JP2019064206A - 液体吐出ヘッド、液体吐出ヘッドの製造方法及び記録方法 - Google Patents
液体吐出ヘッド、液体吐出ヘッドの製造方法及び記録方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019064206A JP2019064206A JP2017193782A JP2017193782A JP2019064206A JP 2019064206 A JP2019064206 A JP 2019064206A JP 2017193782 A JP2017193782 A JP 2017193782A JP 2017193782 A JP2017193782 A JP 2017193782A JP 2019064206 A JP2019064206 A JP 2019064206A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- liquid
- discharge head
- liquid discharge
- head according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 202
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims abstract description 101
- 230000002940 repellent Effects 0.000 claims abstract description 99
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 95
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 90
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 62
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 62
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 51
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 49
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 49
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims description 70
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 51
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 45
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 41
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 38
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 38
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 32
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 19
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 claims description 18
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 12
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 12
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 11
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 10
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 claims description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 22
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 13
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 92
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 40
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 32
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 25
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 23
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 19
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 16
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 16
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 5
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 5
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 5
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910013063 LiBF 4 Inorganic materials 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 5-(2,4-dioxooxolan-3-yl)-7-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C(OC2=O)=O)C2C(C)=CC1C1C(=O)COC1=O FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100033806 Alpha-protein kinase 3 Human genes 0.000 description 2
- 101710082399 Alpha-protein kinase 3 Proteins 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 2
