JP2018205122A - 検査装置および検査方法 - Google Patents
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 80
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims abstract description 55
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 53
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 35
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 26
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 20
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 14
- 238000005422 blasting Methods 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 7
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 6
- 238000012937 correction Methods 0.000 abstract description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000005242 forging Methods 0.000 description 3
- 238000012958 reprocessing Methods 0.000 description 3
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 1
Images
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
- G06T7/0004—Industrial image inspection
- G06T7/001—Industrial image inspection using an image reference approach
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- G01—MEASURING; TESTING
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- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
-
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T5/00—Image enhancement or restoration
- G06T5/50—Image enhancement or restoration using two or more images, e.g. averaging or subtraction
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
- G06T2207/30108—Industrial image inspection
- G06T2207/30164—Workpiece; Machine component
Landscapes
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Signal Processing (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
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Abstract
【解決手段】高周波成分除去部54は、対象物を撮像して得られた第1対象画像と、第1参照画像とに対して高周波成分を除去して第2対象画像および第2参照画像をそれぞれ取得する。補正部56は、第2対象画像の各画素の値と、第2参照画像の対応する画素の値との比または差である相違に基づいて第1対象画像および第1参照画像の少なくとも一方の対応する画素の値を補正する。比較部55は、第1対象画像と第1参照画像とを比較することにより、第1対象画像中の欠陥領域を検出する。これにより、対象物の表面状態が変化しても第1参照画像を変更することなく欠陥を精度よく検出することができる。
【選択図】図3
Description
9 対象物
51 対象画像記憶部
52 参照画像記憶部
54 高周波成分除去部
55 比較部
73 欠陥領域
83,831,832 検出処理領域
811 第1対象画像
812 第2対象画像
821 第1参照画像
822 第2参照画像
S12,S14〜S16 ステップ
Claims (6)
- 検査装置であって、
対象物を撮像して得られた第1対象画像を記憶する対象画像記憶部と、
第1参照画像を記憶する参照画像記憶部と、
前記第1対象画像および前記第1参照画像から高周波成分を除去して第2対象画像および第2参照画像をそれぞれ取得する高周波成分除去部と、
前記第2対象画像の各画素の値と、前記第2参照画像の対応する画素の値との比または差である相違に基づいて前記第1対象画像および前記第1参照画像の少なくとも一方の対応する画素の値を補正し、前記第1対象画像と前記第1参照画像とを比較することにより、前記第1対象画像中の欠陥領域を検出する比較部と、
を備えることを特徴とする検査装置。 - 請求項1に記載の検査装置であって、
前記対象物上において、欠陥を検出する対象となる検査領域が、光沢を有する粗面であることを特徴とする検査装置。 - 請求項2に記載の検査装置であって、
前記検査領域が、ショットブラストまたは研削が行われた金属面であることを特徴とする検査装置。 - 請求項1ないし3のいずれか1つに記載の検査装置であって、
前記検査領域に対応する前記第1対象画像中の検出処理領域の数が2以上であり、少なくとも2つの検出処理領域において前記高周波成分除去部による高周波成分の除去特性が異なることを特徴とする検査装置。 - 請求項4に記載の検査装置であって、
前記高周波成分除去部が、各検出処理領域にフィルタを作用させることにより、前記各検出処理領域から高周波成分を除去し、
前記検査領域への照明光の光束の方向と、前記検査領域の法線の方向とのなす角が大きいほど、前記フィルタの大きさが小さいことを特徴とする検査装置。 - 検査方法であって、
a)対象物を撮像して第1対象画像を得る工程と、
b)前記第1対象画像および第1参照画像から高周波成分を除去して第2対象画像および第2参照画像をそれぞれ取得する工程と、
c)前記第2対象画像の各画素の値と、前記第2参照画像の対応する画素の値との比または差である相違に基づいて前記第1対象画像および前記第1参照画像の少なくとも一方の対応する画素の値を補正する工程と、
d)前記第1対象画像と前記第1参照画像とを比較することにより、前記第1対象画像中の欠陥領域を検出する工程と、
を備えることを特徴とする検査方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017110904A JP6679538B2 (ja) | 2017-06-05 | 2017-06-05 | 検査装置および検査方法 |
PCT/JP2018/018597 WO2018225460A1 (ja) | 2017-06-05 | 2018-05-14 | 検査装置および検査方法 |
EP18813762.4A EP3637092A4 (en) | 2017-06-05 | 2018-05-14 | INSPECTION DEVICE AND INSPECTION PROCEDURE |
US16/619,383 US11074684B2 (en) | 2017-06-05 | 2018-05-14 | Inspection apparatus and inspection method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017110904A JP6679538B2 (ja) | 2017-06-05 | 2017-06-05 | 検査装置および検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018205122A true JP2018205122A (ja) | 2018-12-27 |
JP6679538B2 JP6679538B2 (ja) | 2020-04-15 |
Family
ID=64566528
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017110904A Active JP6679538B2 (ja) | 2017-06-05 | 2017-06-05 | 検査装置および検査方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11074684B2 (ja) |
EP (1) | EP3637092A4 (ja) |
JP (1) | JP6679538B2 (ja) |
WO (1) | WO2018225460A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6679538B2 (ja) * | 2017-06-05 | 2020-04-15 | 株式会社Screenホールディングス | 検査装置および検査方法 |
US11587218B2 (en) * | 2020-05-20 | 2023-02-21 | Deere & Company | Bale shape monitoring system |
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US7676110B2 (en) * | 2003-09-30 | 2010-03-09 | Fotonation Vision Limited | Determination of need to service a camera based on detection of blemishes in digital images |
JP4357355B2 (ja) * | 2004-05-07 | 2009-11-04 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン検査方法及びその装置 |
JP4562126B2 (ja) | 2004-09-29 | 2010-10-13 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 欠陥検出装置および欠陥検出方法 |
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JP6370177B2 (ja) | 2014-09-05 | 2018-08-08 | 株式会社Screenホールディングス | 検査装置および検査方法 |
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JP6679538B2 (ja) * | 2017-06-05 | 2020-04-15 | 株式会社Screenホールディングス | 検査装置および検査方法 |
-
2017
- 2017-06-05 JP JP2017110904A patent/JP6679538B2/ja active Active
-
2018
- 2018-05-14 WO PCT/JP2018/018597 patent/WO2018225460A1/ja unknown
- 2018-05-14 EP EP18813762.4A patent/EP3637092A4/en active Pending
- 2018-05-14 US US16/619,383 patent/US11074684B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20200151863A1 (en) | 2020-05-14 |
JP6679538B2 (ja) | 2020-04-15 |
EP3637092A1 (en) | 2020-04-15 |
EP3637092A4 (en) | 2021-03-10 |
WO2018225460A1 (ja) | 2018-12-13 |
US11074684B2 (en) | 2021-07-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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