JP2019009438A - 赤外線発光ダイオード - Google Patents
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Abstract
Description
しかしながら、近年、中赤外の波長領域、特に波長が2.0μmから12μm程度の波長領域が注目されている。つまり、この波長領域はCO2や炭化水素などの気体分子による光吸収が見られる波長域であるため、LED光源、赤外線センサ、及び所望の波長帯のみを透過する光学フィルタを組み合わせ、吸収量を検出することで気体分子の濃度を計測する、低消費電力の非分散型ガスセンサとしての応用が期待されている。
このような発光ダイオードは、例えば導電性基板上に形成されたpn接合を用いて、縦方向(基板の厚さ方向)に電流を注入することで使用される。また、パッケージには、可視光・近赤外光で利用されるような砲弾型のエポキシ樹脂に封入する方法や、缶パッケージ、或いはセラミックパッケージが用いられる。
しかしながら、高い導電性を有する基板を用いた場合、中赤外光の波長域における自由キャリア吸収が大きいことにより、発光が効率的に取り出せない問題がある。これを避けるための一つの方法として半絶縁性の半導体基板(例えばGaAs)を用い、基板の裏面から光を取り出す方法がある。特許文献1には半絶縁性の半導体基板を用いた赤外線発光ダイオードが記載されている。
半導体積層部は、半導体基板の一面上に形成され、この一面側から第一導電型半導体層、活性層、および第二導電型半導体層をこの順に有し、第一導電型半導体層、活性層、および第二導電型半導体層はインジウムおよびアンチモンの少なくとも一方を含む。また、半導体基板の一面から突出する第一メサ部と第一メサ部から突出する第二メサ部とを有し、第一メサ部と第二メサ部との境界が活性層よりも半導体基板側に存在する。
第一導電型半導体層および第二導電型半導体層は互いに導電型が異なる半導体層である。第一導電型半導体層がn型半導体層で第二導電型半導体層がp型半導体層であってもよいし、第一導電型半導体層がp型半導体層で第二導電型半導体層がn型半導体層であってもよい。
金属層は、第一メサ部の第一導電型半導体層に接触する第一部分と、第一部分とは独立した部分であって、第二メサ部の第二導電型半導体層に接触する第二部分と、を有する。
さらに、本発明の一態様である赤外線発光ダイオードは、半導体基板の側面及び半導体積層部を封止する封止部を備えている。さらに、本発明の一態様である赤外線発光ダイオードは、半導体基板上に半導体積層部を複数備え、複数の半導体積層部は互いに直列に接続されている。
本発明の一態様の赤外線発光ダイオードは、光取り出し面が半導体基板の裏面(半導体積層部が形成されている一面の反対面)であり、半導体積層部が第一メサ部と第二メサ部を有し、半導体積層部上に金属層を備えた赤外線発光ダイオードにおいて、平面視における半導体基板の外形面積(S1)に対する第二メサ部の底面積(第一メサ部との境界部の面積、S2)の比率S2/S1(第二メサ部の基板被覆率)が0.21以上0.8以下であり、活性層で発生した光の金属層での反射率が0.60以上1.00以下であることを特徴の一つとする。
半導体基板を用いた光の裏面取り出し構造を用いた場合、半導体積層部の表面の大部分を金属電極で覆う必要があり、この金属電極における吸収損失が発光ダイオードの発光効率を制限していることが、新たに分かった。この課題は、従来知られていた光の表面取り出し(半導体積層部側から光を取り出す)構造の赤外線発光ダイオード(この構造では半導体積層部を覆う金属層の被覆率が低い)には無い、新たな課題である。
以下、本発明の一態様の赤外線発光ダイオードの各構成について説明する。
半導体基板の一面上に半導体積層部が形成されるため、半導体基板は、半導体積層部を構成する各層の結晶成長に適したものであればよい。また、活性層で発生する光の透過率が高いものであることが好ましいため、例えば、InAs基板やGaSb基板など、吸収端波長が、活性層で発生する光の波長よりも短い材料からなる基板を用いることが好ましい。また、集積回路の技術と組み合わせるために、Si基板を用いても良く、更に基板内の自由キャリアによる赤外吸収を抑制するために、半絶縁性のGaAs基板を用いても良い。
半導体基板の一面、つまり、半導体積層部が形成される面は、例えばGaAs基板であれば、[100]面を使用することができる。
半導体基板の裏面は、半導体積層部が形成される面の反対側の面であり、例えばGaAs基板の[100]面に半導体積層部を形成する場合、[−100]面を使用することができる。
半導体積層部は、半導体基板の一面上に形成され、この一面側から第一導電型半導体層、活性層、および第二導電型半導体層をこの順に有し、第一導電型半導体層、活性層、および第二導電型半導体層はインジウムおよびアンチモンの少なくとも一方を含む。また、半導体基板の一面から突出する第一メサ部と第一メサ部から突出する第二メサ部とを有し、第一メサ部と第二メサ部との境界が活性層よりも半導体基板側に存在する。さらに、半導体基板上に上記半導体積層部を複数備え、複数の半導体積層部が互いに直列に接続されている。これにより、一つの半導体基板上に複数の発光素子が形成され、これらが直列に接続されているため、一定の注入電流でこれらが同時に駆動できることにより、高い発光強度を得ることが可能となる。
第一導電型半導体層、活性層、および第二導電型半導体層はインジウムおよびアンチモンの少なくとも一方を含む層である。具体的な材料としては、InSb、InGaSb、AlGaSb、InAs、InAlAs、InAlSbおよびInAsSbなどが挙げられる。
金属層は、第一メサ部の第一導電型半導体層に接触する第一部分と、第一部分とは独立した部分であって第二メサ部の第二導電型半導体層に接触する第二部分と、を有する。金属層の第一部分および第二部分は、通常、半導体積層部に絶縁層を介して形成され、この絶縁層に設けた開口部を介して第一導電型半導体層および第二導電型半導体層と接触する。また、金属層は、第一メサ側に形成された第一金属層(第一部分を含む)と、第二メサ側に形成された第二金属層(第二部分を含む)とに分かれていて、第一金属層と第二金属層がそれぞれ半導体基板の一面上に形成された第三部分を有する形態をとることができる。
この金属層は、半導体積層部および半導体基板側から例えば、密着層、バリア層、低抵抗層の順に積層された積層構造を有することが好ましい。
また、金属層が積層構造である場合の密着層は、金属層の第三部分が活性層で発生した光を反射する役割を有することから、光の吸収損失が少ないことが望ましい。
封止部は、半導体基板の側面及び半導体積層部を封止する。封止部は、半導体基板の裏面に存在していてもよいが、その場合は、半導体基板の裏面の少なくとも一部を露出した状態にする必要がある。後述の裏面絶縁膜を備える場合は、裏面絶縁膜の少なくとも一部を露出した状態にすることが好ましい。封止部の材料としては、例えばエポキシ樹脂、フェノール樹脂などの樹脂製モールド材を用いることができる。その際、SiO2やAl2O3などのフィラーを含む樹脂製モールド材を用いてもよい。またポリイミド、ポリアミド、シリコーン樹脂などからなる応力緩和層(バッファ層)を、半導体積層部と封止部との間に設けてもよい。
本発明の一態様の赤外線発光ダイオードは、第二メサ部の基板被覆率(S2/S1)が0.21以上0.50以下であることが好ましい。これにより、半導体基板、半導体積層部を構成する各層、および金属層での光吸収損失の抑制効果がより高くなって、赤外線発光ダイオードの発光効率及び発光強度をさらに高くすることが可能になる。
また、金属層の基板被覆率(S3/S1)を0.65以上1.0未満と大きくすることで、金属層での反射量が多くなるため、半導体基板の裏面から効率よく光を取り出すことが可能となる。S3/S1が1.0に近い値の場合、金属層は、半導体基板の一面に接触する第三部分を有する。
活性層で発生した光は、各半導体層内及び半導体基板内での反射を繰り返しながら半導体基板の裏面から取り出されるため、このように設計されることによって、半導体基板の一面での光吸収損失を抑制し、光取り出し面からの光取り出し効率を向上できる。これにより、赤外線発光ダイオードの発光強度をさらに高くすることが可能になる。
なお、二乗平均平方根粗さ(Rq)は、接触式段差計または原子間力顕微鏡(AFM)を用い、対応する面に対して、数μmから数mmの範囲のラインスキャン、或いは2次元スキャンを行って測定された高さから算出される。
裏面絶縁膜の材料としては、例えばSiO2やAl2O3、SiN、TiO2が挙げられる。裏面絶縁膜は一層で形成されていてもよいし、積層構造であってもよい。
この絶縁層の材料としては、例えばSiO2やAl2O3、SiN、TiO2が挙げられる。この絶縁層は一層で形成されていてもよいし、積層構造であってもよい。また、この絶縁層の膜厚を適切に設計することにより、半導体基板の一面側(半導体基板の一面と半導体積層部の半導体基板とは反対側の面)での反射率を向上させることもできる。
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明するが、本発明は以下に示す実施形態に限定されない。以下に示す実施形態では、本発明を実施するために技術的に好ましい限定がなされているが、この限定は本発明の必須要件ではない。
図1に示すように、この実施形態の赤外線発光ダイオード1は、GaAs基板(半導体基板)2、半導体積層部3、絶縁層4、金属層5、および裏面絶縁膜6を備えている。
GaAs基板2の一面21は[100]面であり、裏面22は[−100]面である。GaAs基板2の一面21に半導体積層部3が形成されている。裏面22に裏面絶縁膜6が形成されている。
半導体積層部3は、GaAs基板2の一面21から突出する第一メサ部301と第一メサ部301から突出する第二メサ部302とからなる二段メサ構造を有する。
GaAs基板2の裏面22の二乗平均平方根粗さは30nm以上2000nm以下である。第一メサ部301の第二メサ部302で覆われていない上面3011の二乗平均平方根粗さは15nm未満である。GaAs基板2の一面21の半導体積層部3が形成されていない領域211の二乗平均平方根粗さは15nm未満である。
半導体積層部3は、図3に示すように、GaAs基板2上に、n型半導体層31、n型バリア層32、活性層33、p型バリア層34、p型半導体層45、からなる半導体積層体30を形成した後に、一点鎖線に沿ったメサエッチングと、その後の二点鎖線に沿ったメサエッチングを行うことで形成される。
金属層5は、第一メサ部301側に形成された第一金属層510と、第二メサ部302側に形成された第二金属層520とに分かれている。第一金属層510は、第一開口部41を塞ぎ第一メサ部301のn型半導体層31に接触する部分(第一部分)511と、絶縁層4上に形成されている部分512と、GaAs基板2の一面21上に形成された部分(第三部分、電極)513とからなる。第二金属層520は、第二開口部42を塞ぎ第二メサ部302のp型半導体層35に接触する部分(第二部分)521と、絶縁層4上に形成されている部分522と、GaAs基板2の一面21上に形成された部分(第三部分、電極)523とからなる。
実施形態の赤外線発光ダイオード1によれば、活性層から発光した光の内部での光吸収損失が抑制されて、発光効率及び発光強度が向上する。
第一実施形態の赤外線発光ダイオード1を用いて、図4に示す赤外線発光装置10を製造することができる。赤外線発光装置10は、赤外線発光ダイオード1と、リード端子71,72と、金属細線81,82と、封止部9を有する。
リード端子71,72は、赤外線発光ダイオード1の周囲に配置されている。金属細線81は、赤外線発光ダイオード1の第一金属層510の第三部分(第一電極)513とリード端子71とを接続する。金属細線82は、赤外線発光ダイオード1の第二金属層520の第三部分(第二電極)523とリード端子72とを接続する。封止部9は、赤外線発光ダイオード1の裏面絶縁膜6の半導体基板2とは反対の面を除いた部分に配置され、赤外線発光ダイオード1とリード端子71,72との間を封止している。つまり、赤外線発光ダイオード1の半導体積層部3が封止されている。
つまり、この赤外線発光装置10は、半導体積層部3を封止する封止部9を備える赤外線発光ダイオード1の一例である。
図5および図6に示すように、この実施形態の赤外線発光ダイオード1は、半導体基板2上に半導体積層部3を複数備え、これらが直列に接続されている。具体的には、隣り合う二つの半導体積層部3の一方の第一メサ部301と他方の第二メサ部302とが、第一開口部41および第二開口部42を介して金属層530で電気的に接続されている。
金属層530は、隣り合う二つの半導体積層部3の一方の第一メサ部301のn型半導体層に接触する部分511と、他方の第二メサ部302のp型半導体層に接触する部分521と、これらの半導体積層部3間の半導体基板2の一面21上に接触する部分533を有する。直列の一端に配置された半導体積層部3は、第一金属層510の半導体基板2の一面21上に形成された部分513が、外部配線との接続用電極として使用される。直列の他端に配置された半導体積層部3は、第二金属層520の半導体基板2の一面21上に形成された部分523が、外部配線との接続用電極として使用される。
また、上記各実施形態の赤外線発光ダイオード1は、半導体基板2の側面および半導体積層部3を封止する封止部を有する。また、第一実施形態の赤外線発光ダイオード1は、複数の半導体積層部3備えているが、図1ではその一部のみを示している。
[実施例1]
図1に示す構造の赤外線発光ダイオード1を以下の方法で作製した。
分子線エピタキシャル成長装置により、半絶縁性の[100]方位を持つGaAs基板2上に、Snを1×1019cm-3ドープしたInSb層およびAl0.05In0.95Sb層(n型半導体層)31をそれぞれ0.5μmの厚さで、Snを1×1019cm-3ドープしたAl0.22In0.78Sb層(n型バリア層)32を0.02μmの厚さで、ノンドープのAl0.05In0.95Sb層(活性層)33を2μmの厚さで、Znを1×1018cm-3ドープしたAl0.22In0.78Sb層(p型バリア層)34を0.02μmの厚さで、およびZnを1×1018cm-3ドープしたAl0.05In0.95Sb層(p型半導体層)35を0.5μmの厚さで、この順に形成した。
次に、この状態の半導体基板2上に、プラズマCVD装置によりSiO2膜を形成し、これをパターニングしたものをハードマスクとして、ドライエッチングを行うことで、半導体積層体30の二点鎖線E2より外側の部分を除去した。
この半導体積層体30に対する二段階のエッチングにより、半導体基板2の一面21から突出する第一メサ部301と、第一メサ部301から突出する第二メサ部302と、からなる二段メサ構造の半導体積層部3を得た。
次に、この状態の半導体基板2上に、リフトオフ法によりスパッタリング装置を用いて、Ti、Pt、Auの積層構造からなる第一金属層510および第二金属層520を形成した。金属層510,520において、Ti層の膜厚を20nm、Pt層の膜厚を20nm、Au層の膜厚を300nmとした。
このようにして赤外線発光ダイオード1を得た。
この実施例の赤外線発光ダイオード1によれば、第一金属層510の電極513と第二金属層520の電極523との間に電圧をかけ、電流を注入することで、活性層に発生した赤外光を半導体基板2の裏面22から取り出すことができる。
図7の赤外線発光ダイオード100は、第一メサ部301と第二メサ部302とからなる二段メサ構造の半導体積層部3を有するが、半導体積層部3上に絶縁層4を介して形成された金属層500は、第一メサ部301に接触する部分を有さない。また、金属層500は、第二メサ部302に接触する部分521を含む一対の第二金属層520と、これらを半導体基板2の周縁部で結合する電極部540とからなる。また、半導体基板2として導電性基板が用いられ、半導体基板2の裏面に電極層50が形成されている。
実施例1の赤外線発光ダイオード1は、半導体基板2として半絶縁性のGaAs基板を用いることから、基板内での損失が抑制され、比較例1の赤外線発光ダイオード100と比較して、効率よく赤外光を取り出すことができる。
図8の赤外線発光ダイオード101は、半導体基板2の外形面積S1は実施例1の赤外線発光ダイオード1と同じであるが、第二メサ部302の底面積S2は赤外線発光ダイオード1より大きい。つまり、赤外線発光ダイオード101の第二メサ部の基板被覆率(S2/S1)は0.8より大きい。また、金属層の基板被覆率(S3/S1)は0.65より小さい。また、赤外線発光ダイオード101は裏面絶縁膜6を有さない。これら以外の点は実施例1の赤外線発光ダイオード1と同じである。
このように半絶縁性の半導体基板を用いた場合でも、半導体基板の外形面積に対する第二メサ部302の底面積S2、つまり、活性層、p型半導体層、n型半導体層が占める面積が大きいと、半導体基板及び半導体積層部での多重反射を繰り返すうちに、光が吸収されて損失が大きくなる。実施例1の赤外線発光ダイオード1では、このような光の吸収が抑制されるため、比較例2の赤外線発光ダイオード101と比較して、効率よく赤外光を取り出すことができる。
実施例1の赤外線発光ダイオード1で、Ti、Pt、Auの積層構造からなる金属層510,520のTiの膜厚を0〜200nmの範囲で変えた場合に、活性層33で発生してn型半導体層(SnドープInSb層)31に入射された光(波長4.3μm)の金属層510(511)での反射率R5がどのように変化するかについて、シミュレーションした。その結果を図9にグラフで示す。
半導体基板2の裏面22から光を取り出す構造の赤外線発光ダイオードは、半導体基板2の一面21、つまり、半導体積層部3が形成されている側における光の吸収或いは透過による損失を抑制することにより、高い発光強度で赤外光を取り出すことができる。
反射率0.37は、金属層5が無い場合の屈折率が1.0の空間での反射率である。
反射率0.45は、金属層5を構成するTi層の厚さが200nmである場合の反射率であって、半導体基板2の一面21での反射の効果を積極的に考慮しない場合(従来技術)である。
反射率0.60は、金属層5を構成するTi層の厚さが60nmである場合の反射率である。
反射率0.75は、金属層5を構成するTi層の厚さが30nmである場合の反射率である。
反射率0.87は、金属層5を構成するTi層の厚さが5nmである場合の反射率である。
反射率1.00は理想状態の反射率である。
一方で、第二メサ部の基板被覆率(S2/S1)が低いほど、半導体基板内で多重反射を繰り返した際の第二メサ部における光吸収損失が低減するために、光取り出し効率が向上する。図11のグラフの縦軸は、反射率が0.45(従来技術)で、被覆率(S2/S1)が0の場合の光取り出し効率を「1」とした、光取り出し効率の相対値である。
一方、金属層の基板被覆率(S3/S1)を0.65以上1.0未満とすることによって、半導体基板2の一面21での平均反射率を0.60以上にすることができる。例えば、活性層で発生した光の金属層5での反射率が0.87、金属層5以外での反射率が0.37とした時に、金属層の基板被覆率(S3/S1)が0.65の場合の平均反射率は0.69≒0.65×0.87+0.35×0.37となる。
結果を示すグラフの縦軸は、p型半導体層の膜厚が0.5μm、活性層の膜厚が2μm、Tiの膜厚が100nmである場合(従来例)を「1」とした発光効率(相対値)の平均値である。横軸は、p型半導体層の膜厚と活性層の膜厚との合計値である。従来例でのp型半導体層の膜厚と活性層の膜厚との合計値は2.5μmである。
これに対して、本発明では、より高い発光効率の発光ダイオードを実現するために、低い注入電流によりキャリア濃度の増加を抑えてオージェ再結合を抑制し、活性層を薄くすることで、光の再吸収損失を抑制し、更に金属層での反射効率を上げる、という相乗効果を用いたものである。
2 GaAs基板(半導体基板)
21 半導体基板の一面
211 一面の半導体積層部が形成されていない領域
22 半導体基板の裏面
3 半導体積層部
30 半導体積層体
31 n型半導体層
32 n型バリア層
33 活性層
34 p型バリア層
35 p型半導体層
301 第一メサ部
3011 第一メサ部の第二メサ部で覆われていない上面
302 第二メサ部
4 絶縁層
5 金属層
510 第一金属層
511 n型半導体層に接触する部分(第一部分)
512 絶縁層上に形成されている部分
513 半導体基板の一面上に形成された部分(第三部分、電極)
520 第二金属層
521 p型半導体層に接触する部分(第二部分)
522 絶縁層上に形成されている部分
523 半導体基板の一面上に形成された部分(第三部分、電極)
6 裏面絶縁膜
71、72 リード端子
81,82 金属細線
9 封止部
Claims (10)
- 半導体基板と、
前記半導体基板の一面上に形成された半導体積層部であって、前記一面側から第一導電型半導体層、活性層、および第二導電型半導体層をこの順に有し、前記第一導電型半導体層、前記活性層、および前記第二導電型半導体層はインジウムおよびアンチモンの少なくとも一方を含み、前記一面から突出する第一メサ部と前記第一メサ部から突出する第二メサ部とを有し、前記第一メサ部と前記第二メサ部との境界が前記活性層よりも前記半導体基板側に存在する半導体積層部と、
前記第一メサ部の前記第一導電型半導体層に接触する第一部分と、前記第一部分とは独立した部分であって前記第二メサ部の前記第二導電型半導体層に接触する第二部分と、を有する金属層と、
前記半導体基板の側面及び前記半導体積層部を封止する封止部と、
を備え、
前記半導体基板上に前記半導体積層部を複数備え、複数の前記半導体積層部は互いに直列に接続され、
平面視における前記半導体基板の外形面積に対する前記第二メサ部の底面積の合計の比率は0.21以上0.8以下であり、
前記活性層で発生した光の前記金属層での反射率は0.60以上1.00以下であり、
前記一面の反対面である前記半導体基板の裏面が光取り出し面である赤外線発光ダイオード。 - 前記比率が0.21以上0.50以下である請求項1に記載の赤外線発光ダイオード。
- 平面視における前記半導体基板の外形面積に対する前記金属層の面積の割合は0.65以上1.0未満である請求項1または2に記載の赤外線発光ダイオード。
- 前記裏面の二乗平均平方根粗さは、前記第一メサ部の前記第二メサ部で覆われていない上面の二乗平均平方根粗さより大きく、且つ前記一面の前記半導体積層部が形成されていない領域の二乗平均平方根粗さより大きい請求項1〜3のいずれか一項に記載の赤外線発光ダイオード。
- 前記裏面の二乗平均平方根粗さは30nm以上2000nm以下であり、前記第一メサ部の前記第二メサ部で覆われていない上面の二乗平均平方根粗さ及び前記一面の前記半導体積層部が形成されていない領域の二乗平均平方根粗さは、15nm未満である請求項4に記載の赤外線発光ダイオード。
- 前記裏面に形成された絶縁膜を備え、
前記絶縁膜の膜厚は、20nm以上、且つ、前記活性層で発生する光のピーク波長を前記絶縁膜の屈折率で割った値の1/4以下である請求項1〜5のいずれか一項に記載の赤外線発光ダイオード。 - 前記第一部分および前記第二部分の少なくともいずれかは、前記第一導電型半導体層および前記第二導電型半導体層にそれぞれ接触する密着層を含み、
前記密着層はTi、Cr、およびNiの少なくともいずれかの材料を含み、前記密着層の膜厚は5nm以上60nm以下である請求項1〜6のいずれか一項に記載の赤外線発光ダイオード。 - 前記第一導電型がn型であり、前記第二導電型がp型であり、
前記活性層の膜厚と、前記第二導電型半導体層のうち前記活性層とのバンドギャップエネルギーの差が0.075eV以下である部分の膜厚と、の合計値が、0.5μm以上2.1μm以下である請求項1〜7のいずれか一項に記載の赤外線発光ダイオード。 - 前記第一導電型半導体層および前記第二導電型半導体層は、前記活性層とのバンドギャップエネルギーの差が0.075eV以下の材料で形成された層を、0.2μm以上の膜厚でそれぞれ含む請求項1〜8のいずれか一項に記載の赤外線発光ダイオード。
- 前記半導体基板は半絶縁性のGaAs基板であり、
前記活性層は、GaAsよりもバンドギャップエネルギーが小さく、AlxInyGa1-x-yAszSb1-z(0≦x≦1、0≦y≦1、0≦x+y≦1、0≦z≦1)を含み、
前記活性層で発生する光のピーク波長が2μm以上10μm以下である請求項1〜9のいずれか一項に記載の赤外線発光ダイオード。
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