JP2018190801A - Stage apparatus, lithography apparatus, imprint apparatus, and article manufacturing method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To achieve both high rigidity support of a substrate stage at high speed movement of the substrate stage and reduction of minute vibration of the substrate stage at minute movement of the substrate stage.SOLUTION: The stage apparatus includes: a movable body 4 movable along a guide surface 5a; a hydrostatic bearing 24 for supporting the movable body 4 in a non-contact manner with respect to the guide surface 5a by allowing gas to flow out from an opening portion opposed to the guide surface 5a toward the guide surface 5a; and changing means 105 for changing an opening area of the opening in accordance with a moving state of the movable body 4.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、ステージ装置、リソグラフィ装置、インプリント装置、及び物品の製造方法に関する。   The present invention relates to a stage apparatus, a lithographic apparatus, an imprint apparatus, and an article manufacturing method.

半導体デバイス等の製造のために基板上に微細なパターンを形成するためのリソグラフィ装置として、基板を露光して該基板にレチクルのパターンを転写する露光装置や型を用いてインプリント材のパターンを形成するインプリント装置等が知られている。   As a lithography apparatus for forming a fine pattern on a substrate for manufacturing a semiconductor device or the like, an imprint material pattern is formed using an exposure apparatus or a mold that exposes the substrate and transfers the reticle pattern onto the substrate. An imprint apparatus to be formed is known.

これらのリソグラフィ装置では、基板を保持して移動可能な基板ステージ（可動体）を静圧軸受により案内部材上に非接触に支持するステージ装置を使用する。このステージ装置には、案内部材との接触を避けながら基板ステージを高速移動できる特性と、基板ステージが停止に近い状態になったら基板ステージの微振動を低減できる特性との両方が要求されている。   In these lithographic apparatuses, a stage apparatus that supports a movable substrate stage (movable body) by holding a substrate on a guide member by a hydrostatic bearing is used. This stage apparatus is required to have both the characteristic that the substrate stage can be moved at high speed while avoiding contact with the guide member, and the characteristic that the fine vibration of the substrate stage can be reduced when the substrate stage is almost stopped. .

特許文献１は、露光装置におけるステージ装置において、基板ステージの加速度に応じて静圧軸受への供給圧力を変えることにより、基板ステージの移動時と整定時とで剛性を変えることが記載されている。   Patent Document 1 describes that in a stage apparatus in an exposure apparatus, the rigidity is changed between when the substrate stage is moved and when it is set by changing the supply pressure to the hydrostatic bearing according to the acceleration of the substrate stage. .

特開２００６−６６５８９号公報JP 2006-66589 A

しかしながら、特許文献１のように、静圧軸受に対する供給圧力を変えることによって静圧軸受の特性を変える場合、圧力を変更してから、変更後の圧力で基板ステージが安定するまでに一定の遅れを伴う。当該応答遅れに起因して、基板ステージの移動状態の変更に対して供給圧力の変更が間に合わない場合が生じうる。   However, when the characteristics of the hydrostatic bearing are changed by changing the supply pressure to the hydrostatic bearing as in Patent Document 1, there is a certain delay after the pressure is changed until the substrate stage is stabilized at the changed pressure. Accompanied by. Due to the response delay, there may be a case where the supply pressure cannot be changed in time for the change in the movement state of the substrate stage.

そこで、本発明は、基板ステージの高速移動時の基板ステージの高剛性支持と基板ステージの微小移動時の基板ステージの微振動の低減とを両立できるステージ装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法を提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention provides a stage apparatus, a lithography apparatus, and an article manufacturing method capable of achieving both high-rigidity support of the substrate stage during high-speed movement of the substrate stage and reduction of minute vibrations of the substrate stage during minute movement of the substrate stage. The purpose is to provide.

本発明に係るステージ装置は、案内面に沿って移動可能な可動体と、前記案内面と対向する開口部から前記案内面に向けて気体を流出させることにより前記可動体を前記案内面に対して非接触で支持する静圧軸受と、前記可動体の移動状態に応じて前記開口部の開口面積を変える変更手段と、を有することを特徴とする。   The stage device according to the present invention includes a movable body movable along the guide surface, and a gas flowing out from the opening facing the guide surface toward the guide surface, thereby moving the movable body relative to the guide surface. And a hydrostatic bearing that is supported in a non-contact manner, and a changing unit that changes an opening area of the opening in accordance with a moving state of the movable body.

本発明によれば、基板ステージの高速移動時の基板ステージの高剛性支持と基板ステージの微小移動時の基板ステージの微振動の低減とを両立できる。   According to the present invention, it is possible to achieve both high-rigidity support of the substrate stage during high-speed movement of the substrate stage and reduction of fine vibration of the substrate stage during minute movement of the substrate stage.

第１実施形態に係るインプリント装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the imprint apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第１実施形態に係るステージ装置の下面図である。It is a bottom view of the stage apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第１実施形態に係るステージ装置のＹ静圧軸受まわりの拡大図である。It is an enlarged view around the Y hydrostatic bearing of the stage device according to the first embodiment. 第１実施形態に係るＹ静圧軸受の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the Y hydrostatic bearing which concerns on 1st Embodiment. インプリント処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an imprint process. エア供給切り替えとその効果を説明する図である。It is a figure explaining air supply switching and its effect. 第１実施形態に係る実施例の効果を示す図である。It is a figure which shows the effect of the Example which concerns on 1st Embodiment. 第１実施形態に係る静圧軸受の変形例の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the modification of the hydrostatic bearing which concerns on 1st Embodiment. 第２実施形態に係る静圧軸受の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the hydrostatic bearing which concerns on 2nd Embodiment. 第３実施形態に係る静圧軸受の構成を示す第１図である。It is FIG. 1 which shows the structure of the hydrostatic bearing which concerns on 3rd Embodiment. 第３実施形態に係る静圧軸受の構成を示す第２図である。It is FIG. 2 which shows the structure of the hydrostatic bearing which concerns on 3rd Embodiment. 物品の製造方法について説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of articles | goods.

［第１実施形態］
（インプリント装置の構成）
図１は、第１実施形態に係るインプリント装置の構成を示す図である。鉛直方向の軸をＺ軸、当該Ｚ軸に垂直な平面内（水平面内）で互いに直交する２軸をＸ軸及びＹ軸としている。 [First Embodiment]
(Configuration of imprint device)
FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration of an imprint apparatus according to the first embodiment. A vertical axis is a Z axis, and two axes orthogonal to each other in a plane (horizontal plane) perpendicular to the Z axis are an X axis and a Y axis.

インプリント装置１００はモールド１０を用いて基板１の上にインプリント材のパターンを形成するインプリント処理を行う。インプリント処理とは、基板１の上にインプリント材を供給し、インプリント材とモールド１０とを接触させた状態でインプリント材を硬化させ、硬化したインプリント材からモールド１０を引き離す処理を含む。インプリント処理によって、モールド１０に形成された３次元状のパターンが基板１の上に転写される。   The imprint apparatus 100 performs an imprint process for forming an imprint material pattern on the substrate 1 using the mold 10. The imprint process is a process of supplying an imprint material onto the substrate 1, curing the imprint material in a state where the imprint material and the mold 10 are in contact with each other, and separating the mold 10 from the cured imprint material. Including. The three-dimensional pattern formed on the mold 10 is transferred onto the substrate 1 by the imprint process.

図２はステージ装置２００の下面図（−Ｚ方向側から見た図）であり、図３はステージ装置２００のＹ静圧軸受２４まわりの拡大図である。図３は図２のＡ−Ａ断面図を含む。図１〜図３を用いてステージ装置２００の構成を説明する。   2 is a bottom view of the stage apparatus 200 (viewed from the −Z direction side), and FIG. 3 is an enlarged view around the Y hydrostatic bearing 24 of the stage apparatus 200. FIG. 3 includes a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. The configuration of the stage apparatus 200 will be described with reference to FIGS.

ステージ装置２００は、チャック２を介して基板１を保持して移動可能な基板ステージ（可動体）４と、基板ステージ４のＸ軸方向へ移動の案内する案内部材５と、案内部材５に連結されＹ軸方向に移動するＹ移動部３と、リニアモータ４１、４２を含む。チャック２は、真空吸着力又は静電力等を用いて基板１を保持する。基板ステージ４はリニアモータ４１、４２により定盤６に沿って移動する。基板ステージ４のＹ軸方向へ移動は案内部材３１により案内される。   The stage apparatus 200 is connected to the substrate stage (movable body) 4 that can move while holding the substrate 1 via the chuck 2, the guide member 5 that guides the movement of the substrate stage 4 in the X-axis direction, and the guide member 5. The Y moving unit 3 that moves in the Y-axis direction and linear motors 41 and 42 are included. The chuck 2 holds the substrate 1 using a vacuum adsorption force or an electrostatic force. The substrate stage 4 is moved along the surface plate 6 by linear motors 41 and 42. The movement of the substrate stage 4 in the Y-axis direction is guided by the guide member 31.

リニアモータ４１の駆動により、基板ステージ４は、基板ステージ４を貫通するように配置された案内部材５に沿ってＸ軸方向に移動する。リニアモータ４１は、基板ステージ４に設けられた可動子２９と、可動子２９と対向するように案内部材５に設けられた固定子２８とを含む。リニアモータ４１は、例えば、可動子２９としての磁石と、固定子２８としての、Ｘ軸方向に沿って設けられた複数のコイルと、を含む。   By driving the linear motor 41, the substrate stage 4 moves in the X-axis direction along the guide member 5 disposed so as to penetrate the substrate stage 4. The linear motor 41 includes a mover 29 provided on the substrate stage 4 and a stator 28 provided on the guide member 5 so as to face the mover 29. The linear motor 41 includes, for example, a magnet as the mover 29 and a plurality of coils provided along the X-axis direction as the stator 28.

基板ステージ４には、案内部材５の両側面にＹ静圧軸受２４がそれぞれ設けられている。Ｙ静圧軸受２４は、気体供給部１０６から供給された圧縮気体を開口部から案内面５ａに向けて流出させることにより、基板ステージ４をＹ軸方向に非接触で支持する（浮上させる）。これにより、Ｙ静圧軸受２４は、基板ステージ４が案内部材５に沿って移動する際のＹ軸方向への位置ずれを規制する。Ｙ静圧軸受２４には、案内部材５との間に吸引力を働かせる磁石（不図示）が配置される。   The substrate stage 4 is provided with Y hydrostatic bearings 24 on both side surfaces of the guide member 5. The Y hydrostatic bearing 24 supports (floats) the substrate stage 4 in a non-contact manner in the Y-axis direction by allowing the compressed gas supplied from the gas supply unit 106 to flow out from the opening toward the guide surface 5a. As a result, the Y hydrostatic bearing 24 regulates the displacement in the Y-axis direction when the substrate stage 4 moves along the guide member 5. The Y hydrostatic bearing 24 is provided with a magnet (not shown) that applies an attractive force to the guide member 5.

