JP2019003179A - Method for manufacturing optical laminate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光学積層体の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing an optical laminate.
従来、光学分野において用いられる種々のポリマーフィルムの製造においては、生産効率のよい量産方式として、ロール状に巻回された帯状の基材を用い、最終製品まで連続的な加工を行うことのできる、いわゆるＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ方式が広く採用されている。例えば、特許文献１には、長尺のポリマーフィルムを搬送しながら長手方向に延伸して光学フィルムを製造する方法が記載されている。また、特許文献２および３には、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ方式により搬送されるフィルム上にハードコート層や金属膜を形成する方法が記載されている。これらの方法においては、フィルムやフィルム上に形成される層や膜への傷付き防止等を目的として、搬送中のフィルムの帯電量が所定の値以下になるよう除電する工程が含まれることが記載されている。
Conventionally, in the production of various polymer films used in the optical field, it is possible to perform continuous processing up to the final product using a strip-shaped substrate wound in a roll shape as a mass production method with high production efficiency. The so-called Roll to Roll method is widely adopted. For example,
楕円偏光板等の光学積層体は、位相差フィルムや偏光フィルム等の種々の光学フィルムを積層させることにより製造することができる。このような光学分野において用いられる光学積層体の製造は、異物の混入を防ぐため、通常、空気中に浮遊する異物が少ないクリーンルーム内において行われている。しかしながら、光学フィルムの積層工程中に光学フィルムの端部等が剥離することがあり、剥離したフィルム片が異物となり得られる光学積層体の外表面に付着することにより得られる光学積層体に欠陥を生じるだけでなく、剥離したフィルム片等の異物がクリーンルーム内に残存することにより、残存した異物によりその後に製造される光学積層体に連続的な欠陥を生じる可能性がある。 An optical laminated body such as an elliptically polarizing plate can be produced by laminating various optical films such as a retardation film and a polarizing film. The manufacture of the optical layered body used in such an optical field is usually performed in a clean room where there are few foreign substances floating in the air in order to prevent foreign substances from entering. However, the edge of the optical film may be peeled off during the optical film laminating process, and the optical laminated body obtained by attaching the peeled film piece to the outer surface of the optical laminated body, which can be a foreign object, is defective. In addition to the occurrence of foreign matter such as peeled film pieces in the clean room, there is a possibility that a continuous defect may be caused in the optical laminate produced thereafter by the remaining foreign matter.
このため、光学積層体の製造工程においては、異物による製造中の光学積層体自身の傷付き防止に加えて、クリーンルーム内の異物の残存量をできる限り少なくすることが必要となる。一方、近年の画像表示装置の薄型化に伴い、重合性液晶化合物を基材や配向膜上に塗布し、配向状態で硬化させることにより得られる液晶硬化膜からなる位相差フィルム等の光学フィルムが開発されている。このような液晶硬化膜を含む光学フィルムでは、特に液晶硬化膜の端部が剥がれ落ちて異物を生じやすいことがわかってきた。 For this reason, in the manufacturing process of the optical laminate, in addition to preventing the optical laminate itself from being damaged by foreign matter, it is necessary to reduce the remaining amount of foreign matter in the clean room as much as possible. On the other hand, with the recent thinning of image display devices, an optical film such as a retardation film composed of a liquid crystal cured film obtained by applying a polymerizable liquid crystal compound on a substrate or an alignment film and curing it in an aligned state. Has been developed. In an optical film including such a liquid crystal cured film, it has been found that the edge of the liquid crystal cured film is particularly peeled off to easily generate foreign matters.
したがって、本発明は、製造工程中に生じる光学積層体を構成する材料に由来する異物の製造現場における残存量を低減する、光学積層体の製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing an optical laminate that reduces the residual amount of foreign matters derived from the materials constituting the optical laminate produced during the production process at the production site.
本発明は、以下の好適な態様を提供するものである。
［１］光学フィルム（１）と、重合性液晶化合物の重合体から構成される重合体層（２）とを備え、前記重合体層（２）が前記光学フィルム（１）と粘着剤または接着剤層（３）を介して積層されてなる光学積層体（４）を製造する方法であって、
長尺の基材フィルム（５）と、前記基材フィルム（５）上に積層された前記重合体層（２）とを備え、前記基材フィルム（５）が前記重合体層（２）から剥離可能である長尺の基材フィルム付き重合体層（６）を、除電しながら長手方向に搬送する基材フィルム付き重合体層除電搬送工程（Ａ）、
前記基材フィルム付き重合体層除電搬送工程（Ａ）により搬送される前記基材フィルム付き重合体層（６）に対して、前記重合体層（２）側に粘着剤または接着剤層（３）を介して長尺の光学フィルム（１）を貼合して、長尺の基材フィルム（５）と、前記重合体層（２）と、該重合体層（２）上に前記粘着剤または接着剤層（３）を介して貼合された長尺の光学フィルム（１）とを備え、前記基材フィルム（５）が前記重合体層（２）から剥離可能である長尺の基材フィルム付き光学積層体（７）を得る貼合工程（Ｂ）、および
前記貼合工程（Ｂ）で得られる基材フィルム付き光学積層体（７）から前記基材フィルム（５）を剥離して前記光学積層体（４）を得る剥離工程（Ｃ）と共に、
前記剥離工程（Ｃ）で剥離された後の前記基材フィルム（５）を除電しながら長手方向に搬送する基材フィルム除電搬送工程（Ｄ）を含み、
前記基材フィルム付き重合体層除電搬送工程（Ａ）における除電後の前記基材フィルム付き重合体層（６）の帯電量の絶対値が０．０１ｋＶ以上６ｋＶ以下である、または、前記基材フィルム除電搬送工程（Ｄ）における除電後の前記基材フィルム（５）の帯電量の絶対値が０．０１ｋＶ以上６ｋＶ以下である、光学積層体の製造方法。
［２］前記基材フィルム付き重合体層（６）において、前記重合体層（２）が該重合体層（２）の幅方向の全体に亙って前記基材フィルム（５）上に備えられ、前記基材フィルム（５）の幅が前記重合体層（２）の幅よりも広い、前記［１］に記載の製造方法。
［３］前記基材フィルム付き重合体層（６）において、前記基材フィルム（５）上に前記重合体層（２）が配向層（８）を介して積層されており、前記配向層（８）が幅方向の全体に亙って前記基材フィルム（５）上に積層されており、前記基材フィルム（５）の幅が前記配向層（８）の幅よりも広い、前記［１］または［２］に記載の製造方法。
［４］前記基材フィルム付き光学積層体（７）において、前記重合体層（２）の幅が前記粘着剤または接着剤層（３）の幅よりも広い、前記［１］〜［３］のいずれかに記載の製造方法。
［５］前記基材フィルム付き光学積層体（７）において、前記基材フィルム（５）上に前記重合体層（２）が配向層（８）を介して積層されており、前記配向層（８）の幅が前記粘着剤または接着剤層（３）の幅よりも広い、前記［１］〜［４］のいずれかに記載の製造方法。
［６］長尺の基材フィルム（５）と、前記基材フィルム（５）上に積層された、重合性液晶化合物の重合体から構成される重合体層（２）とを備え、前記基材フィルム（５）が前記重合体層（２）から剥離可能である長尺の基材フィルム付き重合体層（６）を、除電しながら長手方向に搬送する方法であって、
除電後の前記基材フィルム付き重合体層（６）の帯電量の絶対値が０．０１ｋＶ以上６ｋＶ以下である、基材フィルム付き重合体層の搬送方法。
［７］長尺の基材フィルム（５）と、重合性液晶化合物の重合体から構成される重合体層（２）と、該重合体層（２）上に粘着剤または接着剤層（３）を介して貼合された長尺の光学フィルム（１）とを備え、前記基材フィルム（５）が前記重合体層（２）から剥離可能である長尺の基材フィルム付き光学積層体（７）を製造する方法であって、
前記長尺の基材フィルム（５）と、該基材フィルム（５）上に積層された前記重合体層（２）とを備え、前記基材フィルム（５）が前記重合体層（２）から剥離可能である長尺の基材フィルム付き重合体層（６）を、除電しながら長手方向に搬送する基材フィルム付き重合体層除電搬送工程（Ａ）、および
前記基材フィルム付き重合体層除電搬送工程（Ａ）により搬送される前記基材フィルム付き重合体層（６）に対して、前記重合体層（２）側に粘着剤または接着剤層（３）を介して長尺の光学フィルム（１）を貼合して、長尺の基材フィルム（５）と、前記重合体層（２）と、該重合体層（２）上に前記粘着剤または接着剤層（３）を介して貼合された長尺の光学フィルム（１）とを備え、前記基材フィルム（５）が前記重合体層（２）から剥離可能である長尺の基材フィルム付き光学積層体（７）を得る工程（Ｂ）
を含み、前記基材フィルム付き重合体層除電搬送工程（Ａ）における除電後の前記基材フィルム付き重合体層（６）の帯電量の絶対値が０．０１ｋＶ以上６ｋＶ以下である、基材フィルム付き光学積層体の製造方法。
［８］長尺の光学フィルム（１）と、重合性液晶化合物の重合体から構成される重合体層（２）とを備え、前記重合体層（２）が前記光学フィルム（１）と粘着剤または接着剤層（３）を介して積層されている光学積層体（４）を製造する方法であって、
長尺の基材フィルム（５）と、前記重合体層（２）と、該重合体層（２）上に前記粘着剤または接着剤層（３）を介して貼合された長尺の光学フィルム（１）とを備え、前記基材フィルム（５）が前記重合体層（２）から剥離可能である長尺の基材フィルム付き光学積層体（７）から前記基材フィルム（５）を剥離して前記光学積層体（４）を得る剥離工程（Ｃ）と共に、
前記剥離工程（Ｃ）で剥離された後の前記基材フィルム（５）を除電しながら長手方向に搬送する基材フィルム除電搬送工程（Ｄ）を備え、
前記基材フィルム除電搬送工程（Ｄ）における除電後の前記基材フィルム（５）の帯電量の絶対値が０．０１ｋＶ以上６ｋＶ以下である、光学積層体の製造方法。
The present invention provides the following preferred embodiments.
[1] An optical film (1) and a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound, wherein the polymer layer (2) and the optical film (1) are adhesive or bonded A method for producing an optical laminate (4) laminated via an agent layer (3),
A long base film (5) and the polymer layer (2) laminated on the base film (5) are provided, and the base film (5) is formed from the polymer layer (2). The polymer layer with a base film that transports the long polymer layer with a base film (6) that can be peeled in the longitudinal direction while removing electricity (A),
With respect to the polymer layer with base film (6) transported in the neutralization transport step (A) with the base film, an adhesive or adhesive layer (3 on the polymer layer (2) side) ) To bond the long optical film (1) to the long base film (5), the polymer layer (2), and the pressure-sensitive adhesive on the polymer layer (2). Or a long optical film (1) bonded via an adhesive layer (3), and the base film (5) is peelable from the polymer layer (2). The base film (5) is peeled from the bonding step (B) to obtain the optical layered body with material film (7), and the optical layered body with base film (7) obtained in the bonding step (B). Together with the peeling step (C) to obtain the optical laminate (4)
Including a base film removing charge transporting step (D) for transporting in the longitudinal direction while discharging the base film (5) after being peeled in the peeling step (C),
The polymer layer with a base film has an absolute value of the charge amount of the polymer layer with a base film (6) after static elimination in the static elimination transport step (A) of the base film is not less than 0.01 kV and not more than 6 kV, or the base material The manufacturing method of the optical laminated body whose absolute value of the charge amount of the said base film (5) after static elimination in a film static elimination conveyance process (D) is 0.01 kV or more and 6 kV or less.
[2] In the polymer layer (6) with the base film, the polymer layer (2) is provided on the base film (5) over the entire width direction of the polymer layer (2). The manufacturing method according to [1], wherein the width of the base film (5) is wider than the width of the polymer layer (2).
[3] In the polymer layer with a base film (6), the polymer layer (2) is laminated on the base film (5) via an orientation layer (8), and the orientation layer ( 8) is laminated on the base film (5) over the entire width direction, and the width of the base film (5) is wider than the width of the alignment layer (8). ] Or the production method according to [2].
[4] In the optical laminate (7) with a base film, the width of the polymer layer (2) is wider than the width of the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3). The manufacturing method in any one of.
[5] In the optical laminate (7) with a base film, the polymer layer (2) is laminated on the base film (5) via an orientation layer (8), and the orientation layer ( 8) The production method according to any one of [1] to [4], wherein the width of the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) is wider.
[6] A long base film (5) and a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound laminated on the base film (5), The material film (5) is a method of transporting the polymer layer (6) with a long base film that can be peeled off from the polymer layer (2) in the longitudinal direction while removing electricity,
The conveyance method of the polymer layer with a base film whose absolute value of the charge amount of the said polymer layer with a base film (6) after static elimination is 0.01 kV or more and 6 kV or less.
[7] A long base film (5), a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound, and an adhesive or adhesive layer (3 on the polymer layer (2) ) And a long optical film (1) bonded to each other, and the base film (5) is peelable from the polymer layer (2). A method for producing (7), comprising:
The long base film (5) and the polymer layer (2) laminated on the base film (5) are provided, and the base film (5) is the polymer layer (2). A polymer layer with a base film that transports the long polymer layer with a base film (6) that can be peeled from the substrate in the longitudinal direction while removing electricity (A), and the polymer with a base film With respect to the polymer layer (6) with the substrate film conveyed by the layer static elimination conveyance step (A), the polymer layer (2) side is longer than the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3). An optical film (1) is bonded, and a long base film (5), the polymer layer (2), and the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) on the polymer layer (2). And a long optical film (1) bonded through the base film (5) is the polymer layer (2). (B) to obtain an optical laminate (7) with a long base film that can be peeled from
The polymer layer with a base film has a charge amount of 0.01 kV or more and 6 kV or less in the polymer layer with the base film (6) after static elimination in the static elimination transport step (A) of the base film. The manufacturing method of an optical laminated body with a film.
