JP2018507122A - 別個の基板をテクスチャリングするための方法 - Google Patents
別個の基板をテクスチャリングするための方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018507122A JP2018507122A JP2017542480A JP2017542480A JP2018507122A JP 2018507122 A JP2018507122 A JP 2018507122A JP 2017542480 A JP2017542480 A JP 2017542480A JP 2017542480 A JP2017542480 A JP 2017542480A JP 2018507122 A JP2018507122 A JP 2018507122A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- imprint
- texture
- stamp
- lacquer
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 101
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 58
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 claims abstract description 75
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 46
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 33
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 20
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 4
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 3
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 10
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 5
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 230000010076 replication Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 229920002943 EPDM rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004235 Orange GGN Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000012994 photoredox catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000007764 slot die coating Methods 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F7/00—Rotary lithographic machines
- B41F7/02—Rotary lithographic machines for offset printing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
Description
−例えば、基板における不規則性または厚さ変動によって惹起される、基板毎の表面高さの変動
−コーティングプロセスまたはラッカ自体のレオロジ性質変動による、樹脂層厚さの変動
−フレキシブルなスタンプまたは型における欠陥および/または高さ変動
−ローラの圧力(インプリント力)
Claims (16)
- 別個の基板、例えばディスプレイ、ライティングパネルまたはソーラーパネルをテクスチャリングまたはパターニングするためのロール・ツー・プレートプロセスであって、
インプリントラッカを供給するステップと、
前記インプリントラッカをインプリントテクスチャによってテクスチャリングまたはパターニングするステップであって、前記インプリントテクスチャは、インプリントされたラッカを得るために、複数の開口部および***部によって、したがって前記インプリントテクスチャ内に複数の容積を生じさせることによって形成されたものである、ステップと、
それに続くオプションとしての、テクスチャリングまたはパターニングされて凝固された層を得るために、前記インプリントされたラッカを硬化させるステップと、
を有しているプロセスにおいて、
前記テクスチャリングまたは前記パターニングを、縁部に、より大きい容積の領域を含んでいるインプリントテクスチャと、0.1ギガパスカル(GPa)から10ギガパスカル(GPa)までのヤング率を有しているフレキシブルなスタンプと、を用いて実施することを特徴とする、
プロセス。 - 前記硬化を、熱的に実施する、かつ/または、UV光の適用によって実施することを特徴とする、
請求項1記載のプロセス。 - 前記より大きい容積は、前記インプリントテクスチャにおける前記開口部の深さおよび/または前記***部の高さを増大させることによって形成されていることを特徴とする、
請求項1または2記載のプロセス。 - 前記より大きい容積の領域は、内側の機能領域とは外観が異なり、有利には透明であることを特徴とする、
請求項1から3までのいずれか1項記載のプロセス。 - 前記テクスチャリングまたは前記パターニングを、外面として前記インプリントテクスチャを有しているスタンプを用いて実施することを特徴とする、
請求項1から4までのいずれか1項記載のプロセス。 - 前記スタンプは、ローラによって回転されるか、または、ガイドされることを特徴とする、
請求項5記載のプロセス。 - 別個の基板をロール・ツー・プレートでテクスチャリングまたはパターニングするためのスタンプであって、
複数の開口部および***部によって、したがってインプリントテクスチャ内に複数の容積を生じさせることによって形成されたインプリントテクスチャを外面層として有している、スタンプにおいて、
前記インプリントテクスチャは、リザーバ領域を形成するために、縁部に、より大きい容積の領域を含んでおり、
前記スタンプは、0.1ギガパスカル(GPa)から10ギガパスカル(GPa)までのヤング率を有しているフレキシブルなスタンプであることを特徴とする、
スタンプ。 - 前記より大きい容積は、前記インプリントテクスチャにおける前記開口部の深さおよび/または前記***部の高さを増大させることによって形成されていることを特徴とする、
請求項7記載のスタンプ。 - 前記外面層の一部は、前記インプリントテクスチャを備えている前記外面層の下に位置する層の変更された厚みによって増大されていることを特徴とする、
請求項7または8記載のスタンプ。 - 前記変更された厚みは、前記インプリントテクスチャを備えている前記外面層の下に位置する層内の充填材料によって形成されていることを特徴とする、
請求項9記載のスタンプ。 - 前記より大きい容積の領域内の前記リザーバ領域における前記***部は、ブロックの形状、バーの形状、円柱の形状、三角柱の形状、円錐の形状または平坦な形状であることを特徴とする、
請求項7から10までのいずれか1項記載のスタンプ。 - 前記より大きい容積の領域内の前記リザーバ領域における前記開口部および/または前記***部は、回折性、拡散性または屈折性のテクスチャを有するようにテクスチャリングされていることを特徴とする、
