JP2018181403A - Inspection apparatus and irradiation apparatus - Google Patents

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當間　康
Yasushi Taima
康 當間
狩俣　努
Tsutomu Karimata
努 狩俣
圭亮 松島
Keisuke Matsushima
圭亮 松島
孝志 小原
Takashi Obara
小原　　孝志
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To extend the life of a photoelectric surface while suppressing the lowering of the quantum efficiency of the photoelectric surface.SOLUTION: An inspection apparatus includes: a photoelectric part having a photoelectric surface for emitting electrons by receiving light; a motion mechanism part for moving the photoelectric part on the plane along the photoelectric surface; and a control part for controlling the motion mechanism part. An optical axis of the light is deviated from the center of the photoelectric surface, and the control part controls the movement mechanism part so that the irradiation position moving speed on the photoelectric surface of the light becomes equal to or lower than the specified speed.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、検査装置及び照射装置に関する。   The present invention relates to an inspection apparatus and an irradiation apparatus.

従来、試料の表面に形成されたパターンの欠陥等を検査する検査装置が開発されてきた（特許文献１参照）。例えば、検査装置試料の表面の性状に応じて変化する二次荷電粒子を捕捉して画像データを形成し、その画像データに基づいて検査対象の表面に形成されたパターン等を高いスループットで検査する。ここで試料とは、露光用マスク、ＥＵＶマスク、ナノインプリント用マスク（及びテンプレート）、半導体ウエハ、光学素子用基板、光回路用基板等である。これらは、パターンを有するものとパターンがないものとがある。パターンが有るものは、凹凸のあるものとないものとが有る。凹凸のないパターンは、異なった材料によるパターン形成がなされている。パターンがないものには、酸化膜がコーティングされているものと、酸化膜がコーティングされていないものとが有る。   Conventionally, an inspection apparatus for inspecting a defect or the like of a pattern formed on the surface of a sample has been developed (see Patent Document 1). For example, secondary charged particles that change according to the surface property of the inspection device sample are captured to form image data, and a pattern or the like formed on the surface of the inspection object is inspected with high throughput based on the image data. . Here, the sample refers to an exposure mask, an EUV mask, a nanoimprint mask (and a template), a semiconductor wafer, an optical element substrate, an optical circuit substrate, and the like. These include those having a pattern and those having no pattern. Those with patterns have those with unevenness and those with no unevenness. The uneven pattern is patterned with different materials. Those without a pattern include those coated with an oxide film and those not coated with an oxide film.

従来から、半導体製造の分野では、電子ビームを照射して試料の表面処理を行う照射装置が用いられている（特許文献２参照）。例えば、電子ビームを用いて半導体チップのパターンを露光する電子ビーム露光装置が用いられている。これらの検査装置及び照射装置では、光を受けて電子を放出する光電面が設けられている。   2. Description of the Related Art Conventionally, in the field of semiconductor manufacturing, an irradiation apparatus for irradiating an electron beam to perform surface treatment of a sample has been used (see Patent Document 2). For example, an electron beam exposure apparatus is used which exposes a pattern of a semiconductor chip using an electron beam. These inspection devices and irradiation devices are provided with a photoelectric surface which receives light and emits electrons.

特開２０１６−１２７０２３号公報JP, 2016-127023, A 特開２０１６−２７６０４号公報JP, 2016-27604, A

光電面の一箇所に光を照射し続けた場合、光電面の寿命（すなわちある一定電流以上の電流が得られる期間）が短いという問題がある。これに対し、光電面の寿命を延ばすために、光電面に照射する光の照射位置を移動させることが考えられる。その場合、その移動速度に関して好ましくない速度領域が存在する。その理由は、光電面上の光の照射部以外の領域に、カーボンコンタミネーション等の異物が付着し、この付着した異物の影響で光電面の量子効率が低下するからである。ここで光電面の量子効率は、光の照射パワーに対する電子ビームの放射電流の割合である。   When light is continuously irradiated to one place of the photoelectric surface, there is a problem that the lifetime of the photoelectric surface (that is, a period in which a current of a certain current or more can be obtained) is short. On the other hand, in order to extend the life of the photoelectric surface, it is conceivable to move the irradiation position of the light irradiated to the photoelectric surface. In that case, there is an unfavorable velocity range with respect to the movement velocity. The reason is that foreign matter such as carbon contamination adheres to the area other than the light irradiation area on the photosurface, and the quantum efficiency of the photosurface decreases due to the influence of the attached foreign matter. Here, the quantum efficiency of the photosurface is a ratio of the emission current of the electron beam to the irradiation power of light.

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、光電面の量子効率の低下を抑制しつつ光電面の寿命を延ばすことを可能とする検査装置及び照射装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide an inspection apparatus and an irradiation apparatus capable of extending the life of a photocathode while suppressing a decrease in quantum efficiency of the photocathode. .

第１の態様に係る検査装置は、光を受けて電子を放出する光電面を有する光電部と、前記光電面に沿った平面上で前記光電部を運動させる運動機構部と、前記運動機構部を制御する制御部と、を備え、前記光の光軸は前記光電面の中心から外れており、前記制御部は、前記光の前記光電面における照射位置移動速度が規定速度以下になるよう前記運動機構部を制御する。   The inspection apparatus according to the first aspect includes a photoelectric unit having a photoelectric surface which receives light and emits electrons, a motion mechanism unit for moving the photoelectric unit on a plane along the photoelectric surface, and the motion mechanism unit A control unit for controlling the light source, the optical axis of the light is out of the center of the photoelectric surface, and the control unit controls the irradiation position moving speed of the light on the Control the movement mechanism part.

この構成により、光電面における光の照射位置をゆっくり移動させることができるので、カーボンコンタミネーション等の異物を除去することができる。また、光電面における光の照射位置を変更することによって、光電面の寿命を延ばすことができる。このため、光電面の量子効率の低下を抑制しつつ光電面の寿命を延ばすことができる。   With this configuration, the irradiation position of light on the photoelectric surface can be moved slowly, so that foreign substances such as carbon contamination can be removed. Further, the life of the photocathode can be extended by changing the light irradiation position on the photocathode. Therefore, the lifetime of the photocathode can be extended while suppressing the decrease in the quantum efficiency of the photocathode.

第２の態様に係る検査装置は、第１の態様に係る検査装置であって、前記規定速度は、前記光電面における照射対象領域全体を前記光が移動するのにかかる時間が規定時間となる速度であり、前記制御部は、前記光電面における照射対象領域全体を前記光が移動するのにかかる時間が規定時間以上になるよう前記運動機構部を制御する。   The inspection apparatus according to the second aspect is the inspection apparatus according to the first aspect, wherein the prescribed speed is the time taken for the light to move through the entire irradiation target area on the photoelectric surface. The control unit controls the motion mechanism unit such that the time taken for the light to move in the entire photo-sensitive surface in the photoelectric surface is equal to or longer than a specified time.

この構成により、光電面における光の照射位置をゆっくり移動させることができる。   According to this configuration, the light irradiation position on the photoelectric surface can be moved slowly.

第３の態様に係る検査装置は、光を受けて電子を放出する光電面を有する光電部と、前記光電面に沿った平面上で前記光電部を回転させる運動機構部と、前記運動機構部を制御する制御部と、を備え、前記光の光軸は前記光電面の中心から外れており、前記制御部は、前記光電面における特定の場所を一度光で照射してから再度当該特定の場所を照射するまでの時間を設定時間以内にするよう前記運動機構部を制御する。   The inspection apparatus according to the third aspect includes a photoelectric unit having a photoelectric surface which receives light and emits electrons, a motion mechanism unit that rotates the photoelectric unit on a plane along the photoelectric surface, and the motion mechanism unit A control unit for controlling the light source, the optical axis of the light being deviated from the center of the photoelectric surface, and the control unit irradiates a specific place on the The motion mechanism unit is controlled so as to set the time for irradiating the place within a set time.

この構成により、一度照射した特定の場所から光照射位置が移動した後に、この特定の場所に異物が付着する前に再度この特定の場所に光を照射することにより、光電面の量子効率の低下を抑制することができる。   According to this configuration, after the light irradiation position moves from the specific place once irradiated, light efficiency is applied to the specific place before the foreign matter adheres to the specific place, thereby reducing the quantum efficiency of the photocathode. Can be suppressed.

第４の態様に係る検査装置は、第３の態様に係る検査装置であって、前記設定時間は、１秒である。   The inspection apparatus according to the fourth aspect is the inspection apparatus according to the third aspect, wherein the set time is 1 second.

この構成により、１秒以内に再度同じ場所を照射することができ、光電面の量子効率の低下を抑制することができる。   According to this configuration, the same place can be irradiated again within one second, and the reduction of the quantum efficiency of the photocathode can be suppressed.

第５の態様に係る検査装置は、第１から４のいずれかの態様に係る検査装置であって、前記制御部は、試料を検査する前に、前記光電面に前記光を照射するよう前記運動機構部を制御する。   The inspection apparatus according to the fifth aspect is the inspection apparatus according to any one of the first to fourth aspects, wherein the control unit is configured to irradiate the light to the photoelectric surface before inspecting a sample. Control the movement mechanism part.

この構成により、予め光電面の量子効率を高めることができる。   With this configuration, the quantum efficiency of the photocathode can be increased in advance.

第６の態様に係る検査装置は、第５の態様に係る検査装置であって、前記試料を検査する際に前記光電面に照射する光は、第１のパワー密度であり、前記試料を検査する前に前記光電面に照射する光は、前記第１のパワー密度より高い第２のパワー密度である。   The inspection apparatus according to the sixth aspect is the inspection apparatus according to the fifth aspect, wherein the light irradiated to the photoelectric surface when inspecting the sample has a first power density, and the inspection of the sample is performed. The light irradiated to the photoelectric surface before the light emission is a second power density higher than the first power density.

この構成により、予め光電面の量子効率を高めるときに、短時間で量子効率を高めることができる。   With this configuration, when the quantum efficiency of the photocathode is increased in advance, the quantum efficiency can be increased in a short time.

第７の態様に係る検査装置は、第１から６のいずれかの態様に係る検査装置であって、前記光電面から放出された電子が通過する経路の周りに配置された電極を更に備え、前記光電面に比べて前記電極の電位が高い。   An inspection apparatus according to a seventh aspect is the inspection apparatus according to any one of the first to sixth aspects, further comprising an electrode disposed around a path through which electrons emitted from the photoelectric surface pass. The potential of the electrode is higher than that of the photoelectric surface.

この構成により、光電面から放射された電子を引き出すことができる。   This configuration can extract electrons emitted from the photocathode.

第８の態様に係る検査装置は、第７の態様に係る検査装置であって、前記光電面を基準とする前記電極の電位は、１００〜１０００Ｖである。   An inspection device according to an eighth aspect is the inspection device according to the seventh aspect, wherein the potential of the electrode based on the photoelectric surface is 100 to 1000V.

この構成により、光電面の活性化効率が高くなるので、光電面の量子効率のピーク値を高くすることができる。   With this configuration, the activation efficiency of the photocathode can be increased, so that the peak value of the quantum efficiency of the photocathode can be increased.

第９の態様に係る検査装置は、第１から８のいずれかの態様に係る検査装置であって、 前記光電部は、前記光電面を支持する支持体を有し、前記運動機構部は、前記支持体を回転させることによって前記光電面を回転させる。   An inspection apparatus according to a ninth aspect is the inspection apparatus according to any one of the first to the eighth aspects, wherein the photoelectric unit has a support for supporting the photoelectric surface, and the motion mechanism unit is The photoelectric surface is rotated by rotating the support.

この構成により、光電面を回転させることができ、光の照射位置を移動させることができるので、光電面の寿命を延ばすことができる。   With this configuration, the photoelectric surface can be rotated and the light irradiation position can be moved, so that the lifetime of the photoelectric surface can be extended.

第１０の態様に係る検査装置は、第９の態様に係る検査装置であって、前記支持体にはネジが切られており、前記運動機構部は、モータと、当該モータの回転軸に連結され且つ前記支持体の前記ネジに噛み合う歯車とを有し、前記モータが回転することによって前記歯車が回転し、当該歯車の回転に伴い前記支持体が回転することによって前記光電面が回転する。   An inspection apparatus according to a tenth aspect is the inspection apparatus according to the ninth aspect, wherein the support is threaded, and the motion mechanism unit is connected to a motor and a rotation shaft of the motor And the gear engaged with the screw of the support, and the rotation of the motor causes the gear to rotate, and the rotation of the gear causes the support to rotate so that the photoelectric surface is rotated.

この構成により、光電面を回転させることができ、光の照射位置を移動させることができるので、光電面の寿命を延ばすことができる。   With this configuration, the photoelectric surface can be rotated and the light irradiation position can be moved, so that the lifetime of the photoelectric surface can be extended.

第１１の態様に係る検査装置は、第１から１０のいずれかの態様に係る検査装置であって、真空に引くことが可能で側面に第１の穴と第２の穴が設けられたケーシングと、移動対象物と、前記移動対象物が固定された固定台と、一端部が前記固定台の一端部に連結され且つ他端部が前記ケーシングの前記第１の穴の近傍に接続されて内部が大気に開放されており且つ伸縮性を有する第１の伸縮体と、一端部が前記固定台の他端部に連結され且つ他端部が前記ケーシングの前記第２の穴の近傍に接続されて内部が大気に開放されており且つ伸縮性を有する第２の伸縮体と、を更に備え、前記運動機構部は、前記固定台を前記ケーシングの長軸方向と略垂直な面において移動させる。   An inspection device according to an eleventh aspect is the inspection device according to any one of the first to tenth aspects, wherein a casing is provided with a first hole and a second hole which can be drawn in vacuum and which are provided on the side. An object to be moved, a fixed base to which the object to be moved is fixed, and one end connected to one end of the fixed base and the other end connected to the vicinity of the first hole of the casing A first stretchable body having an interior open to the atmosphere and having elasticity, and one end connected to the other end of the fixed base and the other end connected to the vicinity of the second hole of the casing And the second expansion / contraction body which is internally open to the atmosphere and has elasticity, and the movement mechanism portion moves the fixing base in a plane substantially perpendicular to the long axis direction of the casing. .

この構成により、固定台をケーシングの長軸方向と略垂直な面において移動させることにより、固定台に固定された光電部をコラム４１の長軸方向と略垂直な面において移動させることができる。また第１の伸縮体、第２の伸縮体それぞれにかかる差圧が釣り合うことにより、運動機構部にかかる力がキャンセルされる。このため、運動機構部を支持する頑丈な構造体を設置する必要がなくなりコストを低減するとともに、構造体のメンテナンスからも開放される。   With this configuration, by moving the fixing base in a plane substantially perpendicular to the long axis direction of the casing, the photoelectric unit fixed to the fixing base can be moved in a plane substantially perpendicular to the long axis direction of the column 41. In addition, when the differential pressure applied to each of the first expandable body and the second expandable body is balanced, the force applied to the exercise mechanism portion is canceled. As a result, it is not necessary to install a robust structure for supporting the movement mechanism, which reduces the cost and is free from maintenance of the structure.

第１２の態様に係る検査装置は、第１１の態様に係る検査装置であって、前記第１の穴と前記第２の穴を通るように配置され、前記固定台に連結しており且つ内部が中空であり、両方の端部が大気に開放されている中空軸を更に備え、前記運動機構部は、前記中空軸を前記ケーシングの長軸方向と略垂直な面において移動させる。   An inspection apparatus according to a twelfth aspect is the inspection apparatus according to the eleventh aspect, wherein the inspection apparatus is disposed so as to pass through the first hole and the second hole, and is connected to the fixing base and is internal Is hollow and both ends are open to the atmosphere, and the motion mechanism moves the hollow shaft in a plane substantially perpendicular to the longitudinal direction of the casing.

この構成により、ケーシングの中を、内部に空気が充満している中空軸が貫通していることにより、ケーシングを真空にしても中空軸の内部は大気のままであるので中空軸の長軸方向に圧力が発生しない。このため、運動機構部に大きな力がかからないようすることができる。このため、運動機構部の故障リスクを低減することができる。また、運動機構部を支持する頑丈な構造体を設置する必要がなくなりコストを低減するとともに、構造体のメンテナンスからも開放される。   With this configuration, the hollow shaft filled with air penetrates through the inside of the casing, and even if the casing is evacuated, the inside of the hollow shaft remains in the atmosphere, so the long axis direction of the hollow shaft Pressure does not occur. For this reason, it is possible to prevent a large force from being applied to the motion mechanism. For this reason, the failure risk of the exercise mechanism part can be reduced. In addition, it is not necessary to install a robust structure for supporting the movement mechanism, which reduces the cost and is free from maintenance of the structure.

第１３の態様に係る検査装置は、第１２の態様に係る検査装置であって、前記運動機構部は、前記中空軸の長軸方向と略垂直な方向に配置された第１のラックと、前記中空軸の長軸方向と略垂直な方向に前記第１のラックを移動させる駆動部と、前記第１のラックに噛み合う第１のギヤと、前記第１のギヤに噛み合い且つ前記中空軸の長軸方向と略垂直な方向に配置された第２のラックと、を有し、前記中空軸の内部に配置されており且つ一端部に前記第１のギヤが固定されている連結軸を備えており、前記第１のラックが直線運動し、それに伴って前記第１のギヤが回転することにより前記第１のギヤが前記第２のラックに沿って移動し、それに伴って前記連結軸が前記中空軸の長軸方向と略垂直な方向に移動する。   An inspection device according to a thirteenth aspect is the inspection device according to the twelfth aspect, wherein the motion mechanism portion is a first rack disposed in a direction substantially perpendicular to the long axis direction of the hollow shaft; A driving unit for moving the first rack in a direction substantially perpendicular to the long axis direction of the hollow shaft, a first gear meshing with the first rack, meshing with the first gear, and the hollow shaft And a second rack disposed in a direction substantially perpendicular to the long axis direction, the connection shaft being disposed inside the hollow shaft and having the first gear fixed at one end thereof. The first gear moves along the second rack by the linear movement of the first rack and the rotation of the first gear along with the linear movement, and the connection shaft It moves in a direction substantially perpendicular to the longitudinal direction of the hollow shaft.

この構成により、連結軸が中空軸の長軸方向と略垂直な方向に移動することで、中空軸が連結軸に引っ張られて同じ方向に移動し、それに付随して中空軸に連結された固定台も同じ方向に移動するので、固定台に固定された移動対象物を当該同じ方向に移動させることができる。   According to this configuration, when the connecting shaft moves in a direction substantially perpendicular to the long axis direction of the hollow shaft, the hollow shaft is pulled by the connecting shaft and moves in the same direction, and fixedly connected to the hollow shaft. Since the platform also moves in the same direction, the moving object fixed to the fixed platform can be moved in the same direction.