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004843 novolac epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-Bis(4-hydroxyphenyl)ethane Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)C1=CC=C(O)C=C1 HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- PLPPZNIXBOPYKP-UHFFFAOYSA-N FC(C(F)(F)F)(O[Si](OC(C(F)(F)F)(F)F)(OC(C(F)(F)F)(F)F)C(C(F)(F)F)(F)F)C(C(C(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F Chemical compound FC(C(F)(F)F)(O[Si](OC(C(F)(F)F)(F)F)(OC(C(F)(F)F)(F)F)C(C(F)(F)F)(F)F)C(C(C(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F PLPPZNIXBOPYKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000004842 bisphenol F epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUCGHDUQOVVQED-UHFFFAOYSA-N ethyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](CC)(OCCC)OCCC KUCGHDUQOVVQED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 229930182478 glucoside Natural products 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N methyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)OCCC RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000693 micelle Substances 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000002568 propynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 125000005920 sec-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUWVDNLZJXLQPT-UHFFFAOYSA-N tripropoxy(propyl)silane Chemical compound CCCO[Si](CCC)(OCCC)OCCC VUWVDNLZJXLQPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1606—Coating the nozzle area or the ink chamber
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/1433—Structure of nozzle plates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1628—Manufacturing processes etching dry etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1629—Manufacturing processes etching wet etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1637—Manufacturing processes molding
- B41J2/1639—Manufacturing processes molding sacrificial molding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/164—Manufacturing processes thin film formation
- B41J2/1645—Manufacturing processes thin film formation thin film formation by spincoating
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)
Abstract
Description
図1(A)は、本発明の一実施形態にかかる記録ヘッドの例を示す模式図であり、図1(B)はこの記録ヘッドを図1(A)におけるA−Bを通り基板1に垂直な断面で見た断面図である。
含フッ素化合物は撥液層7に含まれる撥液成分である。含フッ素化合物としては、長期間に渡って撥液性を発現することが可能であることから、フッ素含有基を有する加水分解性シラン化合物の縮合物が好ましい。この縮合物は膜強度に優れるため、特に記録ヘッドの表面に付着したインクをふき取るワイピング動作に対して耐久性が高い。
式(6)
CF3(CF2)n−Z−
(式(6)中、nは0以上20以下の整数であり、Zは二価の有機基である。)
金属酸化物粒子としては、ZnO、TiO2、SnO2、Al2O3、In2O3、SiO2、MgO、BaO、MoO2、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、フッ素ドープ酸化スズ、スズドープ酸化インジウム(ITO)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、インジウムドープ酸化亜鉛(IZO)、アンチモンドープ酸化チタン、及びニオブドープ酸化チタンからなる群より選択される少なくとも一つが好ましい。これらの中でも、ZnO、TiO2、SnO2、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、インジウムドープ酸化亜鉛(IZO)、アンチモンドープ酸化チタン、及びニオブドープ酸化チタンからなる群より選択される少なくとも一つ、特にはSnO2又はアンチモンドープ酸化スズ(ATO)が好ましい。これらの金属酸化物粒子は一種単独で又は二種以上を併用して用いることができる。
両親媒性化合物は一つの分子内に親水性基と疎水性基の両方を有する化合物である。両親媒性化合物は、溶液中で金属酸化物粒子と混合されることで、親水性基が金属酸化物粒子の表面側に、疎水性基がその外側に配向されて金属酸化物粒子を覆うように吸着して、いわゆるコアシェル型の粒子を形成する。このコアシェル型の粒子は溶液中で安定に存在し、両親媒性化合物がない場合と比べて金属酸化物粒子を溶液中に良好に分散させることができる。