[8] A long optical film (1) and a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound, wherein the polymer layer (2) adheres to the optical film (1). A method for producing an optical laminate (4) laminated via an agent or adhesive layer (3),
A long optical film bonded to the long base film (5), the polymer layer (2), and the polymer layer (2) via the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3). The base film (5) from the long optical laminate (7) with a base film, the base film (5) being peelable from the polymer layer (2). Together with the peeling step (C) for peeling to obtain the optical laminate (4),
It comprises a substrate film charge removal conveyance step (D) that conveys the substrate film (5) after being peeled in the peeling step (C) in the longitudinal direction while removing electricity.
The manufacturing method of the optical laminated body whose absolute value of the charge amount of the said base film (5) after static elimination in the said base film static elimination conveyance process (D) is 0.01 kV or more and 6 kV or less.
本発明によれば、製造工程中に生じる光学積層体を構成する材料に由来する異物の製造現場における残存量を低減する、光学積層体の製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of an optical laminated body which reduces the residual amount in the manufacturing field of the foreign material derived from the material which comprises the optical laminated body which arises during a manufacturing process can be provided.
以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲で種々の変更をすることができる。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. Note that the scope of the present invention is not limited to the embodiment described here, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
＜光学積層体の製造方法＞
本発明は、粘着剤または接着剤層を介して積層された、光学フィルムおよび重合性液晶化合物の重合体から構成される重合体層を備える光学積層体の製造方法に関する。例えば、本発明の光学積層体の製造方法により得られる代表的な光学積層体の層構成の一例を示す図２に従って説明すると、本発明の光学積層体の製造方法により、光学フィルム（１）の一方の面に粘着剤または接着剤層（３）を介して積層された重合性液晶化合物の重合体から構成された重合体層（２）（以下、単に「重合体層（２）」ともいう）からなる光学積層体（４）を製造することができる。光学積層体（４）は、重合体層（２）の粘着剤または接着剤層（３）とは反対側の面に配向層（８）を有していてもよい。
<Method for producing optical laminate>
The present invention relates to a method for producing an optical laminate including a polymer layer composed of an optical film and a polymer of a polymerizable liquid crystal compound laminated via a pressure-sensitive adhesive or adhesive layer. For example, referring to FIG. 2 showing an example of a layer configuration of a typical optical laminate obtained by the method for producing an optical laminate of the present invention, the optical film (1) of the optical laminate (1) is produced by the method for producing an optical laminate of the present invention. A polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound laminated on one surface via an adhesive or adhesive layer (3) (hereinafter also simply referred to as “polymer layer (2)”). ) Can be produced. The optical layered body (4) may have an alignment layer (8) on the surface of the polymer layer (2) opposite to the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3).
図１は、本発明の光学積層体の製造方法の代表的な一実施態様を説明する概略図である。以下、図１に従って、本発明の光学積層体の製造方法を説明する。
本発明の光学積層体の製造方法は、長尺の基材フィルム（５）と、前記基材フィルム（５）上に積層された重合体層（２）とを備え、前記基材フィルム（５）が前記重合体層（２）から剥離可能である、長尺の基材フィルム付き重合体層（６）（図３）を除電しながら長手方向に搬送する基材フィルム付き重合体層除電搬送工程（Ａ）（以下、単に「工程（Ａ）」ともいう）を含む。本発明の一実施態様において、長尺の基材フィルム付き重合体層（６）は巻出しロールに巻回された状態で工程（Ａ）に用いられ、巻出しロール１（１１）にロール状に巻回された基材フィルム付き重合体層（６）が巻出しロール１（１１）から連続的に送り出されて、搬送用ローラー（１２）により長手方向に連続的に搬送される。
FIG. 1 is a schematic view illustrating a typical embodiment of the method for producing an optical layered body of the present invention. Hereinafter, the manufacturing method of the optical laminated body of this invention is demonstrated according to FIG.
The manufacturing method of the optical laminated body of this invention is equipped with the elongate base film (5) and the polymer layer (2) laminated | stacked on the said base film (5), The said base film (5 ) Is removable from the polymer layer (2), and the polymer layer with a base film is transported in the longitudinal direction while discharging the polymer layer with a long base film (6) (FIG. 3). Step (A) (hereinafter, also simply referred to as “Step (A)”) is included. In one embodiment of the present invention, the long polymer layer (6) with a base film is used in the step (A) in a state of being wound around an unwinding roll, and is rolled into the unwinding roll 1 (11). The polymer layer (6) with a base film wound around is continuously fed out from the unwinding roll 1 (11) and continuously conveyed in the longitudinal direction by the conveying roller (12).
本発明において、基材フィルム（５）は、該基材フィルム上に積層される重合体層（２）または配向層（８）から最終的に剥離可能な材料からなるものであれば特に制限されるものではない。基材フィルム（５）としては、光学フィルムに用いられる公知の材料を用いることができ、樹脂基材からなる長尺のフィルムロールであることが好ましい。樹脂基材からなる基材フィルム（５）を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；セルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルフォン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド；およびポリフェニレンオキシド等が挙げられる。 In this invention, a base film (5) will be restrict | limited especially if it consists of a material finally peelable from the polymer layer (2) or orientation layer (8) laminated | stacked on this base film. It is not something. As a base film (5), the well-known material used for an optical film can be used, and it is preferable that it is a long film roll which consists of a resin base material. As resin which comprises the base film (5) which consists of a resin base material, Polyolefin, such as polyethylene, a polypropylene, a norbornene-type polymer; Polyvinyl alcohol; Polyethylene terephthalate; Polymethacrylate ester; Polyacrylate ester; Cellulose ester; Polyethylene naphthalate; polycarbonate; polysulfone; polyether sulfone; polyether ketone; polyphenylene sulfide; and polyphenylene oxide.
このような樹脂基材からなる基材フィルムは一般に帯電しやすい性質を有している帯電性の樹脂基材フィルムであり、例えば、ロール状に巻回されていた基材フィルム付き重合体層（６）が巻出しロール１（１１）から送り出されて搬送される際に基材フィルム付き重合体層（６）同士が剥離することにより、また、送り出された基材フィルム付き重合体層（６）が搬送用ローラー（１２）と接触、剥離することにより、搬送中の基材フィルム付き重合体層（６）の帯電量は高くなる。例えば、基材フィルム付き重合体層（６）が基材フィルム（５）として樹脂基材を含む場合、送り出された後の基材フィルム付き重合体層（６）は除電を行わない場合には絶対値が７ｋＶを超えるような帯電量を有する。このような高い帯電量を有したまま光学積層体を製造することは、作業者に対する危険を生じたり、用いる機械等への不具合を生じたりする可能性があるだけでなく、空気中に存在する塵や埃等が製造中の積層体に付着したり巻き込まれたりすることにより、得られる光学積層体に欠陥を生じる原因となる。このため、本発明において、巻出しロール１（１１）から送り出された基材フィルム付き重合体層（６）は、除電しながら長手方向に連続的に搬送される。 A base film made of such a resin base is a chargeable resin base film having a property that is generally easily charged. For example, a polymer layer with a base film wound in a roll shape ( When the polymer layer (6) with the base film is peeled off when the 6) is fed from the unwinding roll 1 (11) and transported, the polymer layer with the base film (6) fed out (6) ) Comes in contact with and peels from the transport roller (12), the charge amount of the polymer layer with a base film (6) being transported becomes high. For example, when the polymer layer with a base film (6) includes a resin base as the base film (5), the polymer layer with a base film (6) after being sent out does not perform static elimination. The charge amount is such that the absolute value exceeds 7 kV. Producing an optical layered body with such a high charge amount may not only cause danger to the worker and cause problems with the machine used, but also exists in the air. When dust, dust, or the like adheres to or is caught in the laminate being manufactured, it causes a defect in the resulting optical laminate. For this reason, in this invention, the polymer layer (6) with a base film sent out from the unwinding roll 1 (11) is continuously conveyed in a longitudinal direction, carrying out static elimination.
工程（Ａ）において、除電後の基材フィルム付き重合体層（６）の帯電量の絶対値が０．０１ｋＶ以上６ｋＶ以下となるよう除電することが好ましい。帯電量が前記下限値以上であると、基材フィルム付き重合体層（６）が搬送される過程において基材フィルム付き重合体層（６）を構成する材料、特に重合体層（２）や配向層（８）等の端部が剥がれ落ちることにより生じる異物が基材フィルム（５）に付着しやすく、また、剥がれ落ちそうになった端部が、帯電による吸着によって脱落せずに基材フィルム（５）上に留まり易いことから、その後の工程において剥離される基材フィルム（５）とともに異物を製造現場（クリーンルーム）（２０）から排出することができる。これにより、製造現場における基材フィルム付き重合体層（６）を構成する材料に由来する異物の残存量を低減することができる。 In the step (A), it is preferable that the charge is removed so that the absolute value of the charge amount of the polymer layer (6) with a base film after static elimination is 0.01 kV or more and 6 kV or less. When the charge amount is equal to or higher than the lower limit, the material constituting the polymer layer with a base film (6) in the process of transporting the polymer layer with a base film (6), particularly the polymer layer (2) or Foreign materials generated by peeling off the end of the alignment layer (8) and the like are likely to adhere to the base film (5), and the end that is about to come off does not fall off due to adsorption due to charging. Since it is easy to stay on a film (5), a foreign material can be discharged | emitted from a manufacturing field (clean room) (20) with the base film (5) peeled in a subsequent process. Thereby, the residual amount of the foreign material originating in the material which comprises the polymer layer (6) with a base film in a manufacturing field can be reduced.
従来、空気中の塵や埃の付着を防止したり、異常放電を防止したりする観点から、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ方式で搬送されるフィルムの帯電量は低ければ低いほど（理想的には０ｋＶ）好ましいと考えられてきた（例えば、上記特許文献等）。しかしながら、本発明のような重合性液晶化合物の重合体からなる重合体層や配向層などを含む光学積層体の製造方法においては、帯電量を可能な限り０ｋＶに近づけた場合、空気中に存在する塵や埃等が製造中の積層体（フィルム）に付着し難くなる一方で、主に製造工程中に発生する、目的とする光学積層体自体を構成する材料に由来して生じる異物も吸着し難くなる。このような異物は製造現場内に残存し、その後に製造される光学積層体に連続的な欠陥を生じる可能性がある。本発明においては、このような光学積層体を構成する材料に由来して生じる異物をより効果的に基材フィルム（５）に吸着させ、製造現場内への異物の残存量を低減させる観点から、工程（Ａ）における除電後の基材フィルム付き重合体層（６）の帯電量の絶対値の下限値は、０．０３ｋＶ以上であることがより好ましく、０．０５ｋＶ以上であることがさらに好ましく、０．０７ｋＶ以上であることが特に好ましい。さらには工程（Ａ）における除電後の基材フィルム付き重合体層（６）の帯電量（絶対値）が上記下限値以上、さらには０．５ｋＶ以上、特には１．０ｋＶ以上を維持することが好ましい。 Conventionally, from the viewpoint of preventing dust in the air and adhesion of dust and preventing abnormal discharge, the lower the charge amount of the film conveyed by the Roll to Roll method (ideally 0 kV) is preferable. (For example, the above-mentioned patent documents). However, in the method for producing an optical laminate including a polymer layer made of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound and an alignment layer as in the present invention, it exists in the air when the charge amount is as close to 0 kV as possible. Dust and dust are less likely to adhere to the laminate (film) that is being manufactured, while foreign matter that occurs mainly during the manufacturing process and that originates from the materials that make up the target optical laminate itself is also adsorbed. It becomes difficult to do. Such foreign matter may remain in the manufacturing site and cause a continuous defect in the optical laminated body manufactured thereafter. In the present invention, from the viewpoint of reducing the residual amount of foreign matter in the manufacturing site by more effectively adsorbing foreign matter derived from the material constituting such an optical laminate to the base film (5). The lower limit of the absolute value of the charge amount of the polymer layer with a substrate film (6) after static elimination in the step (A) is more preferably 0.03 kV or more, and more preferably 0.05 kV or more. Preferably, it is 0.07 kV or more. Furthermore, the charge amount (absolute value) of the polymer layer (6) with a base film after static elimination in the step (A) is maintained at the above lower limit or more, further 0.5 kV or more, particularly 1.0 kV or more. Is preferred.
また、異常放電の防止、安全性等の観点から、工程（Ａ）における除電後の基材フィルム付き重合体層（６）の帯電量の絶対値の上限値は、５ｋＶ以下であることがより好ましく、３ｋＶ以下であることがさらに好ましく、１ｋＶ以下であることが特に好ましい。 In addition, from the viewpoint of preventing abnormal discharge, safety, etc., the upper limit of the absolute value of the charge amount of the polymer layer with a base film (6) after static elimination in the step (A) is more preferably 5 kV or less. Preferably, it is 3 kV or less, more preferably 1 kV or less.
基材フィルム付き重合体層（６）の帯電量は、例えば、公知の除電装置等を用いることにより制御することができる。除電装置としては、例えば、イオン風を発生するイオン風除電装置、紫外線や軟Ｘ線による光照射式除電装置、自己放電式除電装置、除電ブラシ、除電紐、接地（アース）等が挙げられ、用いるＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌの設備等に合わせて適宜選択すればよい。除電装置は、１種のみを用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。本発明において、除電装置としては、迅速かつ確実に除電を行うことができることから、イオン風除電装置および光照射式除電装置が好ましい。本発明によれば、イオン風除電装置を用いた場合にも、剥離したフィルム片のイオン風による飛散を抑制できるため、イオン風除電装置の利用がより好ましい。イオン風除電装置を用いる場合、基材フィルム付き重合体層（６）の基材フィルム（５）側にイオン風があたるようにイオン風除電装置を搬送経路に沿って設置することが好ましい。 The charge amount of the polymer layer (6) with the base film can be controlled by using, for example, a known static eliminator. Examples of the static eliminator include an ion wind static eliminator that generates an ion wind, a light irradiation type static eliminator using ultraviolet rays or soft X-rays, a self-discharge type static eliminator, a static eliminator brush, a static eliminator, and a ground (earth). What is necessary is just to select suitably according to the equipment of Roll to Roll to be used. Only one type of static eliminator may be used, or a plurality of static eliminators may be used in combination. In the present invention, as the static eliminator, an ion wind static eliminator and a light irradiation type static eliminator are preferable because static neutralization can be performed quickly and reliably. According to the present invention, even when an ion wind static eliminator is used, the use of an ion wind static eliminator is more preferable because scattering of the peeled film piece due to the ion wind can be suppressed. When using an ion wind static elimination apparatus, it is preferable to install an ion wind static elimination apparatus along a conveyance path | route so that an ion wind may hit the base film (5) side of the polymer layer (6) with a base film.
工程（Ａ）において、搬送中の基材フィルム付き重合体層（６）の全長にわたってその帯電量が上記範囲を維持するように制御されていることが好ましい。このため、巻出しロール１（１１）から基材フィルム付き重合体層（６）が送り出された直後に除電装置（１３）を設けることが好ましく、例えば、摩擦により帯電量が高くなりやすい搬送用ローラー（１２）と接触後の基材フィルム付き重合体層（６）の帯電量を制御することができるよう搬送用ローラー（１２）の下流側に設置するなど、基材フィルム付き重合体層（６）の搬送経路に沿って適宜除電装置を設けることにより、搬送中の基材フィルム付き重合体層（６）の帯電量を制御することが好ましい。また、除電後の基材フィルム付き重合体層（６）は、上述した帯電量（絶対値）の下限値を維持し得るように、接地（アース）させることなく搬送してもよいし、基材フィルムが帯電性の樹脂基材フィルムであれば、さらなる除電を行うことなくそのまま搬送してもよい。
なお、基材フィルム付き重合体層（６）の帯電量は、除電装置の下流域に、表面電位（電界）測定器等の帯電量測定装置を設けることにより測定することができる。
In the step (A), the charge amount is preferably controlled so as to maintain the above range over the entire length of the polymer layer (6) with a base film being conveyed. For this reason, it is preferable to provide the static eliminator (13) immediately after the polymer layer (6) with the base film is sent out from the unwinding roll 1 (11). The polymer layer with the base film (for example, installed on the downstream side of the transport roller (12) so that the charge amount of the polymer layer with the base film (6) after contact with the roller (12) can be controlled. It is preferable to control the charge amount of the polymer layer (6) with a base film being transported by appropriately providing a static eliminator along the transport path of 6). In addition, the polymer layer (6) with the base film after static elimination may be transported without being grounded (grounded) so as to maintain the lower limit value of the above-described charge amount (absolute value). If the material film is a chargeable resin base film, it may be conveyed as it is without further charge removal.
In addition, the charge amount of the polymer layer (6) with the base film can be measured by providing a charge amount measuring device such as a surface potential (electric field) measuring device in the downstream region of the static eliminator.
本発明の光学積層体の製造方法は、前記工程（Ａ）により搬送される基材フィルム付き重合体層（６）に対して、重合体層（２）側に粘着剤または接着剤層（３）を介して長尺の光学フィルム（１）を貼合して、長尺の基材フィルム（５）と、重合体層（２）と、該重合体層（２）上に粘着剤または接着剤層（３）を介して貼合された長尺の光学フィルム（１）とを備え、前記基材フィルム（５）が前記重合体層（２）から剥離可能である長尺の基材フィルム付き光学積層体（７）（図４）を得る貼合工程（Ｂ）（以下、単に「工程（Ｂ）」ともいう）を含む。 The manufacturing method of the optical laminated body of this invention is an adhesive or adhesive layer (3 on the polymer layer (2) side with respect to the polymer layer (6) with a base film conveyed by the said process (A). ) To bond the long optical film (1) to the long base film (5), the polymer layer (2), and the pressure-sensitive adhesive or adhesive on the polymer layer (2). A long base film comprising a long optical film (1) bonded via an agent layer (3), the base film (5) being peelable from the polymer layer (2). It includes a bonding step (B) (hereinafter also simply referred to as “step (B)”) to obtain the attached optical laminate (7) (FIG. 4).
本発明の一実施態様において、工程（Ｂ）では、工程（Ａ）により連続的に搬送される基材フィルム付き重合体層（６）を構成する重合体層（２）の基材フィルム（５）側とは反対側の面に、該基材フィルム付き重合体層（６）を搬送しながら粘着剤または接着剤層（３）を連続的に設ける。粘着剤または粘着剤層（３）は、例えば粘着剤または接着剤（３’）を塗布することにより設けることができる。粘着剤または接着剤の塗布は通常の方法、例えば溶剤で希釈した接着剤を、あるいは無希釈の接着剤をグラビアコーター、ダイコーターなどにより塗布する方法により行うことができる。工程（Ｂ）において、粘着剤または接着剤は、基材フィルム付き重合体層（６）を構成する基材フィルム（５）とは反対側の層の最外面（例えば、図３では重合体層（２）側）に塗布すればよいが、基材フィルム付き重合体層（６）に貼合される光学フィルム（１）側に塗布してもよい。次いで、粘着剤または接着剤が塗布された基材フィルム付き重合体層（６）を搬送しながら、基材フィルム付き重合体層（６）の重合体層（２）側に、巻出しロール２（１４）から連続的に送り出された光学フィルム（１）を重ね合わせ、ニップロール（１５）により圧着することにより、基材フィルム付き重合体層（６）に粘着剤または接着剤層（３）を介して貼合された光学フィルム（１）を含む長尺の基材フィルム付き光学積層体（７）を連続的に得ることができる。
In one embodiment of the present invention, in the step (B), the base material film (5) of the polymer layer (2) constituting the base material film-attached polymer layer (6) continuously conveyed in the step (A). The pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) is continuously provided on the surface opposite to the) side while transporting the polymer layer (6) with a substrate film. The pressure-sensitive adhesive or pressure-sensitive adhesive layer (3) can be provided, for example, by applying a pressure-sensitive adhesive or an adhesive (3 '). The pressure-sensitive adhesive or adhesive can be applied by an ordinary method, for example, a method in which an adhesive diluted with a solvent is applied, or an undiluted adhesive is applied by a gravure coater, a die coater or the like. In the step (B), the pressure-sensitive adhesive or adhesive is the outermost surface of the layer opposite to the base film (5) constituting the polymer layer (6) with the base film (for example, the polymer layer in FIG. 3). It may be applied to (2) side), but may be applied to the optical film (1) side to be bonded to the polymer layer (6) with a base film. Next, while conveying the polymer layer with a base film (6) coated with an adhesive or an adhesive, the unwinding
重合体層（２）上または光学フィルム（１）上に粘着剤または接着剤層（３）を形成する際、粘着剤または接着剤（３’）を重合体層（２）の幅と同じ幅に塗布してもよいが、粘着剤または接着剤層（３）と重合体層（２）とを圧着させる際に、粘着剤または接着剤が積層体の側面にはみ出し難く、得られる光学積層体がきれいに仕上がることから、粘着剤または接着剤を重合体層（２）の幅よりも狭い幅で塗布し、得られる基材フィルム付き光学積層体（７）において重合体層（２）の幅が粘着剤または接着剤層（３）の幅より広いことが好ましい。 When the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) is formed on the polymer layer (2) or the optical film (1), the pressure-sensitive adhesive or adhesive (3 ′) is the same width as the width of the polymer layer (2). However, when the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) and the polymer layer (2) are pressure-bonded, it is difficult for the pressure-sensitive adhesive or adhesive to protrude from the side surface of the laminate, and the resulting optical laminate is obtained. Is applied in a narrower width than the width of the polymer layer (2), and the width of the polymer layer (2) in the optical laminate (7) with a base film obtained is It is preferably wider than the width of the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3).
工程（Ａ）において基材フィルム（５）に付着させた異物の製造現場（クリーンルーム）外への確実な排出を可能にするため、また、工程（Ｂ）において新たに生じ得る基材フィルム付き光学積層体（７）の構成材料に由来する異物を基材フィルム（５）に付着させ、製造現場（クリーンルーム）外へ排出するため、工程（Ｂ）において、搬送される基材フィルム付き重合体層（６）および基材フィルム付き光学積層体（７）の帯電量の絶対値は、０．０１ｋＶ以上６ｋＶ以下に制御されていることが好ましく、０．０３ｋＶ以上５ｋＶ以下であることがより好ましく、０．０５ｋＶ以上３ｋＶ以下であることがさらに好ましく、０．０７ｋＶ以上であることが特に好ましい。さらには工程（Ｂ）において搬送させる基材フィルム付き重合体層（６）および基材フィルム付き光学積層体（７）の帯電量（絶対値）が上記下限値以上、さらには０．５ｋＶ以上、特には１．０ｋＶ以上を維持することが好ましい。工程（Ｂ）における基材フィルム付き重合体層（６）および基材フィルム付き光学積層体（７）の帯電量は、工程（Ａ）における方法と同様の方法により制御することができる。工程（Ｂ）の全域にわたり、基材フィルム付き重合体層（６）および基材フィルム付き光学積層体（７）の帯電量が上記範囲に制御され、かつ、維持されていることが好ましい。また、除電後の基材フィルム付き重合体層（６）および基材フィルム付き光学積層体（７）は、上記帯電量（絶対値）の下限値を維持し得るように、接地させることなく搬送してもよいし、基材フィルムが帯電性の樹脂基材フィルムであれば、さらなる除電を行うことなくそのまま搬送してもよい。 In order to enable reliable discharge of the foreign matter adhered to the base film (5) in the step (A) to the outside of the production site (clean room), an optical with a base film that can be newly generated in the step (B) In order to make the foreign material derived from the constituent material of the laminate (7) adhere to the base film (5) and discharge it outside the production site (clean room), the polymer layer with the base film transported in the step (B) The absolute value of the charge amount of (6) and the optical laminate (7) with a base film is preferably controlled to 0.01 kV or more and 6 kV or less, more preferably 0.03 kV or more and 5 kV or less, It is more preferably 0.05 kV or more and 3 kV or less, and particularly preferably 0.07 kV or more. Furthermore, the charge amount (absolute value) of the polymer layer with a substrate film (6) and the optical laminate with a substrate film (7) to be conveyed in the step (B) is not less than the above lower limit value, more preferably not less than 0.5 kV, In particular, it is preferable to maintain 1.0 kV or more. The charge amount of the polymer layer with a base film (6) and the optical laminate with a base film (7) in the step (B) can be controlled by the same method as in the step (A). It is preferable that the charge amount of the polymer layer with a base film (6) and the optical layered body with a base film (7) is controlled and maintained within the above range throughout the step (B). In addition, the polymer layer with base film (6) and the optical layered body with base film (7) after static elimination are transported without being grounded so that the lower limit of the charge amount (absolute value) can be maintained. Alternatively, if the base film is a chargeable resin base film, the base film may be transported as it is without further static elimination.
さらに、本発明の光学積層体の製造方法は、工程（Ｂ）で得られた基材フィルム付き光学積層体（７）から基材フィルム（５）を剥離して、光学積層体（４）を得る剥離工程（Ｃ）（以下、単に「工程（Ｃ）」ともいう）と共に、工程（Ｃ）で剥離された後の基材フィルム（５）を除電しながら長手方向に搬送する基材フィルム除電搬送工程（Ｄ）（以下、単に「工程（Ｄ）」ともいう）を含む。基材フィルム（５）に付着した異物を基材フィルム（５）とともに製造現場（クリーンルーム）外へ排出するため、工程（Ｃ）と工程（Ｄ）は、通常同時に行われる。工程（Ｃ）で積層体から基材フィルム（５）を剥離しながら、工程（Ｄ）で剥離後の基材フィルム（５）の帯電量を特定の範囲に制御することにより、基材フィルム（５）に異物を付着させたまま製造現場（クリーンルーム）外へ排出することが可能となる。 Furthermore, the manufacturing method of the optical laminated body of this invention peels a base film (5) from the optical laminated body (7) with a base film obtained at the process (B), and carries out an optical laminated body (4). Along with the obtained peeling step (C) (hereinafter also simply referred to as “step (C)”), the substrate film is discharged in the longitudinal direction while discharging the substrate film (5) peeled in the step (C) in the longitudinal direction. It includes a transfer step (D) (hereinafter also simply referred to as “step (D)”). In order to discharge the foreign matter adhering to the base film (5) to the outside of the manufacturing site (clean room) together with the base film (5), the step (C) and the step (D) are usually performed simultaneously. While peeling the base film (5) from the laminate in the step (C), by controlling the charge amount of the base film (5) after peeling in the step (D) to a specific range, It becomes possible to discharge the outside of the manufacturing site (clean room) with the foreign matter attached to 5).
本発明の一実施態様において、工程（Ｂ）で得られた基材フィルム付き光学積層体（７）を長手方向に、基材フィルム（５）側を剥離用ロール（１６）に抱かせ、光学積層体（４）側は抱かせることなく連続的に搬送することにより、基材フィルム付き光学積層体（７）から基材フィルム（５）を連続的に剥離する。このとき、図７に示すように、重合体層（２）の幅が粘着剤または接着剤層（３）の幅より広いと、重合体層（２）において粘着剤または接着剤層（３）に接着されない領域（２ａ）が存在し、基材フィルム（５）を剥離した場合前記領域（２ａ）は基材フィルム（５）上に残存しやすい。基材フィルム（５）上に残存した前記領域（２ａ）は、基材フィルム（５）との密着性が低いため、基材フィルム付き光学積層体（７）から剥離後の基材フィルム（５）から微細な剥離片として脱落しやすい。また、重合体層（２）が配向層（８）を介して基材フィルム（５）上に積層されている場合には、配向層（８）と基材フィルム（５）との関係において、上記重合体層（２）と基材フィルム（５）との関係と同様の問題が生じやすい。 In one embodiment of the present invention, the optical laminate (7) with a base film obtained in the step (B) is held in the longitudinal direction, and the base film (5) side is held by a peeling roll (16), and optical The substrate (5) is peeled continuously from the optical laminate (7) with a substrate film by continuously conveying the laminate (4) without holding it. At this time, as shown in FIG. 7, when the width of the polymer layer (2) is wider than the width of the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3), the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) in the polymer layer (2). When the base film (5) is peeled off, the region (2a) tends to remain on the base film (5). Since the said area | region (2a) which remained on the base film (5) has low adhesiveness with a base film (5), the base film (5) after peeling from an optical laminated body (7) with a base film. ) To easily fall off as a fine peeled piece. Moreover, when the polymer layer (2) is laminated | stacked on the base film (5) through the orientation layer (8), in the relationship between an orientation layer (8) and a base film (5), Problems similar to the relationship between the polymer layer (2) and the base film (5) are likely to occur.
このような基材フィルム付き光学積層体（７）から剥離した後の基材フィルム（５）から重合体層（２）の残存領域（２ａ）等が剥離片（異物）として脱落することを防止するため、工程（Ｄ）において、工程（Ｃ）で剥離された後の基材フィルム（５）の帯電量の絶対値が０．０１ｋＶ以上６ｋＶ以下であることが好ましい。上記重合体層（２）の残存領域（２ａ）の脱落を防止するとともに、工程（Ａ）や（Ｂ）等において基材フィルム（５）にすでに付着している異物を基材フィルム（５）に吸着させたまま製造現場（クリーンルーム）外へ排出し、製造現場内への異物の残存量を低減させる観点から、工程（Ｄ）における剥離後の基材フィルム（５）の帯電量の絶対値の下限値は、０．０３ｋＶ以上であることがより好ましく、０．０５ｋＶ以上であることがさらに好ましく、０．０７ｋＶ以上であることが特に好ましい。さらには工程（Ｄ）における剥離後の基材フィルム（５）の帯電量（絶対値）が上記下限値以上、さらには０．５ｋＶ以上、特には０．６ｋＶ以上、とりわけ０．７ｋＶ以上を維持することが好ましい。また、異常放電防止や安全性等の観点から、工程（Ｄ）における剥離後の基材フィルム（５）の帯電量の絶対値の上限値は、５ｋＶ以下であることがより好ましく、３ｋＶ以下であることがさらに好ましく、１ｋＶ以下であることが特に好ましい。また、基材フィルム（５）は、上記帯電量（絶対値）の下限値を維持し得るように、接地させることなく搬送してもよいし、基材フィルムが帯電性の樹脂基材フィルムであれば、そのまま搬送してもよい。 The remaining region (2a) of the polymer layer (2) is prevented from falling off as a peeled piece (foreign matter) from the base film (5) after being peeled from the optical laminate (7) with the base film. Therefore, in the step (D), the absolute value of the charge amount of the base film (5) after being peeled off in the step (C) is preferably 0.01 kV or more and 6 kV or less. While preventing the remaining region (2a) of the polymer layer (2) from falling off, the foreign material already adhered to the base film (5) in the steps (A) and (B) is removed from the base film (5). From the standpoint of reducing the amount of foreign matter remaining in the manufacturing site by discharging to the outside of the manufacturing site (clean room) while adsorbed on the substrate, the absolute value of the charge amount of the base film (5) after peeling in the step (D) Is more preferably 0.03 kV or more, further preferably 0.05 kV or more, and particularly preferably 0.07 kV or more. Furthermore, the charge amount (absolute value) of the base film (5) after peeling in the step (D) is not less than the above lower limit, more preferably not less than 0.5 kV, particularly not less than 0.6 kV, particularly not less than 0.7 kV. It is preferable to do. From the viewpoint of preventing abnormal discharge and safety, the upper limit of the absolute value of the charge amount of the base film (5) after peeling in the step (D) is more preferably 5 kV or less, and 3 kV or less. More preferably, it is 1 kV or less. In addition, the base film (5) may be transported without being grounded so that the lower limit of the above-mentioned charge amount (absolute value) can be maintained, or the base film is a chargeable resin base film. If there is, it may be conveyed as it is.
工程（Ａ）における基材フィルム付き重合体層（６）の帯電量と工程（Ｄ）における剥離後の基材フィルム（５）の帯電量は、同程度であるか、工程（Ｄ）における剥離後の基材フィルム（５）の帯電量の絶対値が、工程（Ａ）における基材フィルム付き重合体層（６）の帯電量の絶対値より大きいことが好ましい。工程（Ｄ）における剥離後の基材フィルム（５）の帯電量の絶対値が十分に大きいと、剥離された基材フィルム（５）に異物を付着させたまま製造現場（クリーンルーム）外へ排出することができ、製造現場内の異物の残存量を効果的に低減することができる。また、工程（Ａ）〜工程（Ｄ）の全工程にわたり、製造中の積層体（フィルム）の帯電量が０．０１ｋＶ以上６ｋＶ以下の範囲に制御されて維持されていると、一旦基材フィルム（５）に付着した異物が製造現場内にこぼれ落ち難く、剥離される基材フィルム（５）とともに製造現場外へ排出されるため好ましい。 The charge amount of the polymer layer with a base film (6) in the step (A) and the charge amount of the base film (5) after peeling in the step (D) are the same level or peeling in the step (D). It is preferable that the absolute value of the charge amount of the subsequent base film (5) is larger than the absolute value of the charge amount of the polymer layer with a base film (6) in the step (A). If the absolute value of the charge amount of the base film (5) after peeling in the step (D) is sufficiently large, it is discharged out of the manufacturing site (clean room) with foreign matter adhering to the peeled base film (5). This can effectively reduce the remaining amount of foreign matter in the manufacturing site. Moreover, once the charge amount of the laminate (film) being manufactured is controlled and maintained in the range of 0.01 kV or more and 6 kV or less throughout all the steps (A) to (D), the substrate film is once formed. The foreign matter adhering to (5) is not easily spilled into the production site, and is preferably discharged together with the base film (5) to be peeled out of the production site.
工程（Ｄ）において、剥離後の基材フィルム（５）の帯電量は、工程（Ａ）における方法と同様に公知の除電装置等を用いることにより制御することができる。製造現場内に異物が残存しないよう、工程（Ｄ）において、剥離後の基材フィルム（５）の帯電量は、基材フィルムが製造現場（クリーンルーム）（２０）外へ排出されるまで上記範囲に制御され、維持されていることが好ましい。本発明の一実施態様において、工程（Ｄ）において除電装置（１３）は、必要に応じて、剥離用ロール（１６）の下流側に、好ましくは直後に設置され得る。 In the step (D), the charge amount of the base film (5) after peeling can be controlled by using a known static eliminator or the like as in the method in the step (A). In step (D), the charge amount of the base film (5) after peeling is within the above range until the base film is discharged out of the manufacturing site (clean room) (20) so that no foreign matter remains in the manufacturing site. Is preferably controlled and maintained. In one embodiment of the present invention, in the step (D), the static eliminator (13) may be installed on the downstream side of the peeling roll (16), preferably immediately after, if necessary.
また、工程（Ｄ）における剥離後の基材フィルム（５）の帯電量の絶対値が、工程（Ｃ）において得られる光学積層体（４）の帯電量の絶対値より大きいことが好ましい。光学積層体（４）の帯電量より、基材フィルム（５）の帯電量が大きいと、異物が基材フィルム（５）により付着しやすくなり、得られる光学積層体（４）上に異物が付着し欠陥を生じる可能性を低減することができる。本発明の一実施態様において、工程（Ｃ）における光学積層体（４）の帯電量の絶対値に対して、工程（Ｄ）における剥離後の基材フィルム（５）の帯電量の絶対値は、０．０２ｋＶ以上大きいことが好ましく、０．０５ｋＶ以上大きいことがより好ましい。 Moreover, it is preferable that the absolute value of the charge amount of the base film (5) after peeling in the step (D) is larger than the absolute value of the charge amount of the optical laminate (4) obtained in the step (C). If the charge amount of the base film (5) is larger than the charge amount of the optical laminate (4), the foreign matter is likely to adhere to the base film (5), and the foreign matter is deposited on the resulting optical laminate (4). The possibility of adhesion and defects can be reduced. In one embodiment of the present invention, the absolute value of the charge amount of the base film (5) after peeling in the step (D) is relative to the absolute value of the charge amount of the optical laminate (4) in the step (C). 0.02 kV or more is preferable, and 0.05 kV or more is more preferable.
本発明の一実施態様において、基材フィルム付き重合体層（６）または基材フィルム付き光学積層体（７）を構成する重合体層（２）は、該重合体層（２）の幅方向全体に亙って基材フィルム（５）上に備えられており、前記基材フィルム（５）の幅は前記重合体層（２）の幅よりも広い。かかる態様において、重合体層（２）は、図５に示すように、基材フィルム（５）の幅方向の片端または両端に重合体層（２）が積層されていない領域（５ａ）が存在するように積層される。 In one embodiment of the present invention, the polymer layer (2) constituting the polymer layer with a base film (6) or the optical laminate with a base film (7) is in the width direction of the polymer layer (2). It is provided on the base film (5) over the whole, and the width of the base film (5) is wider than the width of the polymer layer (2). In such an embodiment, as shown in FIG. 5, the polymer layer (2) has a region (5a) where the polymer layer (2) is not laminated at one or both ends in the width direction of the base film (5). Laminated so that.
また、本発明の別の一実施態様において、重合体層（２）は配向層（８）を介して基材フィルム（５）上に積層されており、基材フィルム付き重合体層（６）または基材フィルム付き光学積層体（７）を構成する配向層（８）は、該配向層（８）の幅方向全体に亙って基材フィルム（５）上に備えられており、前記基材フィルム（５）の幅は前記配向層（８）の幅よりも広い。かかる態様において、配向層（８）は、図６に示すように、基材フィルム（５）の幅方向の片端または両端に配向層（８）が積層されていない領域（５ａ）が存在するように積層される。かかる基材フィルム付き重合体層（６）または基材フィルム付き光学積層体（７）において、重合体層（２）は、通常、配向層（８）上に形成される層であるため、重合体層（２）の幅は前記配向層（８）の幅と同じか狭いことが好ましい。 Moreover, in another one Embodiment of this invention, the polymer layer (2) is laminated | stacked on the base film (5) via the orientation layer (8), and a polymer layer (6) with a base film Or the orientation layer (8) which comprises the optical laminated body (7) with a base film is provided on the base film (5) over the whole width direction of this orientation layer (8), The said base | substrate The width of the material film (5) is wider than the width of the orientation layer (8). In such an embodiment, as shown in FIG. 6, the orientation layer (8) has a region (5a) where the orientation layer (8) is not laminated at one or both ends in the width direction of the base film (5). Is laminated. In such a polymer layer with a base film (6) or an optical laminate with a base film (7), the polymer layer (2) is usually a layer formed on the alignment layer (8). The width of the combined layer (2) is preferably the same as or narrower than the width of the alignment layer (8).
このような層構成を有する基材フィルム付き重合体層（６）または基材フィルム付き光学積層体（７）においては、基材フィルム（５）と重合体層（２）または配向層（８）の端部の接する境界（５ｂ）付近で重合体層（２）または配向層（８）が基材フィルム（５）から剥離しやすく、製造工程中に微細な剥離片が異物となって生じやすい。本発明の光学積層体の製造方法では、工程（Ａ）、好ましくは工程（Ａ）および（Ｂ）の基材フィルム付き重合体層（６）の帯電量を制御することにより、製造中に生じる異物を基材フィルム（５）に付着させて製造現場（クリーンルーム）外へ排出することができるため、上記のような層構成を有する基材フィルム付き重合体層（６）または基材フィルム付き光学積層体（７）を用いる光学積層体の製造方法として特に好適である。さらに、基材フィルム（５）の幅方向の両端に重合体層（２）または配向層（８）が積層されていない領域（５ａ）が存在することにより、積層される重合体層（２）や配向層（８）の端部が剥がれ落ちることにより生じる微細な異物が基材フィルム（５）の前記領域（５ａ）に付着しやすくなり、製造現場内の異物の残存量の高い低減効果が期待できる。 In the polymer layer with a base film (6) or the optical laminate with a base film (7) having such a layer structure, the base film (5) and the polymer layer (2) or the orientation layer (8) The polymer layer (2) or the alignment layer (8) is easily peeled off from the base film (5) in the vicinity of the boundary (5b) where the ends of the film are in contact, and fine peeling pieces are likely to be formed as foreign matters during the manufacturing process. . In the manufacturing method of the optical laminated body of this invention, it arises during manufacture by controlling the charge amount of the polymer layer (6) with a base film of a process (A), Preferably process (A) and (B). Since the foreign matter can be attached to the base film (5) and discharged out of the manufacturing site (clean room), the polymer layer with base film (6) or the optical with base film having the layer structure as described above It is particularly suitable as a method for producing an optical laminate using the laminate (7). Furthermore, the polymer layer (2) laminated | stacked when the area | region (5a) where the polymer layer (2) or orientation layer (8) is not laminated | stacked exists in the both ends of the width direction of a base film (5). As a result, fine foreign matters generated by peeling off the end portions of the alignment layer (8) easily adhere to the region (5a) of the base film (5), and the effect of reducing the remaining amount of foreign matters in the manufacturing site is high. I can expect.
基材フィルム付き重合体層（６）および基材フィルム付き光学積層体（７）を構成する基材フィルム（５）の幅は、該基材フィルム（５）上に積層される重合体層（２）または配向層（８）の幅より、０．５〜１０％広いことが好ましく、０．７〜５％広いことがより好ましい。 The width | variety of the base material film (5) which comprises the polymer layer with a base film (6) and the optical laminated body with a base film (7) is the polymer layer laminated | stacked on this base film (5) ( 2) or 0.5 to 10% wider than the width of the alignment layer (8), more preferably 0.7 to 5% wider.
工程（Ｃ）により得られる光学積層体（４）は、その下流側に位置する巻取りロール（１７）により巻き取ることができる。得られた光学積層体（４）は、必要に応じて、スリット加工、打ち抜き、チップカット、端面研磨等の外形加工を施すことにより所望の形状とすることができると同時に、光学積層体（４）の側面や端部に付着した異物を除去することができる。 The optical layered body (4) obtained by the step (C) can be wound up by a winding roll (17) located on the downstream side thereof. The obtained optical layered product (4) can be formed into a desired shape by performing outer shape processing such as slit processing, punching, chip cutting, and end surface polishing as required, and at the same time, the optical layered product (4 ) Can be removed.
本発明の光学積層体の製造方法において、工程（Ａ）および工程（Ｂ）、ならびに工程（Ｃ）と（Ｄ）は、それぞれ連続して行われてもよいし、独立して行われてもよい。例えば、本発明において、工程（Ｂ）で得られた基材フィルム付き光学積層体（７）を、工程（Ｂ）から工程（Ｃ）へ連続的に搬送して光学積層体（４）を得てもよいし、工程（Ｂ）で製造される基材フィルム付き光学積層体（７）を一旦巻取りロールに巻き取った後、工程（Ａ）および（Ｂ）とは別ラインで工程（Ｃ）および（Ｄ）を行ってもよい。
したがって、本発明は、
前記工程（Ａ）による基材フィルム付き重合体層の搬送方法、
前記工程（Ａ）および（Ｂ）を含む、基材フィルム付き光学積層体の製造方法、ならびに、
前記工程（Ｃ）および（Ｄ）を含む、光学積層体の製造方法
も対象とする。以下、これらの方法をまとめて、「本発明の方法」ともいう。上記搬送方法および製造方法において採用される各工程の条件等は、先に記載した本発明の光学積層体の製造方法と同様のものが挙げられる。
工程（Ａ）〜（Ｄ）を連続的に行うことにより、基材フィルム（５）に付着した異物が製造中の積層体に巻き込まれることにより最終的に得られる光学積層体の欠陥を生じる可能性を低減することができる。
In the method for producing an optical layered body of the present invention, the step (A) and the step (B), and the steps (C) and (D) may be performed continuously or independently. Good. For example, in this invention, the optical laminated body (7) with a base film obtained at the process (B) is continuously conveyed from a process (B) to a process (C), and an optical laminated body (4) is obtained. Alternatively, after the optical laminate (7) with a base film produced in the step (B) is once wound on a winding roll, the step (C) is performed on a separate line from the steps (A) and (B). ) And (D) may be performed.
Therefore, the present invention
A transport method of the polymer layer with the base film according to the step (A),
A method for producing an optical laminate with a base film, comprising the steps (A) and (B), and
The manufacturing method of an optical laminated body including the said process (C) and (D) is also made into object. Hereinafter, these methods are collectively referred to as “the method of the present invention”. Examples of the conditions for each step employed in the transport method and the manufacturing method include the same as those for the method for manufacturing the optical layered body of the present invention described above.
By carrying out steps (A) to (D) continuously, foreign matter adhering to the base film (5) may be involved in the laminate being manufactured, resulting in defects in the optical laminate finally obtained. Can be reduced.
本発明の方法は、端部が剥がれ落ちて異物を生じやすい重合性液晶化合物の重合体から構成される重合体層や配向層を有する種々の光学積層体の製造方法として好適である。したがって、本発明の方法は、重合性液晶化合物の重合体から構成される重合体層を有する積層体を用いるものであれば、積層体を構成する各層の構成成分は特に限定されるものではなく、従来公知の成分および材料等を用いることができる。
以下、本発明の方法において用いられる基材フィルム付き重合体層（６）および基材フィルム付き光学積層体（７）に含まれる各層を構成し得る成分・材料等の一例を挙げる。
The method of the present invention is suitable as a method for producing various optical laminates having a polymer layer or an alignment layer composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound that easily peels off the end portion and easily generates foreign matters. Accordingly, the method of the present invention is not particularly limited as long as the constituents of each layer constituting the laminate are used as long as the laminate having a polymer layer composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound is used. Conventionally known components and materials can be used.
Hereinafter, examples of components and materials that can constitute each layer included in the polymer layer with a base film (6) and the optical laminate with a base film (7) used in the method of the present invention will be given.
本発明の方法において、重合体層（２）を構成する重合性液晶化合物は特に限定されるものではないが、基材フィルム上または配向層上に塗布、配向することにより光学異方性を発現するものであることが好ましい。ここで、本発明において重合性液晶化合物とは、重合性官能基、特に光重合性官能基を有する液晶化合物を意味する。光重合性官能基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよいが、緻密な膜厚制御が可能な点でサーモトロピック性液晶が好ましい。また、サーモトロピック性液晶における相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。 In the method of the present invention, the polymerizable liquid crystal compound constituting the polymer layer (2) is not particularly limited, but optical anisotropy is manifested by applying and orienting on the base film or the orientation layer. It is preferable that Here, in the present invention, the polymerizable liquid crystal compound means a liquid crystal compound having a polymerizable functional group, particularly a photopolymerizable functional group. The photopolymerizable functional group refers to a group that can participate in a polymerization reaction by an active radical or an acid generated from a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerizable functional group include a vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, oxiranyl group, and oxetanyl group. Among them, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, vinyloxy group, oxiranyl group and oxetanyl group are preferable, and acryloyloxy group is more preferable. The thermic liquid crystal may be either a thermotropic liquid crystal or a lyotropic liquid crystal, but the thermotropic liquid crystal is preferred in terms of enabling precise film thickness control. The phase order structure in the thermotropic liquid crystal may be a nematic liquid crystal or a smectic liquid crystal.
本発明の方法に用いられる重合性液晶化合物としては、例えば、下記式（Ｉ）の構造を有する化合物が挙げられる。
式（Ｉ）中、Ａｒは２価の芳香族基を表し、該２価の芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも１つ以上が含まれる。
Ｇ１およびＧ２はそれぞれ独立に、２価の芳香族基または２価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該２価の芳香族基または２価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよく、該２価の芳香族基または２価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子または窒素原子に置換されていてもよい。
Ｌ１、Ｌ２ 、Ｂ１およびＢ２はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基である。
ｋ、ｌは、それぞれ独立に０〜３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。ここで、２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ１およびＢ２、Ｇ１およびＧ２は、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｅ１およびＥ２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓｉ−で置換されていてもよい。
Ｐ１およびＰ２は互いに独立に、重合性基または水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。
In formula (I), Ar represents a divalent aromatic group, and the divalent aromatic group contains at least one of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom.
G 1 and G 2 each independently represents a divalent aromatic group or a divalent alicyclic hydrocarbon group. Here, the hydrogen atom contained in the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group is a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or carbon. The carbon atom constituting the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an alkoxy group, a cyano group or a nitro group of 1 to 4, and an oxygen atom or a sulfur atom Alternatively, it may be substituted with a nitrogen atom.
L 1 , L 2 , B 1 and B 2 are each independently a single bond or a divalent linking group.
k and l each independently represent an integer of 0 to 3 and satisfy the relationship of 1 ≦
E 1 and E 2 each independently represents an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, wherein a hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with a halogen atom, The —CH 2 — contained may be substituted with —O— or —Si—.
P 1 and P 2 each independently represent a polymerizable group or a hydrogen atom, and at least one is a polymerizable group.
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子および炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−フェニル基、ハロゲン原子および炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−シクロヘキシル基であり、より好ましくはメチル基で置換された１，４−フェニル基、無置換の１，４−フェニル基、または無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロヘキシル基であり、特に好ましくは無置換の１，４−フェニル基、または無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロヘキシル基である。
また、複数存在するＧ１およびＧ２のうち少なくとも１つは２価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ１またはＬ２に結合するＧ１およびＧ２のうち少なくとも１つは２価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。
G 1 and G 2 are each independently preferably a 1,4-phenyl group optionally substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a halogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, 1,4-cyclohexyl group optionally substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a halogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably 1,4 substituted with a methyl group A phenyl group, an unsubstituted 1,4-phenyl group, or an unsubstituted 1,4-trans-cyclohexyl group, particularly preferably an unsubstituted 1,4-phenyl group or an unsubstituted 1,4- It is a trans-cyclohexyl group.
In addition, at least one of a plurality of G 1 and G 2 is preferably a divalent alicyclic hydrocarbon group, and at least one of G 1 and G 2 bonded to L 1 or L 2 More preferably, it is a divalent alicyclic hydrocarbon group.
Ｌ１およびＬ２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲａ＝ＣＲｂ−、または−Ｃ≡Ｃ−である。ここでＲａおよびＲｂは炭素数１〜４のアルキル基または水素原子を表す。Ｌ１およびＬ２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−である。 L 1 and L 2 are each independently preferably a single bond, —O—, —CH 2 CH 2 —, —CH 2 O—, —COO—, —OCO—, —N═N—, —CR a = CR b- , or -C≡C-. Here, R a and R b represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydrogen atom. L 1 and L 2 are each independently more preferably a single bond, —O—, —CH 2 CH 2 —, —COO—, or —OCO—.
Ｂ１およびＢ２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−であり、より好ましくは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−である。 B 1 and B 2 are each independently preferably a single bond, —O—, —S—, —CH 2 O—, —COO—, or —OCO—, and more preferably a single bond, —O— -, -COO-, or -OCO-.
ｋおよびｌは、逆波長分散性発現の観点から２≦ｋ＋ｌ≦６の範囲が好ましく、ｋ＋ｌ＝４であることが好ましく、ｋ＝２かつｌ＝２であることがより好ましい。ｋ＝２かつｌ＝２であると対称構造となるため好ましい。 k and l are preferably in the range of 2 ≦ k + l ≦ 6 from the viewpoint of expression of inverse wavelength dispersion, preferably k + l = 4, and more preferably k = 2 and l = 2. It is preferable that k = 2 and l = 2 because a symmetrical structure is obtained.
Ｅ１およびＥ２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基が好ましく、炭素数４〜１２のアルカンジイル基がより好ましい。 E 1 and E 2 are each independently preferably an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, and more preferably an alkanediyl group having 4 to 12 carbon atoms.
Ｐ１またはＰ２で表される重合性基としては、エポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、およびオキセタニル基等が挙げられる。
中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。
Examples of the polymerizable group represented by P 1 or P 2 include an epoxy group, vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, and oxiranyl group. And an oxetanyl group.
Among them, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, vinyloxy group, oxiranyl group and oxetanyl group are preferable, and acryloyloxy group is more preferable.
Ａｒは芳香族複素環を有することが好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、およびフェナンスロリン環等が挙げられる。なかでも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、またはベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがさらに好ましい。また、Ａｒに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。 Ar preferably has an aromatic heterocycle. Examples of the aromatic heterocycle include a furan ring, a benzofuran ring, a pyrrole ring, a thiophene ring, a pyridine ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring, a thienothiazole ring, an oxazole ring, a benzoxazole ring, and a phenanthroline ring. . Of these, a thiazole ring, a benzothiazole ring, or a benzofuran ring is preferable, and a benzothiazole group is more preferable. In addition, when Ar includes a nitrogen atom, the nitrogen atom preferably has π electrons.
式（Ｉ）中、Ａｒで表される２価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Ｎπは１０以上が好ましく、より好ましくは１４以上であり、さらに好ましくは１８以上である。また、好ましくは３０以下であり、より好ましくは２６以下であり、さらに好ましくは２４以下である。 Wherein (I), 2-valent of [pi Total N [pi electrons contained in the aromatic group preferably 10 or more represented by Ar, more preferably 14 or more, further preferably 18 or more. Moreover, Preferably it is 30 or less, More preferably, it is 26 or less, More preferably, it is 24 or less.
Ａｒで表される芳香族基としては、例えば以下の基が挙げられる。 Examples of the aromatic group represented by Ar include the following groups.
式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−２２）中、＊印は連結部を表し、Ｚ０、Ｚ１およびＺ２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜１２のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルスルファモイル基または炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
In formula (Ar-1) to formula (Ar-22), * represents a linking part, and Z 0 , Z 1 and Z 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl having 1 to 12 carbon atoms. Group, cyano group, nitro group, alkylsulfinyl group having 1 to 12 carbon atoms, alkylsulfonyl group having 1 to 12 carbon atoms, carboxyl group, fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, C1-C12 alkylthio group, C1-C12 N-alkylamino group, C2-C12 N, N-dialkylamino group, C1-C12 N-alkylsulfamoyl group or carbon The N, N-dialkylsulfamoyl group represented by
Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立に、−ＣＲ２’Ｒ３’−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ２’−、−ＣＯ−または−Ｏ−を表し、Ｒ２’およびＲ３’は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。 Q 1 and Q 2 each independently represent —CR 2 ′ R 3 ′ —, —S—, —NH—, —NR 2 ′ —, —CO— or —O—, wherein R 2 ′ and R 3 ' Each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
Ｙ１、Ｙ２およびＹ３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。 Y 1 , Y 2 and Y 3 each independently represents an optionally substituted aromatic hydrocarbon group or aromatic heterocyclic group.
Ｗ１およびＷ２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基またはハロゲン原子を表し、ｍは０〜６の整数を表す。 W 1 and W 2 each independently represent a hydrogen atom, a cyano group, a methyl group or a halogen atom, and m represents an integer of 0 to 6.
Ｙ１、Ｙ２およびＹ３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。 Examples of the aromatic hydrocarbon group for Y 1 , Y 2 and Y 3 include an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, and a biphenyl group. A naphthyl group is preferred, and a phenyl group is more preferred. The aromatic heterocyclic group has 4 to 20 carbon atoms and contains at least one hetero atom such as a nitrogen atom such as a furyl group, a pyrrolyl group, a thienyl group, a pyridinyl group, a thiazolyl group, or a benzothiazolyl group, an oxygen atom, or a sulfur atom. An aromatic heterocyclic group is mentioned, and a furyl group, a thienyl group, a pyridinyl group, a thiazolyl group, and a benzothiazolyl group are preferable.
Ｙ１、Ｙ２およびＹ３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、または芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、または芳香環集合に由来する基をいう。 Y 1 , Y 2 and Y 3 may each independently be an optionally substituted polycyclic aromatic hydrocarbon group or polycyclic aromatic heterocyclic group. The polycyclic aromatic hydrocarbon group refers to a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group or a group derived from an aggregate of aromatic rings. The polycyclic aromatic heterocyclic group refers to a condensed polycyclic aromatic heterocyclic group or a group derived from an aromatic ring assembly.
Ｚ０、Ｚ１およびＺ２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基であることが好ましく、Ｚ０は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Ｚ１およびＺ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。 Z 0 , Z 1 and Z 2 are each independently preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. 0 is more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyano group, and Z 1 and Z 2 are more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, or a cyano group.
Ｑ１およびＱ２は、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＮＲ２’−、−Ｏ−が好ましく、Ｒ２’は水素原子が好ましい。中でも−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−が特に好ましい。 Q 1 and Q 2 are preferably —NH—, —S—, —NR 2 ′ —, and —O—, and R 2 ′ is preferably a hydrogen atom. Among them, -S-, -O-, and -NH- are particularly preferable.
式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−２２）の中でも、式（Ａｒ−６）および式（Ａｒ−７）が分子の安定性の観点から好ましい。
式（Ａｒ−１６）〜（Ａｒ−２２）において、Ｙ１は、これが結合する窒素原子およびＺ０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ１は、これが結合する窒素原子およびＺ０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。
Among formulas (Ar-1) to (Ar-22), formula (Ar-6) and formula (Ar-7) are preferable from the viewpoint of molecular stability.
In formulas (Ar-16) to (Ar-22), Y 1 may form an aromatic heterocyclic group together with the nitrogen atom to which it is bonded and Z 0 . Examples thereof include a pyrrole ring, an imidazole ring, a pyrroline ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a pyrimidine ring, an indole ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a purine ring, and a pyrrolidine ring. This aromatic heterocyclic group may have a substituent. Y 1 may be the above-described optionally substituted polycyclic aromatic hydrocarbon group or polycyclic aromatic heterocyclic group together with the nitrogen atom to which it is bonded and Z 0 .
Ａｒで表される芳香族基として、以下の式（Ａｒ−２３）で示される基も挙げられる。
式（Ａｒ−２３）中、＊、Ｚ１、Ｚ２、Ｑ１およびＱ２は前記と同じ意味を示し、Ｕ１は置換基が結合していてもよい第１４属〜第１６属の非金属原子を示す。第１４属〜第１６属の非金属原子としては、例えば炭素原子、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が挙げられ、好ましくは＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ’および＝Ｃ（Ｒ’）Ｒ’などが挙げられる。置換基Ｒ’としては、例えば水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、アリール基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のジアルキルスルファモイル基などが挙げられ、非金属原子が炭素原子（Ｃ）である場合における２つのＲ’は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
In formula (Ar-23), *, Z 1 , Z 2 , Q 1 and Q 2 have the same meaning as described above, and U 1 represents a non-substituent of the 14th to 16th groups to which a substituent may be bonded. Indicates a metal atom. Examples of the non-metal atoms of
このような重合性液晶化合物を配向させて、重合性液晶化合物の配向状態における重合体を形成することによって逆波長分散性を有する重合体層（２）を作製することができる。この際、前記重合性液晶化合物を単独で用いてもよく、分子構造の異なる２種類以上を混合して用いてもよい。 By aligning such a polymerizable liquid crystal compound to form a polymer in the aligned state of the polymerizable liquid crystal compound, a polymer layer (2) having reverse wavelength dispersibility can be produced. In this case, the polymerizable liquid crystal compound may be used alone, or two or more kinds having different molecular structures may be mixed and used.
また、配向状態で重合させた場合に、正波長分散性を示す重合性液晶化合物を用いてもよい。そのような重合性液晶化合物の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６ ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物が挙げられる。これらの重合性液晶化合物として、市販の製品を用いてもよい。 Further, a polymerizable liquid crystal compound exhibiting positive wavelength dispersion when polymerized in an aligned state may be used. As a specific example of such a polymerizable liquid crystal compound, “3.8.6 Network (fully crosslinked type)” of Liquid Crystal Handbook (Edited by Liquid Crystal Handbook Editorial Committee, published by Maruzen Co., Ltd. October 30, 2000) Among the compounds described in "6.5. 1 Liquid crystal material b. Polymerizable nematic liquid crystal material", compounds having a polymerizable group are exemplified. Commercial products may be used as these polymerizable liquid crystal compounds.
本発明の方法において用いられる基材フィルム付き重合体層（６）または基材フィルム付き光学積層体（７）を構成する重合体層（２）は、重合性液晶化合物を、基材フィルム（５）または配向層（８）上に、場合によっては溶剤で希釈して含有する組成物（以下、「光学異方性層形成用組成物」ともいう）を塗布し、必要に応じて溶剤を乾燥後に重合させることにより得られる。重合性液晶化合物が配向状態を維持したまま重合することにより、配向状態を維持した液晶硬化膜が得られ、かかる液晶硬化膜を有する積層体（基材フィルム付き重合体層）は位相差板として機能する。 The polymer layer (6) or the polymer layer (2) constituting the optical laminate (7) with a base film used in the method of the present invention comprises a polymerizable liquid crystal compound and a base film (5). ) Or an alignment layer (8), optionally coated with a composition diluted with a solvent (hereinafter also referred to as “optical anisotropic layer forming composition”), and if necessary, the solvent is dried. It is obtained by polymerizing later. By polymerizing the polymerizable liquid crystal compound while maintaining the alignment state, a liquid crystal cured film maintaining the alignment state is obtained, and a laminate (polymer layer with a base film) having such a liquid crystal cured film is used as a retardation plate. Function.
光学異方性層形成用組成物における重合性液晶化合物の含有量（複数種含む場合にはその合計量）は、重合性液晶化合物の配向性を高くするという観点から、光学異方性層形成用組成物の固形分１００質量部に対して、通常７０〜９９．９質量部であり、例えば好ましくは８０〜９９質量部であり、より好ましくは８５〜９７質量部であり、さらに好ましくは８５〜９５質量部である。なお、ここでいう固形分とは、光学異方性層形成用組成物から溶剤を除いた成分の合計量のことをいう。 In view of increasing the orientation of the polymerizable liquid crystal compound, the content of the polymerizable liquid crystal compound in the composition for forming an optically anisotropic layer (the total amount in the case where a plurality of types are included) is used to form the optically anisotropic layer. Is usually 70 to 99.9 parts by mass, for example, preferably 80 to 99 parts by mass, more preferably 85 to 97 parts by mass, and still more preferably 85 to 100 parts by mass of the solid content of the composition. ~ 95 parts by mass. In addition, solid content here means the total amount of the component remove | excluding the solvent from the composition for optically anisotropic layer formation.
光学異方性層形成用組成物は重合性液晶化合物の他に溶剤、重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤等の公知の成分を含んでいてもよい。これらの成分は、用いる重合性液晶化合物の種類等に応じて適宜選択することができる。以下重合体層（２）を構成する重合性液晶化合物として上記式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を用いた場合に好適な成分を例示する。 The composition for forming an optically anisotropic layer may contain known components such as a solvent, a polymerization initiator, a polymerization inhibitor, a photosensitizer, and a leveling agent in addition to the polymerizable liquid crystal compound. These components can be appropriately selected according to the type of the polymerizable liquid crystal compound used. Hereinafter, examples of suitable components when the polymerizable liquid crystal compound represented by the above formula (I) is used as the polymerizable liquid crystal compound constituting the polymer layer (2).
溶剤としては、重合性液晶化合物等の光学異方性層形成用組成物の構成成分を溶解し得る有機溶剤が好ましく、重合性液晶化合物等の光学異方性層形成用組成物の構成成分を溶解し得る溶剤であって、かつ重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤がより好ましい。具体的には、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、フェノール等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素化脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン等の非塩素化芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤；およびクロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤；が挙げられる。二種以上の有機溶剤を組み合わせて用いてもよい。中でも、アルコール溶剤、エステル溶剤、ケトン溶剤、非塩素化脂肪族炭化水素溶剤および非塩素化芳香族炭化水素溶剤が好ましい。 As the solvent, an organic solvent capable of dissolving the constituent components of the optically anisotropic layer forming composition such as a polymerizable liquid crystal compound is preferable, and the constituent components of the optically anisotropic layer forming composition such as the polymerizable liquid crystal compound are preferably used. A solvent that is soluble and is inert to the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound is more preferable. Specifically, alcohol solvents such as water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, phenol; ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ- Ester solvents such as butyrolactone, propylene glycol methyl ether acetate, and ethyl lactate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl amyl ketone, and methyl isobutyl ketone; non-chlorinated aliphatic carbonization such as pentane, hexane, and heptane Hydrogen solvents; Non-chlorinated aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; Nitrile solvents such as acetonitrile; Tetrahydrofuran and dimeth Ether solvents such as Shietan; include; and chloroform, chlorinated hydrocarbon solvents such as chlorobenzene. Two or more organic solvents may be used in combination. Among these, alcohol solvents, ester solvents, ketone solvents, non-chlorinated aliphatic hydrocarbon solvents and non-chlorinated aromatic hydrocarbon solvents are preferable.
溶剤の含有量は、光学異方性層形成用組成物の固形分１００質量部に対して、例えば、１０〜１００００質量部が好ましく、より好ましくは１００〜５０００質量部であり、さらに好ましくは１００〜２０００である。光学異方性層形成用組成物中の固形分濃度は、好ましくは２〜５０質量％であり、より好ましくは５〜５０質量％であり、さらに好ましくは５〜３０％である。 The content of the solvent is preferably, for example, 10 to 10,000 parts by mass, more preferably 100 to 5000 parts by mass, and still more preferably 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solid content of the composition for forming an optically anisotropic layer. ~ 2000. The solid concentration in the composition for forming an optically anisotropic layer is preferably 2 to 50% by mass, more preferably 5 to 50% by mass, and further preferably 5 to 30%.
重合開始剤は、重合性液晶等の重合反応を開始し得る化合物である。重合開始剤としては、光照射によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、α−アセトフェノン化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩が挙げられる。具体的には、イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）（登録商標）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９（以上、全てチバ・ジャパン株式会社製）、セイクオール（登録商標）ＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、全て精工化学株式会社製）、カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）（登録商標）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマー（登録商標）ＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０（以上、全て株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＴＡＺ−Ａ、ＴＡＺ−ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー社製）およびＴＡＺ−１０４（三和ケミカル社製）等が挙げられる。中でも、α−アセトフェノン化合物が好ましく、α−アセトフェノン化合物としては、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オンおよび２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−（４−メチルフェニルメチル）ブタン−１−オン等が挙げられ、より好ましくは２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オンおよび２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オンが挙げられる。α−アセトフェノン化合物の市販品としては、イルガキュア３６９、３７９ＥＧ、９０７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）およびセイクオールＢＥＥ（精工化学社製）等が挙げられる。 The polymerization initiator is a compound capable of initiating a polymerization reaction such as polymerizable liquid crystal. As a polymerization initiator, the photoinitiator which generate | occur | produces a radical by light irradiation is preferable. Examples of the photopolymerization initiator include benzoin compounds, benzophenone compounds, benzyl ketal compounds, α-hydroxyketone compounds, α-aminoketone compounds, α-acetophenone compounds, triazine compounds, iodonium salts, and sulfonium salts. Specifically, Irgacure (registered trademark) 907, Irgacure 184, Irgacure 651, Irgacure 819, Irgacure 250, Irgacure 369 (all are manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.), Sequol (registered trademark) BZ, Sequol Z , Sequol BEE (all of which are manufactured by Seiko Chemical Co., Ltd.), kayacure (registered trademark) BP100 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), kayakure UVI-6992 (manufactured by Dow), Adekaoptomer (registered trademark) SP -152, Adekaoptomer SP-170 (all manufactured by ADEKA Corporation), TAZ-A, TAZ-PP (all manufactured by Nippon Siebel Hegner) and TAZ-104 (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.). Of these, α-acetophenone compounds are preferable, and examples of α-acetophenone compounds include 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylsulfanylphenyl) propan-1-one, 2-dimethylamino-1- (4-morpholino Phenyl) -2-benzylbutan-1-one, 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -2- (4-methylphenylmethyl) butan-1-one, and the like, more preferably 2- And methyl-2-morpholino-1- (4-methylsulfanylphenyl) propan-1-one and 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -2-benzylbutan-1-one. Examples of commercially available products of α-acetophenone compounds include Irgacure 369, 379EG, 907 (above, manufactured by BASF Japan Ltd.), Sequol BEE (manufactured by Seiko Chemical Co., Ltd.), and the like.
光重合開始剤は、光源から発せられるエネルギーを十分に活用でき、生産性に優れるため、極大吸収波長が３００ｎｍ〜３８０ｎｍであると好ましく、３００ｎｍ〜３６０ｎｍであるとより好ましい。 Since a photoinitiator can fully utilize energy emitted from a light source and is excellent in productivity, the maximum absorption wavelength is preferably 300 nm to 380 nm, and more preferably 300 nm to 360 nm.
重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合性液晶化合物を重合するためには、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．５〜１０質量部である。 The content of the polymerization initiator is usually 0.1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound in order to polymerize the polymerizable liquid crystal compound without disturbing the orientation of the polymerizable liquid crystal compound. The amount is preferably 0.5 to 10 parts by mass.
重合禁止剤を配合することにより、重合性液晶化合物の重合反応をコントロールすることができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類；ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類；ピロガロール類、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補捉剤；チオフェノール類；β−ナフチルアミン類およびβ−ナフトール類が挙げられる。 By blending a polymerization inhibitor, the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound can be controlled. Polymerization inhibitors include hydroquinones having substituents such as hydroquinone and alkyl ethers; catechols having substituents such as alkyl ethers such as butylcatechol; pyrogallols, 2,2,6,6-tetramethyl-1- And radical scavengers such as piperidinyloxy radicals; thiophenols; β-naphthylamines and β-naphthols.
重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく、重合性液晶化合物を重合するためには、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．５〜１０質量部である。 The content of the polymerization inhibitor is usually 0.1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound in order to polymerize the polymerizable liquid crystal compound without disturbing the alignment of the polymerizable liquid crystal compound. Yes, preferably 0.5 to 10 parts by mass.
光増感剤としては、例えば、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙げられる。
光増感剤を用いることにより、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．５〜１０質量部である。
Examples of the photosensitizer include xanthones such as xanthone and thioxanthone; anthracene having a substituent such as anthracene and alkyl ether; phenothiazine; and rubrene.
By using a photosensitizer, the sensitivity of the photopolymerization initiator can be increased. Content of a photosensitizer is 0.1-30 mass parts normally with respect to 100 mass parts of polymeric liquid crystal compounds, Preferably it is 0.5-10 mass parts.
レベリング剤としては、例えば、有機変性シリコーンオイル系、ポリアクリレート系およびパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製）、フロリナート（ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ−７２、同ＦＣ−４０、同ＦＣ−４３、同ＦＣ−３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５３およびＢＹＫ−３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）等が挙げられる。２種以上のレベリング剤を組み合わせてもよい。 Examples of the leveling agent include organic modified silicone oil-based, polyacrylate-based and perfluoroalkyl-based leveling agents. Specifically, DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH28PA, SH29PA, SH30PA, ST80PA, ST86PA, SH8400, SH8700, FZ2123 (all are manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), KP321, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341, X22-161A, KF6001 (all manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460 (all, Momentive Performance Materials Japan GK) Manufactured), Fluorinert (registered trademark) FC-72, FC-40, FC-43, FC-3283 (above) All manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), MegaFace (registered trademark) R-08, R-30, R-90, F-410, F-411, F-443, F-445, F-470, F-477, F-479, F-482, F-482 (all of which are manufactured by DIC Corporation), Ftop (trade name) EF301, EF303, EF351, EF352 (all manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd.), Surflon (registered trademark) S-381, S-382, S-383, S-393, SC-101, SC-105, KH -40, SA-100 (all are manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd.), trade names E1830, E5844 (manufactured by Daikin Fine Chemical Laboratory), BM-1000, BM-1100, BYK-352, B K-353 and BYK-361N (both trade name: BM Chemie Co., Ltd.), and the like. Two or more leveling agents may be combined.
レベリング剤を用いることにより、より平滑な光学異方性層を形成することができる。また、位相差板の製造過程で、光学異方性層形成用組成物の流動性を制御したり、位相差板の架橋密度を調整したりすることができる。レベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．１〜１０質量部である。 By using a leveling agent, a smoother optically anisotropic layer can be formed. In addition, in the production process of the retardation plate, the fluidity of the composition for forming an optically anisotropic layer can be controlled, and the crosslinking density of the retardation plate can be adjusted. Content of a leveling agent is 0.1-30 mass parts normally with respect to 100 mass parts of polymeric liquid crystal compounds, Preferably it is 0.1-10 mass parts.
本発明の方法において用いられる基材フィルム付き重合体層（６）または基材フィルム付き光学積層体（７）を構成する配向層（８）は、重合体層（２）を構成する重合性液晶化合物を所望の方向に配向させる配向規制力を有し、該重合性液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物の塗布等により溶解しない溶剤耐性を有し、また、溶剤の除去や重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有することが好ましい。配向層としては、配向性ポリマーを含む配向層、光配向層および、表面に凹凸パターンや複数の溝を有するグルブ配向層等が挙げられる。 The alignment layer (8) constituting the polymer layer with a base film (6) or the optical laminate with a base film (7) used in the method of the present invention is a polymerizable liquid crystal constituting the polymer layer (2). It has an alignment regulating force to align the compound in a desired direction, has a solvent resistance that does not dissolve by application of the composition for forming an optically anisotropic layer containing the polymerizable liquid crystal compound, and also removes or polymerizes the solvent. It is preferable to have heat resistance in heat treatment for alignment of the conductive liquid crystal compound. Examples of the alignment layer include an alignment layer containing an alignment polymer, a photo-alignment layer, and a groove alignment layer having a concavo-convex pattern and a plurality of grooves on the surface.
配向性ポリマーを含む場合、配向性ポリマーとしては、例えば、アミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、イミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸およびポリアクリル酸エステル類が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。２種以上の配向性ポリマーを組み合わせてもよい。 When the orientation polymer is included, examples of the orientation polymer include polyamides and gelatins having an amide bond, polyimides having an imide bond and polyamic acid that is a hydrolyzate thereof, polyvinyl alcohol, alkyl-modified polyvinyl alcohol, polyacrylamide, Examples include polyoxazole, polyethyleneimine, polystyrene, polyvinylpyrrolidone, polyacrylic acid and polyacrylic acid esters. Among these, polyvinyl alcohol is preferable. Two or more kinds of orientation polymers may be combined.
配向性ポリマーを含む配向層は、通常、配向性ポリマーが溶剤に溶解した配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶剤を除去して塗布膜を形成する、または配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶剤を除去して塗布膜を形成し、該塗布膜をラビングすることで得られる。 An alignment layer containing an alignment polymer is usually formed by applying an alignment polymer composition in which an alignment polymer is dissolved in a solvent to a substrate and removing the solvent to form a coating film, or based on the alignment polymer composition. It is obtained by applying to a material, removing the solvent to form a coating film, and rubbing the coating film.
配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマーが溶剤に完溶する範囲であればよい。配向性ポリマー組成物に対する配向性ポリマーの含有量は、好ましくは０．１〜２０質量％であり、より好ましくは０．１〜１０質量％である。 The concentration of the orienting polymer in the orienting polymer composition may be in a range where the orienting polymer is completely dissolved in the solvent. The content of the orientation polymer with respect to the orientation polymer composition is preferably 0.1 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass.
配向性ポリマー組成物は、市場から入手できる。市販の配向性ポリマー組成物としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）等が挙げられる。 Oriented polymer compositions are commercially available. Examples of the commercially available oriented polymer composition include Sanever (registered trademark, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), Optmer (registered trademark, manufactured by JSR).
配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法としては、後述する光学異方性層形成用組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤を除去する方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法等が挙げられる。 Examples of the method for applying the orientation polymer composition to the substrate include the same methods as those for applying the optically anisotropic layer forming composition described later to the substrate. Examples of the method for removing the solvent contained in the oriented polymer composition include a natural drying method, a ventilation drying method, a heat drying method and a vacuum drying method.
配向性ポリマー組成物から形成された塗布膜には、ラビング処理を施してもよい。ラビング処理を施すことにより、前記塗布膜に配向規制力を付与することができる。 The coating film formed from the orientation polymer composition may be rubbed. By performing the rubbing treatment, an alignment regulating force can be imparted to the coating film.
ラビング処理の方法としては、例えば、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、前記塗布膜を接触させる方法が挙げられる。ラビング処理を行う時に、マスキングを行えば、配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を配向膜に形成することもできる。 Examples of the rubbing treatment include a method in which a rubbing cloth is wound and the coating film is brought into contact with a rotating rubbing roll. If masking is performed when the rubbing treatment is performed, a plurality of regions (patterns) having different orientation directions can be formed in the alignment film.
光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーと溶剤とを含む光配向膜形成用組成物を基材に塗布し、溶剤を除去後に偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御することができる。 For the photo-alignment film, usually, a composition for forming a photo-alignment film containing a polymer or monomer having a photoreactive group and a solvent is applied to a substrate, and after removing the solvent, polarized light (preferably, polarized UV) is irradiated. Can be obtained. The photo-alignment film can arbitrarily control the direction of the alignment regulating force by selecting the polarization direction of the polarized light to be irradiated.
光反応性基とは、光照射することにより配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起反応、異性化反応、光二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）および炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。 The photoreactive group refers to a group that generates alignment ability when irradiated with light. Specific examples include groups that are involved in photoreactions that are the origin of alignment ability, such as alignment-induced reactions, isomerization reactions, photodimerization reactions, photocrosslinking reactions, or photodecomposition reactions of molecules generated by light irradiation. As the photoreactive group, an unsaturated bond, particularly a group having a double bond is preferable, and a carbon-carbon double bond (C = C bond), a carbon-nitrogen double bond (C = N bond), and nitrogen-nitrogen. A group having at least one selected from the group consisting of a double bond (N═N bond) and a carbon-oxygen double bond (C═O bond) is particularly preferred.
Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基およびシンナモイル基が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、および、アゾキシベンゼン構造を有する基が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、例えば、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基およびマレイミド基が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。 Examples of the photoreactive group having a C═C bond include a vinyl group, a polyene group, a stilbene group, a stilbazole group, a stilbazolium group, a chalcone group, and a cinnamoyl group. Examples of the photoreactive group having a C═N bond include groups having a structure such as an aromatic Schiff base and an aromatic hydrazone. Examples of the photoreactive group having an N = N bond include an azobenzene group, an azonaphthalene group, an aromatic heterocyclic azo group, a bisazo group, a formazan group, and a group having an azoxybenzene structure. Examples of the photoreactive group having a C═O bond include a benzophenone group, a coumarin group, an anthraquinone group, and a maleimide group. These groups may have a substituent such as an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an allyloxy group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group, and a halogenated alkyl group.
光二量化反応または光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基およびカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。 A group involved in the photodimerization reaction or the photocrosslinking reaction is preferable in that it has excellent orientation. Among them, a photoreactive group involved in the photodimerization reaction is preferable, and a cinnamoyl group is preferable in that a photoalignment film having a relatively small amount of polarized light irradiation necessary for alignment and having excellent thermal stability and stability over time can be easily obtained. And chalcone groups are preferred. As the polymer having a photoreactive group, a polymer having a cinnamoyl group in which the terminal portion of the polymer side chain has a cinnamic acid structure is particularly preferable.
光配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの含有量は、ポリマーまたはモノマーの種類や目的とする光配向膜の厚さによって調節でき、少なくとも０．２質量％以上とすることが好ましく、０．３〜１０質量％の範囲がより好ましい。光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、光配向膜形成用組成物は、ポリビニルアルコールやポリイミド等の高分子材料や光増感剤を含んでいてもよい。 The content of the polymer or monomer having a photoreactive group in the composition for forming a photoalignment film can be adjusted by the kind of the polymer or monomer and the thickness of the target photoalignment film, and is at least 0.2% by mass or more. Preferably, the range of 0.3 to 10% by mass is more preferable. As long as the characteristics of the photo-alignment film are not significantly impaired, the composition for forming a photo-alignment film may contain a polymer material such as polyvinyl alcohol or polyimide, or a photosensitizer.
光配向膜形成用組成物を基材に塗布する方法としては、後述する光学異方性層形成用組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去する方法としては、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法が挙げられる。 Examples of the method for applying the composition for forming a photo-alignment film to the substrate include the same methods as those for applying the composition for forming an optically anisotropic layer described later to the substrate. Examples of the method for removing the solvent from the applied composition for forming a photo-alignment film include the same method as the method for removing the solvent from the oriented polymer composition.
偏光を照射するには、基材上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去したものに直接、偏光を照射する形式でも、基材側から偏光を照射し、偏光を基材に透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長域のものがよい。具体的には、波長２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光を照射する光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レーザー等が挙げられる。中でも、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプおよびメタルハライドランプが、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光層を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。偏光層としては、偏光フィルター、グラントムソン、およびグランテーラー等の偏光プリズム、ならびにワイヤーグリッドタイプの偏光層が挙げられる。 In order to irradiate polarized light, even in the form of irradiating polarized light directly from the composition for forming a photo-alignment film applied on the substrate to which the solvent is removed, the polarized light is irradiated from the substrate side. It is also possible to irradiate through the material. The polarized light is preferably substantially parallel light. The wavelength of the polarized light to be irradiated should be in a wavelength range where the photoreactive group of the polymer or monomer having the photoreactive group can absorb light energy. Specifically, UV (ultraviolet light) in the wavelength range of 250 nm to 400 nm is particularly preferable. Examples of the light source for irradiating the polarized light include xenon lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high pressure mercury lamps, metal halide lamps, ultraviolet lasers such as KrF and ArF, and the like. Among these, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, and a metal halide lamp are preferable because of high emission intensity of ultraviolet rays having a wavelength of 313 nm. By irradiating light from the light source through an appropriate polarizing layer, polarized UV can be irradiated. Examples of the polarizing layer include polarizing prisms such as polarizing filters, Glan Thompson, and Grand Taylor, and wire grid type polarizing layers.
基材フィルム（５）または配向層（８）上に光学異方性層形成用組成物を塗布する方法としては、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等も挙げられる。ＣＡＰコーティング法、インクジェット法、ディップコーティング法、スリットコーティング法、ダイコーティング法およびバーコーターによる塗布方法を採用することにより、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式で連続的に塗布できる。Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式で塗布する場合、基材フィルム（５）に光配向膜形成用組成物等を塗布して配向層（８）を形成し、さらに得られた配向層（８）上に光学異方性層形成用組成物を連続的に塗布することもできる。 Examples of the method for applying the composition for forming an optically anisotropic layer on the base film (5) or the alignment layer (8) include extrusion coating, direct gravure coating, reverse gravure coating, CAP coating, and slit coating. Method, die coating method and the like. Moreover, the method of apply | coating using coaters, such as a dip coater, a bar coater, a spin coater, etc. are mentioned. By adopting a CAP coating method, an inkjet method, a dip coating method, a slit coating method, a die coating method, and a coating method using a bar coater, it can be continuously applied in the Roll to Roll format. In the case of coating in the Roll to Roll format, the alignment layer (8) is formed by applying a composition for forming a photo-alignment film on the base film (5), and the optical alignment layer (8) is coated with an optically different layer. The composition for forming an anisotropic layer can be continuously applied.
光学異方性層形成用組成物に含まれる溶剤を除去する乾燥方法としては、例えば、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥およびこれらを組み合わせた方法が挙げられる。光配向膜形成用組成物および配向性ポリマー組成物も同様に乾燥することができる。 Examples of the drying method for removing the solvent contained in the composition for forming an optically anisotropic layer include natural drying, ventilation drying, heat drying, reduced pressure drying, and a combination thereof. The composition for forming a photo-alignment film and the alignment polymer composition can be similarly dried.
重合性液晶化合物の重合は、例えば、基材フィルム（５）上または配向層（８）上に重合性液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物が塗布された積層体に活性エネルギー線を照射することにより実施される。照射する活性エネルギー線は、乾燥被膜に含まれる重合性液晶化合物の種類（特に、重合性液晶化合物が有する光重合性官能基の種類）、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、およびそれらの量に応じて適宜選択すればよい。具体的には、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線、およびγ線等の光が挙げられる。 Polymerization of the polymerizable liquid crystal compound is performed, for example, by applying an active energy ray to a laminate in which the composition for forming an optically anisotropic layer containing the polymerizable liquid crystal compound is applied on the base film (5) or the alignment layer (8). It is carried out by irradiating. The active energy ray to be irradiated is the type of the polymerizable liquid crystal compound contained in the dry film (particularly, the type of the photopolymerizable functional group of the polymerizable liquid crystal compound), and if it contains a photopolymerization initiator, What is necessary is just to select suitably according to a kind and those quantity. Specific examples include visible light, ultraviolet light, infrared light, X-ray, α-ray, β-ray, and γ-ray.
本発明の方法において、基材フィルム付き重合体層（６）と貼合される光学フィルム（１）は、画像表示（表示画面等）のために機能するフィルム（例えば、画像の見やすさの向上のために機能するフィルム）であって、液晶表示装置等の画像表示装置に組み込まれ得る各種の光学特性を有するフィルムを意味する。本発明の方法において用い得る光学フィルムとしては、例えば、偏光子、位相差フィルム、輝度向上フィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム、拡散フィルム、集光フィルム等の光学機能性フィルム、偏光板、位相差板などが挙げられる。 In the method of the present invention, the optical film (1) to be bonded to the polymer layer (6) with a base film is a film that functions for image display (such as a display screen) (for example, improvement in image visibility). Means a film having various optical characteristics that can be incorporated into an image display device such as a liquid crystal display device. Examples of the optical film that can be used in the method of the present invention include a polarizer, a retardation film, a brightness enhancement film, an antiglare film, an antireflection film, a diffusion film, a condensing film, and other optical functional films, a polarizing plate, and a film. Examples include a phase difference plate.
本発明の方法において、基材フィルム付き重合体層（６）または基材フィルム付き光学積層体（７）を構成する重合体層（２）と光学フィルム（１）とを貼合するための粘着剤または接着剤層（３）を構成する粘着剤または接着剤は、特に限定されるものではなく、従来公知の粘着剤および接着剤を特に制限なく用いることができる。粘着剤としては、例えば、アクリル系、ゴム系、ウレタン系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系などのベースポリマーを有する粘着剤が挙げられる。また、エネルギー線硬化型粘着剤、熱硬化型粘着剤などであってもよい。接着剤としては、活性エネルギー線硬化型接着剤、水系接着剤、有機溶剤系接着剤、および無溶剤系接着剤を挙げることができる。 In the method of the present invention, a pressure-sensitive adhesive for bonding the polymer layer (2) and the optical film (1) constituting the polymer layer with a base film (6) or the optical laminate with a base film (7). The pressure-sensitive adhesive or adhesive constituting the agent or the adhesive layer (3) is not particularly limited, and conventionally known pressure-sensitive adhesives and adhesives can be used without particular limitation. Examples of the pressure-sensitive adhesive include pressure-sensitive adhesives having a base polymer such as acrylic, rubber-based, urethane-based, silicone-based, and polyvinyl ether-based. Further, an energy ray curable pressure sensitive adhesive, a thermosetting pressure sensitive adhesive, or the like may be used. Examples of the adhesive include an active energy ray curable adhesive, a water-based adhesive, an organic solvent-based adhesive, and a solventless adhesive.
（１） 光学フィルム
（２） 重合体層
（２ａ）重合体層残存領域
（３） 粘着剤または接着剤層
（４） 光学積層体
（５） 基材フィルム
（５ａ）重合体層未積層領域
（５ｂ）基材フィルム−重合体層境界
（６） 基材フィルム付き重合体層
（７） 基材フィルム付き光学積層体
（８） 配向層
（１１）巻出しロール１
（１２）搬送用ローラー
（１３）除電装置
（１４）巻出しロール２
（１５）ニップロール
（１６）剥離用ロール
（１７）巻取りロール
（２０）クリーンルーム
(1) Optical film (2) Polymer layer (2a) Polymer layer remaining region (3) Adhesive or adhesive layer (4) Optical laminate (5) Base film (5a) Polymer layer non-laminated region ( 5b) Base film-polymer layer boundary (6) Polymer layer with base film (7) Optical laminate with base film (8) Orientation layer (11) Unwinding
(12) Conveying roller (13) Static eliminating device (14) Unwinding
(15) Nip roll (16) Peeling roll (17) Winding roll (20) Clean room
Claims (8)
長尺の基材フィルム（５）と、前記基材フィルム（５）上に積層された前記重合体層（２）とを備え、前記基材フィルム（５）が前記重合体層（２）から剥離可能である長尺の基材フィルム付き重合体層（６）を、除電しながら長手方向に搬送する基材フィルム付き重合体層除電搬送工程（Ａ）、
前記基材フィルム付き重合体層除電搬送工程（Ａ）により搬送される前記基材フィルム付き重合体層（６）に対して、前記重合体層（２）側に粘着剤または接着剤層（３）を介して長尺の光学フィルム（１）を貼合して、長尺の基材フィルム（５）と、前記重合体層（２）と、該重合体層（２）上に前記粘着剤または接着剤層（３）を介して貼合された長尺の光学フィルム（１）とを備え、前記基材フィルム（５）が前記重合体層（２）から剥離可能である長尺の基材フィルム付き光学積層体（７）を得る貼合工程（Ｂ）、および
前記貼合工程（Ｂ）で得られる基材フィルム付き光学積層体（７）から前記基材フィルム（５）を剥離して前記光学積層体（４）を得る剥離工程（Ｃ）と共に、
前記剥離工程（Ｃ）で剥離された後の前記基材フィルム（５）を除電しながら長手方向に搬送する基材フィルム除電搬送工程（Ｄ）を含み、
前記基材フィルム付き重合体層除電搬送工程（Ａ）における除電後の前記基材フィルム付き重合体層（６）の帯電量の絶対値が０．０１ｋＶ以上６ｋＶ以下である、または、前記基材フィルム除電搬送工程（Ｄ）における除電後の前記基材フィルム（５）の帯電量の絶対値が０．０１ｋＶ以上６ｋＶ以下である、光学積層体の製造方法。 An optical film (1) and a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound, the polymer layer (2) being the optical film (1) and an adhesive or adhesive layer ( 3) a method for producing an optical laminate (4) laminated via
A long base film (5) and the polymer layer (2) laminated on the base film (5) are provided, and the base film (5) is formed from the polymer layer (2). The polymer layer with a base film that transports the long polymer layer with a base film (6) that can be peeled in the longitudinal direction while removing electricity (A),
With respect to the polymer layer with base film (6) transported in the neutralization transport step (A) with the base film, an adhesive or adhesive layer (3 on the polymer layer (2) side) ) To bond the long optical film (1) to the long base film (5), the polymer layer (2), and the pressure-sensitive adhesive on the polymer layer (2). Or a long optical film (1) bonded via an adhesive layer (3), and the base film (5) is peelable from the polymer layer (2). The base film (5) is peeled from the bonding step (B) to obtain the optical layered body with material film (7), and the optical layered body with base film (7) obtained in the bonding step (B). Together with the peeling step (C) to obtain the optical laminate (4)
Including a base film removing charge transporting step (D) for transporting in the longitudinal direction while discharging the base film (5) after being peeled in the peeling step (C),
The polymer layer with a base film has an absolute value of the charge amount of the polymer layer with a base film (6) after static elimination in the static elimination transport step (A) of the base film is not less than 0.01 kV and not more than 6 kV, or the base material The manufacturing method of the optical laminated body whose absolute value of the charge amount of the said base film (5) after static elimination in a film static elimination conveyance process (D) is 0.01 kV or more and 6 kV or less.
除電後の前記基材フィルム付き重合体層（６）の帯電量の絶対値が０．０１ｋＶ以上６ｋＶ以下である、基材フィルム付き重合体層の搬送方法。 A long base film (5) and a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound laminated on the base film (5), the base film ( 5) is a method of conveying the polymer layer (6) with a long base film that can be peeled off from the polymer layer (2) in the longitudinal direction while removing electricity,
The conveyance method of the polymer layer with a base film whose absolute value of the charge amount of the said polymer layer with a base film (6) after static elimination is 0.01 kV or more and 6 kV or less.
前記長尺の基材フィルム（５）と、該基材フィルム（５）上に積層された前記重合体層（２）とを備え、前記基材フィルム（５）が前記重合体層（２）から剥離可能である長尺の基材フィルム付き重合体層（６）を、除電しながら長手方向に搬送する基材フィルム付き重合体層除電搬送工程（Ａ）、および
前記基材フィルム付き重合体層除電搬送工程（Ａ）により搬送される前記基材フィルム付き重合体層（６）に対して、前記重合体層（２）側に粘着剤または接着剤層（３）を介して長尺の光学フィルム（１）を貼合して、長尺の基材フィルム（５）と、前記重合体層（２）と、該重合体層（２）上に前記粘着剤または接着剤層（３）を介して貼合された長尺の光学フィルム（１）とを備え、前記基材フィルム（５）が前記重合体層（２）から剥離可能である長尺の基材フィルム付き光学積層体（７）を得る工程（Ｂ）
を含み、前記基材フィルム付き重合体層除電搬送工程（Ａ）における除電後の前記基材フィルム付き重合体層（６）の帯電量の絶対値が０．０１ｋＶ以上６ｋＶ以下である、基材フィルム付き光学積層体の製造方法。 A long base film (5), a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound, and an adhesive or adhesive layer (3) on the polymer layer (2) A long optical film (1) and a long optical film (7) with a base film, the base film (5) being peelable from the polymer layer (2). A method of manufacturing
The long base film (5) and the polymer layer (2) laminated on the base film (5) are provided, and the base film (5) is the polymer layer (2). A polymer layer with a base film that transports the long polymer layer with a base film (6) that can be peeled from the substrate in the longitudinal direction while removing electricity (A), and the polymer with a base film With respect to the polymer layer (6) with the substrate film conveyed by the layer static elimination conveyance step (A), the polymer layer (2) side is longer than the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3). An optical film (1) is bonded, and a long base film (5), the polymer layer (2), and the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) on the polymer layer (2). And a long optical film (1) bonded through the base film (5) is the polymer layer (2). (B) to obtain an optical laminate (7) with a long base film that can be peeled from
The polymer layer with a base film has a charge amount of 0.01 kV or more and 6 kV or less in the polymer layer with the base film (6) after static elimination in the static elimination transport step (A) of the base film. The manufacturing method of an optical laminated body with a film.
長尺の基材フィルム（５）と、前記重合体層（２）と、該重合体層（２）上に前記粘着剤または接着剤層（３）を介して貼合された長尺の光学フィルム（１）とを備え、前記基材フィルム（５）が前記重合体層（２）から剥離可能である長尺の基材フィルム付き光学積層体（７）から前記基材フィルム（５）を剥離して前記光学積層体（４）を得る剥離工程（Ｃ）と共に、
前記剥離工程（Ｃ）で剥離された後の前記基材フィルム（５）を除電しながら長手方向に搬送する基材フィルム除電搬送工程（Ｄ）を備え、
前記基材フィルム除電搬送工程（Ｄ）における除電後の前記基材フィルム（５）の帯電量の絶対値が０．０１ｋＶ以上６ｋＶ以下である、光学積層体の製造方法。 It comprises a long optical film (1) and a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound, and the polymer layer (2) is bonded to the optical film (1) with an adhesive or adhesive. A method for producing an optical laminate (4) laminated via an agent layer (3),
A long optical film bonded to the long base film (5), the polymer layer (2), and the polymer layer (2) via the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3). The base film (5) from the long optical laminate (7) with a base film, the base film (5) being peelable from the polymer layer (2). Together with the peeling step (C) for peeling to obtain the optical laminate (4),
It comprises a substrate film charge removal conveyance step (D) that conveys the substrate film (5) after being peeled in the peeling step (C) in the longitudinal direction while removing electricity.
The manufacturing method of the optical laminated body whose absolute value of the charge amount of the said base film (5) after static elimination in the said base film static elimination conveyance process (D) is 0.01 kV or more and 6 kV or less.
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