レギュレータ１０６ａは、気体供給部１０６からＹ静圧軸受２４に供給される気体の圧力を所定圧力に調整する。なお、気体供給部１０６からＹ静圧軸受２４までの経路に配置された切り替え部（変更手段）１０５、切り替え部１０５を制御する制御部１９、及び圧縮気体を流出させる開口部については後述する。   The regulator 106a adjusts the pressure of the gas supplied from the gas supply unit 106 to the Y hydrostatic bearing 24 to a predetermined pressure. Note that the switching unit (changing unit) 105 disposed in the path from the gas supply unit 106 to the Y hydrostatic bearing 24, the control unit 19 that controls the switching unit 105, and the opening through which the compressed gas flows out will be described later.

リニアモータ４２の駆動により、Ｙ移動部３は案内部材３１に沿ってＹ軸方向に移動する。リニアモータ４２は基板ステージ４から見て案内部材３１よりも外側に設けられ、Ｙ移動部３に連結された可動子３２と、可動子３３の両側面を挟むように定盤６に対して固定された固定子３３とを含む。リニアモータ４２は、例えば、可動子３２としての磁石と、固定子３３としての、Ｙ軸方向に沿って設けられた複数のコイルがと、を含む。   By driving the linear motor 42, the Y moving unit 3 moves in the Y axis direction along the guide member 31. The linear motor 42 is provided on the outer side of the guide member 31 when viewed from the substrate stage 4, and is fixed to the surface plate 6 so as to sandwich the movable element 32 connected to the Y moving unit 3 and both side surfaces of the movable element 33. And a fixed stator 33. The linear motor 42 includes, for example, a magnet as the mover 32 and a plurality of coils provided along the Y-axis direction as the stator 33.

案内部材３１は、Ｙ移動部３の移動を案内することで間接的に基板ステージ４のＹ軸方向への移動を案内する。Ｙ移動部３の案内部材３１に対向する面にＸ静圧軸受２３が設けられている。Ｘ静圧軸受２３は、供給部（不図示）から供給された圧縮気体を開口部から案内部材３１に向けて流出させることにより、Ｙ移動部３をＸ軸方向に非接触で支持する（浮上させる）。これにより、Ｘ静圧軸受２３は、Ｙ移動部３及び基板ステージ４がＹ軸方向に沿って移動する際のＸ軸方向への位置ずれを規制する。Ｘ静圧軸受２３には、案内部材３１との間に吸引力を働かせる磁石（不図示）が配置される。   The guide member 31 indirectly guides the movement of the substrate stage 4 in the Y-axis direction by guiding the movement of the Y moving unit 3. An X hydrostatic bearing 23 is provided on the surface of the Y moving unit 3 that faces the guide member 31. The X hydrostatic bearing 23 supports the Y moving part 3 in a non-contact manner in the X-axis direction by allowing compressed gas supplied from a supply part (not shown) to flow out from the opening toward the guide member 31 (floating). ) As a result, the X hydrostatic bearing 23 regulates positional displacement in the X-axis direction when the Y moving unit 3 and the substrate stage 4 move along the Y-axis direction. The X static pressure bearing 23 is provided with a magnet (not shown) that applies an attractive force to the guide member 31.

なお、案内部材３１、リニアモータ４２、Ｘ静圧軸受２３は、基板ステージ４に対して−Ｘ方向側及び＋Ｘ方向側にそれぞれ配置されている。   The guide member 31, the linear motor 42, and the X hydrostatic bearing 23 are disposed on the −X direction side and the + X direction side with respect to the substrate stage 4, respectively.

定盤６に対するＹ移動部３のＹ軸方向の位置を計測するためのエンコーダ４５は、案内部材３１の上面に配置されたエンコーダスケール（不図示）に照明された光の回折光を受光する。案内部材５に対する基板ステージ４の位置を計測するためのエンコーダ４６は、案内部材５の上面に配置されたエンコーダスケール（不図示）に照明された光の回折光を受光する。   An encoder 45 for measuring the position of the Y moving unit 3 in the Y-axis direction with respect to the surface plate 6 receives diffracted light of light illuminated on an encoder scale (not shown) arranged on the upper surface of the guide member 31. An encoder 46 for measuring the position of the substrate stage 4 with respect to the guide member 5 receives diffracted light of light illuminated on an encoder scale (not shown) arranged on the upper surface of the guide member 5.

基板ステージ４の定盤６と対向する側の面にはＺ静圧軸受２１が配置され、Ｙ移動部３の定盤６と対向する側の面には、Ｚ静圧軸受２２が配置されている。Ｚ静圧軸受２１、２２は、定盤６に対して圧縮気体を噴出して基板ステージ４をＺ軸方向に浮上させる。基板ステージ４およびＹ移動部３の定盤６と対向する側の面に配置され、定盤６との間に吸引力を働かせる磁石（不図示）をＺ静圧軸受２１、２２と共に、用いることにより、基板ステージ４のＺ軸方向の浮上を規制する。   A Z hydrostatic bearing 21 is disposed on the surface of the substrate stage 4 facing the surface plate 6, and a Z hydrostatic bearing 22 is disposed on the surface of the Y moving unit 3 facing the surface plate 6. Yes. The Z hydrostatic bearings 21 and 22 eject the compressed gas to the surface plate 6 to float the substrate stage 4 in the Z-axis direction. A magnet (not shown) that is disposed on the surface of the substrate stage 4 and the Y moving unit 3 facing the surface plate 6 and that exerts an attractive force between the surface plate 6 and the Z hydrostatic bearings 21 and 22 is used. Thus, the floating of the substrate stage 4 in the Z-axis direction is restricted.

次に、インプリント装置１００の、ステージ装置２００以外の構成について説明する。モールドチャック１１はモールドステージ１２に搭載され、モールド１０を保持する。アクチュエータ１５の駆動により、モールドステージ１２は主にＺ軸方向に移動する。   Next, the configuration of the imprint apparatus 100 other than the stage apparatus 200 will be described. The mold chuck 11 is mounted on the mold stage 12 and holds the mold 10. By driving the actuator 15, the mold stage 12 moves mainly in the Z-axis direction.

インプリント装置１００は、モールドステージ１２を−Ｚ方向に移動することでモールド１０と基板１の上のインプリント材とを接触させる押印動作を行う。インプリント装置１００は、モールドステージ１２を＋Ｚ方向に移動することでモールド１０と硬化させたインプリント材とを引き離す離型動作を行う。アクチュエータ１５はモールドステージ１２を移動する際に、モールド１０の傾きを調整してもよい。基板ステージ４のみが、又はモールドステージ１２及び基板ステージが、Ｚ軸方向に移動することで、押印動作及び離型動作を行ってもよい。   The imprint apparatus 100 performs a stamping operation for bringing the mold 10 into contact with the imprint material on the substrate 1 by moving the mold stage 12 in the −Z direction. The imprint apparatus 100 performs a mold release operation for separating the mold 10 and the cured imprint material by moving the mold stage 12 in the + Z direction. The actuator 15 may adjust the inclination of the mold 10 when moving the mold stage 12. Only the substrate stage 4 or the mold stage 12 and the substrate stage may move in the Z-axis direction to perform the stamping operation and the mold release operation.

照射部１３はインプリント材を硬化させるための紫外光１４を射出し、紫外光１４はモールドチャック１１及びモールドステージ１２の中央部にある開口を通過しモールド１０を透過してインプリント材に照射される。   The irradiation unit 13 emits ultraviolet light 14 for curing the imprint material. The ultraviolet light 14 passes through the opening in the center of the mold chuck 11 and the mold stage 12 and passes through the mold 10 to irradiate the imprint material. Is done.

供給部１７は、ステージ装置２００により供給部１７の下方で走査移動している基板１に対してインプリント材を供給する。本実施形態では、インプリント材として紫外光１４を受光して硬化する光硬化性組成物を用いる。   The supply unit 17 supplies the imprint material to the substrate 1 that is scanned and moved below the supply unit 17 by the stage device 200. In the present embodiment, a photocurable composition that receives and cures ultraviolet light 14 is used as the imprint material.

アライメント検出系１６はモールドステージ１２に設けられている。アライメント検出系１６は、モールド１０に形成されたマーク３８と、基板ステージ４に設けられた基準マーク４０、基板１に形成されたマーク３９からの光を検出するための光学系及び撮像系を有する。アライメント検出系１６の検出結果に基づいて、後述の制御部１９がモールド１０との基板１とのＸ軸方向及びＹ軸方向の位置ずれ情報を求める。マーク３８、マーク３９は、例えば、クロム等の材料で形成された回折格子、又は、Ｂｏｘ ｉｎ Ｂｏｘ状等の重ね合わせ検査に適したマークである。   The alignment detection system 16 is provided on the mold stage 12. The alignment detection system 16 includes an optical system and an imaging system for detecting light from the mark 38 formed on the mold 10, the reference mark 40 provided on the substrate stage 4, and the mark 39 formed on the substrate 1. . Based on the detection result of the alignment detection system 16, a control unit 19 described later obtains positional deviation information in the X-axis direction and the Y-axis direction between the mold 10 and the substrate 1. The mark 38 and the mark 39 are marks suitable for overlay inspection such as a diffraction grating formed of a material such as chromium or a Box in Box shape.

アライメント検出系１８は、定盤２０に吊り下げ支持されている。アライメント検出系１８は、基準マーク４０からの光及びマーク３９からの光をモールド１０を介さずに検出するための光学系及び撮像系を有する。アライメント検出系１８の検出結果に基づいて、後述の制御部１９が水平方向であるＸＹ平面内（基板の面内方向）における、基準マーク４０に対するマーク３９の位置情報を求める。   The alignment detection system 18 is supported by being suspended from the surface plate 20. The alignment detection system 18 includes an optical system and an imaging system for detecting light from the reference mark 40 and light from the mark 39 without using the mold 10. Based on the detection result of the alignment detection system 18, a control unit 19 described later obtains position information of the mark 39 relative to the reference mark 40 in the horizontal XY plane (in-plane direction of the substrate).

「マーク３８からの光を検出する」「マーク３９からの光を検出する」「基準マーク４０からの光を検出する」などの用語は、検出対象のマークからの光を用いて光学系により形成された像を撮像系で撮像することを意味する。これは、マーク３８からの回折光とマーク３９からの回折光とを干渉させて形成される干渉縞（モアレ縞）を撮像する場合も含む。   Terms such as “detect the light from the mark 38”, “detect the light from the mark 39”, and “detect the light from the reference mark 40” are formed by the optical system using the light from the mark to be detected. This means that the captured image is captured by the imaging system. This includes a case where an interference fringe (moire fringe) formed by causing the diffracted light from the mark 38 and the diffracted light from the mark 39 to interfere is imaged.

制御部１９はＣＰＵやメモリを有し、インプリント装置１００の各構成要素と通信回線で接続されており、これらを統括的に制御する。制御部１９のメモリには、後述の図５のフローチャートに示すプログラムが記憶されており、制御部１９のＣＰＵがこれを読み出すことでインプリント処理を実行する。   The control unit 19 includes a CPU and a memory, and is connected to each component of the imprint apparatus 100 via a communication line, and comprehensively controls them. The memory of the control unit 19 stores a program shown in the flowchart of FIG. 5 to be described later, and the CPU of the control unit 19 reads out the program to execute imprint processing.