溶媒としては、含フッ素化合物の溶解性を考慮すると、非極性溶媒又は含フッ素溶媒を用いることが好ましい。非極性溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、へプタン、ジオキサン、及びTHFが挙げられる。含フッ素溶媒としてはハイドロフルオロエーテルが挙げられる。これらの溶媒は二種以上を混合して用いても良い。
撥液層7を形成するための溶液には感光性樹脂や光重合開始剤を添加してもよい。これらを添加することで、硬化に必要なエネルギーを少なくすることができ、撥液性及びパターニング性が向上する。
次いで、図2を参照して本発明の実施形態にかかる記録ヘッドの製造方法の例を説明する。
本発明の実施形態にかかる記録方法は、上記記録ヘッドを用い、電荷を有する分散剤若しくは樹脂で分散させた顔料を含む液体、又は、表面に電荷を有する基が直接若しくは原子団を介して結合している自己分散顔料を含む液体を、記録ヘッドから吐出することにより記録媒体に画像を記録するものである。
フッ素含有基を有する加水分解性シラン化合物の縮合物を含む撥液材(i)〜(iii)を以下の手順で合成した。
加水分解性シラン化合物の縮合物を含む撥液材(i)を以下の手順により調製した。γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン27.84g(0.1000mol)、メチルトリエトキシシラン17.83g(0.1000mol)、パーフルオロデシルエチルトリエトキシシラン3.35g(0.0047mol)、水16.58g、及びエタノール30.05gを、冷却管を備えるフラスコ内で、室温で5分間攪拌した。その後、24間環流することによって、撥液材(i)を得た。ここで、加水分解性シラン化合物の加水分解性基が全て加水分解・縮合したとして計算した理論上の撥液成分濃度は28%であった。
加水分解性シラン化合物の縮合物を含む撥液材(ii)は、以下の手順により調製した。γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン13.81g(0.0496mol)、メチルトリエトキシシラン4.42g(0.0248mol)、フェニルトリメトキシシラン5.96g(0.0248mol)、下記式(15)で表される化合物1.05g(0.0008mol)、水6.54g及びエタノール19.06g、ハイドロフルオロエーテル4.22gを室温で5分間撹拌し、次に33時間加熱還流することで撥液材(ii)を得た。ここで、加水分解性シラン化合物の加水分解性基が全て加水分解・縮合したとして計算した理論上の撥液成分濃度は28%であった。
下記表1に示す組成にて各成分を混合することにより、加水分解性シラン化合物の縮合物を含む撥液材(iii)を得た。尚、下記表1に記載の縮合物の質量部は、実施例2で得た撥液材(ii)から溶媒を除いた、含フッ素化合物としての縮合物のみの質量部を指す。
上記で合成した撥液材を用い、撥液層7を形成するための溶液を以下の手順で調製した。
溶液(A)を以下の手順により調製した。撥液材(i)の溶媒を除く成分100質量部に対して、金属酸化物粒子としての平均粒子径が50nmのSnO2を10質量部、溶媒としてのジオキサンを1000質量部となるよう混合し、室温で5分間撹拌した。その後、撥液材(i)の溶媒を除く成分100質量部に対して、両親媒性化合物として下記式(16)で表される化合物を100質量部添加し、室温で1時間撹拌することで、金属酸化物粒子を両親媒性化合物で覆わせた。
金属酸化物粒子として、平均粒子径が50nmのSnO2を、撥液材(i)の溶媒を除く成分100質量部に対して20質量部用いた以外は、調合例1と同様に調合し、溶液(B)を得た。
金属酸化物粒子として、平均粒子径が50nmのSnO2を、撥液材(i)の溶媒を除く成分100質量部に対して80質量部用いた以外は、調合例1と同様に調合し、溶液(C)を得た。
金属酸化物粒子として、平均粒子径が50nmのSnO2を、撥液材(i)の溶媒を除く成分100質量部に対して100質量部用いた以外は、調合例1と同様に調合し、溶液(D)を得た。
金属酸化物粒子として、平均粒子径が50nmのSnO2を、撥液材(i)の溶媒を除く成分100質量部に対して5質量部用いた以外は、調合例1と同様に調合し、溶液(E)を得た。
金属酸化物粒子として、平均粒子径が50nmのSnO2を、撥液材(i)の溶媒を除く成分100質量部に対して120質量部用いた以外は、調合例1と同様に調合し、溶液(F)を得た。
金属酸化物粒子として、平均粒子径が10nmのSnO2を、撥液材(i)の溶媒を除く成分100質量部に対して50質量部用いた以外は、調合例1と同様に調合し、溶液(G)を得た。
金属酸化物粒子として、平均粒子径が100nmのSnO2を、撥液材(i)の溶媒を除く成分100質量部に対して50質量部用いた以外は、調合例1と同様に調合し、溶液(H)を得た。
金属酸化物粒子として、平均粒子径が5nmのSnO2を、液材(i)の溶媒を除く成分100質量部に対して50質量部用いた以外は、調合例1と同様に調合し、溶液(I)を得た。
金属酸化物粒子として、平均粒子径が120nmのSnO2を、撥液材(i)の溶媒を除く成分100質量部に対して50質量部用いた以外は、調合例1と同様に調合し、溶液(J)を得た。
溶液(K)を以下の手順により調製した。撥液材(ii)の溶媒を除く成分100質量部に対して、金属酸化物粒子としての平均粒子径が50nmのSnO2を50質量部、溶媒としてのジオキサンを1000質量部となるよう混合し、室温で5分間撹拌した。その後、撥液材(ii)の溶媒を除く成分100質量部に対して、式(16)で表される化合物を100質量部添加し、室温で1時間撹拌し、溶液(K)を得た。
溶液(L)を以下の手順により調製した。撥液材(iii)の溶媒を除く成分100質量部に対して、金属酸化物粒子としての平均粒子径が50nmのSnO2を20質量部、溶媒としてのジオキサンを1000質量部となるよう混合し、室温で5分間撹拌した。その後、撥液材(iii)の溶媒を除く成分100質量部に対して、式(16)で表される化合物を100質量部添加し、室温で1時間撹拌し、溶液(L)を得た。
溶媒として、ハイドロフルオロエーテル(商品名HFE7200、住友スリーエム製)を用いた以外は、調合例2と同様に調合し、溶液(M)を得た。
両親媒性化合物として下記式(17)で表される化合物を用いた以外は、調合例2と同様に調合し、溶液(N)を得た。
両親媒性化合物として下記式(18)で表される化合物を用いた以外は、調合例2と同様に調合し、溶液(O)を得た。
両親媒性化合物として下記式(19)で表される化合物を用いた以外は、調合例2と同様に調合し、溶液(P)を得た。
両親媒性化合物として、下記式(20)で表される化合物を用いた以外は、調合例2と同様に調合し、溶液(Q)を得た。
金属酸化物粒子として、平均粒子径が50nmのATOを、撥液材(i)の溶媒を除く成分100質量部に対して20質量部用いた以外は、調合例2と同様に調合し、溶液(R)を得た。
溶液(a)を以下の手順により調製した。撥液材(i)の溶媒を除く成分100質量部に対して、平均粒子径が50nmのLiBF4を50質量部、ジオキサンを1000質量部となるよう混合し、室温で5分間撹拌し、溶液(a)を得た。
平均粒子径が50nmのLiBF4を、撥液材(i)の溶媒を除く成分100質量部に対して120質量部用いた以外は、比較調合例1と同様に調合し、溶液(b)を得た。
