JP2019040726A - 収差測定方法および電子顕微鏡 - Google Patents
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Abstract
Description
は、本来の収差に重畳される。
生じる。
試料に照射される電子ビームを収束する対物レンズと、前記試料を透過した電子ビームを検出する検出器と、を備えた電子顕微鏡における対物レンズの収差測定方法であって、
前記対物レンズにコマ収差を導入する工程と、
前記対物レンズにコマ収差を導入する工程の前に、前記対物レンズの収差を測定する工程と、
前記対物レンズにコマ収差を導入する工程の後に、前記対物レンズの収差を測定する工程と、
コマ収差を導入する前後の前記対物レンズの収差の測定結果に基づいて、前記検出器の検出面における前記対物レンズの光軸の位置を求める工程と、
を含む。
試料に照射される電子ビームを収束する対物レンズと、
前記試料を透過した電子ビームを検出する検出器と、
前記対物レンズの収差を測定する収差測定部と、
を含み、
前記収差測定部は、
前記対物レンズにコマ収差を導入する前後の収差の測定結果に基づいて、前記検出器の検出面における前記対物レンズの光軸の位置を求める処理を行う。
1.1. 電子顕微鏡
まず、第1実施形態に係る電子顕微鏡について図面を参照しながら説明する。図1は、第1実施形態に係る電子顕微鏡100の構成を示す図である。
された電子ビームを収束する。コンデンサーミニレンズは、コンデンサーレンズと対物レンズ20との間に配置される。コンデンサーミニレンズは、観察モードに適した収束角を持つ電子ビームを形成する。
D3,D4,D5,D6,D7,D8に分割されている。図2に示す例では、分割型検出器30は、円環状の検出面302を偏角方向(角度方向、円周方向)に4等分することで形成された、4つの検出領域D1〜D8を備えている。各検出領域D1〜D8では、独立して電子ビームを検出することができる。
部50の機能は、各種プロセッサ(CPU、DSP等)でプログラムを実行することにより実現することができる。なお、処理部50の機能の少なくとも一部を、ASIC(ゲートアレイ等)などの専用回路により実現してもよい。処理部50は、制御部52と、画像生成部54と、収差測定部56と、を含む。
次に、第1実施形態に係る収差測定方法について説明する。第1実施形態に係る収差測定方法は、電子顕微鏡100における対物レンズ20(照射系)の収差測定方法である。
照射系および結像系の調整、分割型検出器30のゲインおよびオフセットの調整、結像系のカメラ長の調整、収差測定用絞り32の挿入、などを行い、電子顕微鏡100を、収差測定用絞り32および分割型検出器30を用いてSTEM像が取得可能な状態にする。
分割型検出器30の軸304は、例えば、分割型検出器30の検出面302の中心である。分割型検出器30の軸304は、収差の計算の際に、座標原点となる位置である。
分割型検出器30の検出領域D1〜D8ごとにSTEM像を取得する。例えば、試料Sにて輪郭のはっきりとした目標物(粒子、膜孔など)を探し、当該目標物が視野内に含まれるようにSTEM像を取得する。STEM像は、分割型検出器30および収差測定用絞り32を用いて取得される。STEM像の倍率(走査倍率)は、幾何収差による像シフトが検出可能な程度の倍率とする。
取得した検出領域D1〜D8ごとのSTEM像の像シフト(幾何収差)から、対物レンズ20(照射系)の収差を計算する。収差測定用絞り32の絞り孔322の孔径を十分小さくすることで、各STEM像は、単一の入射角の電子ビームを用いて取得された像と近似できる。すなわち、得られた各STEM像を、検出面積が無限小の理想的な検出器によって得られたものと仮定して収差の計算を行うことができる。
次に、図4に示すように、照射系偏向器16によって、試料Sに入射する電子ビームを傾斜させる。これにより、対物レンズ20のコマ収差が変化する(コマ収差が導入される)。ここでは、試料Sに入射する電子ビームを単純傾斜させる(すなわち電子ビームのシフトを伴わずに傾斜させる)。これにより、コマ収差のみを変化させることができる(コマ収差のみを導入することができる)。照射系偏向器16は、2段の偏向コイルで構成されているため、電子ビームを単純傾斜させることができる。
対物レンズ20にコマ収差を導入した状態で、分割型検出器30の検出領域D1〜D8ごとにSTEM像を取得する。STEM像の取得は、上述したステップS102と同様に行われる。
次に、ステップS108で取得した検出領域D1〜D8ごとのSTEM像の像シフト(幾何収差)から、対物レンズ20の収差を計算する。収差測定は、上述したステップS104と同様に行われる。このように本実施形態では、対物レンズ20にコマ収差を導入する前と、対物レンズ20にコマ収差を導入した後と、にそれぞれ収差測定が行われる。
次に、コマ収差を導入する前後の収差の測定結果に基づいて、分割型検出器30の検出面302における対物レンズ20の光軸202の位置を求める。ここで、検出面302における対物レンズ20の光軸202の位置とは、検出面302に投影された光軸202の位置であり、当該位置で電子ビームを検出して得られたSTEM像に見かけの収差が発生しない位置である。
原点を軸ずれ分(dΩ)だけずらした座標系にて、収差計算が行われることとなる。これに伴い、対物レンズ20側で入射角Ωであった電子ビームは、分割型検出器30側では、入射角Ω´=Ω−dΩの電子ビームとして取り扱われる。検出される最終的な波面収差は、高次の微小項を無視して次式のようになる。