請求項7から11までのいずれか1項記載のスタンプ。 - 前記より大きい容積の領域における前記***部および前記開口部の密度分布および表面テクスチャは、装飾の目的または情報を与える目的に使用できるように位置合わせされていることを特徴とする、
請求項7から12までのいずれか1項記載のスタンプ。 - 前記より大きい容積の領域内の前記リザーバ領域における前記***部は、機能領域におけるテクスチャと同一のテクスチャを有していることを特徴とする、
請求項7から13までのいずれか1項記載のフレキシブルなスタンプ。 - 前記インプリントテクスチャは、前記縁部において1.5倍から20倍までの大きさの複数の容積の領域を含んでいることを特徴とする、
請求項7から14までのいずれか1項記載のフレキシブルなスタンプ。 - 前記スタンプは、15から60までのショアA硬度を有しているフレキシブルなローラと組み合わされて使用されることを特徴とする、
請求項7から15までのいずれか1項記載のフレキシブルなスタンプ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP15155038 | 2015-02-13 | ||
EP15155038.1 | 2015-02-13 | ||
PCT/EP2016/052873 WO2016128494A1 (en) | 2015-02-13 | 2016-02-11 | Method for texturing discrete substrates |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018507122A true JP2018507122A (ja) | 2018-03-15 |
JP6720198B2 JP6720198B2 (ja) | 2020-07-08 |
Family
ID=52469687
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017542480A Active JP6720198B2 (ja) | 2015-02-13 | 2016-02-11 | 別個の基板をテクスチャリングするための方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US11402748B2 (ja) |
EP (1) | EP3256907B1 (ja) |
JP (1) | JP6720198B2 (ja) |
KR (1) | KR102534892B1 (ja) |
CN (1) | CN107466380B (ja) |
DK (1) | DK3256907T3 (ja) |
HU (1) | HUE049258T2 (ja) |
PL (1) | PL3256907T3 (ja) |
WO (1) | WO2016128494A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021510640A (ja) * | 2018-01-26 | 2021-04-30 | モーフォトニクス ホールディング ベスローテン フェノーツハップMorphotonics Holding B.V. | 個別基材にテクスチャ付けするためのプロセスおよび装置 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10926452B2 (en) | 2017-05-25 | 2021-02-23 | Magic Leap, Inc. | Double-sided imprinting |
KR102448904B1 (ko) * | 2017-07-31 | 2022-09-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 임프린트 장치 및 임프린트 방법 |
US20200376740A1 (en) * | 2017-10-03 | 2020-12-03 | Cornell University | Systems and methods for micropatterning objects |
WO2019089411A1 (en) * | 2017-10-30 | 2019-05-09 | Corning Incorporated | Systems and methods for roll-to-roll sol-gel processing |
US11194247B2 (en) | 2018-01-31 | 2021-12-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Extrusion control by capillary force reduction |
DK3662325T3 (da) | 2018-10-12 | 2021-02-01 | Morphotonics B V | Fleksibelt stempel med afstemmelig højdimensionel stabilitet |
EP3693714A1 (en) | 2019-02-11 | 2020-08-12 | Fresh Strips B.V. | Optical sensor based on shape memory between scattering and transparent modes |
US20220390838A1 (en) | 2019-10-09 | 2022-12-08 | Morphotonics Holding B.V. | Tiled flexible stamp |
CN116157737A (zh) | 2020-07-31 | 2023-05-23 | 莫福托尼克斯控股有限公司 | 用于创造尺寸放大的母版的熔接方法 |
US20230347672A1 (en) * | 2020-07-31 | 2023-11-02 | Morphotonics Holding B.V. | High dimensional flexible stamp with tiled strengthened area |
KR20240101683A (ko) | 2021-11-15 | 2024-07-02 | 모포토닉스 홀딩 비.브이. | 임프린팅 공정 |
WO2024035261A1 (en) * | 2022-08-11 | 2024-02-15 | Morphotonics Holding B.V. | Stamp and method for imprinting |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101427182B (zh) * | 2004-04-27 | 2011-10-19 | 伊利诺伊大学评议会 | 用于软光刻法的复合构图设备 |
US7309225B2 (en) * | 2004-08-13 | 2007-12-18 | Molecular Imprints, Inc. | Moat system for an imprint lithography template |
US20070001333A1 (en) * | 2005-06-30 | 2007-01-04 | Ashwit Dias | System and method for forming textured polymeric films |
JP5274128B2 (ja) * | 2007-08-03 | 2013-08-28 | キヤノン株式会社 | インプリント方法および基板の加工方法 |
JP5164589B2 (ja) * | 2008-01-30 | 2013-03-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | インプリント装置 |