平均粒子径が50nmのLiBF4を、撥液材(i)の溶媒を除く成分100質量部に対して200質量部用いた以外は、比較調合例1と同様に調合し、溶液(c)を得た。
平均粒子径が50nmのLiBF4のかわりに、平均粒子径が50nmのSnO2を、撥液材(i)の溶媒を除く成分100質量部に対して50質量部用いた以外は、比較調合例1と同様に調合し、溶液(d)を得た。
平均粒子径が50nmのSnO2を、撥液材(i)の溶媒を除く成分100質量部に対して200質量部用いた以外は、比較調合例4と同様に調合し、溶液(e)を得た。
撥液材(i)の溶媒を除く成分100質量部に対して、ジオキサンを1000質量部となるよう混合し、室温で5分間撹拌し、溶液(f)を得た。
(実施例1)
以下の手順により液体吐出ヘッドの吐出口形成部材4と撥液層7を簡易的に作製した。まず、下記表2に示される組成を有するエポキシ樹脂組成物をシリコン基板上に塗布して、感光性樹脂層を形成した。この感光性樹脂層は吐出口形成部材4となる層である。
撥液層7の形成において、調合例2〜11、13〜18で得た溶液(B)〜(K)、(M)〜(R)をそれぞれ用いた以外は実施例1と同様に吐出口形成部材4、吐出口5、及び撥液層7を形成した。
感光性樹脂層の形成において、下記表3に示される組成を有するエポキシ樹脂組成物を、撥液層7の形成において、調合例12で得た溶液(L)をそれぞれ用いた以外は実施例1と同様に吐出口形成部材4、吐出口5、及び撥液層7を形成した。
撥液層7の形成において、比較調合例1〜6で得た溶液(a)〜(f)をそれぞれ用いた以外は実施例1と同様に吐出口形成部材4、吐出口5、及び撥液層7を形成した。
上記実施例1〜18、及び比較例1〜6の方法にて作製した撥液層について以下の評価を行った。まず、撥液層の表面に顔料インクを吹き付けながらHNBR(水素化ニトリルゴム)のブレードを用いてワイピング操作を行ない、ワイピング5000回後と10000回後の積層物表面へのインクの固着の有無について目視及び光学顕微鏡を用いて確認した。表面の観察結果から以下の基準で帯電防止性の評価を行なった。
帯電防止性の評価基準
A:目視、光学顕微鏡観察において、インクの固着なし
B:目視でインクの固着なしだが、光学顕微鏡観察において固着あり
C:目視で一部にインクの固着あり
D:目視で全面にインクの固着あり
また、微小接触角計(製品名:DropMeasure、(株)マイクロジェット製)を用いて、純水に対する動的後退接触角θrの測定を行ない、以下の基準で撥液性の評価を行なった。
撥液性の評価基準
A:95°以上
B:80°以上95°未満
C:70°以上80°未満
D:70°以下
これらの評価結果を下記表4に示す。
5 吐出口
7 撥液層
10 第1の感光性樹脂層
11 第2の感光性樹脂層
12 塗膜
Claims (21)
- 液体を吐出する吐出口が形成された吐出口形成部材と、前記吐出口形成部材上の撥液層とを有する液体吐出ヘッドであって、
前記撥液層が、含フッ素化合物、金属酸化物粒子及び両親媒性化合物を含むことを特徴とする液体吐出ヘッド。 - 前記含フッ素化合物が、フッ素含有基を有する加水分解性シラン化合物の縮合物である請求項1に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記式(1)〜(5)中のaが3である請求項3に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記金属酸化物粒子が、ZnO、TiO2、SnO2、Al2O3、In2O3、SiO2、MgO、BaO、MoO2、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、フッ素ドープ酸化スズ、スズドープ酸化インジウム(ITO)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、インジウムドープ酸化亜鉛(IZO)、アンチモンドープ酸化チタン、及びニオブドープ酸化チタンからなる群より選択される少なくとも一つである請求項1〜4のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記金属酸化物粒子がSnO2又はアンチモンドープ酸化スズである請求項1〜5のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記金属酸化物粒子の含有量が、前記含フッ素化合物100質量部に対して、5質量部以上、150質量部以下である請求項1〜6のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記金属酸化物粒子の粒子径が、5nm以上、180nm以下である請求項1〜7のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記両親媒性化合物が、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアリールエーテル、アルキルモノグリセリルエーテル及びポリオキシアルキレンパーフルオロアルキルエーテルからなる群より選択される少なくとも一つである請求項1〜8のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記金属酸化物粒子が前記両親媒性化合物によって覆われている請求項1〜9のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッド。
- 液体を吐出する吐出口が形成された吐出口形成部材と、前記吐出口形成部材上の撥液層とを有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
前記撥液層を、含フッ素化合物、金属酸化物粒子、両親媒性化合物及び溶媒を含む溶液を塗布し、該溶液の塗膜を硬化させることにより形成することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記吐出口形成部材となる感光性樹脂層を形成する工程と、
前記感光性樹脂層上に、前記溶液の塗膜を形成する工程と、
前記感光性樹脂層と前記塗膜とを露光及び現像することにより前記吐出口を形成する工程と、
を有する請求項11に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記含フッ素化合物が、フッ素含有基を有する加水分解性シラン化合物の縮合物である請求項11又は12に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記加水分解性シラン化合物の縮合物が下記式(1)〜(5)で表される化合物のいずれかである請求項13に記載の液体吐出ヘッド。
(式(1)中、Rfは、パーフルオロアルキル基を有する非加水分解性置換基であり、Yは非加水分解性置換基であり、Xは加水分解性置換基であり、aは1以上3以下の整数である。)