次に、対物レンズ20の光軸202と分割型検出器30の軸304とを一致させる(軸合わせ)。具体的には、結像系偏向器28を用いて分割型検出器30の検出面302に入射する電子ビームを偏向させて、特定した極小点の位置を分割型検出器30の軸304に一致させる。これにより、対物レンズ20の光軸202と分割型検出器30の軸304とを一致させることができる。
次に、導入したコマ収差を排除する。具体的には、コマ収差を導入する際(ステップS106)に照射系偏向器16で加えた電子ビームの傾斜を、元の状態(ステップS106で電子ビームを傾斜させる前の状態)に戻す。また、結像系偏向器28による電子ビームの振り戻しを行っていた場合には、結像系偏向器28でその振り戻し量と同じ大きさであって逆方向に電子ビームを偏向させて、電子ビームを元の状態に戻す。
次に、分割型検出器30の検出領域D1〜D8ごとにSTEM像を取得する。STEM像の取得は、上述したステップS102と同様に行われる。
次に、ステップS118で取得した検出領域D1〜D8ごとのSTEM像から、対物レンズ20の収差を計算する。収差の測定は、ステップS104と同様に行われる。ここでは、対物レンズ20の光軸202と分割型検出器30の軸304とが一致している(軸ずれが補正されている)ため、対物レンズ20の収差を正確に測定することができる。
電子顕微鏡100では、上述した収差測定方法による収差の測定を自動で行うことができる。図6は、電子顕微鏡100における処理部50(収差測定部56)の処理の流れの一例を示すフローチャートである。なお、電子顕微鏡100は、収差測定用絞り32が挿入され、分割型検出器30を用いてSTEM像が取得可能な状態になっているものとする。
本実施形態に係る収差測定方法は、例えば、以下の特徴を有する。
対物レンズ20のデフォーカスを変えた前後のSTEM像を用いると、当該STEM像には、見かけの収差による像シフトと、電流軸のずれに起因する像シフト(図21参照)と、が生じる。これらの像シフトは分離することはできず、検出面302における対物レンズ20の光軸202の位置を正確に求めることは難しい。
め、電子ビームを単純傾斜させることができる。したがって、対物レンズ20にコマ収差のみを導入することができる。
次に、第1実施形態に係る電子顕微鏡の変形例について、図面を参照しながら説明する。以下では、上述した電子顕微鏡100の例と異なる点について説明し、同様の点については説明を省略する。
2.1. 電子顕微鏡
次に、第2実施形態に係る電子顕微鏡について、図面を参照しながら説明する。図8は、第2実施形態に係る電子顕微鏡200の構成を示す図である。以下、第2実施形態に係る電子顕微鏡200において、第1実施形態に係る電子顕微鏡100の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
次に、第2実施形態に係る収差測定方法について説明する。第2実施形態に係る収差測定方法は、電子顕微鏡200における対物レンズ20(照射系)の収差測定方法である。以下では、上述した第1実施形態に係る収差測定方法の例と異なる点について説明し、同様の点については説明を省略する。
試料Sのアモルファス領域が視野に含まれるように視野を移動させる。そして、照射系および結像系の調整、結像系のカメラ長の調整などを行い、電子顕微鏡100を、ロンチグラムが撮影可能な状態にする。
固体撮像素子230でロンチグラムを撮影する。具体的には、試料Sのアモルファス領域に電子ビームを収束させて、試料Sを透過した電子ビームを固体撮像素子230で検出する。このとき、フォーカスを変化させてロンチグラムを撮影することで、デフォーカス量の異なる複数のロンチグラムを取得する。以下、このデフォーカス量の異なる複数のロンチグラムをデータセットDS1ともいう。
次に、図9に示すように、照射系偏向器16によって、試料Sに入射する電子ビームを傾斜させる。これにより、対物レンズ20にコマ収差が変化する(コマ収差が導入される)。本工程は、上述したステップS106と同様に行われる。
次に、対物レンズ20にコマ収差を導入した状態で、固体撮像素子230でロンチグラムを撮影する。本工程は、上述したステップS302と同様に行われる。これにより、デフォーカス量の異なる複数のロンチグラム(以下、「データセットDS2」ともいう)を取得する。
次に、コマ収差を導入する前後の収差の測定結果に基づいて、固体撮像素子230の検出面232における対物レンズ20の光軸202の位置を求める。ここで、検出面232における対物レンズ20の光軸202の位置とは、検出面232に投影された光軸202の位置であり、当該位置で電子ビームを検出することにより得られたSTEM像に見かけの収差が発生しない位置である。
次に、対物レンズ20の光軸202と収差計算の座標原点Oとを一致させる(軸合わせ)。具体的には、結像系偏向器28を用いて固体撮像素子230の検出面232に入射する電子ビームを偏向させて、特定した極小点の位置を座標原点Oに一致させる。これにより、対物レンズ20の光軸202と座標原点Oとを一致させることができる。
次に、導入したコマ収差を排除する。本工程は、上述したステップS116と同様に行われる。
次に、固体撮像素子230でロンチグラムを撮影する。本工程は、上述したステップS302と同様に行われる。これにより、デフォーカス量の異なる複数のロンチグラム(以下「データセットDS3」ともいう)を取得する。
