JP2019090614A - Inspection device, liquid supplying device, and protection film coating device - Google Patents
Inspection device, liquid supplying device, and protection film coating device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019090614A JP2019090614A JP2017217439A JP2017217439A JP2019090614A JP 2019090614 A JP2019090614 A JP 2019090614A JP 2017217439 A JP2017217439 A JP 2017217439A JP 2017217439 A JP2017217439 A JP 2017217439A JP 2019090614 A JP2019090614 A JP 2019090614A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- amplitude
- propagation time
- unit
- ultrasonic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 303
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 239000007888 film coating Substances 0.000 title claims description 11
- 238000009501 film coating Methods 0.000 title claims description 11
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 claims abstract description 41
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 39
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 39
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 37
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 claims description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 67
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 12
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 3
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 3
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 2
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Road Signs Or Road Markings (AREA)
- Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)
Abstract
Description
本発明は、管路に流れる液体を検査する検査器と、該検査器を備える液体供給装置と、該液体供給装置を備える保護膜被覆装置と、に関する。 The present invention relates to a tester for testing a liquid flowing in a conduit, a liquid supply device including the tester, and a protective film coating device including the liquid supply device.
半導体ウェーハや板状の基板等の被加工物を加工する加工ユニットを備える加工装置では、該被加工物や該加工ユニットに各種の液体や液状混合物が供給される。該加工装置は、該液体等の供給源と、該液体等を吐出する吐出口と、該供給源及び該吐出口を接続する管路と、を備える液体供給装置（液体供給ユニット）を含む。該加工装置では、該加工装置を適切に稼働させるために、所定の温度及び濃度の該液体等が所定の流量及び流速で該管路に流される。 In a processing apparatus including a processing unit that processes a workpiece such as a semiconductor wafer or a plate-like substrate, various liquids and liquid mixtures are supplied to the workpiece and the processing unit. The processing apparatus includes a liquid supply device (liquid supply unit) including a supply source of the liquid or the like, a discharge port for discharging the liquid or the like, and a pipe line connecting the supply source and the discharge port. In the processing apparatus, in order to operate the processing apparatus properly, the liquid or the like having a predetermined temperature and concentration is caused to flow through the pipeline at a predetermined flow rate and flow rate.
該管路に流れる該液体等の流量及び流速を測定する測定器として、該管路に配設される超音波流量計が知られている（特許文献１及び特許文献２参照）。該超音波流量計は、該管路内を流れる測定対象となる該液体等の中に超音波を伝播させ、上流側から下流側に伝播する超音波の速度と、下流側から上流側に伝播する超音波の速度と、を比較することで該液体等の流速を測定し、該流速から流量を算出する。 As a measuring device for measuring the flow rate and flow velocity of the liquid or the like flowing in the pipe, there is known an ultrasonic flowmeter disposed in the pipe (see Patent Document 1 and Patent Document 2). The ultrasonic flowmeter propagates ultrasonic waves into the liquid or the like to be measured flowing in the conduit, and propagates the velocity of the ultrasonic waves propagating from the upstream side to the downstream side, and from the downstream side to the upstream side The flow rate of the liquid or the like is measured by comparing the velocity of the ultrasonic wave to be measured, and the flow rate is calculated from the flow rate.
ところで、該加工装置で使用される該液体等は、例えば、純水、または、酸性溶液、アルカリ溶液、その他の溶液等の液体である。該液体には、スラリー（懸濁液）等の固体粒子を分散させた液状混合物も含まれる。 The liquid or the like used in the processing apparatus is, for example, pure water, or a liquid such as an acidic solution, an alkaline solution, or another solution. The liquid also includes a liquid mixture in which solid particles such as a slurry (suspension) are dispersed.
また該液体は、例えば、該被加工物をレーザ加工する際に発生するデブリ等により該被加工物の表面が汚染されるのを防止するために該表面に塗布される液状樹脂である。液状樹脂が保護膜被覆装置で被加工物の表面に塗布されると、液状樹脂でなる保護膜が被加工物の表面に形成される。このような各種の液体を使用する加工装置が知られている（特許文献３及び特許文献４参照）。 The liquid is, for example, a liquid resin applied to the surface of the workpiece to prevent the surface of the workpiece from being contaminated by debris or the like generated during laser processing of the workpiece. When the liquid resin is applied to the surface of the workpiece by the protective film coating apparatus, a protective film made of the liquid resin is formed on the surface of the workpiece. Processing apparatuses using such various liquids are known (see Patent Document 3 and Patent Document 4).
該液体供給装置の該管路に流れる該液体には気泡が混入することがある。該管路に流れる該液体に気泡が混入すると、該加工装置の所定の箇所に所定の条件で該液体を供給できない場合がある。また、該液体に気泡が混入すると、該液体の流速、流量等を検査器で正しく計測できず、該液体の流速や流量等を正しく制御できない場合がある。 Air bubbles may be mixed in the liquid flowing in the conduit of the liquid supply device. When air bubbles are mixed in the liquid flowing in the conduit, the liquid may not be supplied to a predetermined place of the processing device under a predetermined condition. In addition, if air bubbles are mixed in the liquid, the flow rate, flow rate, etc. of the liquid can not be measured correctly by the inspection device, and the flow rate, flow rate, etc. of the liquid may not be properly controlled.
また、該被加工物の表面に塗布される該液状樹脂が該管路に流れる保護膜被覆装置では、該液状樹脂に気泡が混入すると該被加工物上に形成される保護膜にも気泡が残る。保護膜に気泡が存在すると、該保護膜の気泡部分にレーザビームが照射されたり、レーザ加工により発生したデブリが該気泡部分に到達したりする場合がある。すなわち、該被加工物の表面が適切に保護されなくなる。 In addition, in the protective film coating apparatus in which the liquid resin applied to the surface of the workpiece flows in the pipeline, when air bubbles are mixed in the liquid resin, the bubbles are also formed on the protective film formed on the workpiece It will remain. When air bubbles are present in the protective film, the air bubble portion of the protective film may be irradiated with a laser beam, or debris generated by laser processing may reach the air bubble portion. That is, the surface of the workpiece is not properly protected.
そのため、該管路に流れる液体に気泡が混入した場合に該気泡をいち早く検出したい、との需要がある。 Therefore, there is a demand for detecting the air bubbles as soon as possible when air bubbles are mixed in the liquid flowing in the pipeline.
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、管路に流れる液体中の気泡の有無を検査できる検査器と、該検査器を備える液体供給装置と、該液体供給装置を備える保護膜被覆装置と、を提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide an inspection device capable of inspecting the presence or absence of air bubbles in liquid flowing in a pipeline, a liquid supply device including the inspection device, Providing a protective film coating device comprising a liquid supply device.
本発明の一態様によると、液体の流路となる管路に配設される検査器であって、該管路の上流側と、下流側と、に配設された２つの超音波振動子と、該２つの超音波振動子に電気的に接続された制御部と、を備え、該制御部は、振幅算出部と、判定部と、振幅範囲登録部と、を有し、振幅算出部は、該２つの超音波振動子の一方で発生し該管路に流れる液体中を伝播する第１の超音波を該２つの超音波振動子の他方で観測することで得られた波形情報から該第１の超音波の振幅を算出し、該振幅範囲登録部には、気泡が混入した該液体中を伝播する超音波の振幅の範囲が登録されており、該判定部は、該振幅算出部が算出した該第１の超音波の振幅が該振幅範囲登録部に登録された該振幅の範囲内である場合に、該液体に気泡が混入したと判定することを特徴とする検査器が提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided an inspection device disposed in a pipeline serving as a flow channel for liquid, which comprises two ultrasonic transducers disposed on the upstream side and the downstream side of the pipeline. And a control unit electrically connected to the two ultrasonic transducers, the control unit including an amplitude calculation unit, a determination unit, and an amplitude range registration unit, the amplitude calculation unit From the waveform information obtained by observing the first ultrasonic wave generated in one of the two ultrasonic transducers and propagating in the liquid flowing in the channel by the other of the two ultrasonic transducers. The amplitude of the first ultrasonic wave is calculated, and the amplitude range of the ultrasonic wave propagating in the liquid in which air bubbles are mixed is registered in the amplitude range registration unit, and the determination unit calculates the amplitude. It is determined that air bubbles are mixed in the liquid when the amplitude of the first ultrasonic wave calculated by the part is within the range of the amplitude registered in the amplitude range registration part. Checker characterized in that it is provided.
また、本発明の一態様において、該制御部は、さらに、伝播時間算出部と、伝播時間範囲登録部と、を有し、該液体には、物質が溶解又は分散しており、該伝播時間算出部は、該２つの超音波振動子の該一方で発生し該管路に流れる液体中を伝播する該第１の超音波を該２つの超音波振動子の該他方で観測することで得られた波形情報から該第１の超音波の伝播時間を算出し、該２つの超音波振動子の該他方で発生し該管路に流れる液体中を伝播する第２の超音波を該２つの超音波振動子の該一方で観測することで得られた波形情報から該第２の超音波の伝播時間を算出し、該第１の超音波の伝播時間と、該第２の超音波の伝播時間と、を平均して平均伝播時間を算出し、該伝播時間範囲登録部には、所定の濃度ではない濃度で物質が溶解又は分散した該液体中を伝播する超音波の平均伝播時間の範囲が登録されており、該判定部は、該液体に気泡が混入したと判定されず、該伝播時間算出部が算出した該平均伝播時間が該伝播時間範囲登録部に登録された該平均伝播時間の範囲内である場合に、該液体の濃度が所定の濃度ではないと判定してもよい。 In one aspect of the present invention, the control unit further includes a propagation time calculation unit and a propagation time range registration unit, and a substance is dissolved or dispersed in the liquid, and the propagation time is The calculation unit is obtained by observing the first ultrasonic wave generated in the one of the two ultrasonic transducers and propagating in the liquid flowing in the channel by the other of the two ultrasonic transducers. The propagation time of the first ultrasonic wave is calculated from the waveform information, and the second ultrasonic wave generated in the other of the two ultrasonic transducers and propagated in the liquid flowing in the channel is used as the two ultrasonic waves. The propagation time of the second ultrasonic wave is calculated from the waveform information obtained by observing the one side of the ultrasonic transducer, and the propagation time of the first ultrasonic wave and the propagation of the second ultrasonic wave. The average propagation time is calculated by averaging time, and the propagation time range registration unit is configured to dissolve the substance at a concentration that is not a predetermined concentration or to The range of the average propagation time of ultrasonic waves propagating in the dispersed liquid is registered, and the determination unit does not determine that air bubbles are mixed in the liquid, and the average propagation calculated by the propagation time calculation unit When the time is within the range of the average propagation time registered in the propagation time range registration unit, it may be determined that the concentration of the liquid is not a predetermined concentration.
さらに、本発明の一態様において、該液体の温度を測定する液体温度測定器をさらに有し、該液体温度測定器は、該管路を流れる液体の温度を測定し、該液体の温度を該判定部に伝達し、該判定部は、該液体の温度を参照して判定の内容を補正してもよい。 Furthermore, in one aspect of the present invention, the liquid temperature measuring device further includes a liquid temperature measuring device that measures the temperature of the liquid, the liquid temperature measuring device measures the temperature of the liquid flowing through the conduit, and the temperature of the liquid It is transmitted to the determination unit, and the determination unit may correct the content of the determination with reference to the temperature of the liquid.
また、該管路と、該管路の一端に接続された該液体の供給源と、該液体の供給源から該管路の他端に該液体を供給するポンプと、該管路に設置された本発明の一態様に係る検査器と、を備える液体供給装置もまた本発明の一態様の一態様である。さらに、ウェーハの表面に液状樹脂を被覆して保護膜を形成する保護膜被覆装置であって、ウェーハを保持する回転可能なチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウェーハの表面に該液状樹脂を供給する本発明の一態様に係る液体供給装置と、を備えることを特徴とする保護膜被覆装置もまた本発明の一態様である。 Also, the pipe line, a source of the liquid connected to one end of the pipe line, a pump for supplying the liquid from the liquid source to the other end of the pipe line, and A liquid supply device including the inspection device according to an aspect of the present invention is also an aspect of the aspect of the present invention. Furthermore, a protective film coating apparatus for coating a liquid resin on a surface of a wafer to form a protective film, the rotatable chuck table for holding the wafer, and the liquid resin on the surface of the wafer held by the chuck table And a liquid supply apparatus according to an aspect of the present invention to supply the protective film coating apparatus according to an aspect of the present invention.
本発明の一態様に係る検査器は、検査対象となる液体が流れる管路に配設される。該検査器は、該管路の上流側及び下流側に設けられた２つの超音波振動子と、該２つの該超音波振動子に電気的に接続された制御部と、を有する。該検査器では、一方の超音波振動子で超音波を発生させ、管路に流れる液体中を伝播する該超音波を他方の超音波振動子に観測させる。振幅算出部は、観測された該超音波の振幅を算出する。 The tester according to one aspect of the present invention is disposed in a pipeline through which a liquid to be tested flows. The tester has two ultrasonic transducers provided on the upstream side and the downstream side of the channel, and a control unit electrically connected to the two ultrasonic transducers. In the inspection device, ultrasonic waves are generated by one ultrasonic transducer, and the ultrasonic waves propagating in the liquid flowing in the channel are observed by the other ultrasonic transducer. The amplitude calculation unit calculates the amplitude of the observed ultrasonic wave.
該管路に流れる液体に気泡が混入すると、該液体中を伝播する超音波の伝達経路がその分減少し、観測される超音波の振幅が低下する。本発明の一態様に係る検査器の制御部が備える振幅範囲登録部は、気泡が混入した該液体中を伝播する超音波の振幅の範囲が登録されている。そして、該制御部が有する判定部は、該振幅算出部が算出した該超音波の振幅が該振幅範囲登録部に登録された該振幅の範囲内である場合に、該液体に気泡が混入したと判定する。 When air bubbles are mixed in the liquid flowing in the conduit, the transmission path of the ultrasonic wave propagating in the liquid is reduced accordingly, and the amplitude of the observed ultrasonic wave is reduced. In the amplitude range registration unit provided in the control unit of the inspection device according to one aspect of the present invention, the amplitude range of ultrasonic waves propagating in the liquid in which air bubbles are mixed is registered. Then, when the amplitude of the ultrasonic wave calculated by the amplitude calculation unit is within the range of the amplitude registered in the amplitude range registration unit, the determination unit included in the control unit mixes bubbles in the liquid. It is determined that
そのため、例えば、本発明の一態様に係る検査器を液体供給装置に組み込むと、該液体供給装置の管路における気泡の混入を検出できる。 Therefore, for example, when the inspection device according to one aspect of the present invention is incorporated into a liquid supply device, it is possible to detect the mixture of air bubbles in the conduit of the liquid supply device.
したがって、本発明の一態様によると、管路に流れる液体中の気泡の有無を検査できる検査器と、該検査器を備える液体供給装置と、該液体供給装置を備える保護膜被覆装置と、が提供される。 Therefore, according to one aspect of the present invention, there is provided a tester capable of checking the presence or absence of air bubbles in liquid flowing in a conduit, a liquid supply device provided with the test device, and a protective film covering device provided with the liquid supply device. Provided.
添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。本実施形態に係る検査器は、例えば、半導体ウェーハ等の被加工物を加工する加工装置において、加工ユニットや該被加工物等に各種の液体を供給する液体供給装置に組み込まれる。該液体供給装置は、該液体の送液路となる管路を備え、該検査器は該管路に配設される。該検査器は、該管路を流れる液体中への気泡の混入の有無を検査できる。 Embodiments according to one aspect of the present invention will be described with reference to the attached drawings. The inspection apparatus according to the present embodiment is, for example, a processing apparatus for processing a workpiece such as a semiconductor wafer, and is incorporated in a processing unit, a liquid supply apparatus for supplying various liquids to the workpiece, and the like. The liquid supply device includes a pipe line serving as a liquid supply path of the liquid, and the inspection device is disposed in the pipe line. The tester can check for the presence of air bubbles in the liquid flowing through the conduit.
該液体は、例えば、純水、酸性溶液、アルカリ溶液、その他の溶液等である。該液体には、スラリー（懸濁液）等の固体粒子を分散させた液状混合物も含まれる。または、該液体は、後述の水溶性の液状樹脂である。アルカリ溶液は、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、又は、炭酸水素カリウムのいずれか一または複数が溶解した溶液である。 The liquid is, for example, pure water, an acidic solution, an alkaline solution, another solution or the like. The liquid also includes a liquid mixture in which solid particles such as a slurry (suspension) are dispersed. Alternatively, the liquid is a water-soluble liquid resin described later. The alkaline solution is, for example, a solution in which one or more of potassium hydroxide, sodium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate or potassium hydrogencarbonate is dissolved.
次に、液体を所定の箇所に供給するための管路と、該検査器と、が備えられた液体供給装置の一例について、図１を用いて説明する。図１は、液体供給装置２を模式的に示す図である。該液体供給装置２は、該管路１２と、該管路１２の一端に接続された該液体の供給源１４と、該液体の供給源１４から該管路１２の他端に該液体を供給するポンプ１６と、を備える。該液体供給装置２は、例えば、加工装置で加工されるウェーハ１０に該液体の供給源１４に収容された液体８を供給する機能を有する。 Next, an example of a liquid supply device including a conduit for supplying liquid to a predetermined place and the inspection device will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a view schematically showing a liquid supply device 2. The liquid supply device 2 supplies the liquid to the other end of the pipe line 12 from the pipe line 12, the liquid source 14 connected to one end of the pipe line 12, and the liquid source 14. And a pump 16. The liquid supply device 2 has, for example, a function of supplying the liquid 8 contained in the liquid supply source 14 to a wafer 10 processed by a processing device.
該管路１２の該他端に設けられる液体吐出部６は、該ウェーハ１０等の被加工物を保持するチャックテーブル４の上方に配設される。該液体吐出部６は、該管路１２を通じて該液体の供給源１４から供給された液体８を該チャックテーブル４に保持されたウェーハ１０等に吐出する機能を有する。該液体吐出部６は、該ウェーハ１０等の表面に液体８として、例えば、水溶性の液状樹脂を供給する。 The liquid discharger 6 provided at the other end of the conduit 12 is disposed above a chuck table 4 for holding a workpiece such as the wafer 10 or the like. The liquid discharger 6 has a function of discharging the liquid 8 supplied from the liquid supply source 14 through the pipe 12 onto the wafer 10 or the like held on the chuck table 4. The liquid discharge unit 6 supplies, for example, a water-soluble liquid resin as the liquid 8 to the surface of the wafer 10 or the like.
表面に複数のデバイスが形成されたウェーハ１０を該デバイス毎に分割すると、複数のデバイスチップを形成できる。該ウェーハ１０を分割する際には、該ウェーハ１０が吸収性を有する波長のレーザビームを該ウェーハ１０の所定の加工予定位置に照射して、アブレーション加工によりウェーハ１０に加工溝を形成する。該ウェーハ１０をアブレーション加工するとデブリと呼ばれる加工屑が発生して該ウェーハ１０の表面に飛散するが、該ウェーハ１０の表面にデブリが付着すると、除去するのは容易ではない。 A plurality of device chips can be formed by dividing the wafer 10 having a plurality of devices formed on the surface into each device. When the wafer 10 is divided, a laser beam having a wavelength at which the wafer 10 has an absorbability is irradiated to a predetermined planned processing position of the wafer 10 to form a processed groove in the wafer 10 by ablation processing. When the wafer 10 is ablated, debris called debris is generated and scattered on the surface of the wafer 10. However, if debris adheres to the surface of the wafer 10, removal of the debris is not easy.
そこで、アブレーション加工を実施する前に予め該水溶性の液状樹脂を該ウェーハ１０の表面に供給し、該ウェーハ１０の表面に保護膜を形成する。すると、アブレーション加工で発生するデブリは該保護膜上に付着するため、該ウェーハ１０にはデブリが直接付着しない。その後、水を含む洗浄液で該ウェーハ１０の表面を洗浄すると、該保護膜ごとデブリが洗い流されるため、該ウェーハ１０の表面にデブリが残存しにくくなる。すなわち、該ウェーハ１０の表面は、該保護膜によりデブリから保護される。 Therefore, the water-soluble liquid resin is previously supplied to the surface of the wafer 10 before the ablation processing is performed, and a protective film is formed on the surface of the wafer 10. Then, the debris generated by the ablation processing adheres to the protective film, so the debris does not adhere directly to the wafer 10. Thereafter, when the surface of the wafer 10 is cleaned with a cleaning solution containing water, debris along with the protective film is washed away, so that debris is less likely to remain on the surface of the wafer 10. That is, the surface of the wafer 10 is protected from debris by the protective film.
該液状樹脂等の液体８が流れる該管路１２では、該液体８中に気泡が混入する場合がある。気泡が混入した液体８が該ウェーハ１０に供給されて保護膜が形成されると、該保護膜にも気泡が残る。保護膜の気泡部分にレーザビームが照射されたり、レーザ加工により発生したデブリが該気泡部分に到達したりすると、デブリがウェーハ１０の表面に付着してしまう。すなわち、該管路１２を流れる液体８中に気泡が混入すると、該保護膜で該ウェーハ１０の表面を適切に保護できなくなる。 In the conduit 12 through which the liquid 8 such as liquid resin flows, bubbles may be mixed in the liquid 8. When the liquid 8 mixed with air bubbles is supplied to the wafer 10 to form a protective film, the air bubbles also remain in the protective film. When a bubble portion of the protective film is irradiated with a laser beam or debris generated by laser processing reaches the bubble portion, the debris adheres to the surface of the wafer 10. That is, if air bubbles are mixed in the liquid 8 flowing through the conduit 12, the protective film can not properly protect the surface of the wafer 10.
また、該管路１２に該液状樹脂以外の液体を流す場合にも、該管路１２を流れる液体８中に気泡が混入する場合がある。該液体８中に気泡が混入すると、該液体８の流速、流量等を流量計等で正しく計測できず、該液体８の流速や流量等を正しく制御できない場合がある。また、物質が溶解又は分散した液体８に気泡が混入すると、該管路１２を流れる該液体８の濃度を高い精度で測定できなくなる場合がある。 Also, when a liquid other than the liquid resin is allowed to flow through the pipe 12, bubbles may be mixed in the liquid 8 flowing through the pipe 12. If air bubbles are mixed in the liquid 8, the flow rate, flow rate, etc. of the liquid 8 can not be measured correctly by a flow meter or the like, and the flow rate, flow rate, etc. of the liquid 8 may not be properly controlled. In addition, when bubbles are mixed in the liquid 8 in which the substance is dissolved or dispersed, the concentration of the liquid 8 flowing through the conduit 12 may not be measured with high accuracy.
そこで、該管路１２に本実施形態に係る検査器１８を配設する。該検査器１８は、該管路１２内を流れる液体８を検査し、該液体８に気泡が混入した際に該気泡の混入を検出する機能を有する。以下、該検査器１８について詳述する。 Therefore, the inspection device 18 according to the present embodiment is disposed in the conduit 12. The inspection device 18 has a function of inspecting the liquid 8 flowing in the conduit 12 and detecting the mixing of the air bubble when the air bubble is mixed in the liquid 8. Hereinafter, the inspection device 18 will be described in detail.
該検査器１８は、液体８が流れる該管路１２の上流側と、下流側と、に配設された２つの超音波振動子２２ａ，２２ｂと、該２つの超音波振動子２２ａ，２２ｂに電気的に接続された制御部２４と、を備える。図２は、管路１２に配設される検査器１８を模式的に示す断面図である。図２には、該制御部２４の構成例が模式的に示されている。 The inspection device 18 includes two ultrasonic transducers 22a and 22b disposed on the upstream side and the downstream side of the conduit 12 through which the liquid 8 flows, and the two ultrasonic transducers 22a and 22b. And an electrically connected control unit 24. FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the inspection device 18 disposed in the conduit 12. A configuration example of the control unit 24 is schematically shown in FIG.
２つの該超音波振動子２２ａ，２２ｂは、超音波を発生させて管路１２を流れる液体８中に該超音波を伝播させることができる。また、該超音波振動子２２ａ，２２ｂは、該超音波振動子２２ａ，２２ｂに伝播した超音波を観測することができる。 The two ultrasonic transducers 22 a and 22 b can generate ultrasonic waves and propagate the ultrasonic waves into the liquid 8 flowing through the conduit 12. The ultrasonic transducers 22a and 22b can observe the ultrasonic waves propagated to the ultrasonic transducers 22a and 22b.
例えば、該２つの超音波振動子２２ａ，２２ｂの一方に超音波を発生させると、管路１２を流れる液体８に該超音波が伝播する。該液体中に伝播する超音波を該２つの超音波振動子２２ａ，２２ｂの他方で観測できる。同様に、該２つの超音波振動子２２ａ，２２ｂの該他方に超音波を発生させると、該超音波を該２つの超音波振動子２２ａ，２２ｂの該一方で観測できる。 For example, when an ultrasonic wave is generated in one of the two ultrasonic transducers 22a and 22b, the ultrasonic wave propagates to the liquid 8 flowing through the conduit 12. The ultrasonic wave propagating in the liquid can be observed by the other of the two ultrasonic transducers 22a and 22b. Similarly, when an ultrasonic wave is generated in the other of the two ultrasonic transducers 22a and 22b, the ultrasonic wave can be observed by one of the two ultrasonic transducers 22a and 22b.
該検査器１８は、さらに、該２つの超音波振動子２２ａ，２２ｂに電気的に接続された制御部２４を有する。該制御部２４は検査器１８による超音波の計測を制御する。該制御部２４は、該２つの該超音波振動子２２ａ，２２ｂに電気的に接続された切り替え部２６を有する。該切り替え部２６は、超音波を発生させる超音波振動子２２ａ，２２ｂと、該超音波を観測させる超音波振動子２２ａ，２２ｂと、を切り替える機能を有する。 The tester 18 further includes a control unit 24 electrically connected to the two ultrasonic transducers 22a and 22b. The control unit 24 controls the measurement of ultrasonic waves by the inspection unit 18. The control unit 24 has a switching unit 26 electrically connected to the two ultrasonic transducers 22a and 22b. The switching unit 26 has a function of switching between ultrasonic transducers 22a and 22b that generate ultrasonic waves, and ultrasonic transducers 22a and 22b that observe the ultrasonic waves.
該切り替え部２６は、電源２８に電気的に接続されており、該電源２８を２つの超音波振動子２２ａ，２２ｂの一方に接続して該超音波振動子に超音波を発生させる。また、該切り替え部２６は増幅器３０に電気的に接続されており、２つの超音波振動子２２ａ，２２ｂの他方を該増幅器３０に接続する。該超音波振動子の他方に到達した該超音波は波形情報を含む電気信号に変換され、該電気信号は該増幅器３０に送られる。該電気信号には、例えば、該超音波が電圧値に変換された波形情報が含まれる。 The switching unit 26 is electrically connected to a power source 28, and the power source 28 is connected to one of the two ultrasonic transducers 22a and 22b to cause the ultrasonic transducers to generate ultrasonic waves. The switching unit 26 is electrically connected to the amplifier 30, and connects the other of the two ultrasonic transducers 22a and 22b to the amplifier 30. The ultrasonic wave that has reached the other of the ultrasonic transducers is converted into an electrical signal containing waveform information, and the electrical signal is sent to the amplifier 30. The electrical signal includes, for example, waveform information obtained by converting the ultrasonic wave into a voltage value.
該増幅器３０は、該検査器１８の算出部３２に電気的に接続されており、該波形情報を含む電気信号を増幅して該算出部３２に送る。該算出部３２は、振幅算出部３４と、判定部３６と、振幅範囲登録部３８と、伝播時間算出部４０と、伝播時間範囲登録部４２と、該液体８の温度を測定する液体温度測定器４４に接続された液体温度算出部４６と、を備える。該増幅器３０で増幅された波形情報を含む電気信号は、算出部３２の該振幅算出部３４と、該伝播時間算出部４０と、に伝達される。 The amplifier 30 is electrically connected to the calculation unit 32 of the tester 18, amplifies an electrical signal including the waveform information, and sends the signal to the calculation unit 32. The calculation unit 32 measures the temperature of the liquid 8 by measuring the temperature of the liquid 8, the amplitude calculation unit 34, the determination unit 36, the amplitude range registration unit 38, the propagation time calculation unit 40, the propagation time range registration unit 42. And a liquid temperature calculation unit 46 connected to the unit 44. The electrical signal including the waveform information amplified by the amplifier 30 is transmitted to the amplitude calculator 34 of the calculator 32 and the propagation time calculator 40.
該伝播時間算出部４０は、該２つの超音波振動子の一方で発生し該管路１２に流れる液体８中を伝播する超音波（第１の超音波）を該２つの超音波振動子の他方で観測することで得られた波形情報から、該超音波の伝播時間を第１の伝播時間として算出する。さらに、該伝播時間算出部４０は、該２つの超音波振動子の該他方で発生し該管路１２に流れる液体８中を伝播する超音波（第２の超音波）を該２つの超音波振動子の該一方で観測することで得られた波形情報から、該超音波の伝播時間を第２の伝播時間として算出する。 The propagation time calculation unit 40 generates an ultrasonic wave (first ultrasonic wave) generated in one of the two ultrasonic transducers and propagating in the liquid 8 flowing in the channel 12 by the ultrasonic waves of the two ultrasonic transducers. On the other hand, the propagation time of the ultrasonic wave is calculated as a first propagation time from waveform information obtained by observation. Furthermore, the propagation time calculation unit 40 generates ultrasonic waves (second ultrasonic waves) generated in the other of the two ultrasonic transducers and propagating in the liquid 8 flowing in the channel 12 as the two ultrasonic waves. The propagation time of the ultrasonic wave is calculated as the second propagation time from the waveform information obtained by observing the one side of the transducer.
図３（Ａ）は、２つの超音波振動子２２ａ，２２ｂで観測される超音波の波形の一例を模式的に示すチャートである。図３（Ａ）には、上流側の超音波振動子で発生し下流側の超音波振動子で観測される超音波の波形４８の一例が模式的に示されている。また、図３（Ａ）には、下流側の超音波振動子で発生し上流側の超音波振動子で観測される超音波の波形５０の一例が模式的に示されている。 FIG. 3A is a chart schematically showing an example of the waveform of ultrasonic waves observed by the two ultrasonic transducers 22a and 22b. FIG. 3A schematically shows an example of an ultrasonic wave waveform 48 generated by the ultrasonic transducer on the upstream side and observed by the ultrasonic transducer on the downstream side. Further, FIG. 3A schematically shows an example of the waveform 50 of the ultrasonic wave generated by the downstream ultrasonic transducer and observed by the upstream ultrasonic transducer.
該２つの超音波振動子２２ａ，２２ｂは圧電素子を含み、該超音波振動子２２ａ，２２ｂに到達した超音波は該圧電素子により超音波の振幅を反映した電圧の電気信号に変換される。例えば、該チャートの横軸は超音波の伝播時間を表し、該チャートの縦軸は超音波の振幅（強度）を表す観測電圧値である。 The two ultrasonic transducers 22a and 22b include piezoelectric elements, and the ultrasonic waves reaching the ultrasonic transducers 22a and 22b are converted into electric signals of voltages reflecting the amplitude of the ultrasonic waves by the piezoelectric elements. For example, the horizontal axis of the chart represents the propagation time of ultrasonic waves, and the vertical axis of the chart is an observed voltage value representing the amplitude (intensity) of ultrasonic waves.
管路１２に流れる液体８は上流側から下流側に所定の流速で流れているため、管路１２に流れる液体８中を伝播する超音波の速度は該液体８の流れの影響を受ける。例えば、上流側から下流側に伝播する超音波の伝播速度は、静止する該液体８中を伝播する超音波の伝播速度よりも速く、下流側から上流側に伝播する超音波の伝播速度は、静止する該液体８中を伝播する超音波の伝播速度よりも遅い。 Since the liquid 8 flowing to the conduit 12 flows from the upstream side to the downstream side at a predetermined flow velocity, the velocity of the ultrasonic wave propagating in the liquid 8 flowing to the conduit 12 is affected by the flow of the liquid 8. For example, the propagation velocity of the ultrasonic wave propagating from the upstream side to the downstream side is faster than the propagation velocity of the ultrasonic wave propagating in the liquid 8 at rest, and the propagation velocity of the ultrasonic wave propagating from the downstream side to the upstream side is It is slower than the propagation velocity of ultrasonic waves propagating in the liquid 8 at rest.
そのため、第１の伝播時間５２は、第２の伝播時間５４よりも小さくなる。管路１２に流れる液体８の流速が速くなる程該液体８中を伝播する超音波の伝播時間の差が大きくなる。該伝播時間算出部４０は、算出した該第１の伝播時間５２と、該第２の伝播時間５４と、の平均を平均伝播時間５６として算出する。該伝播時間算出部４０は該判定部３６に接続されており、算出した該平均伝播時間５６を該判定部３６に伝達する。 Therefore, the first propagation time 52 is smaller than the second propagation time 54. As the flow velocity of the liquid 8 flowing in the conduit 12 increases, the difference in the propagation time of the ultrasonic waves propagating in the liquid 8 increases. The propagation time calculation unit 40 calculates an average of the calculated first propagation time 52 and the second propagation time 54 as an average propagation time 56. The propagation time calculation unit 40 is connected to the determination unit 36, and transmits the calculated average propagation time 56 to the determination unit 36.
管路１２に物質が溶解又は分散した液体８が流れる場合に、該液体８中を伝播する超音波の伝播速度は該液体８の濃度によって変化するため、液体８中を伝播する超音波の伝播時間を監視することで該液体８の濃度の異常の発生を検出できる。伝播時間範囲登録部４２には、所定の濃度ではない濃度で物質が溶解又は分散した該液体８中を伝播する超音波の伝播時間の範囲、例えば、該平均伝播時間５６の範囲が登録されている。 When the liquid 8 in which the substance is dissolved or dispersed flows in the conduit 12, the propagation speed of the ultrasonic wave propagating in the liquid 8 changes according to the concentration of the liquid 8, so the ultrasonic wave propagating in the liquid 8 By monitoring the time, the occurrence of an abnormality in the concentration of the liquid 8 can be detected. A propagation time range of ultrasonic waves propagating in the liquid 8 in which the substance is dissolved or dispersed at a concentration that is not a predetermined concentration, for example, a range of the average propagation time 56 is registered in the propagation time range registration unit 42. There is.
該伝播時間範囲登録部４２は、所定の濃度ではない濃度で物質が溶解又は分散した該液体８中を伝播する該超音波の登録された伝播時間の範囲を該判定部３６に伝達する。該平均伝播時間５６が該伝播時間範囲登録部４２に登録された該伝播時間の範囲にある場合、該判定部３６は該液体８の濃度が所定の濃度ではなく、該液体８の濃度に異常が生じたと判定できる。 The propagation time range registration unit 42 transmits the range of the registered propagation time of the ultrasonic waves propagating in the liquid 8 in which the substance is dissolved or dispersed at a concentration that is not a predetermined concentration to the determination unit 36. When the average propagation time 56 is in the range of the propagation time registered in the propagation time range registration unit 42, the determination unit 36 determines that the concentration of the liquid 8 is not a predetermined concentration but an abnormality in the concentration of the liquid 8 Can be determined to have occurred.
なお、該伝播時間範囲登録部４２に登録される超音波の伝播時間の範囲は、該液体８の濃度が異常である場合の該超音波の伝播時間の範囲に限らない。該伝播時間範囲登録部４２には、例えば、該液体８の濃度が正常である場合の超音波の伝播時間の範囲が登録され、該伝播時間範囲登録部４２は該判定部３６に該超音波の伝播時間の範囲を伝達してもよい。この場合、該判定部３６は、該平均伝播時間５６が該伝播時間の範囲から逸脱する場合に該液体８の濃度が所定の濃度ではなく該液体８に異常が生じたと判定する。 The range of the propagation time of the ultrasonic waves registered in the propagation time range registration unit 42 is not limited to the range of the propagation time of the ultrasonic waves when the concentration of the liquid 8 is abnormal. In the propagation time range registration unit 42, for example, the propagation time range of ultrasonic waves when the concentration of the liquid 8 is normal is registered, and the propagation time range registration unit 42 transmits the ultrasonic wave to the determination unit 36. The range of the propagation time of In this case, when the average propagation time 56 deviates from the range of the propagation time, the determination unit 36 determines that the concentration of the liquid 8 is not a predetermined concentration but an abnormality occurs in the liquid 8.
また、該伝播時間範囲登録部４２に登録される超音波の伝播時間の範囲は、該平均伝播時間５６ではなく、第１の伝播時間５２又は第２の伝播時間５４の正常時又は異常時の範囲が登録されていてもよい。管路１２に該液体８を流すポンプ１６により該液体８の流速が決まるため、該ポンプ１６の稼働状況により該液体８の流速が判明する場合、該液体８の該流速を考慮に入れて該液体８の異常の発生を検出できる。 Further, the propagation time range of the ultrasonic waves registered in the propagation time range registration unit 42 is not the average propagation time 56, but the normal or abnormal time of the first propagation time 52 or the second propagation time 54. A range may be registered. Since the flow rate of the liquid 8 is determined by the pump 16 for flowing the liquid 8 in the conduit 12, the flow rate of the liquid 8 is taken into consideration in the case where the flow rate of the liquid 8 is determined by the operating condition of the pump 16. The occurrence of an abnormality of the liquid 8 can be detected.
なお、該液体８中を伝播する超音波の伝播速度は該液体８の温度によっても変化するため、判定時に該液体８の温度も考慮されると該液体の異常を高い精度で検知できる。該液体８の温度は、該液体温度測定器４４により測定される。該液体温度測定器４４は、例えば、温度計である。該液体温度算出部４６は、該液体温度測定器４４に管路１２を流れる液体８の温度を測定させ、得られた該液体８の温度を該判定部３６に伝達する。 Since the propagation speed of the ultrasonic wave propagating in the liquid 8 also changes depending on the temperature of the liquid 8, if the temperature of the liquid 8 is also taken into consideration at the time of determination, it is possible to detect abnormality of the liquid with high accuracy. The temperature of the liquid 8 is measured by the liquid temperature measuring device 44. The liquid temperature measuring device 44 is, for example, a thermometer. The liquid temperature calculation unit 46 causes the liquid temperature measurement device 44 to measure the temperature of the liquid 8 flowing through the conduit 12, and transmits the obtained temperature of the liquid 8 to the determination unit 36.
該液体温度測定器４４は、例えば、該管路１２の外表面に配設される。その場合、外部環境による影響を抑制するために該液体温度測定器４４を断熱材等で覆うことが好ましい。また、該液体温度測定器４４は、該管路１２に配設されていなくてもよく、例えば、液体の供給源１４や、液体吐出部６に配設されていてもよい。 The liquid temperature measuring device 44 is disposed, for example, on the outer surface of the conduit 12. In that case, it is preferable to cover the liquid temperature measuring device 44 with a heat insulating material or the like in order to suppress the influence of the external environment. Further, the liquid temperature measuring device 44 may not be disposed in the conduit 12, and may be disposed, for example, in the liquid supply source 14 or the liquid discharging unit 6.
なお、該液体８の温度の測定は、２つの超音波振動子２２ａ，２２ｂと、制御部２４により超音波を利用して実施してもよい。例えば、該制御部２４は、該管路１２を流れる液体８中を伝播する超音波を測定することで該超音波の伝播速度を算出し、該伝播速度から該液体８の温度を算出する。 The measurement of the temperature of the liquid 8 may be performed by using the ultrasonic waves by the two ultrasonic transducers 22 a and 22 b and the control unit 24. For example, the control unit 24 calculates the propagation velocity of the ultrasonic wave by measuring the ultrasonic wave propagating in the liquid 8 flowing through the conduit 12 and calculates the temperature of the liquid 8 from the propagation velocity.
振幅算出部３４は、該２つの超音波振動子２２ａ，２２ｂの該一方で発生し該管路１２に流れる液体８中を伝播する該超音波を該２つの超音波振動子２２ａ，２２ｂの該他方で観測することで得られた該波形情報から該超音波の振幅を算出する。該振幅算出部３４は、該判定部３６に接続されており、算出した該超音波の振幅を該判定部３６に伝達する。 The amplitude calculation unit 34 generates the ultrasonic waves generated by the one of the two ultrasonic transducers 22 a and 22 b and propagates the liquid 8 flowing in the conduit 12 into the ultrasonic waves of the two ultrasonic transducers 22 a and 22 b. On the other hand, the amplitude of the ultrasonic wave is calculated from the waveform information obtained by observation. The amplitude calculation unit 34 is connected to the determination unit 36, and transmits the calculated amplitude of the ultrasonic wave to the determination unit 36.
なお、振幅算出部３４は、該２つの超音波振動子２２ａ，２２ｂの該他方で発生し該管路１２に流れる液体８中を伝播する該超音波を該２つの超音波振動子２２ａ，２２ｂの該一方で観測することで得られた該波形情報から該超音波の振幅を算出してもよい。また、該振幅算出部３４は、観測された２つの該超音波の振幅の平均を超音波の振幅として算出してもよい。 The amplitude calculation unit 34 generates the ultrasonic waves generated by the other of the two ultrasonic transducers 22a and 22b and propagating in the liquid 8 flowing in the conduit 12 as the two ultrasonic transducers 22a and 22b. The amplitude of the ultrasonic wave may be calculated from the waveform information obtained by observing on the one of the two. Further, the amplitude calculator 34 may calculate the average of the two observed ultrasonic waves as the ultrasonic wave amplitude.
図３（Ｂ）は、振幅の異なる２つの超音波の波形を模式的に示すチャートである。ここで、該超音波の振幅は、観測された該超音波の強度（電圧値）の絶対値の最大値とする。例えば、該図３（Ｂ）では、上側に示す超音波の波形５８における振幅６２ａは、下側に示す超音波の波形６０における振幅６２ｂよりも大きい。 FIG. 3B is a chart schematically showing waveforms of two ultrasonic waves having different amplitudes. Here, the amplitude of the ultrasonic wave is the maximum value of the absolute value of the observed intensity (voltage value) of the ultrasonic wave. For example, in FIG. 3B, the amplitude 62a in the waveform 58 of the ultrasonic wave shown on the upper side is larger than the amplitude 62b in the waveform 60 of the ultrasonic wave shown on the lower side.
該管路１２に流れる液体８中に気泡２０が混入すると、該液体８中を伝播する超音波の伝播経路が少なくなるため、該液体８中に気泡２０が発生していない場合と比較して振幅算出部３４で算出される該超音波の振幅は小さくなる。そのため、該振幅算出部３４で算出される該超音波の振幅を監視することで、該液体８中の気泡２０の混入を検出できる。 When air bubbles 20 are mixed in the liquid 8 flowing in the conduit 12, the propagation path of the ultrasonic wave propagating in the liquid 8 is reduced, so compared to the case where the air bubbles 20 are not generated in the liquid 8. The amplitude of the ultrasonic wave calculated by the amplitude calculation unit 34 decreases. Therefore, by monitoring the amplitude of the ultrasonic wave calculated by the amplitude calculation unit 34, the mixture of the air bubble 20 in the liquid 8 can be detected.
該振幅範囲登録部３８は、気泡２０が混入した該液体８中を伝播する該超音波の振幅の範囲が登録されており、該判定部３６に該超音波の振幅の範囲を伝達する。すると、該液体８に気泡が混入した際に、該判定部３６は該気泡の混入を検知できる。 The amplitude range registration unit 38 registers the range of the amplitude of the ultrasonic wave propagating in the liquid 8 in which the air bubble 20 is mixed, and transmits the range of the amplitude of the ultrasonic wave to the determination unit 36. Then, when air bubbles are mixed in the liquid 8, the determination unit 36 can detect the mixing of the air bubbles.
なお、該振幅範囲登録部３８に登録される超音波の振幅の範囲は、気泡２０が混入した該液体８中を伝播する超音波の振幅の範囲に限らない。該振幅範囲登録部３８には、例えば、気泡２０が混入していない該液体８中を伝播する超音波の振幅の範囲が登録され、該振幅範囲登録部３８は該判定部３６に該超音波の振幅の範囲を伝達してもよい。この場合、該判定部３６は、管路１２を流れる液体８中を伝播する超音波の振幅が該超音波の振幅の範囲から逸脱する場合に該液体８の気泡が混入したことを検知する。 The range of the amplitude of the ultrasonic waves registered in the amplitude range registration unit 38 is not limited to the range of the amplitude of the ultrasonic waves propagating in the liquid 8 in which the air bubbles 20 are mixed. In the amplitude range registration unit 38, for example, the range of the amplitude of the ultrasonic wave propagating in the liquid 8 in which the air bubble 20 is not mixed is registered, and the amplitude range registration unit 38 transmits the ultrasonic wave to the determination unit 36. A range of amplitudes of In this case, when the amplitude of the ultrasonic wave propagating in the liquid 8 flowing through the conduit 12 deviates from the range of the amplitude of the ultrasonic wave, the determination unit 36 detects that air bubbles of the liquid 8 are mixed.
該判定部３６は、該振幅算出部３４と、該振幅範囲登録部３８と、該伝播時間算出部４０と、該伝播時間範囲登録部４６と、該液体温度算出部４６と、に接続されている。 The determination unit 36 is connected to the amplitude calculation unit 34, the amplitude range registration unit 38, the propagation time calculation unit 40, the propagation time range registration unit 46, and the liquid temperature calculation unit 46. There is.
該判定部３６には、管路１２を流れる液体８中を伝播する超音波の振幅が該振幅算出部３４から伝達され、気泡２０が混入している該液体８中を伝播する超音波の振幅の範囲が該振幅範囲登録部３８から伝達される。該判定部３６は、該振幅算出部３４から伝達された該振幅が該振幅範囲登録部３８から伝達された該範囲内であるか否かを判定し、該振幅が該範囲内である場合に該液体８に気泡が混入したと判定する。本実施形態に係る検査器１８は、このように管路１２を流れる液体８中の気泡の発生を検出できる。 The amplitude of the ultrasonic wave propagating in the liquid 8 flowing through the conduit 12 is transmitted from the amplitude calculating unit 34 to the determination unit 36, and the amplitude of the ultrasonic wave propagating in the liquid 8 mixed with the air bubbles 20. Is transmitted from the amplitude range registration unit 38. The determination unit 36 determines whether the amplitude transmitted from the amplitude calculation unit 34 is within the range transmitted from the amplitude range registration unit 38, and the amplitude is within the range. It is determined that air bubbles are mixed in the liquid 8. The inspection device 18 according to the present embodiment can thus detect the generation of air bubbles in the liquid 8 flowing through the conduit 12.
該判定部３６は、例えば、該液体供給装置２が組み込まれた加工装置の制御部や表示部等に接続されており、液体８中の気泡の混入が検出されたときに該加工装置のオペレータに該気泡の混入を報知し、または、該加工装置の稼働を停止させる。そのため、液体８に気泡が混入したまま該液体吐出部６等から該液体８が供給されるのを防止できる。 The determination unit 36 is connected to, for example, the control unit or the display unit of the processing apparatus in which the liquid supply device 2 is incorporated, and when the mixing of air bubbles in the liquid 8 is detected, the operator of the processing apparatus To notify the mixing of the air bubbles, or stop the operation of the processing apparatus. Therefore, it is possible to prevent the liquid 8 from being supplied from the liquid discharge portion 6 or the like while air bubbles are mixed in the liquid 8.
また、該判定部３６には、該伝播時間算出部４０から管路１２を流れる液体８中を伝播する超音波の平均伝播時間が伝達され、該伝播時間範囲登録部４６から所定の濃度ではない濃度で物質が溶解又は分散した該液体８中を伝播する超音波の伝播時間の範囲が伝達される。該判定部３６は、該伝播時間算出部４０から伝達された該超音波の平均伝播時間５６が該伝播時間範囲登録部４６から伝達された該範囲内であるか否かを判定する。そして、該平均伝播時間５６が該範囲内である場合に該液体８の濃度が異常であると判定する。 Further, the average propagation time of the ultrasonic wave propagating in the liquid 8 flowing through the conduit 12 is transmitted from the propagation time calculation unit 40 to the determination unit 36, and the concentration does not have a predetermined concentration from the propagation time range registration unit 46. A range of propagation times of the ultrasonic waves propagating in the liquid 8 in which the substance is dissolved or dispersed in concentration is transmitted. The determination unit 36 determines whether the average propagation time 56 of the ultrasonic waves transmitted from the propagation time calculation unit 40 is within the range transmitted from the propagation time range registration unit 46. Then, when the average propagation time 56 is within the range, it is determined that the concentration of the liquid 8 is abnormal.
該判定部３６には、該液体温度算出部４６から該液体８の温度が伝達される。該液体８中を伝播する超音波の伝播速度は該液体８の濃度だけでなく温度により変化するため、該判定部３６は、該液体８の温度を考慮に入れて該液体８の濃度の異常の有無を判定する。 The temperature of the liquid 8 is transmitted from the liquid temperature calculation unit 46 to the determination unit 36. Since the propagation speed of the ultrasonic wave propagating in the liquid 8 changes not only by the concentration of the liquid 8 but also by the temperature, the determination unit 36 takes into account the temperature of the liquid 8 and the abnormality of the concentration of the liquid 8 Determine the presence or absence of
該液体８中に気泡が混入している場合、該液体８中を伝播する超音波を観測しても該液体８の濃度の異常を正しく検知できない場合がある。本実施形態に係る検査器１８では、該液体８中に気泡が混入していないことを確認した上で該濃度の異常の有無を判定できるため、該濃度異常検知の精度をより高めることができる。 When air bubbles are mixed in the liquid 8, it may not be possible to correctly detect an abnormality in the concentration of the liquid 8 even if ultrasonic waves propagating in the liquid 8 are observed. In the inspection device 18 according to the present embodiment, since it is possible to determine whether or not the concentration is abnormal after confirming that no bubbles are mixed in the liquid 8, the accuracy of the concentration abnormality detection can be further enhanced. .
該液体８の濃度の異常が検知された場合、該判定部３６はその旨を該液体供給装置２が組み込まれた該加工装置の制御部又は表示部に伝達し、該加工装置のオペレータに該濃度の異常を報知し、また、該加工装置の稼働を停止させる。 When an abnormality in the concentration of the liquid 8 is detected, the determination unit 36 transmits that effect to the control unit or the display unit of the processing apparatus in which the liquid supply device 2 is incorporated, to the operator of the processing apparatus. An alarm on the concentration is notified, and the operation of the processing apparatus is stopped.
なお、該管路１２を流れる該液体８の種別が誤っている場合や該液体８が劣化している場合等、該液体８に濃度以外の異常が生じた場合でも該液体８中を伝播する超音波の伝播速度にその影響が現れる場合がある。該判定部３６は、同様に該濃度以外の異常の発生を検知してもよい。また、物質等が溶解又は分散していない純粋な液体８である場合でも、超音波の伝播速度の異常を検出して異物の混入や液体の種別の誤りを検出してもよい。 The liquid 8 is propagated through the liquid 8 even when an abnormality other than the concentration occurs in the liquid 8, such as when the type of the liquid 8 flowing through the conduit 12 is incorrect or when the liquid 8 is deteriorated. The influence may appear on the propagation speed of ultrasonic waves. The determination unit 36 may similarly detect the occurrence of an abnormality other than the concentration. Further, even in the case of the pure liquid 8 in which the substance or the like is not dissolved or dispersed, an abnormality in the propagation speed of the ultrasonic wave may be detected to detect contamination of foreign matter or an error in the type of liquid.
次に、本実施形態に係る検査器１８が配設される液体供給装置２が組み込まれる加工装置の例について説明する。該加工装置は、例えば、半導体等でなるウェーハをレーザビームにより加工するレーザ加工装置である。図４は、該液体供給装置２を備える加工装置の一例としてレーザ加工装置６４を模式的に示す斜視図である。 Next, an example of a processing device in which the liquid supply device 2 in which the inspection device 18 according to the present embodiment is disposed will be described. The processing apparatus is, for example, a laser processing apparatus that processes a wafer made of a semiconductor or the like by a laser beam. FIG. 4 is a perspective view schematically showing a laser processing apparatus 64 as an example of a processing apparatus provided with the liquid supply device 2.
該レーザ加工装置６４の各構成要素を支持する装置基台６６の角部にはカセット載置台６８が設けられている。該カセット載置台６８には、レーザ加工を実施する前のウェーハ１０を収容するカセット７０が載せられる。該レーザ加工装置６４は、ガイドレール７２と、図示しない搬入出装置と、を備え、該搬入出装置は該ウェーハ１０を該ガイドレール７２に沿って該カセット７０から搬出する。 A cassette mounting table 68 is provided at a corner of an apparatus base 66 that supports each component of the laser processing apparatus 64. On the cassette mounting table 68, a cassette 70 for storing the wafer 10 before the laser processing is performed is mounted. The laser processing apparatus 64 includes a guide rail 72 and a loading and unloading apparatus (not shown). The loading and unloading apparatus unloads the wafer 10 from the cassette 70 along the guide rail 72.
該装置基台６６上面には、該ウェーハ１０を保持するチャックテーブル８８と、該チャックテーブル８８を移動させる移動機構と、該チャックテーブル８８の上方に配設されたレーザ加工ユニット９４と、を備える。 A chuck table 88 for holding the wafer 10, a moving mechanism for moving the chuck table 88, and a laser processing unit 94 disposed above the chuck table 88 are provided on the upper surface of the apparatus base 66. .
該装置基台６６の上面には、Ｙ軸方向に平行な一対のＹ軸ガイドレール７４と、Ｙ軸ボールねじ７８と、Ｙ軸パルスモータ８０と、を備えており、Ｙ軸ガイドレール７４には、Ｙ軸移動プレート７６がスライド可能に取り付けられている。 The upper surface of the device base 66 is provided with a pair of Y-axis guide rails 74 parallel to the Y-axis direction, a Y-axis ball screw 78 and a Y-axis pulse motor 80. The Y-axis moving plate 76 is slidably attached.
Ｙ軸移動プレート７６の下面側には、ナット部（不図示）が設けられており、このナット部には、該Ｙ軸ガイドレール７４に平行な該Ｙ軸ボールねじ７８が螺合されている。Ｙ軸ボールねじ７８の一端部には、該Ｙ軸パルスモータ８０が連結されている。該Ｙ軸パルスモータ８０で該Ｙ軸ボールねじ７８を回転させると、Ｙ軸移動プレート７６はＹ軸ガイドレール７４に沿ってＹ軸方向に移動する。 A nut portion (not shown) is provided on the lower surface side of the Y-axis movement plate 76, and the Y-axis ball screw 78 parallel to the Y-axis guide rail 74 is screwed to the nut portion. . The Y-axis pulse motor 80 is connected to one end of the Y-axis ball screw 78. When the Y-axis ball screw 78 is rotated by the Y-axis pulse motor 80, the Y-axis moving plate 76 moves in the Y-axis direction along the Y-axis guide rail 74.