第１４の態様に係る検査装置は、第１３の態様に係る検査装置であって、前記運動機構部は、前記連結軸に連結されており且つ前記連結軸とともに連れ回る第２のギヤと、前記第２のギヤに噛み合い且つ前記中空軸の長軸方向と略垂直な方向に配置された第３のラックと、を更に備え、前記第１のギヤと前記第２のギヤのピッチは略同じであり、前記第２のラックと前記第３のラックのピッチは略同じであり、前記連結軸が前記第２のラックだけでなく前記第３のラックに沿っても移動する。   An inspection device according to a fourteenth aspect is the inspection device according to the thirteenth aspect, wherein the motion mechanism unit is connected to the connecting shaft and a second gear that rotates with the connecting shaft; And a third rack meshing with the second gear and disposed in a direction substantially perpendicular to the long axis direction of the hollow shaft, the pitch of the first gear and the pitch of the second gear being substantially the same. The pitches of the second rack and the third rack are substantially the same, and the connecting shaft moves not only along the second rack but also along the third rack.

この構成により、連結軸が回転することによって、第１のギヤと第２のギヤが同じだけ回転して、同じだけ中空軸の長軸方向と略垂直な方向に動くので、動きの精度を向上させることができる。   With this configuration, by rotating the connecting shaft, the first gear and the second gear rotate by the same amount and move in the direction substantially perpendicular to the long axis direction of the hollow shaft by the same amount, thus improving the movement accuracy It can be done.

第１５の態様に係る検査装置は、第１４の態様に係る検査装置であって、前記第２のギヤは前記連結軸の他端部に連結されており、前記第３のラックは前記ケーシングの外側に配置されている。   An inspection device according to a fifteenth aspect is the inspection device according to the fourteenth aspect, wherein the second gear is connected to the other end of the connecting shaft, and the third rack is the one of the casing. It is located outside.

この構成により、連結軸の両端部が同じだけ中空軸の長軸方向と略垂直な方向に動くので、動きの精度を向上させることができる。   With this configuration, both ends of the connecting shaft move in the direction substantially perpendicular to the long axis direction of the hollow shaft by the same amount, so that the movement accuracy can be improved.

第１６の態様に係る検査装置は、第１４の態様に係る検査装置であって、前記ケーシングの側面に更に第３の穴と第４の穴が設けられており、一端部が前記固定台の一側面に連結され且つ他端部が前記ケーシングの前記第３の穴の近傍に接続されて内部が大気に開放されており且つ伸縮性を有する第３の伸縮体と、一端部が前記固定台に他側面に連結され且つ他端部が前記ケーシングの前記第４の穴の近傍に接続されて内部が大気に開放されており且つ伸縮性を有する第４の伸縮体と、前記第３の穴と前記第４の穴を通り且つ前記中空軸とは異なる角度に配置されており、前記第３の穴と前記第４の穴を通るように配置され、前記固定台に連結しており且つ内部が中空であり、両方の端部が大気に開放されている第２の中空軸と、を備え、前記第３のラックは、前記第２の中空軸の内部を通っており、前記第２のギヤが、前記第２の中空軸の内部に配置されている。   An inspection apparatus according to a sixteenth aspect is the inspection apparatus according to the fourteenth aspect, wherein a third hole and a fourth hole are further provided on the side surface of the casing, and one end portion of the inspection table A third stretchable body which is connected to one side and whose other end is connected to the vicinity of the third hole of the casing and the inside is open to the atmosphere and has elasticity, and one end is the fixing base A fourth stretchable body which is connected to the other side and whose other end is connected to the vicinity of the fourth hole of the casing so that the inside is open to the atmosphere and has elasticity, and the third hole And through the fourth hole and at an angle different from the hollow shaft, are disposed through the third hole and the fourth hole, are connected to the fixed base, and are internal And a second hollow shaft, both ends of which are open to the atmosphere; The third rack is through the interior of said second hollow shaft, said second gear is disposed inside the second hollow shaft.

この構成により、第２のギヤが第２の中空軸の内部においてラックに噛み合いながら回転する。それに伴って連結軸が回転しながら第３のラックの長軸方向に移動し、それに連られて中空軸も第３のラックの長軸方向に移動する。その結果、中空軸に連結している固定台とともに、固定台に固定された光電部が第３のラックの長軸方向に移動する。   According to this configuration, the second gear rotates while meshing with the rack inside the second hollow shaft. Accordingly, the connecting shaft rotates and moves in the longitudinal direction of the third rack, and the hollow shaft also moves in the longitudinal direction of the third rack. As a result, together with the fixed base connected to the hollow shaft, the photoelectric unit fixed to the fixed base moves in the long axis direction of the third rack.

第１７の態様に係る検査装置は、第１２から第１６のいずれかの態様に係る検査装置であって、前記中空軸の内部に形成された中空を前記連結軸が通っており、前記駆動部は、前記中空軸の長軸方向に前記中空軸を移動させる。   An inspection apparatus according to a seventeenth aspect is the inspection apparatus according to any one of the twelfth to sixteenth aspects, wherein the connecting shaft passes through the hollow formed inside the hollow shaft, and the drive unit Moves the hollow shaft in the longitudinal direction of the hollow shaft.

この構成により、中空軸が中空軸の長軸方向に移動することで、中空軸が連結された固定台が付随して同じ方向に移動するので、固定台に固定された移動対象物を当該同じ方向に移動させることができる。   According to this configuration, when the hollow shaft moves in the long axis direction of the hollow shaft, the fixed base connected to the hollow shaft is additionally moved in the same direction, so the moving object fixed to the fixed base is the same. It can be moved in the direction.

第１８の態様に係る検査装置は、第１２から第１７のいずれかの態様に係る検査装置であって、前記ケーシングの前記第２の穴の内部に配置され且つ前記第２の伸縮体の他端部に接続され且つ円環状で内部の空間に前記中空軸が通っている円環部材と、前記円環部材と対向する対向面に円周状の段差が設けられており当該段差によって当該対向面が外縁側の第１の領域と内側の第２の領域に区分けされており、且つ当該第１の領域に略円環状の第１の溝が設けられており且つ内部の空間に前記中空軸が通っているフランジと、前記第１の溝に嵌め込まれている第１のシール部材と、を備え、前記第１のシール部材と前記ケーシングの外面が面するように、前記フランジが前記ケーシングに固定されている。   An inspection apparatus according to an eighteenth aspect is the inspection apparatus according to any one of the twelfth through seventeenth aspects, wherein the inspection apparatus according to the eighteenth aspect is disposed inside the second hole of the casing and is other than the second stretchable body A circumferential step is provided on an annular member connected to the end portion and having an annular space in which the hollow shaft passes, and an opposing surface facing the annular member, and the opposing step is caused by the step. The surface is divided into a first area on the outer edge side and a second area on the inner side, and a substantially annular first groove is provided in the first area, and the hollow shaft is provided in the internal space. And a first seal member fitted in the first groove, the flange facing the casing such that the first seal member and the outer surface of the casing face each other. It is fixed.

この構成により、第１のシール部材はケーシングの外周面とフランジの対向面とが面する領域をシールすることができるので、フランジの外周側からケーシングの内側への空気の流入を遮断することができる。   With this configuration, the first seal member can seal the area where the outer peripheral surface of the casing and the opposing surface of the flange face each other, thereby blocking the flow of air from the outer peripheral side of the flange to the inside of the casing. it can.

第１９の態様に係る検査装置は、第１８の態様に係る検査装置であって、前記フランジには、当該表面の前記第２の領域に略円環状の第２の溝が設けられており、前記第２の溝に嵌め込まれている第２のシール部材を更に備え、前記第２のシール部材が前記円環部材の端面に面するように、前記フランジが前記ケーシングに固定されている。   An inspection device according to a nineteenth aspect is the inspection device according to the eighteenth aspect, wherein the flange is provided with a substantially annular second groove in the second region of the surface, The apparatus further comprises a second seal member fitted in the second groove, and the flange is fixed to the casing such that the second seal member faces the end face of the annular member.

この構成により、第２のシール部材は、フランジの表面と円環部材の端面との間の領域をシールすることができるので、フランジの空洞側からケーシングの内側への空気の流入を遮断することができる。   With this configuration, the second seal member can seal the region between the surface of the flange and the end face of the annular member, thereby blocking the flow of air from the cavity side of the flange to the inside of the casing. Can.

第２０の態様に係る検査装置は、第１１から１９のいずれかの態様に係る検査装置であって、前記運動機構部を制御する制御部を更に備える。   The inspection apparatus according to a twentieth aspect is the inspection apparatus according to any one of the eleventh to nineteenth aspects, further comprising a control unit that controls the motion mechanism unit.

この構成により、制御部が運動機構部を制御するので、自動で移動対象物をケーシングの長軸方向と略垂直な面において移動させることができる。   According to this configuration, the control unit controls the motion mechanism, so that the moving object can be automatically moved in a plane substantially perpendicular to the long axis direction of the casing.

第２１の態様に係る照射装置は、光を受けて電子を放出する光電面を有する光電部と、前記光電面に沿った平面上で前記光電部を回転させる運動機構部と、前記運動機構部を制御する制御部と、を備え、前記ＵＶ光の光軸は前記光電面の中心から外れており、前記制御部は、前記光電面を活性化させるために、前記光の前記光電面における照射位置移動速度が規定速度以下になるよう前記運動機構部を制御する。   An irradiation apparatus according to a twenty-first aspect includes: a photoelectric unit having a photoelectric surface that receives light and emits electrons; a motion mechanism unit that rotates the photoelectric unit on a plane along the photoelectric surface; and the motion mechanism unit A control unit for controlling the light source, the optical axis of the UV light is deviated from the center of the photosurface, and the control unit is configured to irradiate the photosurface with the light to activate the photosurface. The motion mechanism unit is controlled so that the position moving speed becomes equal to or less than a specified speed.

この構成により、光電面における光の照射位置をゆっくり移動させることができるので、カーボンコンタミネーション等の異物を除去することができる。また、光電面における光の照射位置を変更することによって、光電面の寿命を延ばすことができる。このため、光電面の量子効率の低下を抑制しつつ光電面の寿命を延ばすことができる。   With this configuration, the irradiation position of light on the photoelectric surface can be moved slowly, so that foreign substances such as carbon contamination can be removed. Further, the life of the photocathode can be extended by changing the light irradiation position on the photocathode. Therefore, the lifetime of the photocathode can be extended while suppressing the decrease in the quantum efficiency of the photocathode.

第２２の態様に係る照射装置は、光を受けて電子を放出する光電面を有する光電部と、前記光電面に沿った平面上で前記光電部を回転させる運動機構部と、前記運動機構部を制御する制御部と、を備え、前記光の光軸は前記光電面の中心から外れており、前記制御部は、前記光電面を活性化させるために、前記光電面における特定の点を一度光で照射してから再度当該特定の点を照射するまでの時間を規定時間以内にするよう前記運動機構部を制御する。   An irradiation apparatus according to a twenty-second aspect includes: a photoelectric unit having a photoelectric surface that receives light and emits electrons; a motion mechanism unit that rotates the photoelectric unit on a plane along the photoelectric surface; and the motion mechanism unit A control unit for controlling the light source, the optical axis of the light is out of the center of the photoelectric surface, and the control unit once activates a specific surface on the photoelectric surface to activate the photoelectric surface. The motion mechanism section is controlled so that the time from the irradiation with light to the irradiation of the specific point again falls within a specified time.

この構成により、一度照射した特定の場所から光照射位置が移動した後に、この特定の場所に異物が付着する前に再度この特定の場所に光を照射することにより、光電面の量子効率の低下を抑制することができる。   According to this configuration, after the light irradiation position moves from the specific place once irradiated, light efficiency is applied to the specific place before the foreign matter adheres to the specific place, thereby reducing the quantum efficiency of the photocathode. Can be suppressed.

本発明の一態様によれば、光電面における光の照射位置をゆっくり移動させることができるので、カーボンコンタミネーション等の異物を除去することができる。また、光電面における光の照射位置を変更することによって、光電面の寿命を延ばすことができる。このため、光電面の量子効率の低下を抑制しつつ光電面の寿命を延ばすことができる。
また本発明の他の態様によれば、一度照射した特定の場所から光照射位置が移動した後に、この特定の場所に異物が付着する前に再度この特定の場所に光を照射することにより、光電面の量子効率の低下を抑制することができる。 According to one aspect of the present invention, since the irradiation position of light on the photoelectric surface can be moved slowly, foreign matter such as carbon contamination can be removed. Further, the life of the photocathode can be extended by changing the light irradiation position on the photocathode. Therefore, the lifetime of the photocathode can be extended while suppressing the decrease in the quantum efficiency of the photocathode.
Further, according to another aspect of the present invention, after the light irradiation position has moved from a specific location once irradiated, light is again applied to this specific location before foreign matter adheres to this specific location, The reduction of the quantum efficiency of the photocathode can be suppressed.

第１の実施形態に係る検査装置１００の一次光学系を示す説明図である。It is an explanatory view showing the primary optical system of inspection device 100 concerning a 1st embodiment. 第１の実施形態に係る検査装置１００の一次光学系の一部の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of a part of primary optical system of test | inspection apparatus 100 which concerns on 1st Embodiment. 光電面２１における光の照射位置の軌跡の説明図である。FIG. 6 is an explanatory view of a locus of the irradiation position of light on the photoelectric surface 21. 図３の領域Ｒ１の拡大図である。It is an enlarged view of area | region R1 of FIG. 実施例１における照射領域全体の放出電流量と時間との概略関係を示すグラフである。5 is a graph showing a schematic relationship between the amount of emitted current and the time over the entire irradiation region in Example 1. FIG. 実施例１における光電面２１から放射される電子ビームの電流とレーザ光の移動軌跡に沿った位置との間の概略関係を示すグラフである。FIG. 7 is a graph showing a schematic relationship between the current of the electron beam emitted from the photoelectric surface 21 and the position along the movement trajectory of the laser light in Example 1. FIG. 実施例１における活性化効果と光電面２１を基準とする電極４の電位との概略関係を示すグラフである。5 is a graph showing a schematic relationship between the activation effect in Example 1 and the potential of the electrode 4 based on the photoelectric surface 21. FIG. 実施例２における照射領域全体の放出電流量と時間との概略関係を示すグラフである。15 is a graph showing a schematic relationship between the amount of emitted current and the time over the entire irradiation area in Example 2. FIG. 実施例２における光電面２１から放射される電子ビームの電流とレーザ光の移動軌跡に沿った位置との間の概略関係を示すグラフである。FIG. 16 is a graph showing a schematic relationship between the current of the electron beam emitted from the photoelectric surface 21 and the position along the movement trajectory of the laser light in Example 2. FIG. 第２の実施形態に係る照射装置２００の主要部の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the principal part of the irradiation apparatus 200 which concerns on 2nd Embodiment. 比較例に係る検査装置の概略模式断面図である。It is a schematic cross section of an inspection device concerning a comparative example. 第３の実施形態に係る検査装置の概略模式断面図である。It is a schematic model sectional view of the inspection device concerning a 3rd embodiment. 第３の実施形態に係る検査装置の変形例１の概略模式断面図である。It is a schematic model sectional view of modification 1 of the inspection device concerning a 3rd embodiment. 第３の実施形態に係る検査装置の変形例２の概略模式断面図である。It is a schematic model sectional view of modification 2 of the inspection device concerning a 3rd embodiment. 第３の実施形態に係る検査装置の変形例３の概略模式断面図である。It is a schematic schematic cross section of modification 3 of the inspection device concerning a 3rd embodiment. 第４の実施形態に係る検査装置の概略模式断面図である。It is a schematic model sectional view of the inspection device concerning a 4th embodiment. 第４の実施形態に係る運動機構部６８の概略斜視図である。It is a schematic perspective view of the movement mechanism part 68 which concerns on 4th Embodiment. 第４の実施形態に係る運動機構部６８の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the movement mechanism part 68 which concerns on 4th Embodiment. 第４の実施形態に係る運動機構部６８の主要部の透視斜視図である。It is a see-through | perspective perspective view of the principal part of the movement mechanism part 68 which concerns on 4th Embodiment. 中空軸の長軸方向に対して略垂直方向への移動機構を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the moving mechanism in a substantially perpendicular | vertical direction with respect to the major axis direction of a hollow shaft. 中空軸の長軸方向への移動機構を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the moving mechanism to the major axis direction of a hollow shaft. 第４の実施形態に係る検査装置において、固定台が取り付けられるときの操作を示す一部斜視図である。The inspection apparatus which concerns on 4th Embodiment WHEREIN: It is a partial perspective view which shows operation when a fixing stand is attached. フランジ９０を取り付ける前の検査装置の一部断面図である。FIG. 10 is a partial cross-sectional view of the inspection apparatus before attaching a flange 90. フランジ９０を取り付けた後の検査装置の一部断面図である。It is a fragmentary sectional view of an inspection device after attaching flange 90. As shown in FIG. 第４の実施形態に係る検査装置における、光電部の運動に関わる機構部の組み立ての流れの一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the flow of an assembly of the mechanism part in connection with the movement of the photoelectric part in the inspection apparatus which concerns on 4th Embodiment. 第４の実施形態の変形例に係る検査装置の概略模式図である。It is a schematic diagram of the inspection device concerning the modification of a 4th embodiment.

以下、各実施形態について、図面を参照しながら説明する。
＜第１の実施形態＞
第１の実施形態に係る検査装置の構成を、図面を参照して説明する。ここでは特に、一次光学系を中心に説明する。図１は、第１の実施形態に係る検査装置１００の一次光学系を示す説明図である。図１に示すように、検査装置１００の一次光学系は、光を出射する光源１と、レーザ光が照射されることにより一次ビームを発生する光電部２を備えている。光源１は例えば、ガウス分布のレーザ光を発生するレーザ光源である。ここで光電部２は、光を受けて電子を放出する光電面２１と、当該光電面２１を支持する支持体（ホルダーともいう）２２を有する。 Hereinafter, each embodiment will be described with reference to the drawings.
First Embodiment
The configuration of the inspection apparatus according to the first embodiment will be described with reference to the drawings. Here, in particular, the description will focus on the primary optical system. FIG. 1 is an explanatory view showing a primary optical system of the inspection apparatus 100 according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, the primary optical system of the inspection apparatus 100 includes a light source 1 for emitting light and a photoelectric unit 2 for generating a primary beam by being irradiated with a laser beam. The light source 1 is, for example, a laser light source that generates laser light having a Gaussian distribution. Here, the photoelectric unit 2 includes a photoelectric surface 21 which receives light and emits electrons, and a support (also referred to as a holder) 22 which supports the photoelectric surface 21.

また、検査装置１００の一次光学系は、光電面２１に沿った平面上で光電部２を運動させる運動機構部３を備える。この運動の方式は回転、らせん、直線、渦巻きなど何でもよい。本実施形態では一例として運動機構部３は、支持体２２を回転させることによって光電面２１を回転させる。これにより、光電面２１を回転させることができ、光の照射位置を移動させることができるので、光電面２１の寿命を延ばすことができる。なお、光電部２の回転のさせ方については、図２を参照しながら後で詳しく説明する。また、検査装置１００の一次光学系は、運動機構部３を制御する制御部１０を備える。更に、検査装置１００の一次光学系は、光電面２１から放出された電子が通過する経路の周りに配置された電極４を備える。光電面２１が放射された電子を引き出すため、光電面２１に比べて電極４の電位が高い。これにより、光電面２１から放射された電子を引き出すことができる。   In addition, the primary optical system of the inspection apparatus 100 includes the movement mechanism unit 3 that moves the photoelectric unit 2 on the plane along the photoelectric surface 21. The mode of this movement may be anything such as rotation, spiral, straight line, and spiral. In the present embodiment, as an example, the motion mechanism unit 3 rotates the photoelectric surface 21 by rotating the support 22. Thus, the photoelectric surface 21 can be rotated and the light irradiation position can be moved, so that the life of the photoelectric surface 21 can be extended. The method of rotating the photoelectric unit 2 will be described in detail later with reference to FIG. Further, the primary optical system of the inspection apparatus 100 includes a control unit 10 that controls the motion mechanism unit 3. Furthermore, the primary optical system of the inspection apparatus 100 includes an electrode 4 disposed around a path through which electrons emitted from the photoelectric surface 21 pass. The potential of the electrode 4 is higher than that of the photoelectric surface 21 because the photoelectric surface 21 draws the emitted electrons. Thereby, the electrons emitted from the photoelectric surface 21 can be extracted.

図１に示すように、一次光学系は、ガンレンズ（ＧＬ）５と、Ｅ×Ｂフィルタ６を備える。光電面２１から発生した一次ビームは、フォーカス位置からずらされた位置で一次ビームが試料に照射されるように、ガンレンズ５によって焦点位置が調整される。ガンレンズ５の出力（磁場強度）は、ＧＬ制御部７より制御されている。一次ビームの焦点位置の調整は、ＧＬ制御部７でガンレンズ５の出力を制御することによって行うことができる。また、Ｅ×Ｂフィルタ６は、磁界と電界によるローレンツ力により、一次ビームの進む向きを変える機能を備える。一次ビームは、斜め方向からＥ×Ｂフィルタ６に入射して、鉛直下方向に偏向され、ステージ８上の試料９に向けられる。   As shown in FIG. 1, the primary optical system includes a gun lens (GL) 5 and an E × B filter 6. The focus position of the primary beam generated from the photoelectric surface 21 is adjusted by the gun lens 5 so that the primary beam is irradiated to the sample at a position shifted from the focus position. The output (magnetic field strength) of the gun lens 5 is controlled by the GL control unit 7. Adjustment of the focal position of the primary beam can be performed by controlling the output of the gun lens 5 by the GL control unit 7. In addition, the E × B filter 6 has a function of changing the advancing direction of the primary beam by the Lorentz force by the magnetic field and the electric field. The primary beam obliquely enters the E × B filter 6, is deflected vertically downward, and is directed to the sample 9 on the stage 8.

図２は、第１の実施形態に係る検査装置１００の一次光学系の一部の概略断面図である。支持体２２にはネジが切られている。図２に示すように、運動機構部３は、モータ３１と、当該モータ３１の回転軸３２に連結され且つ支持体２２のネジに噛み合う歯車３３とを有する。そしてモータ３１が回転することによって歯車３３が回転し、当該歯車３３の回転に伴い支持体２２が回転することによって光電面２１が回転する。これにより、光電面２１を回転させることができ、光の照射位置を移動させることができるので、光電面２１の寿命を延ばすことができる。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a part of the primary optical system of the inspection apparatus 100 according to the first embodiment. The support 22 is threaded. As shown in FIG. 2, the motion mechanism unit 3 has a motor 31 and a gear 33 connected to the rotation shaft 32 of the motor 31 and meshed with the screw of the support 22. The rotation of the motor 31 causes the gear 33 to rotate, and the rotation of the support 22 with the rotation of the gear 33 causes the photoelectric surface 21 to rotate. Thus, the photoelectric surface 21 can be rotated and the light irradiation position can be moved, so that the life of the photoelectric surface 21 can be extended.

図２に示すように、光の光軸Ａ３は光電面２１の中心Ｃから外れており、光の光軸Ａ３と光電面２１の中心Ｃとの距離はｄ／２である。また、矢印Ａ４に示すように、光電面２１から発生した電子が放出される。   As shown in FIG. 2, the optical axis A3 of the light deviates from the center C of the photoelectric surface 21, and the distance between the optical axis A3 of the light and the center C of the photoelectric surface 21 is d / 2. Further, as shown by an arrow A4, electrons generated from the photoelectric surface 21 are emitted.

続いて、制御部の処理について実施例１と実施例２に分けて説明する。
（実施例１）
カーボンコンタミネーション等の異物は、光電面２１に数秒以内に付着し、除去には数分から数時間かかることもある。そこで本実施例では、光電面２１をゆっくり動かすことによって、光電面２１における光の照射位置がゆっくり移動し、カーボンコンタミネーション等の異物を長時間かけて除去する。これにより、光の照射によって異物が除去されるので、光電面２１の量子効率の低下を抑制することができる。 Subsequently, processing of the control unit will be described separately in the first embodiment and the second embodiment.
Example 1
Foreign matter such as carbon contamination may adhere to the photocathode 21 within several seconds, and removal may take from several minutes to several hours. Therefore, in the present embodiment, the light irradiation position on the photoelectric surface 21 is moved slowly by moving the photoelectric surface 21 slowly, and foreign substances such as carbon contamination are removed for a long time. Thereby, since the foreign matter is removed by the light irradiation, it is possible to suppress the decrease in the quantum efficiency of the photoelectric surface 21.

以下、本実施例に係る制御部１０の処理について説明する。制御部１０は、光の光電面２１における照射位置移動速度が規定速度以下になるよう運動機構部３を制御する。これにより、光電面２１における光の照射位置をゆっくり移動させることができるので、カーボンコンタミネーション等の異物を除去することができる。また、光電面２１における光の照射位置を変更することによって、光電面２１の寿命を延ばすことができる。このため、光電面２１の量子効率の低下を抑制しつつ光電面２１の寿命を延ばすことができる。   Hereinafter, processing of the control unit 10 according to the present embodiment will be described. The control unit 10 controls the movement mechanism unit 3 so that the irradiation position moving speed on the photoelectric surface 21 of light becomes equal to or less than a specified speed. Thereby, since the irradiation position of the light in the photoelectric surface 21 can be moved slowly, foreign substances such as carbon contamination can be removed. In addition, by changing the light irradiation position on the photoelectric surface 21, the life of the photoelectric surface 21 can be extended. Therefore, it is possible to extend the life of the photosurface 21 while suppressing the decrease in the quantum efficiency of the photosurface 21.

ここで規定速度は例えば、光電面２１における照射対象領域全体を光が移動するのにかかる時間が規定時間（例えば、１時間）となる速度であり、制御部１０は、光電面２１における照射対象領域全体を光が移動するのにかかる時間が規定時間以上になるよう運動機構部３を制御する。これにより、光電面２１における光の照射位置をゆっくり移動させることができる。   Here, the specified speed is, for example, a speed at which the time taken for the light to move in the entire irradiation target area on the photoelectric surface 21 is a specified time (for example, one hour). The movement mechanism unit 3 is controlled so that the time taken for the light to move through the entire area is equal to or longer than a specified time. Thereby, the irradiation position of the light in the photoelectric surface 21 can be moved slowly.

図３及び図４を用いて、具体例について説明する。図３は、光電面２１における光の照射位置の軌跡の説明図である。図３に示すように、光の照射位置の軌跡ＭＬは一例として円であり、その直径はｄである。光電面２１における光の照射領域ＬＳは、矢印Ａ５に沿って進行する。図４は、図３の領域Ｒ１の拡大図である。図４に示すように、光電面２１における光の照射領域ＬＳ１から、光電面２１における光の照射領域ＬＳ２へ進むのに、一例として１０分以上かけて進むよう光電面２１が回転する。   A specific example will be described using FIGS. 3 and 4. FIG. 3 is an explanatory view of a locus of the irradiation position of light on the photoelectric surface 21. As shown in FIG. As shown in FIG. 3, the locus ML of the irradiation position of light is a circle as an example, and the diameter is d. The irradiation area LS of light on the photoelectric surface 21 travels along the arrow A5. FIG. 4 is an enlarged view of the region R1 of FIG. As shown in FIG. 4, the photoelectric surface 21 is rotated so as to travel over 10 minutes or more as an example to advance from the light irradiation region LS1 on the photoelectric surface 21 to the light irradiation region LS2 on the photoelectric surface 21.

ここで、レーザ光の直径の距離を１０分以上かけてゆっくり移動する速度であるから、規定速度は、レーザ光の直径が１００μｍの場合、規定速度は１０μｍ／ｍｉｎとなる。すなわち、１０μｍ／ｍｉｎ以下の速度で、レーザ光の照射位置が移動するよう光電面２１が回転する。光の照射位置の軌跡ＭＬの円の直径ｄが４ｍｍ（円周約１２ｍｍ）の場合、約２０時間以上の周期で、光電面２１における光の照射位置が回転する。   Here, since the moving speed of the laser light is slowly moving over 10 minutes or more, when the diameter of the laser light is 100 μm, the specified speed is 10 μm / min. That is, the photoelectric surface 21 rotates so that the irradiation position of the laser beam moves at a speed of 10 μm / min or less. When the diameter d of the circle of the locus ML of the light irradiation position is 4 mm (circumferential about 12 mm), the light irradiation position on the photoconductive surface 21 rotates with a cycle of about 20 hours or more.

図５は、実施例１における照射領域全体の放出電流量と時間との概略関係を示すグラフである。図５に示すように、レーザ光の照射位置が光電面２１上をゆっくりと移動するので、照射領域全体の放出電流量は、時間の経過によらず、一定である。   FIG. 5 is a graph showing a schematic relationship between the amount of emitted current and the time over the entire irradiation area in Example 1. As shown in FIG. 5, since the irradiation position of the laser light moves slowly on the photoelectric surface 21, the amount of emission current of the whole irradiation region is constant regardless of the passage of time.

図６は、実施例１における光電面２１から放射される電子ビームの電流とレーザ光の移動軌跡に沿った位置との間の概略関係を示すグラフである。図６の上部に、レーザ光の移動軌跡が示されており、矢印Ａ６に示すように、光電面２１において、光の照射領域ＬＳ３から光の照射領域ＬＳ４に移動する。グラフは、このレーザ光の移動軌跡に対応する。
光の照射領域ＬＳ４では、位置Ｐ１〜Ｐ２までの範囲では、合計の照射時間が他の照射領域よりも短い。光電面２１の量子効率は、光照射直後は低く、徐々に高くなってピークに達するため、波形Ｗ１に示すように、位置Ｐ１〜Ｐ２までの範囲では光電面２１から放射される電子ビームの電流が下がっている。ここで光の照射パワーに対する電子ビームの放射電流の割合である。 FIG. 6 is a graph showing a schematic relationship between the current of the electron beam emitted from the photoelectric surface 21 in Example 1 and the position along the movement trajectory of the laser light. The movement trajectory of the laser beam is shown in the upper part of FIG. 6, and as shown by arrow A6, it moves from the light irradiation area LS3 to the light irradiation area LS4 on the photoelectric surface 21. The graph corresponds to the movement trajectory of the laser light.
In the light irradiation area LS4, in the range from the position P1 to P2, the total irradiation time is shorter than the other irradiation areas. The quantum efficiency of the photosurface 21 is low immediately after light irradiation and gradually increases to reach a peak. Therefore, as shown by the waveform W1, the current of the electron beam emitted from the photosurface 21 in the range from the position P1 to P2 Is down. Here, it is a ratio of the emission current of the electron beam to the irradiation power of light.

一方、予め光を照射して光電面２１の量子効率を高めておくのが望ましい。図６の波形Ｗ２は、予め光を照射した場合のグラフである。波形Ｗ２では、波形Ｗ１のように、位置Ｐ１〜Ｐ２までの範囲において、光電面２１から放射される電子ビームの電流が下がることはなく、右肩上がりで上昇しており、光の照射領域ＬＳ４の先端側において最も電子ビームの電流が大きくなっている。   On the other hand, it is desirable to irradiate light in advance to increase the quantum efficiency of the photoelectric surface 21. The waveform W2 of FIG. 6 is a graph when light is irradiated in advance. In the waveform W2, as in the waveform W1, in the range from the position P1 to the position P2, the current of the electron beam emitted from the photoelectric surface 21 does not decrease, and rises in the upper right corner. The current of the electron beam is the largest at the tip side of.

よって、予め光を照射して、光電面２１の量子効率を高めておくのが望ましい。ここで光電面２１の量子効率を高めておくことを活性化ともいう。その際、制御部１０は、当該試料を検査する前に、光電面２１に光を照射するよう運動機構部３を制御する。これにより、予め光電面２１の量子効率を高めることができる。   Therefore, it is desirable to irradiate light in advance to increase the quantum efficiency of the photoelectric surface 21. Here, raising the quantum efficiency of the photoelectric surface 21 is also referred to as activation. At this time, the control unit 10 controls the movement mechanism unit 3 to irradiate light to the photoelectric surface 21 before inspecting the sample. Thereby, the quantum efficiency of the photoelectric surface 21 can be enhanced in advance.

また光電面２１の量子効率がピークに達する時間は、照射する光のパワー密度が高いほど早い。したがって、試料を検査する際に光電面２１に照射する光が第１のパワー密度であるとすると、この第１のパワー密度より高い第２のパワー密度で、試料を検査する前に光を光電面２１に照射することが好ましい。その際、制御部１０は、第１のパワー密度より高い第２のパワー密度になるよう光源１を制御してもよい。これにより、予め光電面２１の量子効率を高めるときに、短時間に光電面２１の量子効率を高めておくことができる。   The time for the quantum efficiency of the photosurface 21 to reach a peak is earlier as the power density of the light to be irradiated is higher. Therefore, assuming that the light irradiated to the photoelectric surface 21 at the time of inspecting the sample has a first power density, the second power density higher than the first power density photoelectrically converts the light before inspecting the sample. It is preferable to irradiate the surface 21. At this time, the control unit 10 may control the light source 1 to have a second power density higher than the first power density. As a result, when the quantum efficiency of the photoelectric surface 21 is increased in advance, the quantum efficiency of the photoelectric surface 21 can be increased in a short time.

ここで、第２のパワー密度は、好ましくは１ｋＷ／ｃｍ2以上、より好ましくは１０ｋＷ／ｃｍ2以上、さらに好ましくは１００ｋＷ／ｃｍ2以上である。 Here, the second power density is preferably 1 kW / cm 2 or more, more preferably 10 kW / cm 2 or more, and still more preferably 100 kW / cm 2 or more.

また量子効率のピーク値は、光電面２１を基準とする電極４の電位（引出電圧という）に大きく依存する。図７は、実施例１における活性化効果と光電面２１を基準とする電極４の電位との概略関係を示すグラフである。図７に示すように、光電面２１よりも電極４の電位が、１００〜１０００Ｖの範囲で高い場合に活性化効果が高くなる。このように、図７から、引出電圧が１００〜１０００Ｖの間で活性化効率が高く、それに伴い量子効率のピーク値が高くなる。従って、１００〜１０００Ｖの引出電圧を電極４に印加しておくことが好ましい。これにより、光電面２１の量子効率のピーク値を高くすることができる。   Further, the peak value of the quantum efficiency largely depends on the potential (referred to as the extraction voltage) of the electrode 4 with reference to the photoelectric surface 21. FIG. 7 is a graph showing a schematic relationship between the activation effect in Example 1 and the potential of the electrode 4 based on the photoelectric surface 21. As shown in FIG. 7, when the potential of the electrode 4 is higher in the range of 100 to 1000 V than the photoelectric surface 21, the activation effect is high. Thus, from FIG. 7, the activation efficiency is high when the extraction voltage is between 100 and 1000 V, and the peak value of the quantum efficiency is accordingly high. Therefore, it is preferable to apply an extraction voltage of 100 to 1000 V to the electrode 4. Thereby, the peak value of the quantum efficiency of the photoelectric surface 21 can be made high.

（実施例２）
カーボンコンタミネーション等の異物は、光電面２１に数秒以内に付着し、除去には数分から数時間かかることもある。そこで本実施例では、光電面２１を速く動かすことによって、光電面２１における光の照射位置が速く移動し、カーボンコンタミネーション等の異物の光電面２１への付着を抑制する。これにより、一度照射した特定の場所から光照射位置が移動した後に、この特定の場所に異物が付着する前に再度この特定の場所に光を照射することにより、光電面２１の量子効率の低下を抑制することができる。 (Example 2)
Foreign matter such as carbon contamination may adhere to the photocathode 21 within several seconds, and removal may take from several minutes to several hours. Therefore, in the present embodiment, by moving the photoelectric surface 21 quickly, the irradiation position of light on the photoelectric surface 21 moves rapidly, and adhesion of foreign matter such as carbon contamination to the photoelectric surface 21 is suppressed. As a result, after the light irradiation position moves from the specific place once irradiated, light efficiency is applied to the specific place again before the foreign matter adheres to the specific place, so that the quantum efficiency of the photoelectric surface 21 is lowered. Can be suppressed.

以下、本実施例に係る制御部１０の処理について説明する。制御部１０は、光電面２１における特定の場所を一度光で照射してから再度当該特定の場所を照射するまでの時間を設定時間以内にするよう運動機構部３を制御する。これにより、一度照射した特定の場所から光照射位置が移動した後に、この特定の場所に異物が付着する前に再度この特定の場所に光を照射することにより、光電面２１の量子効率の低下を抑制することができる。   Hereinafter, processing of the control unit 10 according to the present embodiment will be described. The control unit 10 controls the movement mechanism unit 3 so that the time from the irradiation of a specific place on the photoelectric surface 21 with light once to the irradiation of the specific place again is within the set time. As a result, after the light irradiation position moves from the specific place once irradiated, light efficiency is applied to the specific place again before the foreign matter adheres to the specific place, so that the quantum efficiency of the photoelectric surface 21 is lowered. Can be suppressed.

ここでこの設定時間は好ましくは１秒である。これにより、１秒以内に再度同じ場所を照射することができ、光電面２１の量子効率の低下を抑制することができる。本実施例のように、光電面２１が回転する場合、１秒間以内に１回転するから６０ｒｐｍ以上に相当する。   Here, this set time is preferably one second. Thereby, the same place can be irradiated again within one second, and the reduction of the quantum efficiency of the photoelectric surface 21 can be suppressed. When the photosurface 21 rotates as in the present embodiment, one rotation occurs within one second, which corresponds to 60 rpm or more.

図８は、実施例２における照射領域全体の放出電流量と時間との概略関係を示すグラフである。図８に示すように、照射領域全体の放出電流量は、時間の経過とともに落ちていく。   FIG. 8 is a graph showing a schematic relationship between the amount of emitted current and the time over the entire irradiation area in Example 2. As shown in FIG. 8, the amount of emission current of the entire irradiation area falls with the passage of time.

図９は、実施例２における光電面２１から放射される電子ビームの電流とレーザ光の移動軌跡に沿った位置との間の概略関係を示すグラフである。光電面２１から放射される電子ビームの電流は、レーザ光の移動軌跡に沿った位置によらず一定である。これは、一度照射した特定の場所から光照射位置が移動した後に、この特定の場所に異物が付着する前に再度この特定の場所に光を照射することにより、この特定の場所における量子効率の低下を抑制することができるからである。   FIG. 9 is a graph showing a schematic relationship between the current of the electron beam emitted from the photoelectric surface 21 in Example 2 and the position along the movement trajectory of the laser light. The current of the electron beam emitted from the photoelectric surface 21 is constant regardless of the position along the movement trajectory of the laser beam. This is because, after the light irradiation position has moved from the specific place once irradiated, light is irradiated to the specific place again before the foreign matter adheres to the specific place, so that the quantum efficiency of the specific place is increased. This is because the decrease can be suppressed.

本実施例においても第２の実施例と同様に、予め光を照射して光電面２１の量子効率を高めておくのが望ましい。具体的には例えば、試料を検査する際の第１のパワー密度より高い第２のパワー密度で、試料を検査する前に光を光電面２１に照射することが好ましい。その際、制御部１０は、第１のパワー密度より高い第２のパワー密度になるよう光源１を制御し、その後に制御部１０は、当該試料を検査する前に、光電面２１に光を照射するよう運動機構部３を制御してもよい。これにより、短時間に光電面２１の量子効率を高めておくことができる。ここで、第２のパワー密度は、好ましくは１ｋＷ／ｃｍ2以上、より好ましくは１０ｋＷ／ｃｍ2以上、さらに好ましくは１００ｋＷ／ｃｍ2以上である。
更に、電極４に光電面２１より１００〜１０００Ｖ高い引出電圧を印加しておくことが好ましい。これにより、量子効率のピーク値を高くすることができる。 Also in this embodiment, as in the second embodiment, it is desirable to irradiate light in advance to increase the quantum efficiency of the photoelectric surface 21. Specifically, for example, it is preferable to irradiate light to the photoelectric surface 21 before inspecting the sample with a second power density higher than the first power density when inspecting the sample. At that time, the control unit 10 controls the light source 1 to have a second power density higher than the first power density, and thereafter, the control unit 10 causes the photoelectric surface 21 to emit light before inspecting the sample. You may control the exercise | movement mechanism part 3 to irradiate. Thereby, the quantum efficiency of the photoelectric surface 21 can be increased in a short time. Here, the second power density is preferably 1 kW / cm 2 or more, more preferably 10 kW / cm 2 or more, and still more preferably 100 kW / cm 2 or more.
Furthermore, it is preferable to apply an extraction voltage higher by 100 to 1000 V than the photocathode 21 to the electrode 4. Thereby, the peak value of quantum efficiency can be made high.

＜第２の実施形態＞
続いて、第２の実施形態について説明する。第１の実施形態では検査装置について説明したが、この第２の実施形態では照射装置について説明する。第１の実施形態における第１の実施例の制御及び第２の実施例の制御は両方とも、第２の実施形態に係る照射装置に適用可能である。 Second Embodiment
Subsequently, a second embodiment will be described. Although the inspection apparatus has been described in the first embodiment, the irradiation apparatus will be described in the second embodiment. Both the control of the first example and the control of the second example in the first embodiment are applicable to the irradiation apparatus according to the second embodiment.

図１０は、第２の実施形態に係る照射装置２００の主要部の構成を示す図である。ここで、主要部は、電子光学系とメインチャンバとを含む主要部を含む。図１０に示すように、照射装置２００は、光を出射する光源２０１と、光源２０１からの光の照射により電子ビームを発生する光電部２０２を備える。光源２０１は例えば、所定の波長の光を発生させる。また、照射装置２００は、電子ビームが照射される試料２２０が設置されるステージ２３０を備える。さらに、照射装置２００は、電子ビームの照射位置を確認するための光学顕微鏡２７０を備える。なお、光学顕微鏡２７０は、メインチャンバ２６０に設けられてもよく、また、不図示のロードロックに設けられてもよい。   FIG. 10 is a view showing the configuration of the main part of the irradiation apparatus 200 according to the second embodiment. Here, the main part includes the main part including the electron optical system and the main chamber. As shown in FIG. 10, the irradiation apparatus 200 includes a light source 201 for emitting light, and a photoelectric unit 202 for generating an electron beam by irradiation of light from the light source 201. The light source 201 generates, for example, light of a predetermined wavelength. The irradiation apparatus 200 also includes a stage 230 on which the sample 220 irradiated with the electron beam is placed. Furthermore, the irradiation apparatus 200 includes an optical microscope 270 for confirming the irradiation position of the electron beam. The optical microscope 270 may be provided in the main chamber 260, or may be provided in a load lock (not shown).

光源２０１は、メインチャンバ２６０の外に設置することができる。この場合、光源２０１からの光は、メインチャンバ２６０に設けた透過窓２４０を通して光電部２０２に達するように構成することができる。透過窓２４０としては、合成石英、クオーツ、ＦＯＰ（ファイバオプティクプレート）などを用いることができる。   The light source 201 can be installed outside the main chamber 260. In this case, light from the light source 201 can be configured to reach the photoelectric unit 202 through the transmission window 240 provided in the main chamber 260. As the transmission window 240, synthetic quartz, quartz, FOP (fiber optic plate) or the like can be used.

光電部２０２からの放射電子量や、電子ビームの方向性および均等性は、電極２０４によって制御することができる。電極２０４を設け且つ電極２０４に光電部２０２より高い電圧を印加することにより、電子の拡散を抑えて、余分な領域に照射される電子を低減することができ、引出し効果により電子発生効率を高めることができる。なお、電極２０４は、必ずしも設けなくてもよい。電極２０４を設けない場合には、電子ビームが広がる（電子が広い領域に照射される）ことになるものの、コストを低減することができる。   The amount of electrons emitted from the photoelectric unit 202 and the directivity and uniformity of the electron beam can be controlled by the electrode 204. By providing the electrode 204 and applying a voltage higher than that of the photoelectric unit 202 to the electrode 204, diffusion of electrons can be suppressed, electrons irradiated to the extra region can be reduced, and the electron generation efficiency is improved by the extraction effect. be able to. Note that the electrode 204 may not necessarily be provided. When the electrode 204 is not provided, although the electron beam spreads (electrons are irradiated to a wide area), the cost can be reduced.

試料２２０に照射される電子ビームの電流量は、１０ｎＡ〜１００Ａに設定されている。光源２０１としては、ＤＵＶランプ、ＤＵＶレーザ、Ｘ線レーザ、ＵＶレーザ、ＵＶランプ、ＬＥＤ、ＬＤなどが使用可能である。光電部２０２は、光を受けて電子を放出する光電面２２１と、光電面２２１を支持する支持体２２２とを有する。図１０に示すように、光の光軸Ａ７は光電面２２１の中心Ｃ２から外れており、光の光軸Ａ７と光電面２２１の中心Ｃとの距離はｄ／２である。また、矢印Ａ８に示すように、光電面２２１から発生した電子が放出される。   The amount of current of the electron beam irradiated to the sample 220 is set to 10 nA to 100 A. As the light source 201, a DUV lamp, a DUV laser, an X-ray laser, a UV laser, a UV lamp, an LED, an LD, or the like can be used. The photoelectric unit 202 has a photoelectric surface 221 which receives light and emits electrons, and a support 222 which supports the photoelectric surface 221. As shown in FIG. 10, the optical axis A7 of light deviates from the center C2 of the photoelectric surface 221, and the distance between the optical axis A7 of light and the center C of the photoelectric surface 221 is d / 2. Further, as shown by an arrow A8, electrons generated from the photoelectric surface 221 are emitted.

光電面２２１には、０〜−５０００Ｖの電圧が印加され、試料２２０には、０〜−２０００Ｖの電圧が印加される。ランディングエナジーＬＥは、０〜５０００ｅＶに設定される。   A voltage of 0 to -5000 V is applied to the photocathode 221, and a voltage of 0 to -2000 V is applied to the sample 220. The landing energy LE is set to 0 to 5000 eV.

照射装置２００は更に運動機構部２０３を備える。運動機構部２０３は、支持体２２２を回転させることによって光電面２２１を回転させる。
支持体２２２にはネジが切られており、運動機構部２０３は、モータ２３１と、当該モータ２３１の回転軸２３２に連結され且つ支持体２２２のネジに噛み合う歯車２３３とを有する。モータ２３１が回転することによって歯車２３３が回転し、当該歯車２３３の回転に伴い支持体２２２が回転することによって光電面２２１が回転する。 The irradiation apparatus 200 further includes a motion mechanism unit 203. The motion mechanism unit 203 rotates the photoelectric surface 221 by rotating the support 222.
The support 222 is threaded, and the movement mechanism unit 203 includes a motor 231 and a gear 233 connected to the rotation shaft 232 of the motor 231 and meshed with the screw of the support 222. The rotation of the motor 231 causes the gear 233 to rotate, and the rotation of the support body 222 with the rotation of the gear 233 causes the photoelectric surface 221 to rotate.

本実施の形態では一例として、試料２２０の形状は、円形であり、電子ビームの照射領域の形状は一例として、その円形（試料２２０の形状）の一部を構成する扇形である。したがって、光源２０１や光電部２０２などの電子源の構成は小さくて済む。この場合、表照射装置２００は、試料２２０の全面に電子ビームを照射できるようにステージ２３０を回転移動させるステージ制御部２５０を備える。   In the present embodiment, as an example, the shape of the sample 220 is circular, and the shape of the irradiation region of the electron beam is, as an example, a sector that constitutes a part of the circle (the shape of the sample 220). Therefore, the configuration of the electron sources such as the light source 201 and the photoelectric unit 202 may be small. In this case, the front irradiation apparatus 200 includes a stage control unit 250 that rotationally moves the stage 230 so that the entire surface of the sample 220 can be irradiated with the electron beam.

この場合、ステージ制御部２５０の制御により、ステージ２３０を回転移動させて、電子ビームの照射領域を制御することができる。例えば、電子ビームの照射領域の形状が、試料２２０の形状（円形）の一部を構成する扇形である場合、ステージ２３０を回転移動させることにより、試料２２０の全面に均一に電子ビームを照射することができる。   In this case, the stage 230 can be rotationally moved by the control of the stage control unit 250 to control the irradiation area of the electron beam. For example, in the case where the shape of the irradiation area of the electron beam is a fan-like shape that constitutes a part of the shape (circular shape) of the sample 220, the entire surface of the sample 220 is uniformly irradiated with the electron beam by rotating the stage 230. be able to.

更に照射装置２００は、運動機構部２０３を制御する制御部２１０を備える。続いて、制御部の処理について実施例１と実施例２に分けて説明する。   The irradiation apparatus 200 further includes a control unit 210 that controls the motion mechanism unit 203. Subsequently, processing of the control unit will be described separately in the first embodiment and the second embodiment.

（実施例１）
第１の実施形態の実施例１と同様に、光電面２２１をゆっくり動かすことによって、光電面２２１における光の照射位置がゆっくり移動し、カーボンコンタミネーション等の異物を長時間かけて除去する。これにより、光の照射によって異物が除去されるので、光電面２２１の量子効率の低下を抑制することができる。 Example 1
Similar to the first example of the first embodiment, by slowly moving the photoelectric surface 221, the light irradiation position on the photoelectric surface 221 is slowly moved, and foreign substances such as carbon contamination are removed for a long time. Thereby, since the foreign matter is removed by the light irradiation, it is possible to suppress the decrease in the quantum efficiency of the photoelectric surface 221.

以下、本実施例に係る制御部２１０の処理について説明する。制御部２１０は、光の光電面２２１における照射位置移動速度が規定速度以下になるよう運動機構部２０３を制御する。これにより、光電面２２１における光の照射位置をゆっくり移動させることができるので、カーボンコンタミネーション等の異物を除去することができる。また、光電面２２１における光の照射位置を変更することによって、光電面２２１の寿命を延ばすことができる。このため、光電面２２１の量子効率の低下を抑制しつつ光電面２２１の寿命を延ばすことができる。   Hereinafter, processing of the control unit 210 according to the present embodiment will be described. The control unit 210 controls the motion mechanism unit 203 so that the irradiation position moving speed on the photoelectric surface 221 of light becomes equal to or less than a specified speed. Thereby, the irradiation position of light on the photoelectric surface 221 can be moved slowly, so that foreign substances such as carbon contamination can be removed. In addition, by changing the light irradiation position on the photoelectric surface 221, the life of the photoelectric surface 221 can be extended. Therefore, the life of the photosurface 221 can be extended while suppressing the decrease in the quantum efficiency of the photosurface 221.

ここで規定速度は例えば、光電面２２１における照射対象領域全体を光が移動するのにかかる時間が規定時間（例えば、１時間）となる速度であり、制御部２１０は、光電面２２１における照射対象領域全体を光が移動するのにかかる時間が規定時間以上になるよう運動機構部２０３を制御する。これにより、光電面２２１における光の照射位置をゆっくり移動させることができる。   Here, the specified speed is, for example, a speed at which the time taken for the light to move in the entire irradiation target area on the photoelectric surface 221 is a specified time (for example, one hour). The motion mechanism unit 203 is controlled so that the time taken for the light to move through the entire area is equal to or longer than a specified time. Thereby, the irradiation position of the light in the photoelectric surface 221 can be moved slowly.

本実施例においても第１の実施形態の実施例１と同様に、予め光を照射して光電面２２１の量子効率を高めておくのが望ましい。具体的には例えば、試料を検査する際の第１のパワー密度より高い第２のパワー密度で、試料を検査する前に光を光電面２２１に照射することが好ましい。その際、制御部２１０は、第１のパワー密度より高い第２のパワー密度になるよう光源２０１を制御し、その後に制御部２１０は、当該試料を検査する前に、光電面２２１に光を照射するよう運動機構部３を制御してもよい。これにより、短時間に光電面２２１の量子効率を高めておくことができる。ここで、第２のパワー密度は、好ましくは１ｋＷ／ｃｍ2以上、より好ましくは１０ｋＷ／ｃｍ2以上、さらに好ましくは１００ｋＷ／ｃｍ2以上である。
更に、電極２０４に光電面２２１より１００〜１０００Ｖ高い引出電圧を印加しておくことが好ましい。これにより、量子効率のピーク値を高くすることができる。 Also in the present embodiment, as in the first embodiment of the first embodiment, it is desirable to irradiate light in advance to increase the quantum efficiency of the photoelectric surface 221. Specifically, for example, it is preferable to irradiate light to the photoelectric surface 221 before inspecting the sample with a second power density higher than the first power density when inspecting the sample. At that time, the control unit 210 controls the light source 201 so as to have a second power density higher than the first power density, and thereafter, the control unit 210 controls the light to the photoelectric surface 221 before inspecting the sample. You may control the exercise | movement mechanism part 3 to irradiate. Thereby, the quantum efficiency of the photoelectric surface 221 can be increased in a short time. Here, the second power density is preferably 1 kW / cm 2 or more, more preferably 10 kW / cm 2 or more, and still more preferably 100 kW / cm 2 or more.
Further, it is preferable to apply an extraction voltage higher by 100 to 1000 V than the photocathode 221 to the electrode 204 in advance. Thereby, the peak value of quantum efficiency can be made high.

（実施例２）
第１の実施形態の実施例２と同様に、光電面２２１を速く動かすことによって、光電面２２１における光の照射位置が速く移動し、カーボンコンタミネーション等の異物の光電面２２１への付着を抑制する。これにより、一度照射した特定の場所から光照射位置が移動した後に、この特定の場所に異物が付着する前に再度この特定の場所に光を照射することにより、光電面２２１の量子効率の低下を抑制することができる。 (Example 2)
Similar to the second embodiment of the first embodiment, the light irradiation position on the photoelectric surface 221 is rapidly moved by moving the photoelectric surface 221 fast, and adhesion of foreign matter such as carbon contamination to the photoelectric surface 221 is suppressed. Do. As a result, after the light irradiation position moves from the specific place once irradiated, the light efficiency is irradiated to the specific place again before the foreign matter adheres to the specific place, thereby lowering the quantum efficiency of the photoelectric surface 221. Can be suppressed.

以下、本実施例に係る制御部２１０の処理について説明する。制御部２１０は、光電面２２１における特定の場所を一度光で照射してから再度当該特定の場所を照射するまでの時間を設定時間以内にするよう運動機構部２０３を制御する。これにより、一度照射した特定の場所から光照射位置が移動した後に、この特定の場所に異物が付着する前に再度この特定の場所に光を照射することにより、光電面２２１の量子効率の低下を抑制することができる。   Hereinafter, processing of the control unit 210 according to the present embodiment will be described. The control unit 210 controls the motion mechanism unit 203 so that the time from the irradiation of a specific place on the photoelectric surface 221 with light once to the irradiation of the specific place again is within the set time. As a result, after the light irradiation position moves from the specific place once irradiated, the light efficiency is irradiated to the specific place again before the foreign matter adheres to the specific place, thereby lowering the quantum efficiency of the photoelectric surface 221. Can be suppressed.

ここでこの設定時間は好ましくは１秒である。これにより、１秒以内に再度同じ場所を照射することができ、光電面２２１の量子効率の低下を抑制することができる。本実施例のように、光電面２２１が回転する場合、１秒間以内に１回転するから６０ｒｐｍ以上に相当する。   Here, this set time is preferably one second. Thereby, the same place can be irradiated again within one second, and the reduction of the quantum efficiency of the photocathode 221 can be suppressed. When the photosurface 221 rotates as in the present embodiment, one rotation occurs within one second, which corresponds to 60 rpm or more.

本実施例においても第１の実施形態の実施例２と同様に、予め光を照射して光電面２２１の量子効率を高めておくのが望ましい。具体的には例えば、試料を検査する際の第１のパワー密度より高い第２のパワー密度で、試料を検査する前に光を光電面２２１に照射することが好ましい。その際、制御部２１０は、第１のパワー密度より高い第２のパワー密度になるよう光源２０１を制御し、その後に制御部２１０は、当該試料を検査する前に、光電面２２１に光を照射するよう運動機構部３を制御してもよい。これにより、短時間に光電面２２１の量子効率を高めておくことができる。ここで、第２のパワー密度は、好ましくは１ｋＷ／ｃｍ2以上、より好ましくは１０ｋＷ／ｃｍ2以上、さらに好ましくは１００ｋＷ／ｃｍ2以上である。
更に、電極２０４に光電面２２１より１００〜１０００Ｖの引出電圧を印加しておくことが好ましい。これにより、量子効率のピーク値を高くすることができる。 Also in the present embodiment, as in the second embodiment of the first embodiment, it is desirable to irradiate light in advance to increase the quantum efficiency of the photoelectric surface 221. Specifically, for example, it is preferable to irradiate light to the photoelectric surface 221 before inspecting the sample with a second power density higher than the first power density when inspecting the sample. At that time, the control unit 210 controls the light source 201 so as to have a second power density higher than the first power density, and thereafter, the control unit 210 controls the light to the photoelectric surface 221 before inspecting the sample. You may control the exercise | movement mechanism part 3 to irradiate. Thereby, the quantum efficiency of the photoelectric surface 221 can be increased in a short time. Here, the second power density is preferably 1 kW / cm 2 or more, more preferably 10 kW / cm 2 or more, and still more preferably 100 kW / cm 2 or more.
Furthermore, it is preferable to apply an extraction voltage of 100 to 1000 V to the electrode 204 from the photoelectric surface 221. Thereby, the peak value of quantum efficiency can be made high.

（比較例）
続いて第３の実施形態に係る検査装置を説明する前に、比較例に係る検査装置６００の構造について説明する。図１１は、比較例に係る検査装置の概略模式断面図である。図１１に示すように、コラム４１と、光電部２１を固定する固定台（ステージともいう）４２と、一端が固定台４２に連結された柱４３と、柱４３の一部を囲むベローズ４４と、柱４３の他端に連結された駆動部４５と、駆動部４５を支持する構造体である支持部４６とを備える。駆動部４５は、柱４３を矢印Ｂ１及びＢ１の方向に動かすことにより、固定台４２を矢印Ｂ１及びＢ２の方向に動かすことができる。その結果、固定台４２に固定された光電部２１を矢印Ｂ１及びＢ２の方向に動かすことができる。 (Comparative example)
Subsequently, before describing the inspection apparatus according to the third embodiment, the structure of the inspection apparatus 600 according to the comparative example will be described. FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of an inspection apparatus according to a comparative example. As shown in FIG. 11, a column 41, a fixing base (also referred to as a stage) 42 for fixing the photoelectric unit 21, a pillar 43 one end of which is connected to the fixing base 42, and a bellows 44 surrounding a part of the pillar 43 , A driving unit 45 connected to the other end of the column 43, and a supporting unit 46 which is a structure for supporting the driving unit 45. The drive unit 45 can move the fixed base 42 in the directions of arrows B1 and B2 by moving the column 43 in the directions of arrows B1 and B1. As a result, the photoelectric unit 21 fixed to the fixing base 42 can be moved in the directions of the arrows B1 and B2.

このように、一つの柱４３で固定台４２を支えているため、ベローズ４４は大気に開放されているため、コラム４１内を真空にすると、ベローズ４４内の圧力とコラム４１内の圧力差によって図１１の矢印Ａ１１の向きにベローズ４４に差圧がかかり、この差圧で駆動部４５に矢印Ａ１１の向きに大きな力がかかる。この差圧に対抗するため駆動部４５の周りに頑丈な構造の支持部４６が必要になるという問題がある。   Since the bellows 44 is open to the atmosphere since the fixed base 42 is supported by one pillar 43 in this manner, the pressure in the bellows 44 and the pressure difference in the column 41 cause a vacuum in the column 41. Differential pressure is applied to the bellows 44 in the direction of the arrow A11 of FIG. 11, and a large force is applied to the driving portion 45 in the direction of the arrow A11 by this differential pressure. There is a problem that a robust support 46 is required around the drive 45 to counteract this differential pressure.

（第３の実施形態）
続いて第３の実施形態について説明する。第３の実施形態に係る検査装置は、第１の実施形態の検査装置に対して光電部２１の移動機構が変更されたものである。比較例に対して、第３の実施形態に係る検査装置３００は、図１２に示すように、コラム４１の長軸方向とは略垂直な面（図１２の断面）において、固定台４２の両側に（すなわち固定台４２を中心として互いに略反対方向に）、柱４３と柱４７が設けられている。 Third Embodiment
The third embodiment will be described next. The inspection apparatus according to the third embodiment is obtained by changing the moving mechanism of the photoelectric unit 21 in the inspection apparatus according to the first embodiment. With respect to the comparative example, as shown in FIG. 12, the inspection apparatus 300 according to the third embodiment has both sides of the fixing base 42 in a plane (cross section in FIG. 12) substantially perpendicular to the longitudinal direction of the column 41. The pillars 43 and the pillars 47 are provided in (ie, in substantially opposite directions with respect to the fixed base 42).

図１２は、第３の実施形態に係る検査装置の概略模式断面図である。図１２に示すように、第３の実施形態に係る検査装置は、ケーシングの一例であるコラム４１と、光電面を有する光電部２１を固定する固定台（ステージともいう）４２と、一端が固定台４２に連結された柱４３と、柱４３の一部を囲むベローズ４４と、運動機構部４０と、一端が固定台４２に連結された柱４７と、柱４７の一部を囲むベローズ４８とを備える。運動機構部４０は、柱４３の他端に連結された駆動部４５を備える。図１１と同様に図１２の駆動部４５は、柱４３を矢印Ｂ３及びＢ４の方向に動かすことにより、固定台４２を矢印Ｂ３及びＢ４の方向に動かすことができる。その結果、固定台４２に固定された光電部２１を矢印Ｂ３及びＢ４の方向に動かすことができる。   FIG. 12 is a schematic cross-sectional view of the inspection apparatus according to the third embodiment. As shown in FIG. 12, in the inspection apparatus according to the third embodiment, a column 41 which is an example of a casing, a fixing base (also referred to as a stage) 42 for fixing a photoelectric unit 21 having a photoelectric surface, and one end thereof are fixed. A column 43 connected to the base 42, a bellows 44 surrounding a part of the column 43, a motion mechanism 40, a column 47 one end of which is connected to the fixed table 42, and a bellows 48 surrounding a part of the column 47 Equipped with The movement mechanism unit 40 includes a drive unit 45 connected to the other end of the column 43. Similar to FIG. 11, the drive unit 45 of FIG. 12 can move the fixing base 42 in the directions of arrows B3 and B4 by moving the pillars 43 in the directions of arrows B3 and B4. As a result, the photoelectric unit 21 fixed to the fixing base 42 can be moved in the directions of arrows B3 and B4.

コラム４１は、真空に引くことが可能で側面に第１の穴と第２の穴が設けられている。またベローズ４４は第１の伸縮体の一例であり、一端部がコラム４１の一端部に連結しており且つ他端部がコラム４１の第１の穴Ｈ１１の近傍に接続されて内部が大気に開放されており且つ伸縮性を有する。ベローズ４４は当該コラム４１の第１の穴を介して内部が大気に開放されている。同様にベローズ４８は第２の伸縮体の一例であり、一端部がコラム４１の他端部に連結され且つ他端部がコラム４１の第２の穴Ｈ１２の近傍に接続されて内部が大気に開放されており且つ伸縮性を有する。ベローズ４４は当該コラム４１の第２の穴を介して内部が大気に開放されている。   The column 41 can be evacuated and is provided with a first hole and a second hole on the side. The bellows 44 is an example of a first expandable body, and one end thereof is connected to one end of the column 41 and the other end is connected to the vicinity of the first hole H11 of the column 41 so that the inside is the atmosphere. It is open and stretchable. The inside of the bellows 44 is open to the atmosphere via the first hole of the column 41. Similarly, the bellows 48 is an example of a second expandable body, and one end is connected to the other end of the column 41 and the other end is connected to the vicinity of the second hole H12 of the column 41 so that the inside is the atmosphere. It is open and stretchable. The inside of the bellows 44 is open to the atmosphere via the second hole of the column 41.

ベローズ４４には矢印Ａ１２の向きに差圧がかかり、ベローズ４８には矢印Ａ１３の向きに差圧がかかる。ベローズ４４、４７それぞれにかかる差圧が釣り合うことにより、駆動部４５にかかる力がキャンセルされる。このため、駆動部４５を支持する頑丈な構造体を設置する必要がなくなりコストを低減するとともに、構造体のメンテナンスからも開放される。   Differential pressure is applied to the bellows 44 in the direction of arrow A12, and differential pressure is applied to the bellows 48 in the direction of arrow A13. The force applied to the drive unit 45 is canceled by the differential pressure applied to each of the bellows 44 and 47 being balanced. As a result, it is not necessary to install a robust structure for supporting the drive unit 45, and the cost is reduced, and the maintenance of the structure is also released.

以上、第３の実施形態に係る検査装置は、真空に引くことが可能で側面に第１の穴と第２の穴が設けられたコラム４１と、移動対象物としての光電部２１と、当該光電部２１が固定された固定台４２と、一端部がコラム４１に連結しており当該コラム４１の第１の穴を介して内部が大気に開放されているベローズ４４と、一端部がコラム４１に連結しており当該コラム４１の第２の穴を介して内部が大気に開放されているベローズ４８と、固定台４２をコラム４１の長軸方向と略垂直な面において移動させる運動機構部４０と、を備える。   As described above, in the inspection apparatus according to the third embodiment, the column 41 provided with the first hole and the second hole on the side surface that can be vacuumed, the photoelectric unit 21 as the movement object, A fixed base 42 to which the photoelectric unit 21 is fixed, a bellows 44 whose one end is connected to the column 41 and whose inside is open to the atmosphere through the first hole of the column 41, one end is the column 41 , And the movement mechanism section 40 for moving the fixing base 42 in a plane substantially perpendicular to the long axis direction of the column 41 and the bellows 48 whose inside is open to the atmosphere via the second hole of the column 41. And.

この構成により、固定台４２をコラム４１の長軸方向と略垂直な面において移動させることにより、固定台４２に固定された光電部２１をコラム４１の長軸方向と略垂直な面において移動させることができる。またベローズ４４、４７それぞれにかかる差圧が釣り合うことにより、駆動部４５にかかる力がキャンセルされる。このため、運動機構部４０の駆動部４５を支持する頑丈な構造体を設置する必要がなくなりコストを低減するとともに、構造体のメンテナンスからも開放される。   With this configuration, by moving the fixing base 42 in a plane substantially perpendicular to the long axis direction of the column 41, the photoelectric unit 21 fixed to the fixing base 42 is moved in a plane substantially perpendicular to the long axis direction of the column 41. be able to. In addition, the differential pressure applied to each of the bellows 44 and 47 is balanced, whereby the force applied to the drive unit 45 is cancelled. As a result, it becomes unnecessary to install a robust structure for supporting the drive unit 45 of the movement mechanism unit 40, thereby reducing the cost and opening the maintenance of the structure.

（変形例１）
続いて、第３の実施形態の変形例１について説明する。第３の実施形態では、片方の柱４３にだけ駆動部４５が連結しているので、図１２において駆動部４５が連結していない点Ｐ２における動きが悪くなり、点Ｐ１、点Ｐ２で移動量が異なる可能性が高くなる。その結果、精度の良い動きは難しいという課題がある。 (Modification 1)
Then, the modification 1 of 3rd Embodiment is demonstrated. In the third embodiment, since the drive unit 45 is connected to only one pillar 43, the movement at the point P2 where the drive unit 45 is not connected in FIG. 12 becomes worse, and the movement amount at the point P1 and the point P2 Is likely to be different. As a result, there is a problem that accurate movement is difficult.

図１３は、第３の実施形態に係る検査装置の変形例１の概略模式断面図である。本変形例１の検査装置３００ｂでは、運動機構部４０が運動機構部４０ｂに変更され、運動機構部４０ｂが備える駆動部４５ｂを柱４３、柱４７の両方に連結している。このように連結していることによって、両方の柱４３、柱４７の動きの精度は良くなる。駆動部４５ｂは、柱４３を矢印Ｂ５〜Ｂ８の方向に動かすことにより、固定台４２を矢印Ｂ５〜Ｂの方向に動かすことができる。その結果、固定台４２に固定された光電部２１を矢印Ｂ５〜Ｂの方向に動かすことができる。   FIG. 13 is a schematic cross-sectional view of Modification 1 of the inspection apparatus according to the third embodiment. In the inspection apparatus 300b of the first modification, the motion mechanism unit 40 is changed to a motion mechanism unit 40b, and a drive unit 45b included in the motion mechanism unit 40b is connected to both the column 43 and the column 47. By connecting in this way, the accuracy of the movement of both pillars 43 and pillars 47 is improved. The drive unit 45b can move the fixing base 42 in the directions of arrows B5 to B by moving the columns 43 in the directions of arrows B5 to B8. As a result, the photoelectric unit 21 fixed to the fixing table 42 can be moved in the directions of arrows B5 to B.

（変形例２）
続いて、第３の実施形態の変形例２について説明する。変形例１では、全体の構造が大きくなり、駆動部４５ｂの構造も複雑になるという課題がある。
図１４は、第３の実施形態に係る検査装置の変形例２の概略模式断面図である。本変形例２の検査装置３００ｃでは、運動機構部４０が運動機構部４０ｃに変更され、運動機構部４０ｃが備える駆動部４５が柱４３に連結しており、運動機構部４０ｃが備える駆動部４９が柱４７に連結している。これにより、全体の構造の大きさを抑えることができる。 (Modification 2)
Subsequently, a modification 2 of the third embodiment will be described. In the first modification, there is a problem that the entire structure becomes large and the structure of the drive unit 45b also becomes complicated.
FIG. 14 is a schematic cross-sectional view of Modification 2 of the inspection apparatus according to the third embodiment. In the inspection apparatus 300c of the second modification, the motion mechanism unit 40 is changed to a motion mechanism unit 40c, and the drive unit 45 included in the motion mechanism unit 40c is connected to the column 43, and the drive unit 49 included in the motion mechanism unit 40c. Are connected to the column 47. Thereby, the size of the entire structure can be suppressed.

駆動部４５は、柱４３を矢印Ｂ９及びＢ１０の方向に動かすことにより、固定台４２を矢印Ｂ９及びＢ１０の方向に動かすことができる。その結果、固定台４２に固定された光電部２１を矢印Ｂ９及びＢ１０の方向に動かすことができる。また、駆動部４９は、柱４７を矢印Ｂ１１及びＢ１２の方向に動かすことにより、固定台４２を矢印Ｂ１１及びＢ１２の方向に動かすことができる。その結果、固定台４２に固定された光電部２１を矢印Ｂ１１及びＢ１２の方向に動かすことができる。   The drive unit 45 can move the fixed base 42 in the directions of arrows B9 and B10 by moving the column 43 in the directions of arrows B9 and B10. As a result, the photoelectric unit 21 fixed to the fixing base 42 can be moved in the directions of the arrows B9 and B10. Further, the drive unit 49 can move the fixing base 42 in the directions of arrows B11 and B12 by moving the columns 47 in the directions of arrows B11 and B12. As a result, the photoelectric unit 21 fixed to the fixing base 42 can be moved in the directions of the arrows B11 and B12.

制御システム５０は、両側の駆動部４５、４９の位置を測定するための位置センサ５０１と、両方の柱４３、４７の移動量を調整するための制御部５０２を備える。このように、変形例２では、制御システム５０を新たに設ける必要がある。   The control system 50 includes a position sensor 501 for measuring the positions of the drive units 45 and 49 on both sides, and a control unit 502 for adjusting the amount of movement of both pillars 43 and 47. Thus, in the second modification, the control system 50 needs to be newly provided.

（変形例３）
続いて、第３の実施形態の変形例３について説明する。図１５は、第３の実施形態に係る検査装置の変形例３の概略模式断面図である。図１５に示すように、第３の実施形態の変形例３の検査装置３００ｃは、図１２の第３の実施形態の検査装置３００に比べて、固定台（ステージ）４２の一側面に連結された柱５２と、柱５２を一部覆うベローズ５３と、固定台（ステージ）４２の他側面に連結された柱５４と、柱５４を一部覆うベローズ５５とを備える。ベローズ５３及びベローズ５５は大気に開放されている。ここで、ベローズ５３を第３の伸縮体の一例であり、一端部が固定台４２の一側面に連結され且つ他端部がコラム４１の第３の穴Ｈ１３の近傍に接続されて内部が大気に開放されており且つ伸縮性を有する。またベローズ５５は第４の伸縮体の一例であり、一端部が固定台４２に他側面に連結され且つ他端部がコラム４１の第４の穴Ｈ１４の近傍に接続されて内部が大気に開放されている。駆動部４５は、柱４３を矢印Ｂ１３及びＢ１４の方向に動かすことにより、固定台４２を矢印Ｂ１３及びＢ１４の方向に動かすことができる。その結果、固定台４２に固定された光電部２１を矢印Ｂ１３及びＢ１４の方向に動かすことができる。 (Modification 3)
Subsequently, a third modification of the third embodiment will be described. FIG. 15 is a schematic cross-sectional view of Modification 3 of the inspection apparatus according to the third embodiment. As shown in FIG. 15, an inspection apparatus 300c according to the third modification of the third embodiment is connected to one side surface of a fixed stage (stage) 42 as compared to the inspection apparatus 300 according to the third embodiment shown in FIG. A pillar 52, a bellows 53 partially covering the pillar 52, a pillar 54 connected to the other side surface of the fixed stage (stage) 42, and a bellows 55 partially covering the pillar 54. The bellows 53 and the bellows 55 are open to the atmosphere. Here, the bellows 53 is an example of a third expandable body, one end of which is connected to one side surface of the fixing base 42 and the other end of which is connected to the vicinity of the third hole H13 of the column 41 so that the inside is the atmosphere. Open and stretchable. The bellows 55 is an example of a fourth expandable body, one end of which is connected to the other side surface of the fixing base 42 and the other end of which is connected to the vicinity of the fourth hole H14 of the column 41 to open the inside to the atmosphere. It is done. The drive unit 45 can move the fixed base 42 in the directions of arrows B13 and B14 by moving the columns 43 in the directions of arrows B13 and B14. As a result, the photoelectric unit 21 fixed to the fixing base 42 can be moved in the directions of the arrows B13 and B14.

上述したように、ベローズ４４には矢印Ａ２１の向きに差圧がかかり、ベローズ４８には矢印Ａ２２の向きに差圧がかかる。ベローズ４４、４７それぞれにかかる差圧が釣り合うことにより、駆動部４５にかかる力がキャンセルされる。このため、駆動部４５を支持する頑丈な構造体は必要なくなる。更に、ベローズ５３には矢印Ａ２３の向きに差圧がかかり、ベローズ５５には矢印Ａ２４の向きに差圧がかかる。ベローズ５３、５５それぞれにかかる差圧が釣り合うことにより、固定台（ステージ）４２にかかる力がキャンセルされる。   As described above, differential pressure is applied to the bellows 44 in the direction of arrow A21, and differential pressure is applied to the bellows 48 in the direction of arrow A22. The force applied to the drive unit 45 is canceled by the differential pressure applied to each of the bellows 44 and 47 being balanced. For this reason, a robust structure for supporting the drive unit 45 is not necessary. Further, a differential pressure is applied to the bellows 53 in the direction of the arrow A23, and a differential pressure is applied to the bellows 55 in the direction of the arrow A24. By the differential pressure applied to each of the bellows 53 and 55 being balanced, the force applied to the fixed stage (stage) 42 is canceled.

なお、ベローズ５３、５５は、ベローズ４４、４７とは略垂直な方向に配置されたが、その方向は任意の方向であってもよく、コラムの長軸方向と略垂直な面において、互いに反対方向にベローズを設ければよい。   Although the bellows 53, 55 are disposed in a direction substantially perpendicular to the bellows 44, 47, the direction may be any direction, and they are opposite to each other in a plane substantially perpendicular to the long axis direction of the column. A bellows may be provided in the direction.

＜第４の実施形態＞
続いて、第４の実施形態について説明する。第４の実施形態に係る検査装置は、第１の実施形態の検査装置に対して光電部２１の移動機構が、第３の実施形態に係る検査装置とは異なる態様に変更されたものである。第４の実施形態では、固定台（ステージ）を支える柱は、内部にコラムの外の大気とつながっている空間が形成された中空軸である。この構成により、コラムの中を、内部に空気が充満している中空軸が貫通していることにより、コラムを真空にしても中空軸の内部は大気のままであるので中空軸の長軸方向に圧力が発生しない。 Fourth Embodiment
Subsequently, a fourth embodiment will be described. The inspection apparatus according to the fourth embodiment is the inspection apparatus according to the first embodiment in which the moving mechanism of the photoelectric unit 21 is changed to a mode different from the inspection apparatus according to the third embodiment. . In the fourth embodiment, the column supporting the fixed stage (stage) is a hollow shaft in which a space connected to the atmosphere outside the column is formed. With this configuration, the hollow shaft filled with air penetrates the inside of the column, and even if the column is evacuated, the inside of the hollow shaft remains in the atmosphere, so the long axis direction of the hollow shaft Pressure does not occur.

図１６は、第４の実施形態に係る検査装置の概略模式断面図である。図１６に示すように、検査装置４００は、ケーシング（以下、コラムという）６１、不図示の光電部２１が固定され且つ中空の固定台（ステージ）６２、ベローズ６３、ベローズ６４、中空軸６５、連結軸６７、運動機構部６８、及び制御部１０を備える。コラム６１は、真空に引くことが可能で側面に第１の穴Ｈ１と第２の穴Ｈ２が設けられたケーシングの一例である。中空軸６５は、第１の穴Ｈ１と第２の穴Ｈ２と通るように配置され、固定台６２に連結しており且つ内部が中空であり、両方の端部が大気に開放されている。本実施形態では一例として中空軸６５は固定台６２に連結されている。   FIG. 16 is a schematic cross-sectional view of the inspection apparatus according to the fourth embodiment. As shown in FIG. 16, in the inspection apparatus 400, a casing (hereinafter referred to as a column) 61, a fixing base (stage) 62, a bellows 63, a bellows 64, a hollow shaft 65, to which a photoelectric unit 21 (not shown) is fixed and is hollow. The connecting shaft 67, the motion mechanism unit 68, and the control unit 10 are provided. The column 61 is an example of a casing which can be evacuated and provided with a first hole H1 and a second hole H2 on the side. The hollow shaft 65 is disposed to pass through the first hole H1 and the second hole H2, is connected to the fixed base 62, is hollow inside, and both ends are open to the atmosphere. In the present embodiment, the hollow shaft 65 is connected to the fixing base 62 as an example.

コラム６１は、真空に引くことが可能である。固定台６２は、中空であり、ベローズ６３、固定台６２、ベローズ６４それぞれの内部を順に通る中空軸６５が設置されている。中空軸６５は大気に開放されている。これにより、中空軸６５が大気に開放されているので、コラム６１を真空にしても中空軸６５の内部は大気のままであるので中空軸６５の長軸方向に圧力が発生しない。このため、運動機構部６８に大きな力がかからないようすることができる。このため、運動機構部６８の故障リスクを低減することができる。   The column 61 can be evacuated. The fixing base 62 is hollow, and a hollow shaft 65 passing through the inside of each of the bellows 63, the fixing base 62, and the bellows 64 is installed. The hollow shaft 65 is open to the atmosphere. As a result, since the hollow shaft 65 is open to the atmosphere, even if the column 61 is evacuated, the pressure in the major axis direction of the hollow shaft 65 is not generated because the inside of the hollow shaft 65 remains the atmosphere. Therefore, it is possible to prevent the exercise mechanism 68 from being subjected to a large force. For this reason, the risk of failure of the movement mechanism unit 68 can be reduced.

ベローズ６３は、第１の伸縮体の一例であり、一端部が固定台６２の一端部に連結され且つ他端部がコラム６１の第１の穴Ｈ１の近傍に接続されて内部が大気に開放されており且つ伸縮性を有する。またベローズ６３は、内部が大気に開放されている。また、ベローズ６４は第２の伸縮体の一例であり、一端部が固定台６２の他端部に連結され且つ他端部がコラム６１の第２の穴Ｈ２の近傍に接続されて内部が大気に開放されており且つ伸縮性を有する。またベローズ６４は、内部が大気に開放されている。運動機構部６８は、ベローズ６３の他端部に連結され、且つ移動対象物（ここでは光電部２１）をコラム６１の長軸方向と略垂直な面において移動させる。制御部１０は、運動機構部６８を制御する。   The bellows 63 is an example of a first expandable body, and one end thereof is connected to one end of the fixing base 62 and the other end is connected to the vicinity of the first hole H1 of the column 61 to open the inside to the atmosphere. And stretchable. The inside of the bellows 63 is open to the atmosphere. The bellows 64 is an example of a second expandable body, and one end is connected to the other end of the fixing base 62 and the other end is connected to the vicinity of the second hole H2 of the column 61 so that the inside is air. Open and stretchable. The inside of the bellows 64 is open to the atmosphere. The movement mechanism unit 68 is connected to the other end of the bellows 63 and moves a movement target (here, the photoelectric unit 21) in a plane substantially perpendicular to the long axis direction of the column 61. The control unit 10 controls the motion mechanism unit 68.

図１７は、第４の実施形態に係る運動機構部６８の概略斜視図である。光電部２１は移動対象物の一例であり、ＵＶレーザ光を受けて電子を放出する光電面を有する。図１７に示すように、光電部２１は、固定台６２に固定されている。   FIG. 17 is a schematic perspective view of an exercise mechanism 68 according to the fourth embodiment. The photoelectric unit 21 is an example of a moving object, and has a photoelectric surface that receives UV laser light and emits electrons. As shown in FIG. 17, the photoelectric unit 21 is fixed to a fixing base 62.

続いて中空軸と垂直方向への移動機構について図１７〜２０を用いて説明する。図１８は、第４の実施形態に係る運動機構部６８の概略断面図である。図１９は、第４の実施形態に係る運動機構部６８の主要部の透視斜視図である。図２０は、中空軸の長軸方向に対して略垂直方向への移動機構を説明するための模式図である。   Subsequently, the moving mechanism in the direction perpendicular to the hollow shaft will be described with reference to FIGS. FIG. 18 is a schematic cross-sectional view of an exercise mechanism 68 according to the fourth embodiment. FIG. 19 is a transparent perspective view of the main part of the motion mechanism 68 according to the fourth embodiment. FIG. 20 is a schematic view for explaining a moving mechanism in a direction substantially perpendicular to the long axis direction of the hollow shaft.

図１７及び図１８に示すように、運動機構部６８は、駆動部７０を備え、この駆動部７０は第１のアクチュエータ７１と第２のアクチュエータ８１とを有する。
更に運動機構部６８は、第１のアクチュエータ７１を支持する支持部材７１１と、一端部が第１のアクチュエータ７１に連結された動力伝達部材７２と、一端部が動力伝達部材７２の他端部に連結されたシャフト７３と、シャフト７３に連結された連結部７４と、連結部７４に固定された第１のラック７５とを備える。第１のラック７５は、ベローズ６３の長軸方向と略垂直な方向に配置されている。 As shown in FIGS. 17 and 18, the motion mechanism unit 68 includes a drive unit 70, and the drive unit 70 includes a first actuator 71 and a second actuator 81.
Furthermore, the motion mechanism unit 68 includes a support member 711 for supporting the first actuator 71, a power transmission member 72 having one end connected to the first actuator 71, and one end the other end of the power transmission member 72. A shaft 73 connected, a connecting portion 74 connected to the shaft 73, and a first rack 75 fixed to the connecting portion 74 are provided. The first rack 75 is disposed in a direction substantially perpendicular to the longitudinal direction of the bellows 63.

また図１７及び図１８に示すように運動機構部６８には、連結軸６７の長軸方向に略垂直方向に動かすためのガイドレールＧＬ１、ＧＬ２、ＧＬ３、ＧＬ４が設けられている。   Further, as shown in FIGS. 17 and 18, the motion mechanism section 68 is provided with guide rails GL1, GL2, GL3 and GL4 for moving in a direction substantially perpendicular to the long axis direction of the connecting shaft 67.

更に図１７及び図１８に示すように運動機構部６８は、第１のラック７５に噛み合う第１のギヤ７６と、第１のギヤ７６に噛み合い且つベローズ６３の長軸方向と略垂直な方向に配置された第２のラック７７を備える。連結軸６７は、中空軸６５の内部に配置されており且つ一端部に第１のギヤ７６が固定されている。更に連結軸６７は、中空軸６５の内面と間隔を設けて挿入されており、連結軸６７の一端は支持部材８２に固定されている。
これにより、図１９に示すように、第１のギヤ７６が回転すると、この回転によって第１のギヤ７６が第２のラック７７上を直線状に移動するので、第１のギヤ７６に固定された連結軸６７も第１のギヤ７６に連れられて、連結軸６７の長軸方向に対して略垂直方向に移動する。 Further, as shown in FIGS. 17 and 18, the motion mechanism portion 68 engages with the first gear 76 meshing with the first rack 75 and the first gear 76 and in a direction substantially perpendicular to the longitudinal direction of the bellows 63. A second rack 77 is provided. The connecting shaft 67 is disposed inside the hollow shaft 65 and has a first gear 76 fixed at one end. Further, the connecting shaft 67 is inserted at a distance from the inner surface of the hollow shaft 65, and one end of the connecting shaft 67 is fixed to the support member 82.
Thereby, as shown in FIG. 19, when the first gear 76 rotates, the first gear 76 linearly moves on the second rack 77 by this rotation, so that the first gear 76 is fixed to the first gear 76. The connecting shaft 67 is also taken by the first gear 76 and moves in a direction substantially perpendicular to the long axis direction of the connecting shaft 67.

このような構成を有することにより、第１のアクチュエータ７１が作動して、第１のアクチュエータ７１の一端が図２０の矢印Ａ３３に変位すると、シャフト７３が矢印Ａ３４の方向に変位する。これにより、シャフト７３に連結された第１のラック７５も矢印Ａ３４の方向に変位するので、第１のギヤ７６が第１のラック７５に噛み合いながら矢印Ａ３５の方向に変位する。逆に、第１のアクチュエータ７１の一端が図２０の矢印Ａ３６に変位すると、シャフト７３が矢印Ａ３７の方向に変位する。これにより、シャフト７３に連結された第１のラック７５も矢印Ａ３７の方向に変位するので、第１のギヤ７６が第１のラック７５に噛み合いながら矢印Ａ３８の方向に変位する。   With such a configuration, when the first actuator 71 operates and one end of the first actuator 71 is displaced to the arrow A33 in FIG. 20, the shaft 73 is displaced in the direction of the arrow A34. As a result, the first rack 75 connected to the shaft 73 is also displaced in the direction of the arrow A34, so the first gear 76 is displaced in the direction of the arrow A35 while meshing with the first rack 75. Conversely, when one end of the first actuator 71 is displaced to the arrow A36 in FIG. 20, the shaft 73 is displaced in the direction of the arrow A37. As a result, the first rack 75 connected to the shaft 73 is also displaced in the direction of the arrow A37, so the first gear 76 is displaced in the direction of the arrow A38 while meshing with the first rack 75.

このように、第１のラック７５が直線運動し、それに伴って第１のギヤ７６が回転することにより第１のギヤ７６が第２のラック７７に沿って移動し、それに伴って連結軸６７が連結軸６７の長軸方向と略垂直な方向（図１９、２０のｙ軸方向）に移動する。これにより、連結軸６７が連結軸６７の長軸方向と略垂直な方向（図１９、２０のｙ軸方向）に移動することで、中空軸６５が連結軸６７に引っ張られて同じ方向に移動し、それに付随して中空軸６５に連結された固定台６２も同じ方向に移動するので、固定台６２に固定された光電部２１を当該同じ方向に移動させることができる。   In this manner, the first rack 75 linearly moves, and the first gear 76 rotates accordingly, whereby the first gear 76 moves along the second rack 77, and accordingly the connecting shaft 67 Moves in a direction (y-axis direction in FIGS. 19 and 20) substantially perpendicular to the long axis direction of the connecting shaft 67. Thereby, the hollow shaft 65 is pulled by the connecting shaft 67 and moves in the same direction by the connecting shaft 67 moving in a direction (y-axis direction in FIGS. 19 and 20) substantially perpendicular to the long axis direction of the connecting shaft 67. In addition, since the fixed base 62 connected to the hollow shaft 65 is also moved in the same direction, the photoelectric unit 21 fixed to the fixed base 62 can be moved in the same direction.

更に図１９に示すように、運動機構部６８は、連結軸６７に連結されており且つ連結軸６７とともに連れ回る第２のギヤ７８と、第２のギヤ７８に噛み合い且つベローズ６３の長軸方向と略垂直な方向に配置された第３のラック７９とを備える。第１のギヤ７６と第２のギヤ７８のピッチは略同じであり、第２のラック７７と第３のラック７９のピッチは略同じである。そして、図１９の矢印Ａ３１、矢印Ａ３２に示すように、連結軸６７が第２のラック７７だけでなく第３のラック７９に沿っても移動する。この構成により、連結軸６７が回転することによって、第１のギヤ７６と第２のギヤ７８が同じだけ回転して、同じだけ中空軸６５の長軸方向と略垂直な方向に動くので、動きの精度を向上させることができる。   Further, as shown in FIG. 19, the movement mechanism portion 68 is connected to the connecting shaft 67 and meshes with the second gear 78 and the second gear 78 that rotates together with the connecting shaft 67 and the longitudinal direction of the bellows 63. And a third rack 79 disposed in a direction substantially perpendicular thereto. The pitches of the first gear 76 and the second gear 78 are substantially the same, and the pitches of the second rack 77 and the third rack 79 are substantially the same. Then, as shown by an arrow A 31 and an arrow A 32 in FIG. 19, the connecting shaft 67 moves not only along the second rack 77 but also along the third rack 79. With this configuration, when the connecting shaft 67 rotates, the first gear 76 and the second gear 78 rotate by the same amount, and move in the direction substantially perpendicular to the long axis direction of the hollow shaft 65 by the same amount. Accuracy can be improved.

また本実施形態では、第２のギヤ７８は連結軸６７の他端部に連結されており、第３のラック７９はコラム６１の外側に配置されている。これにより、連結軸６７の両端部が同じだけ中空軸６５の長軸方向と略垂直な方向に動くので、動きの精度を向上させることができる。   In the present embodiment, the second gear 78 is connected to the other end of the connecting shaft 67, and the third rack 79 is disposed outside the column 61. Thus, both ends of the connecting shaft 67 move in a direction substantially perpendicular to the long axis direction of the hollow shaft 65 by the same amount, so that the accuracy of the movement can be improved.

続いてｘ軸方向への移動機構について説明する。図１７及び１８に示すように、第２のアクチュエータ８１を支持する支持部材８２と、この支持部材８２を支持する支持部材８３を備える。支持部材８２及び支持部材８３は、第２のアクチュエータ８１を固定するための部材として機能する。   Subsequently, the moving mechanism in the x-axis direction will be described. As shown in FIGS. 17 and 18, a support member 82 for supporting the second actuator 81 and a support member 83 for supporting the support member 82 are provided. The support member 82 and the support member 83 function as a member for fixing the second actuator 81.

図２１は、中空軸の長軸方向への移動機構を説明するための模式図である。更に図２１に示すように運動機構部６８は、一端部が第２のアクチュエータ８１の一端部に連結されており（固定されており）且つ他端部が中空軸６５に連結されている（固定されている）動力伝達部材８４を備える。第２のアクチュエータ８１が図２１の矢印Ａ４１に沿って変位すると、それに伴って動力伝達部材８４も同じ方向に変位し、それに伴って中空軸６５も同じ方向に変位する。また図２１に示すように、中空軸６５の内部に形成された中空を連結軸６７が通っている。   FIG. 21 is a schematic view for explaining a moving mechanism of the hollow shaft in the long axis direction. Further, as shown in FIG. 21, the motion mechanism 68 has one end connected (fixed) to one end of the second actuator 81 and the other end connected to the hollow shaft 65 (fixed Power transmission member 84). When the second actuator 81 is displaced along the arrow A41 of FIG. 21, the power transmission member 84 is displaced in the same direction accordingly, and the hollow shaft 65 is also displaced in the same direction accordingly. Further, as shown in FIG. 21, the connecting shaft 67 passes through the hollow formed inside the hollow shaft 65.

このような構成を有することにより、第２のアクチュエータ８１が作動し、それに伴って動力伝達部材８４を介して中空軸６５が中空軸６５の長軸方向に移動する。これにより、中空軸６５が中空軸６５の長軸方向（図２１のｚ軸方向）に移動することで、中空軸６５が連結された固定台６２が付随して同じ方向に移動するので、固定台６２に固定された光電部２１を当該同じ方向に移動させることができる。   By having such a configuration, the second actuator 81 is actuated, and the hollow shaft 65 moves in the longitudinal direction of the hollow shaft 65 via the power transmission member 84 accordingly. As a result, when the hollow shaft 65 moves in the long axis direction (z-axis direction in FIG. 21) of the hollow shaft 65, the fixing base 62 to which the hollow shaft 65 is connected is additionally moved in the same direction. The photoelectric unit 21 fixed to the table 62 can be moved in the same direction.

続いて、図２２、図２３及び図２４を参照しつつ、光電部２１の移動に関わる機構部の組み立て方法を説明する。図２２は、第４の実施形態に係る検査装置において、固定台が取り付けられるときの操作を示す一部斜視図である。図２３は、フランジ９０を取り付ける前の検査装置の一部断面図である。図２４は、フランジ９０を取り付けた後の検査装置の一部断面図である。図２５は、第４の実施形態に係る検査装置における、光電部２１の運動に関わる運動機構部の組み立ての流れの一例を示すフローチャートである。以下、図２５のフローチャートに沿って説明する。   Subsequently, a method of assembling a mechanical unit related to the movement of the photoelectric unit 21 will be described with reference to FIGS. 22, 23 and 24. FIG. 22 is a partial perspective view showing an operation when the fixing base is attached in the inspection apparatus according to the fourth embodiment. FIG. 23 is a partial cross-sectional view of the inspection apparatus before the flange 90 is attached. FIG. 24 is a partial cross-sectional view of the inspection apparatus after the flange 90 is attached. FIG. 25 is a flow chart showing an example of the flow of assembly of the movement mechanism part involved in the movement of the photoelectric part 21 in the inspection apparatus according to the fourth embodiment. Hereinafter, description will be made along the flowchart of FIG.

（ステップＳ１０１）まず、図２２に示すように、矢印Ａ５１の方向に、固定台６２を挿入することによって、ベローズ６３、６４が連結された固定台６２をコラム６１に取り付ける。ここで光電部２１は固定台６２に固定されている。   (Step S101) First, as shown in FIG. 22, the fixed base 62 to which the bellows 63, 64 are connected is attached to the column 61 by inserting the fixed base 62 in the direction of the arrow A51. Here, the photoelectric unit 21 is fixed to the fixing base 62.

（ステップＳ１０２）次に、図２３及び図２４に示すように、中空軸６５にフランジ９０を通し、フランジ９０を取り付ける。   (Step S102) Next, as shown in FIG. 23 and FIG. 24, the flange 90 is passed through the hollow shaft 65, and the flange 90 is attached.

ここで検査装置４００は、コラム６１の第２の穴Ｈ２の内部に配置され且つベローズ６４の他端部に接続され且つ円環状で内部の空間に中空軸６５が通っている円環部材９１を更に備える。更に検査装置４００は、円環部材９１と対向する対向面に円周状の段差が設けられており当該段差によって当該対向面が外縁側の第１の領域と内側の第２の領域に区分けされており、且つ当該第１の領域に略円環状の第１の溝Ｄ１が設けられており且つ内部の空間に中空軸６５が通っているフランジ９０を備える。更に検査装置４００は、第１の溝Ｄ１に嵌め込まれている第１のシール部材１０１を備える。   Here, the inspection apparatus 400 is disposed inside the second hole H2 of the column 61 and connected to the other end of the bellows 64, and has an annular member 91 in which the hollow shaft 65 passes through an annular internal space. Furthermore, it has. Further, in the inspection apparatus 400, a circumferential step is provided on the facing surface facing the annular member 91, and the facing surface is divided into a first region on the outer edge side and a second region on the inner side by the step. And a flange 90 in which a substantially annular first groove D1 is provided in the first region and the hollow shaft 65 passes through in the internal space. The inspection apparatus 400 further includes a first seal member 101 fitted in the first groove D1.

これにより、図２４のようにフランジ９０が中空軸６５に通されてベローズ６４まで押し込まれることにより、第１のシール部材１０１とコラム６１の外面が面している。この状態、すなわち第１のシール部材１０１とコラム６１の外面が面している状態で、フランジ９０がケーシング６１に固定されている。この構成により、第１のシール部材１０１はコラム６１の外周面とフランジ９０の対向面とが面する領域をシールすることができるので、フランジ９０の外周側からコラム６１の内側への空気の流入を遮断することができる。   As a result, the flange 90 is passed through the hollow shaft 65 and pushed down to the bellows 64 as shown in FIG. 24, whereby the outer surfaces of the first seal member 101 and the column 61 face. The flange 90 is fixed to the casing 61 in this state, that is, with the first seal member 101 and the outer surface of the column 61 facing each other. With this configuration, the first seal member 101 can seal the area where the outer peripheral surface of the column 61 and the opposite surface of the flange 90 face each other. Therefore, air flows from the outer peripheral side of the flange 90 to the inside of the column 61 Can block.

フランジ９０は、更に第１の溝Ｄ１の内側に略円環状の第２の溝Ｄ２が設けられている。そして、検査装置４００は第２の溝Ｄ２に嵌め込まれている第２のシール部材１０２を更に備える。これにより、図２４のようにフランジ９０がベローズ６４まで押し込まれることにより、第２のシール部材１０２が円環部材９１の端面に面している。この状態、すなわち第２のシール部材１０２が円環部材９１の端面に面している状態で、フランジ９０がケーシング６１に固定されている。この構成により、第２のシール部材１０２は、フランジ９０の表面と円環部材９１の端面との間の領域をシールすることができるので、フランジ９０の空洞側からコラム９１の内側への空気の流入を遮断することができる。   The flange 90 is further provided with a substantially annular second groove D2 inside the first groove D1. And inspection apparatus 400 is further provided with the 2nd seal member 102 inserted in the 2nd slot D2. As a result, the second seal member 102 faces the end face of the annular member 91 by the flange 90 being pushed down to the bellows 64 as shown in FIG. The flange 90 is fixed to the casing 61 in this state, that is, with the second seal member 102 facing the end face of the annular member 91. With this configuration, the second seal member 102 can seal the region between the surface of the flange 90 and the end face of the annular member 91, so that air from the cavity side of the flange 90 to the inside of the column 91 can be sealed. It is possible to shut off the inflow.

（ステップＳ１０３）次に、中空軸６５に連結軸６７を通す。
（ステップＳ１０４）次に、光電部２１の運動に関わる運動機構部６８を取り付ける。 (Step S103) Next, the connecting shaft 67 is passed through the hollow shaft 65.
(Step S104) Next, the motion mechanism unit 68 involved in the motion of the photoelectric unit 21 is attached.

以上、第４の実施形態に係る検査装置４００は、真空に引くことが可能で側面に第１の穴Ｈ１と第２の穴Ｈ２が設けられたコラム６１と、移動対象物としての光電部２１と、光電部２１が固定された固定台６２とを備える。更に検査装置４００は、固定台６２に連結しており且つ内部が中空であり、一端部が第１の穴Ｈ１を介して大気に開放されており且つ他端部が第２の穴Ｈ２を介して大気に開放されている中空軸６５と、中空軸６５をコラム６１の長軸方向と略垂直な面において移動させる運動機構部６８と、を備える。   As described above, the inspection apparatus 400 according to the fourth embodiment can draw a vacuum and has the column 61 provided with the first hole H1 and the second hole H2 on the side surface, and the photoelectric unit 21 as the moving object And a fixing base 62 to which the photoelectric unit 21 is fixed. Furthermore, the inspection apparatus 400 is connected to the fixed base 62 and hollow inside, and one end is opened to the atmosphere via the first hole H1 and the other end is opened via the second hole H2. And a motion mechanism unit 68 for moving the hollow shaft 65 in a plane substantially perpendicular to the long axis direction of the column 61.

この構成により、コラム６１の中を、内部に空気が充満している中空軸６５が貫通していることにより、コラム６１を真空にしても中空軸６５の内部は大気のままであるので中空軸６５の長軸方向に圧力が発生しない。このため、運動機構部６８に大きな力がかからないようすることができる。このため、運動機構部６８の故障リスクを低減することができる。   With this configuration, the hollow shaft 65 filled with air penetrates the inside of the column 61, so that even if the column 61 is evacuated, the hollow shaft 65 remains in the air, so the hollow shaft is hollow shaft. No pressure is generated in the direction of the major axis of 65. Therefore, it is possible to prevent the exercise mechanism 68 from being subjected to a large force. For this reason, the risk of failure of the movement mechanism unit 68 can be reduced.

本実施形態では、移動対象物として光電部２１を一例として説明したが、これに限ったものではない。すなわち、検査装置は、真空に引くことが可能で側面に第１の穴と第２の穴が設けられたケーシングと、移動対象物と、前記移動対象物が固定された固定台と、一端部が前記固定台の一端部に連結され且つ他端部が前記ケーシングの前記第１の穴の近傍に接続されて内部が大気に開放されており且つ伸縮性を有する第１の伸縮体と、一端部が前記固定台の他端部に連結され且つ他端部が前記ケーシングの前記第２の穴の近傍に接続されて内部が大気に開放されており且つ伸縮性を有する第２の伸縮体と、前記固定台を前記ケーシングの長軸方向と略垂直な面において移動させる運動機構部と、を備える検査装置という構成が可能である。この構成により、第１の伸縮体、第２の伸縮体それぞれにかかる差圧が釣り合うことにより、運動機構部にかかる力がキャンセルされる。このため、運動機構部を支持する頑丈な構造体を設置する必要がなくなりコストを低減するとともに、構造体のメンテナンスからも開放される。   In the present embodiment, the photoelectric unit 21 is described as an example of the moving object, but the present invention is not limited to this. That is, the inspection apparatus can draw a vacuum and has a casing provided with a first hole and a second hole on the side, a moving object, a fixing base on which the moving object is fixed, and one end Is connected to one end of the fixed base and the other end is connected to the vicinity of the first hole of the casing so that the inside is open to the atmosphere and has a stretchable first stretchable body; A second stretchable body having a stretchability and a portion connected to the other end of the fixed base and the other end connected to the vicinity of the second hole of the casing so that the inside is open to the atmosphere And a motion mechanism section for moving the fixing base in a plane substantially perpendicular to the long axis direction of the casing. With this configuration, the differential pressure applied to each of the first expandable body and the second expandable body is balanced, thereby canceling the force applied to the motion mechanism. As a result, it is not necessary to install a robust structure for supporting the movement mechanism, which reduces the cost and is free from maintenance of the structure.

その場合の具体的な構成として、当該検査装置は、前記第１の穴と前記第２の穴を通るように配置され、前記固定台に連結しており且つ内部が中空であり、両方の端部が大気に開放されている中空軸を更に備え、前記運動機構部が前記中空軸を前記ケーシングの長軸方向と略垂直な面において移動させてもよい。この構成により、ケーシングの中を、内部に空気が充満している中空軸が貫通していることにより、ケーシングを真空にしても中空軸の内部は大気のままであるので中空軸の長軸方向に圧力が発生しない。このため、運動機構部に大きな力がかからないようすることができる。このため、運動機構部の故障リスクを低減することができる。   As a specific configuration in that case, the inspection device is disposed so as to pass through the first hole and the second hole, is connected to the fixed base, and is hollow inside, and both ends The apparatus may further include a hollow shaft whose portion is open to the atmosphere, and the motion mechanism may move the hollow shaft in a plane substantially perpendicular to the long axis direction of the casing. With this configuration, the hollow shaft filled with air penetrates through the inside of the casing, and even if the casing is evacuated, the inside of the hollow shaft remains in the atmosphere, so the long axis direction of the hollow shaft Pressure does not occur. For this reason, it is possible to prevent a large force from being applied to the motion mechanism. For this reason, the failure risk of the exercise mechanism part can be reduced.

＜変形例＞
続いて、第４の実施形態の検査装置の変形例について説明する。図２６は、第４の実施形態の変形例に係る検査装置の概略模式図である。第４の実施形態の変形例に係る検査装置４００ｂは、図１６の第４の実施形態に係る検査装置４００と比べて、連結軸６７ｂが短くなっている。そして、連結軸６７ｂは、軸受１１７、１１８、１１９によって支持されている。検査装置４００ｂは、図１６の第４の実施形態に係る検査装置４００と比べて、更に、第３の伸縮体の一例であるベローズ１１３と、第４の伸縮体の一例であるベローズ１１３と、第２の中空軸１１５を備える。 <Modification>
Subsequently, a modification of the inspection apparatus of the fourth embodiment will be described. FIG. 26 is a schematic view of an inspection apparatus according to a modification of the fourth embodiment. The inspection apparatus 400b according to the modification of the fourth embodiment has a connecting shaft 67b shorter than the inspection apparatus 400 according to the fourth embodiment of FIG. The connecting shaft 67 b is supported by the bearings 117, 118, 119. The inspection apparatus 400b further includes a bellows 113 which is an example of a third expandable body, and a bellows 113 which is an example of a fourth expandable body, as compared with the inspection apparatus 400 according to the fourth embodiment of FIG. A second hollow shaft 115 is provided.

コラム６１ｂは、コラム６１と比べて、更に側面に第３の穴と第４の穴が設けられている。ベローズ１１３は、一端部がコラム６１ｂに連結しており当該コラム６１ｂの前記第３の穴を介して内部が大気に開放されている。ベローズ１１４は、一端部がコラム６１ｂに連結しており当該コラム６１ｂの前記第４の穴を介して内部が大気に開放されている。第２の中空軸１１５は、中空軸６５とは異なる角度（ここでは略直角）に配置されており、固定台６２に連結しており且つ内部が中空であり、一端部が第３の穴を介して大気に開放されており且つ他端部が第４の穴を介して大気に開放されている。   The column 61 b is further provided with a third hole and a fourth hole on the side surface as compared with the column 61. One end of the bellows 113 is connected to the column 61b, and the inside is opened to the atmosphere through the third hole of the column 61b. One end of the bellows 114 is connected to the column 61b, and the inside is opened to the atmosphere through the fourth hole of the column 61b. The second hollow shaft 115 is disposed at an angle different from the hollow shaft 65 (here, approximately at right angles), is connected to the fixing base 62 and is hollow inside, and one end is a third hole The other end is open to the atmosphere through the fourth hole.

検査装置４００ｂは、図１６の第４の実施形態に係る検査装置４００と比べて、第３のラック７９ｂが、第２の中空軸１１５の内部を通っている。
また検査装置４００ｂは、図１６の第４の実施形態に係る検査装置４００と比べて、第２のギヤ７８ｂが、第２の中空軸１１５の内部に配置されている。 The third rack 79 b passes through the inside of the second hollow shaft 115 as compared with the inspection apparatus 400 according to the fourth embodiment of FIG. 16 in the inspection apparatus 400 b.
Further, in the inspection device 400 b, the second gear 78 b is disposed inside the second hollow shaft 115 as compared to the inspection device 400 according to the fourth embodiment of FIG. 16.

この構成により、第２のギヤ７８ｂが第２の中空軸１１５の内部において第３のラック７９ｂに噛み合いながら回転する。それに伴って連結軸６７が回転しながら第３のラック７９ｂの長軸方向（図２６のｙ軸方向）に移動し、それに連られて中空軸６５も第３のラック７９ｂの長軸方向（図２６のｙ軸方向）に移動する。その結果、中空軸６５に連結している固定台６２とともに、固定台６２に固定された光電部が第３のラック７９ｂの長軸方向（図２６のｙ軸方向）に移動する。   With this configuration, the second gear 78 b rotates while meshing with the third rack 79 b inside the second hollow shaft 115. Along with this, the connecting shaft 67 rotates and moves in the long axis direction of the third rack 79b (y-axis direction in FIG. 26), and the hollow shaft 65 is also linked to it and the long axis direction of the third rack 79b (figure Move in the y-axis direction of 26). As a result, together with the fixed base 62 connected to the hollow shaft 65, the photoelectric unit fixed to the fixed base 62 moves in the long axis direction (y-axis direction in FIG. 26) of the third rack 79b.

なお、検査装置の光電部の移動機構について、第３及び第４の実施形態で説明したが、この移動機構を、第２の実施形態に係る照射装置に適用してもよい。その場合、照射装置は、真空に引くことが可能で側面に第１の穴と第２の穴が設けられたケーシングと、移動対象物と、前記移動対象物が固定された固定台と、一端部が前記固定台の一端部に連結され且つ他端部が前記ケーシングの前記第１の穴の近傍に接続されて内部が大気に開放されており且つ伸縮性を有する第１の伸縮体と、一端部が前記固定台の他端部に連結され且つ他端部が前記ケーシングの前記第２の穴の近傍に接続されて内部が大気に開放されており且つ伸縮性を有する第２の伸縮体と、前記第１の伸縮体の他端部に連結され、且つ前記固定台を前記ケーシングの長軸方向と略垂直な面において移動させる運動機構部と、を備える構成が可能である。この構成により、第１の伸縮体、第２の伸縮体それぞれにかかる差圧が釣り合うことにより、運動機構部にかかる力がキャンセルされる。このため、運動機構部を支持する頑丈な構造体を設置する必要がなくなりコストを低減するとともに、構造体のメンテナンスからも開放される。   Although the moving mechanism of the photoelectric unit of the inspection apparatus has been described in the third and fourth embodiments, this moving mechanism may be applied to the irradiation apparatus according to the second embodiment. In that case, the irradiation apparatus can draw a vacuum and has a casing provided with a first hole and a second hole on the side, a moving object, a fixing base on which the moving object is fixed, and one end A first stretchable body having a stretchability and having a portion connected to one end of the fixed base and the other end connected to the vicinity of the first hole of the casing so that the inside is open to the atmosphere; A second stretchable body having one end connected to the other end of the fixed base and the other end connected to the vicinity of the second hole of the casing so that the inside is open to the atmosphere and having elasticity. And a motion mechanism connected to the other end of the first expandable body and moving the fixing base in a plane substantially perpendicular to the long axis direction of the casing. With this configuration, the differential pressure applied to each of the first expandable body and the second expandable body is balanced, thereby canceling the force applied to the motion mechanism. As a result, it is not necessary to install a robust structure for supporting the movement mechanism, which reduces the cost and is free from maintenance of the structure.

その場合の具体的な構成として、当該照射装置は、前記第１の穴と前記第２の穴を通るように配置され、前記固定台に連結しており且つ内部が中空であり、両方の端部が大気に開放されている中空軸を更に備え、前記運動機構部が前記中空軸を前記ケーシングの長軸方向と略垂直な面において移動させてもよい。この構成により、ケーシングの中を、内部に空気が充満している中空軸が貫通していることにより、ケーシングを真空にしても中空軸の内部は大気のままであるので中空軸の長軸方向に圧力が発生しない。このため、運動機構部に大きな力がかからないようすることができる。このため、運動機構部の故障リスクを低減することができる。   As a specific configuration in that case, the irradiation device is disposed to pass through the first hole and the second hole, is connected to the fixing base, and is hollow inside, and both ends The apparatus may further include a hollow shaft whose portion is open to the atmosphere, and the motion mechanism may move the hollow shaft in a plane substantially perpendicular to the long axis direction of the casing. With this configuration, the hollow shaft filled with air penetrates through the inside of the casing, and even if the casing is evacuated, the inside of the hollow shaft remains in the atmosphere, so the long axis direction of the hollow shaft Pressure does not occur. For this reason, it is possible to prevent a large force from being applied to the motion mechanism. For this reason, the failure risk of the exercise mechanism part can be reduced.

また、検査装置の光電部の移動機構について、第４の実施形態で説明したが、この移動機構を、第２の実施形態に係る照射装置に適用してもよい。   In addition, although the moving mechanism of the photoelectric unit of the inspection apparatus has been described in the fourth embodiment, this moving mechanism may be applied to the irradiation apparatus according to the second embodiment.

以上、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。   As described above, the present invention is not limited to the above embodiment as it is, and at the implementation stage, the constituent elements can be modified and embodied without departing from the scope of the invention. In addition, various inventions can be formed by appropriate combinations of a plurality of constituent elements disclosed in the above embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, components in different embodiments may be combined as appropriate.

１、２０１ 光源
２、２０２ 光電部
２１、２２１ 光電面
２２、２２２ 支持体
３、２０３ 運動機構部
３１ モータ
３２ 回転軸
３３ 歯車
４、２０４ 電極
５ ガンレンズ
６ Ｅ×Ｂフィルタ
７ ＧＬ制御部
８ ステージ
９、２２０ 試料
１０、２１０ 制御部
１００ 検査装置
１０１ 第１のシール部材
１０２ 第２のシール部材
１１３、１１４ ベローズ
１１５ 第２の中空軸
１１７ 軸受
２００ 照射装置
２３０ ステージ
２３１ モータ
２３２ 回転軸
２３３ 歯車
２４０ 透過窓
２５０ ステージ制御不
２６０ メインチャンバ
３００、３００ｂ、３００ｃ 検査装置
４０、４０ｂ、４０ｃ 運動機構部
４００、４００ｂ 検査装置
４１ コラム
４２ 固定台
４３ 柱
４４ ベローズ
４５、４５ｂ 駆動部
４６ 支持部
４７ 柱
４８ ベローズ
４９ 駆動部
５０ 制御システム
５０１ 位置センサ
５０２ 制御部
５２、５４ 柱
５３、５５ ベローズ
６００ 検査装置
６１、６１ｂ ケーシング（コラム）
６２ 固定台（ステージ）
６３、６４ ベローズ
６５ 中空軸
６７、６７ｂ 連結軸
６８ 運動機構部
７０ 駆動部
７１ 第１のアクチュエータ
７１１ 支持部材
７２ 動力伝達部材
７３ シャフト
７４ 連結部
７５ 第１のラック
７６ 第１のギヤ
７７ 第２のラック
７８、７８ｂ 第２のギヤ
７９、７９ｂ 第３のラック
８１ 第２のアクチュエータ
８２ 支持部材
８３ 支持部材
８４ 動力伝達部材
９０ フランジ
９１ 円環部材
ＧＬ１〜ＧＬ４ ガイドレール DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 201 Light source 2, 202 Photoelectric part 21, 221 Photoelectric surface 22, 222 Support body 3, 203 Motion mechanism part 31 Motor 32 Rotation shaft 33 Gear 4, 204 Electrode 5 Gun lens 6 ExB filter 7 GL control part 8 Stage 9, 220 Sample 10, 210 Control Unit 100 Inspection Device 101 First Seal Member 102 Second Seal Member 113, 114 Bellows 115 Second Hollow Shaft 117 Bearing 200 Irradiation Device 230 Stage 231 Motor 232 Rotation Shaft 233 Gear 240 Transmission Window 250 Stage control not 260 Main chamber 300, 300b, 300c Inspection device 40, 40b, 40c Motion mechanism part 400, 400b Inspection device 41 Column 42 Fixing base 43 Column 44 Bellows 45, 45b Drive part 46 Support part 47 Column 48 Bellows 49 Drive unit 50 Control system 501st place Sensor 502 the control unit 52, 54 poster 53,55 bellows 600 inspection device 61,61b casing (column)
62 Fixed base (stage)
63, 64 Bellows 65 Hollow shaft 67, 67b Coupling shaft 68 Movement mechanism 70 Drive section 71 First actuator 711 Support member 72 Power transmission member 73 Shaft 74 Coupling section 75 First rack 76 First gear 77 Second gear Rack 78 78b Second gear 79 79b Third rack 81 Second actuator 82 Support member 83 Support member 84 Power transmission member 90 Flange 91 Ring member GL1 to GL4 Guide rail

Claims (22)

光を受けて電子を放出する光電面を有する光電部と、
前記光電面に沿った平面上で前記光電部を運動させる運動機構部と、
前記運動機構部を制御する制御部と、
を備え、
前記光の光軸は前記光電面の中心から外れており、
前記制御部は、前記光の前記光電面における照射位置移動速度が規定速度以下になるよう前記運動機構部を制御する
検査装置。 A photoelectric unit having a photoelectric surface that receives light and emits electrons;
A movement mechanism unit for moving the photoelectric unit on a plane along the photoelectric surface;
A control unit that controls the motion mechanism unit;
Equipped with
The optical axis of the light is off center of the photocathode,
The control unit controls the movement mechanism unit so that the irradiation position moving speed of the light on the photoelectric surface becomes equal to or less than a specified speed. 前記規定速度は、前記光電面における照射対象領域全体を前記光が移動するのにかかる時間が規定時間となる速度であり、
前記制御部は、前記光電面における照射対象領域全体を前記光が移動するのにかかる時間が規定時間以上になるよう前記運動機構部を制御する
請求項１に記載の検査装置。 The specified speed is a speed at which the time taken for the light to move through the entire area to be irradiated on the photoelectric surface is a specified time.
The inspection apparatus according to claim 1, wherein the control unit controls the movement mechanism unit such that a time taken for the light to move in the entire irradiation target area on the photoelectric surface is equal to or longer than a predetermined time. 光を受けて電子を放出する光電面を有する光電部と、
前記光電面に沿った平面上で前記光電部を回転させる運動機構部と、
前記運動機構部を制御する制御部と、
を備え、
前記光の光軸は前記光電面の中心から外れており、
前記制御部は、前記光電面における特定の場所を一度光で照射してから再度当該特定の場所を照射するまでの時間を設定時間以内にするよう前記運動機構部を制御する
検査装置。 A photoelectric unit having a photoelectric surface that receives light and emits electrons;
A motion mechanism unit that rotates the photoelectric unit on a plane along the photoelectric surface;
A control unit that controls the motion mechanism unit;
Equipped with
The optical axis of the light is off center of the photocathode,
The control unit controls the exercise mechanism unit so that the time from the irradiation of a specific place on the photoelectric surface with light once to the irradiation of the specific place again is within a set time. 前記設定時間は、１秒である
請求項３に記載の検査装置。 The inspection apparatus according to claim 3, wherein the set time is one second. 前記制御部は、試料を検査する前に、前記光電面に前記光を照射するよう前記運動機構部を制御する
請求項１から４のいずれか一項に記載の検査装置。 The inspection apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the control unit controls the movement mechanism unit to irradiate the light to the photoelectric surface before inspecting a sample. 前記試料を検査する際に前記光電面に照射する光は、第１のパワー密度であり、
前記試料を検査する前に前記光電面に照射する光は、前記第１のパワー密度より高い第２のパワー密度である
請求項５に記載の検査装置。 The light irradiated to the photoelectric surface when the sample is inspected has a first power density,
The inspection apparatus according to claim 5, wherein the light irradiated to the photoelectric surface before the inspection of the sample is a second power density higher than the first power density. 前記光電面から放出された電子が通過する経路の周りに配置された電極を更に備え、
前記光電面に比べて前記電極の電位が高い
請求項１から６のいずれか一項に記載の検査装置。 And an electrode disposed around a path through which electrons emitted from the photocathode pass.
The inspection apparatus according to any one of claims 1 to 6, wherein the potential of the electrode is higher than that of the photoelectric surface. 前記光電面を基準とする前記電極の電位は、１００〜１０００Ｖである
請求項７に記載の検査装置。 The inspection apparatus according to claim 7, wherein a potential of the electrode with reference to the photoelectric surface is 100 to 1000V. 前記光電部は、前記光電面を支持する支持体を有し、
前記運動機構部は、前記支持体を回転させることによって前記光電面を回転させる
請求項１から８のいずれか一項に記載の検査装置。 The photoelectric unit has a support for supporting the photoelectric surface,
The inspection apparatus according to any one of claims 1 to 8, wherein the movement mechanism unit rotates the photoelectric surface by rotating the support. 前記支持体にはネジが切られており、
前記運動機構部は、モータと、当該モータの回転軸に連結され且つ前記支持体の前記ネジに噛み合う歯車とを有し、
前記モータが回転することによって前記歯車が回転し、当該歯車の回転に伴い前記支持体が回転することによって前記光電面が回転する
請求項９に記載の検査装置。 The support is threaded and
The motion mechanism unit includes a motor and a gear connected to a rotation shaft of the motor and meshing with the screw of the support.
The inspection apparatus according to claim 9, wherein the gear is rotated by the rotation of the motor, and the photoelectric surface is rotated by the rotation of the support as the gear is rotated. 真空に引くことが可能で側面に第１の穴と第２の穴が設けられたケーシングと、
前記光電部が固定された固定台と、
一端部が前記固定台の一端部に連結され且つ他端部が前記ケーシングの前記第１の穴の近傍に接続されて内部が大気に開放されており且つ伸縮性を有する第１の伸縮体と、
一端部が前記固定台の他端部に連結され且つ他端部が前記ケーシングの前記第２の穴の近傍に接続されて内部が大気に開放されており且つ伸縮性を有する第２の伸縮体と、
を更に備え、
前記運動機構部は、前記固定台を前記ケーシングの長軸方向と略垂直な面において移動させる請求項１から１０のいずれか一項に記載の検査装置。 A casing capable of drawing a vacuum and provided with a first hole and a second hole on its side;
A fixed base to which the photoelectric unit is fixed;
A first stretchable body having one end connected to one end of the fixed base and the other end connected to the vicinity of the first hole of the casing so that the inside is open to the atmosphere and having elasticity. ,
A second stretchable body having one end connected to the other end of the fixed base and the other end connected to the vicinity of the second hole of the casing so that the inside is open to the atmosphere and having elasticity. When,
And further
The inspection apparatus according to any one of claims 1 to 10, wherein the movement mechanism moves the fixing base in a plane substantially perpendicular to the longitudinal direction of the casing. 前記第１の穴と前記第２の穴を通るように配置され、前記固定台に連結しており且つ内部が中空であり、両方の端部が大気に開放されている中空軸を更に備え、
前記運動機構部は、前記中空軸を前記ケーシングの長軸方向と略垂直な面において移動させる請求項１１に記載の検査装置。 The hollow shaft further includes a hollow shaft disposed through the first hole and the second hole, connected to the fixed base and hollow inside, both ends being open to the atmosphere.
The inspection apparatus according to claim 11, wherein the movement mechanism moves the hollow shaft in a plane substantially perpendicular to the longitudinal direction of the casing. 前記運動機構部は、
前記中空軸の長軸方向と略垂直な方向に配置された第１のラックと、
前記中空軸の長軸方向と略垂直な方向に前記第１のラックを移動させる駆動部と、
前記第１のラックに噛み合う第１のギヤと、
前記第１のギヤに噛み合い且つ前記中空軸の長軸方向と略垂直な方向に配置された第２のラックと、
を有し、
前記中空軸の内部に配置されており且つ一端部に前記第１のギヤが固定されている連結軸を備えており、
前記第１のラックが直線運動し、それに伴って前記第１のギヤが回転することにより前記第１のギヤが前記第２のラックに沿って移動し、それに伴って前記連結軸が前記中空軸の長軸方向と略垂直な方向に移動する
請求項１２に記載の検査装置。 The exercise mechanism unit is
A first rack disposed in a direction substantially perpendicular to the long axis direction of the hollow shaft;
A drive unit for moving the first rack in a direction substantially perpendicular to the longitudinal direction of the hollow shaft;
A first gear meshing with the first rack;
A second rack engaged with the first gear and disposed in a direction substantially perpendicular to the long axis direction of the hollow shaft;
Have
The hollow shaft includes a connecting shaft disposed inside the hollow shaft and having the first gear fixed at one end.
The first rack moves in a linear motion, and the first gear rotates along with the linear movement, whereby the first gear moves along the second rack, and accordingly the connecting shaft becomes the hollow shaft. The inspection apparatus according to claim 12, wherein the inspection apparatus moves in a direction substantially perpendicular to the long axis direction of the sensor. 前記運動機構部は、
前記連結軸に連結されており且つ前記連結軸とともに連れ回る第２のギヤと、
前記第２のギヤに噛み合い且つ前記中空軸の長軸方向と略垂直な方向に配置された第３のラックと、
を更に備え、
前記第１のギヤと前記第２のギヤのピッチは略同じであり、
前記第２のラックと前記第３のラックのピッチは略同じであり、
前記連結軸が前記第２のラックだけでなく前記第３のラックに沿っても移動する
請求項１３に記載の検査装置。 The exercise mechanism unit is
A second gear connected to the connecting shaft and rotating with the connecting shaft;
A third rack engaged with the second gear and disposed in a direction substantially perpendicular to the longitudinal direction of the hollow shaft;
And further
The pitches of the first gear and the second gear are substantially the same.
The pitches of the second rack and the third rack are substantially the same.
The inspection apparatus according to claim 13, wherein the connecting shaft moves not only along the second rack but also along the third rack. 前記第２のギヤは前記連結軸の他端部に連結されており、
前記第３のラックは前記ケーシングの外側に配置されている
請求項１４に記載の検査装置。 The second gear is connected to the other end of the connecting shaft,
The inspection apparatus according to claim 14, wherein the third rack is disposed outside the casing. 前記ケーシングの側面に更に第３の穴と第４の穴が設けられており、
一端部が前記固定台の一側面に連結され且つ他端部が前記ケーシングの前記第３の穴の近傍に接続されて内部が大気に開放されており且つ伸縮性を有する第３の伸縮体と、
一端部が前記固定台に他側面に連結され且つ他端部が前記ケーシングの前記第４の穴の近傍に接続されて内部が大気に開放されており且つ伸縮性を有する第４の伸縮体と、
前記第３の穴と前記第４の穴を通り且つ前記中空軸とは異なる角度に配置されており、前記第３の穴と前記第４の穴を通るように配置され、前記固定台に連結しており且つ内部が中空であり、両方の端部が大気に開放されている第２の中空軸と、
を備え、
前記第３のラックは、前記第２の中空軸の内部を通っており、
前記第２のギヤが、前記第２の中空軸の内部に配置されている
請求項１４に記載の検査装置。 Further, a third hole and a fourth hole are provided on the side surface of the casing,
A third stretchable body having one end connected to one side of the fixed base and the other end connected to the vicinity of the third hole of the casing so that the inside is open to the atmosphere and having elasticity. ,
A fourth stretchable body having one end connected to the other side to the fixed base and the other end connected to the vicinity of the fourth hole of the casing so that the inside is open to the atmosphere and having elasticity. ,
The third hole and the fourth hole are disposed at an angle different from the hollow shaft, and the third hole and the fourth hole are disposed to be connected to the fixing base. A second hollow shaft that is hollow and is hollow inside and both ends are open to the atmosphere,
Equipped with
The third rack passes through the inside of the second hollow shaft,
The inspection apparatus according to claim 14, wherein the second gear is disposed inside the second hollow shaft. 前記中空軸の内部に形成された中空を前記連結軸が通っており、
前記駆動部は、前記中空軸の長軸方向に前記中空軸を移動させる
請求項１２から１６のいずれか一項に記載の検査装置。 The connecting shaft passes through a hollow formed inside the hollow shaft,
The inspection apparatus according to any one of claims 12 to 16, wherein the drive unit moves the hollow shaft in a longitudinal direction of the hollow shaft. 前記ケーシングの前記第２の穴の内部に配置され且つ前記第２の伸縮体の他端部に接続され且つ円環状で内部の空間に前記中空軸が通っている円環部材と、
前記円環部材と対向する対向面に円周状の段差が設けられており当該段差によって当該対向面が外縁側の第１の領域と内側の第２の領域に区分けされており、且つ当該第１の領域に略円環状の第１の溝が設けられており且つ内部の空間に前記中空軸が通っているフランジと、
前記第１の溝に嵌め込まれている第１のシール部材と、
を備え、
前記第１のシール部材と前記ケーシングの外面が面している状態で、前記フランジが前記ケーシングに固定されている
請求項１２から１７のいずれか一項に記載の検査装置。 An annular member disposed inside the second hole of the casing and connected to the other end of the second stretchable body, and in which the hollow shaft passes through an annular internal space;
A circumferential step is provided on the facing surface facing the annular member, and the facing surface is divided into a first region on the outer edge side and a second region on the inner side by the step, and A flange in which a substantially annular first groove is provided in a region of 1 and the hollow shaft passes through an internal space;
A first seal member fitted in the first groove;
Equipped with
The inspection apparatus according to any one of claims 12 to 17, wherein the flange is fixed to the casing in a state where the first seal member and the outer surface of the casing face each other. 前記フランジには、当該表面の前記第２の領域に略円環状の第２の溝が設けられており、
前記第２の溝に嵌め込まれている第２のシール部材を更に備え、
前記第２のシール部材が前記円環部材の端面に面している状態で、前記フランジが前記ケーシングに固定されている
請求項１８に記載の検査装置。 The flange is provided with a substantially annular second groove in the second region of the surface;
And a second seal member fitted in the second groove;
The inspection apparatus according to claim 18, wherein the flange is fixed to the casing in a state where the second seal member faces the end face of the annular member. 前記運動機構部を制御する制御部を更に備える
請求項１１から１９のいずれか一項に記載の検査装置。 The inspection apparatus according to any one of claims 11 to 19, further comprising a control unit that controls the exercise mechanism unit. 光を受けて電子を放出する光電面を有する光電部と、
前記光電面に沿った平面上で前記光電部を回転させる運動機構部と、
前記運動機構部を制御する制御部と、
を備え、
前記光の光軸は前記光電面の中心から外れており、
前記制御部は、前記光電面を活性化させるために、前記光の前記光電面における照射位置移動速度が規定速度以下になるよう前記運動機構部を制御する
照射装置。 A photoelectric unit having a photoelectric surface that receives light and emits electrons;
A motion mechanism unit that rotates the photoelectric unit on a plane along the photoelectric surface;
A control unit that controls the motion mechanism unit;
Equipped with
The optical axis of the light is off center of the photocathode,
The control unit controls the motion mechanism unit so that the irradiation position moving speed of the light on the photoelectric surface becomes equal to or less than a specified speed in order to activate the photoelectric surface. 光を受けて電子を放出する光電面を有する光電部と、
前記光電面に沿った平面上で前記光電部を回転させる運動機構部と、
前記運動機構部を制御する制御部と、
を備え、
前記光の光軸は前記光電面の中心から外れており、
前記制御部は、前記光電面を活性化させるために、前記光電面における特定の点を一度光で照射してから再度当該特定の点を照射するまでの時間を規定時間以内にするよう前記運動機構部を制御する
照射装置。 A photoelectric unit having a photoelectric surface that receives light and emits electrons;
A motion mechanism unit that rotates the photoelectric unit on a plane along the photoelectric surface;
A control unit that controls the motion mechanism unit;
Equipped with
The optical axis of the light is off center of the photocathode,
In order to activate the photocathode, the control unit performs the motion so that the time from once irradiating a specific point on the photocathode with light to irradiating the specific point again is within a specified time. Irradiator that controls the mechanical part.
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