(式(2)〜(5)中、Rpはパーフルオロポリエーテル基、Aは炭素数1から12の結合基、Xは加水分解性置換基、Y及びRは非加水分解性置換基、Zは水素原子又はアルキル基、Qは2価又は3価の結合基である。ここでQが2価のときn=1、Qが3価のときn=2である。aは1以上3以下の整数、mは1以上4以下の整数である。) - 前記式(1)〜(5)中のaが3である請求項14に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記金属酸化物粒子が、ZnO、TiO2、SnO2、Al2O3、In2O3、SiO2、MgO、BaO、MoO2、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、フッ素ドープ酸化スズ、スズドープ酸化インジウム(ITO)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、インジウムドープ酸化亜鉛(IZO)、アンチモンドープ酸化チタン、及びニオブドープ酸化チタンからなる群より選択される少なくとも一つである請求項11〜15のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記金属酸化物粒子がSnO2又はアンチモンドープ酸化スズである請求項11〜16のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記金属酸化物粒子の含有量が、前記含フッ素化合物100質量部に対して、5質量部以上、150質量部以下である請求項11〜17のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記金属酸化物粒子の粒子径が、5nm以上、180nm以下である請求項11〜18のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記両親媒性化合物が、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアリールエーテル、アルキルモノグリセリルエーテル及びポリオキシアルキレンパーフルオロアルキルエーテルからなる群より選択される少なくとも一つである請求項11〜19のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 請求項1〜10のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドを用い、電荷を有する分散剤若しくは樹脂で分散させた顔料を含む液体、又は、表面に電荷を有する基が直接若しくは原子団を介して結合している自己分散顔料を含む液体を、前記液体吐出ヘッドから吐出することにより記録媒体に画像を記録することを特徴とする記録方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017193782A JP2019064206A (ja) | 2017-10-03 | 2017-10-03 | 液体吐出ヘッド、液体吐出ヘッドの製造方法及び記録方法 |
US16/143,138 US10786992B2 (en) | 2017-10-03 | 2018-09-26 | Liquid ejection head and method for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017193782A JP2019064206A (ja) | 2017-10-03 | 2017-10-03 | 液体吐出ヘッド、液体吐出ヘッドの製造方法及び記録方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019064206A true JP2019064206A (ja) | 2019-04-25 |
Family
ID=65897635
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017193782A Pending JP2019064206A (ja) | 2017-10-03 | 2017-10-03 | 液体吐出ヘッド、液体吐出ヘッドの製造方法及び記録方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10786992B2 (ja) |
JP (1) | JP2019064206A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021024269A (ja) * | 2019-08-06 | 2021-02-22 | キヤノン株式会社 | 撥液防汚膜およびその製造方法 |
WO2022044245A1 (ja) * | 2020-08-28 | 2022-03-03 | コニカミノルタ株式会社 | ノズルプレート及びインクジェットヘッド |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11807776B2 (en) | 2017-12-19 | 2023-11-07 | Kyungpook National University Industry-Academic Cooperation Foundation | Modified siloxane resin, modified siloxane resin crosslinked product, and manufacturing method for resin crosslinked product |
KR102071946B1 (ko) * | 2017-12-19 | 2020-01-31 | 경북대학교 산학협력단 | 변성 실록산 수지, 변성 실록산 수지 가교체 및 상기 수지 가교체의 제조방법 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004243697A (ja) * | 2003-02-14 | 2004-09-02 | Canon Inc | クリーニング部材 |
JP2005096214A (ja) * | 2003-09-24 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | インクジェット記録ヘッド、及びインクジェット記録装置 |
JP2007518587A (ja) * | 2003-07-22 | 2007-07-12 | キヤノン株式会社 | インクジェットヘッドおよびその製造方法 |
US20080129780A1 (en) * | 2006-12-01 | 2008-06-05 | Samsung Electronics Co., Ltd | Nozzle plate of inkjet printhead and method of manufacturing the nozzle plate |
JP2009066945A (ja) * | 2007-09-14 | 2009-04-02 | Ricoh Co Ltd | 液体吐出装置用ノズル板、ヘッドおよびそれを用いた液体吐出装置、方法 |
JP2013177580A (ja) * | 2012-02-06 | 2013-09-09 | Dnp Fine Chemicals Co Ltd | インクジェットインク用顔料分散液、活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、及び印刷物 |
JP2016193493A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-17 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットヘッドの製造方法 |