NL2004932A (en) * | 2009-07-27 | 2011-01-31 | Asml Netherlands Bv | Imprint lithography template. |
US8551386B2 (en) * | 2009-08-03 | 2013-10-08 | S.D. Warren Company | Imparting texture to cured powder coatings |
KR101220513B1 (ko) * | 2010-11-05 | 2013-01-10 | 주식회사 디엠에스 | 임프린트 장치 |
TW201228807A (en) * | 2011-01-13 | 2012-07-16 | Moser Baer India Ltd | Method of imprinting a texture on a rigid substrate using flexible stamp |
JP5759195B2 (ja) * | 2011-02-07 | 2015-08-05 | キヤノン株式会社 | 型、インプリント方法及び物品製造方法 |
-
2016
- 2016-02-11 KR KR1020177022775A patent/KR102534892B1/ko active IP Right Grant
- 2016-02-11 HU HUE16704586A patent/HUE049258T2/hu unknown
- 2016-02-11 DK DK16704586.3T patent/DK3256907T3/da active
- 2016-02-11 PL PL16704586T patent/PL3256907T3/pl unknown
- 2016-02-11 CN CN201680009497.0A patent/CN107466380B/zh active Active
- 2016-02-11 EP EP16704586.3A patent/EP3256907B1/en active Active
- 2016-02-11 US US15/549,502 patent/US11402748B2/en active Active
- 2016-02-11 WO PCT/EP2016/052873 patent/WO2016128494A1/en active Application Filing
- 2016-02-11 JP JP2017542480A patent/JP6720198B2/ja active Active
-
2022
- 2022-06-23 US US17/847,958 patent/US20220317567A1/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021510640A (ja) * | 2018-01-26 | 2021-04-30 | モーフォトニクス ホールディング ベスローテン フェノーツハップMorphotonics Holding B.V. | 個別基材にテクスチャ付けするためのプロセスおよび装置 |
JP7223008B2 (ja) | 2018-01-26 | 2023-02-15 | モーフォトニクス ホールディング ベスローテン フェノーツハップ | 個別基材にテクスチャ付けするためのプロセスおよび装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102534892B1 (ko) | 2023-05-23 |
US20220317567A1 (en) | 2022-10-06 |
CN107466380A (zh) | 2017-12-12 |
JP6720198B2 (ja) | 2020-07-08 |
US20180031966A1 (en) | 2018-02-01 |
WO2016128494A1 (en) | 2016-08-18 |
HUE049258T2 (hu) | 2020-09-28 |
KR20170121173A (ko) | 2017-11-01 |
DK3256907T3 (da) | 2020-06-15 |
EP3256907B1 (en) | 2020-04-15 |
CN107466380B (zh) | 2021-10-01 |
US11402748B2 (en) | 2022-08-02 |
EP3256907A1 (en) | 2017-12-20 |
PL3256907T3 (pl) | 2020-07-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6720198B2 (ja) | 別個の基板をテクスチャリングするための方法 | |
JP6720199B2 (ja) | 別個の基板iiをテクスチャリングするための方法 | |
CN102566263B (zh) | 压印光刻设备 | |
US10875337B2 (en) | Apparatus for imprinting discrete substrates with a flexible stamp | |
KR20210006006A (ko) | 서브 마이크로미터의 특징부들을 갖는 대면적 몰드 마스터를 형성하기 위한 웨이퍼 타일링 방법 | |
JP7223008B2 (ja) | 個別基材にテクスチャ付けするためのプロセスおよび装置 | |
KR101951997B1 (ko) | 대면적 마이크로 렌즈 어레이 제조방법 | |
CN107000266B (zh) | 具有聚合物层的凸压印模具 | |
Chang et al. | Double-sided UV roller imprinting of microstructures on transparent plates | |
KR20100003159A (ko) | 고특성 유기전자소자의 인라인 인쇄법에 의한 인쇄 장치 | |
KR20240101679A (ko) | 다중 텍스처 스탬프 | |
TWM446697U (zh) | 導光板製造系統 | |
JP2012192544A (ja) | インプリント用金型、インプリント方法、及びインプリント装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A529 | Written submission of copy of amendment under article 34 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A529 Effective date: 20170808 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181126 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191111 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20200207 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200221 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200519 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200617 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6720198 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |