JP2019081694A - Transparent substrate with laminate film, and window glass - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、積層膜付き透明基板およびその製造方法に関し、特には高遮熱性、低断熱性および高演色性に加えて耐久性に優れた積層膜付き透明基板および該積層膜付き透明基板を有する窓ガラスに関する。 The present invention relates to a laminated film-carrying transparent substrate and a method for producing the same, and more particularly to a laminated film-carrying transparent substrate excellent in durability in addition to high heat shielding, low heat insulation and high color rendering properties and the laminated film-carrying transparent substrate. It relates to the window glass.
暑熱地域、例えば、東南アジア等の低緯度から中緯度の地域における建築用窓ガラスの省エネルギー性能を考える場合、高い遮熱性能を有するとともに、適度な可視光透過率を有することが求められる。一方で、断熱性能に関しては寒冷地域と異なり意識されない。寒冷地域では室内と室外の気温差が非常に大きく、室外への熱の流出量が多いため高断熱性能が望まれるが、暑熱地域では温度差が比較的小さく室内への熱の流入量が少ないため高断熱性能の必要性は低い。そのため、建築用窓ガラスには、適度な可視光透過率、高い遮熱性能が求められることになる。 When considering the energy saving performance of windowpanes in a hot summer area, for example, low to middle latitudes such as Southeast Asia, it is required to have high heat shielding performance and to have appropriate visible light transmittance. On the other hand, the insulation performance is not conscious unlike cold regions. In a cold area, the temperature difference between the room and the outside is very large, and a high heat insulation performance is desired because the amount of heat outflow to the outside is large, but the temperature difference is relatively small and the amount of heat flow into the room is small Therefore, the need for high insulation performance is low. Therefore, appropriate visible light transmittance and high heat shielding performance are required of the window glass for construction.
ここで、窓ガラスに高遮熱性能を持たせるためには放射率を低くすることが必要とされるが、建築用窓ガラスには、様々な光学特性も満たすことが要求される。具体的には、透過して見る色が着色せず自然に見えること、反射色が好まれる色であること、可視光の透過率が所定の範囲であること、室外側の反射率と室内側の反射率が共に所定の範囲以下であることが挙げられる。 Here, in order to give high heat shielding performance to the window glass, it is necessary to lower the emissivity, but the window glass for construction is also required to satisfy various optical characteristics. Specifically, the color seen through is transparent and looks natural, the reflected color is preferred, the visible light transmittance is within a predetermined range, the outdoor side reflectance and the indoor side It is mentioned that the reflectance of both is below a predetermined range.
上記機能を達成する窓ガラスとして、ガラス基板に、銀を主成分として含有する金属層を含む銀系光学多層膜を成膜した単板の窓ガラスが考えられる。しかしながら、従来、銀系光学多層膜は、高断熱性能を有する複層ガラスの内側に設けられて使用されて高遮熱性能を発揮していたものであり、これが露出した状態では化学的耐久性および機械的耐久性が十分に得られない点で問題であった。 As a window glass which achieves the said function, the window glass of the single plate which formed into a film the silver system optical multilayer film containing the metal layer which contains silver as a main component on a glass substrate can be considered. However, conventionally, a silver-based optical multilayer film has been used by being provided on the inner side of a multilayer glass having high thermal insulation performance to exhibit high thermal insulation performance, and when it is exposed, it has chemical durability And it was a problem in that mechanical durability was not fully obtained.
また、例えば、緑色や青色に着色された熱線吸収ガラスに化学的耐久性および機械的耐久性を備えるドープ酸化錫等を含む遮熱膜を成膜したガラス物品が知られている（例えば、特許文献１参照）。このようなガラス物品では、高可視光透過率、高遮熱性能が得られているが、演色性が十分でない点で問題であった。 In addition, for example, a glass article is known in which a heat-shielding glass colored in green or blue is provided with a thermal barrier film containing doped tin oxide or the like having chemical durability and mechanical durability (for example, a patent) Reference 1). In such a glass article, high visible light transmittance and high heat shielding performance are obtained, but there is a problem in that the color rendering property is not sufficient.
このように、ガラス基板のような透明基板と各種コーティング膜の組み合わせにおいて、低緯度から中緯度の暑熱地域における窓ガラスとしての使用に適した上記各種特性を満足する、透明基板とコーティング膜を組み合わせた遮熱性の高い窓ガラスが得られていないのが現状であった。 Thus, in the combination of a transparent substrate such as a glass substrate and various coating films, a combination of a transparent substrate and a coating film which satisfies the various characteristics described above suitable for use as window glass in low to mid latitudes heat areas The present condition is that the high thermal insulation window glass is not obtained.
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、低緯度から中緯度の暑熱地域における単板での使用に適した、適度な可視光透過率を有するとともに、高遮熱性および高演色性に加えて耐久性に優れる積層膜付き透明基板および該積層膜付き透明基板を有する窓ガラスの提供を目的とする。 The present invention has been made to solve the above problems, and has a suitable visible light transmittance suitable for use on a single plate in a low-latitude to mid-latitude heat region, as well as high heat shielding and It is an object of the present invention to provide a transparent substrate with a laminated film excellent in durability in addition to high color rendering properties, and a window glass having the transparent substrate with a laminated film.
本発明の積層膜付き透明基板は、透明基板と、前記透明基板上に、透明導電層、窒素含有光吸収層および誘電体層が前記透明基板側からその順に積層された積層膜と、を有する積層膜付き透明基板であって、前記透明導電層の膜厚は１０〜２００ｎｍであり、前記窒素含有光吸収層の膜厚は１０ｎｍ超かつ６０ｎｍ以下であり、前記誘電体層の膜厚は２０〜８０ｎｍである。 The laminated film-attached transparent substrate of the present invention has a transparent substrate, and a laminated film in which a transparent conductive layer, a nitrogen-containing light absorbing layer and a dielectric layer are laminated in this order from the transparent substrate side on the transparent substrate. A transparent substrate with a laminated film, wherein the film thickness of the transparent conductive layer is 10 to 200 nm, the film thickness of the nitrogen-containing light absorption layer is more than 10 nm and 60 nm or less, and the film thickness of the dielectric layer is 20 To 80 nm.
本発明は、上記本発明の積層膜付き透明基板を有する窓ガラスであって、前記透明基板が単板であり、前記積層膜が室内側に露出されている窓ガラスを提供する。 The present invention provides a window glass comprising the transparent substrate with a laminated film of the present invention, wherein the transparent substrate is a single plate, and the laminated film is exposed to the indoor side.
本発明によれば、低緯度から中緯度の暑熱地域における単板での使用に適した、適度な可視光透過率を有するとともに、高遮熱性および高演色性に加えて耐久性に優れる積層膜付き透明基板および該積層膜付き透明基板を有する窓ガラスを提供できる。 According to the present invention, a laminated film suitable for use on veneers in a low-latitude to mid-latitude heat region, having a suitable visible light transmittance, and having a high heat shielding property and a high color rendering property as well as excellent durability. It is possible to provide a glazing transparent substrate and a window glass having the laminated film laminated transparent substrate.
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しながら説明する。なお、本発明は、下記説明に限定して解釈されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. The present invention is not interpreted as being limited to the following description.
［積層膜付き透明基板］
図１は、本発明の積層膜付き透明基板の実施形態の一例を示す断面図である。図２は、本発明の積層膜付き透明基板の実施形態の別の一例を示す断面図である。
[Transparent substrate with laminated film]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the embodiment of the transparent substrate with laminated film of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of the embodiment of the transparent substrate with laminated film of the present invention.
図１に示す積層膜付き透明基板１０Ａは、透明基板１１上に積層膜１２Ａを有し、積層膜１２Ａは、透明基板１１側から順に、透明導電層１３および窒素含有光吸収層１４が成膜されて構成される。
The
（透明基板）
透明基板１１は、特に限定されず、例えば、建築物用の窓ガラスや通常使用されるフロートガラス、またはロールアウト法によって製造されるソーダ石灰ガラス等の無機質の透明性を有するガラス基板を使用できる。ガラス基板としては、クリアガラス、高透過ガラス等の無色のもの等が使用できる。透明基板１１として、有機質の透明基板を用いてもよい。有機質の透明基板としては、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂やポリフェニレンカーボネート等の芳香族ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の芳香族ポリエステル系樹脂等からなる透明基板が挙げられる。
(Transparent substrate)
The
積層膜付き透明基板１０Ａとしての可視光透過率（Ｔｖ）を、適度な範囲、例えば後述する３５〜６５％とする場合には、透明基板１１の可視光透過率（Ｔｖ）は、８０〜９２％が好ましく、８３〜９０％がより好ましい。このような可視光透過率を考慮すると、透明基板１１は、クリアガラス、高透過ガラス等の無色ガラスが好ましい。また、高い演色性を得る観点からも無色ガラスが好ましい。
The visible light transmittance (Tv) of the
本明細書において、可視光透過率（Ｔｖ）は、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される。また、本明細書において光学特性は、特に断りのない限り、光源として「Ｄ６５光源１０度視野」にて測定して得られるものである。 In the present specification, visible light transmittance (Tv) is measured in accordance with ISO 9050: 2003. Further, in the present specification, unless otherwise specified, the optical characteristics are obtained by measurement with a “D65 light source 10 degree visual field” as a light source.
透明基板１１としては、また、風冷強化ガラス、化学強化ガラス等の各種強化ガラスも使用できる。さらには、ホウケイ酸塩ガラス、低膨張ガラス、ゼロ膨張ガラス、低膨張結晶化ガラス、ゼロ膨張結晶化ガラス等の各種ガラスを用いることができる。透明基板１１の厚さは、必ずしも限定されないが、透明基板１１自体の可視光透過率（Ｔｖ）を上記範囲とでき、かつ十分な機械的強度を確保できる厚さが好ましく、例えば０．５〜２０ｍｍが好適である。
As the
透明導電層１３としては、例えば、透明基板１１上に透明な層を形成できる金属酸化物であって、導電性を具備するもの（以下、「透明導電性金属酸化物」という。）を主体とする層であれば特に限定されない。
The transparent
透明導電性金属酸化物としては、例えば、金属酸化物自体を構成する金属以外の元素がドープされた金属酸化物が挙げられる。具体的には、スズ、チタン、タングステン、モリブデン、亜鉛および水素から選ばれる少なくとも１種がドープされた酸化インジウム；アンチモン、インジウム、タンタル、塩素およびフッ素から選ばれる少なくとも１種がドープされた酸化スズ；インジウム、アルミニウム、スズ、ガリウム、フッ素およびホウ素から選ばれる少なくとも１種がドープされた酸化亜鉛等が挙げられる。上記透明導電性金属酸化物は１種を単独で用いて、または２種以上を併用して、透明導電層１３を形成してもよい。
As a transparent conductive metal oxide, the metal oxide by which elements other than the metal which comprises metal oxide itself were doped is mentioned, for example. Specifically, indium oxide doped with at least one selected from tin, titanium, tungsten, molybdenum, zinc and hydrogen; and tin oxide doped with at least one selected from antimony, indium, tantalum, chlorine and fluorine And zinc oxide doped with at least one selected from indium, aluminum, tin, gallium, fluorine and boron, and the like. The transparent conductive metal oxide may be used alone or in combination of two or more, to form the transparent
透明導電層１３は、低抵抗とできる観点からスズがドープされた酸化インジウム（ＩＴＯ）を主体とする透明導電性金属酸化物からなることが好ましく、ＩＴＯのみからなることがより好ましい。ＩＴＯにおけるスズのドープ量としては、Ｉｎ２Ｏ３とＳｎＯ２との総量に対するＳｎＯ２の含有量として１〜２０質量％が好ましく、５〜１５質量％がより好ましい。
The transparent
透明導電層１３の厚さは、得られる積層膜付き透明基板１０Ａが適度な可視光透過率を有するとともに、高遮熱性および高演色性を達成できる厚さであれば特に制限されない。透明導電層１３の厚さは、例えば、１０〜６００ｎｍであってよく、１０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがより好ましい。
The thickness of the transparent
透明導電層１３の形成方法は特に制限されないが、通常、後述するように熱処理を伴う方法で作製される。透明導電層１３の熱処理前の態様を透明導電層１３の前駆層という。透明導電層１３の前駆層と熱処理後の透明導電層１３はほぼ同様の組成であるが、熱処理時に雰囲気中や透明基板中に含まれる酸素により適度に酸化されることで酸化度が調整され、所望の抵抗値の透明導電層１３が形成される。通常、熱処理において、該熱処理が透明導電層の厚さに影響を及ぼすことはない。また、透明導電層１３の厚さ、すなわちその前駆層の厚さが、上記厚さであると、層の深さ方向で酸化の程度に不均一が生じないという効果を奏する。
Although the formation method in particular of the transparent
窒素含有光吸収層１４は、例えば、透明基板１１上に成膜可能な金属の窒化物および／または酸窒化物からなる光吸収性を具備するもの（以下、「窒素含有光吸収性金属化合物」という。）を主体とする層であれば特に限定されない。
The nitrogen-containing
図１に示す積層膜付き透明基板１０Ａにおいては、透明基板１１側から順に、透明導電層１３および窒素含有光吸収層１４が形成されている。なお、得られる積層膜付き透明基板１０Ａとして、適度な可視光透過率を有するとともに、高遮熱性および高演色性を達成できるのであれば、透明基板１１側から窒素含有光吸収層１４、透明導電層１３の順で形成されてもよい。
In the laminated film-including
窒素含有光吸収層１４が有する光吸収性としては、可視光領域から赤外領域にかけて広範囲に適度な量の光を吸収する性質が好ましい。窒素含有光吸収層１４がこのような光吸収性を有することで、得られる積層膜付き透明基板１０Ａは、適度な可視光透過率を有するとともに、高遮熱性および高演色性を達成できる。
The light absorbing property of the nitrogen-containing
積層膜付き透明基板１０Ａにおいては、透明導電層１３と窒素含有光吸収層１４は互いに接するように設けられている。このような構成とすれば、例えば、上記熱処理を伴う製造方法により積層膜付き透明基板１０Ａを製造する際の熱処理時に、窒素含有光吸収層１４と透明導電層１３で酸素の受け渡しが発生し、透明導電層１３の酸化度を適度に調整する役割を果たすことができる。すなわち、製造の過程において、熱処理時に透明導電層１３の前駆層に過剰に酸素が含まれていても、窒素含有光吸収層１４の前駆層に酸素を受け渡すことで、酸化度がより好ましい程度に調整されて、最終的に抵抗が低い透明導電層１３が得られると考えられる。
In the laminated film-attached
なお、この場合、窒素含有光吸収層１４を構成する窒素含有光吸収性金属化合物は、その前駆層を構成する成分が上記熱処理時に酸化されて得られる成分である。ここで、窒素含有光吸収層１４が透明導電層１３と接しておらず、酸素の受け渡しを遮る能力を持つ層（以下酸素バリア層）が存在する場合には、上記熱処理後の窒素含有光吸収層１４を構成する窒素含有光吸収性金属化合物の酸化度は、透明導電層１３と接している場合に比べて低い。
In this case, the nitrogen-containing light-absorbing metal compound constituting the nitrogen-containing
窒素含有光吸収層１４を主として構成する窒素含有光吸収性金属化合物として、具体的には、窒化ジルコニウム、窒化クロム、窒化チタン、窒化ニオブ、窒化ハフニウム、酸窒化ジルコニウム、酸窒化クロム、酸窒化チタン、酸窒化ニオブ、および酸窒化ハフニウム等が挙げられる。窒素含有光吸収性金属化合物としては、上に例示した金属窒化物が好ましい。窒素含有光吸収性金属化合物が、上に例示した金属の酸窒化物である場合、該化合物中の窒素１モルに対する酸素の割合は０．５モル以下が好ましく、０．２モル以下がより好ましい。上記窒素含有光吸収性金属化合物は１種を単独で用いて、または２種以上を併用して、窒素含有光吸収層１４を形成してもよい。
Specific examples of the nitrogen-containing light-absorbing metal compound mainly constituting the nitrogen-containing light-absorbing
窒素含有光吸収層１４は窒化チタンを主体とする窒素含有光吸収性金属化合物からなることが好ましく、窒化チタンまたは酸窒化チタンのみからなるものが好ましい。なお、窒化チタンは必ずしも化学量論的な組成比の窒化チタン（Ｔｉ：Ｎ＝１：１）からなる必要はなく、例えば、組成比がこれからずれた所謂非化学量論的な組成比の窒化チタンからなるものでもよい。上記した他の金属の窒化物についても同様である。また、本明細書において、窒化＋金属名、酸化＋金属名で表記される金属の窒化物や酸化物は、特に断りのない限り化学量論的な組成比または非化学量論的な組成比の窒化物や酸化物を示す。必要に応じて、例えば、窒化チタンであればＴｉＮｘのように記載することもある。
The nitrogen-containing
また、例えば、窒素含有光吸収層１４の前駆層を窒化チタンで構成し、これを上記のように熱処理した場合は、前駆層の窒化チタンは酸化され酸窒化チタンとなる。すなわち、このようにして得られる窒素含有光吸収層１４は酸窒化チタンからなり、この場合、上記同様に窒素１モルに対する酸素の割合は０．５モル以下が好ましく、０．２モル以下がより好ましい。
Further, for example, when the precursor layer of the nitrogen-containing
窒素含有光吸収層１４の厚さは、得られる積層膜付き透明基板１０Ａが適度な可視光透過率を有するとともに、高遮熱性および高演色性を達成できる厚さであれば特に制限されない。そのために、窒素含有光吸収層１４の厚さは、１０ｎｍ超であり、２０〜６０ｎｍが好ましく、２５〜５０ｎｍがより好ましい。なお、上記好ましい範囲は、図１に示す積層膜付き透明基板１０Ａのように、透明基板１１側から順に、透明導電層１３および窒素含有光吸収層１４が形成されている場合である。上に示した透明導電層１３の厚さも該積層順における好ましい厚さである。
The thickness of the nitrogen-containing
透明導電層１３および窒素含有光吸収層１４が透明基板１１側から窒素含有光吸収層１４、透明導電層１３の順で形成されている場合は、窒素含有光吸収層１４の厚さは、１０ｎｍ超であり、２０〜６０ｎｍが好ましく、２５〜５０ｎｍがより好ましい。また、この場合、透明導電層１３の厚さは、１０〜２００ｎｍが好ましく、５０〜１５０ｎｍがより好ましい。
When the transparent
図２は、図１に示す積層膜付き透明基板１０Ａにおいて透明基板１１上に積層膜１２Ａの代わりに積層膜１２Ｂが成膜された構成の積層膜付き透明基板１０Ｂの断面図を示す。積層膜１２Ｂは、透明基板１１側から順に、透明導電層１３、窒素含有光吸収層１４および誘電体層１５が成膜されて構成されている。積層膜１２Ｂは、誘電体層１５以外は、積層膜１２Ａと同様とできる。
FIG. 2 is a cross-sectional view of the laminated film-attached transparent substrate 10B having a configuration in which the
誘電体層１５は、積層膜１２Ｂの機械的耐久性、化学的耐久性を向上させ、窒素含有光吸収層１４が雰囲気中の酸素によって酸化されることを抑制する機能を有する。誘電体層１５としては、上記機能を有するものであれば特に制限されないが、例えば、アルミニウム、ホウ素等がドープされていてもよい窒化ケイ素、窒化アルミニウム等の金属窒化物、アルミニウム、ホウ素等がドープされていてもよい酸窒化ケイ素、酸窒化アルミニウム等の金属酸窒化物、スズ亜鉛酸化物等の金属酸化物等から選ばれる金属化合物を含む誘電体で構成できる。
The
窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、アルミニウムおよび／またはホウ素がドープされた窒化ケイ素または酸窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸窒化アルミニウム、スズ亜鉛酸化物から選ばれる少なくとも１種を主体とする誘電体層１５が好ましい。上記誘電体である金属化合物は１種を単独で用いて、または２種以上を併用して、誘電体層１５を形成してもよい。
Preferably, the
なお、上記窒化チタン同様、窒化ケイ素は、必ずしも化学量論的な組成比の窒化ケイ素（Ｓｉ：Ｎ＝３：４）からなる必要はなく、例えば組成比がこれからずれた非化学量論的な組成比の窒化ケイ素からなるものでもよい。窒化アルミニウムも同様である。 Similar to the above titanium nitride, silicon nitride does not necessarily have to be composed of silicon nitride having a stoichiometric composition ratio (Si: N = 3: 4), for example, non-stoichiometric composition ratio is deviated from this It may be made of silicon nitride having a composition ratio. The same applies to aluminum nitride.
誘電体層１５は、アルミニウムおよび／またはホウ素がドープされた窒化ケイ素を主体とする材料で構成されることが特に好ましい。アルミニウムやホウ素は、通常、窒化ケイ素のスパッタリングを容易にするためにスパッタリングターゲットに添加されて用いられる添加元素である。添加元素の含有量は、窒化ケイ素と添加元素との合計量中、１５質量％以下が好ましい。
The
誘電体層１５の厚さは、得られる積層膜付き透明基板１０Ｂが適度な可視光透過率を有するとともに、高遮熱性および高演色性を達成できる厚さであれば特に制限されない。誘電体層１５の厚さは、具体的には、２０〜８０ｎｍが好ましく、３０〜７０ｎｍがより好ましい。
The thickness of the
図２に示す積層膜付き透明基板１０Ｂにおいては、透明基板１１側から順に、透明導電層１３、窒素含有光吸収層１４および誘電体層１５が形成されている。上記積層膜付き透明基板１０Ａと同様、積層膜付き透明基板１０Ｂにおいても、上記積層膜を構成する各層は、適度な可視光透過率を有するとともに、高遮熱性、低断熱性および高演色性を達成できるのであれば、透明基板１１側から窒素含有光吸収層１４、透明導電層１３および誘電体層１５の順で形成されてもよい。
In the laminated film-including transparent substrate 10B shown in FIG. 2, the transparent
積層膜付き透明基板における積層膜が、透明導電層、窒素含有光吸収層および誘電体層を有する場合、積層膜における上記３層の積層順は、透明基板側から順に透明導電層、窒素含有光吸収層および誘電体層とすることが好ましい。このような積層膜とすることで、透明基板側の反射光の色調を透明導電層の膜厚により調整でき、積層膜側の反射光の色調を誘電体層の膜厚により調整できるという利点を有する。 When the laminated film in the laminated film-attached transparent substrate has a transparent conductive layer, a nitrogen-containing light absorption layer, and a dielectric layer, the lamination order of the three layers in the laminated film is, in order from the transparent substrate side, the transparent conductive layer, nitrogen-containing light It is preferable to use an absorption layer and a dielectric layer. With such a laminated film, the color tone of the reflected light on the transparent substrate side can be adjusted by the film thickness of the transparent conductive layer, and the color tone of the reflected light on the laminated film side can be adjusted by the film thickness of the dielectric layer. Have.
なお、誘電体層１５の厚さは、積層膜１２Ｂが、透明基板１１側から、透明導電層１３、窒素含有光吸収層１４および誘電体層１５の順で形成される場合と、透明基板１１側から、窒素含有光吸収層１４、透明導電層１３、および誘電体層１５の順で形成される場合とで違いはない。
The thickness of the
積層膜付き透明基板１０Ｂの誘電体層１５については、上記積層膜付き透明基板１０Ａと同様に熱処理を伴う製造方法により積層膜付き透明基板１０Ｂを製造する場合、誘電体層１５の前駆層と熱処理後の誘電体層１５はほぼ同様の組成であるが、熱処理時に雰囲気中や透明基板中に含まれる酸素により適度に酸化される。
With regard to the
積層膜付き透明基板１０Ｂにおいて、積層膜が、透明基板１１側から窒素含有光吸収層１４、透明導電層１３および誘電体層１５の順で形成されている場合、透明導電層１３と誘電体層１５は互いに接する構成になる。このような構成とすれば、例えば、上記熱処理を伴う製造方法により積層膜付き透明基板１０Ｂを製造する際の熱処理の雰囲気が大気であるように酸素を含む場合、熱処理時に、窒素含有光吸収層１４および誘電体層１５が、透明導電層１３が過度に酸化されるのを防止または抑制する役割を果たすことができる。すなわち、製造の過程において、熱処理時に透明導電層１３の前駆層は、大気中の酸素や透明基板１０Ｂに含まれる酸素によって酸化されるが、窒素含有光吸収層１４および誘電体層１５が適度に酸素を遮断することで、酸化度がより好ましい程度に調整されて、最終的に抵抗が低い透明導電層１３が得られると考えられる。
In the laminated film-attached transparent substrate 10B, when the laminated film is formed in the order of the nitrogen-containing
なお、この場合、上記のとおり窒素含有光吸収層１４を構成する窒素含有光吸収性金属化合物は、その前駆層を構成する成分が上記熱処理時に酸化されて得られる成分である。誘電体層１５を構成する誘電体である金属化合物は、その前駆層を構成する成分が上記熱処理時に酸化されて得られる成分である。
In this case, as described above, the nitrogen-containing light-absorbing metal compound constituting the nitrogen-containing
なお、図示しないが、積層膜１２Ａや積層膜１２Ｂには、上記した各層に加えて、必要に応じて、かつ本発明の趣旨に反しない限度において、他の層を成膜してもよい。例えば、透明基板１１と透明導電層１３との間、透明導電層１３と窒素含有光吸収層１４との間、窒素含有光吸収層１４と誘電体層１５との間に、バリア層等として機能する金属層、酸化物層、窒化物層、炭化物層、またはこれらの複合化合物層を設けてもよい。具体的には、チタン、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、クロム、亜鉛、アルミニウム、ガリウム、インジウム、ケイ素、またはスズ等の元素を含有する金属層、酸化物層、窒化物層、炭化物層、または複合化合物層が挙げられる。
Although not shown, in addition to the above-described layers, other layers may be formed on the
本発明の積層膜付き透明基板は、上記構成を有することで、適度な可視光透過率を有するとともに、高遮熱性および高演色性を達成でき、さらに耐久性に優れる。本発明の積層膜付き透明基板は、このような特性を有することで、例えば、図３に示すように、単板で窓ガラスとして使用できる。図３は、本発明の積層膜付き透明基板の一例を単板で窓ガラスとして使用した際の断面図を示す。図３に示す窓ガラス３０は、透明基板１１と透明基板１１上に成膜された積層膜１２を有する積層膜付き透明基板１０からなり、積層膜１２が室内側の大気に露出した状態で使用される。
本発明の積層膜付き透明基板は、具体的には、以下の特性を満足することが好ましい。
The laminated film-attached transparent substrate of the present invention, having the above-mentioned configuration, has an appropriate visible light transmittance, can achieve high heat shielding properties and high color rendering properties, and is further excellent in durability. The laminated film-attached transparent substrate of the present invention can be used as a window glass with a single plate, for example, as shown in FIG. 3 by having such characteristics. FIG. 3 shows a cross-sectional view of an example of the transparent substrate with a laminated film of the present invention when it is used as a window glass with a single plate. The window glass 30 shown in FIG. 3 is composed of a transparent substrate 10 with a laminated film having a
Specifically, the laminated film-attached transparent substrate of the present invention preferably satisfies the following characteristics.
本発明の積層膜付き透明基板においては、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、Ｔｏｔａｌ ｓｏｌａｒ ｅｎｅｒｇｙ ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ（ｇ値）は、０．４４以下が好ましく、０．４０以下がより好ましく、０．３４以下が特に好ましい。ここで、図３のようにして積層膜付き透明基板を使用する場合、ｇ値は、積層膜付き透明基板の透明基板側から入射した日射熱を１としたときの積層膜側に放出される日射熱の割合を示す値である。ｇ値により、遮熱性、すなわち太陽光によって生じる熱（日射熱）をどの程度遮断するかを知ることができる。 In the laminated film-attached transparent substrate of the present invention, Total solar energy transmittance (g value) measured in accordance with ISO 9050: 2003 is preferably 0.44 or less, more preferably 0.40 or less, 0.34 The following are particularly preferred. Here, when using a transparent substrate with a laminated film as shown in FIG. 3, the g value is released to the laminated film side when the solar radiation heat incident from the transparent substrate side of the laminated substrate with a light is 1 It is a value indicating the rate of solar radiation heat. From the g value, it is possible to know the heat shielding property, that is, how much the heat generated by sunlight (solar heat) is cut off.
本発明の積層膜付き透明基板においては、ｇ値は、透明基板側から入射した日射熱量に対する、直接透過する熱（以下「透過熱」ともいう。）と、吸収されてその後積層膜側へ放出される熱（以下、「輻射熱」ともいう。）との合計の熱量の割合である。ｇ値は、０から１の間の数で表される。なお、ｇ値は、具体的には積層膜付き透明基板における分光特性を測定し、所定の計算式に導入することで算出できる。ｇ値が小さいほど、積層膜付き透明基板において透明基板側から入射した日射熱量に対する、透過熱および輻射熱の合計の熱量の割合が少なくなる。 In the laminated film-attached transparent substrate of the present invention, the g value is absorbed by heat directly transmitted (hereinafter also referred to as “transmitted heat”) with respect to the amount of solar radiation incident from the transparent substrate side, and then released to the laminated film side. It is the ratio of the total amount of heat with the heat to be produced (hereinafter, also referred to as “radiation heat”). The g value is represented by a number between 0 and 1. The g value can be calculated by specifically measuring the spectral characteristics of the laminated film-attached transparent substrate and introducing it into a predetermined calculation formula. The smaller the g value, the smaller the ratio of the total amount of heat of transmitted heat and radiant heat to the amount of solar heat incident from the transparent substrate side in the laminated film-attached transparent substrate.
本発明の積層膜付き透明基板においては、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、可視光透過率（Ｔｖ）は３５％以上であることが好ましい。可視光透過率（Ｔｖ）は、昼間の日射が強い東南アジア等の低緯度から中緯度の地域における窓ガラスに求められる防眩性の観点から６５％以下が好ましい。可視光透過率（Ｔｖ）は、４０〜６０％が特に好ましい。 In the laminated film-attached transparent substrate of the present invention, the visible light transmittance (Tv) measured according to ISO 9050: 2003 is preferably 35% or more. The visible light transmittance (Tv) is preferably 65% or less from the viewpoint of the antiglare property required for window glass in a low latitude to mid latitude region such as Southeast Asia where daytime solar radiation is strong. The visible light transmittance (Tv) is particularly preferably 40 to 60%.
建物の窓の設計については、建物側面の全面積における窓の面積の割合が大きい方が、太陽光から建物内部により多くの可視光を取り込むことが可能であるが、同時に取り込まれる日射熱量も多くなる。一般的な大型建築物においては、ＷＷＲ（Window to Wall Ratio）と呼称される建物側面の全面積における窓の面積の割合が、０．４以上の建物が多く、０．７を超える建物も多く存在する。 With regard to the design of the windows of a building, it is possible to capture more visible light from sunlight into the interior of the building if the ratio of the area of the window over the entire area of the building side is large, but also the amount of heat of solar radiation taken up simultaneously Become. In general large-scale buildings, the ratio of the area of the windows in the entire area of the side of the building called WWR (Window to Wall Ratio) is more than 0.4 and more than 0.7. Exists.
ここで、低緯度から中緯度の暑熱地域において、建物側面から外部の熱が窓や壁を通して建物内部に伝わる熱量と、日射熱として窓から入り込む熱量の合計量を建物側面の全面積（壁と窓の合計面積）で除した値としてＯＴＴＶ（Overall Thermal Transfer Value）が知られている。近年、建物の省エネルギー性能を上げる要求が高まってきており、ＯＴＴＶを５０Ｗ／ｍ２以下とすることが一つの目安となりつつある。一般的に壁に比べて窓は熱の流入出が多いため、ＯＴＴＶが５０Ｗ／ｍ２を満たすためには壁の割合を増やし、ＷＷＲを低くせざるをえなかった。つまり窓からの熱流入出をへらすことができれば、ＯＴＴＶが５０Ｗ／ｍ２以下を満たしながらＷＷＲを大きくすることができる。 Here, in the low-latitude to mid-latitude heat areas, the total amount of heat generated from outside the building from the side of the building to the interior of the building through the windows and walls and the amount of heat entering from the window as solar heat The OTTV (Overall Thermal Transfer Value) is known as a value divided by the total area of the windows. In recent years, the demand for improving the energy saving performance of buildings has been increasing, and setting OTTV to 50 W / m 2 or less is becoming a standard. Generally, windows have more heat inflow and outflow than walls, so in order to satisfy 50 W / m 2 of OTTV, it is necessary to increase the ratio of walls and lower WWR. That is, if the heat inflow and outflow from the window can be reduced, the WWR can be increased while the OTTV satisfies 50 W / m 2 or less.
図３のようにして積層膜付き透明基板を使用する場合、窓ガラス３０を構成する積層膜付き透明基板１０におけるｇ値が上記の好ましい範囲にあることで、例えば、ＯＴＴＶを５０Ｗ／ｍ２以下とすることができるＷＷＲの範囲を０．３程度まで広くすることが可能となる。また、ｇ値が０．４以下であればＷＷＲを０．３５程度まで広くすることが可能となり、ｇ値が０．３４以下であればＷＷＲを０．４程度まで広げることが可能となる。 When a laminated film-attached transparent substrate is used as shown in FIG. 3, the g value of the laminated film-attached transparent substrate 10 constituting the window glass 30 is in the above preferable range, for example, 50 W / m 2 or less for OTTV. It becomes possible to widen the range of WWR which can be made to about 0.3. If the g value is 0.4 or less, WWR can be broadened to about 0.35, and if the g value is 0.34 or less, WWR can be broadened to about 0.4.
なお、上記の例示においては、窓からの採光性を高めることを目的として、ＷＷＲを０．３以上としている。ＷＷＲが概ね０．３以上の建物であれば、可視光透過率（Ｔｖ）を上記の範囲とすることで、建物内への採光を十分とすることができる。採光性の観点からはＷＷＲが高い方が好ましい。 In the above example, the WWR is set to 0.3 or more for the purpose of enhancing the light collecting property from the window. If the WWR is a building of about 0.3 or more, by setting the visible light transmittance (Tv) in the above range, it is possible to make sufficient light collection into the building. From the viewpoint of daylighting performance, it is preferable that the WWR be high.
また、上記ｇ値および可視光透過率（Ｔｖ）を用いて、Ｔｖ／（ｇ値×１００）の式で算出される選択係数により、可視光透過率（Ｔｖ）とｇ値の良好なバランス関係を見積もることができる。適度な可視光透過性かつ高遮蔽性を実現できる観点から、本発明の積層膜付き透明基板において、選択係数は１．１以上が好ましく、より好ましくは、１．２以上である。 In addition, a good balance relation between the visible light transmittance (Tv) and the g value is obtained by the selection coefficient calculated by the equation of Tv / (g value × 100) using the g value and the visible light transmittance (Tv). Can be estimated. From the viewpoint of realizing appropriate visible light transmittance and high shielding properties, in the laminated film-attached transparent substrate of the present invention, the selection coefficient is preferably 1.1 or more, and more preferably 1.2 or more.
さらに、本発明の積層膜付き透明基板においては、ＪＩＳ Ｚ８７２６（１９９０）に準拠してＤ６５光源を使用し平均演色性評価数（Ｒａ）により評価される透過光の演色性が９０％以上であることが好ましい。このようにして評価される演色性が９０％以上であることで、図３のようにして積層膜付き透明基板を使用する場合、建物の外側から窓ガラス３０を見た際の外観が自然な中間色となる。演色性は９２％以上が好ましく、９４％以上がより好ましい。なお、本明細書において、特に断りのない限り「演色性」は、上記方法で測定された演色性をいう。 Furthermore, in the laminated film-attached transparent substrate of the present invention, the color rendering of the transmitted light evaluated by the average color rendering index (Ra) using a D65 light source according to JIS Z8726 (1990) is 90% or more Is preferred. The color rendering property evaluated in this way is 90% or more, so when using a transparent substrate with a laminated film as shown in FIG. 3, the appearance when the window glass 30 is viewed from the outside of the building is natural It becomes a neutral color. 92% or more is preferable and 94% or more of color rendering property is more preferable. In the present specification, “color rendering property” refers to the color rendering property measured by the above-mentioned method unless otherwise noted.
本発明の積層膜付き透明基板においては、耐久性、特に化学的耐久性の観点から、ＩＳＯ１２８７０に準拠した３日間の耐汗試験後に上記積層膜表面を顕微鏡（５０倍）で観察して計測される、１ｍｍ×１ｍｍの範囲における欠点数（以下、単に「耐汗試験による欠点数」という。）が５０以下であることが好ましい。 From the viewpoint of durability, particularly chemical durability, the transparent substrate with laminated film of the present invention is measured by observing the surface of the laminated film with a microscope (50 ×) after a 3-day sweat resistance test in accordance with ISO 12870. The number of defects in the range of 1 mm × 1 mm (hereinafter simply referred to as “the number of defects in the perspiration test”) is preferably 50 or less.
耐汗試験は、具体的には、乳酸５０ｇ／Ｌ、および塩化ナトリウム１００ｇ／Ｌを含有する人工汗液を密閉容器中に注入するとともに、この密閉容器中に人工汗液から離して積層膜付き透明基板を配置し、密閉状態にして５５±５℃で３日間保持した後の、積層膜表面を顕微鏡で観察することにより行うことができる。 The sweat resistance test specifically injects artificial sweat containing 50 g / L of lactic acid and 100 g / L of sodium chloride into a closed container, and separates from the artificial sweat into the closed container to form a transparent substrate with a laminated film. The sample is placed in a sealed state and kept at 55 ± 5 ° C. for 3 days, and the surface of the laminated film can be observed by a microscope.
なお、顕微鏡（５０倍）で観察される上記耐汗試験後の欠点は、具体的には、変色および剥離である。本明細書において耐汗試験で評価される欠点数は、特に断りのない限りこの２者の個数の合計をいう。なお、これらの判定は目視で行うこととする。上記耐汗試験による欠点数としては５以下であることがより好ましい。 In addition, the fault after the said sweat resistance test observed with a microscope (50 times) is discoloration and exfoliation specifically. The number of defects evaluated in the sweat resistance test in the present specification refers to the total of the numbers of the two unless otherwise noted. In addition, these determinations shall be performed visually. The number of defects in the sweat resistance test is more preferably 5 or less.
本発明の積層膜付き透明基板においては、透明基板側の反射光の色調は、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標において全反射角にわたってａ＊が５以下であることが好ましく、ａ＊は２以下がより好ましい。透明基板側の反射光の色調において全反射角にわたってａ＊が５以下であれば、図３のようにして積層膜付き透明基板を使用する場合、建物の外側から窓ガラス３０を見た際にいずれの角度から見ても反射光の赤味が抑制されるために好ましい。 In the laminated film-attached transparent substrate of the present invention, the color tone of the reflected light on the transparent substrate side is preferably a * of 5 or less over the total reflection angle in CIE 1976 L * a * b * chromaticity coordinates, and a * is 2 The following are more preferable. When a * is 5 or less over the total reflection angle in the color tone of the reflected light on the transparent substrate side, when using a transparent substrate with a laminated film as shown in FIG. 3, when viewing the window glass 30 from the outside of the building It is preferable because the redness of the reflected light is suppressed from any angle.
なお、特に透明基板側の反射色、建物の外観に大きな影響を与えるため、様々な色を設計可能なことが好ましく、具体的には反射角０度の反射光の色調において、緑色調であれば−２０≦ａ＊≦−５かつ−５≦ｂ＊≦２の範囲、青色調であれば−７≦ａ＊≦２−２５≦ｂ＊≦−７の範囲、無彩色であれば−４≦ａ＊≦２かつ−４≦ｂ＊≦２の範囲が好ましい。なお、反射角０度の反射光とは積層膜面に対して直交する向きの反射光をいう。ここで反射角０度の反射色調を記載したが、現実には０度の反射を測定することはできないので、０度とほとんど色が変わらない５〜１５度の反射角度にて反射光測定を行うのが一般的である。以下でも、便宜的に反射角０度と記載するが、反射角５〜１５度のいずれの角度を用いても違いは生じない。 In particular, it is preferable to be able to design various colors, in particular, to have a great influence on the appearance of the building as well as the reflection color on the side of the transparent substrate. For example, in the range of −20 ≦ a * ≦ −5 and −5 ≦ b * ≦ 2, in the case of blue tone, in the range of −7 ≦ a * ≦ 2-25 ≦ b * ≦ −7, in the case of achromatic color The range of ≦ a * ≦ 2 and −4 ≦ b * ≦ 2 is preferable. The reflected light at a reflection angle of 0 degrees refers to reflected light in the direction orthogonal to the laminated film surface. Although the reflection color tone at a reflection angle of 0 degrees is described here, it is impossible to measure the reflection at 0 degrees in reality, so the reflection light measurement is performed at a reflection angle of 5 to 15 degrees where the color hardly changes at 0 degrees. It is common to do. Also in the following, although a reflection angle of 0 degree is described for convenience, no difference occurs even if any reflection angle of 5 to 15 degrees is used.
また、本発明の積層膜付き透明基板においては、積層膜側の反射角０度の反射光の色調は、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標においてａ＊が５以下であることが好ましく、ａ＊は２以下がより好ましい。積層膜側の反射角０度の反射光の色調においてａ＊が５以下であれば、図３のようにして積層膜付き透明基板を使用する場合、室内側から窓ガラス３０を見た際に反射光の赤味が抑制されるために好ましい。また、上記においてａ＊は０以上が好ましい。さらに、黄色味を抑制するためには、上記においてｂ＊は０以下が好ましく、−３５≦ｂ＊≦０がより好ましく、−３５≦ｂ＊≦−１０がさらに好ましい。 In the laminated film-attached transparent substrate of the present invention, the color tone of the reflected light at a reflection angle of 0 degree on the laminated film side is preferably a * of 5 or less in CIE 1976 L * a * b * chromaticity coordinates, a * Is preferably 2 or less. When a * is 5 or less in the color tone of the reflected light at a reflection angle of 0 degrees on the laminated film side, when using a transparent substrate with a laminated film as shown in FIG. It is preferable because the redness of reflected light is suppressed. In the above, a * is preferably 0 or more. Furthermore, in order to suppress yellowishness, in the above, b * is preferably 0 or less, more preferably −35 ≦ b * ≦ 0, and still more preferably −35 ≦ b * ≦ -10.
さらに、本発明の積層膜付き透明基板においては、透明基板側の可視光反射率（Ｒｖ１）は２０％以下が好ましく、積層膜側の可視光反射率（Ｒｖ２）は１５％以下が好ましい。なお、可視光反射率（Ｒｖ）は、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定されるものである。 Furthermore, in the transparent substrate with laminated film of the present invention, the visible light reflectance (Rv 1 ) on the transparent substrate side is preferably 20% or less, and the visible light reflectance (Rv 2 ) on the laminated film side is preferably 15% or less . The visible light reflectance (Rv) is measured in accordance with ISO 9050: 2003.
本発明の積層膜付き透明基板は、上記構成の積層膜が透明基板上に成膜されていれば製造方法は特に限定されない。本発明の積層膜付き透明基板は、例えば、上記透明基板上に、以下の熱処理によってそれぞれ上記透明導電層および上記窒素含有光吸収層となる、上記透明導電層の前駆層および上記窒素含有光吸収層の前駆層を形成してコーティング付き透明基板を得るコーティング工程と、前記コーティング付き透明基板を、５５０〜７５０℃の大気中で１〜３０分間熱処理する、または、１５０〜４５０℃の大気中で１５分間〜４時間熱処理する熱処理工程とを具備する方法により製造できる。 The manufacturing method of the transparent substrate with a laminated film of the present invention is not particularly limited as long as the laminated film having the above-described structure is formed on the transparent substrate. The laminated film-attached transparent substrate of the present invention is, for example, a precursor layer of the transparent conductive layer and the nitrogen-containing light absorption that becomes the transparent conductive layer and the nitrogen-containing light absorbing layer respectively by the following heat treatment on the transparent substrate. Forming a precursor layer of the layer to obtain a coated transparent substrate, and heat treating the coated transparent substrate in the atmosphere at 550 to 750 ° C. for 1 to 30 minutes, or in the atmosphere at 150 to 450 ° C. It can manufacture by the method of comprising the heat treatment process heat-treated for 15 minutes-4 hours.
積層膜付き透明基板の、積層膜が誘電体層を有する場合は、上記コーティング工程において、上記熱処理によって上記誘電体層となる上記誘電体層の前駆層を上記２つの前駆層とともに形成する。積層膜付き透明基板が他の層を有する場合もこれと同様にできる。 In the case where the laminated film of the laminated film-attached transparent substrate has a dielectric layer, in the coating step, a precursor layer of the dielectric layer to be the dielectric layer by the heat treatment is formed together with the two precursor layers. The same can be applied to the case where the laminated film-coated transparent substrate has other layers.
上記方法で積層膜付き透明基板を製造する場合、まず、コーティング工程において、透明基板の表面を清浄化処理した後、この表面に各層の前駆層を成膜する。成膜方法は、特に限定されず、物理的蒸着法（真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法）、化学的蒸着法（熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法）、イオンビームスパッタリング法等を適用できる。透明基板の面積が大きい場合、厚さの均一性が制御しやすく、生産性に優れることから、直流または交流デュアルスパッタリング法が好ましい。 In the case of producing the laminated film-attached transparent substrate by the above method, first, in the coating step, the surface of the transparent substrate is subjected to cleaning treatment, and then the precursor layer of each layer is formed on this surface. The film forming method is not particularly limited, and physical vapor deposition (vacuum vapor deposition, ion plating, sputtering), chemical vapor deposition (thermal CVD, plasma CVD, photo CVD), ion beam sputtering Etc. can be applied. When the area of the transparent substrate is large, the uniformity of thickness can be easily controlled, and the direct current or alternating current dual sputtering method is preferable because it is excellent in productivity.
例えば、スパッタリング法によって透明導電層の前駆層を形成する場合、透明導電性金属酸化物のターゲットを用い、通常の処理条件で透明導電層の前駆層を形成することができる。スパッタガス種、反応温度、反応時間を調整することで厚さを調整することができる。同様にして、窒素含有光吸収層の前駆層と誘電体層の前駆層を形成する。各前駆層の積層順は上記得られる積層膜の積層順と同様にできる。 For example, when forming the precursor layer of a transparent conductive layer by sputtering method, the precursor layer of a transparent conductive layer can be formed on a normal processing condition using a target of a transparent conductive metal oxide. The thickness can be adjusted by adjusting the sputtering gas species, the reaction temperature, and the reaction time. Similarly, the precursor layer of the nitrogen-containing light absorption layer and the precursor layer of the dielectric layer are formed. The stacking order of the precursor layers can be the same as the stacking order of the obtained stacked film.
なお、以下の熱処理工程における雰囲気により、上記各層の前駆層の形成に用いるターゲット等の材料の組成を適宜調整する。熱処理工程で酸化性ガスを含まない不活性ガス雰囲気や真空雰囲気などに制御された雰囲気が設定可能な場合には、得られる透明導電層、窒素含有光吸収層、誘電体層を構成する材料の組成は、前駆層の構成材料の組成と同様である。熱処理工程における雰囲気が大気等の酸化性ガスを含む場合には、熱処理時の材料の酸化等を考慮して、最終的に得られる透明導電層、窒素含有光吸収層、誘電体層等の材料組成が所定の組成となるように前駆層の材料組成を選択する。 The composition of the material such as the target used for forming the precursor layer of each of the above layers is appropriately adjusted by the atmosphere in the heat treatment step described below. When it is possible to set an atmosphere controlled to an inert gas atmosphere containing no oxidizing gas or a vacuum atmosphere in the heat treatment step, it is possible to use the materials constituting the transparent conductive layer, the nitrogen-containing light absorption layer, and the dielectric layer obtained. The composition is similar to the composition of the constituent material of the precursor layer. When the atmosphere in the heat treatment step contains an oxidizing gas such as air, materials such as a transparent conductive layer, a nitrogen-containing light absorption layer, a dielectric layer and the like which are finally obtained in consideration of the oxidation of the material at the time of heat treatment. The material composition of the precursor layer is selected so that the composition will be a predetermined composition.
次いで、上記コーティング付き透明基板を熱処理する。熱処理温度は５５０〜７５０℃が好ましく、６００〜７５０℃がより好ましく、６００〜７２０℃が特に好ましい。熱処理がこのような温度の場合、透明基板としてはガラス基板が用いられ、積層膜付き透明基板として、十分な信頼性を持って強化されたものが得られるという効果を奏する。 Next, the coated transparent substrate is heat treated. 550-750 degreeC is preferable, as for the heat processing temperature, 600-750 degreeC is more preferable, and 600-720 degreeC is especially preferable. When the heat treatment is at such a temperature, a glass substrate is used as the transparent substrate, and there is an effect that a transparent substrate with a laminated film can be obtained which is reinforced with sufficient reliability.
上記熱処理温度はまた１５０〜４５０℃であってもよい。この場合、２００〜４００℃がより好ましく、２５０〜３５０℃が特に好ましい。熱処理がこのような温度の場合、透明基板としては樹脂基板を用いることも可能である。また、透明基板がガラス基板の場合、強化はできないが、低温処理なので安価な装置を用いることができるという効果を奏する。 The heat treatment temperature may also be 150 to 450 ° C. In this case, 200 to 400 ° C. is more preferable, and 250 to 350 ° C. is particularly preferable. When the heat treatment is at such a temperature, it is also possible to use a resin substrate as the transparent substrate. Moreover, when a transparent substrate is a glass substrate, although it can not strengthen, it is effective in the ability to use an inexpensive apparatus because it is low-temperature processing.
熱処理時間は、熱処理温度が５５０〜７５０℃の場合には、１〜３０分間が好ましい。熱処理温度が１５０〜４５０℃の場合には、熱処理時間は、１５分間〜４時間が好ましい。熱処理方法は雰囲気に合わせて調整された上記前駆層により、例えば、気密な構造の加熱炉を用いて、酸化性ガスを含まない不活性ガス雰囲気や真空雰囲気などに制御された雰囲気下で熱処理を行う方法または、大気中に設置した加熱炉で上記コーティング付き透明基板を加熱する方法を選択する。大気中に設置した加熱炉、すなわち簡単な構造の加熱炉を用いた熱処理は経済性の点および作業性の点で有利である。 The heat treatment time is preferably 1 to 30 minutes when the heat treatment temperature is 550 to 750 ° C. When the heat treatment temperature is 150 to 450 ° C., the heat treatment time is preferably 15 minutes to 4 hours. The heat treatment method uses the precursor layer adjusted according to the atmosphere, for example, using a heating furnace having an airtight structure, under an atmosphere controlled to an inert gas atmosphere containing no oxidizing gas, a vacuum atmosphere, or the like. The method to perform or the method to heat the said transparent substrate with a coating by the heating furnace installed in air | atmosphere is selected. Heat treatment using a furnace installed in the atmosphere, that is, a furnace having a simple structure is advantageous in terms of economy and workability.
以上、本発明の実施形態について説明したが、これらの実施形態は例として提示したものであり、発明の範囲を限定しない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。例えば、積層膜付き透明基板は、建築物用に好適であるが、必ずしも建築物用に限られず、適用可能な限度において自動車等の車両用に用いることもできる。 As mentioned above, although embodiment of this invention was described, these embodiment is shown as an example and does not limit the range of invention. These novel embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, substitutions, and modifications can be made without departing from the scope of the invention. For example, although the laminated film-attached transparent substrate is suitable for a building, it is not necessarily limited to a building, and may be used for a vehicle such as an automobile at an applicable limit.
以下、実施例および比較例によって、本発明をより具体的に説明する。なお、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be more specifically described by examples and comparative examples. The present invention is not limited to these.
（実施例１）
透明基板として、厚さが６．０ｍｍのソーダライムガラス（旭硝子株式会社製、ＦＬ６）を用意し、このガラス基板を洗浄後、基板ホルダーにセットした。
Example 1
As a transparent substrate, soda lime glass (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., FL6) having a thickness of 6.0 mm was prepared, and the glass substrate was washed and then set in a substrate holder.
Ｉｎ２Ｏ３とＳｎＯ２との総量に対してＳｎＯ２含有量が１０質量％である複合酸化物焼結体ターゲット（以下、「ＩＴＯ複合酸化物焼結体ターゲット」ともいう。）および金属Ｔｉターゲット、１０質量％のアルミニウムを含む珪素ターゲット（以下、ＳｉＡｌターゲットとする）を間欠直流マグネトロンスパッタを行うカソードに取り付けた。なお、間欠周期はＯＮ時間を５μｓ、ＯＦＦ時間を４５μｓとした。 Composite oxide sintered body target (hereinafter, also referred to as “ITO composite oxide sintered body target”) having a SnO 2 content of 10% by mass relative to the total amount of In 2 O 3 and SnO 2 and metal Ti A target, a silicon target containing 10% by mass of aluminum (hereinafter referred to as a SiAl target) was attached to the cathode for performing intermittent DC magnetron sputtering. The intermittent period was 5 μs for ON time and 45 μs for OFF time.
次に、成膜室内を真空に排気した後、間欠直流マグネトロンスパッタ法により、ＩＴＯ複合酸化物焼結体ターゲットを用いて、厚さが９６ｎｍのＩＴＯ層をガラス基板上に形成した。ここでスパッタガスとしてアルゴンのみを用い、スパッタ時の圧力は３ｍＴｏｒｒとした。成膜されたＩＴＯ層の組成はターゲットと同等であった。なお、スパッタガスに少量の酸素を導入した。 Next, after evacuating the film formation chamber to a vacuum, an ITO layer having a thickness of 96 nm was formed on a glass substrate by using an ITO complex oxide sintered body target by intermittent direct current magnetron sputtering. Here, only argon is used as a sputtering gas, and the pressure during sputtering is 3 mTorr. The composition of the deposited ITO layer was equivalent to that of the target. A small amount of oxygen was introduced into the sputtering gas.
次に、間欠直流マグネトロンスパッタ法で、金属Ｔｉターゲットを用いて厚さが３３ｎｍの窒化チタン層（ＴｉＮｘ層）をＩＴＯ層上に形成した。スパッタガスはアルゴンと窒素を用い、アルゴン／窒素の比率は１７／３とした。スパッタ時の圧力は、３ｍＴｏｒｒとした。 Next, a titanium nitride layer (TiN x layer) with a thickness of 33 nm was formed on the ITO layer by intermittent DC magnetron sputtering using a metal Ti target. The sputtering gas was argon and nitrogen, and the argon / nitrogen ratio was 17/3. The pressure during sputtering was 3 mTorr.
次に、間欠直流マグネトロンスパッタ法で、ＳｉＡｌターゲットを用いて厚さが５５ｎｍのＡｌドープ窒化ケイ素層（ＳｉＮｘ：Ａｌ層）を形成した。ここでスパッタガスとしてアルゴンと窒素を用い、アルゴン／窒素の比率は９／７とした。スパッタ時の圧力は、３ｍＴｏｒｒとした。このようにして、ガラス基板上に該ガラス基板側から順に透明導電層の前駆層であるＩＴＯ層、窒素含有光吸収層の前駆層であるＴｉＮｘ層および誘電体層の前駆層であるＳｉＮｘ：Ａｌ層が形成されたコーティング付きガラス基板を作製した。 Next, an Al-doped silicon nitride layer (SiN x : Al layer) having a thickness of 55 nm was formed by an intermittent direct current magnetron sputtering method using a SiAl target. Here, argon and nitrogen were used as sputtering gas, and the ratio of argon / nitrogen was set to 9/7. The pressure during sputtering was 3 mTorr. Thus, an ITO layer as a precursor layer of a transparent conductive layer, a TiN x layer as a precursor layer of a nitrogen-containing light absorption layer and a SiN x as a precursor layer of a dielectric layer on a glass substrate sequentially from the glass substrate side : A coated glass substrate on which an Al layer was formed was produced.
なお、いずれの層の成膜時にも、ガラス基板の加熱は行わなかった。得られたコーティング付きガラス基板に風冷強化処理、すなわち、電気焼成炉で、大気中、６５０℃、５分間の熱処理を施し、ガラス基板上に該ガラス基板側から順にＩＴＯからなる透明導電層、ＴｉＮｘが酸化された酸窒化チタンからなる窒素含有光吸収層およびＳｉＮｘ：Ａｌが酸化されたＡｌがドープされた酸窒化ケイ素からなる誘電体層が形成された積層膜付き透明基板Ａを得た。 In addition, the heating of the glass substrate was not performed at the time of film-forming of any layer. The obtained glass substrate with a coating is subjected to air-cooling and tempering treatment, that is, heat treatment is carried out for 5 minutes in the atmosphere at 650 ° C. in an electric baking furnace, and a transparent conductive layer consisting of ITO sequentially from the glass substrate side on the glass substrate A laminated film-coated transparent substrate A was obtained in which a nitrogen-containing light absorbing layer composed of titanium oxynitride oxidized with TiNx and a dielectric layer composed of silicon oxynitride doped with Al oxidized with SiNx: Al were formed.
（実施例２）
実施例１において、コーティング付きガラス基板として、ＩＴＯ層の厚さを７２ｎｍ、窒化チタン層の厚さを４２ｎｍ、Ａｌドープ窒化ケイ素層の厚さを５９ｎｍとしたコーティング付きガラス基板を作製した以外は、実施例１と同様にして積層膜付き透明基板Ｂを得た。
(Example 2)
In Example 1, a coated glass substrate having a thickness of 72 nm for the ITO layer, a thickness of 42 nm for the titanium nitride layer, and a thickness of 59 nm for the Al-doped silicon nitride layer was prepared as the coated glass substrate In the same manner as in Example 1, a transparent substrate B with a laminated film was obtained.
（実施例３）
実施例１において、コーティング付きガラス基板として、ＩＴＯ層の厚さを１３１ｎｍ、窒化チタン層の厚さを３２ｎｍ、Ａｌドープ窒化ケイ素層の厚さを４０ｎｍとしたコーティング付きガラス基板を作製した以外は、実施例１と同様にして積層膜付き透明基板Ｃを得た。
(Example 3)
In Example 1, a coated glass substrate having a thickness of 131 nm as the ITO layer, a thickness of 32 nm as the titanium nitride layer, and a thickness of 40 nm as the Al-doped silicon nitride layer was prepared as the coated glass substrate. In the same manner as in Example 1, a transparent substrate C with a laminated film was obtained.
（比較例１）
実施例１において、コーティング付きガラス基板として、ＩＴＯ層の厚さを９６ｎｍ、窒化チタン層の厚さを５ｎｍ、Ａｌドープ窒化ケイ素層の厚さを５５ｎｍとしたコーティング付きガラス基板を作製した以外は、実施例１と同様にして積層膜付き透明基板Ｄを得た。
(Comparative example 1)
In Example 1, a coated glass substrate having a thickness of 96 nm as the ITO layer, a thickness of 5 nm as the titanium nitride layer, and a thickness of 55 nm as the Al-doped silicon nitride layer was prepared as the coated glass substrate. In the same manner as in Example 1, a transparent substrate D with a laminated film was obtained.
（比較例２）
透明基板として、厚さが６ｍｍの緑色の熱線吸収ガラス（旭硝子株式会社製、表１中において「ＴＧ」と示す）を作製する際に、ガラスを製造するフロートライン上に設置したＣｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ（ＣＶＤ）装置にて、ＳｉＯＣ層（８０ｎｍ）、ＳｂドープＳｎＯ２層（３２０ｎｍ）をその順に成膜し、積層膜付き透明基板Ｅを得た。
(Comparative example 2)
When producing a green heat ray absorption glass (made by Asahi Glass Co., Ltd., shown as "TG" in Table 1) having a thickness of 6 mm as a transparent substrate, Chemical Vapor Deposition (A) installed on a float line for producing glass A SiOC layer (80 nm) and an Sb-doped SnO 2 layer (320 nm) were formed in that order by a CVD apparatus to obtain a transparent substrate E with a laminated film.
（比較例３）
透明基板として、厚さが６．０ｍｍのソーダライムガラス（旭硝子株式会社製、ＦＬ６）を用い、該透明基板上に実施例１と同様のスパッタ装置により、窒化ケイ素層（１０ｎｍ）、窒化クロム層（１０ｎｍ）、窒化ケイ素層（２０ｎｍ）をその順に成膜し、積層膜付き透明基板Ｆを得た。
(Comparative example 3)
As a transparent substrate, soda lime glass (FL6, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) having a thickness of 6.0 mm is used, and a silicon nitride layer (10 nm) and a chromium nitride layer are formed on the transparent substrate by the same sputtering apparatus as in Example 1. (10 nm) and a silicon nitride layer (20 nm) were formed in that order to obtain a transparent film F with a laminated film.
次に、実施例および比較例の積層膜付き透明基板について、以下の評価を行った。結果を積層膜の各層の構成材料および厚さとともに表１に示す。なお、実施例１〜３および比較例１については、積層膜の各層の構成材料は前駆層の構成材料である。 Next, the following evaluation was performed about the laminated substrate with a laminated film of an Example and a comparative example. The results are shown in Table 1 together with the constituent materials and thicknesses of the layers of the laminated film. In Examples 1 to 3 and Comparative Example 1, the constituent material of each layer of the laminated film is the constituent material of the precursor layer.
（光学特性）
日立分光光度計（Ｕ−４１００型）を使用して積層膜付き透明基板の分光測定を行った。ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して、透明基板から光が入射する場合のｇ値、可視光透過率（Ｔｖ）、透明基板側の可視光反射率（Ｒｖ１）、および積層膜側の可視光反射率（Ｒｖ２）を求めた。ＪＩＳ Ｚ８７２６（１９９０）に準拠して平均演色性評価数（Ｒａ）により評価される透過光の演色性を求めた。
(optical properties)
The spectrophotometric measurement of the laminated film-attached transparent substrate was performed using a Hitachi spectrophotometer (U-4100 type). In accordance with ISO 9050: 2003, g value when light is incident from a transparent substrate, visible light transmittance (Tv), visible light reflectance on the transparent substrate side (Rv 1 ), and visible light reflectance on the laminated film side It asked for (Rv 2 ). The color rendering property of the transmitted light evaluated by the average color rendering index (Ra) according to JIS Z8726 (1990) was determined.
また、可視光透過率（Ｔｖ）とｇ値から、選択係数（Ｔｖ／（ｇ値×１００））を算出した。さらに、積層膜付き透明基板の透明基板側の反射光の色調（Ｒｃ１）、および積層膜側の反射光の色調（Ｒｃ２）、具体的には、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標のａ＊およびｂ＊を、反射角１０度で、ＪＩＳ Ｚ ８７２２に準じて測定し、ＪＩＳ Ｚ ８７２９に準じて求めた。ａ＊およびｂ＊は、透明基板側については全反射角にわたって測定した値のうちの最大値を表１に示した。 Further, the selection coefficient (Tv / (g value × 100)) was calculated from the visible light transmittance (Tv) and the g value. Furthermore, the color tone (Rc 1 ) of the reflected light on the transparent substrate side of the transparent film with the laminated film and the color tone (Rc 2 ) of the reflected light on the laminated film side, specifically, CIE 1976 L * a * b * chromaticity coordinates a * and b * were measured according to JIS Z 8722 at a reflection angle of 10 degrees, and determined according to JIS Z 8729. The a * and b * values are shown in Table 1 for the transparent substrate side among the values measured over the total reflection angle.
（耐久性）
［耐汗試験］
ＩＳＯ１２８７０に準じて耐汗試験を行った。すなわち、密閉容器中に人工汗液を注入するとともに、この密閉容器中に人工汗液から離して積層膜付き透明基板を配置した後、密閉状態にして５５±５℃で３日間保持した。なお、人工汗液は、乳酸５０ｇ／Ｌ、および塩化ナトリウム１００ｇ／Ｌを含有する。その後、密閉容器から積層膜付き透明基板を取り出して、積層膜表面を顕微鏡（５０倍）で観察し、１ｍｍ×１ｍｍの範囲における欠点数を目視で計測し、以下の基準で評価した。
(durability)
[Perspiration resistance test]
The sweat resistance test was performed according to ISO12870. That is, artificial sweat was poured into a closed container, and a transparent substrate with a laminated film was placed in the closed container separately from the artificial sweat, and then kept in a sealed state at 55 ± 5 ° C. for 3 days. The artificial sweat contains 50 g / L of lactic acid and 100 g / L of sodium chloride. Thereafter, the laminated film-attached transparent substrate was taken out from the closed vessel, the surface of the laminated film was observed with a microscope (50 ×), the number of defects in the range of 1 mm × 1 mm was visually measured, and evaluated according to the following criteria.
＜評価基準＞
５；欠点数が１０１個以上
４；欠点数が５１〜１００個
３；欠点数が３１〜５０個
２；欠点数が６〜３０個
１；欠点数が０〜５個
<Evaluation criteria>
5; number of defects 101 or more 4; number of defects 51 to 100 3; number of defects 31 to 50 2; number of defects 6 to 30 1; number of defects 0 to 5
［耐薬品性試験］
ＪＩＳ Ｒ ３２２１にしたがい、１Ｎ−ＮａＯＨおよび１Ｎ−ＨＣｌのそれぞれに積層膜付き透明基板を温度２３℃で６時間浸積した後、純水で洗浄する試験を行った。試験前後のヘイズの変化が４％以下の場合を「Ａ」、４％を超えた場合を「Ｃ」とした。
[Chemical resistance test]
According to JIS R 3221, a transparent film-laminated film was immersed in each of 1N NaOH and 1N HCl at a temperature of 23 ° C. for 6 hours, followed by a test of washing with pure water. The case where the change in haze before and after the test is 4% or less is referred to as “A”, and the case where it exceeds 4% is referred to as “C”.
［冷熱サイクル］
積層膜付き透明基板に、−３０℃×５時間〜８０℃×５時間（湿度９５％ＲＨ）の冷熱サイクルを繰り返し９０日間行った。その後、積層膜付き透明基板の外観目視検査を行った。表中、「Ａ」は目視で腐食、膜剥がれ等の劣化が無いこと、「Ｃ」は目視で腐食、膜剥がれ等の劣化が有ることを示す。
Thermal cycle
On the laminated film-attached transparent substrate, cooling and heat cycles of -30 ° C x 5 hours to 80 ° C x 5 hours (humidity 95% RH) were repeated for 90 days. Thereafter, the appearance visual inspection of the laminated film-attached transparent substrate was performed. In the table, "A" indicates that there is no deterioration such as corrosion or film peeling visually, and "C" indicates that there is deterioration such as corrosion or film peeling visually.
［耐候性試験］
積層膜付き透明基板の積層膜面に、スーパーキセノンランプ（１８０Ｗ／ｍ２）、２０００時間照射した。その後、積層膜付き透明基板の外観目視検査を行った。表中、「Ａ」は目視で腐食、膜剥がれ等の劣化が無いこと、「Ｃ」は目視で腐食、膜剥がれ等の劣化が有ることを示す。
[Weatherability test]
The laminated film surface of the transparent substrate with laminated film was irradiated with a super xenon lamp (180 W / m 2 ) for 2000 hours. Thereafter, the appearance visual inspection of the laminated film-attached transparent substrate was performed. In the table, "A" indicates that there is no deterioration such as corrosion or film peeling visually, and "C" indicates that there is deterioration such as corrosion or film peeling visually.
［耐塩水試験］
積層膜付き透明基板の積層膜面に、５％ＮａＣｌをスプレー供給しながら４日間保持した後、３日間で乾燥させる操作を１サイクルとして、４サイクルを繰り返して行った。その後、積層膜付き透明基板にの外観目視検査を行った。表中、「Ａ」は目視で腐食、膜剥がれ等の劣化が無いこと、「Ｃ」は目視で腐食、膜剥がれ等の劣化が有ることを示す。
[Saline resistance test]
After holding for 4 days while spray-feeding 5% NaCl on the laminated film surface of the transparent film with laminated film, an operation of drying for 3 days was repeated as four cycles. Thereafter, the appearance visual inspection was performed on the laminated film-attached transparent substrate. In the table, "A" indicates that there is no deterioration such as corrosion or film peeling visually, and "C" indicates that there is deterioration such as corrosion or film peeling visually.
［テーバー試験］
積層膜付き透明基板の積層膜面に、ＪＩＳ Ｒ ３２２１のグループＢ試験を１００回繰り返した。試験前後のヘイズの変化が４％以下の場合を「Ａ」、４％を超えた場合を「Ｃ」とした。
[Taber test]
The group B test of JIS R 3221 was repeated 100 times on the laminated film surface of the transparent substrate with laminated film. The case where the change in haze before and after the test is 4% or less is referred to as “A”, and the case where it exceeds 4% is referred to as “C”.
１０Ａ，１０Ｂ，１０…積層膜付き透明基板、１１…透明基板、１２Ａ，１２Ｂ，１２…積層膜、１３…透明導電層、１４…窒素含有光吸収層、１５…誘電体層、３０…窓ガラス 10A, 10B, 10: transparent substrate with laminated film, 11: transparent substrate, 12A, 12B, 12: laminated film, 13: transparent conductive layer, 14: nitrogen-containing light absorption layer, 15: dielectric layer, 30: window glass
Claims (7)
前記透明導電層の膜厚は１０〜２００ｎｍであり、前記窒素含有光吸収層の膜厚は１０ｎｍ超かつ６０ｎｍ以下であり、前記誘電体層の膜厚は２０〜８０ｎｍである、積層膜付き透明基板。 A laminated film-coated transparent substrate comprising: a transparent substrate; and a laminated film in which a transparent conductive layer, a nitrogen-containing light absorbing layer and a dielectric layer are laminated in this order from the transparent substrate side on the transparent substrate.
The film thickness of the transparent conductive layer is 10 to 200 nm, the film thickness of the nitrogen-containing light absorption layer is more than 10 nm and 60 nm or less, and the film thickness of the dielectric layer is 20 to 80 nm substrate.
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