JP2018180274A - Optical film and image display device - Google Patents
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- 239000012788 optical film Substances 0.000 title claims abstract description 250
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 299
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 299
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 202
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims abstract description 52
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims abstract description 23
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims abstract description 23
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 claims abstract description 14
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 90
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 45
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 24
- 238000005336 cracking Methods 0.000 claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 71
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 52
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 390
- 239000002585 base Substances 0.000 description 74
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 72
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 50
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 47
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 47
- -1 tungsten halogen Chemical class 0.000 description 44
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 description 34
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 32
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 30
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 25
- 239000002519 antifouling agent Substances 0.000 description 22
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 22
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 22
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 21
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 21
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 21
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 20
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- 241000428199 Mustelinae Species 0.000 description 13
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 12
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 10
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 10
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 10
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 10
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 9
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 9
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 9
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 9
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 9
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 8
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 8
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 8
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 8
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 8
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 8
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 7
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 6
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 6
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 6
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 6
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 6
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 6
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 6
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 5
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 5
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- CVBWTNHDKVVFMI-LBPRGKRZSA-N (2s)-1-[4-[2-[6-amino-8-[(6-bromo-1,3-benzodioxol-5-yl)sulfanyl]purin-9-yl]ethyl]piperidin-1-yl]-2-hydroxypropan-1-one Chemical compound C1CN(C(=O)[C@@H](O)C)CCC1CCN1C2=NC=NC(N)=C2N=C1SC(C(=C1)Br)=CC2=C1OCO2 CVBWTNHDKVVFMI-LBPRGKRZSA-N 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 4
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 4
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001045 blue dye Substances 0.000 description 4
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 3
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 3
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 3
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 3
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ONTODYXHFBKCDK-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine Chemical compound CC1=CC(C)=CC=C1C1=NC=NC=N1 ONTODYXHFBKCDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 2
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 2
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 2
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 2
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 2
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N propyl acetate Chemical compound CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 210000001525 retina Anatomy 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000012086 standard solution Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940124543 ultraviolet light absorber Drugs 0.000 description 2
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 2
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 2
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHPRWKJDGHSJMI-UHFFFAOYSA-N 1-adamantyl prop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(OC(=O)C=C)C3 PHPRWKJDGHSJMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrothieno[3,4-b][1,4]dioxine Chemical compound O1CCOC2=CSC=C21 GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJZBTBIZXCDAMV-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-dioxo-5,6,7,7a-tetrahydro-4h-isoindol-3a-yl)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C1CCCC2C(=O)NC(=O)C21CCOC(=O)C=C VJZBTBIZXCDAMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIPGIZCKZDHTJB-UHFFFAOYSA-N 2-(4-phenylphenyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=C(C=2N=CN=CN=2)C=C1 KIPGIZCKZDHTJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SITYOOWCYAYOKL-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(3-dodecoxy-2-hydroxypropoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCC(O)COCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 SITYOOWCYAYOKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDDKONVLNYCHSZ-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-(benzotriazol-2-yl)-5-(5,5-dimethylhexyl)-2-hydroxyphenyl]methyl]-6-tert-butyl-4-methylphenol Chemical compound Cc1cc(Cc2cc(CCCCC(C)(C)C)cc(c2O)-n2nc3ccccc3n2)c(O)c(c1)C(C)(C)C QDDKONVLNYCHSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWEVLIFGIMIQHY-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 3-[3-tert-butyl-5-(5-chlorobenzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OCC(CC)CCCC)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O AWEVLIFGIMIQHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-amino-2-(trifluoromethyl)phenyl]-3-(trifluoromethyl)aniline Chemical group FC(F)(F)C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C(F)(F)F NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 4-oxo-4-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)butanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)OCCOC(=O)C=C UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQASHPHWVSAHDM-UHFFFAOYSA-N 4h-benzotriazole-5-carboxylic acid Chemical compound C1C(C(=O)O)=CC=C2N=NN=C21 SQASHPHWVSAHDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 5-Chloro-2-(3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRXGKQPTFWTTJW-UHFFFAOYSA-N 5-butoxy-2-[4-(4-butoxy-2-hydroxyphenyl)-6-(2,4-dibutoxyphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]phenol Chemical compound OC1=CC(OCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(OCCCC)=CC=2)O)=NC(C=2C(=CC(OCCCC)=CC=2)OCCCC)=N1 DRXGKQPTFWTTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004953 Aliphatic polyamide Substances 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000019914 Mental Fatigue Diseases 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical class C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- YRXGUZPUZBCGST-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethoxy)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound OCOC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 YRXGUZPUZBCGST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLLSGHWYBGERSE-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethoxy)phenyl]-phenylmethanone;sodium Chemical compound [Na].OCOC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 GLLSGHWYBGERSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229920003231 aliphatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- CHIHQLCVLOXUJW-UHFFFAOYSA-N benzoic anhydride Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OC(=O)C1=CC=CC=C1 CHIHQLCVLOXUJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-dihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N bis(2-hydroxy-4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1O SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLIJPAHLBJIQHE-UHFFFAOYSA-N butylphosphane Chemical compound CCCCP DLIJPAHLBJIQHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- HKQOBOMRSSHSTC-UHFFFAOYSA-N cellulose acetate Chemical compound OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OC1C(CO)OC(O)C(O)C1O.CC(=O)OCC1OC(OC(C)=O)C(OC(C)=O)C(OC(C)=O)C1OC1C(OC(C)=O)C(OC(C)=O)C(OC(C)=O)C(COC(C)=O)O1.CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 HKQOBOMRSSHSTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000004087 cornea Anatomy 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 150000002314 glycerols Chemical class 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000007542 hardness measurement Methods 0.000 description 1
- RSPZSDWVQWRAEF-UHFFFAOYSA-N hepta-1,6-diyne Chemical compound C#CCCCC#C RSPZSDWVQWRAEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 1
- FEUIEHHLVZUGPB-UHFFFAOYSA-N oxolan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCO1 FEUIEHHLVZUGPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N oxybenzone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002688 persistence Effects 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N propiophenone Chemical compound CCC(=O)C1=CC=CC=C1 KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Liquid Crystal (AREA)
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Abstract
Description
本発明は、光学フィルムおよび画像表示装置に関する。 The present invention relates to an optical film and an image display device.
従来から、スマートフォンやタブレット端末等の画像表示装置が知られているが、現在、折り畳み可能な画像表示装置の開発が行われている。通常、スマートフォンやタブレット端末等はカバーガラスで覆われているが、ガラスは、一般的に、硬度は優れるものの、曲がらないので、画像表示装置にカバーガラスを用いた場合には、折り畳もうとすると割れてしまうおそれが高い。このため、折り畳み可能な画像表示装置には、カバーガラスの代わりに、曲げられる樹脂基材とハードコート層とを備える折り畳み可能な光学フィルムを用いることが検討されている（例えば、特許文献１参照）。 Conventionally, image display devices such as smartphones and tablet terminals are known, but at present, development of foldable image display devices is being carried out. Usually, smartphones and tablet terminals are covered with a cover glass, but although the glass is generally excellent in hardness, it does not bend, so if a cover glass is used for the image display device, it should be folded. Then there is a high risk of cracking. For this reason, using a foldable optical film provided with a bendable resin base and a hard coat layer instead of the cover glass is examined for the foldable image display device (see, for example, Patent Document 1) ).
このような折り畳み可能な光学フィルムにおいて、光透過率の向上が求められているが、未だ光透過率の向上が達成されていないのが、現状である。 In such a foldable optical film, although the improvement of light transmittance is calculated | required, it is the present that the improvement of light transmittance is not yet achieved.
本発明は、上記問題を解決するためになされたものである。すなわち、光透過率を向上させることができる折り畳み可能な光学フィルム、およびこれを備えた画像表示装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above problems. That is, it aims at providing a foldable optical film which can improve light transmittance, and an image display provided with the same.
本発明の一の態様によれば、画像表示装置に用いられる折り畳み可能な光学フィルムであって、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる樹脂基材と、前記樹脂基材の一方の面側に設けられた樹脂層と、前記樹脂基材における前記一方の面とは反対側の面である他方の面に設けられ、かつ屈折率が、１．０００より高く、かつ前記樹脂基材の屈折率よりも低い第１の光学調整層と、を備える、光学フィルムが提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided a foldable optical film for use in an image display device, which is selected from the group consisting of polyimide resins, polyamideimide resins, polyamide resins, and polyester resins. A resin base made of a resin of a kind or more, a resin layer provided on one side of the resin base, and the other side of the resin base opposite to the one side And a first optical adjustment layer having a refractive index higher than 1.000 and lower than the refractive index of the resin base.