次に、データセットDS3を用いて対物レンズ20の収差の測定を行う。取得したロンチグラムの局所領域の自己相関関数から、幾何収差の微分を求めることにより、収差を測
定することができる。ここでは、対物レンズ20の光軸202と座標原点Oの位置とが一致している(軸ずれが補正されている)ため、ロンチグラムを用いて対物レンズ20の収差を正確に測定することができる。
電子顕微鏡200では、上述した収差測定方法による収差の測定を自動で行うことができる。図12は、電子顕微鏡200における処理部50(収差測定部56)の処理の流れの一例を示すフローチャートである。なお、電子顕微鏡200は、固体撮像素子230を用いてロンチグラムが取得可能な状態になっているものとする。
本実施形態に係る収差測定方法では、対物レンズ20にコマ収差を導入する工程の前に対物レンズ20の収差を測定する工程、および対物レンズ20にコマ収差を導入する工程の後に対物レンズ20の収差を測定する工程において、固体撮像素子230を用いて取得したロンチグラムから収差を求める。そのため、第2実施形態によれば、第1実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
次に、第2実施形態に係る電子顕微鏡の変形例について、図面を参照しながら説明する。以下では、上述した電子顕微鏡200の例と異なる点について説明し、同様の点については説明を省略する。
4…照射系絞り、16…照射系偏向器、18…走査コイル、20…対物レンズ、22…試料ステージ、23…試料ホルダー、24…中間レンズ、26…投影レンズ、28…結像系偏向器、30…分割型検出器、32…収差測定用絞り、40…制御装置、50…処理部、52…制御部、54…画像生成部、56…収差測定部、60…操作部、62…表示部、64…記憶部、100…電子顕微鏡、200…電子顕微鏡、202…光軸、230…固体撮像素子、232…検出面、234…軸、302…検出面、304…軸、322…絞り孔、1002…照射系絞り、1004…対物レンズ、1005…光軸、1006…検出器、1007…軸
Claims (13)
- 試料に照射される電子ビームを収束する対物レンズと、前記試料を透過した電子ビームを検出する検出器と、を備えた電子顕微鏡における対物レンズの収差測定方法であって、
前記対物レンズにコマ収差を導入する工程と、
前記対物レンズにコマ収差を導入する工程の前に、前記対物レンズの収差を測定する工程と、
前記対物レンズにコマ収差を導入する工程の後に、前記対物レンズの収差を測定する工程と、
コマ収差を導入する前後の前記対物レンズの収差の測定結果に基づいて、前記検出器の検出面における前記対物レンズの光軸の位置を求める工程と、
を含む、収差測定方法。 - 請求項1において、
前記対物レンズの光軸の位置を求める工程では、
コマ収差を導入する前後における見かけの収差の変化に基づいて、前記検出面における前記対物レンズの光軸の位置を求める、収差測定方法。 - 請求項2において、
前記対物レンズの光軸の位置を求める工程では、
前記検出面において見かけの収差の変化量が極小となる位置を、前記検出面における前記対物レンズの光軸の位置とする、収差測定方法。 - 請求項1ないし3のいずれか1項において、
前記検出器は、前記検出面が複数の検出領域に分割された分割型検出器であり、
前記電子顕微鏡は、前記検出領域の電子ビームが入射する領域を制限する絞りを備え、
前記対物レンズにコマ収差を導入する工程の前に前記対物レンズの収差を測定する工程、および前記対物レンズにコマ収差を導入する工程の後に前記対物レンズの収差を測定する工程では、
前記絞りを用いて得られた、前記検出領域ごとの走査透過電子顕微鏡像から収差を求める、収差測定方法。 - 請求項1ないし3のいずれか1項において、
前記検出器は、複数の受光素子が配列された固体撮像素子であり、
前記対物レンズにコマ収差を導入する工程の前に前記対物レンズの収差を測定する工程、および前記対物レンズにコマ収差を導入する工程の後に前記対物レンズの収差を測定する工程では、
前記固体撮像素子を用いて取得したロンチグラムから収差を求める、収差測定方法。 - 請求項1ないし5のいずれか1項において、
前記対物レンズにコマ収差を導入する工程では、
前記試料に入射する電子ビームを傾斜させることで、コマ収差を導入する、収差測定方法。 - 請求項6において、
前記電子顕微鏡は、前記試料に入射する電子ビームを偏向させる照射系偏向器を備え、
前記照射系偏向器は、多段に配置された偏向素子を有し、
前記照射系偏向器を用いて、前記試料に入射する電子ビームを傾斜させる、収差測定方法。 - 請求項1ないし7のいずれか1項において、
前記検出面における前記対物レンズの光軸の位置を求める工程の後に、求めた前記検出面における前記対物レンズの光軸の位置に基づいて、前記対物レンズの光軸を、前記検出器の軸に一致させる工程を含む、収差測定方法。 - 請求項8において、
前記電子顕微鏡は、前記試料を透過して前記検出面に入射する電子ビームを偏向させる結像系偏向器を備え、
前記対物レンズの光軸を前記検出器の軸に一致させる工程では、
求めた前記検出面における前記対物レンズの光軸の位置に基づいて、前記結像系偏向器で電子ビームを偏向させる、収差測定方法。 - 請求項9において、
前記対物レンズの光軸を前記検出器の軸に一致させる工程の後に、前記対物レンズの収差を測定する工程を含む、収差測定方法。 - 請求項1ないし7のいずれか1項において、
求めた前記検出面における前記対物レンズの光軸の位置に基づいて、前記対物レンズの収差の測定結果を補正する工程を含む、収差測定方法。 - 試料に照射される電子ビームを収束する対物レンズと、
前記試料を透過した電子ビームを検出する検出器と、
前記対物レンズの収差を測定する収差測定部と、
を含み、
前記収差測定部は、
前記対物レンズにコマ収差を導入する前後の収差の測定結果に基づいて、前記検出器の検出面における前記対物レンズの光軸の位置を求める処理を行う、電子顕微鏡。 - 請求項12において、
前記試料に入射する電子ビームを傾斜させる照射系偏向器を含む、電子顕微鏡。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7498212B2 (ja) | 2022-03-29 | 2024-06-11 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡および収差測定方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6552340B1 (en) * | 2000-10-12 | 2003-04-22 | Nion Co. | Autoadjusting charged-particle probe-forming apparatus |
JP2007180013A (ja) * | 2005-11-30 | 2007-07-12 | Jeol Ltd | ロンチグラムを用いた収差測定方法及び収差補正方法及び電子顕微鏡 |
JP2017139115A (ja) * | 2016-02-03 | 2017-08-10 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡および収差測定方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7619220B2 (en) | 2005-11-30 | 2009-11-17 | Jeol Ltd. | Method of measuring aberrations and correcting aberrations using Ronchigram and electron microscope |
WO2011152303A1 (ja) * | 2010-05-31 | 2011-12-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 自動収差補正法を備えた荷電粒子線装置 |
JP5499282B2 (ja) | 2010-07-16 | 2014-05-21 | 国立大学法人 東京大学 | 走査透過電子顕微鏡における収差補正方法および収差補正装置 |
JP5315302B2 (ja) * | 2010-07-27 | 2013-10-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査透過電子顕微鏡及びその軸調整方法 |
EP2704177B1 (en) * | 2012-09-04 | 2014-11-26 | Fei Company | Method of investigating and correcting aberrations in a charged-particle lens system |
JP6533665B2 (ja) * | 2015-02-03 | 2019-06-19 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡および収差測定方法 |
-
2017
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-
2018
- 2018-08-22 EP EP18190202.4A patent/EP3447788B1/en active Active
- 2018-08-23 US US16/109,837 patent/US10840058B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6552340B1 (en) * | 2000-10-12 | 2003-04-22 | Nion Co. | Autoadjusting charged-particle probe-forming apparatus |
JP2007180013A (ja) * | 2005-11-30 | 2007-07-12 | Jeol Ltd | ロンチグラムを用いた収差測定方法及び収差補正方法及び電子顕微鏡 |
JP2017139115A (ja) * | 2016-02-03 | 2017-08-10 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡および収差測定方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7498212B2 (ja) | 2022-03-29 | 2024-06-11 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡および収差測定方法 |
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---|---|
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