Ｙ軸移動プレート７６の上面には、Ｘ軸方向に平行な一対のＸ軸ガイドレール８２と、Ｘ軸ボールねじ８６と、Ｘ軸パルスモータ（不図示）と、を備えており、Ｘ軸ガイドレール８２には、Ｘ軸移動プレート８４がスライド可能に取り付けられている。 The upper surface of the Y-axis moving plate 76 is provided with a pair of X-axis guide rails 82 parallel to the X-axis direction, an X-axis ball screw 86, and an X-axis pulse motor (not shown) An X-axis moving plate 84 is slidably attached to the rail 82.
Ｘ軸移動プレート８４の下面側には、ナット部（不図示）が設けられており、このナット部には、該Ｘ軸ガイドレール８２に平行な該Ｘ軸ボールねじ８６が螺合されている。Ｘ軸ボールねじ８６の一端部には、該Ｘ軸パルスモータが連結されている。Ｘ軸パルスモータでＸ軸ボールねじ８６を回転させると、該チャックテーブル８８を支持するＸ軸移動プレート８４はＸ軸ガイドレール８２に沿ってＸ軸方向に移動する。 A nut portion (not shown) is provided on the lower surface side of the X-axis movement plate 84, and the X-axis ball screw 86 parallel to the X-axis guide rail 82 is screwed to the nut portion. . The X axis pulse motor is connected to one end of the X axis ball screw 86. When the X axis ball screw 86 is rotated by the X axis pulse motor, the X axis moving plate 84 supporting the chuck table 88 moves along the X axis guide rail 82 in the X axis direction.
該Ｘ軸移動プレート８４に支持された該チャックテーブル８８の上面は、該ウェーハ１０を保持する保持面となる。該チャックテーブル８８は、一端が該チャックテーブル８８の該保持面に通じ、他端が図示しない吸引源に接続された吸引路（不図示）を内部に備える。該保持面の外周側には、該ウェーハ１０を把持するクランプ９０が設けられている。該保持面上にウェーハ１０を載せ該吸引源を作動させると、該ウェーハ１０に負圧が作用し該ウェーハ１０がチャックテーブル８８に吸引保持される。 The upper surface of the chuck table 88 supported by the X-axis moving plate 84 serves as a holding surface for holding the wafer 10. The chuck table 88 internally includes a suction path (not shown) having one end communicating with the holding surface of the chuck table 88 and the other end connected to a suction source not shown. A clamp 90 for gripping the wafer 10 is provided on the outer peripheral side of the holding surface. When the wafer 10 is placed on the holding surface and the suction source is operated, a negative pressure is applied to the wafer 10 and the wafer 10 is held by suction on the chuck table 88.
該チャックテーブル８８は、例えば、Ｘ軸方向に加工送りされ、該Ｙ軸方向に割り出し送りされる。さらに、該チャックテーブル８８は、該保持面に垂直な軸の周りに回転でき、該チャックテーブル８８に保持されたウェーハ１０の該レーザ加工ユニット９４に対する移動方向を切り替えられる。 The chuck table 88 is processed and fed, for example, in the X-axis direction, and indexed and fed in the Y-axis direction. Further, the chuck table 88 can be rotated about an axis perpendicular to the holding surface, and the moving direction of the wafer 10 held by the chuck table 88 relative to the laser processing unit 94 can be switched.
装置基台６６の後部には支持部９２が立設されており、該支持部９２の前面には該レーザ加工ユニット９４が配設されている。該レーザ加工ユニット９４は加工ヘッド９６を備え、該ウェーハ１０が吸収性を有する波長のレーザビームを発振して該加工ヘッド９６から該チャックテーブル８８に保持された該ウェーハ１０に該レーザビームを照射する機能を有する。 A support portion 92 is erected at the rear of the device base 66, and the laser processing unit 94 is disposed on the front surface of the support portion 92. The laser processing unit 94 includes a processing head 96, and the wafer 10 oscillates a laser beam of an absorbing wavelength to irradiate the laser beam from the processing head 96 to the wafer 10 held on the chuck table 88. Have a function to
レーザビームをウェーハ１０に照射しながら該ウェーハ１０をＸ軸方向に移動させると、該ウェーハ１０がアブレーション加工されて、該ウェーハ１０の表面にＸ軸に沿った加工溝が形成される。 When the wafer 10 is moved in the X axis direction while irradiating the wafer 10 with a laser beam, the wafer 10 is ablated to form a processed groove along the X axis on the surface of the wafer 10.
該装置基台６６の該カセット載置台６８の近傍にはレーザ加工後のウェーハ１０の表面を洗浄する洗浄ユニット１００が設けられている。該洗浄ユニット１００は、レーザ加工が実施されたウェーハ１０の表面に洗浄液を供給し、該レーザ加工で生じるデブリと呼ばれる加工屑を次に説明する水溶性の液状樹脂で形成された保護膜ごと除去する。 In the vicinity of the cassette mounting table 68 of the apparatus base 66, a cleaning unit 100 for cleaning the surface of the wafer 10 after laser processing is provided. The cleaning unit 100 supplies a cleaning solution to the surface of the wafer 10 on which the laser processing has been performed, and removes processing debris called debris generated by the laser processing together with a protective film formed of a water-soluble liquid resin described below Do.
該洗浄ユニット１００の近傍には液状樹脂塗布ユニット９８が設けられている。該液状樹脂塗布ユニット９８は、レーザ加工を実施する前のウェーハ１０の表面に水溶性の液状樹脂を塗布して該ウェーハ１０の表面に保護膜を形成する保護膜被覆装置である。該保護膜は、該ウェーハ１０の表面を被覆し、レーザ加工により生じるデブリが該ウェーハ１０の表面に直接付着するのを防止する。 In the vicinity of the cleaning unit 100, a liquid resin application unit 98 is provided. The liquid resin coating unit 98 is a protective film coating apparatus that applies a water-soluble liquid resin to the surface of the wafer 10 before laser processing and forms a protective film on the surface of the wafer 10. The protective film covers the surface of the wafer 10 and prevents direct attachment of debris generated by laser processing to the surface of the wafer 10.
該液状樹脂塗布ユニット９８は、該ウェーハ１０を保持するチャックテーブル４と、該チャックテーブル４に保持されたウェーハの表面に該水溶性の液状樹脂を供給する液体供給装置２と、を備える。該チャックテーブル４は、上述のチャックテーブル８８と同様に構成される。 The liquid resin coating unit 98 includes a chuck table 4 for holding the wafer 10 and a liquid supply unit 2 for supplying the water-soluble liquid resin to the surface of the wafer held by the chuck table 4. The chuck table 4 is configured in the same manner as the chuck table 88 described above.
液体供給装置２は、該装置基台６６の内部に収容されており、該液状樹脂塗布ユニット９８に供給される水溶性の液状樹脂を収容する液体の供給源１４と、該液体の供給源１４及び該液状樹脂塗布ユニット９８に接続された管路１２と、ポンプ１６（図１参照）と、を備える。 The liquid supply device 2 is housed inside the device base 66, and a liquid supply source 14 for containing a water-soluble liquid resin supplied to the liquid resin coating unit 98, and a liquid supply source 14 for the liquid. And a conduit 12 connected to the liquid resin coating unit 98, and a pump 16 (see FIG. 1).
該液体供給装置２は、該チャックテーブル４の上方に配された液体吐出部６をさらに備える。該水溶性の液状樹脂は、ポンプ１６の機能により該管路１２を通じて該液体の供給源１４から該液体吐出部６に供給され、該液体吐出部６から該チャックテーブル４に保持されたウェーハ１０の表面に供給される。 The liquid supply device 2 further includes a liquid discharger 6 disposed above the chuck table 4. The water-soluble liquid resin is supplied from the liquid supply source 14 to the liquid discharge unit 6 through the conduit 12 by the function of the pump 16, and the wafer 10 held on the chuck table 4 from the liquid discharge unit 6. Supplied on the surface of
該液体供給装置２の該管路１２には本実施形態に係る検査器１８が設けられため、該管路１２を流れる該水溶性の液状樹脂中に気泡が混入した場合でも該混入を検出できる。そのため、該ウェーハ１０の表面に気泡が混入した該水溶性の液状樹脂が供給されるのを防止できる。 Since the inspection device 18 according to the present embodiment is provided in the pipe line 12 of the liquid supply device 2, even when air bubbles are mixed in the water-soluble liquid resin flowing through the pipe line 12, the mixture can be detected. . Therefore, it is possible to prevent the supply of the water-soluble liquid resin in which air bubbles are mixed into the surface of the wafer 10.
また、該装置基台６６は、該洗浄ユニット１００に純水等の洗浄液を供給する他の液体供給装置を備えてもよい。該他の液体供給装置は、例えば、該液状樹脂塗布ユニット９８に接続された該液体供給装置２と同様に本実施形態に係る検査器１８を備えても良い。 In addition, the device base 66 may include another liquid supply device for supplying a cleaning liquid such as pure water to the cleaning unit 100. The other liquid supply apparatus may include, for example, the inspection device 18 according to the present embodiment as the liquid supply apparatus 2 connected to the liquid resin coating unit 98.
ここで、該液状樹脂塗布ユニット９８で実施される該液状樹脂の塗布について図５（Ａ）を用いて説明する。図５（Ａ）は、液状樹脂塗布ユニット９８による液状樹脂の塗布を模式的に示す断面図である。 Here, the application of the liquid resin carried out by the liquid resin application unit 98 will be described using FIG. 5 (A). FIG. 5A is a cross-sectional view schematically showing the application of the liquid resin by the liquid resin application unit 98. As shown in FIG.
図５（Ａ）に示す通り、該ウェーハ１０の裏面１０ｂには、例えば、金属等で形成された環状のフレーム１０ｄの開口部に張られたテープ１０ｃが貼着される。該ウェーハ１０は、該環状のフレーム１０ｄと、該テープ１０ｃと、と一体となったフレームユニットの状態で該カセット７０に収容され、該カセット７０から搬出されて加工される。 As shown in FIG. 5A, on the back surface 10b of the wafer 10, for example, a tape 10c which is stretched at an opening of an annular frame 10d formed of metal or the like is attached. The wafer 10 is accommodated in the cassette 70 in the form of a frame unit integrated with the annular frame 10 d and the tape 10 c, and is unloaded from the cassette 70 and processed.
該カセット７０から該ウェーハ１０を搬出した後、該ウェーハ１０の裏面１０ｂ側を下方に向け、該液状塗布ユニット９８の該チャックテーブル４の上に該テープ１０ｃを介して該ウェーハ１０を載せる。該チャックテーブル４の吸引源を作動させて該ウェーハ１０を吸引させるとともに該チャックテーブル４のクランプに該フレーム１０ｄを把持させることで、該チャックテーブル４に該ウェーハを保持させる。すると、該ウェーハ１０の表面１０ａが上方に露出する。 After the wafer 10 is unloaded from the cassette 70, the back surface 10b side of the wafer 10 is directed downward, and the wafer 10 is placed on the chuck table 4 of the liquid coating unit 98 via the tape 10c. The suction source of the chuck table 4 is operated to suction the wafer 10 and the clamp of the chuck table 4 holds the frame 10 d to hold the wafer on the chuck table 4. Then, the surface 10 a of the wafer 10 is exposed upward.
次に、該ウェーハ１０の上方に液体吐出部６を配設し、該チャックテーブル４を該ウェーハ１０の表面１０ａに垂直な軸の周りに回転させ、該液体吐出部６から液体８として水溶性の液状樹脂を吐出させる。すると、該ウェーハ１０ａの表面に該水溶性の液状樹脂が塗布されて保護膜が形成される。 Next, the liquid discharger 6 is disposed above the wafer 10, and the chuck table 4 is rotated about an axis perpendicular to the surface 10 a of the wafer 10 to be water soluble as liquid 8 from the liquid discharger 6. The liquid resin is discharged. Then, the water-soluble liquid resin is applied to the surface of the wafer 10 a to form a protective film.
次に、レーザ加工装置６４のレーザ加工ユニット９４におけるレーザ加工について図５（Ｂ）を用いて説明する。図５（Ｂ）は、レーザ加工ユニット９４によるウェーハ１０のレーザ加工を模式的に示す断面図である。保護膜が形成されたウェーハ１０は、レーザ加工ユニット９４の下方のチャックテーブル８８（図４参照）上に搬送され、該チャックテーブル８８により保持される。 Next, laser processing in the laser processing unit 94 of the laser processing apparatus 64 will be described with reference to FIG. 5 (B). FIG. 5B is a cross-sectional view schematically showing laser processing of the wafer 10 by the laser processing unit 94. As shown in FIG. The wafer 10 on which the protective film is formed is conveyed onto the chuck table 88 (see FIG. 4) below the laser processing unit 94 and held by the chuck table 88.
図５（Ｂ）に示す通り、該ウェーハ１０の表面には、複数のデバイス１０ｅが設けられており、該デバイス１０ｅの上面を含む該ウェーハ１０の表面１０ａは、該水溶性の液状樹脂で形成された保護膜１０２で覆われている。隣接する２つの該デバイス１０ｅ間の領域はストリートと呼ばれ、該ウェーハ１０には該ストリートに沿って加工ヘッド９６からレーザビームが照射される。すると、該ストリートに沿ってウェーハ１０がアブレーション加工されて、該ストリートに沿った加工溝１０４がウェーハ１０に形成される。 As shown in FIG. 5B, a plurality of devices 10e are provided on the surface of the wafer 10, and the surface 10a of the wafer 10 including the upper surface of the device 10e is formed of the water-soluble liquid resin It is covered with the protective film 102. The area between the two adjacent devices 10e is called a street, and the wafer 10 is irradiated with a laser beam from the processing head 96 along the street. Then, the wafer 10 is ablated along the street, and a processed groove 104 is formed in the wafer 10 along the street.
該液体供給装置２により該表面１０ａに液体８が塗布されて、該表面１０ａに保護膜１０２が形成されていると、該ウェーハ１０がアブレーション加工されてデブリ１０ｆと呼ばれる加工屑が飛散しても、該デブリ１０ｆは該表面１０ａに直接付着しない。特に、本実施形態に係る検査器１８を備える液体供給装置２は気泡が混入していない液状樹脂を該表面１０ａに供給できるため、形成された保護膜１０２にも該気泡が残存しない。そのため、該表面１０ａが該保護膜１０２により該デブリ１０ｆから適切に保護される。 When the liquid 8 is applied to the surface 10a by the liquid supply device 2 and the protective film 102 is formed on the surface 10a, even if the wafer 10 is ablated and the debris called debris 10f is scattered The debris 10f does not adhere directly to the surface 10a. In particular, since the liquid supply device 2 including the inspection device 18 according to the present embodiment can supply the liquid resin in which air bubbles are not mixed to the surface 10 a, the air bubbles do not remain even in the formed protective film 102. Therefore, the surface 10 a is appropriately protected from the debris 10 f by the protective film 102.
該ウェーハ１０のレーザ加工が完了した後、洗浄ユニット１００に該ウェーハ１０を搬入して該ウェーハ１０を洗浄すると、該デブリ１０ｆは該保護膜１０２ごと洗い流されるため、該ウェーハ１０の表面１０ａには該デブリ１０ｆが残らない。 After the laser processing of the wafer 10 is completed, the wafer 10 is carried into the cleaning unit 100 and the wafer 10 is cleaned, and the debris 10 f is washed away with the protective film 102, so the surface 10 a of the wafer 10 is removed. The debris 10f does not remain.
加工装置等に備えられた管路１２には、該管路１２を流れる液体８の流量等を測定するための超音波流量計が設けられる場合がある。本実施形態に係る検査器１８は、２つの超音波振動子２２ａ，２２ｂと、制御部２４と、で構成されるため、該超音波流量計の機能を併せ持つこともできる。そのため、本実施形態に係る検査器１８を該超音波流量計に代えて該管路１２に配設することで、該検査器１８を取り付けるための空間を節約でき、また、該検査器１８の導入費用を抑制できる。 An ultrasonic flowmeter for measuring the flow rate or the like of the liquid 8 flowing through the conduit 12 may be provided in the conduit 12 provided in the processing device or the like. The inspection device 18 according to the present embodiment includes the two ultrasonic transducers 22a and 22b and the control unit 24. Therefore, the inspection device 18 can also have the function of the ultrasonic flowmeter. Therefore, by disposing the inspection device 18 according to the present embodiment in the pipe line 12 instead of the ultrasonic flow meter, a space for attaching the inspection device 18 can be saved, and the inspection device 18 of The cost of introduction can be reduced.
なお、本発明は、上記の実施形態の記載に限定されず、種々変更して実施可能である。本発明の一態様は、加工装置に備えられた液体供給装置の管路に配設される検査器であるが、該検査器が配設される液体供給装置及び該液体供給装置が備えられる加工装置もまた本発明の一態様である。さらに、水溶性の液状樹脂を供給して保護膜を形成する保護膜被覆装置もまた本発明の一態様である。 In addition, this invention is not limited to description of said embodiment, It can change variously and can be implemented. One aspect of the present invention is a tester provided in a pipeline of a liquid supply device provided in a processing device, a liquid supply device provided with the tester and a processing provided with the liquid supply device An apparatus is also an aspect of the present invention. Furthermore, a protective film coating apparatus that supplies a water-soluble liquid resin to form a protective film is also an aspect of the present invention.
上記の実施形態では、レーザ加工装置６４に備えられる液体供給装置２の管路１２に該検査器１８を配設する場合について説明したが、該検査器１８が配設される加工装置はレーザ加工装置に限られない。例えば、ウェーハ１０等の被加工物を研削加工する研削装置や、被加工物を切削加工する切削装置にも被加工物や加工ユニットに供給される各種の液体が流れる管路が備えられる。そのため、該検査器は、研削装置や切削装置に備えられた管路にも配設できる。 Although the above embodiment has described the case where the inspection device 18 is disposed in the pipeline 12 of the liquid supply device 2 provided in the laser processing device 64, the processing device in which the inspection device 18 is disposed is laser processing It is not limited to the device. For example, a grinding device for grinding the workpiece such as the wafer 10 and a cutting device for cutting the workpiece are provided with pipelines through which various liquids supplied to the workpiece and the processing unit flow. Therefore, the inspection device can also be disposed in a pipeline provided in the grinding device or the cutting device.
その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structure, method, and the like according to the above-described embodiment can be appropriately modified and implemented without departing from the scope of the object of the present invention.
２ 液体供給装置
４，８８ チャックテーブル
６ 液体吐出部
８ 液体
１０ ウェーハ
１０ａ 表面
１０ｂ 裏面
１０ｃ テープ
１０ｄ フレーム
１０ｅ デバイス
１０ｆ デブリ
１２ 管路
１４ 液体の供給源
１６ ポンプ
１８ 検査器
２０ 気泡
２２ａ，２２ｂ 超音波振動子
２４ 制御部
２６ 切り替え部
２８ 電源
３０ 増幅器
３２ 算出部
３４ 振幅算出部
３６ 判定部
３８ 振幅範囲登録部
４０ 伝播時間算出部
４２ 伝播時間範囲登録部
４４ 液体温度測定器
４６ 液体温度算出部
４８，５０，５８，６０ 超音波の波形
５２ 第１の伝播時間
５４ 第２の伝播時間
５６ 平均伝播時間
６２ａ，６２ｂ 超音波の振幅
６４ レーザ加工装置
６６ 装置基台
６８ カセット載置台
７０ カセット
７２ ガイドレール
７４ Ｙ軸ガイドレール
７６ Ｙ軸移動プレート
７８ Ｙ軸ボールねじ
８０ Ｙ軸パルスモータ
８２ Ｘ軸ガイドレール
８４ Ｘ軸移動プレート
８６ Ｘ軸ボールねじ
９０ クランプ
９２ 支持部
９４ レーザ加工ユニット
９６ 加工ヘッド
９８ 液状樹脂塗布ユニット
１００ 洗浄ユニット
１０２ 保護膜
１０４ 加工溝
DESCRIPTION OF SYMBOLS 2 liquid supply apparatus 4, 88 chuck table 6 liquid discharge part 8 liquid 10 wafer 10a surface 10b back surface 10c tape 10d frame 10e device 10f debris 12 pipeline 14 liquid supply source 16 pump 18 inspection device 20 bubble 22a, 22b ultrasonic vibration Child 24 control unit 26 switching unit 28 power supply 30 amplifier 32 calculation unit 34 amplitude calculation unit 36 determination unit 38 amplitude range registration unit 40 propagation time calculation unit 42 propagation time range registration unit 44 liquid temperature measurement instrument 46 liquid temperature calculation unit 48, 50 , 58, 60 ultrasonic waveform 52 first propagation time 54 second propagation time 56 average propagation time 62a, 62b ultrasonic amplitude 64 laser processing apparatus 66 apparatus base 68 cassette mounting table 70 cassette 72 guide rail 74 Y Axis guide rail 76 Y axis movement pre Point 78 Y-axis ball screw 80 Y-axis pulse motor 82 X-axis guide rail 84 X-axis moving plate 86 X-axis ball screw 90 clamp 92 support 94 laser processing unit 96 processing head 98 liquid resin coating unit 100 cleaning unit 102 protective film 104 Machining groove
Claims (5)
該管路の上流側と、下流側と、に配設された２つの超音波振動子と、該２つの超音波振動子に電気的に接続された制御部と、を備え、
該制御部は、振幅算出部と、判定部と、振幅範囲登録部と、を有し、
振幅算出部は、該２つの超音波振動子の一方で発生し該管路に流れる液体中を伝播する第１の超音波を該２つの超音波振動子の他方で観測することで得られた波形情報から該第１の超音波の振幅を算出し、
該振幅範囲登録部には、気泡が混入した該液体中を伝播する超音波の振幅の範囲が登録されており、
該判定部は、該振幅算出部が算出した該第１の超音波の振幅が該振幅範囲登録部に登録された該振幅の範囲内である場合に、該液体に気泡が混入したと判定することを特徴とする検査器。 It is a tester which is disposed in a conduit which becomes a flow path of liquid,
The ultrasonic transducer includes: two ultrasonic transducers disposed on the upstream side and the downstream side of the conduit; and a control unit electrically connected to the two ultrasonic transducers.
The control unit includes an amplitude calculation unit, a determination unit, and an amplitude range registration unit.
The amplitude calculation unit is obtained by observing, with the other of the two ultrasonic transducers, a first ultrasonic wave generated in one of the two ultrasonic transducers and propagating in the liquid flowing in the channel. The amplitude of the first ultrasonic wave is calculated from the waveform information,
In the amplitude range registration unit, the range of the amplitude of ultrasonic waves propagating in the liquid in which air bubbles are mixed is registered,
The determination unit determines that air bubbles are mixed in the liquid when the amplitude of the first ultrasonic wave calculated by the amplitude calculation unit is within the range of the amplitude registered in the amplitude range registration unit. A tester characterized by that.
該液体には、物質が溶解又は分散しており、
該伝播時間算出部は、
該２つの超音波振動子の該一方で発生し該管路に流れる液体中を伝播する該第１の超音波を該２つの超音波振動子の該他方で観測することで得られた波形情報から該第１の超音波の伝播時間を算出し、
該２つの超音波振動子の該他方で発生し該管路に流れる液体中を伝播する第２の超音波を該２つの超音波振動子の該一方で観測することで得られた波形情報から該第２の超音波の伝播時間を算出し、
該第１の超音波の伝播時間と、該第２の超音波の伝播時間と、を平均して平均伝播時間を算出し、
該伝播時間範囲登録部には、所定の濃度ではない濃度で物質が溶解又は分散した該液体中を伝播する超音波の平均伝播時間の範囲が登録されており、
該判定部は、該液体に気泡が混入したと判定されず、該伝播時間算出部が算出した該平均伝播時間が該伝播時間範囲登録部に登録された該平均伝播時間の範囲内である場合に、該液体の濃度が所定の濃度ではないと判定することを特徴とする請求項１に記載の検査器。 The control unit further includes a propagation time calculation unit and a propagation time range registration unit,
In the liquid, a substance is dissolved or dispersed,
The propagation time calculation unit
Waveform information obtained by observing the first ultrasonic wave generated in the one of the two ultrasonic transducers and propagating in the liquid flowing in the channel with the other of the two ultrasonic transducers Calculate the propagation time of the first ultrasonic wave from
From the waveform information obtained by observing the second ultrasonic wave generated in the other of the two ultrasonic transducers and flowing in the liquid flowing in the channel with the one of the two ultrasonic transducers Calculating the propagation time of the second ultrasonic wave;
Calculating an average propagation time by averaging the propagation time of the first ultrasonic wave and the propagation time of the second ultrasonic wave;
In the propagation time range registration unit, a range of average propagation time of ultrasonic waves propagating in the liquid in which the substance is dissolved or dispersed at a concentration that is not a predetermined concentration is registered,
The determination unit is not determined that air bubbles are mixed in the liquid, and the average propagation time calculated by the propagation time calculation unit is within the range of the average propagation time registered in the propagation time range registration unit. The tester according to claim 1, wherein the concentration of the liquid is determined not to be a predetermined concentration.
該液体温度測定器は、該管路を流れる液体の温度を測定し、該液体の温度を該判定部に伝達し、
該判定部は、該液体の温度を参照して判定の内容を補正することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の検査器。 It further comprises a liquid temperature measuring device for measuring the temperature of the liquid,
The liquid temperature measuring device measures the temperature of the liquid flowing through the conduit, and transmits the temperature of the liquid to the judging unit.
The inspection device according to claim 1 or 2, wherein the determination unit corrects the content of the determination with reference to the temperature of the liquid.
ウェーハを保持する回転可能なチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウェーハの表面に該液状樹脂を供給する請求項４に記載の液体供給装置と、を備えることを特徴とする保護膜被覆装置。 A protective film coating apparatus for coating a liquid resin on the surface of a wafer to form a protective film,
A protective film coating apparatus comprising: a rotatable chuck table for holding a wafer; and the liquid supply apparatus according to claim 4 for supplying the liquid resin to the surface of the wafer held by the chuck table. .
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017217439A JP6961306B2 (en) | 2017-11-10 | 2017-11-10 | Inspector, liquid supply device, and protective film coating device |
| CN201811316479.4A CN109765293B (en) | 2017-11-10 | 2018-11-07 | Inspection device, liquid supply device, and protective film coating device |
| TW107139793A TWI770309B (en) | 2017-11-10 | 2018-11-09 | Inspector, liquid supply device, and protective film coating device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017217439A JP6961306B2 (en) | 2017-11-10 | 2017-11-10 | Inspector, liquid supply device, and protective film coating device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019090614A true JP2019090614A (en) | 2019-06-13 |
| JP6961306B2 JP6961306B2 (en) | 2021-11-05 |
Family
ID=66449646
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017217439A Active JP6961306B2 (en) | 2017-11-10 | 2017-11-10 | Inspector, liquid supply device, and protective film coating device |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6961306B2 (en) |
| CN (1) | CN109765293B (en) |
| TW (1) | TWI770309B (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023214490A1 (en) * | 2022-05-06 | 2023-11-09 | 栗田工業株式会社 | Underwater bubble detecting method, and degassing agent adding method employing same |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113042308B (en) * | 2020-12-11 | 2022-07-12 | 苏州卓兆点胶股份有限公司 | Two-component glue dispensing device |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0278915A (en) * | 1988-07-22 | 1990-03-19 | Pluss Stauffer Ag | Device for simultaneously measuring density, solid matter concentration, flow velocity, flow rate and temperature of liquefied or pasty fluid by ultrasonic transmission propagated in said fluid |
| US6647805B2 (en) * | 2000-11-27 | 2003-11-18 | Tokyo Keiso Kabushiki-Kaisha | Transit-time difference type ultrasonic flowmeter |
| WO2011001536A1 (en) * | 2009-06-29 | 2011-01-06 | 本多電子株式会社 | Device and method for detecting abnormality of liquid pumping equipment, and ultrasonic flowmeter with abnormality detecting function |
| JP2011177758A (en) * | 2010-03-02 | 2011-09-15 | Disco Corp | Laser beam machining apparatus |
| JP2011226844A (en) * | 2010-04-16 | 2011-11-10 | Azden Ltd | Ultrasonic concentration meter |
| JP2013062191A (en) * | 2011-09-14 | 2013-04-04 | Suzuki Motor Corp | Mounting structure of methanol density sensor |
| JP2013254817A (en) * | 2012-06-06 | 2013-12-19 | Disco Abrasive Syst Ltd | Laser processing device |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3381747B2 (en) * | 1994-12-09 | 2003-03-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Method and apparatus for measuring solution concentration |
| JP3728530B2 (en) * | 1997-05-01 | 2005-12-21 | トキコテクノ株式会社 | Flowmeter |
| JP2001004417A (en) * | 1999-06-22 | 2001-01-12 | Tokyo Keiso Co Ltd | Ultrasonic flowmeter |
| CN105319266A (en) * | 2015-10-22 | 2016-02-10 | 同济大学 | Ultrasonic liquid concentration phase-sensitive detecting method and device |
-
2017
- 2017-11-10 JP JP2017217439A patent/JP6961306B2/en active Active
-
2018
- 2018-11-07 CN CN201811316479.4A patent/CN109765293B/en active Active
- 2018-11-09 TW TW107139793A patent/TWI770309B/en active
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0278915A (en) * | 1988-07-22 | 1990-03-19 | Pluss Stauffer Ag | Device for simultaneously measuring density, solid matter concentration, flow velocity, flow rate and temperature of liquefied or pasty fluid by ultrasonic transmission propagated in said fluid |
| US6647805B2 (en) * | 2000-11-27 | 2003-11-18 | Tokyo Keiso Kabushiki-Kaisha | Transit-time difference type ultrasonic flowmeter |
| JP3616324B2 (en) * | 2000-11-27 | 2005-02-02 | 東京計装株式会社 | Ultrasonic flow meter by propagation time difference method |
| WO2011001536A1 (en) * | 2009-06-29 | 2011-01-06 | 本多電子株式会社 | Device and method for detecting abnormality of liquid pumping equipment, and ultrasonic flowmeter with abnormality detecting function |
| JP2011177758A (en) * | 2010-03-02 | 2011-09-15 | Disco Corp | Laser beam machining apparatus |
| JP2011226844A (en) * | 2010-04-16 | 2011-11-10 | Azden Ltd | Ultrasonic concentration meter |
| JP2013062191A (en) * | 2011-09-14 | 2013-04-04 | Suzuki Motor Corp | Mounting structure of methanol density sensor |
| JP2013254817A (en) * | 2012-06-06 | 2013-12-19 | Disco Abrasive Syst Ltd | Laser processing device |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023214490A1 (en) * | 2022-05-06 | 2023-11-09 | 栗田工業株式会社 | Underwater bubble detecting method, and degassing agent adding method employing same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN109765293B (en) | 2023-05-30 |
| JP6961306B2 (en) | 2021-11-05 |
| TWI770309B (en) | 2022-07-11 |
| CN109765293A (en) | 2019-05-17 |
| TW201918290A (en) | 2019-05-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10121672B2 (en) | Cutting method for cutting processing-target object and cutting apparatus that cuts processing-target object | |
| TWI580478B (en) | Liquid treatment device, liquid treatment method and memory medium | |
| US7644618B2 (en) | Apparatus and method for nondestructive inspection of parts | |
| TWI770309B (en) | Inspector, liquid supply device, and protective film coating device | |
| JP5931551B2 (en) | Ultrasonic flaw detector, ultrasonic sensor support device, and ultrasonic flaw detector method | |
| TW201534918A (en) | Ultrasonic testing device and ultrasonic testing method | |
| US11105777B2 (en) | Ultrasonic inspection device and ultrasonic inspection method | |
| TWI712464B (en) | Bad detection method | |
| TW202001242A (en) | Ultrasonic inspection device, control device, and inspection method including a nozzle following the movement of an ultrasonic probe that irradiates and receives the ultrasonic wave | |
| US20190257798A1 (en) | Ultrasonic inspection device | |
| JP2014103215A (en) | Semiconductor wafer processing device | |
| JP2015021742A (en) | Ultrasonic inspection device | |
| JP2008026270A (en) | Defect detector and defect detecting method | |
| JP3571473B2 (en) | Angle beam ultrasonic inspection method and apparatus | |
| US10809105B2 (en) | Measuring instrument and processing apparatus | |
| JP2019066410A (en) | Measuring instrument and processing device | |
| KR102196851B1 (en) | A guide mechanism for inspecting the battery pack by pitch-catch method | |
| KR101503141B1 (en) | Apparatus for monitoring a wafer | |
| JP7411641B2 (en) | Particle measurement method and particle measurement device | |
| JPH04303762A (en) | Jet type ultrasonic flaw detector | |
| KR100607735B1 (en) | System for detecting developer leakage in semiconductor develop unit | |
| JP2023163980A (en) | Ultrasonic wave inspection method, and ultrasonic wave inspection system | |
| JP2005134204A (en) | Characteristic inspection device, characteristic inspection method and characteristic inspection program | |
| KR100726087B1 (en) | Probe device | |
| JP2022138316A (en) | Ultrasonic test equipment |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200914 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210730 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210810 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211004 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211012 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211012 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6961306 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |