JP2018513543A - Multiple charged particle beam equipment - Google Patents
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Abstract
【課題】高解像度かつ高スループットで試料を観察するためのマルチビーム装置が提案される。【解決手段】この装置においては、ソース変換ユニットが単一の電子ソースを仮想的マルチソースアレイへと変化させ、一次投影結像システムがそのアレイを試料上に複数のプローブスポットを形成するように投影し、コンデンサレンズがそれら複数のプローブスポットの電流を調整する。ソース変換ユニットにおいては、像形成手段は、ビームレット制限手段の上流にあり、それにより低散乱の電子を生成する。像形成手段は、仮想的マルチソースアレイを形成するだけでなく、複数のプローブスポットの軸外収差も補償する。【選択図】図3AA multi-beam apparatus for observing a sample with high resolution and high throughput is proposed. In this apparatus, a source conversion unit converts a single electron source into a virtual multi-source array, and a primary projection imaging system forms the array with a plurality of probe spots on a sample. The condenser lens adjusts the current of the plurality of probe spots. In the source conversion unit, the imaging means is upstream of the beamlet limiting means, thereby producing low scattering electrons. The image forming means not only forms a virtual multi-source array, but also compensates for off-axis aberrations of a plurality of probe spots. [Selection] Figure 3A
Description
優先権の主張
本出願は、レンほかの権利であり2015年3月10日に出願された「複数荷電粒子ビームの装置」と題する米国仮出願第62/130,819号の優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に援用される。
This application claims the priority of US Provisional Application No. 62 / 130,819 entitled "Multiple Charged Particle Beam Apparatus" filed on Mar. 10, 2015, entitled Ren et al. The entirety of which is hereby incorporated by reference.
本発明は、複数の荷電粒子ビームを有する荷電粒子装置に関し、とくに、試料表面上の観察エリアの複数の走査領域の像を同時に取得するように複数の荷電粒子ビームを用いる装置に関する。故に、本装置は、半導体製造産業において高解像度かつ高スループットでウェーハ/マスク上の欠陥を検査及び/または調査するために使用することができる。 The present invention relates to a charged particle apparatus having a plurality of charged particle beams, and more particularly to an apparatus using a plurality of charged particle beams so as to simultaneously acquire images of a plurality of scanning regions of an observation area on a sample surface. Thus, the apparatus can be used to inspect and / or investigate defects on a wafer / mask with high resolution and high throughput in the semiconductor manufacturing industry.
半導体ICチップの製造の際には、パターン欠陥及び/または招かれざるパーティクル(残留物)がウェーハ/マスクの表面上に製造工程の間に必然的に現れ、これは歩留まりを大きく低下させる。ますます進化するICチップの性能要件を満たすために、ますます小さいクリティカルフィーチャ寸法をもつパターンが採用されている。したがって、光学ビームを用いる従来の歩留まり管理ツールは回折効果により徐々に不適格となっており、電子ビームを用いる歩留まり管理ツールがますます多く用いられる。光子ビームに比べて電子ビームは波長が短いので優れた空間解像度を提供しうる。現在、電子ビームを用いる歩留まり管理ツールは単一の電子ビームを用いる走査電子顕微鏡(SEM)の原理を用いるので、高解像度を提供できるが大量生産に適するスループットを提供することはできない。スループットを高めるためにますます大きなビーム電流を使用することは可能であるが、優れた空間解像度がクーロン効果によって基本的に劣化してしまう。 During the manufacture of semiconductor IC chips, pattern defects and / or uninvited particles (residues) inevitably appear on the surface of the wafer / mask during the manufacturing process, which greatly reduces the yield. Patterns with increasingly smaller critical feature dimensions are employed to meet the ever-evolving performance requirements of IC chips. Therefore, conventional yield management tools using optical beams are gradually becoming ineligible due to diffraction effects, and more and more yield management tools using electron beams are used. Compared to a photon beam, an electron beam has a shorter wavelength and can provide superior spatial resolution. Currently, yield management tools that use electron beams use the principle of a scanning electron microscope (SEM) that uses a single electron beam, so they can provide high resolution but not high throughput suitable for mass production. Although it is possible to use increasingly higher beam currents to increase throughput, superior spatial resolution is essentially degraded by the Coulomb effect.
スループットへの制約を緩和するために、大電流をもつ単一電子ビームを使用するのではない有望な解決策は、各々が小電流をもつ複数の電子ビームを使用することである。複数の電子ビームが試料のひとつの被検査または被観察表面上に複数のプローブスポットを形成する。試料表面では複数のプローブスポットがその試料表面上の大きな観察エリア内にある複数の小さい走査領域をそれぞれ同時に走査することができる。各プローブスポットの電子が試料表面の入射した場所から二次電子を生成する。二次電子は低速の二次電子(50eV以下のエネルギー)と後方散乱された電子(入射する電子のエネルギーに近いエネルギー)とを含む。複数の小さい走査領域からの二次電子は複数の電子検出器によってそれぞれ同時に回収されることができる。したがって、すべての小走査領域を含む大きな観察エリアの像を、単一のビームでその大きな観察エリアを走査するよりも、かなり速く取得することができる。 To alleviate throughput constraints, a promising solution that does not use a single electron beam with a large current is to use multiple electron beams, each with a small current. A plurality of electron beams form a plurality of probe spots on one inspection or observation surface of the sample. On the sample surface, a plurality of probe spots can simultaneously scan a plurality of small scanning regions in a large observation area on the sample surface. Secondary electrons are generated from the location where the electrons of each probe spot are incident on the sample surface. Secondary electrons include low-speed secondary electrons (energy of 50 eV or less) and back-scattered electrons (energy close to the energy of incident electrons). Secondary electrons from multiple small scan areas can be simultaneously collected by multiple electron detectors, respectively. Thus, an image of a large observation area that includes all small scan areas can be acquired much faster than scanning that large observation area with a single beam.
複数の電子ビームは、複数の電子ソースからそれぞれ、または単一の電子ソースから得られる。前者では、複数の電子ビームはたいてい複数のコラムによって複数の小走査領域へとそれぞれ収束されかつ走査し、各走査領域からの二次電子は対応するコラム内部にあるひとつの電子検出器によって検出される。したがって、この装置は一般にマルチコラム装置と呼ばれる。複数のコラムは、独立しているか、または、多軸の磁気または電磁複合対物レンズ(例えばUS8,294,095)を共有することができる。試料表面上での2つの隣接するビームのビーム間隔はたいてい30〜50mm程度の大きさである。 Multiple electron beams are obtained from multiple electron sources, respectively, or from a single electron source. In the former, a plurality of electron beams are usually converged and scanned by a plurality of columns to a plurality of small scanning regions, respectively, and secondary electrons from each scanning region are detected by a single electron detector inside the corresponding column. The Therefore, this apparatus is generally called a multi-column apparatus. Multiple columns can be independent or share a multi-axis magnetic or electromagnetic compound objective (eg, US 8,294,095). The beam spacing between two adjacent beams on the sample surface is usually on the order of 30-50 mm.
後者では、ソース変換ユニットが単一電子ソースを複数のサブソースへと仮想的に変化させるために使用される。ソース変換ユニットは、ひとつのビームレット形成手段とひとつの像形成手段を備える。ビームレット形成手段は、単一電子ソースによって生成された一次電子ビームを複数のサブビームまたはビームレットへとそれぞれ分割する複数のビーム制限開口を基本的に備える。像形成手段は、電子ソースの複数の平行な像を形成するように複数のビームレットにそれぞれ収束または偏向のいずれかを行う複数の電子光学素子を基本的に備える。複数の平行な像の各々がひとつの対応するビームレットを発するひとつのサブソースとみなされることができる。ビームレット間隔すなわちビーム制限開口間隔はマイクロメートルレベルであるため、より多くのビームレットを利用可能であり、故にソース変換ユニットは半導体製造工程またはMEMS(微小電気機械システム)工程によって製作することができる。当然、ひとつの単一コラム内にあるひとつの一次投影結像システムとひとつの偏向走査ユニットが複数の平行な像を複数の小走査領域にそれぞれ投影しかつ走査させるように使用され、そこから得られる複数の二次電子ビームが単一コラム内部にあるひとつの電子検出デバイスの複数の検出素子によってそれぞれ検出される。複数の検出素子は、並列に配置された複数の電子検出器、またはひとつの電子検出器の複数のピクセルであってもよい。したがって、この装置は一般にマルチビーム装置と呼ばれる。 In the latter, a source conversion unit is used to virtually change a single electron source into multiple sub-sources. The source conversion unit includes one beamlet forming unit and one image forming unit. The beamlet forming means basically comprises a plurality of beam limiting apertures that respectively split the primary electron beam generated by a single electron source into a plurality of sub-beams or beamlets. The image forming means basically includes a plurality of electron optical elements that respectively converge or deflect the plurality of beamlets so as to form a plurality of parallel images of the electron source. Each of the plurality of parallel images can be regarded as one sub-source that emits one corresponding beamlet. More beamlets are available because the beamlet spacing or beam limiting aperture spacing is at the micrometer level, so the source conversion unit can be manufactured by a semiconductor manufacturing process or a MEMS (microelectromechanical system) process. . Naturally, one primary projection imaging system and one deflection scanning unit in one single column can be used to project and scan multiple parallel images onto multiple small scan areas respectively. The plurality of secondary electron beams to be detected are respectively detected by the plurality of detection elements of one electron detection device inside the single column. The plurality of detection elements may be a plurality of electron detectors arranged in parallel, or a plurality of pixels of one electron detector. Therefore, this apparatus is generally called a multi-beam apparatus.
図1Aのソース変換ユニット20−1においては、像形成手段22−1は、複数のレンズ(22_1L〜22_3L)からなる。ひとつの単一電子ソースからの実質的に平行な一次電子ビーム2はビームレット形成手段21の複数のビーム制限開口(21_1〜21_3)によって複数のビームレット(2_1〜2_3)へと分割され、複数のレンズは単一電子ソースの複数の平行な像(2_1r〜2_3r)を形成するように複数のビームレットをそれぞれ収束する。複数の平行な像は典型的には実像であるが、複数のレンズの各々が開口レンズである特定の条件では虚像でありうる。US7,244,949およびUS7,880,143はこの形式のひとつの像形成手段を有するマルチビーム装置を提案している。図1Bのソース変換ユニット20−2においては、像形成手段22−2は、複数のデフレクタ(22_2Dと22_3D)からなる。ひとつの単一電子ソースからの発散一次電子ビーム2はビームレット形成手段21の複数のビーム制限開口(21_2と21_3)によって複数のビームレット(2_2と2_3)へと分割され、複数のデフレクタは単一電子ソースの複数の平行な虚像(2_2vと2_3v)を形成するように複数のビームレットをそれぞれ偏向する。 In the source conversion unit 20-1 of FIG. 1A, the image forming unit 22-1 includes a plurality of lenses (22_1L to 22_3L). A substantially parallel primary electron beam 2 from one single electron source is divided into a plurality of beamlets (2_1 to 2_3) by a plurality of beam limiting apertures (21_1 to 21_3) of the beamlet forming means 21, and a plurality of beamlets (2_1 to 2_3) are divided. Each of the lenses converges a plurality of beamlets so as to form a plurality of parallel images (2_1r to 2_3r) of a single electron source. The multiple parallel images are typically real images, but can be virtual images under certain conditions where each of the multiple lenses is an aperture lens. US 7,244,949 and US 7,880,143 propose multi-beam devices having one image forming means of this type. In the source conversion unit 20-2 in FIG. 1B, the image forming unit 22-2 includes a plurality of deflectors (22_2D and 22_3D). The divergent primary electron beam 2 from one single electron source is divided into a plurality of beamlets (2_2 and 2_3) by a plurality of beam limiting apertures (21_2 and 21_3) of the beamlet forming means 21, and a plurality of deflectors are simply used. A plurality of beamlets are respectively deflected so as to form a plurality of parallel virtual images (2_2v and 2_3v) of one electron source.
電子ソースの虚像を形成するようにデフレクタを使用するという考えは、早くも1950年代には有名な二重スリット電子干渉実験に使用された。ここでは図2(「メルリ・ミシロリ・ポッジの二重スリット電子干渉実験」の図1、フィジックス・イン・パースペクティブ、14(2012)、178〜195に公開、ロドルフォ・ロサ著)に示されるように電子線バイプリズムが2つの虚像を形成するように用いられる。電子線バイプリズムは、接地電位にある二枚の平行プレートと、それらの間にある非常に細いワイヤFとを基本的に備える。接地電位に等しくない電位がワイヤFに印加されると、電子線バイプリズムは、互いに反対向きの偏向をもつ2つのデフレクタとなる。電子ソースSからの一次電子ビームがそれら2つのデフレクタを通過して、電子ソースSの虚像S1とS2を形成する2つの偏向されたビームレットとなる。電位が正の場合、2つのビームレットは互いに重なり、その重なり領域に干渉縞が現れる。 The idea of using a deflector to form a virtual image of an electron source was used in the famous double slit electron interference experiment as early as the 1950s. Here, as shown in Fig. 2 (Fig. 1 of "Double slit electron interference experiment of Merli Missiloli Poggi", published in Physics in Perspective, 14 (2012), 178-195, by Rodolfo Rosa) An electron biprism is used to form two virtual images. An electron biprism basically comprises two parallel plates at ground potential and a very thin wire F between them. When a potential not equal to the ground potential is applied to the wire F, the electron biprism becomes two deflectors having deflections in opposite directions. The primary electron beam from the electron source S passes through these two deflectors, resulting in two deflected beamlets that form virtual images S1 and S2 of the electron source S. When the potential is positive, the two beamlets overlap each other, and interference fringes appear in the overlapping region.
それ以来、前述の考えはマルチビーム装置に多くの方法で用いられている。JP−A−10−339711とUS8,378,299は、2つのプローブスポットを試料表面に形成するためにひとつの従来の電子線バイプリズムを直接的に使用している。US6,943,349は、2つよりも多くのプローブスポットを試料表面に形成するためにひとつの環状デフレクタ(同文献の図5)またはひとつの対応するデフレクタアレイ(同文献の図12)を使用し、それにより高スループットを提供することができる。環状デフレクタは、内側環状電極と外側環状電極を含む。2つの環状電極の電位が互いに等しくない場合、局所的な径方向においてひとつの電場が環状ギャップ内に現れ、従って、環状デフレクタは、2つよりも多くのビームレットを共に様々な方向に偏向することができる。さらに、環状デフレクタの偏向機能は、環状ギャップに沿って配列された複数の多極型デフレクタを有するひとつの対応するデフレクタアレイによって実行することもできる。 Since then, the above idea has been used in many ways in multi-beam devices. JP-A-10-339711 and US 8,378,299 use one conventional electron biprism directly to form two probe spots on the sample surface. US 6,943,349 uses one annular deflector (FIG. 5 of the same document) or one corresponding deflector array (FIG. 12 of the document) to form more than two probe spots on the sample surface. Thus, high throughput can be provided. The annular deflector includes an inner annular electrode and an outer annular electrode. If the electric potentials of the two annular electrodes are not equal to each other, one electric field appears in the annular gap in the local radial direction, so the annular deflector deflects more than two beamlets together in various directions. be able to. Furthermore, the deflecting function of the annular deflector can also be performed by one corresponding deflector array having a plurality of multipolar deflectors arranged along an annular gap.
図1Bの従来のソース変換ユニット20−2においては、一次電子ビーム2の発散に起因して複数のビームレットが複数のビーム制限開口を様々な入射角度で通過し、それにより強度の様々な電子散乱に悩まされる。各ビームレットにおける散乱電子は、プローブスポットを拡大させ、及び/またはバックグラウンドノイズとなり、したがって、対応する走査領域の像解像度を劣化させる。 In the conventional source conversion unit 20-2 of FIG. 1B, due to the divergence of the primary electron beam 2, a plurality of beamlets pass through a plurality of beam limiting apertures at various incident angles, thereby causing electrons of various intensities. I suffer from scattering. Scattered electrons in each beamlet expand the probe spot and / or become background noise, thus degrading the image resolution of the corresponding scan area.
US6,943,349においては、複数のビームレットの電流が、単一電子ソースの放出量またはビーム制限開口のサイズのいずれかを変化させることによってのみ偏向可能であるにすぎない。単一電子ソースはその放出量を変化させたとき安定状態となるのに長い時間がかかる。ビームレット形成手段は、開口のグループを複数有するとともに、ひとつのグループの開口のサイズを他のグループとは異ならせる必要がある。グループを使用時に変更するのは非常に時間がかかる。加えて、二次電子ビームは対物レンズのいくつかの特定の動作条件においてレンズ内検出器の多数の検出素子に収束可能であるにすぎない。そのため、利用可能な応用分野が限定される。 In US 6,943,349, the current of multiple beamlets can only be deflected by changing either the emission of a single electron source or the size of the beam limiting aperture. A single electron source takes a long time to become stable when its emission is changed. The beamlet forming means has a plurality of groups of openings, and it is necessary to make the size of the opening of one group different from the other groups. Changing a group at the time of use is very time consuming. In addition, the secondary electron beam can only be focused on a large number of detector elements of the in-lens detector in some specific operating conditions of the objective lens. This limits the application fields that can be used.
したがって、高解像度かつ高スループットで試料表面上の大きな観察エリア内の複数の小さい走査領域の像を同時に取得することのできるマルチビーム装置を提供することが必要である。とくに、高解像度かつ高スループットでウェーハ/マスク上の欠陥を検査及び/または調査することのできるマルチビーム装置が半導体製造産業のロードマップに適合するために必要とされる。 Therefore, it is necessary to provide a multi-beam apparatus capable of simultaneously acquiring images of a plurality of small scanning regions in a large observation area on the sample surface with high resolution and high throughput. In particular, a multi-beam apparatus capable of inspecting and / or investigating defects on a wafer / mask with high resolution and high throughput is needed to meet the semiconductor manufacturing industry roadmap.
この発明の目的は、試料を観察するために高解像度と高スループットの両方を提供することができ、とくに、半導体製造産業においてウェーハ/マスク上の欠陥を検査及び/または調査する歩留まり管理ツールとして機能する新規なマルチビーム装置を提供することにある。マルチビーム装置は、最初に、単一電子ソースの複数の平行な虚像を形成し、次に、対応する複数のビームレットの電流を制限する新たなソース変換ユニットと、複数のビームレットの電流を調整するコンデンサレンズと、試料の被観察表面に複数のプローブスポットを形成するように複数の平行な虚像を投影する一次投影結像システムと、該表面からの複数の二次電子ビームを複数のビームレットの経路から外すように偏向するビームセパレータと、電子検出デバイスの複数の検出素子によってそれぞれ検出されるように複数の二次電子ビームを収束する二次投影結像システムと、を採用する。 It is an object of the present invention to provide both high resolution and high throughput for observing a sample, and in particular functions as a yield management tool for inspecting and / or investigating defects on a wafer / mask in the semiconductor manufacturing industry. It is an object of the present invention to provide a novel multi-beam apparatus. The multi-beam device first forms a plurality of parallel virtual images of a single electron source, and then creates a new source conversion unit that limits the current of the corresponding plurality of beamlets and the current of the plurality of beamlets. A condenser lens to be adjusted, a primary projection imaging system that projects a plurality of parallel virtual images so as to form a plurality of probe spots on the surface to be observed of the sample, and a plurality of secondary electron beams from the surface A beam separator that deflects away from the let path and a secondary projection imaging system that converges a plurality of secondary electron beams so as to be respectively detected by a plurality of detection elements of the electron detection device are employed.
そこで、本発明は、ソース変換ユニットを提供し、これは、複数の上部4極構造を有する上部層と複数の下部4極構造を有する下部層とを備える像形成手段と、像形成手段の下方にあり、複数のビーム制限開口を備えるビームレット制限手段と、を備える。各上部4極構造がひとつの対応する下部4極構造の上方にありそれと整列され、両者は方位角が45°異なるとともに4極構造の組を形成する。したがって、複数の上部4極構造と複数の下部4極構造は複数の4極構造の組を形成する。複数のビーム制限開口は、複数の4極構造の組とそれぞれ整列されている。ひとつの4極構造の組が、電子ソースによって生成された電子ビームのひとつのビームレットを電子ソースの虚像を形成するように偏向するマイクロデフレクタ、ひとつのビームレットを所望の程度収束するマイクロレンズ、及び/または、ひとつのビームレットに所望量の非点収差を付加するマイクロスティグメータとして機能する。 Accordingly, the present invention provides a source conversion unit, which comprises an image forming means comprising an upper layer having a plurality of upper quadrupole structures and a lower layer having a plurality of lower quadrupole structures, and below the image forming means. And a beamlet limiting means including a plurality of beam limiting apertures. Each upper quadrupole structure is above and aligned with one corresponding lower quadrupole structure, both differing in azimuth by 45 ° and forming a quadrupole structure set. Accordingly, the plurality of upper quadrupole structures and the plurality of lower quadrupole structures form a set of a plurality of quadrupole structures. The plurality of beam limiting apertures are each aligned with a plurality of sets of quadrupole structures. A micro deflector that deflects one beamlet of an electron beam generated by an electron source to form a virtual image of the electron source, a micro lens that converges one beamlet to a desired degree, And / or functions as a microstigmator that adds a desired amount of astigmatism to one beamlet.
また、本発明は、試料の表面を観察するためのマルチビーム装置を提供し、これは、電子ソースと、電子ソースの下方にあるコンデンサレンズと、コンデンサレンズの下方にあるソース変換ユニットと、ソース変換ユニットの下方にあり、対物レンズを備える一次投影結像システムと、一次投影結像システムの内部にある偏向走査ユニットと、一次投影結像システムの下方にある試料ステージと、対物レンズの上方にあるビームセパレータと、ビームセパレータの上方にある二次投影結像システムと、複数の検出素子を有する電子検出デバイスと、を備える。ソース変換ユニットは、複数のマイクロデフレクタを有する像形成手段と、複数のビーム制限開口を有するビームレット制限手段と、を備え、像形成手段は、ビームレット制限手段の上方にある。電子ソース、コンデンサレンズ、ソース変換ユニット、一次投影結像システム、偏向走査ユニット、およびビームセパレータは、この装置の一次光軸に整列されている。試料ステージは、表面が対物レンズを向くように試料を支持する。二次投影結像システムおよび電子検出デバイスは、装置の二次光軸に整列され、二次光軸は、一次光軸と非平行である。電子ソースは、一次光軸に沿って一次電子ビームを生成し、複数のマイクロデフレクタは、電子ソースの複数の平行な虚像を形成するように一次電子ビームを偏向する。それにより仮想的マルチソースアレイが電子ソースから変換され、仮想的マルチソースアレイを含む複数のビームレットが複数のビーム制限開口をそれぞれ通過する。それにより各ビームレットの電流がひとつの対応するビーム制限開口によって制限され、複数のビームレットの電流がコンデンサレンズを調整することによって変更可能である。一次投影結像システムは、仮想的マルチソースアレイを表面上に結像し、それにより複数のプローブスポットが該表面上に形成される。偏向走査ユニットは、表面上の観察エリア内の複数の走査領域を複数のプローブスポットにそれぞれ走査させるように複数のビームレットを偏向する。複数の二次電子ビームが、複数のプローブスポットによって複数の走査領域からそれぞれ生成され、かつ対物レンズを通過する際に収束される。ビームセパレータは、複数の二次電子ビームを二次投影結像システムへと偏向し、二次投影結像システムは、複数の二次電子ビームを複数の検出素子によってそれぞれ検出されるように収束しかつ維持する。それにより各検出素子がひとつの対応する走査領域の像信号を提供する。 The present invention also provides a multi-beam apparatus for observing the surface of a sample, which comprises an electron source, a condenser lens below the electron source, a source conversion unit below the condenser lens, and a source Below the conversion unit, a primary projection imaging system with an objective lens, a deflection scanning unit inside the primary projection imaging system, a sample stage below the primary projection imaging system, and above the objective lens A beam separator, a secondary projection imaging system above the beam separator, and an electron detection device having a plurality of detection elements. The source conversion unit includes an image forming unit having a plurality of micro deflectors and a beamlet limiting unit having a plurality of beam limiting apertures, the image forming unit being above the beamlet limiting unit. The electron source, condenser lens, source conversion unit, primary projection imaging system, deflection scanning unit, and beam separator are aligned with the primary optical axis of the device. The sample stage supports the sample so that the surface faces the objective lens. The secondary projection imaging system and the electronic detection device are aligned with the secondary optical axis of the apparatus, the secondary optical axis being non-parallel to the primary optical axis. The electron source generates a primary electron beam along the primary optical axis, and the plurality of microdeflectors deflect the primary electron beam to form a plurality of parallel virtual images of the electron source. Thereby, the virtual multi-source array is converted from the electron source, and a plurality of beamlets including the virtual multi-source array pass through the plurality of beam limiting apertures, respectively. Thereby, the current of each beamlet is limited by one corresponding beam limiting aperture, and the current of multiple beamlets can be changed by adjusting the condenser lens. The primary projection imaging system images a virtual multi-source array on a surface, thereby forming a plurality of probe spots on the surface. The deflection scanning unit deflects the plurality of beamlets so that the plurality of scanning areas in the observation area on the surface are scanned by the plurality of probe spots, respectively. A plurality of secondary electron beams are respectively generated from a plurality of scanning regions by a plurality of probe spots and converged when passing through the objective lens. The beam separator deflects a plurality of secondary electron beams into the secondary projection imaging system, and the secondary projection imaging system focuses the plurality of secondary electron beams so that they are detected by a plurality of detection elements, respectively. And maintain. Thereby, each detection element provides an image signal of one corresponding scanning area.
マルチビーム装置は、電子ソースの下方にあり、一次光軸に整列された主開口を有し、一次電子ビーム用のビーム制限アパチャーとして機能する主アパチャープレートをさらに備えてもよい。一次投影結像システムは、対物レンズの上方にあり、表面に垂直に入射するように複数のビームレットを収束するトランスファーレンズを備えてもよい。複数のマイクロデフレクタの各々は、偏向場を任意の径方向に生成可能な4極構造を有する。マルチビーム装置は、ビームセパレータの上方にあり、単一ビームモードにおいて使用可能な単一ビーム電子検出器をさらに備えてもよい。マルチビーム装置は、一次光軸に整列されたビームレット通過穴を有し、ビームセパレータの下方にあり、単一ビームモードにおいて使用可能なレンズ内電子検出器をさらに備えてもよい。 The multi-beam apparatus may further comprise a main aperture plate below the electron source, having a main aperture aligned with the primary optical axis and functioning as a beam limiting aperture for the primary electron beam. The primary projection imaging system may include a transfer lens that is above the objective lens and converges the plurality of beamlets to be incident perpendicular to the surface. Each of the plurality of micro deflectors has a quadrupole structure capable of generating a deflection field in an arbitrary radial direction. The multi-beam device may further comprise a single beam electron detector above the beam separator and usable in single beam mode. The multi-beam apparatus may further comprise an in-lens electron detector having a beamlet passage hole aligned with the primary optical axis, below the beam separator and usable in a single beam mode.
また、本発明は、試料の表面を観察するためのマルチビーム装置を提供し、これは、電子ソースと、電子ソースの下方にあるコンデンサレンズと、コンデンサレンズの下方にあるソース変換ユニットと、ソース変換ユニットの下方にあり、対物レンズを備える一次投影結像システムと、一次投影結像システムの内部にある偏向走査ユニットと、一次投影結像システムの下方にある試料ステージと、対物レンズの上方にあるビームセパレータと、ビームセパレータの上方にある二次投影結像システムと、複数の検出素子を有する電子検出デバイスと、を備える。ソース変換ユニットは、複数のマイクロデフレクタ補償器要素を有する像形成手段と、複数のビーム制限開口を有するビームレット制限手段と、を備え、各マイクロデフレクタ補償器要素は、ひとつのマイクロデフレクタと、ひとつのマイクロレンズとひとつのマイクロスティグメータとを有するひとつのマイクロ補償器とを備える。像形成手段は、ビームレット制限手段の上方にある。電子ソース、コンデンサレンズ、ソース変換ユニット、一次投影結像システム、偏向走査ユニット、およびビームセパレータは、装置の一次光軸に整列されている。試料ステージは、表面が対物レンズを向くように試料を支持する。二次投影結像システムおよび電子検出デバイスは、装置の二次光軸に整列され、二次光軸は、一次光軸と非平行である。電子ソースは、一次光軸に沿って一次電子ビームを生成し、複数のマイクロデフレクタは、電子ソースの複数の平行な虚像を形成するように一次電子ビームを偏向する。それにより仮想的マルチソースアレイが電子ソースから変換される。仮想的マルチソースアレイを含む複数のビームレットが複数のビーム制限開口をそれぞれ通過し、それにより各ビームレットの電流がひとつの対応するビーム制限開口によって制限される。複数のビームレットの電流がコンデンサレンズを調整することによって変更可能である。一次投影結像システムは、仮想的マルチソースアレイを表面上に結像し、それにより複数のプローブスポットが該表面上に形成される。ひとつのマイクロ補償器のひとつのマイクロレンズおよびひとつのマイクロスティグメータがひとつの対応するプローブスポットの像面湾曲および非点収差をそれぞれ補償し、偏向走査ユニットは、表面上の観察エリア内の複数の走査領域を複数のプローブスポットにそれぞれ走査させるように複数のビームレットを偏向する。複数の二次電子ビームが、複数のプローブスポットによって複数の走査領域からそれぞれ生成され、かつ対物レンズを通過する際に収束され、ビームセパレータは、二次投影結像システムへと入射するように複数の二次電子ビームを偏向する。二次投影結像システムは、複数の二次電子ビームを複数の検出素子によってそれぞれ検出されるように収束しかつ維持し、それにより各検出素子がひとつの対応する走査領域の像信号を提供する。 The present invention also provides a multi-beam apparatus for observing the surface of a sample, which comprises an electron source, a condenser lens below the electron source, a source conversion unit below the condenser lens, and a source Below the conversion unit, a primary projection imaging system with an objective lens, a deflection scanning unit inside the primary projection imaging system, a sample stage below the primary projection imaging system, and above the objective lens A beam separator, a secondary projection imaging system above the beam separator, and an electron detection device having a plurality of detection elements. The source conversion unit comprises imaging means having a plurality of microdeflector compensator elements and beamlet restricting means having a plurality of beam limiting apertures, each microdeflector compensator element having one microdeflector and one A microlens and a microcompensator having a microstigmator. The image forming means is above the beamlet limiting means. The electron source, condenser lens, source conversion unit, primary projection imaging system, deflection scanning unit, and beam separator are aligned with the primary optical axis of the device. The sample stage supports the sample so that the surface faces the objective lens. The secondary projection imaging system and the electronic detection device are aligned with the secondary optical axis of the apparatus, the secondary optical axis being non-parallel to the primary optical axis. The electron source generates a primary electron beam along the primary optical axis, and the plurality of microdeflectors deflect the primary electron beam to form a plurality of parallel virtual images of the electron source. A virtual multi-source array is thereby converted from an electronic source. A plurality of beamlets including a virtual multi-source array each pass through a plurality of beam limiting apertures, whereby the current of each beamlet is limited by one corresponding beam limiting aperture. The current of multiple beamlets can be changed by adjusting the condenser lens. The primary projection imaging system images a virtual multi-source array on a surface, thereby forming a plurality of probe spots on the surface. One microlens and one microstigmator of one microcompensator compensate for the field curvature and astigmatism of one corresponding probe spot, respectively. A plurality of beamlets are deflected so that the scanning region is scanned by a plurality of probe spots, respectively. A plurality of secondary electron beams are respectively generated from a plurality of scanning regions by a plurality of probe spots and converged when passing through the objective lens, and a plurality of beam separators are incident on the secondary projection imaging system. The secondary electron beam is deflected. A secondary projection imaging system converges and maintains a plurality of secondary electron beams to be detected by a plurality of detection elements, respectively, whereby each detection element provides an image signal of one corresponding scanning region. .
マルチビーム装置は、電子ソースの下方にあり、一次光軸に整列された主開口を有し、一次電子ビーム用のビーム制限アパチャーとして機能する主アパチャープレートをさらに備えてもよい。複数のマイクロデフレクタ補償器要素の各々は、所望の偏向場を生成することによってひとつのマイクロデフレクタとして、かつ所望の四重極場および所望の円形レンズ場を生成することによってひとつのマイクロ補償器として機能する8極構造を有してもよい。複数のマイクロデフレクタ補償器要素の各々は、上部4極構造を上部層に、かつ下部4極構造を下部層に有し、上部層は下部層の上方にあり、上部4極構造と下部4極構造は、互いに整列されかつ方位角が45°異なる。上部4極構造および下部4極構造は、所望の偏向場を生成することによってひとつのマイクロデフレクタとして、かつ所望の四重極場および所望の円形レンズ場を生成することによってひとつのマイクロ補償器として機能してもよい。一次投影結像システムは、対物レンズの上方にあり、表面に垂直に入射するように複数のビームレットを収束するトランスファーレンズを備えてもよい。マルチビーム装置は、ビームセパレータの上方にあり、単一ビームモードにおいて使用可能な単一ビーム電子検出器をさらに備えてもよい。マルチビーム装置は、一次光軸に整列されたビームレット通過穴を有し、ビームセパレータの下方にあり、単一ビームモードにおいて使用可能なレンズ内電子検出器をさらに備えてもよい。 The multi-beam apparatus may further comprise a main aperture plate below the electron source, having a main aperture aligned with the primary optical axis and functioning as a beam limiting aperture for the primary electron beam. Each of the plurality of micro-deflector compensator elements as a single micro-deflector by generating a desired deflection field and a single micro-compensator by generating a desired quadrupole field and a desired circular lens field. It may have a functioning octupole structure. Each of the plurality of micro deflector compensator elements has an upper quadrupole structure in the upper layer and a lower quadrupole structure in the lower layer, the upper layer being above the lower layer, the upper quadrupole structure and the lower quadrupole structure. The structures are aligned with each other and differ in azimuth by 45 °. The upper quadrupole structure and the lower quadrupole structure are used as one micro deflector by generating the desired deflection field and as one micro compensator by generating the desired quadrupole field and the desired circular lens field. May function. The primary projection imaging system may include a transfer lens that is above the objective lens and converges the plurality of beamlets to be incident perpendicular to the surface. The multi-beam device may further comprise a single beam electron detector above the beam separator and usable in single beam mode. The multi-beam apparatus may further comprise an in-lens electron detector having a beamlet passage hole aligned with the primary optical axis, below the beam separator and usable in a single beam mode.
また、本発明は、電子ソースから仮想的マルチソースアレイを形成するためのソース変換ユニットを構成する方法を提供し、これは、複数の上部4極構造を有する上部層と複数の下部4極構造を有する下部層とを備える像形成手段を設けるステップと、像形成手段の下方にあり複数のビーム制限開口を備えるビームレット制限手段を設けるステップと、を備える。各上部4極構造は、ひとつの対応する下部4極構造の上方にありそれと整列され、両者は方位角が45°異なるとともに4極構造の組を形成する。それにより複数の上部4極構造と複数の下部4極構造が複数の4極構造の組を形成する。複数のビーム制限開口は、複数の4極構造の組とそれぞれ整列されている。ひとつの4極構造の組が、電子ソースによって生成された電子ビームのひとつのビームレットを、電子ソースの虚像を形成するように偏向するマイクロデフレクタ、当該ひとつのビームレットを所望の程度収束するマイクロレンズ、及び/または、当該ひとつのビームレットに所望量の非点収差を付加するマイクロスティグメータとして機能する。 The present invention also provides a method of constructing a source conversion unit for forming a virtual multi-source array from an electronic source, comprising an upper layer having a plurality of upper quadrupole structures and a plurality of lower quadrupole structures. And a step of providing a beamlet restricting means provided with a plurality of beam restricting apertures below the image forming means. Each upper quadrupole structure is above and aligned with one corresponding lower quadrupole structure, both differing in azimuth by 45 ° and forming a quadrupole structure set. Thereby, a plurality of upper quadrupole structures and a plurality of lower quadrupole structures form a set of a plurality of quadrupole structures. The plurality of beam limiting apertures are each aligned with a plurality of sets of quadrupole structures. A micro deflector that deflects one beamlet of an electron beam generated by an electron source so as to form a virtual image of the electron source, and a micro that converges the one beamlet to a desired degree. It functions as a lens and / or a microstigmator that adds a desired amount of astigmatism to the one beamlet.
ソース変換ユニットは、複数の4極構造の組とそれぞれ整列された複数の上部貫通穴を有する上部電気伝導プレートを備えてもよい。ソース変換ユニットは、複数の4極構造の組とそれぞれ整列された複数の下部貫通穴を有する下部電気伝導プレートをさらに備えてもよい。 The source conversion unit may comprise an upper electrically conductive plate having a plurality of upper through holes each aligned with a plurality of sets of quadrupole structures. The source conversion unit may further include a lower conductive plate having a plurality of lower through holes each aligned with a plurality of sets of quadrupole structures.
また、本発明は、電子ソースから仮想的マルチソースアレイを形成するための方法を提供し、これは、複数の上部4極構造を有する上部層および複数の下部4極構造を有する下部層を使用することによって、電子ソースからの電子ビームを複数のビームレットへと偏向するステップと、複数の開口を使用することによって複数のビームレットを制限するステップと、を備える。各上部4極構造がひとつの対応する下部4極構造の上方にありそれと整列され、両者は方位角が45°異なるとともに4極構造の組を形成する。 The present invention also provides a method for forming a virtual multi-source array from an electron source, which uses an upper layer having a plurality of upper quadrupole structures and a lower layer having a plurality of lower quadrupole structures. Thereby deflecting the electron beam from the electron source into a plurality of beamlets and constraining the plurality of beamlets by using a plurality of apertures. Each upper quadrupole structure is above and aligned with one corresponding lower quadrupole structure, both differing in azimuth by 45 ° and forming a quadrupole structure set.
また、本発明は、荷電粒子ビーム装置を提供し、これは、一次ビームを提供する単一荷電粒子ソースと、一次ビームを複数のビームレットへと変換する手段と、複数のビームレットから標本上に複数のプローブスポットを形成する第1投影システムと、標本上の複数のプローブスポットを走査する偏向走査ユニットと、複数の信号電子ビームを複数のビームレットから分離する手段と、複数の信号電子ビームを受ける検出デバイスと、複数の信号電子ビームから複数の信号スポットを検出デバイスの複数の電子検出素子上にそれぞれ形成する第2投影システムと、を備える。変換手段は、複数のビームレットを偏向する複数のデフレクタと、複数のデフレクタの下方にある複数のビーム制限開口とを備える。複数の信号電子ビームは、標本への複数のビームレットの衝突によりそれぞれ生成される。 The present invention also provides a charged particle beam device comprising a single charged particle source providing a primary beam, means for converting the primary beam into a plurality of beamlets, and a plurality of beamlets on the specimen. A first projection system for forming a plurality of probe spots, a deflection scanning unit for scanning a plurality of probe spots on a specimen, means for separating a plurality of signal electron beams from a plurality of beamlets, and a plurality of signal electron beams And a second projection system for forming a plurality of signal spots from a plurality of signal electron beams on a plurality of electron detection elements of the detection device, respectively. The conversion means includes a plurality of deflectors for deflecting the plurality of beamlets and a plurality of beam limiting apertures below the plurality of deflectors. The plurality of signal electron beams are respectively generated by the collision of the plurality of beamlets with the specimen.
荷電粒子ビーム装置は、複数のプローブスポットの電流を調整するコンデンサレンズをさらに備えてもよい。変換手段は、複数のプローブスポットの収差をそれぞれ補償する複数の補償器を備える。 The charged particle beam apparatus may further include a condenser lens that adjusts currents of a plurality of probe spots. The conversion means includes a plurality of compensators that compensate the aberrations of the plurality of probe spots.
本発明のその他の利点は、例示を目的とする本発明のいくつかの実施の形態を説明する付属の図面および以下の記述から明らかとなるであろう。 Other advantages of the present invention will become apparent from the accompanying drawings which describe several embodiments of the present invention for purposes of illustration and the following description.
本発明は、付属の図面および以下の詳細な説明により容易に理解されるであろう。各図面において同様の参照符号は同様の構造的要素を指し示す。 The present invention will be readily understood by the attached drawings and the following detailed description. Like reference symbols in the various drawings indicate like structural elements.
以下、本発明の種々の例示的な実施の形態が、本発明のいくつかの例示的な実施の形態を示す付属の図面を参照して、より完全に説明される。本発明の保護範囲を限定することなく、それら実施の形態の説明および図面のすべては例示として電子ビームに言及するが、それら実施の形態は本発明を特定の荷電粒子に限定すべく使用されるべきではない。 Various exemplary embodiments of the invention will now be described more fully with reference to the accompanying drawings, which illustrate several exemplary embodiments of the invention. Without limiting the scope of protection of the present invention, all of the description of the embodiments and drawings refer to an electron beam as an example, but these embodiments are used to limit the present invention to specific charged particles. Should not.
図面において、各構成要素および構成要素間の相対的な寸法は、明確化のために誇張される場合がある。図面についての後述の説明では、同一または類似の参照番号は同一または類似の構成要素または存在物を参照し、個々の実施の形態に関する相違点のみが記述される。明確化のために、図面においては3つのビームレットのみが利用可能であるが、ビームレットの数はいくつであってもよい。 In the drawings, the components and the relative dimensions between the components may be exaggerated for clarity. In the following description of the drawings, the same or similar reference numbers refer to the same or similar components or entities, and only the differences with respect to the individual embodiments are described. For clarity, only three beamlets are available in the drawing, but any number of beamlets may be used.
したがって、本発明の例示的な実施の形態は、種々の変形および代替の形態が可能であるところ、実施の形態は図面において例示の目的で示されるとともに本書に詳細に説明される。しかしながら、開示される特定の形態に本発明の例示的な実施の形態を限定する意図は無く、対照的に、本発明の例示的な実施の形態は、本発明の範囲内に含まれるあらゆる変形、均等物、および代替物に及ぶものである。 Accordingly, while the exemplary embodiments of the invention are susceptible to various modifications and alternative forms, the embodiments are shown by way of example in the drawings and will herein be described in detail. However, there is no intention to limit the exemplary embodiments of the invention to the specific forms disclosed, in contrast, the exemplary embodiments of the invention are intended to cover any variations that fall within the scope of the invention. , Equivalents, and alternatives.
この発明において、「軸方向」とは、「レンズ(円形または多極)、結像システム、または装置の光軸方向」をいい、「径方向」とは、「光軸に垂直な方向」をいい、「軸上」とは、「光軸上にあるかまたは光軸に整列されている」ことをいい、「軸外」とは、「光軸上にないかまたは光軸に整列されていない」ことをいう。 In the present invention, the “axial direction” means “the optical axis direction of a lens (circular or multipolar), imaging system, or apparatus”, and “radial direction” means “the direction perpendicular to the optical axis”. “On-axis” means “on or aligned with the optical axis”, and “off-axis” means “not on the optical axis or aligned with the optical axis” Not. "
この発明において、「結像システムが光軸に整列されている」とは、「すべての電子光学素子(円形レンズ、多極レンズなど)が光軸に整列されている」ことをいう。 In the present invention, “the imaging system is aligned with the optical axis” means “all the electro-optical elements (circular lenses, multipole lenses, etc.) are aligned with the optical axis”.
この発明において、X軸、Y軸、およびZ軸はデカルト座標系を形成する。一次投影結像システムの光軸はZ軸上にあり、一次電子ビームはZ軸に沿って進む。 In the present invention, the X axis, the Y axis, and the Z axis form a Cartesian coordinate system. The optical axis of the primary projection imaging system is on the Z axis, and the primary electron beam travels along the Z axis.
この発明において、「一次電子」とは、「電子ソースから発せられ、試料の被観察または被検査表面に入射する電子」をいい、「二次電子」とは、「当該表面から「一次電子」によって生成された電子」をいう。 In the present invention, “primary electrons” means “electrons emitted from an electron source and incident on a surface to be observed or inspected of a sample”, and “secondary electrons” means “primary electrons from the surface”. "Electrons generated by".
この発明において、「信号電子」とは、「試料の被観察または被検査表面から一次荷電粒子ビームによって生成された電子」をいう。 In the present invention, “signal electrons” refers to “electrons generated by a primary charged particle beam from the surface of a sample to be observed or inspected”.
この発明において、「単一ビームモード」とは、ひとつのビームレットのみが使用されることをいう。 In the present invention, the “single beam mode” means that only one beamlet is used.
この発明において、貫通穴、開口、およびオリフィスに関連するすべての用語は、ひとつのプレートを貫通している開口または穴をいう。 In this invention, all terms related to through holes, openings, and orifices refer to openings or holes through one plate.
続いて、本発明は、新たなマルチビーム装置のいくつかの実施の形態を提供する。マルチビーム装置は、マルチビーム装置は、最初に、単一電子ソースの複数の平行な虚像を形成し、次に、複数のビームレットの電流を制限する新たなソース変換ユニットと、複数のビームレットの電流を調整するコンデンサレンズと、複数の平行な虚像を、試料の被観察表面に複数のプローブスポットを形成するように投影する一次投影結像システムと、該表面からの複数の二次電子ビームを複数のビームレットの経路から外すように偏向するビームセパレータと、電子検出デバイスの複数の検出素子によってそれぞれ検出されるように複数の二次電子ビームを収束する二次投影結像システムと、を採用する。 Subsequently, the present invention provides several embodiments of the new multi-beam apparatus. A multi-beam device is a multi-beam device that first forms a plurality of parallel virtual images of a single electron source and then a new source conversion unit that limits the current of the plurality of beamlets and a plurality of beamlets. A condenser lens that adjusts the current of the first projection, a primary projection imaging system that projects a plurality of parallel virtual images so as to form a plurality of probe spots on the surface to be observed of the sample, and a plurality of secondary electron beams from the surface A beam separator that deflects the plurality of beamlets away from the path of the plurality of beamlets, and a secondary projection imaging system that converges the plurality of secondary electron beams so as to be respectively detected by the plurality of detection elements of the electron detection device, adopt.
この新たなソース変換ユニットは、複数のマイクロデフレクタを有する像形成手段と、複数のビーム制限開口を有するビームレット制限手段と、を備え、像形成手段は、ビームレット制限手段の上流にある。単一電子ソースからの一次電子ビームは、最初に、単一電子ソースの複数の平行な虚像を形成するように複数のマイクロデフレクタによって偏向され、そして、複数の平行な虚像を形成する複数のビームレットが複数のビーム制限を垂直にまたは実質的に垂直に通過する。このようにして、複数のビーム制限開口は、従来技術に比べて低散乱の電子を生成するだけでなく、上流で生成された散乱電子を遮断し、よって、電子散乱に起因する像解像度の劣化がなくなる。像形成手段は、複数のプローブスポットの軸外収差(像面湾曲および非点収差)をそれぞれ補償する複数のマイクロ補償器をさらに備え、よって、被観察表面の像解像度がさらに改善される。 The new source conversion unit comprises image forming means having a plurality of micro deflectors and beamlet limiting means having a plurality of beam limiting apertures, the image forming means being upstream of the beamlet limiting means. A primary electron beam from a single electron source is first deflected by a plurality of microdeflectors to form a plurality of parallel virtual images of the single electron source, and the plurality of beams forming a plurality of parallel virtual images A let passes vertically or substantially vertically through a plurality of beam restrictions. In this way, the multiple beam limiting apertures not only generate less scattered electrons than the prior art, but also block the scattered electrons generated upstream, thus degrading image resolution due to electron scattering. Disappears. The image forming means further includes a plurality of micro-compensators that respectively compensate off-axis aberrations (field curvature and astigmatism) of the plurality of probe spots, thereby further improving the image resolution of the surface to be observed.
図3Aには、新たなマルチビーム装置のひとつの実施の形態100Aが示されている。単一電子ソース101は、一次光軸100_1上にある。共通のコンデンサレンズ110、主アパチャープレート171、新たなソース変換ユニット120、一次投影結像システム130、偏向走査ユニット132、およびビームセパレータ160は、一次光軸100_1に沿って配置されるとともに一次光軸100_1に整列されている。二次投影結像システム150および電子検出デバイス140は、二次光軸150_1に沿って配置されるとともに二次光軸150_1に整列されている。 FIG. 3A shows an embodiment 100A of a new multi-beam apparatus. The single electron source 101 is on the primary optical axis 100_1. The common condenser lens 110, the main aperture plate 171, the new source conversion unit 120, the primary projection imaging system 130, the deflection scanning unit 132, and the beam separator 160 are arranged along the primary optical axis 100_1 and the primary optical axis. 100_1. The secondary projection imaging system 150 and the electronic detection device 140 are disposed along the secondary optical axis 150_1 and aligned with the secondary optical axis 150_1.
主アパチャープレート171は、共通コンデンサレンズ9の上方、または図示されるように新たなソース変換ユニット120の直上に配置されることができる。新たなソース変換ユニット120は、2つのマイクロデフレクタ122_2,122_3を有するマイクロデフレクタアレイ122と、3つのビーム制限開口121_1,121_2,121−3を有するビームレット制限プレート121と、を備え、ビーム制限開口121_1が一次光軸100_1に整列されている。ビーム制限開口121_1が一次光軸100_1に整列されていない場合には、(図5Cに示されるように)もう1つのマイクロデフレクタ122_1があってもよい。一次投影結像システム130は、トランスファーレンズ133と対物レンズ131とを備える。偏向走査ユニット132は、少なくとも1つのデフレクタを備える。ビームセパレータ160は、ひとつのウィーンフィルタである。二次投影結像システム150は、逆走査デフレクタ151、ズームレンズ152(少なくとも2つのレンズ152_1,152_2を備える)、および逆回転磁気レンズ154を備える。電子検出デバイス140は、3つの検出素子140_1,140_2,140_3を備える。上述のレンズの各々は、静電レンズ、磁気レンズ、または電磁複合レンズであってもよい。 The main aperture plate 171 can be disposed above the common condenser lens 9 or just above the new source conversion unit 120 as shown. The new source conversion unit 120 includes a micro deflector array 122 having two micro deflectors 122_2 and 122_3, and a beamlet limiting plate 121 having three beam limiting apertures 121_1, 121_2, and 121-3. 121_1 is aligned with the primary optical axis 100_1. If the beam limiting aperture 121_1 is not aligned with the primary optical axis 100_1, there may be another micro deflector 122_1 (as shown in FIG. 5C). The primary projection imaging system 130 includes a transfer lens 133 and an objective lens 131. The deflection scanning unit 132 includes at least one deflector. The beam separator 160 is one Wien filter. The secondary projection imaging system 150 includes a reverse scanning deflector 151, a zoom lens 152 (including at least two lenses 152_1 and 152_2), and a reverse rotating magnetic lens 154. The electronic detection device 140 includes three detection elements 140_1, 140_2, and 140_3. Each of the above-described lenses may be an electrostatic lens, a magnetic lens, or an electromagnetic compound lens.
図3B〜3Dは、新たなマルチビーム装置100Aの3つの動作モードを示す。単一電子ソース101は、カソード、引出部、及び/またはアノードを備え、一次電子が、カソードから発せられて、高いエネルギー(例えば8〜20keV)、高い角度強度(例えば0.5〜5mA/sr)、および(虚または実の)クロスオーバー101s(軸上の楕円記号により図示される)を有する一次電子ビーム102を形成するように引き出され及び/または加速され、したがって、一次電子ビーム102がクロスオーバー101sから発せられ、単一電子ソース101がクロスオーバー101sであると単純化されると考えることが便利である。 3B-3D show the three operating modes of the new multi-beam apparatus 100A. The single electron source 101 includes a cathode, an extraction portion, and / or an anode, and primary electrons are emitted from the cathode to generate high energy (for example, 8 to 20 keV), high angular intensity (for example, 0.5 to 5 mA / sr). ) And (imaginary or real) crossover 101s (illustrated by an on-axis ellipse symbol) is drawn and / or accelerated so that the primary electron beam 102 is crossed It is convenient to consider that the single electron source 101, emitted from the over 101s, is simplified to be the crossover 101s.
図3Bにおいては、コンデンサレンズ110はオフである。一次電子ビーム102は、収束の影響なくコンデンサレンズ110を通過し、その周縁の電子は主アパチャープレート171の主開口によって遮断される。マイクロデフレクタ122_2,122_3は、一次電子ビーム102のビームレット102_2,102_3をそれぞれ偏向する。偏向されたビームレット102_2,102_3は、単一電子ソース101のクロスオーバー101sの軸外虚像102_2v,102_3vをそれぞれ形成する。偏向されたビームレット102_2,102_3は、一次光軸100_1と平行または実質的に平行であり、したがって、ビームレット制限プレート121に垂直に入射する。ビーム制限開口121_1,121_2,121_3は、一次電子ビーム102の中心部102_1および偏向されたビームレット102_2,102_3の周縁の電子をそれぞれ遮断する。その結果、ひとつの仮想的マルチソースアレイ101vが形成され、これは、クロスオーバー101sとその2つの平行な軸外虚像102_2v,102_3vを含む。ひとつの虚像は、図1におけるひとつの実像でのクーロン効果を回避することができる。クーロン効果をさらに低減するために、主アパチャープレート171は、周縁の電子を可能な限り早期に遮断するようにコンデンサレンズ110の上方に配置されてもよい。 In FIG. 3B, the condenser lens 110 is off. The primary electron beam 102 passes through the condenser lens 110 without influence of convergence, and the electrons at the periphery thereof are blocked by the main aperture of the main aperture plate 171. The micro deflectors 122_2 and 122_3 deflect the beamlets 102_2 and 102_3 of the primary electron beam 102, respectively. The deflected beamlets 102_2 and 102_3 form off-axis virtual images 102_2v and 102_3v of the crossover 101s of the single electron source 101, respectively. The deflected beamlets 102_2 and 102_3 are parallel or substantially parallel to the primary optical axis 100_1, and thus enter the beamlet limiting plate 121 perpendicularly. The beam limiting apertures 121_1, 121_2, and 121_3 block the electrons at the periphery of the central portion 102_1 of the primary electron beam 102 and the deflected beamlets 102_2 and 102_3, respectively. As a result, one virtual multi-source array 101v is formed, which includes a crossover 101s and its two parallel off-axis virtual images 102_2v and 102_3v. One virtual image can avoid the Coulomb effect of one real image in FIG. In order to further reduce the Coulomb effect, the main aperture plate 171 may be disposed above the condenser lens 110 so as to block the peripheral electrons as early as possible.
続いて、クロスオーバー101sおよびその2つの平行な軸外虚像102_2v,102_3vは、トランスファーレンズ133および対物レンズ131によって、被観察表面7上に結像され、それらの像がそこに3つのプローブスポット102_1s,102_2s,102_3sを形成する。2つの軸外ビームレット102_2,102_3を被観察表面7に垂直に入射させるために、トランスファーレンズ133は、対物レンズ131の前側焦点を通過するようにそれらを収束する。対物レンズ131がひとつの磁気レンズを備える場合には、2つの軸外ビームレット102_2,102_3は、磁気的な回転の影響により前側焦点を正確に通過しなくてもよく、これはビームレットクロスオーバーCSでのクーロン効果を低減するのに大変役立つ。偏向走査ユニット132は、3つのビームレット102_1〜102_3を偏向し、その結果、3つのプローブスポット102_1s〜102_3sは被観察表面7上の3つの個別の領域を走査する。 Subsequently, the crossover 101s and the two parallel off-axis virtual images 102_2v and 102_3v are imaged on the surface 7 to be observed by the transfer lens 133 and the objective lens 131, and these images are formed there on three probe spots 102_1s. , 102_2s, 102_3s. In order to cause the two off-axis beamlets 102_2 and 102_3 to enter the observed surface 7 perpendicularly, the transfer lens 133 converges them so as to pass the front focal point of the objective lens 131. When the objective lens 131 includes one magnetic lens, the two off-axis beamlets 102_2 and 102_3 do not have to pass through the front focal point accurately due to the influence of magnetic rotation, which is a beamlet crossover. Very useful for reducing the Coulomb effect in CS. The deflection scanning unit 132 deflects the three beamlets 102_1 to 102_3, so that the three probe spots 102_1s to 102_3s scan three separate areas on the surface 7 to be observed.
3つの走査領域から発せられた二次電子ビーム102_1se,102_2se,102_3seは、対物レンズ131によって収束され、ビームセパレータ160によって、二次光軸150_1に沿って二次投影結像システム150に進入するように偏向される。レンズ152,153は、二次電子ビームを3つの検出素子140_1〜140_3上にそれぞれ収束する。それにより各検出素子は、ひとつの対応する走査領域の像信号を提供する。ひとつの走査領域からの二次電子ビームの一部の二次電子が隣接する検出素子に向かう場合には、隣接する検出素子の像信号は、当該走査領域からの無関係な情報を含み、その隣接する検出素子にとってその無関係な情報は当該走査領域からのクロストークである。検出素子間のクロストークを避けるために、ズームレンズ152は、各二次電子ビームのスポットサイズを対応する検出素子よりも小さくし、逆走査デフレクタ151は、偏向走査ユニット132がビームレット102_1〜102_3を偏向する間、対応する検出素子内に維持するように二次電子ビーム102_1se〜102_3seを同期して偏向する。 The secondary electron beams 102_1se, 102_2se, and 102_3se emitted from the three scanning regions are converged by the objective lens 131, and enter the secondary projection imaging system 150 along the secondary optical axis 150_1 by the beam separator 160. To be biased. The lenses 152 and 153 converge the secondary electron beam onto the three detection elements 140_1 to 140_3, respectively. Thereby, each detection element provides an image signal of one corresponding scanning area. When some secondary electrons of a secondary electron beam from one scanning area are directed to an adjacent detection element, the image signal of the adjacent detection element includes irrelevant information from the scanning area and The information irrelevant to the detecting element is the crosstalk from the scanning region. In order to avoid crosstalk between the detection elements, the zoom lens 152 makes the spot size of each secondary electron beam smaller than the corresponding detection element, and the reverse scanning deflector 151 includes the beamlets 102_1 to 102_3 by the deflection scanning unit 132. The secondary electron beams 102_1se to 102_3se are deflected synchronously so as to be maintained in the corresponding detection element during the deflection.
様々な試料は、ふつう、ビームレットの入射エネルギーや電流など様々な観察条件を要求する。これがとくに当てはまるのは、半導体製造産業におけるウェーハ/マスクの欠陥の検査及び/または調査である。対物レンズ131の収束力は入射エネルギーにより変化し、これは、電子検出デバイス140上での二次電子ビームの位置に影響し、クロストークを招く。この場合、ズームレンズ152は、二次電子ビームの径方向変位を除去するように調整される。対物レンズ131がひとつの磁気レンズを備える場合、逆回転磁気レンズ154は、二次電子ビームの回転を除去するように調整される。 Various samples usually require various observation conditions such as beamlet incident energy and current. This is particularly true in the inspection and / or investigation of wafer / mask defects in the semiconductor manufacturing industry. The convergence force of the objective lens 131 changes depending on the incident energy, which affects the position of the secondary electron beam on the electron detection device 140 and causes crosstalk. In this case, the zoom lens 152 is adjusted so as to remove the radial displacement of the secondary electron beam. When the objective lens 131 includes one magnetic lens, the reverse rotation magnetic lens 154 is adjusted so as to remove the rotation of the secondary electron beam.
2つの軸外プローブスポット102_2s,102_3sの各々は、対物レンズ131、トランスファーレンズ133、およびオンとされているときのコンデンサレンズによって生成された軸外収差を備える。各軸外プローブスポットの軸外収差は、対応するビームレットの軌道を個別に最適化することによって低減することができる。軸外収差の静的部分は、対応するマイクロデフレクタの偏向力を調整することによって低減することができる。軸外収差の動的部分は、偏向走査ユニット132の性能を最適化することによって低減することができる。そのため偏向走査ユニット132は複数のデフレクタを備えてもよい。 Each of the two off-axis probe spots 102_2s, 102_3s comprises off-axis aberrations generated by the objective lens 131, the transfer lens 133, and the condenser lens when turned on. Off-axis aberrations at each off-axis probe spot can be reduced by optimizing the trajectory of the corresponding beamlet individually. The static part of off-axis aberrations can be reduced by adjusting the deflection force of the corresponding micro deflector. The dynamic part of off-axis aberrations can be reduced by optimizing the performance of the deflection scanning unit 132. Therefore, the deflection scanning unit 132 may include a plurality of deflectors.
図3Bとは異なり、図3Cではコンデンサレンズ110がオンに切り替えられている。コンデンサレンズ110は、単一電子ソース101のクロスオーバー101sの軸上虚像101svを形成するように一次電子ビーム102を収束する。マイクロデフレクタ122_2,122_3は、収束された一次電子ビーム102のビームレット102_2,102_3をそれぞれ偏向し、クロスオーバー101sの軸外虚像102_2v,102_3vを形成する。偏向されたビームレット102_2,102_3は、一次光軸100_1と平行または実質的に平行であり、したがって、ビームレット制限プレート121に垂直に入射する。ビーム制限開口121_1,121_2,121_3は、収束された一次電子ビーム102の中心部102_1および偏向されたビームレット102_2,102_3の周縁の電子をそれぞれ遮断し、それによりそれらの電流を制限する。コンデンサレンズ110の収束機能は、収束された一次電子ビーム102の電流密度を増加させ、それにより、ビームレット102_1〜102_3の電流を図3Bよりも高く増加させる。故に、すべてのビームレットの電流をコンデンサレンズ110によって連続的に調整することができる。 Unlike FIG. 3B, the condenser lens 110 is switched on in FIG. 3C. The condenser lens 110 converges the primary electron beam 102 so as to form an on-axis virtual image 101 sv of the crossover 101 s of the single electron source 101. The micro deflectors 122_2 and 122_3 deflect the focused beamlets 102_2 and 102_3 of the primary electron beam 102 to form off-axis virtual images 102_2v and 102_3v of the crossover 101s. The deflected beamlets 102_2 and 102_3 are parallel or substantially parallel to the primary optical axis 100_1, and thus enter the beamlet limiting plate 121 perpendicularly. The beam limiting apertures 121_1, 121_2, and 121_3 block electrons at the central portion 102_1 of the converged primary electron beam 102 and the periphery of the deflected beamlets 102_2 and 102_3, respectively, thereby limiting their current. The converging function of the condenser lens 110 increases the current density of the converged primary electron beam 102, thereby increasing the current of the beamlets 102_1-102_3 higher than in FIG. 3B. Therefore, the current of all beamlets can be continuously adjusted by the condenser lens 110.
従来のSEMと同様に、各プローブスポットのサイズは、幾何学的収差、回折収差、ガウス像サイズ、およびクーロン効果のバランスをとることによって、最小化される。コンデンサレンズ110の収束機能は、クロスオーバー101sから被観察表面7への結像倍率を変化させ、これは上記バランスに影響を及ぼすので、各プローブスポットのサイズを大きくしうる。ビームレットの電流を大きく変化させる際にプローブスポットのサイズが大きく拡大するのを避けるために、ビーム制限開口121_1〜121_3のサイズに相当の変化をさせてもよい。その結果として、ビームレット制限プレート121はビーム制限開口の多数のグループを有することが好ましい。あるグループにおけるビーム制限開口のサイズは、他のグループのそれとは異なる。あるいは、トランスファーレンズ133の収束力が結像倍率の変動を低減するように変化されてもよい。軸外ビームレット102_2,102_3の軌道は、トランスファーレンズ133の収束力変動により影響されるので、マイクロデフレクタ122_2,122_3の偏向力が軌道を維持するように相当の調整が偏向力になされてもよい。このようにして、ビームレット102_2,102_3は、図3Dに示されるように、一次光軸100_1とわずかに非平行であってもよい。 As with a conventional SEM, the size of each probe spot is minimized by balancing geometrical aberrations, diffraction aberrations, Gaussian image size, and Coulomb effect. The converging function of the condenser lens 110 changes the imaging magnification from the crossover 101s to the surface 7 to be observed, and this affects the balance. Therefore, the size of each probe spot can be increased. In order to prevent the probe spot size from greatly expanding when the beamlet current is greatly changed, a considerable change may be made to the size of the beam limiting apertures 121_1 to 121_3. As a result, the beamlet limiting plate 121 preferably has multiple groups of beam limiting apertures. The size of the beam limiting aperture in one group is different from that in other groups. Alternatively, the convergence force of the transfer lens 133 may be changed so as to reduce the fluctuation of the imaging magnification. Since the trajectories of the off-axis beamlets 102_2 and 102_3 are influenced by fluctuations in the convergence force of the transfer lens 133, considerable adjustment may be made to the deflecting force so that the deflecting forces of the micro deflectors 122_2 and 122_3 maintain the trajectory. . In this way, the beamlets 102_2 and 102_3 may be slightly non-parallel to the primary optical axis 100_1 as shown in FIG. 3D.
図4には、新たなマルチビーム装置の他の実施の形態110Aが示されている。実施の形態100Aと異なり、新たなソース変換ユニット120−1は、3つのマイクロデフレクタ補償器要素122_1dc,122_2dc,122_3dcを有するマイクロデフレクタ補償器アレイ122−1を備える。各マイクロデフレクタ補償器要素は、ひとつのマイクロデフレクタと、ひとつのマイクロレンズとひとつのマイクロスティグメータとを有するひとつのマイクロ補償器と、を備える。マイクロデフレクタは、図3B〜3Dに示されるマイクロデフレクタ122_2,122_3の機能と同じく、ひとつの仮想的マルチソースアレイを形成するように使用される。よく知られているように、コンデンサレンズ110、トランスファーレンズ133、および対物レンズ131は、軸外収差を生成する。上述のように、プローブスポットのサイズへの軸外収差の影響は、ビームレットの軌道を個別に最適化することによって低減することができる。そこで、マイクロレンズとマイクロスティグメータは、プローブスポットに残存する像面湾曲と非点収差をそれぞれ補償するように使用される。図3Aのマイクロデフレクタアレイ122と比べると、マイクロデフレクタ補償器アレイ122−1は、進歩した像形成手段である。 FIG. 4 shows another embodiment 110A of the new multi-beam apparatus. Unlike Embodiment 100A, the new source conversion unit 120-1 includes a micro-deflector compensator array 122-1 having three micro-deflector compensator elements 122_1dc, 122_2dc, and 122_3dc. Each micro deflector compensator element includes one micro deflector and one micro compensator having one micro lens and one micro stigmator. The micro deflector is used to form one virtual multi-source array, similar to the function of the micro deflectors 122_2, 122_3 shown in FIGS. As is well known, the condenser lens 110, the transfer lens 133, and the objective lens 131 generate off-axis aberrations. As described above, the effect of off-axis aberrations on the size of the probe spot can be reduced by individually optimizing the beamlet trajectory. Therefore, the microlens and the microstigmator are used so as to compensate the field curvature and astigmatism remaining in the probe spot, respectively. Compared to the micro-deflector array 122 of FIG. 3A, the micro-deflector compensator array 122-1 is an advanced imaging means.
図3Aのマイクロデフレクタ122_2,122_3の各々は、単純に、図5Aに示されるように、対応するビームレットの必要とされる偏向方向に垂直な2つの平行電極を含んでもよい。たとえば、マイクロデフレクタ122_2は、X軸に垂直な2つの平行電極122_2_e1,122−2_e2を有し、それによりビームレット102_2をX軸方向に偏向する。図5Bは、8つのビームレットを偏向するマイクロデフレクタアレイ122のひとつの実施の形態を示す。各マイクロデフレクタが空間的姿勢を有するので、多数のマイクロデフレクタを備えるひとつのマイクロデフレクタアレイ122を作るのは困難である。製造上の観点から、すべてのマイクロデフレクタが幾何学的に同じ構成かつ同じ姿勢を有することが望まれる。故に、四重極または4極構成を有するマイクロデフレクタは、図5Cに示されるように、この要件を満たすことができる。各マイクロデフレクタの4つの電極がひとつのビームレットを任意の方向に偏向することができる2つのデフレクタを形成することができる。マイクロデフレクタ122_1は、対応するビーム制限開口121_1が一次光軸101に正確には整列されていない場合に使用されることができる。 Each of the micro deflectors 122_2 and 122_3 of FIG. 3A may simply include two parallel electrodes perpendicular to the required deflection direction of the corresponding beamlet, as shown in FIG. 5A. For example, the micro deflector 122_2 has two parallel electrodes 122_2_e1 and 122-2_e2 perpendicular to the X axis, and thereby deflects the beamlet 102_2 in the X axis direction. FIG. 5B shows one embodiment of a micro-deflector array 122 that deflects eight beamlets. Since each micro deflector has a spatial orientation, it is difficult to make one micro deflector array 122 with a large number of micro deflectors. From a manufacturing point of view, it is desirable that all micro-deflectors have the same geometric configuration and attitude. Hence, a micro deflector having a quadrupole or quadrupole configuration can meet this requirement, as shown in FIG. 5C. Four deflectors of each micro deflector can form two deflectors that can deflect one beamlet in any direction. The micro deflector 122_1 can be used when the corresponding beam limiting aperture 121_1 is not exactly aligned with the primary optical axis 101.
ひとつのマイクロデフレクタを動作させるために、その各電極との接続を駆動回路は要する。駆動回路が一次電子ビーム102によって損傷されるのを防ぐために、図5A〜5Cのすべてのマイクロデフレクタの電極の上方にひとつの電気伝導プレートを配置することが好ましい。一例として図5Cを挙げると、図6には、多数の上部貫通穴を有する上部電気伝導プレート122−CL1と多数の上部オリフィスを有する上部絶縁体プレート122−IL1がマイクロデフレクタ122_1〜122_3の電極の上方に配置されている。マイクロデフレクタ122_1〜122_3の電極は、上部絶縁体プレート122−IL1に取り付けられることができる。上部貫通穴と上部オリフィスはマイクロデフレクタの光軸にそれぞれ整列され、たとえば、上部貫通穴CL1_2と上部オリフィスIL1_2はマイクロデフレクタ122_2の光軸122_2_1上にある。各上部貫通穴の径方向サイズは、駆動回路を保護するために対応するマイクロデフレクタの電極の内径寸法と等しいか、それより小さく、各上部オリフィスの径方向サイズは、内側の側壁の帯電を避けるべく、対応する上部貫通穴の径方向サイズより大きい。このようにして、すべてのマイクロデフレクタの偏向場はその上側で縁部の範囲が短くなるので、偏向収差が低減される。 In order to operate one micro deflector, the drive circuit needs to be connected to each electrode. In order to prevent the drive circuit from being damaged by the primary electron beam 102, it is preferable to place a single electrically conductive plate above the electrodes of all the microdeflectors of FIGS. As an example, FIG. 6 shows that an upper conductive plate 122-CL1 having many upper through holes and an upper insulator plate 122-IL1 having many upper orifices are electrodes of the micro deflectors 122_1 to 122_3. It is arranged above. The electrodes of the micro deflectors 122_1 to 122_3 can be attached to the upper insulator plate 122-IL1. The upper through hole and the upper orifice are respectively aligned with the optical axis of the micro deflector. For example, the upper through hole CL1_2 and the upper orifice IL1_2 are on the optical axis 122_2_1 of the micro deflector 122_2. The radial size of each upper through hole is less than or equal to the inner diameter of the corresponding micro deflector electrode to protect the drive circuit, and the radial size of each upper orifice avoids charging of the inner sidewalls Therefore, it is larger than the radial size of the corresponding upper through hole. In this way, the deflection field of all the microdeflectors is reduced because the range of the edge is shortened on the upper side thereof.
図6Aに基づいて、図6Bのマイクロデフレクタアレイ122は、多数の下部貫通穴を有する下部電気伝導プレート122−CL2をさらに備える。各下部貫通穴はひとつのマイクロデフレクタの光軸に整列され、たとえば、下部貫通穴CL2_2はマイクロデフレクタ122_2の光軸122_2_1上にある。このようにして、すべてのマイクロデフレクタの偏向場はその上側および下側の両方で縁部の範囲が短くなるので、偏向収差が低減される。図6Bとは異なり、図6Cのマイクロデフレクタアレイ122は、マイクロデフレクタ122_1〜122_3の電極を支持するように多数の下部オリフィスを有する下部絶縁体プレート122−IL2を採用する。各下部オリフィスはひとつのマイクロデフレクタの光軸に整列され、たとえば、下部オリフィスIL2_2はマイクロデフレクタ122_2の光軸122_2_1上にある。各下部オリフィスの径方向サイズは、対応するマイクロデフレクタの電極の内径寸法より大きい。図6Dのマイクロデフレクタアレイ122は、図6Bと図6Cの組み合わせであり、より安定した構成となる。 Based on FIG. 6A, the micro-deflector array 122 of FIG. 6B further comprises a lower electrically conductive plate 122-CL2 having a number of lower through holes. Each lower through hole is aligned with the optical axis of one micro deflector. For example, the lower through hole CL2_2 is on the optical axis 122_2_1 of the micro deflector 122_2. In this way, the deflection field of all micro-deflectors is reduced because the range of the edge is shortened on both the upper and lower sides, thereby reducing deflection aberrations. Unlike FIG. 6B, the micro deflector array 122 of FIG. 6C employs a lower insulator plate 122-IL2 having a number of lower orifices to support the electrodes of the micro deflectors 122_1-122_3. Each lower orifice is aligned with the optical axis of one micro deflector, for example, the lower orifice IL2_2 is on the optical axis 122_2_1 of the micro deflector 122_2. The radial size of each lower orifice is larger than the inner diameter of the corresponding micro-deflector electrode. The micro deflector array 122 of FIG. 6D is a combination of FIG. 6B and FIG. 6C, and has a more stable configuration.
図7は、図4のマイクロデフレクタ補償器アレイ122−1のマイクロデフレクタ補償器要素122_2dcのひとつの実施の形態を示し、これは8極構成を有する。8つの電極122_2dc_e1〜122_2dc_e8は、任意の方向に電子ソース1の虚像を生成する基本量および歪みを補正する付加量を有する双極場(偏向場)と、任意の方向に非点収差を補正する四重極場(非点収差場)と、像面湾曲を補正する円形レンズ場とを生成するように駆動されることができる。 FIG. 7 shows one embodiment of the micro-deflector compensator element 122_2dc of the micro-deflector compensator array 122-1 of FIG. 4, which has an 8-pole configuration. The eight electrodes 122_2dc_e1 to 122_2dc_e8 include a dipole field (deflection field) having a basic amount for generating a virtual image of the electron source 1 in an arbitrary direction and an additional amount for correcting distortion, and four electrodes for correcting astigmatism in an arbitrary direction. It can be driven to generate a multipole field (astigmatism field) and a circular lens field that corrects field curvature.
図8Aは、図4のマイクロデフレクタ補償器アレイ122−1の他の実施の形態を示す。各マイクロデフレクタ補償器要素は、二層に配置され、互いに整列され、かつ方位角または姿勢が45°異なる4極レンズの組を備える。マイクロデフレクタ補償器要素122_1dc,122_2dc,122_3dcはそれぞれ、上部および下部の4極レンズ122_1dc−1,122_1dc−2の組と、上部および下部の4極レンズ122_2dc−1,122_2dc−2の組と、上部および下部の4極レンズ122_3dc−1,122_3dc−2の組とからなる。上部4極レンズ122_1dc−1,122_2dc−1,122_3dc−1は上部層122−1−1に配置され、下部4極レンズ122_1dc−2,122_2dc−2,122_3dc−2は下部層122−1−2に配置され、上部4極レンズ122_1dc−1,122_2dc−1,122_3dc−1とそれぞれ整列されている。一例として、X軸に関して、上部4極レンズ122_1dc−1,122_2dc−1,122_3dc−1の方位角は図8Bに示されるように0°であり、下部4極レンズ122_1dc−2,122_2dc−2,122_3dc−2の方位角は図8Cに示されるように45°である。図8Dにおいては図6Dと同様に、上部層と下部層が上部電気伝導プレート122−CL1と下部電気伝導プレート122_CL2とによって遮蔽され、上部絶縁体プレート122−IL1と下部絶縁体プレート122−IL2と多数の中間オリフィスを有する中間絶縁体プレート122−IL3とによって支持されている。各マイクロデフレクタ補償器要素には、任意の所望の方向の偏向場と円形レンズ場が上部4極レンズと下部4極レンズのいずれかまたは両方によって生成され、任意の方向の四重極場が上部4極レンズと下部4極レンズの両方によって生成されることができる。 FIG. 8A shows another embodiment of the micro-deflector compensator array 122-1 of FIG. Each microdeflector compensator element comprises a set of quadrupole lenses arranged in two layers, aligned with each other and differing in azimuth or orientation by 45 °. The micro-deflector compensator elements 122_1dc, 122_2dc, 122_3dc are respectively a set of upper and lower quadrupole lenses 122_1dc-1, 122_1dc-2, a set of upper and lower quadrupole lenses 122_2dc-1, 122_2dc-2, and an upper part. And a pair of lower quadrupole lenses 122_3dc-1 and 122_3dc-2. The upper quadrupole lenses 122_1dc-1, 122_2dc-1, 122_3dc-1 are disposed on the upper layer 122-1-1, and the lower quadrupole lenses 122_1dc-2, 122_2dc-2, 122_3dc-2 are disposed on the lower layer 122-1-2. And aligned with the upper quadrupole lenses 122_1dc-1, 122_2dc-1, 122_3dc-1. As an example, with respect to the X axis, the azimuth angles of the upper quadrupole lenses 122_1dc-1, 122_2dc-1, 122_3dc-1 are 0 ° as shown in FIG. 8B, and the lower quadrupole lenses 122_1dc-2, 122_2dc-2, The azimuth angle of 122_3dc-2 is 45 ° as shown in FIG. 8C. In FIG. 8D, as in FIG. 6D, the upper layer and the lower layer are shielded by the upper conductive plate 122-CL1 and the lower conductive plate 122_CL2, and the upper insulator plate 122-IL1 and the lower insulator plate 122-IL2 It is supported by an intermediate insulator plate 122-IL3 having a number of intermediate orifices. For each microdeflector compensator element, a deflection field and a circular lens field in any desired direction are generated by one or both of an upper quadrupole lens and a lower quadrupole lens, and a quadrupole field in any direction is upper. It can be generated by both a quadrupole lens and a lower quadrupole lens.
図9Aには、新たなマルチビーム装置の他の実施の形態が示されている。図4の実施の形態110Aと比べると、トランスファーレンズ133が一次投影結像システムから取り除かれている。図9Bは、ひとつの動作モードを示しており、軸外ビームレット102_2,102_3がマイクロデフレクタ補償器要素122_2dc,122_3dcによってそれぞれ一次光軸200_1と平行に偏向され、被観察表面7に斜めの角度で入射している。このモードは、ビームレットの入射状況に厳密な要件を有しないか、またはステレオ結像を必要とする観察分野に使用可能である。マイクロデフレクタ補償器要素122_2dc,122_3dcは、大きな径方向位置ずれを有して対物レンズ131を通過することによる2つの軸外ビームレット102_2,102_3の大きな軸外収差を補償することができる。図9Cは、別の動作モードを示しており、軸外ビームレット102_2,102_3がマイクロデフレクタ補償器要素102_2dc,102_3dcによってそれぞれ一次光軸200_1に向かうようにさらに偏向され、それに応じて、被観察表面7により小さい斜めの角度で入射している。マイクロデフレクタ補償器要素122_2dc,122_3dcが対物レンズ131の前側焦点を通過するように軸外ビームレット102_2,102_3をそれぞれ偏向する場合には、軸外ビームレット102_2,102_3は被観察表面7に垂直に入射する。軸外ビームレット102_2,102_3がビーム制限開口を大きな入射角度で通過するのを避けるために、対物レンズ131の前側焦点とマイクロデフレクタ補償器アレイ122−1との間に長い距離を保つことが好ましい。 FIG. 9A shows another embodiment of the new multi-beam apparatus. Compared to the embodiment 110A of FIG. 4, the transfer lens 133 has been removed from the primary projection imaging system. FIG. 9B shows one mode of operation where off-axis beamlets 102_2 and 102_3 are deflected by the micro deflector compensator elements 122_2dc and 122_3dc, respectively, parallel to the primary optical axis 200_1 and at an oblique angle to the surface 7 to be observed. Incident. This mode can be used for observational fields that do not have strict requirements on beamlet incidence or that require stereo imaging. The micro-deflector compensator elements 122_2dc and 122_3dc can compensate for large off-axis aberrations of the two off-axis beamlets 102_2 and 102_3 due to passing through the objective lens 131 with large radial misalignment. FIG. 9C shows another mode of operation where the off-axis beamlets 102_2 and 102_3 are further deflected by the micro-deflector compensator elements 102_2dc and 102_3dc, respectively, toward the primary optical axis 200_1, and accordingly the surface to be observed 7 is incident at a smaller oblique angle. When the off-axis beamlets 102_2 and 102_3 are deflected so that the micro deflector compensator elements 122_2dc and 122_3dc pass through the front focal point of the objective lens 131, the off-axis beamlets 102_2 and 102_3 are perpendicular to the surface 7 to be observed. Incident. In order to avoid the off-axis beamlets 102_2 and 102_3 passing through the beam limiting aperture at a large incident angle, it is preferable to maintain a long distance between the front focal point of the objective lens 131 and the micro deflector compensator array 122-1. .
よく知られているように、被観察表面7を走査するビームレットが多いほど、そこにより多くの帯電が起こりうる。故に、ある特定の観察分野では一部のビームレットを必要としないかもしれない。この場合、それらビームレットは、ビームレット制限プレートによって空白化されるように方向付けられてもよい。図10は、図4の実施の形態110Aのこうした動作モードを示しており、マイクロデフレクタ補償器要素122_2dcがオフであり、ビームレット102_2がビームレット制限プレート121によって遮断されている。マイクロデフレクタ補償器要素122_2dcは、ビームレット制限プレート121によって遮断されるビームレット102_2を方向付けるようにオンに切り替えられることが必要とされる場合もあるが、それはソース変換ユニット120−1の詳細構造に依存する。 As is well known, the more beamlets that scan the surface 7 to be observed, the more charge can occur there. Thus, certain beamlets may not be required for certain observation fields. In this case, the beamlets may be oriented to be blanked by a beamlet limiting plate. FIG. 10 illustrates this mode of operation of the embodiment 110A of FIG. 4 with the microdeflector compensator element 122_2dc off and the beamlet 102_2 blocked by the beamlet limiting plate 121. FIG. The micro deflector compensator element 122_2dc may need to be switched on to direct the beamlet 102_2 that is blocked by the beamlet limiting plate 121, which is a detailed structure of the source conversion unit 120-1. Depends on.
図4の実施の形態110Aに基づいて、図11Aには、新たなマルチビーム装置の他の実施の形態111Aが提案されており、単一ビーム電子検出器141が追加されている。ある観察分野に最適な結像条件(入射エネルギーおよびプローブ電流)を探索するなど何らかの理由によりひとつのビームレットのみが必要とされる場合、本装置は単一ビームモードで作動する。この場合、ビームセパレータ160は、対応する二次電子ビームを単一ビーム電子検出器141へと偏向することができる。そのビームレットとしてここではビームレット102_1が使用されている。ビームレット102_1によって生成された二次電子ビーム102_1seは、単一ビーム電子検出器141によって検出されるように偏向されている。単一ビーム電子検出器141を使用することにより、対物レンズ131の収束力変動に関して二次投影結像システム150を調整する処理を避けることができる。上述のように、対物レンズ131の収束力は、使用されるビームレットの入射エネルギー及び/または電流が変化すれば変わる。さらに、図11Bは、新たなマルチビーム装置のもうひとつの実施の形態112Aを示しており、ビームレット通過穴を有するレンズ内電子検出器142がビームセパレータ160の下方に配置されている。本装置が単一ビームモードで作動するとき、使用されるビームレットに関する二次電子ビームのうち、放射角度が大きい二次電子はレンズ内電子検出器142によって検出され、放射角度が小さい二次電子はビームレット通過穴を通過して電子検出デバイス140の対応する検出素子によって検出されることができる。そのビームレットとしてここではビームレット102_1が使用されている。ビームレット102_1によって生成された二次電子ビーム102_1seのうち、放射角度が大きい二次電子102_1se_2はレンズ内電子検出器142に衝突し、放射角度が小さい二次電子102_1se_1は電子検出デバイス140によって検出されるように偏向されている。単一ビーム電子検出器141とレンズ内電子検出器142を組み合わせて使用することもできる。この場合、放射角度が大きい二次電子102_1se_2はレンズ内電子検出器142によって検出され、放射角度が小さい二次電子102_1se_1は単一ビーム電子検出器141によって検出されるようにビームセパレータ160によって偏向されることができる。ここに図示されていないが、レンズ内電子検出器142は、ビームセパレータ160の上方に配置されることもできる。この場合、レンズ内電子検出器142は、ビームセパレータがオフのとき二次電子ビーム102_1seの外側部分を検出することができる。 Based on the embodiment 110A of FIG. 4, in FIG. 11A, another embodiment 111A of a new multi-beam device has been proposed and a single beam electron detector 141 has been added. If only one beamlet is needed for some reason, such as searching for the best imaging conditions (incident energy and probe current) for a field of observation, the device will operate in single beam mode. In this case, the beam separator 160 can deflect the corresponding secondary electron beam to the single beam electron detector 141. Here, the beamlet 102_1 is used as the beamlet. The secondary electron beam 102_1se generated by the beamlet 102_1 is deflected so as to be detected by the single beam electron detector 141. By using the single beam electron detector 141, the process of adjusting the secondary projection imaging system 150 with respect to the convergence force variation of the objective lens 131 can be avoided. As described above, the convergence force of the objective lens 131 changes as the incident energy and / or current of the beamlet used changes. Further, FIG. 11B shows another embodiment 112A of the new multi-beam apparatus, in which an in-lens electron detector 142 having a beamlet passage hole is disposed below the beam separator 160. When the apparatus is operated in the single beam mode, the secondary electrons having a large emission angle among the secondary electron beams related to the beamlets used are detected by the in-lens electron detector 142 and the secondary electrons having a small emission angle are detected. Can be detected by a corresponding detection element of the electron detection device 140 through the beamlet passage hole. Here, the beamlet 102_1 is used as the beamlet. Of the secondary electron beam 102_1se generated by the beamlet 102_1, the secondary electron 102_1se_2 having a large emission angle collides with the in-lens electron detector 142, and the secondary electron 102_1se_1 having a small emission angle is detected by the electron detection device 140. Is deflected to A single beam electron detector 141 and an in-lens electron detector 142 may be used in combination. In this case, the secondary electrons 102_1se_2 having a large radiation angle are detected by the in-lens electron detector 142, and the secondary electrons 102_1se_1 having a small radiation angle are deflected by the beam separator 160 so as to be detected by the single beam electron detector 141. Can. Although not shown here, the in-lens electron detector 142 may be disposed above the beam separator 160. In this case, the in-lens electron detector 142 can detect the outer portion of the secondary electron beam 102_1se when the beam separator is off.
要約すると、この発明は、高解像度かつ高スループットで試料を観察するための新たなマルチビーム装置を提案する。この新たなマルチビーム装置は、半導体製造産業においてウェーハ/マスク上の欠陥を検査及び/または調査する歩留まり管理ツールとして機能することができる。マルチビーム装置は、単一電子ソースの複数の平行な虚像を形成する新たなソース変換ユニットと、複数のビームレットの電流を調整するコンデンサレンズと、試料の被観察表面に複数のプローブスポットを形成するように複数の平行な虚像を投影する一次投影結像システムと、該表面からの複数の二次電子ビームを複数のビームレットの経路から外すように偏向するビームセパレータと、電子検出デバイスの複数の検出素子によってそれぞれ検出されるように複数の二次電子ビームを収束する二次投影結像システムと、を採用する。この新たなソース変換ユニットにおいては、像形成手段がビームレット制限手段の上流にあり、したがって、電子散乱に起因する像解像度の劣化が緩和される。像形成手段は、複数の平行な虚像を形成するための複数のマイクロデフレクタ、または、複数の平行な虚像を形成するとともに複数のプローブスポットの軸外収差を補償するための複数のマイクロデフレクタ補償器要素を備える。 In summary, the present invention proposes a new multi-beam apparatus for observing a sample with high resolution and high throughput. This new multi-beam apparatus can serve as a yield management tool for inspecting and / or investigating defects on wafers / masks in the semiconductor manufacturing industry. The multi-beam device forms a new source conversion unit that forms multiple parallel virtual images of a single electron source, a condenser lens that adjusts the current of multiple beamlets, and multiple probe spots on the surface to be observed of the sample. A primary projection imaging system that projects a plurality of parallel virtual images, a beam separator that deflects a plurality of secondary electron beams from the surface out of the path of a plurality of beamlets, and a plurality of electron detection devices And a secondary projection imaging system that converges a plurality of secondary electron beams so as to be detected by the respective detection elements. In this new source conversion unit, the image forming means is upstream of the beamlet limiting means, so that the degradation of image resolution due to electron scattering is mitigated. The image forming means includes a plurality of micro deflectors for forming a plurality of parallel virtual images, or a plurality of micro deflector compensators for forming a plurality of parallel virtual images and compensating for off-axis aberrations of a plurality of probe spots. With elements.
本発明がその好ましい実施の形態に関連して説明されているが、後記に請求される本発明の趣旨と範囲から逸脱することなくその他の修正および変形をなしうるものと理解されるべきである。 While the invention has been described in connection with preferred embodiments thereof, it is to be understood that other modifications and variations can be made without departing from the spirit and scope of the invention as claimed below. .
Claims (24)
電子ソースと、
前記電子ソースの下方にあるコンデンサレンズと、
前記コンデンサレンズの下方にあるソース変換ユニットと、
前記ソース変換ユニットの下方にあり、対物レンズを備える一次投影結像システムと、
前記一次投影結像システムの内部にある偏向走査ユニットと、
前記一次投影結像システムの下方にある試料ステージと、
前記対物レンズの上方にあるビームセパレータと、
前記ビームセパレータの上方にある二次投影結像システムと、
複数の検出素子を有する電子検出デバイスと、を備え、
前記ソース変換ユニットは、複数のマイクロデフレクタを有する像形成手段と、複数のビーム制限開口を有するビームレット制限手段と、を備え、前記像形成手段は、前記ビームレット制限手段の上方にあり、
前記電子ソース、前記コンデンサレンズ、前記ソース変換ユニット、前記一次投影結像システム、前記偏向走査ユニット、および前記ビームセパレータは、前記装置の一次光軸に整列され、前記試料ステージは、前記表面が前記対物レンズを向くように前記試料を支持し、前記二次投影結像システムおよび前記電子検出デバイスは、前記装置の二次光軸に整列され、前記二次光軸は、前記一次光軸と非平行であり、
前記電子ソースは、前記一次光軸に沿って一次電子ビームを生成し、前記複数のマイクロデフレクタは、前記電子ソースの複数の平行な虚像を形成するように前記一次電子ビームを偏向し、それにより仮想的マルチソースアレイが前記電子ソースから変換され、前記仮想的マルチソースアレイを含む複数のビームレットが前記複数のビーム制限開口をそれぞれ通過し、それにより各ビームレットの電流がひとつの対応するビーム制限開口によって制限され、前記複数のビームレットの電流が前記コンデンサレンズを調整することによって変更可能であり、
前記一次投影結像システムは、前記仮想的マルチソースアレイを前記表面上に結像し、それにより複数のプローブスポットが該表面上に形成され、前記偏向走査ユニットは、前記表面上の観察エリア内の複数の走査領域を前記複数のプローブスポットにそれぞれ走査させるように前記複数のビームレットを偏向し、
複数の二次電子ビームが、前記複数のプローブスポットによって前記複数の走査領域からそれぞれ生成され、かつ前記対物レンズを通過する際に収束され、前記ビームセパレータは、前記複数の二次電子ビームを前記二次投影結像システムへと偏向し、前記二次投影結像システムは、前記複数の二次電子ビームを前記複数の検出素子によってそれぞれ検出されるように収束しかつ維持し、それにより各検出素子がひとつの対応する走査領域の像信号を提供するマルチビーム装置。 A multi-beam apparatus for observing the surface of a sample,
An electronic source,
A condenser lens below the electron source;
A source conversion unit below the condenser lens;
A primary projection imaging system below the source conversion unit and comprising an objective lens;
A deflection scanning unit within the primary projection imaging system;
A sample stage below the primary projection imaging system;
A beam separator above the objective lens;
A secondary projection imaging system above the beam separator;
An electronic detection device having a plurality of detection elements,
The source conversion unit includes an image forming unit having a plurality of micro deflectors, and a beamlet limiting unit having a plurality of beam limiting apertures, the image forming unit being above the beamlet limiting unit,
The electron source, the condenser lens, the source conversion unit, the primary projection imaging system, the deflection scanning unit, and the beam separator are aligned with a primary optical axis of the apparatus, and the sample stage has the surface having the surface The sample is supported so as to face the objective lens, the secondary projection imaging system and the electron detection device are aligned with a secondary optical axis of the apparatus, and the secondary optical axis is not aligned with the primary optical axis. Parallel,
The electron source generates a primary electron beam along the primary optical axis, and the plurality of microdeflectors deflect the primary electron beam to form a plurality of parallel virtual images of the electron source, thereby A virtual multi-source array is converted from the electron source, and a plurality of beamlets including the virtual multi-source array each pass through the plurality of beam limiting apertures, whereby the current of each beamlet is one corresponding beam. Limited by a limiting aperture, the current of the plurality of beamlets can be changed by adjusting the condenser lens;
The primary projection imaging system images the virtual multi-source array on the surface, whereby a plurality of probe spots are formed on the surface, and the deflection scanning unit is in an observation area on the surface. Deflecting the plurality of beamlets so that the plurality of scanning spots respectively scan the plurality of probe spots,
A plurality of secondary electron beams are respectively generated from the plurality of scanning regions by the plurality of probe spots and converged when passing through the objective lens, and the beam separator causes the plurality of secondary electron beams to pass through the plurality of secondary electron beams. Deflecting to a secondary projection imaging system, wherein the secondary projection imaging system converges and maintains the plurality of secondary electron beams to be detected by the plurality of detection elements, respectively, thereby detecting each A multi-beam device in which an element provides an image signal of a corresponding scanning area.
電子ソースと、
前記電子ソースの下方にあるコンデンサレンズと、
前記コンデンサレンズの下方にあるソース変換ユニットと、
前記ソース変換ユニットの下方にあり、対物レンズを備える一次投影結像システムと、
前記一次投影結像システムの内部にある偏向走査ユニットと、
前記一次投影結像システムの下方にある試料ステージと、
前記対物レンズの上方にあるビームセパレータと、
前記ビームセパレータの上方にある二次投影結像システムと、
複数の検出素子を有する電子検出デバイスと、を備え、
前記ソース変換ユニットは、複数のマイクロデフレクタ補償器要素を有する像形成手段と、複数のビーム制限開口を有するビームレット制限手段と、を備え、各マイクロデフレクタ補償器要素は、ひとつのマイクロデフレクタと、ひとつのマイクロレンズとひとつのマイクロスティグメータとを有するひとつのマイクロ補償器とを備え、前記像形成手段は、前記ビームレット制限手段の上方にあり、
前記電子ソース、前記コンデンサレンズ、前記ソース変換ユニット、前記一次投影結像システム、前記偏向走査ユニット、および前記ビームセパレータは、前記装置の一次光軸に整列され、前記試料ステージは、前記表面が前記対物レンズを向くように前記試料を支持し、前記二次投影結像システムおよび前記電子検出デバイスは、前記装置の二次光軸に整列され、前記二次光軸は、前記一次光軸と非平行であり、
前記電子ソースは、前記一次光軸に沿って一次電子ビームを生成し、前記複数のマイクロデフレクタは、前記電子ソースの複数の平行な虚像を形成するように前記一次電子ビームを偏向し、それにより仮想的マルチソースアレイが前記電子ソースから変換され、前記仮想的マルチソースアレイを含む複数のビームレットが前記複数のビーム制限開口をそれぞれ通過し、それにより各ビームレットの電流がひとつの対応するビーム制限開口によって制限され、前記複数のビームレットの電流が前記コンデンサレンズを調整することによって変更可能であり、
前記一次投影結像システムは、前記仮想的マルチソースアレイを前記表面上に結像し、それにより複数のプローブスポットが該表面上に形成され、前記ひとつのマイクロ補償器の前記ひとつのマイクロレンズおよび前記ひとつのマイクロスティグメータがひとつの対応するプローブスポットの像面湾曲および非点収差をそれぞれ補償し、前記偏向走査ユニットは、前記表面上の観察エリア内の複数の走査領域を前記複数のプローブスポットにそれぞれ走査させるように前記複数のビームレットを偏向し、
複数の二次電子ビームが、前記複数のプローブスポットによって前記複数の走査領域からそれぞれ生成され、かつ前記対物レンズを通過する際に収束され、前記ビームセパレータは、前記二次投影結像システムへと入射するように前記複数の二次電子ビームを偏向し、前記二次投影結像システムは、前記複数の二次電子ビームを前記複数の検出素子によってそれぞれ検出されるように収束しかつ維持し、それにより各検出素子がひとつの対応する走査領域の像信号を提供するマルチビーム装置。 A multi-beam apparatus for observing the surface of a sample,
An electronic source,
A condenser lens below the electron source;
A source conversion unit below the condenser lens;
A primary projection imaging system below the source conversion unit and comprising an objective lens;
A deflection scanning unit within the primary projection imaging system;
A sample stage below the primary projection imaging system;
A beam separator above the objective lens;
A secondary projection imaging system above the beam separator;
An electronic detection device having a plurality of detection elements,
The source conversion unit comprises imaging means having a plurality of microdeflector compensator elements and beamlet restricting means having a plurality of beam limiting apertures, each microdeflector compensator element having one microdeflector, A microcompensator having a microlens and a microstigmator, the image forming means being above the beamlet limiting means,
The electron source, the condenser lens, the source conversion unit, the primary projection imaging system, the deflection scanning unit, and the beam separator are aligned with a primary optical axis of the apparatus, and the sample stage has the surface having the surface The sample is supported so as to face the objective lens, the secondary projection imaging system and the electron detection device are aligned with a secondary optical axis of the apparatus, and the secondary optical axis is not aligned with the primary optical axis. Parallel,
The electron source generates a primary electron beam along the primary optical axis, and the plurality of microdeflectors deflect the primary electron beam to form a plurality of parallel virtual images of the electron source, thereby A virtual multi-source array is converted from the electron source, and a plurality of beamlets including the virtual multi-source array each pass through the plurality of beam limiting apertures, whereby the current of each beamlet is one corresponding beam. Limited by a limiting aperture, the current of the plurality of beamlets can be changed by adjusting the condenser lens;
The primary projection imaging system images the virtual multi-source array on the surface, thereby forming a plurality of probe spots on the surface, the one microlens of the one microcompensator and The one microstigmator compensates the curvature of field and astigmatism of one corresponding probe spot, respectively, and the deflection scanning unit is configured to scan a plurality of scanning regions in the observation area on the surface as the plurality of probe spots. Deflecting the plurality of beamlets to scan each of
A plurality of secondary electron beams are respectively generated from the plurality of scanning regions by the plurality of probe spots and converged when passing through the objective lens, and the beam separator is directed to the secondary projection imaging system. Deflecting the plurality of secondary electron beams to be incident, wherein the secondary projection imaging system converges and maintains the plurality of secondary electron beams to be respectively detected by the plurality of detection elements; A multi-beam apparatus whereby each detection element provides an image signal of one corresponding scanning area.
複数の上部4極構造を有する上部層と複数の下部4極構造を有する下部層とを備える像形成手段を設けることと、
前記像形成手段の下方にあり複数のビーム制限開口を備えるビームレット制限手段を設けることと、を備え、
各上部4極構造は、ひとつの対応する下部4極構造の上方にあり該下部4極構造と整列され、両者は方位角が45°異なるとともに4極構造の組を形成し、それにより前記複数の上部4極構造と前記複数の下部4極構造が複数の4極構造の組を形成し、
前記複数のビーム制限開口は、前記複数の4極構造の組とそれぞれ整列され、
ひとつの4極構造の組が、前記電子ソースによって生成された電子ビームのひとつのビームレットを該電子ソースの虚像を形成するように偏向するマイクロデフレクタ、前記ひとつのビームレットを所望の程度収束するマイクロレンズ、及び/または、前記ひとつのビームレットに所望量の非点収差を付加するマイクロスティグメータとして機能する方法。 A method of constructing a source conversion unit for forming a virtual multi-source array from an electronic source, comprising:
Providing an image forming means comprising an upper layer having a plurality of upper quadrupole structures and a lower layer having a plurality of lower quadrupole structures;
Providing beamlet limiting means below the image forming means and comprising a plurality of beam limiting apertures;
Each upper quadrupole structure is above one corresponding lower quadrupole structure and is aligned with the lower quadrupole structure, both differing in azimuth by 45 ° and forming a quadrupole structure set, thereby The upper quadrupole structure and the plurality of lower quadrupole structures form a plurality of quadrupole structures,
The plurality of beam limiting apertures are respectively aligned with the plurality of sets of quadrupole structures;
A set of four-pole structures deflects one beamlet of the electron beam generated by the electron source so as to form a virtual image of the electron source, and converges the one beamlet to a desired degree. A method of functioning as a micro lens and / or a micro stigmator for adding a desired amount of astigmatism to the one beamlet.
各上部4極構造がひとつの対応する下部4極構造の上方にあり該下部4極構造と整列され、両者は方位角が45°異なるとともに4極構造の組を形成する複数の上部4極構造を有する上部層および複数の下部4極構造を有する下部層を使用することによって、前記電子ソースからの電子ビームを複数のビームレットへと偏向することと、
複数の開口を使用することによって前記複数のビームレットを制限することと、を備える方法。 A method for forming a virtual multi-source array from an electronic source, comprising:
A plurality of upper quadrupole structures in which each upper quadrupole structure is above one corresponding lower quadrupole structure and is aligned with the lower quadrupole structure, both differing in azimuth by 45 ° and forming a quadrupole structure set Deflecting the electron beam from the electron source into a plurality of beamlets by using a top layer having a plurality of lower quadrupole structures and
Limiting the plurality of beamlets by using a plurality of apertures.
前記一次ビームを複数のビームレットへと変換する手段であって、前記複数のビームレットを偏向する複数のデフレクタと、前記複数のデフレクタの下方にある複数のビーム制限開口とを備える変換手段と、
前記複数のビームレットから標本上に複数のプローブスポットを形成する第1投影システムと、
前記標本上の前記複数のプローブスポットを走査する偏向走査ユニットと、
前記標本への前記複数のビームレットの衝突によりそれぞれ生成された複数の信号電子ビームを前記複数のビームレットから分離する手段と、
前記複数の信号電子ビームを受ける検出デバイスと、
前記複数の信号電子ビームから複数の信号スポットを前記検出デバイスの複数の電子検出素子上にそれぞれ形成する第2投影システムと、を備える荷電粒子ビーム装置。 A single charged particle source providing a primary beam;
Means for converting the primary beam into a plurality of beamlets, comprising: a plurality of deflectors for deflecting the plurality of beamlets; and a plurality of beam limiting apertures below the plurality of deflectors;
A first projection system for forming a plurality of probe spots on a specimen from the plurality of beamlets;
A deflection scanning unit that scans the plurality of probe spots on the specimen;
Means for separating a plurality of signal electron beams respectively generated by collision of the plurality of beamlets with the specimen from the plurality of beamlets;
A detection device for receiving the plurality of signal electron beams;
A charged particle beam apparatus comprising: a second projection system that forms a plurality of signal spots from the plurality of signal electron beams on the plurality of electron detection elements of the detection device, respectively.
前記像形成手段の下方にあり複数のビーム制限開口を備えるビームレット制限手段と、を備え、
各上部4極構造は、ひとつの対応する下部4極構造の上方にあり該下部4極構造と整列され、両者は方位角が45°異なるとともに4極構造の組を形成し、それにより前記複数の上部4極構造と前記複数の下部4極構造が複数の4極構造の組を形成し、
前記複数のビーム制限開口は、前記複数の4極構造の組とそれぞれ整列され、
ひとつの4極構造の組が、電子ソースによって生成された電子ビームのひとつのビームレットを該電子ソースの虚像を形成するように偏向するマイクロデフレクタ、前記ひとつのビームレットを所望の程度収束するマイクロレンズ、及び/または、前記ひとつのビームレットに所望量の非点収差を付加するマイクロスティグメータとして機能するソース変換ユニット。 An image forming means comprising an upper layer having a plurality of upper quadrupole structures and a lower layer having a plurality of lower quadrupole structures;
Beamlet limiting means below the image forming means and comprising a plurality of beam limiting apertures,
Each upper quadrupole structure is above one corresponding lower quadrupole structure and is aligned with the lower quadrupole structure, both differing in azimuth by 45 ° and forming a quadrupole structure set, thereby The upper quadrupole structure and the plurality of lower quadrupole structures form a plurality of quadrupole structures,
The plurality of beam limiting apertures are respectively aligned with the plurality of sets of quadrupole structures;
A micro deflector that deflects one beamlet of an electron beam generated by an electron source so as to form a virtual image of the electron source, and a micro that converges the one beamlet to a desired degree. A source conversion unit that functions as a lens and / or a microstigmator that adds a desired amount of astigmatism to the one beamlet.
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