制御部１９は、アライメント検出系１６を用いてモールド１０と基板１の位置とのＸＹ平面方向の位置関係を求める。制御部１９は、アライメント検出系１８の検出結果に基づいて基板ステージ４とマーク３８のＸＹ平面方向の位置関係を求める。求めたこれらの情報を用いて、モールド１０と基板１の位置のずれが低減されるようにステージ装置２００を制御する。   The controller 19 uses the alignment detection system 16 to obtain the positional relationship in the XY plane direction between the mold 10 and the position of the substrate 1. The control unit 19 obtains the positional relationship between the substrate stage 4 and the mark 38 in the XY plane direction based on the detection result of the alignment detection system 18. Using the obtained information, the stage apparatus 200 is controlled so that the positional deviation between the mold 10 and the substrate 1 is reduced.

制御部１９は、エンコーダ４５、４６の受光結果に基づいて、基板ステージ４の位置を求める。得られた基板ステージ４の位置に基づいて、ステージ装置２００を制御する。なお、エンコーダ４５の代わりに干渉計（不図示）を用いて基板ステージ４の位置を計測してもよい。   The control unit 19 obtains the position of the substrate stage 4 based on the light reception results of the encoders 45 and 46. The stage apparatus 200 is controlled based on the obtained position of the substrate stage 4. Note that the position of the substrate stage 4 may be measured using an interferometer (not shown) instead of the encoder 45.

（静圧軸受の構成）
次に、Ｙ静圧軸受２４の構成について図４を用いて説明する。図４（ａ）はＹ静圧軸受２４を案内部材５の側面である案内面５ａ（図３に図示）から見た図である。図４（ｂ）は図４（ａ）のＢ−Ｂ断面図及びＹ静圧軸受２４への圧縮気体を供給する供給系１１１の構成を示す図である。 (Configuration of hydrostatic bearing)
Next, the configuration of the Y hydrostatic bearing 24 will be described with reference to FIG. 4A is a view of the Y hydrostatic bearing 24 as viewed from a guide surface 5a (shown in FIG. 3) which is a side surface of the guide member 5. FIG. FIG. 4B is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. 4A and a configuration of the supply system 111 that supplies compressed gas to the Y hydrostatic bearing 24.

Ｙ静圧軸受２４は供給系１１１から供給された圧縮気体を案内面５ａに向けて流出させるための開口部として、複数の開口（開口）１０１、１０２を有する。図４（ａ）に示す開口１０１、１０２は配置の一例である。Ｙ静圧軸受２４は、案内部材５と対向する対向面の中央部に開口１０２と、開口１０２の周囲に設けられた４つの開口１０１とを有する。   The Y hydrostatic bearing 24 has a plurality of openings (openings) 101 and 102 as openings for allowing the compressed gas supplied from the supply system 111 to flow out toward the guide surface 5a. The openings 101 and 102 shown in FIG. 4A are an example of arrangement. The Y hydrostatic bearing 24 has an opening 102 at the center of the facing surface facing the guide member 5 and four openings 101 provided around the opening 102.

さらに、開口１０１、１０２を連結するように、田の字状に溝１０３が形成されている。溝１０３があることで、開口１０１、１０２から噴出された圧縮気体が溝１０３に沿って流れやすくなり、基板ステージ４が案内面５ａに対してバランス良く浮上する。   Further, a groove 103 is formed in a square shape so as to connect the openings 101 and 102. The presence of the groove 103 makes it easier for the compressed gas ejected from the openings 101 and 102 to flow along the groove 103, and the substrate stage 4 rises in a well-balanced manner relative to the guide surface 5a.

供給系１１１は、圧縮気体を供給する気体供給部１０６、気体供給部１０６に接続された配管１０７、大気開放された配管１０８、開口１０２に接続された配管１０９、開口１０１に接続された配管１１０、及び切り替え部１０５を有する。   The supply system 111 includes a gas supply unit 106 for supplying compressed gas, a pipe 107 connected to the gas supply unit 106, a pipe 108 opened to the atmosphere, a pipe 109 connected to the opening 102, and a pipe 110 connected to the opening 101. And a switching unit 105.

切り替え部１０５は、配管１０７、１０８の接続先を切り替えるものであり、例えば電磁弁で構成される。切り替え部１０５が配管１０７と配管１０９とを接続し、かつ配管１０８と配管１１０とを接続すると、圧縮気体は開口１０２のみから流出する。切り替え部１０５が配管１０７と配管１１０とを接続し、かつ配管１０８と配管１０９とを接続すると、圧縮気体は開口１０１のみから流出する。１つの開口１０２の開口面積Ａ１と４つの開口１０１の面積を合わせた開口面積Ａ２との関係は、Ａ１＜Ａ２となるように構成されている。   The switching unit 105 switches the connection destination of the pipes 107 and 108, and is configured by, for example, an electromagnetic valve. When the switching unit 105 connects the pipe 107 and the pipe 109 and connects the pipe 108 and the pipe 110, the compressed gas flows out only from the opening 102. When the switching unit 105 connects the pipe 107 and the pipe 110 and connects the pipe 108 and the pipe 109, the compressed gas flows out only from the opening 101. The relationship between the opening area A1 of one opening 102 and the opening area A2 obtained by combining the areas of the four openings 101 is configured to satisfy A1 <A2.

このような構成により、配管１０７、１０８、１０９、１１０の接続を変更して開口の数を変えることによって、切り替え部１０５はＹ静圧軸受２４から圧縮気体を流出させるための開口部の開口面積を変更できる。このとき、気体供給部１０６からＹ静圧軸受２４に供給される気体の圧力は変化させない。   With such a configuration, by changing the connection of the pipes 107, 108, 109, 110 and changing the number of openings, the switching unit 105 has an opening area of the opening for allowing the compressed gas to flow out from the Y hydrostatic bearing 24. Can be changed. At this time, the pressure of the gas supplied from the gas supply unit 106 to the Y hydrostatic bearing 24 is not changed.

このような、開口１０１、１０２の切り替え可能な構成は、Ｘ静圧軸受２３にも適用され、かつステージ装置２００の他の静圧軸受（Ｚ静圧軸受２１、２２）にも適用されうる。本実施形態に係るステージ装置２００のように、同じ方向を規制する静圧軸受が複数ある場合には、同一方向を規制する静圧軸受の全てに適用されることが好ましい。   Such a switchable configuration of the openings 101 and 102 can be applied to the X hydrostatic bearing 23 and also to other hydrostatic bearings (Z hydrostatic bearings 21 and 22) of the stage apparatus 200. When there are a plurality of hydrostatic bearings that regulate the same direction as in the stage apparatus 200 according to the present embodiment, it is preferably applied to all of the hydrostatic bearings that regulate the same direction.

（開口面積の切り替えタイミング）
次に、切り替え部１０５による開口１０１と開口１０２とを切り替えて開口部の開口面積を変えるタイミングについて説明する。図５はインプリント処理を示すフローチャートである。フローチャートの開始時において、モールド１０及び未処理の基板１がインプリント装置１００内に搬入されている状態とする。また、Ｙ静圧軸受２４は、開口１０２から圧縮気体を流出させている状態である。 (Opening area switching timing)
Next, the timing for changing the opening area of the opening by switching the opening 101 and the opening 102 by the switching unit 105 will be described. FIG. 5 is a flowchart showing the imprint process. It is assumed that the mold 10 and the unprocessed substrate 1 are carried into the imprint apparatus 100 at the start of the flowchart. The Y hydrostatic bearing 24 is in a state in which compressed gas flows out from the opening 102.

Ｓ１０１では供給部１７の下方で走査移動している基板１に対して供給部１７がインプリント材を供給する。Ｓ１０２では、リニアモータ４１の駆動によって、基板ステージ４がＸ軸方向に沿って移動する。これにより、基板ステージ４は、基板１のインプリント処理対象のショット領域の位置を検出するためのマーク３８が、アライメント検出系１６の検出範囲に入る位置に位置決めされる。   In S <b> 101, the supply unit 17 supplies the imprint material to the substrate 1 that is scanning and moving below the supply unit 17. In S <b> 102, the substrate stage 4 moves along the X-axis direction by driving the linear motor 41. As a result, the substrate stage 4 is positioned at a position where the mark 38 for detecting the position of the shot area to be imprinted on the substrate 1 falls within the detection range of the alignment detection system 16.

Ｓ１０３では、アクチュエータ１５がモールドステージ１２を−Ｚ方向に移動させることで、押印動作を開始する。それと同時に、切り替え部１０５が、圧縮気体を流出させる開口を開口１０２から開口１０１に切り替える。以下の説明において、Ｓ１０３の時刻ｔをｔ１とする。   In S103, the actuator 15 starts the stamping operation by moving the mold stage 12 in the -Z direction. At the same time, the switching unit 105 switches the opening through which the compressed gas flows out from the opening 102 to the opening 101. In the following description, time t in S103 is assumed to be t1.

Ｓ１０４では、Ｓ１０３で開始した押印動作が進み、モールド１０とインプリント材とが接触する接液状態となる。以下の説明において、Ｓ１０４の時刻ｔをｔ２とする。   In S104, the stamping operation started in S103 proceeds, and a liquid contact state is made in which the mold 10 and the imprint material come into contact with each other. In the following description, time t in S104 is assumed to be t2.

Ｓ１０５では、モールド１０と基板１との位置合わせ（アライメント）を行う。すなわち、アライメント検出系１６がマーク３８およびマーク３９からの光を検出し、検出結果に基づいて得られたモールド１０と基板１との相対位置ずれ量を算出する。算出結果に基づいて、ステージ装置２００がモールド１０と基板１との相対位置ずれが低減するように基板ステージ４を位置決めする。Ｓ１０６では、照射部１３が紫外光１４でインプリント材を露光して、インプリント材を硬化させる。   In S105, alignment (alignment) between the mold 10 and the substrate 1 is performed. That is, the alignment detection system 16 detects the light from the mark 38 and the mark 39, and calculates the relative positional deviation amount between the mold 10 and the substrate 1 obtained based on the detection result. Based on the calculation result, the stage apparatus 200 positions the substrate stage 4 so that the relative positional deviation between the mold 10 and the substrate 1 is reduced. In S <b> 106, the irradiation unit 13 exposes the imprint material with the ultraviolet light 14 to cure the imprint material.

Ｓ１０７では、アクチュエータ１５がモールドステージ１２を＋Ｚ方向に移動させることで、押印動作を開始する。それと同時に、切り替え部１０５が、圧縮気体を流出させる開口を開口１０１から開口１０２に切り替える。以下の説明において、Ｓ１０７の時刻ｔをｔ３とする。   In S107, the actuator 15 starts the stamping operation by moving the mold stage 12 in the + Z direction. At the same time, the switching unit 105 switches the opening through which the compressed gas flows out from the opening 101 to the opening 102. In the following description, the time t in S107 is assumed to be t3.

Ｓ１０８では、離型動作が完了した状態であり、Ｓ１０９では制御部１９が次にインプリント処理すべきショット領域があるかどうかを判断する。以下の説明において、Ｓ１０８の時刻ｔをｔ４とする。   In S108, the release operation is completed, and in S109, the control unit 19 determines whether there is a shot area to be imprinted next. In the following description, time t in S108 is assumed to be t4.

Ｓ１０９で制御部１９が次のショット領域が有ると判断した場合（Ｙｅｓ）は、Ｓ１１０に進み、ステージ装置２００が基板ステージ４を供給部１７の下方位置へ移動させる。その後、インプリント材の供給位置へＳ１０１〜Ｓ１０９のフローを繰り返す。以下の説明において、Ｓ１１０の時刻を時刻ｔ５とする。Ｓ１０９で制御部１９が次のショット領域が無いと判断した場合（Ｎｏ）は、インプリント処理を終了する。   When the control unit 19 determines in S109 that there is a next shot area (Yes), the process proceeds to S110, and the stage apparatus 200 moves the substrate stage 4 to a position below the supply unit 17. Then, the flow of S101-S109 is repeated to the imprint material supply position. In the following description, the time of S110 is time t5. If the control unit 19 determines in S109 that there is no next shot area (No), the imprint process ends.

Ｓ１０５では基板ステージ４は整定に近い状態となる。したがって、Ｓ１０５のときの基板ステージ４の加速度、速度は、Ｓ１０１、Ｓ１０２、及びＳ１１０等で基板ステージ４を移動させる時の加速度、速度よりもその絶対値は十分に小さい。   In S105, the substrate stage 4 is in a state close to settling. Therefore, the absolute value of the acceleration and speed of the substrate stage 4 at S105 is sufficiently smaller than the acceleration and speed when the substrate stage 4 is moved at S101, S102, S110, and the like.

つまり、基板ステージ４の移動状態に応じて、切り替え部１０５はＹ静圧軸受２４の開口の数を切り替えることで、開口部の開口面積を変える。   That is, the switching unit 105 changes the opening area of the opening by switching the number of openings of the Y hydrostatic bearing 24 according to the movement state of the substrate stage 4.

基板ステージ４の移動状態が基板ステージ４の速度である場合、切り替え部１０５に対する開口の数の切り替え指示は、計測手段（不図示）により計測された基板ステージ４の加速度及び速度の少なくとも一方である速度情報に基づいて行ってもよい。例えば、基板ステージ４の速度が第１速度の時は開口１０１から圧縮気体を流出させ、基板ステージ４の速度が所定閾値よりも小さな第２速度の時は４つの開口から圧縮気体を流出させてもよい。   When the movement state of the substrate stage 4 is the speed of the substrate stage 4, the switching instruction of the number of openings to the switching unit 105 is at least one of the acceleration and the speed of the substrate stage 4 measured by a measuring unit (not shown). You may perform based on speed information. For example, when the speed of the substrate stage 4 is the first speed, compressed gas flows out from the opening 101, and when the speed of the substrate stage 4 is the second speed smaller than a predetermined threshold, compressed gas flows out from the four openings. Also good.

又は、制御部１９は、インプリント処理の所定の動作（押印動作、又は離型動作）と共に、又は、当該所定の動作から所定時間経過後に、切り替え部１０５に開口の数の切り替えを指示してもよい。   Alternatively, the control unit 19 instructs the switching unit 105 to switch the number of openings together with a predetermined operation (imprinting operation or release operation) of the imprint process or after a predetermined time has elapsed from the predetermined operation. Also good.

このインプリント処理のシーケンスにおける、開口部の開口面積の切り替え効果について、図６を用いて説明する。図６（ａ）は時刻ｔに対する開口の切り替えを示す図、図６（ｂ）は時刻ｔに対する基板ステージ４のＹ軸方向の振動を示す図、図６（ｃ）は時刻ｔに対する基板ステージ４の剛性を示す図、である。時刻ｔ０は時刻ｔ１以前の任意のタイミングであり、各時刻ｔ１、ｔ２、ｔ３、ｔ４、ｔ５は前述のタイミングである。   The effect of switching the opening area of the opening in this imprint processing sequence will be described with reference to FIG. 6A is a diagram showing switching of the opening with respect to time t, FIG. 6B is a diagram showing vibration in the Y-axis direction of the substrate stage 4 with respect to time t, and FIG. 6C is a diagram with the substrate stage 4 with respect to time t. It is a figure which shows the rigidity of. The time t0 is an arbitrary timing before the time t1, and the times t1, t2, t3, t4, and t5 are the timings described above.

時刻ｔ０〜ｔ１の間は、基板ステージ４が定盤６に沿って移動する。Ｙ静圧軸受２４の浮上量は、例えば、数μｍ〜１０数μｍに保たれる。このとき、開口１０２のみから圧縮気体を流量Ｕ１で流出させて開口１０２まわりのレイノルズ数を高く保つ。これにより、基板ステージ４の剛性をＫＵに保ち、基板ステージ４を高速で移動させた場合であっても、ローリングやピッチング、ヨーイング等に起因してＹ静圧軸受２４の浮上量が下がり基板ステージ４と案内面５ａとが干渉することを防ぐことができる。これにより、基板ステージ４等が破損したりパーティクルが発生したりすることを抑制している。 The substrate stage 4 moves along the surface plate 6 between the times t0 and t1. The flying height of the Y hydrostatic bearing 24 is maintained at, for example, several μm to several tens μm. At this time, the compressed gas is allowed to flow out only from the opening 102 at the flow rate U1, and the Reynolds number around the opening 102 is kept high. Substrate Thereby, keeping the rigidity of the substrate stage 4 in K U, even when moving the substrate stage 4 at a high speed, rolling and pitching, due to yawing or the like lowers the flying height of the Y static pressure bearing 24 It is possible to prevent the stage 4 and the guide surface 5a from interfering with each other. Thereby, it is suppressed that the substrate stage 4 etc. are damaged or particles are generated.

時刻ｔ１で切り替え部１０５が気体供給部１０６に接続される開口を１つの開口１０２から４つの開口１０１に切り替えると、圧縮気体を流出させる開口部の開口面積が増大する。１つの開口１０１から流出する気体の流量Ｕ２が、前述の流量Ｕ１よりも小さくなる。１つの開口から流出する気体の流量が小さくなることにより、開口１０１まわりのレイノルズ数が低下し、開口１０１から流出した気体は、層流、又は層流に近い状態となって流れる。時刻ｔ１で切り替える前に比べ、流出した気体の乱れに起因する基板ステージ４の振動が低下する。これにより、振動の平均振幅をＡａからＡｂに低下することができる。 When the switching unit 105 switches the opening connected to the gas supply unit 106 from the one opening 102 to the four openings 101 at time t1, the opening area of the opening through which the compressed gas flows out increases. The flow rate U2 of the gas flowing out from one opening 101 is smaller than the aforementioned flow rate U1. By reducing the flow rate of the gas flowing out from one opening, the Reynolds number around the opening 101 decreases, and the gas flowing out from the opening 101 flows in a laminar flow or a state close to laminar flow. Compared with before switching at time t1, the vibration of the substrate stage 4 due to the turbulence of the outflowing gas is reduced. Thus, the average amplitude of the vibration can be reduced from A a to A b.

基板ステージ４の振動が低減されることにより、基板ステージ４の位置計測結果の誤差を低減し、制御部１９により算出されるモールド１０と基板１との相対位置ずれ量の算出誤差を低減させることができる。   By reducing the vibration of the substrate stage 4, the error of the position measurement result of the substrate stage 4 is reduced, and the calculation error of the relative positional deviation amount between the mold 10 and the substrate 1 calculated by the control unit 19 is reduced. Can do.

圧縮気体の圧力にもよるが、通常、開口１０２のみを用いたときのＹ静圧軸受２４には１０〜数１００Ｈｚ、振幅が数ｎｍ〜３０ｎｍ程度の微振動が生じる。Ｓ１０５において数ｎｍ〜１０数ｎｍのモールド１０と基板１との位置合わせ精度が達成目標の場合に、開口面積の切り替え無しにはＹ静圧軸受２４の微振動に起因して達成することができない。   Although depending on the pressure of the compressed gas, the Y static pressure bearing 24 when only the opening 102 is used usually generates a slight vibration having a frequency of 10 to several 100 Hz and an amplitude of several nm to 30 nm. When the alignment accuracy between the mold 10 and the substrate 1 of several nm to several tens nm is the achievement target in S105, it cannot be achieved due to the slight vibration of the Y hydrostatic bearing 24 without switching the opening area. .

一方、本実施形態では、１つの開口１０２から４つの開口１０１に開口の数を切り替えて１つの開口１０１あたりから流出する気体の流量を１つの開口１０２から流出する気体の流量よりも小さくする。これにより、Ｙ静圧軸受２４を介して基板ステージ４の微振動の振幅を低減することができる。   On the other hand, in this embodiment, the number of openings is switched from one opening 102 to four openings 101 so that the flow rate of gas flowing out from around one opening 101 is made smaller than the flow rate of gas flowing out from one opening 102. Thereby, the amplitude of the fine vibration of the substrate stage 4 can be reduced via the Y hydrostatic bearing 24.

基板ステージ４に伝わる振動を低減してモールド１０と基板１との相対位置の検出精度を高めることができる。さらにそのままの振動状態でモールド１０と基板１との位置合わせ及びインプリント材の硬化をすることができる。よって、基板１に既に形成されている下地パターンと、新たに基板１の上に形成される硬化したインプリント材のパターンとを高精度に重ね合わせることができる。   The vibration transmitted to the substrate stage 4 can be reduced and the detection accuracy of the relative position between the mold 10 and the substrate 1 can be increased. Further, the alignment between the mold 10 and the substrate 1 and the imprint material can be cured in the vibration state as it is. Therefore, the base pattern already formed on the substrate 1 and the cured imprint material pattern newly formed on the substrate 1 can be superimposed with high accuracy.

ステージ装置２００を、アライメントやインプリント材の硬化時において供給圧力を低減する場合に比べて素早くステージ装置２００の微振動を低減することができる。   The fine vibration of the stage apparatus 200 can be quickly reduced as compared with the case where the supply pressure of the stage apparatus 200 is reduced at the time of alignment or imprint material curing.

なお、時刻ｔ１の直後の時刻ｔ２はモールド１０が基板１上のインプリント材に接液してインプリント材の粘弾性力がはたらく。よって、モールド１０がインプリント材と接液していない場合に比べて剛性がＫＬに低下することよる案内面５ａとの干渉リスクは小さくなる。 At time t2 immediately after time t1, the mold 10 comes into contact with the imprint material on the substrate 1 and the viscoelastic force of the imprint material acts. Therefore, the interference risk the guide surface 5a by that mold 10 is rigid as compared with the case where not wetted with the imprint material is reduced to K L decreases.

Ｙ静圧軸受２４において使用する開口の数の切り替え動作は、前述の押印動作又は離型動作と同時の場合に限られない。例えば、基板ステージ４がアライメント検出系１６の検出範囲にマーク３８が入る所定位置に移動した後、時刻ｔ２におけるモールド１０と基板１との位置合わせ動作が完了するまでの間で切り替え部１０５が開口部の開口面積を大きくすればよい。切り替え部１０５が開口部の開口面積を小さくするタイミングは、Ｓ１０６の工程が終了してから時刻ｔ５の前までであればよい。   The switching operation of the number of openings used in the Y hydrostatic bearing 24 is not limited to the simultaneous operation with the above-described stamping operation or releasing operation. For example, after the substrate stage 4 moves to a predetermined position where the mark 38 enters the detection range of the alignment detection system 16, the switching unit 105 opens until the alignment operation between the mold 10 and the substrate 1 at time t2 is completed. What is necessary is just to enlarge the opening area of a part. The timing at which the switching unit 105 reduces the opening area of the opening may be from the time when the process of S106 is completed to before the time t5.

なお、切り替え部１０５は、開口１０１のみから圧縮気体を流出させる場合と開口１０２のみから圧縮気体を流出させる場合と、を切り替える場合の実施形態を説明したが、切り替え部１０５はその他の態様で開口面積を変更してもよい。例えば、切り替え部１０５は、開口１０１のみから圧縮気体を流出させる場合と、開口１０１及び開口１０２から圧縮気体を流出させる場合とを切り替える機構であってもよい。開口１０２が複数ある場合であっても、当該複数の開口１０２を合わせた開口面積Ａ３と、前述の開口面積Ａ２との間に、Ａ３＜Ａ２が成り立つのであれば、開口１０２は複数あってもよい。特に２×Ａ３＜Ａ２が成り立つことが好ましい。   In addition, although the switching unit 105 has been described with respect to the embodiment in which the compressed gas flows out only from the opening 101 and the case in which the compressed gas flows out only from the opening 102, the switching unit 105 is opened in other modes. The area may be changed. For example, the switching unit 105 may be a mechanism that switches between a case where the compressed gas flows out only from the opening 101 and a case where the compressed gas flows out from the opening 101 and the opening 102. Even if there are a plurality of openings 102, if A3 <A2 holds between the opening area A3 of the plurality of openings 102 and the opening area A2, the plurality of openings 102 may be present. Good. In particular, it is preferable that 2 × A3 <A2.

（実施例）
第１実施形態の実施例について、図７を用いて説明する。ただし、当該実施例は、中央部に開口１０２のみが形成された静圧軸受から圧縮気体を流出させる場合と、４つの開口１０１が形成された静圧軸受から圧縮気体を流出させる場合とを、同一条件の条件下で個別に実施したときの実施例である。圧縮気体の供給条件は、開口１０２のみから気体を流出させたときの案内面に対する浮上量が８μｍとなる条件とした。 (Example)
An example of the first embodiment will be described with reference to FIG. However, in this embodiment, the case where the compressed gas is caused to flow out from the hydrostatic bearing in which only the opening 102 is formed in the central portion, and the case where the compressed gas is caused to flow out from the hydrostatic bearing where the four openings 101 are formed, It is an Example when it implements separately on the conditions of the same conditions. The supply condition of the compressed gas was such that the flying height with respect to the guide surface when the gas was allowed to flow out only from the opening 102 was 8 μm.

図７（ａ）、図７（ｂ）は、いずれも、横軸が時間、縦軸がＹ静圧軸受２４の案内面５ａ側の位置を示している。図７（ａ）は中央部に開口１０２のみが形成された静圧軸受から圧縮気体を流出させたときの振動状態を示しており、図７（ｂ）は、１つあたりの面積が開口１０２と同一の開口１０１が４つ形成された静圧軸受から圧縮気体を流出させる場合とを示している。図７（ａ）の場合は、振幅が１１．１ｎｍ、図７（ｂ）の場合は振幅が１．６となり、静圧軸受けに伝わる振動を約１／５に低減できた。   In each of FIGS. 7A and 7B, the horizontal axis indicates time, and the vertical axis indicates the position of the Y hydrostatic bearing 24 on the guide surface 5a side. FIG. 7A shows a vibration state when compressed gas flows out from a hydrostatic bearing having only an opening 102 formed in the center, and FIG. 7B shows an area per opening. The case where compressed gas is made to flow out from the hydrostatic bearing in which four identical openings 101 are formed is shown. In the case of FIG. 7A, the amplitude is 11.1 nm, and in the case of FIG. 7B, the amplitude is 1.6, and vibration transmitted to the static pressure bearing can be reduced to about 1/5.

（第１実施形態の変形例）
開口１０１、１０２及び溝１０３のように、圧縮気体を流出させる開口や流出させた気体を整流する溝の配置や数は、図４に示す配置に限られない。Ｙ静圧軸受２４の、案内部材５と対向する面内で対称的に開口を配置することが可能であれば、別の配置でも構わない。特に、基板ステージ４を案内面５ａに対してバランス良く浮上させるためにも、圧縮気体を流出させる開口はＹ静圧軸受２４の移動方向であるＸ軸方向に関し線対称に配置されていることが好ましい。 (Modification of the first embodiment)
Like the openings 101 and 102 and the groove 103, the arrangement and the number of the openings for flowing out the compressed gas and the grooves for rectifying the outflowed gas are not limited to the arrangement shown in FIG. Another arrangement may be used as long as the openings can be arranged symmetrically in the plane of the Y hydrostatic bearing 24 facing the guide member 5. In particular, in order to float the substrate stage 4 with respect to the guide surface 5a in a well-balanced manner, the opening through which the compressed gas flows out is arranged symmetrically with respect to the X-axis direction that is the moving direction of the Y hydrostatic bearing 24. preferable.

図８（ａ）、図８（ｂ）は、Ｙ静圧軸受２４の変形例に係る静圧軸受を、案内部材５の側から見た図である。図８（ａ）に示す静圧軸受は、中央部の開口２０２と、当該開口２０２の上下左右及び斜め方向に離れて配置された開口２０１とを含む。溝２０３は、開口２０２及び開口２０１同士を結ぶように、Ｘ軸方向、Ｚ軸方向に形成されている。例えば、切り替え部１０５は、時刻ｔ１において圧縮気体を流出させる開口を開口２０２から開口２０１に変えることで開口面積を変える。   FIGS. 8A and 8B are views of a hydrostatic bearing according to a modification of the Y hydrostatic bearing 24 as viewed from the guide member 5 side. The hydrostatic bearing shown in FIG. 8A includes an opening 202 at the center, and an opening 201 that is spaced apart in the vertical and horizontal directions and the diagonal direction of the opening 202. The groove 203 is formed in the X-axis direction and the Z-axis direction so as to connect the opening 202 and the opening 201. For example, the switching unit 105 changes the opening area by changing the opening through which the compressed gas flows out from the opening 202 to the opening 201 at time t1.

図８（ｂ）に示す静圧軸受は同心円状の２つの溝３０３、３０４及び内円の溝３０３を結ぶ２つの直線状の溝３０５を含み、溝３０３と溝３０５との交点に開口３０１、溝３０５同士の交点に開口３０２を含む。例えば、切り替え部１０５は、時刻ｔ１において圧縮気体を流出させる開口を開口３０２から開口３０１に変えることで開口面積を変える。これにより、前述と同様の効果を得ることができる。   The hydrostatic bearing shown in FIG. 8B includes two linear grooves 305 that connect two concentric grooves 303 and 304 and an inner circular groove 303, and an opening 301 is formed at the intersection of the groove 303 and the groove 305. An opening 302 is included at the intersection of the grooves 305. For example, the switching unit 105 changes the opening area by changing the opening through which the compressed gas flows out from the opening 302 to the opening 301 at time t1. Thereby, the effect similar to the above can be acquired.

また、開口１０１、１０２の形状は、流出させる気体の流れを乱さない範囲であれば円形以外の形状であってもよい。   Further, the shape of the openings 101 and 102 may be a shape other than a circle as long as it does not disturb the flow of gas to be discharged.

［第２実施形態］
開口１０１、１０２の配置や溝１０３の配置次第では、切り替え部１０５が圧縮気体を流出させる開口の数を切り替えたときに、案内面５ａに対するＹ静圧軸受２４の浮上量がサブミクロン〜１．２μｍ程度変化する場合がある。そこで、第２実施形態に係るＹ静圧軸受２４は、開口の数の切り替えに伴うＹ静圧軸受２４の浮上量の変化を低減するための機構を有する。 [Second Embodiment]
Depending on the arrangement of the openings 101 and 102 and the arrangement of the groove 103, when the switching unit 105 switches the number of openings through which the compressed gas flows out, the flying height of the Y hydrostatic bearing 24 with respect to the guide surface 5a is submicron to 1. It may change by about 2 μm. Therefore, the Y hydrostatic bearing 24 according to the second embodiment has a mechanism for reducing a change in the flying height of the Y hydrostatic bearing 24 due to switching of the number of openings.

第２実施形態に係るＹ静圧軸受２４の構成について、図１０を用いて説明する。図１０（ａ）はＹ静圧軸受２４を案内面５ａから見た図である。図１０（ｂ）は図１０（ａ）のＤ−Ｄ断面図である。既出の図面と同一の部材には同一の番号を付し、重複する詳細な説明は省略する。   The configuration of the Y hydrostatic bearing 24 according to the second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 10A is a view of the Y hydrostatic bearing 24 as seen from the guide surface 5a. FIG.10 (b) is DD sectional drawing of Fig.10 (a). The same members as those in the above-mentioned drawings are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

Ｙ静圧軸受２４に設けられた吸引口１２０に配管１２１を介して接続された排気部１２３を有する。排気部１２３は例えば排気力が変更可能な真空ポンプであって、案内面５ａとＹ静圧軸受２４との間の気体を配管１２１及び吸引口１２０を介して吸引することにより、案内部材５を吸引する力（吸引力）を発生させる発生手段として機能する。   An exhaust part 123 connected to a suction port 120 provided in the Y hydrostatic bearing 24 via a pipe 121 is provided. The exhaust unit 123 is a vacuum pump whose exhaust force can be changed, for example, and sucks the gas between the guide surface 5a and the Y hydrostatic bearing 24 through the pipe 121 and the suction port 120, thereby pulling the guide member 5 down. It functions as a generating means for generating a suction force (suction force).

したがって、排気部１２３は、制御部１９の指示を受けて排気部１２３は案内部材５に対する吸引力を変えることによって案内面５ａとＹ静圧軸受２４との距離を微調整できる。例えば、切り替え部１０５による開口数の切り替えによって、案内面５ａに対するＹ静圧軸受２４の浮上量が減少するのであれば、制御部１９の指示に基づいて当該浮上量の減少が低減するように吸引力を小さくする。また、切り替え部１０５による開口数の切り替えによって、案内面５ａに対するＹ静圧軸受２４の浮上量が増大するのであれば制御部１９の指示に基づいて当該浮上量の増加が低減するように吸引力を大きくする。   Therefore, the exhaust unit 123 can finely adjust the distance between the guide surface 5 a and the Y hydrostatic bearing 24 by receiving an instruction from the control unit 19 and changing the suction force with respect to the guide member 5. For example, if the floating amount of the Y hydrostatic bearing 24 with respect to the guide surface 5a is decreased by switching the numerical aperture by the switching unit 105, suction is performed so that the decrease in the floating amount is reduced based on an instruction from the control unit 19. Reduce power. If the floating amount of the Y hydrostatic bearing 24 with respect to the guide surface 5a is increased by switching the numerical aperture by the switching unit 105, the suction force is reduced so that the increase in the floating amount is reduced based on an instruction from the control unit 19. Increase

本実施形態でも切り替え部１０５が基板ステージ４の移動に応じて圧縮気体を流出させる開口部の開口面積を変える。よって、第１実施形態に係るステージ装置２００と同様、基板ステージ４の高速移動時の基板ステージ４の高剛性支持と基板ステージ４の微小移動時の基板ステージ４の微振動の低減とを両立できる。さらに、案内部材５とＹ静圧軸受２４との一方が他方を吸引する力を変えることで開口面積の変更とともに生じるＹ静圧軸受２４の浮上量の変化を低減させることができる。   Also in this embodiment, the switching unit 105 changes the opening area of the opening through which the compressed gas flows out according to the movement of the substrate stage 4. Therefore, similarly to the stage apparatus 200 according to the first embodiment, it is possible to achieve both high-rigidity support of the substrate stage 4 when the substrate stage 4 is moved at high speed and reduction of minute vibrations of the substrate stage 4 when the substrate stage 4 is finely moved. . Furthermore, the change in the flying height of the Y hydrostatic bearing 24 that occurs with the change in the opening area can be reduced by changing the force with which one of the guide member 5 and the Y hydrostatic bearing 24 attracts the other.

なお、排気部１２３を搭載している場合は、予圧用の磁石は搭載されていなくてもよい。基板ステージ４の移動の案内機能に影響が少なければ、排気部１２３と接続される開口がＹ静圧軸受２４の側ではなく、案内部材５の側に設けられていてもよい。また、排気部１２３の代わりに、案内部材５とＹ静圧軸受２４との一方に設けられた電磁石を、磁性材料で構成された他方を吸引する吸引力を生じさせる発生手段として用いてもよい。   In addition, when the exhaust part 123 is mounted, the magnet for preload does not need to be mounted. If there is little influence on the guide function of the movement of the substrate stage 4, the opening connected to the exhaust part 123 may be provided not on the Y hydrostatic bearing 24 side but on the guide member 5 side. Further, instead of the exhaust part 123, an electromagnet provided on one of the guide member 5 and the Y hydrostatic bearing 24 may be used as a generating means for generating an attractive force for attracting the other made of a magnetic material. .

［第３実施形態］
Ｙ静圧軸受２４に設けられた１つ又は複数の開口のうち、１つあたりの開口の面積を変えることによっても、圧縮気体を流出させる開口部の面積を変えることができる。これにより開口から流出する圧縮気体のレイノルズ数は低減する。そこで、第３実施形態に係るＹ静圧軸受２４は、開口部の面積を変える変更手段として、１つの開口の開口面積を変更可能な機構を有する。 [Third Embodiment]
The area of the opening through which the compressed gas flows out can also be changed by changing the area of one or more openings provided in the Y hydrostatic bearing 24. Thereby, the Reynolds number of the compressed gas flowing out from the opening is reduced. Therefore, the Y hydrostatic bearing 24 according to the third embodiment has a mechanism capable of changing the opening area of one opening as changing means for changing the area of the opening.

第３実施形態に係る変更手段の一例を図１０（ａ）及び図１０（ａ）のＤ−Ｄ断面図である図１０（ｂ）に示す。ステージ装置２００は、当該変更手段として、気体供給部１０６と接続された開口４０１の中心位置は変えずにその半径を変えるための羽部（駆動機構）４０３と、羽部４０３を駆動する駆動部４０４と、を有する絞り４０２を有する。制御部１９からの指示に基づいて絞り４０２は羽部４０３を駆動し、基板ステージ４の移動状態に応じて開口３０１の面積を変える。   An example of the changing means according to the third embodiment is shown in FIG. 10 (a) and FIG. 10 (b) which is a DD sectional view of FIG. 10 (a). The stage device 200 has, as the changing means, a wing part (drive mechanism) 403 for changing the radius without changing the center position of the opening 401 connected to the gas supply unit 106, and a drive part for driving the wing part 403. 404. Based on an instruction from the control unit 19, the diaphragm 402 drives the wing 403 and changes the area of the opening 301 in accordance with the movement state of the substrate stage 4.

第３実施形態に係る変更手段の別の例を図１１（ａ）及び図１１（ａ）のＥ−Ｅ断面図である図１１（ｂ）に示す。ステージ装置２００は、当該変更手段として、Ｙ静圧軸受２４に設けられた開口５０３よりも小さな開口面積の開口５０１を備え、開口５０３の一部を遮蔽するようにスライド可能なスライド部材（駆動機構）５０２を有する。   Another example of the changing means according to the third embodiment is shown in FIG. 11 (a) and FIG. 11 (b) which is an EE cross-sectional view of FIG. 11 (a). The stage device 200 includes an opening 501 having an opening area smaller than the opening 503 provided in the Y hydrostatic bearing 24 as the changing means, and a slide member (driving mechanism) that is slidable so as to shield a part of the opening 503. ) 502.

制御部１９の指示に基づいて不図示の駆動部はスライド部材５０２を駆動し、基板ステージ４の移動状態に応じて開口５０３の面積を変える。例えば、基板ステージ４が前述のインプリント処理のＳ１０３では、スライド部材５０２を開口５０３の一部を遮蔽するように図１１（ｂ）の位置に配置して開口部の面積を小さくする。インプリント処理のＳ１０７では、破線で示した位置にスライド部材５０２を配置して開口部の面積を大きくする。   A drive unit (not shown) drives the slide member 502 based on an instruction from the control unit 19 and changes the area of the opening 503 according to the movement state of the substrate stage 4. For example, in S103 of the above-described imprint process, the substrate stage 4 is arranged at the position of FIG. 11B so as to shield a part of the opening 503 to reduce the area of the opening. In S107 of the imprint process, the slide member 502 is arranged at the position indicated by the broken line to increase the area of the opening.

このように、羽部４０３やスライド部材５０２等の駆動機構を用いて同一の開口の開口面積を変えることによっても、レイノルズ数の大きさを変えることができる。このような開口面積の変更を基板ステージ４の移動状態に応じて行うことで、基板ステージ４の高速移動時の基板ステージ４の高剛性支持と基板ステージ４の微小移動時の基板ステージ４の微振動の低減とを両立できる。   As described above, the Reynolds number can be changed by changing the opening area of the same opening using a driving mechanism such as the wing 403 or the slide member 502. By changing the opening area in accordance with the movement state of the substrate stage 4, the substrate stage 4 is supported with high rigidity when the substrate stage 4 is moved at a high speed, and the substrate stage 4 is slightly moved when the substrate stage 4 is moved slightly. It is possible to achieve both vibration reduction.

第３実施形態に係るステージ装置２００は、第１実施形態又は第２実施形態と組み合わせて実施することで、開口面積の変更幅を大きくしてもよい。また、複数の開口のうち少なくとも１つの開口の面積を変えることによって
本実施形態を含め、各実施形態において、静圧軸受に供給される圧力を変えないまま当該静圧軸受けの開口部の開口面積を変える場合を説明したが、開口面積の切り替えと併せて圧力を変更してもよい。例えば、制御部１９の指示に基づいてレギュレータ（圧力変更手段）１０６ａが、基板ステージ４の移動状態に応じて気体供給部１０６から静圧軸受けに供給される気体の圧力を変更してもよい。例えば、前述のインプリント処理におけるＳ１０３で圧力を低減させ、Ｓ１０７で低減させた圧力を元に戻してもよい。多少の応答遅れは生じるが、基板ステージ４の振動をさらに低減させることができる。 The stage apparatus 200 according to the third embodiment may be implemented in combination with the first embodiment or the second embodiment, thereby increasing the change width of the opening area. In addition, by changing the area of at least one of the plurality of openings, including this embodiment, the opening area of the opening of the hydrostatic bearing without changing the pressure supplied to the hydrostatic bearing in each embodiment However, the pressure may be changed along with the switching of the opening area. For example, based on an instruction from the control unit 19, the regulator (pressure changing unit) 106 a may change the pressure of the gas supplied from the gas supply unit 106 to the static pressure bearing according to the movement state of the substrate stage 4. For example, the pressure may be reduced in S103 in the above-described imprint process, and the pressure reduced in S107 may be restored. Although some response delay occurs, the vibration of the substrate stage 4 can be further reduced.

［その他の実施形態］
本発明のその他の実施形態について説明する。 [Other Embodiments]
Other embodiments of the present invention will be described.

Ｙ静圧軸受２４の開口面積を変える場合を中心に説明したが、開口面積の変更対象の静圧軸受はこれに限られない。各実施形態に係る発明は、Ｚ静圧軸受２１、２２、Ｘ静圧軸受２３、及びＹ静圧軸受２４及びの少なくとも一つに適用可能である。アライメント検出系１６によるマーク検出の際には、基板ステージ４のＸＹ方向の微振動を低減させることが重要となる。そのため、特に。基板１に一番近いＹ静圧軸受２４、Ｘ静圧軸受２３の優先順位で適用されることが好ましい。   Although the case where the opening area of the Y hydrostatic bearing 24 is changed has been mainly described, the hydrostatic bearing whose opening area is to be changed is not limited to this. The invention according to each embodiment can be applied to at least one of the Z hydrostatic bearings 21 and 22, the X hydrostatic bearing 23, and the Y hydrostatic bearing 24. When the mark is detected by the alignment detection system 16, it is important to reduce the slight vibration of the substrate stage 4 in the X and Y directions. Therefore, especially. It is preferable to apply in the priority order of the Y hydrostatic bearing 24 and the X hydrostatic bearing 23 that are closest to the substrate 1.

インプリント材には、硬化用のエネルギーが与えられることにより硬化する硬化性組成物（未硬化状態の樹脂と呼ぶこともある）が用いられる。硬化用のエネルギーとしては、電磁波、熱等が用いられる。電磁波としては、例えば、その波長が１０ｎｍ以上１ｍｍ以下の範囲から選択される、赤外線、可視光線、紫外線等の光である。   As the imprint material, a curable composition (also referred to as an uncured resin) that cures when given energy for curing is used. As the energy for curing, electromagnetic waves, heat, or the like is used. The electromagnetic wave is, for example, light such as infrared rays, visible rays, and ultraviolet rays, the wavelength of which is selected from a range of 10 nm to 1 mm.

硬化性組成物は、光の照射により、又は、加熱により硬化する組成物である。このうち、光により硬化する光硬化性組成物は、重合性化合物と光重合開始剤とを少なくとも含有し、必要に応じて非重合性化合物または溶剤を含有してもよい。非重合性化合物は、増感剤、水素供与体、界面活性剤、酸化防止剤、ポリマー成分等の群から選択される少なくとも一種である。   A curable composition is a composition which hardens | cures by irradiation of light or by heating. Among these, the photocurable composition cured by light contains at least a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, and may contain a non-polymerizable compound or a solvent as necessary. The non-polymerizable compound is at least one selected from the group consisting of a sensitizer, a hydrogen donor, a surfactant, an antioxidant, and a polymer component.

インプリント材は、スピンコーターやスリットコーターにより基板１の上に膜状に付与される。或いは液体噴射ヘッドにより、液滴状、或いは複数の液滴が繋がってできた島状又は膜状となって基板１の上に付与されてもよい。インプリント材の粘度（２５℃における粘度）は、例えば、１ｍＰａ・ｓ以上１００ｍＰａ・ｓ以下である。   The imprint material is applied in the form of a film on the substrate 1 by a spin coater or a slit coater. Alternatively, the liquid ejecting head may be applied onto the substrate 1 in the form of droplets, or in the form of islands or films formed by connecting a plurality of droplets. The imprint material has a viscosity (viscosity at 25 ° C.) of, for example, 1 mPa · s or more and 100 mPa · s or less.

基板１は、ガラス、セラミックス、金属、半導体、樹脂等が用いられ、必要に応じて、その表面に基板とは別の材料からなる部材が形成されていてもよい。基板１は、具体的に、シリコンウエハ、化合物半導体ウエハ、石英ガラス等である。   The substrate 1 is made of glass, ceramics, metal, semiconductor, resin, or the like, and a member made of a material different from the substrate may be formed on the surface as necessary. Specifically, the substrate 1 is a silicon wafer, a compound semiconductor wafer, quartz glass, or the like.

ステージ装置２００は、インプリント装置１００に限られず、案内面に沿って可動な基板ステージに載置された基板の上に原版を用いてパターンを形成するその他のリソグラフィ装置（パターン形成装置）にも搭載されうる。   The stage apparatus 200 is not limited to the imprint apparatus 100, and may be used for other lithography apparatuses (pattern forming apparatuses) that form a pattern using an original plate on a substrate placed on a substrate stage movable along a guide surface. Can be mounted.

リソグラフィ装置は、例えば、原版（レチクル）に形成された回路パターン等のパターンを基板１に転写することにより、基板１の上にレジストの潜像パターンを形成する露光装置でもよい。露光装置においてレジストを露光するための露光光は、例えば、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ＡｒＦレーザ光（波長１９３ｎｍ）、ＥＵＶ光（波長１３ｎｍ）等の各種光線から選択可能である。リソグラフィ装置は、荷電粒子線やレーザビームを照射することによって基板１の上に潜像パターンを形成する描画装置等でもよい。   The lithography apparatus may be, for example, an exposure apparatus that forms a latent image pattern of a resist on the substrate 1 by transferring a pattern such as a circuit pattern formed on an original (reticle) to the substrate 1. The exposure light for exposing the resist in the exposure apparatus can be selected from various rays such as g-line (wavelength 436 nm), i-line (wavelength 365 nm), ArF laser light (wavelength 193 nm), EUV light (wavelength 13 nm), etc. It is. The lithography apparatus may be a drawing apparatus that forms a latent image pattern on the substrate 1 by irradiating a charged particle beam or a laser beam.

いずれのリソグラフィ装置においても、一般的に、原版や基板に設けられたマークからの光を検出するアライメント検出系を有する。よって変更手段はアライメント検出系の検出範囲に基板に設けられたマークが入る所定位置に基板ステージが移動してから、当該マークからの光（マークの像）の検出が完了するまでの間に、静圧軸受の開口部の開口面積を変更前よりも大きくする。また、変更手段は、第１領域（第１ショット領域）にパターンを形成した後に次にパターンが形成すべき第２領域（第２ショット領域）へのパターン形成のために基板ステージ４をステップ移動させる間に、静圧軸受の開口部の開口面積を変更前よりも小さくする。これにより、基板ステージが大ストロークで移動するときには剛性を高くし、マークからの光の検出など整定を要する時は振動を低減することができる。   Any lithography apparatus generally has an alignment detection system for detecting light from a mark provided on an original or a substrate. Therefore, the changing means is from the time when the substrate stage is moved to a predetermined position where the mark provided on the substrate enters the detection range of the alignment detection system until the detection of the light from the mark (mark image) is completed. The opening area of the opening of the hydrostatic bearing is made larger than before the change. Further, after the pattern is formed in the first area (first shot area), the changing means steps the substrate stage 4 to form a pattern in the second area (second shot area) where the pattern is to be formed next. In the meantime, the opening area of the opening of the hydrostatic bearing is made smaller than before the change. Thereby, rigidity can be increased when the substrate stage moves with a large stroke, and vibration can be reduced when settling is required, such as detection of light from the mark.

リソグラフィ装置が基板ステージ４を整定させた状態で基板を露光するステップアンドリピート方式で露光する露光装置（ステッパ）の場合、基板の露光タイミングに合わせて静圧軸受の開口部の開口面積が大きくしてもよい。基板ステージが大ストロークで移動するときには剛性を高くし、露光時など整定を要する時は振動を低減することができる。   In the case of an exposure apparatus (stepper) that exposes a substrate in a step-and-repeat mode in which the substrate is exposed with the substrate stage 4 settling, the opening area of the hydrostatic bearing opening is increased in accordance with the exposure timing of the substrate. May be. The rigidity can be increased when the substrate stage moves with a large stroke, and the vibration can be reduced when settling is required during exposure.

［物品の製造方法］
インプリント装置を用いて形成した硬化物のパターン又はその他のリソグラフィ装置を用いて形成された潜像パターンを現像した後に残る硬化物のパターンは、各種物品の少なくとも一部に恒久的に、又は各種物品を製造する際に一時的に用いられる。 [Production Method]
The pattern of the cured product formed using the imprint apparatus or the pattern of the cured product remaining after developing the latent image pattern formed using the other lithographic apparatus may be permanently or variously used on at least a part of various articles. Temporarily used when manufacturing articles.

物品とは、電気回路素子、光学素子、ＭＥＭＳ、記録素子、センサ、或いは、モールド１０等である。電気回路素子としては、ＤＲＡＭ、ＳＲＡＭ、フラッシュメモリ、ＭＲＡＭのような、揮発性或いは不揮発性の半導体メモリや、ＬＳＩ、ＣＣＤ、イメージセンサ、ＦＰＧＡのような半導体素子等が挙げられる。モールド１０としては、インプリント用のモールド等が挙げられる。   The article is an electric circuit element, an optical element, a MEMS, a recording element, a sensor, a mold 10, or the like. Examples of the electric circuit elements include volatile or nonvolatile semiconductor memories such as DRAM, SRAM, flash memory, and MRAM, and semiconductor elements such as LSI, CCD, image sensor, and FPGA. Examples of the mold 10 include an imprint mold.

硬化物のパターンは、上記物品の少なくとも一部の構成部材として、そのまま用いられるか、或いは、レジストマスクとして一時的に用いられる。基板１の加工工程においてエッチング又はイオン注入等が行われた後、レジストマスクは除去される。   The pattern of the cured product is used as it is as a constituent member of at least a part of the article or temporarily used as a resist mask. After etching or ion implantation is performed in the processing step of the substrate 1, the resist mask is removed.

次に、物品の具体的な製造方法について図１２を用いて説明する。図１２（ａ）に示すように、絶縁体等の被加工材２ｚが表面に形成されたシリコンウエハ等の基板１を用意し、続いて、インクジェット法等により、被加工材２ｚの表面にインプリント材３ｚを付与する（前述のＳ１０１）。ここでは、複数の液滴状になったインプリント材３ｚが基板上に付与された様子を示している。   Next, a specific method for manufacturing an article will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 12A, a substrate 1 such as a silicon wafer on which a workpiece 2z such as an insulator is formed is prepared. Subsequently, the substrate 1 is formed on the surface of the workpiece 2z by an inkjet method or the like. The printing material 3z is applied (S101 described above). Here, a state is shown in which the imprint material 3z in the form of a plurality of droplets is applied on the substrate.

図１２（ｂ）に示すように、インプリント用のモールド１０を、その凹凸パターンが形成された側を基板上のインプリント材３ｚに向け、対向させる。図１２（ｃ）に示すように、インプリント材３ｚが付与された基板１とモールド１０とを接触させ、圧力を加える（前述のＳ１０４）。インプリント材３ｚはモールド１０と被加工材２ｚとの隙間に充填される。この状態で硬化用のエネルギーとして光をモールド１０を透して照射すると、インプリント材３ｚは硬化する（前述のＳ１０６）。   As shown in FIG. 12 (b), the imprint mold 10 is opposed to the imprint material 3z on the substrate with the side on which the concavo-convex pattern is formed facing. As shown in FIG. 12C, the substrate 1 to which the imprint material 3z is applied and the mold 10 are brought into contact with each other, and pressure is applied (S104 described above). The imprint material 3z is filled in the gap between the mold 10 and the workpiece 2z. In this state, when light is irradiated through the mold 10 as energy for curing, the imprint material 3z is cured (S106 described above).

図１２（ｄ）に示すように、インプリント材３ｚを硬化させた後、モールド１０と基板１を引き離すと、基板１上にインプリント材３ｚの硬化物のパターンが形成される（前述のＳ１０８）。この硬化物のパターンは、型の凹部が硬化物の凸部に、型の凸部が硬化物の凹部に対応した形状になっており、即ち、インプリント材３ｚにモールド１０の凹凸パターンが転写されたことになる。   As shown in FIG. 12D, when the imprint material 3z is cured and then the mold 10 and the substrate 1 are separated, a pattern of a cured product of the imprint material 3z is formed on the substrate 1 (S108 described above). ). The cured product pattern has a shape in which the concave portion of the mold corresponds to the convex portion of the cured product, and the convex portion of the mold corresponds to the concave portion of the cured product. That is, the concave / convex pattern of the mold 10 is transferred to the imprint material 3z. It will be done.

図１２（ｅ）に示すように、硬化物のパターンを耐エッチングマスクとしてエッチングを行うと、被加工材２ｚの表面のうち、硬化物が無いか或いは薄く残存した部分が除去され、溝５ｚとなる。図１２（ｆ）に示すように、硬化物のパターンを除去すると、被加工材２ｚの表面に溝５ｚが形成された物品を得ることができる。ここでは硬化物のパターンを除去したが、加工後も除去せずに、例えば、半導体素子等に含まれる層間絶縁用の膜、つまり、物品の構成部材として利用してもよい。   As shown in FIG. 12 (e), when etching is performed using the pattern of the cured product as an anti-etching mask, a portion of the surface of the workpiece 2z where there is no cured product or remains thin is removed, and the grooves 5z and Become. As shown in FIG. 12 (f), when the pattern of the cured product is removed, an article in which the groove 5z is formed on the surface of the workpiece 2z can be obtained. Although the cured product pattern is removed here, it may be used as, for example, a film for interlayer insulation contained in a semiconductor element or the like, that is, a constituent member of an article without being removed after processing.

基板１の加工工程はさらに、他の周知の加工工程（現像、酸化、成膜、蒸着、平坦化、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含んでもよい。   The processing steps of the substrate 1 may further include other known processing steps (development, oxidation, film formation, vapor deposition, planarization, resist stripping, dicing, bonding, packaging, etc.).

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。   As mentioned above, although preferable embodiment of this invention was described, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to these embodiment, A various deformation | transformation and change are possible within the range of the summary.

１ 基板
４ 可動体
５ａ 案内面
２４ 静圧軸受
１０１、１０２、２０１、２０２、３０１、３０２、４０１、５０１、５０３ 開口（開口部）
１０６ 気体供給部
１０５、４０２ 切り替え部（変更手段）
２００ ステージ装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 4 Movable body 5a Guide surface 24 Hydrostatic bearing 101, 102, 201, 202, 301, 302, 401, 501, 503 Opening (opening)
106 Gas supply part 105, 402 Switching part (change means)
200 stage device

Claims (16)

案内面に沿って移動可能な可動体と、
前記案内面と対向する開口部から前記案内面に向けて気体を流出させることにより前記可動体を前記案内面に対して非接触で支持する静圧軸受と、
前記可動体の移動状態に応じて前記開口部の開口面積を変える変更手段と、を有することを特徴とするステージ装置。 A movable body movable along the guide surface;
A hydrostatic bearing that supports the movable body in a non-contact manner with respect to the guide surface by allowing gas to flow out from the opening facing the guide surface toward the guide surface;
And a changing unit that changes an opening area of the opening according to a moving state of the movable body. 前記移動状態は前記可動体の速度を含み、
前記変更手段は、前記可動体の速度が第１速度の時は前記開口面積が第１面積であり、前記可動体の速度が前記第１速度よりも小さな第２速度の時は、前記開口面積が前記第１面積よりも大きな第２面積となるように、前記開口面積を変えることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。 The moving state includes the speed of the movable body,
The changing means is configured such that the opening area is the first area when the speed of the movable body is the first speed, and the opening area when the speed of the movable body is the second speed smaller than the first speed. The stage apparatus according to claim 1, wherein the opening area is changed so that the second area is larger than the first area. 前記開口部は複数の開口を有し、
前記変更手段は、前記気体の流出に用いる前記開口の数を変えることで前記開口面積を変えることを特徴とする請求項１又は２に記載のステージ装置。 The opening has a plurality of openings;
The stage device according to claim 1, wherein the changing unit changes the opening area by changing the number of the openings used for the outflow of the gas. 前記開口部は１又は複数の開口を有し、
前記変更手段は、前記１つの開口の開口面積または前記複数の開口それぞれの面積を変えるための駆動機構を含み、当該駆動機構の駆動により前記開口面積を変えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のステージ装置。 The opening has one or more openings;
4. The change means includes a drive mechanism for changing an opening area of the one opening or an area of each of the plurality of openings, and the opening area is changed by driving the driving mechanism. The stage apparatus according to any one of the above. 前記案内面を備えた部材と前記静圧軸受とのうち、一方が他方を吸引する吸引力を生じさせる発生手段を有し、
前記発生手段は、前記開口面積の変更とともに生じる前記静圧軸受の浮上量の変化を、前記吸引力を変えることで低減させることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のステージ装置。 Of the member having the guide surface and the hydrostatic bearing, one has a generating means for generating a suction force for sucking the other,
The said generation | occurrence | production means reduces the change of the floating amount of the said hydrostatic bearing which arises with the change of the said opening area by changing the said attraction | suction force. Stage device. 前記気体を前記静圧軸受に供給する気体供給部を有し、
前記可動体の移動状態に応じて前記気体供給部から前記静圧軸受に供給される気体の圧力を変える圧力変更手段を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のステージ装置。 A gas supply unit for supplying the gas to the hydrostatic bearing;
6. The pressure change unit according to claim 1, further comprising a pressure changing unit that changes a pressure of gas supplied from the gas supply unit to the hydrostatic bearing in accordance with a moving state of the movable body. Stage device. 前記複数の開口は、前記静圧軸受の前記案内面との対向面において、前記可動体の移動方向に関して線対称で配置されていることを特徴とする請求項３に記載のステージ装置。   The stage device according to claim 3, wherein the plurality of openings are arranged in line symmetry with respect to a moving direction of the movable body on a surface of the hydrostatic bearing facing the guide surface. 請求項１乃至７のいずれか１項に記載のステージ装置と、
前記可動体に載置された基板上に原版を用いてパターンを形成することを特徴とするリソグラフィ装置。 A stage apparatus according to any one of claims 1 to 7,
A lithographic apparatus, wherein a pattern is formed on a substrate placed on the movable body using an original. 前記基板に設けられたマークからの光を検出する検出系を有し、
前記可動体が前記検出系の検出範囲に前記マークが入る所定位置に移動したあと、前記検出系による前記マークからの光の検出が完了するまでの間に、前記変更手段は前記開口面積を第１面積から該第１面積よりも大きな第２面積に変えることを特徴とする請求項８に記載のリソグラフィ装置。 A detection system for detecting light from a mark provided on the substrate;
After the movable body moves to a predetermined position where the mark enters the detection range of the detection system and before the detection of the light from the mark by the detection system is completed, the changing means changes the opening area. 9. A lithographic apparatus according to claim 8, wherein the lithographic apparatus changes from one area to a second area larger than the first area. 前記静圧軸受は前記可動体を水平方向に非接触で支持する手段であり、
前記検出系の検出結果に基づいて前記基板の前記水平方向の位置情報を求めることを特徴とする請求項９に記載のリソグラフィ装置。 The hydrostatic bearing is means for supporting the movable body in a horizontal direction without contact,
The lithographic apparatus according to claim 9, wherein position information of the horizontal direction of the substrate is obtained based on a detection result of the detection system. 前記リソグラフィ装置は、型を用いて前記基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記所定位置は前記可動体が前記型と対向する位置であることを特徴とする請求項９又は１０に記載のリソグラフィ装置。 The lithographic apparatus is an imprint apparatus that forms a pattern of an imprint material on the substrate using a mold,
The lithographic apparatus according to claim 9, wherein the predetermined position is a position where the movable body faces the mold. 前記変更手段は、前記基板上の第１領域に前記インプリント材のパターンを形成した後、かつ前記第１領域とは異なる第２領域へのインプリント処理のために再び前記可動体が移動し始める前までに、前記開口面積を前記第２面積から前記第２面積よりも小さな面積に変えることを特徴とする請求項１１に記載のリソグラフィ装置。   The changing means moves the movable body again after forming the imprint material pattern in the first area on the substrate and for imprinting the second area different from the first area. The lithographic apparatus according to claim 11, wherein the opening area is changed from the second area to an area smaller than the second area before starting. 原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持して、案内面に沿って移動可能な可動体と、
前記案内面と対向する開口部から前記案内面に向けて気体を流出させることにより前記可動体を前記案内面に対して非接触で支持する静圧軸受と、
前記可動体の移動状態に応じて前記開口部の開口面積を変える変更手段と、
前記基板に設けられたマークからの光を検出する検出系と、を有し、
前記可動体が前記検出系の検出範囲に前記マークが入る所定位置に移動したあと、前記検出系による前記マークからの光の検出が完了するまでの間に、前記変更手段は前記開口面積を第１面積から該第１面積よりも大きな第２面積に変え、
前記基板上の第１領域に前記パターンを形成した後、かつ前記第１領域とは異なる第２領域へのパターン形成のために前記可動体が再び移動し始める前までに、前記開口面積を前記第２面積から前記第２面積よりも小さな面積に変えることを特徴とするリソグラフィ装置。 A lithographic apparatus for forming a pattern on a substrate using an original plate,
A movable body holding the substrate and movable along the guide surface;
A hydrostatic bearing that supports the movable body in a non-contact manner with respect to the guide surface by allowing gas to flow out from the opening facing the guide surface toward the guide surface;
Changing means for changing the opening area of the opening according to the moving state of the movable body,
A detection system for detecting light from a mark provided on the substrate,
After the movable body moves to a predetermined position where the mark enters the detection range of the detection system and before the detection of the light from the mark by the detection system is completed, the changing means changes the opening area. Changing from one area to a second area larger than the first area,
After the pattern is formed in the first region on the substrate and before the movable body starts moving again for pattern formation in a second region different from the first region, the opening area is A lithographic apparatus, wherein the second area is changed to an area smaller than the second area. 型を用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記基板を保持して、案内面に沿って移動可能な可動体と、
前記案内面と対向する開口部から前記案内面に向けて気体を流出させることにより前記可動体を前記案内面に対して非接触で支持する静圧軸受と、
前記可動体の移動状態に応じて前記開口部の開口面積を変える変更手段と、
前記基板に設けられたマークからの光を検出する検出系と、を有し、
前記可動体が前記検出系の検出範囲に前記マークが入る所定位置に移動したあと、前記基板の面内方向における前記型と前記基板との位置合わせが完了するまでの間に、前記変更手段は前記開口面積を第１面積から該第１面積よりも大きな第２面積に変え、
前記基板上の第１領域に前記パターンを形成した後、かつ前記第１領域とは異なる第２領域へのパターン形成のために前記可動体が再び移動し始める前までに、前記開口面積を前記第２面積から前記第２面積よりも小さな面積に変えることを特徴とするインプリント装置。 An imprint apparatus that forms a pattern of an imprint material on a substrate using a mold,
A movable body holding the substrate and movable along the guide surface;
A hydrostatic bearing that supports the movable body in a non-contact manner with respect to the guide surface by allowing gas to flow out from the opening facing the guide surface toward the guide surface;
Changing means for changing the opening area of the opening according to the moving state of the movable body,
A detection system for detecting light from a mark provided on the substrate,
After the movable body has moved to a predetermined position where the mark enters the detection range of the detection system, the changing means is until the alignment between the mold and the substrate in the in-plane direction of the substrate is completed. Changing the opening area from the first area to a second area larger than the first area;
After the pattern is formed in the first region on the substrate and before the movable body starts moving again for pattern formation in a second region different from the first region, the opening area is An imprint apparatus that changes from a second area to an area smaller than the second area. 請求項８乃至１３のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置を用いて前記基板上にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンの形成された前記基板を処理する処理工程と、を有し、
前記処理した基板の少なくとも一部を含む物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。 Forming a pattern on the substrate using the lithographic apparatus according to any one of claims 8 to 13,
Processing the substrate on which the pattern is formed in the step, and
A method for producing an article, comprising producing an article including at least a part of the treated substrate. 請求項１４に記載のインプリント装置を用いて前記基板上にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンの形成された前記基板を処理する処理工程と、を有し、
前記処理した基板の少なくとも一部を含む物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。 Forming a pattern on the substrate using the imprint apparatus according to claim 14;
Processing the substrate on which the pattern is formed in the step, and
A method for producing an article, comprising producing an article including at least a part of the treated substrate.
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