得る。
硫化剤としては、チオ尿素、又はチオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸アンモニウム、チオシアン酸カルシウム、チオシアン酸鉛等のチオシアン酸塩等が挙げられる。チオシアン酸塩を使用する場合は、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸アンモニウムが好ましく、チオシアン酸ナトリウムが更に好ましい。
硫化剤であるチオ尿素、又はチオシアン酸塩の使用量は、例えば、エポキシ基に対して当量以上で用いられるが、好ましくは１当量以上５当量以下、更に好ましくは１当量以上３当量以下の範囲である。１当量未満では純度が低下し、５当量を超えると経済的に不利になる場合がある。
反応温度はチオ尿素、又はチオシアン酸塩の種類によって大きく異なる為特に限定はできないが、チオ尿素を使用する場合は凡そ１０℃以上３０℃以下が好ましく、チオシアン酸塩を使用する場合は凡そ３０℃以上６０℃以下が好ましい。
反応温度はチオ尿素、又はチオシアン酸塩の種類によって大きく異なる為特に限定はできないが、チオ尿素を使用する場合は凡そ１０℃以上３０℃以下が好ましく、チオシアン酸塩を使用する場合は凡そ３０℃以上６０℃以下が好ましい。
一般式（８）で表されるエピスルフィド化合物を合成する場合、通常、エポキシ化合物の合成時と同様の反応溶媒が使用される。例えば、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族系溶媒類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等の脂肪族系溶媒類、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、メトキシエタノール、エチレングリコール、グリセリン等のアルコール類等が好ましく用いられる。これらは単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。エポキシ化の場合と異なり、チオエポキシ化の場合は、水は反応速度を遅くさせる傾向にある為、好ましくは用いられない。
本実施形態において、一般式（８）で表されるエピスルフィド化合物は、下記一般式（９）で表されるエピスルフィド化合物であることが好ましく、下記一般式（１０）で表されるエピスルフィド化合物であることがさらに好ましい。
一般式（９）中、ｐは０以上４以下の整数を示す。
本実施形態においては、上記の製造方法により得られたエピスルフィド化合物を含む光学材料用重合性組成物を従来公知の方法で調製することができる。光学材料用重合性組成物は、得られたエピスルフィド化合物とともに、ポリイソシアネート化合物および／またはポリチオール化合物等を含むことができる。
さらに、光学材料用重合性組成物から従来公知の方法により光学材料を製造することができる。光学材料として、具体的には、プラスチックレンズ、カメラレンズ、発光ダイオード（ＬＥＤ）、プリズム、光ファイバー、情報記録基板、フィルター、発光ダイオード、自動車用光学レンズ、ロボット用光学レンズ等を挙げることができる。特に、プラスチックレンズ、カメラレンズ、発光ダイオード等の光学材料、光学素子として好適である。
さらに、光学材料用重合性組成物から従来公知の方法により光学材料を製造することができる。光学材料として、具体的には、プラスチックレンズ、カメラレンズ、発光ダイオード（ＬＥＤ）、プリズム、光ファイバー、情報記録基板、フィルター、発光ダイオード、自動車用光学レンズ、ロボット用光学レンズ等を挙げることができる。特に、プラスチックレンズ、カメラレンズ、発光ダイオード等の光学材料、光学素子として好適である。
以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、本発明の効果を損なわない範囲で、上記以外の様々な構成を採用することができる。
以下に、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下説明中、特に言及が無い限り「部」、「％」は重量基準である。
［分析方法１］
・ＨＰＬＣ機種：島津製作所社製ＳＰＤ−１０Ａ
・測定波長：２１０ｎｍ
・カラム：ＹＭＣ Ａ−３１２ Ｓ−５ ＯＤＳ ６ｍｍＩＤ×１５０ｍｍ
・温度条件：４０℃
・移動相：アセトニトリル／水＝２／３（ｖｏｌ／ｖｏｌ）
・注入量：２μＬ
・試料調製：反応液５００ｍｇをアセトニトリル１０ｍＬで溶解
・ＨＰＬＣ機種：島津製作所社製ＳＰＤ−１０Ａ
・測定波長：２１０ｎｍ
・カラム：ＹＭＣ Ａ−３１２ Ｓ−５ ＯＤＳ ６ｍｍＩＤ×１５０ｍｍ
・温度条件：４０℃
・移動相：アセトニトリル／水＝２／３（ｖｏｌ／ｖｏｌ）
・注入量：２μＬ
・試料調製：反応液５００ｍｇをアセトニトリル１０ｍＬで溶解
［分析方法２］
・ＨＰＬＣ機種：島津製作所社製ＳＰＤ−１０Ａ
・測定波長：２５８ｎｍ
・カラム：ＹＭＣ Ａ−３１２ Ｓ−５ ＯＤＳ ６ｍｍＩＤ×１５０ｍｍ
・温度条件：４０℃
・移動相：アセトニトリル／水＝２／３（ｖｏｌ／ｖｏｌ）
・注入量：２μＬ
・試料調製：反応液１００ｍｇをアセトニトリル１０ｍＬで溶解
・ＨＰＬＣ機種：島津製作所社製ＳＰＤ−１０Ａ
・測定波長：２５８ｎｍ
・カラム：ＹＭＣ Ａ−３１２ Ｓ−５ ＯＤＳ ６ｍｍＩＤ×１５０ｍｍ
・温度条件：４０℃
・移動相：アセトニトリル／水＝２／３（ｖｏｌ／ｖｏｌ）
・注入量：２μＬ
・試料調製：反応液１００ｍｇをアセトニトリル１０ｍＬで溶解
［実施例１］
［1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンの合成］
セパラブルフラスコ容器に、トルエン２０．０重量部、硫黄粉末を２．５７重量部、９２．７ｗｔ％の1-クロロ-3-メルカプト-2-プロパノール１５．７重量部（化合物：１４．５６重量部）を装入し、気相部に窒素ガスを流通させながら大気圧下で撹拌し、内温を１０℃にした。次に１０wt%のトリエチルアミントルエン溶液５．３重量部（トリエチルアミン：０．５３重量部）を４時間かけて装入した。トリエチルアミン滴下開始と同時に９９．９wt％エピクロロヒドリン７．１重量部（エピクロロヒドリン：７．１重量部）を３０分かけて装入した。内温１０℃から２０℃で４時間撹拌し熟成を行った。反応の過程で副生した硫化水素は３０％ＮａＯＨ水溶液へ流通させ、その重量増を測定した結果、０．１６gの増加であり、よって硫化水素は添加した硫黄に対して６ｍｏｌ％発生した。得られた反応液を分析方法１にて分析した結果、目的物である1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンを７９．１ａｒｅａ％含有していた。
以下に、1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンの同定データを示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３、内部標準物質：ＴＭＳ）δ：２．６４（２Ｈ）、２．９６（４Ｈ）、３．７１(４Ｈ)、４．１５（２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ：４２．４、４８．１、６９．８
［1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンの合成］
セパラブルフラスコ容器に、トルエン２０．０重量部、硫黄粉末を２．５７重量部、９２．７ｗｔ％の1-クロロ-3-メルカプト-2-プロパノール１５．７重量部（化合物：１４．５６重量部）を装入し、気相部に窒素ガスを流通させながら大気圧下で撹拌し、内温を１０℃にした。次に１０wt%のトリエチルアミントルエン溶液５．３重量部（トリエチルアミン：０．５３重量部）を４時間かけて装入した。トリエチルアミン滴下開始と同時に９９．９wt％エピクロロヒドリン７．１重量部（エピクロロヒドリン：７．１重量部）を３０分かけて装入した。内温１０℃から２０℃で４時間撹拌し熟成を行った。反応の過程で副生した硫化水素は３０％ＮａＯＨ水溶液へ流通させ、その重量増を測定した結果、０．１６gの増加であり、よって硫化水素は添加した硫黄に対して６ｍｏｌ％発生した。得られた反応液を分析方法１にて分析した結果、目的物である1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンを７９．１ａｒｅａ％含有していた。
以下に、1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンの同定データを示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３、内部標準物質：ＴＭＳ）δ：２．６４（２Ｈ）、２．９６（４Ｈ）、３．７１(４Ｈ)、４．１５（２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ：４２．４、４８．１、６９．８
［ビス（2,3-エポキシプロピル）ジスルフィドの合成］
続いて、反応液にトルエンを２０．０重量部装入し、内温を１０℃に保った。次いで滴下ロートに２５％ＮａＯＨ水溶液２３．９重量部を装入し、１０℃で２時間かけて滴下装入した。滴下終了後３時間、内温１０℃を維持した状態で撹拌した。得られた反応液を一旦分液ロートに移液して水層を排出した。残ったトルエン層に１３％ＮａＣｌ水溶液１０重量部を装入し、酢酸を加えて反応液ｐＨ＝５．５〜６．０へ撹拌しながらｐＨを調整した。ｐＨ調整後、２０℃で１５分間洗浄を行い、水層を排出した。再度トルエン層に１３％ＮａＣｌ水溶液１０重量部を装入し２０℃で１５分間洗浄し、水層を排出した。残ったトルエン層をナスフラスコへ移液させ、３５℃で３時間脱トルエンを行い、濃縮物を分析方法２にて分析した結果、ビス（2,3-エポキシプロピル）ジスルフィド７８．０ｗｔ％（０．０７３５ｍｏｌ）を含む生成物１６．８重量部を得た。
続いて、反応液にトルエンを２０．０重量部装入し、内温を１０℃に保った。次いで滴下ロートに２５％ＮａＯＨ水溶液２３．９重量部を装入し、１０℃で２時間かけて滴下装入した。滴下終了後３時間、内温１０℃を維持した状態で撹拌した。得られた反応液を一旦分液ロートに移液して水層を排出した。残ったトルエン層に１３％ＮａＣｌ水溶液１０重量部を装入し、酢酸を加えて反応液ｐＨ＝５．５〜６．０へ撹拌しながらｐＨを調整した。ｐＨ調整後、２０℃で１５分間洗浄を行い、水層を排出した。再度トルエン層に１３％ＮａＣｌ水溶液１０重量部を装入し２０℃で１５分間洗浄し、水層を排出した。残ったトルエン層をナスフラスコへ移液させ、３５℃で３時間脱トルエンを行い、濃縮物を分析方法２にて分析した結果、ビス（2,3-エポキシプロピル）ジスルフィド７８．０ｗｔ％（０．０７３５ｍｏｌ）を含む生成物１６．８重量部を得た。
［実施例２］
［1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンの合成］
セパラブルフラスコ容器に、トルエン２５．０重量部、硫黄粉末を２．７０重量部、９２．７ｗｔ％の1-クロロ-3-メルカプト-2-プロパノール１５．７重量部（化合物：１４．５６重量部）を装入し、気相部に窒素ガスを流通させながら大気圧下で撹拌し、内温を１０℃にした。次に１０wt%のトリエチルアミントルエン溶液５．３重量部（トリエチルアミン：０．５３重量部）を６時間かけて装入した。トリエチルアミン滴下開始と同時に９９．９wt％エピクロロヒドリン５．２重量部（エピクロロヒドリン：５．２重量部）を２０分かけて装入した。内温１０℃から２０℃で２時間撹拌し熟成を行った。反応の過程で副生した硫化水素は３０％ＮａＯＨ水溶液へ流通させ、その重量増を測定した結果、０．９１gの増加であり、よって硫化水素は添加した硫黄に対して３２ｍｏｌ％発生した。得られた反応液を分析方法１にて分析した結果、目的物である1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンを８８．６ａｒｅａ％含有していた。
［1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンの合成］
セパラブルフラスコ容器に、トルエン２５．０重量部、硫黄粉末を２．７０重量部、９２．７ｗｔ％の1-クロロ-3-メルカプト-2-プロパノール１５．７重量部（化合物：１４．５６重量部）を装入し、気相部に窒素ガスを流通させながら大気圧下で撹拌し、内温を１０℃にした。次に１０wt%のトリエチルアミントルエン溶液５．３重量部（トリエチルアミン：０．５３重量部）を６時間かけて装入した。トリエチルアミン滴下開始と同時に９９．９wt％エピクロロヒドリン５．２重量部（エピクロロヒドリン：５．２重量部）を２０分かけて装入した。内温１０℃から２０℃で２時間撹拌し熟成を行った。反応の過程で副生した硫化水素は３０％ＮａＯＨ水溶液へ流通させ、その重量増を測定した結果、０．９１gの増加であり、よって硫化水素は添加した硫黄に対して３２ｍｏｌ％発生した。得られた反応液を分析方法１にて分析した結果、目的物である1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンを８８．６ａｒｅａ％含有していた。
［ビス（2,3-エポキシプロピル）ジスルフィドの合成］
続いて、反応液にトルエンを２０．０重量部装入し、内温を１０℃に保った。次いで滴下ロートに２５％ＮａＯＨ水溶液２３．９重量部を装入し、１０℃で２時間かけて滴下装入した。滴下終了後３時間、内温１０℃を維持した状態で撹拌した。得られた反応液を一旦分液ロートに移液して水層を排出した。残ったトルエン層に１３％ＮａＣｌ水溶液１０重量部を装入し、酢酸を加えて反応液ｐＨ＝５．５〜６．０へ撹拌しながらｐＨを調整した。ｐＨ調整後、２０℃で１５分間洗浄を行い、水層を排出した。再度トルエン層に１３％ＮａＣｌ水溶液１０重量部を装入し２０℃で１５分間洗浄し、水層を排出した。残ったトルエン層をナスフラスコへ移液させ、３５℃で３時間脱トルエンを行い、濃縮物を分析方法２にて分析した結果、ビス（2,3-エポキシプロピル）ジスルフィド９１．６ｗｔ％（０．０７５５ｍｏｌ）を含む生成物１４．７重量部を得た。
続いて、反応液にトルエンを２０．０重量部装入し、内温を１０℃に保った。次いで滴下ロートに２５％ＮａＯＨ水溶液２３．９重量部を装入し、１０℃で２時間かけて滴下装入した。滴下終了後３時間、内温１０℃を維持した状態で撹拌した。得られた反応液を一旦分液ロートに移液して水層を排出した。残ったトルエン層に１３％ＮａＣｌ水溶液１０重量部を装入し、酢酸を加えて反応液ｐＨ＝５．５〜６．０へ撹拌しながらｐＨを調整した。ｐＨ調整後、２０℃で１５分間洗浄を行い、水層を排出した。再度トルエン層に１３％ＮａＣｌ水溶液１０重量部を装入し２０℃で１５分間洗浄し、水層を排出した。残ったトルエン層をナスフラスコへ移液させ、３５℃で３時間脱トルエンを行い、濃縮物を分析方法２にて分析した結果、ビス（2,3-エポキシプロピル）ジスルフィド９１．６ｗｔ％（０．０７５５ｍｏｌ）を含む生成物１４．７重量部を得た。
［実施例３］
［1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンの合成］
セパラブルフラスコ容器に、トルエン２５．０重量部、硫黄粉末を３．１５重量部、９２．７ｗｔ％の1-クロロ-3-メルカプト-2-プロパノール１５．７重量部（化合物：１４．５６重量部）を装入し、気相部に窒素ガスを流通させながら大気圧下で撹拌し、内温を１０℃にした。次に１０wt%のトリエチルアミントルエン溶液５．３重量部（トリエチルアミン：０．５３重量部）を６時間かけて装入した。トリエチルアミン滴下開始と同時に９９．９wt％エピクロロヒドリン７．９重量部（エピクロロヒドリン：７．９重量部）を２０分かけて装入した。内温１０℃から２０℃で２時間撹拌し熟成を行った。反応の過程で副生した硫化水素は３０％ＮａＯＨ水溶液へ流通させ、その重量増を測定した結果、０．４０gの増加であり、よって硫化水素は添加した硫黄に対して１２ｍｏｌ％発生した。得られた反応液を分析方法１にて分析測定した結果、目的物である1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンを９３．２ａｒｅａ％含有していた。
［1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンの合成］
セパラブルフラスコ容器に、トルエン２５．０重量部、硫黄粉末を３．１５重量部、９２．７ｗｔ％の1-クロロ-3-メルカプト-2-プロパノール１５．７重量部（化合物：１４．５６重量部）を装入し、気相部に窒素ガスを流通させながら大気圧下で撹拌し、内温を１０℃にした。次に１０wt%のトリエチルアミントルエン溶液５．３重量部（トリエチルアミン：０．５３重量部）を６時間かけて装入した。トリエチルアミン滴下開始と同時に９９．９wt％エピクロロヒドリン７．９重量部（エピクロロヒドリン：７．９重量部）を２０分かけて装入した。内温１０℃から２０℃で２時間撹拌し熟成を行った。反応の過程で副生した硫化水素は３０％ＮａＯＨ水溶液へ流通させ、その重量増を測定した結果、０．４０gの増加であり、よって硫化水素は添加した硫黄に対して１２ｍｏｌ％発生した。得られた反応液を分析方法１にて分析測定した結果、目的物である1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンを９３．２ａｒｅａ％含有していた。
［ビス（2,3-エポキシプロピル）ジスルフィドの合成］
続いて、反応液にトルエンを２０．０重量部装入し、内温を１０℃に保った。次いで滴下ロートに２５％ＮａＯＨ水溶液２３．９重量部を装入し、１０℃で２時間かけて滴下装入した。滴下終了後３時間、内温１０℃を維持した状態で撹拌した。得られた反応液を一旦分液ロートに移液して水層を排出した。残ったトルエン層に１３％ＮａＣｌ水溶液１０重量部を装入し、酢酸を加えて反応液ｐＨ＝５．５〜６．０へ撹拌しながらｐＨを調整した。ｐＨ調整後、２０℃で１５分間洗浄を行い、水層を排出した。再度トルエン層に１３％ＮａＣｌ水溶液１０重量部を装入し２０℃で１５分間洗浄し、水層を排出した。残ったトルエン層をナスフラスコへ移液させ、３５℃で３時間脱トルエンを行い、濃縮物を分析方法２にて分析した結果、ビス（2,3-エポキシプロピル）ジスルフィド９４．０ｗｔ％（０．０９０７ｍｏｌ）を含む生成物１７．２重量部を得た。
続いて、反応液にトルエンを２０．０重量部装入し、内温を１０℃に保った。次いで滴下ロートに２５％ＮａＯＨ水溶液２３．９重量部を装入し、１０℃で２時間かけて滴下装入した。滴下終了後３時間、内温１０℃を維持した状態で撹拌した。得られた反応液を一旦分液ロートに移液して水層を排出した。残ったトルエン層に１３％ＮａＣｌ水溶液１０重量部を装入し、酢酸を加えて反応液ｐＨ＝５．５〜６．０へ撹拌しながらｐＨを調整した。ｐＨ調整後、２０℃で１５分間洗浄を行い、水層を排出した。再度トルエン層に１３％ＮａＣｌ水溶液１０重量部を装入し２０℃で１５分間洗浄し、水層を排出した。残ったトルエン層をナスフラスコへ移液させ、３５℃で３時間脱トルエンを行い、濃縮物を分析方法２にて分析した結果、ビス（2,3-エポキシプロピル）ジスルフィド９４．０ｗｔ％（０．０９０７ｍｏｌ）を含む生成物１７．２重量部を得た。
［ビス（2,3-エピチオプロピル）ジスルフィドの合成］
ビス（2,3-エポキシプロピル）ジスルフィドを含む生成物１９８．９重量部を、滴下ロートに装入した。別途、５つ口フラスコを準備し、酢酸３８．５重量部と、チオ尿素１６９．４重量部と、メタノール２８０重量部と、純水８７．５重量部を装入しておき、内温１５℃で撹拌させた状態で、ビス（2,3-エポキシプロピル）ジスルフィドを３時間で装入した。この滴下の間、滴下開始から３０分後に８８％蟻酸２７．５重量部を装入、滴下開始から９０分後に８８％蟻酸２７．５重量部を装入、滴下から１５０分後に８８％蟻酸２７．５重量部を装入した。ビス（2,3-エポキシプロピル）ジスルフィドを含む生成物の滴下終了後、内温を１５℃に保ったまま更に３時間撹拌を継続した。撹拌終了後、内温１０℃に調整し、メチルイソブチルケトンを４００重量部装入した。その後、滴下ロートに１０％アンモニア水を３５８．５重量部装入し、１０℃のまま撹拌しながら２時間で滴下した。滴下終了後、内温１０℃で２時間撹拌した。撹拌終了後、５つ口の底抜きフラスコへ反応液を全量移液し、有機層と水層とに分液した後、水層を排出した。次いで、純水１３％ＮａＣｌ水溶液５５５．８重量部と、１０％アンモニア水８．３重量部を装入し２０〜２５℃で有機層を１５分洗浄した。洗浄終了後、有機層と水層とに分液し、水層を排出した後、１３％ＮａＣｌ水溶液５５５．８重量部と酢酸６．３重量部と、メタノール１８０．３重量部を装入し、２０〜２５℃で有機層を１５分洗浄して、有機層と水層とに分液した後、水層を排出した。得られた有機層をナスフラスコに移液し、３５℃で２時間、脱溶媒させ、更に３５℃で５時間、減圧下で低沸点物の除去を行い、メチルイソブチルケトンを留出させた。この時点で、ビス（2,3-エピチオプロピル）ジスルフィドを７６．８ｗｔ％含む生成物２１３．２重量部を得た。
次いで、５つ口フラスコにメチルシクロヘキサン１７００重量部を装入し内温を２５℃に調整後、ビス（2,3-エピチオプロピル）ジスルフィドを含む生成物２１３．２重量部を全量装入し１時間撹拌した。撹拌終了後、沈殿した不溶解物を全量排出してメチルシクロヘキサン溶液１８４５．３重量部を得た。
別途、カラム管に、シリカゲル３８．４重量部をメチルシクロヘキサンで湿潤させたものを全量装入させたカラム管を準備した。シリカゲルを充填したカラム管にメチルシクロヘキン溶液全量を通液させて精製を行った。精製したメチルシクロヘキサン溶液をナスフラスコに移液し、３５℃で２時間かけてメチルシクロヘキサンを留去した後、更に３５℃で３時間、減圧下で低沸点物の除去を行い、９７．７ｗｔ％ビス（2,3-エピチオプロピル）ジスルフィド１１８．３重量部を得た。
ビス（2,3-エポキシプロピル）ジスルフィドを含む生成物１９８．９重量部を、滴下ロートに装入した。別途、５つ口フラスコを準備し、酢酸３８．５重量部と、チオ尿素１６９．４重量部と、メタノール２８０重量部と、純水８７．５重量部を装入しておき、内温１５℃で撹拌させた状態で、ビス（2,3-エポキシプロピル）ジスルフィドを３時間で装入した。この滴下の間、滴下開始から３０分後に８８％蟻酸２７．５重量部を装入、滴下開始から９０分後に８８％蟻酸２７．５重量部を装入、滴下から１５０分後に８８％蟻酸２７．５重量部を装入した。ビス（2,3-エポキシプロピル）ジスルフィドを含む生成物の滴下終了後、内温を１５℃に保ったまま更に３時間撹拌を継続した。撹拌終了後、内温１０℃に調整し、メチルイソブチルケトンを４００重量部装入した。その後、滴下ロートに１０％アンモニア水を３５８．５重量部装入し、１０℃のまま撹拌しながら２時間で滴下した。滴下終了後、内温１０℃で２時間撹拌した。撹拌終了後、５つ口の底抜きフラスコへ反応液を全量移液し、有機層と水層とに分液した後、水層を排出した。次いで、純水１３％ＮａＣｌ水溶液５５５．８重量部と、１０％アンモニア水８．３重量部を装入し２０〜２５℃で有機層を１５分洗浄した。洗浄終了後、有機層と水層とに分液し、水層を排出した後、１３％ＮａＣｌ水溶液５５５．８重量部と酢酸６．３重量部と、メタノール１８０．３重量部を装入し、２０〜２５℃で有機層を１５分洗浄して、有機層と水層とに分液した後、水層を排出した。得られた有機層をナスフラスコに移液し、３５℃で２時間、脱溶媒させ、更に３５℃で５時間、減圧下で低沸点物の除去を行い、メチルイソブチルケトンを留出させた。この時点で、ビス（2,3-エピチオプロピル）ジスルフィドを７６．８ｗｔ％含む生成物２１３．２重量部を得た。
次いで、５つ口フラスコにメチルシクロヘキサン１７００重量部を装入し内温を２５℃に調整後、ビス（2,3-エピチオプロピル）ジスルフィドを含む生成物２１３．２重量部を全量装入し１時間撹拌した。撹拌終了後、沈殿した不溶解物を全量排出してメチルシクロヘキサン溶液１８４５．３重量部を得た。
別途、カラム管に、シリカゲル３８．４重量部をメチルシクロヘキサンで湿潤させたものを全量装入させたカラム管を準備した。シリカゲルを充填したカラム管にメチルシクロヘキン溶液全量を通液させて精製を行った。精製したメチルシクロヘキサン溶液をナスフラスコに移液し、３５℃で２時間かけてメチルシクロヘキサンを留去した後、更に３５℃で３時間、減圧下で低沸点物の除去を行い、９７．７ｗｔ％ビス（2,3-エピチオプロピル）ジスルフィド１１８．３重量部を得た。
［比較例１］
［1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンの合成］
セパラブルフラスコ容器に、トルエン８３．０重量部、硫黄粉末を４．８重量部、９２．０ｗｔ％の1-クロロ-3-メルカプト-2-プロパノール４１．３重量部（化合物：３７．９８重量部）を装入し、反応器内圧を６５０Ｔｏｒｒまで減圧させた状態で撹拌し、内温を１０℃にした。次に１０wt%のトリエチルアミントルエン溶液１２重量部（トリエチルアミン：１．２重量部）を６時間かけて装入した。内温１０℃から２０℃で２時間撹拌し熟成を行った。反応の過程で副生した硫化水素は３０％ＮａＯＨ水溶液へ流通させ、その重量増を測定した結果、４．５９gの増加であり、よって硫化水素は添加した硫黄に対して９０ｍｏｌ％発生した。得られた反応液を分析方法１にて分析した結果、目的物である1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンを７６．６ａｒｅａ％含有していた。
［1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンの合成］
セパラブルフラスコ容器に、トルエン８３．０重量部、硫黄粉末を４．８重量部、９２．０ｗｔ％の1-クロロ-3-メルカプト-2-プロパノール４１．３重量部（化合物：３７．９８重量部）を装入し、反応器内圧を６５０Ｔｏｒｒまで減圧させた状態で撹拌し、内温を１０℃にした。次に１０wt%のトリエチルアミントルエン溶液１２重量部（トリエチルアミン：１．２重量部）を６時間かけて装入した。内温１０℃から２０℃で２時間撹拌し熟成を行った。反応の過程で副生した硫化水素は３０％ＮａＯＨ水溶液へ流通させ、その重量増を測定した結果、４．５９gの増加であり、よって硫化水素は添加した硫黄に対して９０ｍｏｌ％発生した。得られた反応液を分析方法１にて分析した結果、目的物である1,8-ジクロロ-2,7-ジヒドロキシ-4,5-ジチアオクタンを７６．６ａｒｅａ％含有していた。
［ビス（2,3-エポキシプロピル）ジスルフィドの合成］
続いて、反応液にトルエンを４１．１重量部装入し、内温を１０℃に保った。次いで滴下ロートに２５％ＮａＯＨ水溶液６２．４重量部を装入し、１０℃で２時間かけて滴下装入した。滴下終了後３時間、内温１０℃を維持した状態で撹拌した。得られた反応液を一旦分液ロートに移液して水層を排出した。残ったトルエン層に１３％ＮａＣｌ水溶液２６重量部を装入し、酢酸を加えて反応液ｐＨ＝５．５〜６．０へ撹拌しながらｐＨを調整した。ｐＨ調整後、２０℃で１５分間洗浄を行い、水層を排出した。再度トルエン層に１３％ＮａＣｌ水溶液２６重量部を装入し２０℃で１５分間洗浄し、水層を排出した。残ったトルエン層をナスフラスコへ移液させ、３５℃で３時間、脱トルエンを行い、ビス（2,3-エポキシプロピル）ジスルフィド７５．４ｗｔ％（０．１１２ｍｏｌ）を含む生成物２６．５重量部を得た。
続いて、反応液にトルエンを４１．１重量部装入し、内温を１０℃に保った。次いで滴下ロートに２５％ＮａＯＨ水溶液６２．４重量部を装入し、１０℃で２時間かけて滴下装入した。滴下終了後３時間、内温１０℃を維持した状態で撹拌した。得られた反応液を一旦分液ロートに移液して水層を排出した。残ったトルエン層に１３％ＮａＣｌ水溶液２６重量部を装入し、酢酸を加えて反応液ｐＨ＝５．５〜６．０へ撹拌しながらｐＨを調整した。ｐＨ調整後、２０℃で１５分間洗浄を行い、水層を排出した。再度トルエン層に１３％ＮａＣｌ水溶液２６重量部を装入し２０℃で１５分間洗浄し、水層を排出した。残ったトルエン層をナスフラスコへ移液させ、３５℃で３時間、脱トルエンを行い、ビス（2,3-エポキシプロピル）ジスルフィド７５．４ｗｔ％（０．１１２ｍｏｌ）を含む生成物２６．５重量部を得た。
Claims (9)
- 下記一般式（１）
で表されるチオール化合物同士を、下記一般式（３）で表されるエピハロヒドリン類と、下記一般式（４）で表される塩基化合物、下記一般式（５）で表される塩基化合物およびピリジン類から選択される一種または２種以上と、硫黄との存在下で反応させて、下記一般式（２）で表される（ポリ）スルフィド化合物を得るとともに、前記反応において副生する硫化水素を前記エピハロヒドリン類と反応させて前記チオール化合物を生成する、（ポリ）スルフィド化合物の製造方法；
Ｍ（ＳＨ）ｎ （４）
（一般式（４）中、Ｍは、アルカリ金属またはアルカリ土類金属を表す。ｎは、Ｍで表されるアルカリ金属またはアルカリ土類金属の価数を表す。）、
- 前記チオール化合物同士を、大気圧下で反応させる、請求項１に記載の（ポリ）スルフィド化合物の製造方法。
- Ｘ１およびＸ２における前記ハロゲン原子が塩素原子である、請求項１または２に記載の（ポリ）スルフィド化合物の製造方法。
- 前記一般式（３）で表されるエピハロヒドリン類が、下記一般式（３ａ）で表される化合物である、請求項１〜３のいずれかに記載の（ポリ）スルフィド化合物の製造方法。
- 前記一般式（１）で表されるチオール化合物は、下記式（１ａ）
- 前記一般式（５）で表される化合物が、第３級アミンである、請求項１〜５のいずれかに記載の（ポリ）スルフィド化合物の製造方法。
- 請求項１〜６のいずれかに記載の製造方法により（ポリ）スルフィド化合物を製造する工程と、
前記（ポリ）スルフィド化合物を、塩基条件下でエポキシ化し、下記一般式（７）
で表されるエポキシ化合物を得る工程と、
前記エポキシ化合物を硫化剤と反応させて下記一般式（８）
で表されるエピスルフィド化合物を得る工程と、
を含む、エピスルフィド化合物の製造方法。 - 前記エピスルフィド化合物が、下記一般式（９）
で表される化合物を含む、請求項７に記載のエピスルフィド化合物の製造方法。 - 前記エピスルフィド化合物が、下記式（１０）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015137402A1 (ja) * | 2014-03-11 | 2015-09-17 | 三井化学株式会社 | 光学材料用エピスルフィド化合物の製造方法、エピスルフィド含有組成物、および該組成物を含む光学材料用重合性組成物 |
| WO2017159839A1 (ja) * | 2016-03-18 | 2017-09-21 | 三井化学株式会社 | （ポリ）スルフィド化合物の製造方法およびエピスルフィド化合物の製造方法 |
-
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|---|---|---|---|---|
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| WO2017159839A1 (ja) * | 2016-03-18 | 2017-09-21 | 三井化学株式会社 | （ポリ）スルフィド化合物の製造方法およびエピスルフィド化合物の製造方法 |
Non-Patent Citations (1)
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|---|
| SJOBERG BERTIL, BERICHTE DER DEUTSCHEN CHEMISCHEN GESELLSCHAFT [ABTEILUNG] B: ABHANDLUNGEN, vol. 74, JPN6021025467, 1941, pages 64 - 72, ISSN: 0004539753 * |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2023032598A1 (ja) * | 2021-09-01 | 2023-03-09 | 三井化学株式会社 | エピスルフィド組成物、重合性組成物、硬化物、及び光学材料 |
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