JP2017154055A (ja) * | 2016-02-29 | 2017-09-07 | キヤノン株式会社 | 膜の製造方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011206628A (ja) | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Toray Ind Inc | インクジェットヘッドの除電方法、除電装置およびインクジェットヘッド装置ならびにカラーフィルターの製造方法 |
JP6217170B2 (ja) * | 2013-06-23 | 2017-10-25 | 株式会社リコー | 液体吐出ヘッド及び画像形成装置 |
-
2017
- 2017-10-03 JP JP2017193782A patent/JP2019064206A/ja active Pending
-
2018
- 2018-09-26 US US16/143,138 patent/US10786992B2/en active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004243697A (ja) * | 2003-02-14 | 2004-09-02 | Canon Inc | クリーニング部材 |
JP2007518587A (ja) * | 2003-07-22 | 2007-07-12 | キヤノン株式会社 | インクジェットヘッドおよびその製造方法 |
JP2005096214A (ja) * | 2003-09-24 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | インクジェット記録ヘッド、及びインクジェット記録装置 |
US20080129780A1 (en) * | 2006-12-01 | 2008-06-05 | Samsung Electronics Co., Ltd | Nozzle plate of inkjet printhead and method of manufacturing the nozzle plate |
JP2009066945A (ja) * | 2007-09-14 | 2009-04-02 | Ricoh Co Ltd | 液体吐出装置用ノズル板、ヘッドおよびそれを用いた液体吐出装置、方法 |
JP2013177580A (ja) * | 2012-02-06 | 2013-09-09 | Dnp Fine Chemicals Co Ltd | インクジェットインク用顔料分散液、活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、及び印刷物 |
JP2016193493A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-17 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットヘッドの製造方法 |
JP2017154055A (ja) * | 2016-02-29 | 2017-09-07 | キヤノン株式会社 | 膜の製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021024269A (ja) * | 2019-08-06 | 2021-02-22 | キヤノン株式会社 | 撥液防汚膜およびその製造方法 |
WO2022044245A1 (ja) * | 2020-08-28 | 2022-03-03 | コニカミノルタ株式会社 | ノズルプレート及びインクジェットヘッド |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20190100006A1 (en) | 2019-04-04 |
US10786992B2 (en) | 2020-09-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5591361B2 (ja) | インクジェット記録ヘッド | |
JP4424751B2 (ja) | インクジェットヘッドおよびその製造方法 | |
US10786992B2 (en) | Liquid ejection head and method for manufacturing the same | |
JP6700859B2 (ja) | 膜の製造方法 | |
JP2014205739A (ja) | 撥水防汚コーティング用材料及び該材料を用いた撥水防汚コーティングの製造方法 | |
US9409397B2 (en) | Process for producing a liquid ejection head | |
JP6525630B2 (ja) | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 | |
JP5539155B2 (ja) | インクジェット記録ヘッドの製造方法 | |
US10787552B2 (en) | Method for manufacturing liquid ejection head having a water-repellent layer at the ejection surface | |
JP5859070B2 (ja) | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 | |
US20160041469A1 (en) | Method for patterning photosensitive resin layer | |
JP6351274B2 (ja) | 液体吐出ヘッド及びその製造方法 | |
JP7475854B2 (ja) | 撥液防汚膜およびその製造方法 | |
JP7071223B2 (ja) | 液体吐出ヘッド、液体吐出ヘッドの製造方法、及び記録方法 | |
US10618287B2 (en) | Liquid ejection head, method for manufacturing the same, and recording method | |
JP4702784B2 (ja) | 液体吐出型記録ヘッドの流路構成材料 | |
KR100880752B1 (ko) | 잉크 제트 헤드 및 그의 제조 방법 | |
KR20060036465A (ko) | 잉크 제트 헤드 및 그의 제조 방법 | |
JP2018161810A (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200918 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210714 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210720 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210917 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20220125 |