上記光学フィルムにおいて、前記第１の光学調整層の膜厚が、３０ｎｍ以上１μｍ以下であってもよい。 In the above optical film, the film thickness of the first optical adjustment layer may be 30 nm or more and 1 μm or less.
上記光学フィルムにおいて、前記樹脂基材と前記樹脂層の間に設けられ、かつ前記樹脂層に隣接した第２の光学調整層をさらに備えていてもよい。 The optical film may further include a second optical adjustment layer provided between the resin base and the resin layer and adjacent to the resin layer.
上記光学フィルムにおいて、前記第２の光学調整層の膜厚が、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であってもよい。 In the optical film, the thickness of the second optical adjustment layer may be 30 nm or more and 200 nm or less.
上記光学フィルムにおいて、前記光学フィルムのイエローインデックスが、１５以下であってもよい。 In the optical film, the yellow index of the optical film may be 15 or less.
上記光学フィルムにおいて、前記樹脂層が内側となり、かつ前記光学フィルムの対向する辺部の間隔が１０ｍｍとなるように１８０°折り畳む試験を１万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことが好ましい。 In the above optical film, no cracking or breakage occurs when the test of folding at 180 ° is repeated 10,000 times such that the resin layer is on the inner side and the distance between opposing sides of the optical film is 10 mm. preferable.
本発明の他の態様によれば、表示素子と、前記表示素子よりも観察者側に配置された上記の光学フィルムと、を備える、折り畳み可能な画像表示装置が提供される。 According to another aspect of the present invention, there is provided a foldable image display device comprising a display element and the above-described optical film disposed closer to the viewer than the display element.
上記画像表示装置において、前記表示素子が、有機発光ダイオード素子であってもよい。 In the image display device, the display element may be an organic light emitting diode element.
本発明の一の態様によれば、光透過率を向上させることができる折り畳み可能な光学フィルムを提供できる。また、本発明の他の態様によれば、このような光学フィルムを備える画像表示装置を提供できる。 According to one aspect of the present invention, it is possible to provide a foldable optical film capable of improving the light transmittance. Moreover, according to the other aspect of this invention, the image display apparatus provided with such an optical film can be provided.
以下、本発明の実施形態に係る光学フィルムおよび画像表示装置について、図面を参照しながら説明する。本明細書において、「フィルム」、「シート」等の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、例えば、「フィルム」はシートとも呼ばれるような部材も含む意味で用いられる。図１は本実施形態に係る光学フィルムの概略構成図であり、図２は連続折り畳み試験の様子を模式的に示した図であり、図３は折り畳み静置試験の様子を模式的に示した図である。図４は本実施形態に係る他の光学フィルムの概略構成図である。 Hereinafter, an optical film and an image display apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present specification, the terms "film", "sheet" and the like are not distinguished from one another based only on the difference in designation. Thus, for example, "film" is used in a sense that it also includes a member also called a sheet. FIG. 1 is a schematic configuration view of the optical film according to the present embodiment, FIG. 2 is a view schematically showing a state of a continuous folding test, and FIG. 3 is a view schematically showing a state of a folding stationary test FIG. FIG. 4 is a schematic configuration view of another optical film according to the present embodiment.
＜＜＜光学フィルム＞＞＞
図１に示される光学フィルム１０は、画像表示装置に用いられるものであり、折り畳み可能となっている。
<<< Optical film >>>
An
光学フィルム１０は、樹脂基材１１と、樹脂基材１１の一方の面１１Ａ側に設けられた樹脂層１２と、樹脂基材１１の一方の面１１Ａとは反対側の面である他方の面１１Ｂに設けられた第１の光学調整層１３（以下、単に「光学調整層１３」と称することもある。）とを備えるものである。図１に示される光学フィルム１０は、樹脂基材１１と樹脂層１２の間に設けられ、樹脂層１２に隣接した第２の光学調整層１４（以下、単に「光学調整層１４」と称することもある。）と、樹脂基材１１と第２の光学調整層１４の間に設けられ、かつ樹脂基材１１に隣接した第３の光学調整層１５（以下、単に「光学調整層１５」と称することもある。）とをさらに備えているが、第２の光学調整層１４および／または第３の光学調整層１５は備えられていなくともよい。本明細書における「樹脂層」とは、樹脂からなる層である。樹脂層は、樹脂の他、粒子や添加剤を含んでいてもよい。また、樹脂層は、光学フィルムにおいて、何らかの機能を発揮することを意図された層であってもよい。具体的には、樹脂層としては、例えば、ハードコート層、帯電防止層、防汚層等が挙げられる。樹脂層１２は、ハードコート層として機能するものである。また、樹脂層１２は単層構造となっているが、樹脂層は単層構造のみならず、２層以上の多層構造であってもよい。また、本明細書における各「光学調整層」は、単層構造であり、２層以上の多層構造ではない。なお、図１においては、樹脂基材１１の他方の面１１Ｂに第１の光学調整層１３が設けられているが、第１の光学調整層１３における樹脂基材１１側の面とは反対側の面１３Ａに他の光学調整層が設けられていてもよい。また、図１においては、樹脂基材１１と樹脂層１２との間に、第２の光学調整層１４および第３の光学調整層１５の２層の光学調整層が設けられているが、第２の光学調整層１４と第３の光学調整層１５との間に、他の光学調整層等をさらに設けて、３層以上の構造としてもよい。
The
図１においては、光学フィルム１０の表面１０Ａは、樹脂層１２の表面１２Ａとなっている。なお、本明細書においては、光学フィルムの表面は光学フィルムの片側の表面を意味するものとして用いるので、光学フィルムの表面とは反対側の面は、光学フィルムの表面と区別するために裏面と称するものとする。光学フィルム１０の裏面１０Ｂは、光学調整層１３における樹脂基材１１側の面とは反対側の面１３Ａとなっている。
In FIG. 1, the
光学フィルム１０の全光線透過率は、８５％以上であることが好ましい。光学フィルムの１０の全光線透過率が８５％以上であれば、光学フィルム１０をモバイル端末に用いた場合に充分な画像視認性を得ることができる。全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１：１９９７に準拠して、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いて、測定することができる。全光線透過率を測定する際には、５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムの裏面側から光を照射し、また全光線透過率は３回測定して得られた値の算術平均値とする。光学フィルム１０の全光線透過率は、８７％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが最も好ましい。
The total light transmittance of the
光学フィルム１０は、折り畳み可能となっているが、具体的には、光学フィルム１０に対し次に説明する折り畳み試験（連続折り畳み試験）を１万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が生じないことが好ましく、連続折り畳み試験を２万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が生じないことがより好ましく、１０万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が生じないことがさらに好ましい。光学フィルム１０に対し連続折り畳み試験を１万回繰り返し行った場合に、光学フィルム１０に割れ等が生じると、光学フィルム１０の折り畳み性が不充分となる。連続折り畳み試験は、少なくとも樹脂層１２が内側となるように光学フィルム１０を折り畳むように行われる。また連続折り畳み試験を、樹脂層１２が内側となるように光学フィルム１０を折り畳むようにして行う他、樹脂層１２が外側となるように光学フィルム１０を折り畳むように行ってもよい。この場合、樹脂層１２が内側となるように光学フィルム１０を折り畳む場合および樹脂層１２が外側となるように光学フィルム１０を折り畳む場合のいずれの場合にも、光学フィルムに割れまたは破断が生じないことが好ましい。
Although the
連続折り畳み試験は、以下のようにして行われる。図２（Ａ）に示すように連続折り畳み試験においては、まず、光学フィルム１０の辺部１０Ｃと、辺部１０Ｃと対向する辺部１０Ｄとを、平行に配置された固定部２０でそれぞれ固定する。なお、光学フィルム１０は、任意の形状であってよいが、連続折り畳み試験における光学フィルム１０は、矩形（例えば、３０ｍｍ×１００ｍｍの矩形）であることが好ましい。また、図２（Ａ）に示すように、固定部２０は水平方向にスライド移動可能なっている。
The continuous folding test is performed as follows. As shown in FIG. 2A, in the continuous folding test, first, the
次に、図２（Ｂ）に示すように、固定部２０を互いに近接するように移動させることで、光学フィルム１０の折り畳むように変形させ、更に、図２（Ｃ）に示すように、光学フィルム１０の固定部２０で固定された対向する２つの辺部の間隔が１０ｍｍとなる位置まで固定部２０を移動させた後、固定部２０を逆方向に移動させて光学フィルム１０が変形を解消させる。
Next, as shown in FIG. 2 (B), the fixing
図２（Ａ）〜（Ｃ）に示すように固定部２０を移動させることで、光学フィルム１０を１８０°折り畳むことができる。また、光学フィルム１０の屈曲部１０Ｅが固定部２０の下端からはみ出さないように連続折り畳み試験を行い、かつ固定部２０が最接近したときの間隔を１０ｍｍに制御することで、光学フィルム１０の対向する２つの辺部の間隔を１０ｍｍにできる。この場合、屈曲部１０Ｅの外径を１０ｍｍとみなす。なお、光学フィルム１０の厚みは、固定部２０の間隔（１０ｍｍ）と比較して充分に小さな値であるため、光学フィルム１０の連続折り畳み試験の結果は、光学フィルム１０の厚みの違いによる影響は受けないとみなすことができる。光学フィルム１０においては、光学フィルム１０の対向する辺部の間隔が１０ｍｍとなるように１８０°折り畳む連続折り畳み試験を１万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことがさらに好ましく、光学フィルム１０の対向する辺部の間隔が２ｍｍとなるように１８０°折り畳む連続折り畳み試験を１万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことが最も好ましい。
The
光学フィルム１０においては、図３（Ａ）に示されるように、光学フィルム１０の辺部１０Ｃと、辺部１０Ｃと対向する辺部１０Ｄとを、辺部１０Ｃと辺部１０Ｄの間隔が１０ｍｍとなるように平行に配置された固定部２５でそれぞれ固定して、光学フィルム１０を折り畳んだ状態で、７０℃で１２時間静置する折り畳み静置試験を行い、図３（Ｂ）に示されるように、折り畳み静置試験後に辺部１０Ｄから固定部２５を外すことによって、折り畳み状態を開放して、室温で３０分後に光学フィルム１０において光学フィルム１０が自然に開く角度である開き角θを測定した場合に、光学フィルム１０の開き角θが１００°以上であることが好ましい。なお、開き角θは、大きいほど復元性が良好であることを意味し、最大で１８０°である。折り畳み静置試験は、樹脂層１２が内側となるように光学フィルム１０を折り畳むように行われてもよく、また樹脂層１２が外側となるように光学フィルム１０を折り畳むように行われてもよいが、いずれの場合であっても、開き角θが１００°以上であることが好ましい。
In the
光学フィルム１０の表面１０Ａ（樹脂層１２の表面１２Ａ）は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４：１９９９で規定される鉛筆硬度試験で測定されたときの硬度（鉛筆硬度）が、３Ｈ以上であることが好ましく、４Ｈ以上であることがより好ましい。ただし、鉛筆硬度試験は、５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムをガラス板上に折れやシワがないようニチバン社製のセロテープ（登録商標）で固定し、鉛筆に７５０ｇの荷重を加えるとともに、ひっかき速度を１ｍｍ／秒とした状態で行うものとする。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験において光学フィルムの表面に傷が付かなかった最も高い硬度とする。なお、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆１本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回のうち４回以上光学フィルムの表面に傷が付かなかった場合には、この硬度の鉛筆においては光学フィルムの表面に傷が付かなかったと判断する。上記傷は、鉛筆硬度試験を行った光学フィルムの表面を蛍光灯下で透過観察して視認されるものを指す。
The
光学フィルム１０の表面１０Ａの表面抵抗値は、１０１２Ω／□以下であることが好ましい。表面抵抗値は、ＪＩＳ Ｋ６９１１：２００６に準拠して、抵抗率計（製品名「ハイレスタ−ＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０」、三菱化学アナリテック社製、プローブ：ＵＲＳ）を用いて、測定することができる。光学フィルム１０の表面１０Ａの表面抵抗値は、５ｃｍ×５ｃｍの大きさに切り出した光学フィルム１０の表面１０Ａの表面抵抗値をランダムに１０箇所測定し、測定した１０箇所の表面抵抗値の算術平均値とする。
The surface resistivity of the
光学フィルム１０においては、２３℃、相対湿度５０％の環境下で、光学フィルム１０の表面１０Ａより５０ｍｍの距離から１０ｋＶの電圧を印加したときの光学フィルム１０の表面１０Ａにおける飽和帯電圧が、０ｋＶを越えていることが好ましい。また、同様に、２３℃、相対湿度５０％の環境下で、光学フィルム１０の裏面１０Ｂより５０ｍｍの距離から１０ｋＶの電圧を印加したときの光学フィルム１０の裏面１０Ｂにおける飽和帯電圧が、０ｋＶを越えていることが好ましい。飽和帯電圧とは、光学フィルムが蓄積できる最大電圧である。タッチセンサよりも観察者側に帯電防止ハードコート層を備える光学フィルムを配置した場合、帯電防止ハードコート層によってはタッチセンサによる指等の位置検出ができなくなるおそれがあるが、光学フィルム１０の表面１０Ａにおける飽和帯電圧が、０ｋＶを超えていれば、タッチセンサよりも観察者側に光学フィルム１０を配置した場合であっても、タッチセンサによる指等の位置検出ができる。飽和帯電圧は、帯電電荷減衰度測定器（製品名「Ｈ−０１１０」、シシド静電気社製）を用いて測定することができる。飽和帯電圧は、３回測定して得られた値の算術平均値とする。上記飽和帯電圧の下限は、０．１ｋＶ以上であることがより好ましく、上記飽和帯電圧の上限は、３ｋＶ以下であることがより好ましい。
In the
光学フィルム１０は、イエローインデックス（ＹＩ）が１５以下であることが好ましい。光学フィルム１０のイエローインデックス（ＹＩ）が１５以下であれば、光学フィルムの黄色味を抑制でき、透明性が求められる用途に適用できる。イエローインデックス（ＹＩ）は、分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、島津製作所社製、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）を用いて５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムについて測定された値からＪＩＳ Ｚ８７２２：２００９に記載された演算式に従って色度三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを計算し、三刺激値Ｘ、Ｙ、ＺからＡＳＴＭ Ｄ１９２５：１９６２に記載された演算式に従って算出された値である。光学フィルム１０のイエローインデックス（ＹＩ）の上限は、１０以下であることがより好ましく、５以下であることがより好ましい。
The
光学フィルム１０のイエローインデックス（ＹＩ）を調整するために、例えば、樹脂基材１１、樹脂層１２、光学調整層１３〜１５の少なくともいずれかに、黄色の補色となる青色の色素を含有させてもよい。樹脂基材として、ポリイミド系基材を用いたことで、黄色味が問題となるような場合であったとしても、樹脂基材１１等に青色の色素を含ませることで、光学フィルムのイエローインデックス（ＹＩ）を低下させることができる。
In order to adjust the yellow index (YI) of the
上記青色の色素としては、顔料または染料のいずれであってもよいが、例えば、光学フィルム１０が有機発光ダイオード表示装置に用いる場合、耐光性や耐熱性を兼ね備えたものが好ましい。上記青色の色素として、多環系有機顔料や金属錯体有機顔料等は、染料の分子分散に比べて紫外線による分子裂断の度合いが少なく耐光性が格段に優れるため、耐光性等が求められる用途に好ましく、より具体的には、フタロシアニン系の有機顔料等が好適に挙げられる。ただし、顔料は溶剤に対して粒子分散するため、粒子散乱による透明性阻害は存在するため、顔料分散体の粒度をレイリー散乱域に入れることが好ましい。一方、光学フィルムの透明性が重要視される場合には、上記青色の色素としては、溶剤に対して分子分散する染料を用いることが好ましい。また、上記青色の色素として、コバルトブルー等の無機顔料を用いてもよい。
The blue dye may be either a pigment or a dye, but for example, when the
光学フィルム１０に向けて光学調整層１３側から波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の領域において連続スペクトルを有する光を入射角度０°で照射し、光学フィルム１０を透過した光（透過光）におけるＬ*ａ*ｂ*表色系の色座標ａ*、ｂ*を求めたとき、ａ*が−３．０以上２．０以下であり、ｂ*が−２．０以上８．０以下であることが好ましい。ａ*およびｂ*がそれぞれ前記範囲内にあれば、イエローインデックスを１５以下にすることができる。ａ*およびｂ*の測定は、分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、島津製作所社製）を用いて５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムに対して行う。光源としては、タングステンハロゲン（ＷＩ）ランプ単体、または重水素（Ｄ２）ランプとタングステンハロゲン（ＷＩ）ランプとの併用が挙げられる。本明細書において、「入射角度０°の光」とは、光学フィルムの一方の面の法線方向を０°としたときの前記法線方向の光を意味する。「Ｌ*ａ*ｂ*表色系」、「ａ*」、および「ｂ*」は、ＪＩＳ Ｚ８７２９：２００４に準拠するものである。
L * a * in light (transmitted light) transmitted through the
光学フィルム１０の波長３８０ｎｍの光の透過率は８％以下であることが好ましい。光学フィルムの上記透過率が８％を超えると、光学フィルムをモバイル端末に用いた場合、偏光子が紫外線に晒されて、劣化しやすくなるおそれがある。上記透過率は、分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、島津製作所製）を用いて測定することができる。上記透過率は、３回測定して得られた値の算術平均値とする。光学フィルム１０の上記透過率の上限は５％以下であることがより好ましい。なお、光学フィルム１０の上記透過率は、後述する紫外線吸収剤の添加量を調整すること等によって達成することができる。
The transmittance of light with a wavelength of 380 nm of the
光学フィルム１０のヘイズ値（全ヘイズ値）は２．５％以下であることが好ましい。光学フィルム１０の上記ヘイズ値が２．５％以下であれば、光学フィルム１０をモバイル端末に用いた場合、画像表示面の白化を抑制できる。上記ヘイズ値は、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に準拠した方法により測定することができる。上記ヘイズ値は、５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムに対して３回測定して得られた値の算術平均値とする。上記ヘイズ値は、１．５％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることがより好ましい。なお、光学フィルム１０の上記ヘイズ値は、樹脂層１２中の後述する紫外線吸収剤の添加量を調整すること等によって達成することができる。
The haze value (all haze values) of the
近年、パーソナルコンピュータやタブレット端末等の画像表示装置のバックライトの光源として発光ダイオード（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）が積極的に採用されているが、この発光ダイオードは、ブルーライトと呼ばれる光を強く発している。このブルーライトは、波長３８０ｎｍ〜４９５ｎｍの光で紫外線に近い性質を持っており、強いエネルギーを有しているため、角膜や水晶体で吸収されずに網膜に到達することで、網膜の損傷、眼精疲労、睡眠への悪影響等の原因になると言われている。このため、光学フィルムを、画像表示装置に適用した場合に、表示画面の色味に影響を与えることなく、ブルーライト遮蔽性に優れたものとなることが好ましい。このため、ブルーライトを遮光する観点から、光学フィルム１０は、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１％未満であり、波長４１０ｎｍにおける分光透過率が１０％未満であり、波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％以上であることが好ましい。上記波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１％以上であったり、波長４１０ｎｍにおける分光透過率が１０％以上であったりすると、ブルーライトによる問題を解消できないことがあり、波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％未満であると、光学フィルムを用いた画像表示装置の表示画面の色味に影響を及ぼしてしまうことがあるからである。光学フィルム１０は、ブルーライトの波長のうち、波長４１０ｎｍ以下の波長領域の光を充分に吸収させる一方で、波長４４０ｎｍ以上の光を充分に透過させ、表示画面の色味に影響を与えることなくブルーライトの遮蔽性を優れたものとすることができる。また、このようなブルーライトの遮蔽性に優れる光学フィルム１０を画像表示装置として有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示装置に適用した場合、有機発光ダイオード素子の劣化抑制にも効果的である。
In recent years, light emitting diodes (Light Emitting Diodes) have been actively adopted as light sources for backlights of image display devices such as personal computers and tablet terminals, but the light emitting diodes strongly emit light called blue light. . This blue light has the property of being close to ultraviolet light with a wavelength of 380 nm to 495 nm, and has strong energy, so it reaches the retina without being absorbed by the cornea or lens, causing damage to the retina or eye It is said to cause mental fatigue and adverse effects on sleep. For this reason, when an optical film is applied to an image display apparatus, it is preferable to become a thing excellent in blue light shielding property, without affecting the color of a display screen. Thus, from the viewpoint of shielding blue light, the
光学フィルム１０の光の透過率は、波長３８０ｎｍまでは殆ど０％であり、波長４１０ｎｍから徐々に光の透過が大きくなり、波長４４０ｎｍ付近で急激に光の透過が大きくなっていることが好ましい。具体的には、例えば、波長４１０ｎｍから４４０ｎｍの間で分光透過率がシグモイド型の曲線を描くように変化することが好ましい。上記波長３８０ｎｍにおける分光透過率は、より好ましくは０．５％未満、更に好ましくは０．２％未満であり、波長４１０ｎｍにおける分光透過率がより好ましくは７％未満、より好ましくは５％未満であり、波長４４０ｎｍにおける分光透過率がより好ましくは７５％以上、更に好ましくは８０％以上である。なお、光学フィルム１０は、波長４２０ｎｍにおける分光透過率が５０％未満であることが好ましい。このような分光透過率の関係を満たすことで、光学フィルム１０は、波長４４０ｎｍ付近で急激に透過率が向上するものとなり、表示画面の色味に影響を及ぼすことなく極めて優れたブルーライト遮蔽性を得ることができる。
It is preferable that the light transmittance of the
光学フィルム１０における波長３８０ｎｍにおける分光透過率は０．１％未満であることがより好ましく、波長４１０ｎｍにおける分光透過率は７％未満であることがより好ましく、波長４４０ｎｍにおける分光透過率は８０％以上であることがより好ましい。
The spectral transmittance at a wavelength of 380 nm in the
光学フィルム１０は、最小二乗法を用いて得られた波長４１５〜４３５ｎｍの範囲の透過スペクトルの傾きが２．０より大きいことが好ましい。上記傾きが２．０以下であると、ブルーライトの光波長領域、例えば、波長４１５〜４３５ｎｍの波長領域において充分に光がカットできずブルーライトカット効果が弱くなることがある。また、ブルーライトの光波長領域（波長４１５〜４３５ｎｍ）をカットしすぎている可能性も考えられ、その場合、画像表示装置のバックライトや発光波長領域（例えば、ＯＬＥＤの波長４３０ｎｍからの発光）に干渉してしまい、色味が悪くなるといった不具合が発生する可能性が大きくなることがある。上記傾きは、例えば、０．５％刻みにて測定可能の分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、島津製作所社製）を用い、前後１ｎｍの間で最低５ポイント分の透過率のデータを４１５〜４３５ｎｍ間で測定することで算出することができる。
In the
光学フィルム１０は、ブルーライトの遮蔽率が４０％以上であることが好ましい。ブルーライトの遮蔽率が４０％未満であると、上述したブルーライトに起因した問題が充分に解消できないことがある。上記ブルーライトの遮蔽率は、例えば、ＪＩＳ Ｔ７３３３：２００５により算出される値である。なお、このようなブルーライト遮蔽率は、例えば、樹脂層１２が後述するセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を含むことで、達成することができる。
The
光学フィルム１０の大きさは、特に制限されず、例えば、スマートフォン、タブレット端末、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、ウェアラブル端末、デジタルサイネージ、テレビジョン等の画像表示装置の表示面の大きさに応じて適宜決定される。具体的には、光学フィルム１０の大きさは、例えば、１インチ以上５００インチ以下となっていてもよい。なお、光学フィルム１０の上記大きさとは、折り畳んだ状態での大きさを意味するものとする。
The size of the
＜＜樹脂基材＞＞
樹脂基材１１は、光透過性を有している。本明細書における「光透過性」とは、光を透過させる性質を意味し、例えば、全光線透過率が５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上であることを含む。光透過性とは、必ずしも透明である必要はなく、半透明であってもよい。
<< Resin base material >>
The
樹脂基材１１は、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂やポリエチレンナフタレート樹脂）からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる基材である。
The
これらの樹脂の中でも、連続折り畳み試験において割れ又は破断が発生しにくいだけでなく、優れた硬度及び透明性をも有し、また、耐熱性にも優れ、焼成することにより、更に優れた硬度及び透明性を付与することもできる観点から、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、またはこれらの混合物が好ましい。 Among these resins, not only cracking or breakage is less likely to occur in the continuous folding test, but also excellent hardness and transparency, and also excellent in heat resistance, and further excellent hardness and hardness by firing. From the viewpoint of being able to impart transparency, polyimide resins, polyamide resins, or mixtures thereof are preferable.
ポリイミド系樹脂としては、例えば、下記式で表される構造を有する化合物が挙げられる。下記式中、ｎは、繰り返し単位であり、２以上の整数を表す。
ポリアミド系樹脂は、脂肪族ポリアミドのみならず、芳香族ポリアミド（アラミド）を含む概念である。ポリアミド系樹脂としては、例えば、下記式（１８）〜（２０）で表される骨格を有する化合物が挙げられる。なお、下記式中、ｎは、繰り返し単位であり、２以上の整数を表す。 The polyamide resin is a concept including not only aliphatic polyamide but also aromatic polyamide (aramid). As a polyamide-type resin, the compound which has frame | skeleton represented by following formula (18)-(20) is mentioned, for example. In the following formulas, n is a repeating unit and represents an integer of 2 or more.
上記式（１）〜（１７）および（２０）で表されるポリイミド系樹脂またはポリアミド系樹脂からなる基材は、市販のものを用いても良い。上記ポリイミド系樹脂からなる基材の市販品としては、例えば、三菱ガス化学社製のネオプリム等が挙げられ、上記ポリアミド系樹脂からなる基材の市販品としては、例えば、東レ社製のミクトロン等が挙げられる。 A commercially available product may be used as the base material composed of the polyimide resin or the polyamide resin represented by the above formulas (1) to (17) and (20). As a commercial item of the base material which consists of the above-mentioned polyimide system resin, neoprim made by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. is mentioned, for example, As a commercial item of the base material which consists of the above-mentioned polyamide system resin, for example, Mikutron etc. by Toray Industries, Inc. Can be mentioned.
また、上記式（１）〜（１７）および（２０）で表されるポリイミド系樹脂またはポリアミド系樹脂は、公知の方法により合成したものを用いても良い。例えば、上記式（１）で表されるポリイミド系樹脂の合成方法は、特開２００９−１３２０９１に記載されており、具体的には、下記式（２１）で表される４，４’−ヘキサフルオロプロピリデンビスフタル酸二無水物（ＦＰＡ）と２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル（ＴＦＤＢ）とを反応させることにより得ることができる。
上記ポリイミド系樹脂またはポリアミド系樹脂の重量平均分子量は、３０００以上５０万以下の範囲であることが好ましく、５０００〜３０万の範囲であることがより好ましく、１万以上２０万以下の範囲であることが更に好ましい。重量平均分子量が３０００未満であると、充分な強度が得られないことがあり、５０万を超えると粘度が上昇し、溶解性が低下するため、表面が平滑で膜厚が均一な基材が得られないことがある。なお、本明細書において、「重量平均分子量」とは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値である。 The weight average molecular weight of the polyimide resin or the polyamide resin is preferably in the range of 3,000 to 500,000, more preferably in the range of 5,000 to 300,000, and in the range of 10,000 to 200,000. Is more preferred. When the weight average molecular weight is less than 3,000, sufficient strength may not be obtained, and when it exceeds 500,000, the viscosity increases and the solubility decreases, so that the substrate is smooth and the film thickness is uniform. It can not be obtained. In addition, in this specification, a "weight average molecular weight" is the polystyrene conversion value measured by gel permeation chromatography (GPC).
上記ポリイミド系樹脂およびポリアミド系樹脂のなかでも、優れた透明性を有することから、分子内又は分子間の電荷移動が起こりにくい構造を有するポリイミド系樹脂またはポリアミド系樹脂が好ましく、具体的には、上記式（１）〜（８）等のフッ素化ポリイミド系樹脂、上記式（１０）〜（１３）等の脂環構造を有するポリイミド系樹脂、上記式（２０）等のハロゲン基を有するポリアミド系樹脂が挙げられる。 Among the above-mentioned polyimide resins and polyamide resins, polyimide resins or polyamide resins having a structure in which intramolecular or intermolecular charge transfer does not easily occur are preferable because they have excellent transparency. Fluorinated polyimide resins such as the above formulas (1) to (8), polyimide resins having an alicyclic structure such as the above formulas (10) to (13), and polyamides having a halogen group such as the above formula (20) Resin is mentioned.
また、上記式（１）〜（８）等のフッ素化ポリイミド系樹脂では、フッ素化された構造を有するため、高い耐熱性を有しており、ポリイミド系樹脂からなる基材の製造時の熱によって着色されることもないので、優れた透明性を有する。 In addition, fluorinated polyimide resins such as the above formulas (1) to (8) have high heat resistance because they have a fluorinated structure, and heat during the production of a substrate made of polyimide resins It has excellent transparency because it is not colored by.
樹脂基材１１は、硬度を向上させることが可能な観点から、上記式（１）〜（８）等で表されるフッ素化ポリイミド系樹脂または上記式（２０）等のハロゲン基を有するポリアミド系樹脂からなる基材を用いることが好ましい。なかでも、硬度をより向上させることができる観点から、上記式（１）で表されるポリイミド系樹脂からなる基材を用いることがより好ましい。
The
ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートの少なくとも１種を構成成分とする樹脂等が挙げられる。 Examples of polyester resins include resins having at least one of polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate as a component.
樹脂基材１１の屈折率は、樹脂層１２の屈折率よりも高くなっていてもよい。樹脂基材１１の屈折率は、例えば、ＪＩＳ Ｋ７１４２：２００８のＢ法に準拠したベッケ法によって測定することができる。樹脂基材１１の屈折率を、ベッケ法を用いて測定する場合、樹脂基材１１の欠片を１０個切り出し、切り出した１０個の欠片において、波長５８９ｎｍのナトリウムＤ線および屈折率標準液を用いて、欠片の屈折率をそれぞれ測定し、測定した欠片の屈折率の１０個の平均値を樹脂基材１１の屈折率とする。樹脂基材１１の屈折率は、１．５００以上１．８００以下となっていてもよい。また、樹脂基材１１の屈折率は、分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、島津製作所社製）に接続した大形試料室（製品名「ＭＰＣ−３１００」、島津製作所社製）内に絶対鏡面反射測定装置（製品名「ＡＳＲ３１０５」、島津製作所社製）を設置し、絶対鏡面反射測定装置のサンプルホルダに樹脂基材１１を取り付け、０．５ｎｍ間隔で波長３８０〜７８０ｎｍの鏡面反射光（５°反射）の絶対反射率を測定し、得られた絶対反射率の平均値を用いて、以下の式（Ａ）によって求めてもよい。樹脂基材１１の絶対反射率は、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒色ビニールテープ（例えば、製品名「ヤマトビニールテープＮＯ２００−３８−２１」、ヤマト社製、３８ｍｍ幅）を５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した樹脂基材１１の裏面に貼り付けてから測定するものとする。
Ｒ１＝（１−ｎ１）２／（１＋ｎ１）２ …（Ａ）
上記式（Ａ）中、Ｒ１は波長３８０〜７８０ｎｍにおける樹脂基材１１の絶対反射率の平均値（％）を表し、ｎ１は樹脂基材１１の屈折率を表す。
The refractive index of the
R 1 = (1−n 1 ) 2 / (1 + n 1 ) 2 (A)
In the above formula (A), R 1 represents an average value of absolute reflectance of the
樹脂基材１１の厚みは、１０μｍ以上１００μｍ以下となっていることが好ましい。樹脂基材１１の厚みが１０μｍ以上であれば、光学フィルム１０のカールを抑制でき、また充分な硬度を得ることができ、更に、光学フィルム１０をＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌで製造する場合であっても、シワが発生しにくくなり、外観の悪化を招くおそれがない。一方、樹脂基材１１の厚みが１００μｍ以下であれば、光学フィルム１０の折り畳み性能が良好であり、連続折り畳み試験の要件を満足させることができ、また、光学フィルム１０の軽量化の面で好ましい。樹脂基材１１の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、樹脂基材１１の断面を撮影し、その断面の画像において樹脂基材１１の膜厚を１０箇所測定し、その１０箇所の膜厚の算術平均値とする。樹脂基材１１の下限は２５μｍ以上であることがより好ましく、樹脂基材１１の上限は８０μｍ以下であることがより好ましい。
It is preferable that the thickness of the
＜＜樹脂層＞＞
樹脂層１２は、ハードコート層として機能する層である。樹脂層１２は、ハードコート性の他、ハードコート性以外の機能を有していてもよい。樹脂層１２は、ハードコート性の他、帯電防止性を有している。すなわち、樹脂層１２は、帯電防止ハードコート層となっている。本明細書における「ハードコート層」とは、ハードコート層の断面中央におけるマルテンス硬度が３７５ＭＰａ以上の層を意味するものとする。本明細書において、「マルテンス硬度」とは、ナノインデンテーション法による硬度測定により、圧子を５００ｎｍ押込んだときの硬度である。上記ナノインデンテーション法によるマルテンス硬度の測定は、３０ｍｍ×３０ｍｍに切り出した光学フィルム１０についてＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製の「ＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」を用いて行うものとする。すなわち、以下の測定条件で、上記圧子としてＢｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子（三角錐）を樹脂層の断面中央に５００ｎｍ押し込み、一定保持して残留応力の緩和を行った後、除荷させて、緩和後の最大荷重を計測し、該最大荷重Ｐｍａｘ（μＮ）と深さ５００ｎｍのくぼみ面積Ａ（ｎｍ２）とを用い、Ｐｍａｘ／Ａにより、マルテンス硬度を算出する。マルテンス硬度は、１０箇所測定して得られた値の算術平均値とする。
（測定条件）
・荷重速度：１０ｎｍ／秒
・保持時間：５秒
・荷重除荷速度：１０ｎｍ／秒
・測定温度：２５℃
<< Resin layer >>
The
(Measurement condition)
Loading speed: 10 nm / sec Holding time: 5 seconds Load unloading speed: 10 nm / sec Measurement temperature: 25 ° C.
樹脂層１２は、樹脂層１２の断面中央におけるマルテンス硬度が５００ＭＰａ以上２０００ＭＰａ以下であることが好ましい。樹脂層１２のマルテンス硬度が、５００ＭＰａ以上であれば、ハードコート層として十分な硬度を得ることができ、また２０００ＭＰａ以下であれば、良好な光学フィルムの折り畳み性能を得ることができる。樹脂層１２の断面中央におけるマルテンス硬度の下限は６００ＭＰａ以上であることが好ましく、上限は１５００ＭＰａ以下であることが好ましい。
The
樹脂層１２の屈折率は、１．４００以上１．８００以下となっていてもよい。樹脂層１２の屈折率は、分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、島津製作所社製）に接続した大形試料室（製品名「ＭＰＣ−３１００」、島津製作所社製）内に絶対鏡面反射測定装置（製品名「ＡＳＲ３１０５」、島津製作所社製）を設置し、絶対鏡面反射測定装置のサンプルホルダに樹脂層１２を取り付け、０．５ｎｍ間隔で波長３８０〜７８０ｎｍの鏡面反射光（５°反射）の絶対反射率を測定し、得られた絶対反射率の平均値を用いて、以下の式（Ｂ）によって求めることができる。樹脂層１２の絶対反射率は、易接着処理が施されていない厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材上に樹脂層用組成物を塗布し、硬化させて膜厚１〜１０μｍの樹脂層を形成し、５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出し、ＰＥＴ基材における樹脂層側の面とは反対側の面（裏面）に、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒色ビニールテープ（例えば、製品名「ヤマトビニールテープＮＯ２００−３８−２１」、ヤマト社製、３８ｍｍ幅）を貼り付けてから測定するものとする。
Ｒ２＝（１−ｎ２）２／（１＋ｎ２）２ …（Ｂ）
上記式（Ｂ）中、Ｒ２は波長３８０〜７８０ｎｍにおける樹脂層１２の絶対反射率の平均値（％）を表し、ｎ２は樹脂層１２の屈折率を表す。
The refractive index of the
R 2 = (1−n 2 ) 2 / (1 + n 2 ) 2 (B)
In the formula (B), R 2 represents the average value of the absolute reflectance of the
樹脂層１２の膜厚は、２μｍ以上４０μｍ以下となっていることが好ましい。樹脂層１２の膜厚が、２μｍ以上であれば、ハードコート層として十分な硬度を得ることができ、また４０μｍ以下であれば、加工性の悪化を抑制できる。本明細書における「樹脂層の膜厚」とは、樹脂層が多層構造となっている場合には、各樹脂層の膜厚を合計した膜厚（総厚）を意味するものとする。樹脂層１２の膜厚は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、樹脂層１２の断面を撮影し、その断面の画像において樹脂層１２の膜厚を２０箇所測定し、その２０箇所の膜厚の算術平均値とする。樹脂層１２の上限は３０μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以下であることがさらに好ましい。
The film thickness of the
樹脂層１２は、ハードコート層であるが、帯電防止性を有するハードコート層となっている。このため、樹脂層１２は、バインダ樹脂と、バインダ樹脂中に存在する帯電防止剤とを含んでいる。なお、樹脂層１２が、帯電防止性を有しないハードコート層である場合には、帯電防止剤を含んでいなくともよい。また、樹脂層１２は、バインダ樹脂等の他、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、例えば、無機粒子や有機粒子等の粒子、紫外線吸収剤、接着性向上剤、レベリング剤、チクソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤、着色剤、フィラー等の添加剤を含んでいてもよい。
The
＜バインダ樹脂＞
バインダ樹脂は、重合性化合物（硬化性化合物）の重合体（硬化物）を含む。重合性化合物は、分子内に重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。重合性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和基が挙げられる。なお、「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。
<Binder resin>
The binder resin includes a polymer (cured product) of a polymerizable compound (curable compound). The polymerizable compound is one having at least one polymerizable functional group in the molecule. Examples of the polymerizable functional group include ethylenic unsaturated groups such as (meth) acryloyl group, vinyl group and allyl group. In addition, "(meth) acryloyl group" is a meaning which includes both "acryloyl group" and "methacryloyl group."
重合性化合物としては、多官能（メタ）アクリレートが好ましい。上記多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートや、これらをＰＯ、ＥＯ、カプロラクトン等で変性したものが挙げられる。 As a polymeric compound, polyfunctional (meth) acrylate is preferable. Examples of the polyfunctional (meth) acrylate include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate and pentaerythritol tri ( Meta) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate , Ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, tripentaerythritol octa (meth) acrylate Salts, tetrapentaerythritol deca (meth) acrylate, isocyanuric acid tri (meth) acrylate, isocyanuric acid di (meth) acrylate, polyester tri (meth) acrylate, polyester di (meth) acrylate, bisphenol di (meth) acrylate, di Glycerin tetra (meth) acrylate, adamantyl di (meth) acrylate, isoboronyl di (meth) acrylate, dicyclopentadi (meth) acrylate, tricyclodecane di (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, or the like Those modified with PO, EO, caprolactone and the like can be mentioned.
これらの中でも上述したマルテンス硬度を好適に満たし得ることから、３〜６官能のものが好ましく、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート等が好ましい。なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」および「メタクリレート」を意味する。 Among them, those having 3 to 6 functional groups are preferable because they can suitably satisfy the above-mentioned martens hardness, and, for example, pentaerythritol triacrylate (PETA), dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), pentaerythritol tetraacrylate (PETTA) Dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA), trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tripentaerythritol octa (meth) acrylate, tetrapentaerythritol deca (meth) acrylate and the like are preferable. In the present specification, “(meth) acrylate” means “acrylate” and “methacrylate”.
なお、硬度や組成物の粘度調整、密着性の改善等のために、更に単官能（メタ）アクリレートモノマーを含んでいてもよい。上記単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）、グリシジルメタクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、２−アクリロイルオキシエチルサクシネート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、及び、アダマンチルアクリレート等が挙げられる。 In addition, the monofunctional (meth) acrylate monomer may be further included for hardness adjustment, viscosity adjustment of a composition, adhesion improvement, etc. Examples of the monofunctional (meth) acrylate monomer include hydroxyethyl acrylate (HEA), glycidyl methacrylate, methoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, 2-acryloyloxyethyl succinate, acryloyl morpholine, N Acryloyloxyethyl hexahydrophthalimide, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofuryl acrylate, isobornyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, adamantyl acrylate and the like.
上記モノマーの重量平均分子量は、樹脂層の硬度を向上させる観点から、１０００未満が好ましく、２００以上８００以下がより好ましい。また、上記重合性オリゴマーの重量平均分子量は、１０００以上２万以下であることが好ましく、１０００以上１万以下であることがより好ましく、２０００以上７０００以下であることが更に好ましい。 From the viewpoint of improving the hardness of the resin layer, the weight average molecular weight of the monomer is preferably less than 1000, and more preferably 200 or more and 800 or less. The weight average molecular weight of the polymerizable oligomer is preferably 1,000 or more and 20,000 or less, more preferably 1,000 or more and 10,000 or less, and still more preferably 2,000 or more and 7,000 or less.
＜帯電防止剤＞
樹脂層１２に用いられる帯電防止剤は、バインダ樹脂との相溶性が良好であるものであれば、特に限定されない。帯電防止剤としては、イオン伝導型帯電防止剤と電子伝導型帯電防止剤があり、バインダ樹脂との相溶性の観点から、イオン伝導型帯電防止剤が好ましい。
<Antistatic agent>
The antistatic agent used for the
上記イオン伝導型帯電防止剤としては、例えば、第４級アンモニウム塩、ピリジウム塩等のカチオン性帯電防止剤、スルホン酸、リン酸、カルボン酸等のアルカリ金属塩（例えば、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等）等のアニオン性帯電防止剤、アミノ酸系、アミノ酸硫酸エステル系等の両性帯電防止剤、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性帯電防止剤等が挙げられる。これらの中でも、バインダ樹脂に対して優れた相溶性を示すことから、第４級アンモニウム塩やリチウム塩が好ましい。 Examples of the ion conductive antistatic agent include cationic antistatic agents such as quaternary ammonium salts and pyridinium salts, and alkali metal salts such as sulfonic acids, phosphoric acids and carboxylic acids (for example, lithium salts, sodium salts, And anionic antistatic agents such as potassium salts, etc .; amphoteric antistatic agents such as amino acids and amino acid sulfate esters; and nonionic antistatic agents such as amino alcohols, glycerins and polyethylene glycols. Among these, quaternary ammonium salts and lithium salts are preferable because they exhibit excellent compatibility with the binder resin.
上記電子伝導型帯電防止剤としては、例えば、ポリアセチレン系、ポリチオフェン系等の導電性ポリマー、金属粒子、金属酸化物粒子等の導電性粒子が挙げられる。これらの中でも、ポリアセチレン、ポリチオフェン等の導電性ポリマーにドーパントを組み合わせた帯電防止剤、金属粒子、金属酸化物粒子が好ましい。また、上記導電性ポリマーに導電性粒子を含有させることもできる。 Examples of the electron conductive antistatic agent include conductive particles such as polyacetylene-based and polythiophene-based conductive polymers, metal particles, and metal oxide particles. Among these, antistatic agents, metal particles and metal oxide particles in which a conductive polymer such as polyacetylene or polythiophene is combined with a dopant are preferable. The conductive polymer can also contain conductive particles.
上記導電性ポリマーからなる帯電防止剤としては、具体的には、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンサルファイド、ポリ（１，６−ヘプタジイン）、ポリビフェニレン（ポリパラフェニレン）、ポリパラフィニレンスルフィド、ポリフェニルアセチレン、ポリ（２，５−チエニレン）、又は、これらの誘導体等の導電性高分子が挙げられ、好ましくは、ポリチオフェン系の導電性有機ポリマー（例えば、３，４−エチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等）が挙げられる。 Specific examples of the antistatic agent comprising the above conductive polymer include polyacetylene, polyaniline, polythiophene, polypyrrole, polyphenylene sulfide, poly (1,6-heptadiyne), polybiphenylene (polyparaphenylene), polyparafinylene sulfide, Conductive polymers such as polyphenylacetylene, poly (2,5-thienylene), or derivatives thereof are mentioned, and preferably, conductive organic polymers of polythiophene type (for example, 3,4-ethylenedioxythiophene ( PEDOT) and the like.
上記導電性有機ポリマーからなる帯電防止剤を用いることで、湿度依存性が少なく長期間にわたって帯電防止性が維持でき、また、高い透明性、低いヘイズを有し、更に、高いハードコート性、特に鉛筆硬度、スチールウール等に対する耐擦傷性を著しく向上できる。 By using the antistatic agent composed of the above-mentioned conductive organic polymer, the humidity dependency is low and the antistatic property can be maintained for a long period, and the high transparency, the low haze, and the high hard coat property, in particular The pencil hardness and the scratch resistance to steel wool etc. can be remarkably improved.
上記金属粒子を構成する金属としては特に限定されず、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ等の単独、或いはこれら金属の合金が挙げられる。また、上記金属酸化物粒子を構成する金属酸化物としては特に限定されず、例えば、酸化錫（ＳｎＯ２）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等が挙げられる。 The metal constituting the metal particles is not particularly limited, and examples thereof include Au, Ag, Cu, Al, Fe, Ni, Pd, Pt and the like alone or an alloy of these metals. The metal oxide constituting the metal oxide particles is not particularly limited. For example, tin oxide (SnO 2 ), antimony oxide (Sb 2 O 5 ), antimony-doped tin oxide (ATO), tin-doped indium oxide (tin oxide) ITO), aluminum-doped zinc oxide (AZO), fluorine-doped tin oxide (FTO), zinc oxide (ZnO) and the like.
帯電防止剤の含有量としては、特に限定されないが、樹脂層用組成物の重合性化合物１００質量部に対して１質量部以上５０質量部以下であることが好ましい。１質量部以上であれば、上述した帯電防止性を充分に得ることができ、５０質量部以下であればヘイズ値が小さく、全光線透過率が良好な高透明の膜を得ることができる。上記帯電防止剤の含有量の下限は、１０質量部以上であることがより好ましく、上限は４０質量部以下であることがより好ましい。 Although it does not specifically limit as content of an antistatic agent, It is preferable that it is 1 to 50 mass parts with respect to 100 mass parts of polymeric compounds of the composition for resin layers. If it is 1 part by mass or more, the above-mentioned antistatic property can be sufficiently obtained, and if it is 50 parts by mass or less, a highly transparent film having a small haze value and a good total light transmittance can be obtained. The lower limit of the content of the antistatic agent is more preferably 10 parts by mass or more, and the upper limit is more preferably 40 parts by mass or less.
樹脂層１２は、紫外線吸収剤、分光透過率調整剤、および／または防汚剤をさらに含んでいてもよい。
The
＜紫外線吸収剤＞
光学フィルムは、折り畳み可能なスマートフォンやタブレット端末のようなモバイル端末に特に好適に用いられるが、このようなモバイル端末は屋外で使用されることが多く、そのため、光学フィルムより表示素子側に配置された偏光子が紫外線に晒されて劣化しやすいという問題がある。しかしながら、樹脂層１２は、偏光子の観察者側に配置されるため、樹脂層１２に紫外線吸収剤が含有されていると、偏光子が紫外線に晒されることによる劣化を好適に防止することができる。なお、上記紫外線吸収剤（ＵＶＡ）は、樹脂層１２ではなく、樹脂基材１１に含有されていてもよい。
<UV absorber>
Although the optical film is particularly suitably used for mobile terminals such as foldable smart phones and tablet terminals, such mobile terminals are often used outdoors, and therefore, are disposed closer to the display element than the optical films. There is a problem that the polarizer is easily deteriorated by being exposed to ultraviolet light. However, since the
紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、及び、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等が挙げられる。 As a ultraviolet absorber, a triazine type ultraviolet absorber, a benzophenone series ultraviolet absorber, a benzotriazole type ultraviolet absorber etc. are mentioned, for example.
上記トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル］−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、および２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２’−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。市販されているトリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ４６０、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７（いずれも、ＢＡＳＦ社製）、ＬＡ−４６（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。 Examples of the triazine-based ultraviolet absorber include 2- (2-hydroxy-4- [1-octyloxycarbonylethoxy) phenyl) -4,6-bis (4-phenylphenyl) -1,3,5-triazine, for example. 2- [4-[(2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, 2 , 4-Bis [2-hydroxy-4-butoxyphenyl] -6- (2,4-dibutoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2- [4-[(2-hydroxy-3-tridecyl) Oxypropyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, and 2- [4-[(2-hydroxy-3- (2) - ethyl) hexyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine. As a triazine type ultraviolet absorber marketed, TINUVIN460, TINUVIN477 (all are BASF Corporation make), LA-46 (ADEKA company make) etc. are mentioned, for example.
上記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸及びその三水塩、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸ナトリウム等が挙げられる。市販されているベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、ＣＨＭＡＳＳＯＲＢ８１／ＦＬ（ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。 Examples of the benzophenone-based ultraviolet absorber include 2-hydroxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2,2 ', 4,4'-tetrahydroxy Benzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, hydroxymethoxybenzophenone sulfonic acid and its trihydrate salt, sodium hydroxymethoxybenzophenone sulfonate and the like can be mentioned. Examples of benzophenone-based ultraviolet absorbers that are commercially available include CHMASSORB 81 / FL (manufactured by BASF).
上記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネート、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−〔５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル〕−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３’’，４’’，５’’，６’’−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、及び、２−（２’−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等が挙げられる。市販されているベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、ＫＥＭＩＳＯＲＢ７１Ｄ、ＫＥＭＩＳＯＲＢ７９（いずれも、ケミプロ化成社製）、ＪＦ−８０、ＪＡＳＴ−５００（いずれも、城北化学社製）、ＵＬＳ−１９３３Ｄ（一方社製）、ＲＵＶＡ−９３（大塚化学社製）等が挙げられる。 Examples of the benzotriazole-based ultraviolet absorber include 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate, and the like. -(2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and branched dodecyl) -4-methylphenol, 2- [5-chloro (2H) -benzotriazol-2-yl] -4-methyl- 6- (tert-Butyl) phenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6-di-tert-pentylphenol, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′ ′ tert-Butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3) '-(3' ', 4' ', 5' ', 6' '-tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole, 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3- Tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol), 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, etc. Can be mentioned. Examples of commercially available benzotriazole-based ultraviolet light absorbers include KEMISORB 71 D, KEMISORB 79 (all manufactured by Chemipro Chemical Industries, Ltd.), JF-80, JAST-500 (all manufactured by Johoku Chemical Co., Ltd.), ULS-1933 D (one side) And RUVA-93 (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.).
紫外線吸収剤は、なかでも、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が好適に用いられる。紫外線吸収剤は、樹脂層を構成する樹脂成分との溶解性が高いほうが好ましく、また、上述した連続折り畳み試験後のブリードアウトが少ないほうが好ましい。紫外線吸収剤は、ポリマー化又はオリゴマー化されていることが好ましい。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール、トリアジン、ベンゾフェノン骨格を有するポリマー又はオリゴマーが好ましく、具体的には、ベンゾトリアゾールやベンゾフェノン骨格を有する（メタ）アクリレートと、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）とを任意の比率で熱共重合したものであることが好ましい。なお、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示装置に光学フィルムを適用する場合、紫外線吸収剤は、ＯＬＥＤを紫外線から保護する役割も果たすことができる。 Among the UV absorbers, triazine-based UV absorbers and benzotriazole-based UV absorbers are preferably used. The ultraviolet absorber preferably has a high solubility with the resin component constituting the resin layer, and preferably has a low bleed out after the continuous folding test described above. The UV absorber is preferably polymerized or oligomerized. The UV absorber is preferably a benzotriazole, triazine, a polymer or oligomer having a benzophenone skeleton, and more specifically, a benzotriazole or (meth) acrylate having a benzophenone skeleton and methyl methacrylate (MMA) in any ratio. It is preferable that it is thermally copolymerized. In addition, when an optical film is applied to an organic light emitting diode (OLED) display device, the UV absorber can also play a role of protecting the OLED from UV light.
紫外線吸収剤の含有量としては特に限定されないが、樹脂層用組成物の固形分１００質量部に対して１質量部以上６質量部以下であることが好ましい。１質量部以上であれば、上述した紫外線吸収剤を樹脂層に含有させる効果を充分に得ることができ、６質量部以下であれば、樹脂層に著しい着色や強度低下が生じることもない。上記紫外線吸収剤の含有量の下限は２質量部以上であることがより好ましく、上限は５質量部以下であることがより好ましい。 Although it does not specifically limit as content of a ultraviolet absorber, It is preferable that they are 1 mass part or more and 6 mass parts or less with respect to 100 mass parts of solid content of the composition for resin layers. If it is 1 part by mass or more, the effect of including the above-mentioned ultraviolet absorber in the resin layer can be sufficiently obtained, and if it is 6 parts by mass or less, the resin layer does not cause significant coloring and strength reduction. The lower limit of the content of the ultraviolet absorber is more preferably 2 parts by mass or more, and the upper limit is more preferably 5 parts by mass or less.
＜分光透過率調整剤＞
分光透過率調整剤は、光学フィルムの分光透過率を調整するものである。樹脂層１２に、例えば、下記一般式（２２）で表されるセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を含ませた場合には、上述した分光透過率を好適に満たすことができる。
A spectral transmission factor adjustment agent adjusts the spectral transmission factor of an optical film. When the
上記のセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体としては特に制限されないが、具体的な物質名としては、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］エチルメタクリレート、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］エチルアクリレート、３−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］プロピルメタクリレート、３−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］プロピルアクリレート、４−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］ブチルメタクリレート、４−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］ブチルアクリレート、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレート、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルアクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルメタクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルアクリレート、４−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］ブチルメタクリレート、４−［３−{ ２ −（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］ブチルアクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルメタクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルアクリレート、２−（メタクリロイルオキシ）エチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５カルボキシレート、２−（アクリロイルオキシ）エチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート、４−（メタクリロイルオキシ）ブチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート、４−（アクリロイルオキシ）ブチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート等を挙げることができる。また、これらセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は１種類で用いてもよいし、また２種類以上用いてもよい。 The above-mentioned sesamol-type benzotriazole-based monomer is not particularly limited, but specific substance names include 2- [2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H-benzo Triazol-5-yl] ethyl methacrylate, 2- [2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H-benzotriazol-5-yl] ethyl acrylate, 3- [2- (6 -Hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H-benzotriazol-5-yl] propyl methacrylate, 3- [2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H -Benzotriazol-5-yl] propyl acrylate, 4- [2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) 2H-benzotriazol-5-yl] butyl methacrylate, 4- [2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H-benzotriazol-5-yl] butyl acrylate, 2- [2 -(6-hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl methacrylate, 2- [2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl ) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl acrylate, 2- [3- {2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H-benzotriazol-5-yl} propanoyl Oxy] ethyl methacrylate, 2- [3- {2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) 2H-benzotriazol-5-yl} propanoyloxy] ethyl acrylate, 4- [3- {2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H-benzotriazol-5-yl} Propanoyloxy] butyl methacrylate, 4- [3- {2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H-benzotriazol-5-yl} propanoyloxy] butyl acrylate, 2- [3- {2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H-benzotriazol-5-yl} propanoyloxy] ethyl methacrylate, 2- [3- {2- (6- (6-) Hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H-benzotriazol-5-yl} propanoyloxy] ethyl acrelay , 2- (methacryloyloxy) ethyl 2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H-benzotriazole-5 carboxylate, 2- (acryloyloxy) ethyl 2- (6-hydroxybenzo) [1,3] dioxol-5-yl) -2H-benzotriazole-5-carboxylate, 4- (methacryloyloxy) butyl 2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H- Examples include benzotriazole-5-carboxylate, 4- (acryloyloxy) butyl 2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H-benzotriazole-5-carboxylate and the like. Moreover, these sesamol-type benzotriazole monomers may be used alone or in combination of two or more.
＜防汚剤＞
防汚剤としては、特に限定されず、例えば、シリコーン系防汚剤、フッ素系防汚剤、シリコーン系かつフッ素系防汚剤が挙げられ、それぞれ単独で使用してもよく、混合して使用してもよい。また、防汚剤としては、アクリル系防汚剤であってもよい。
<Antifouling agent>
The antifouling agent is not particularly limited, and examples thereof include silicone antifouling agents, fluorine antifouling agents, silicone and fluorine antifouling agents, which may be used alone or in combination. You may In addition, as the antifouling agent, an acrylic antifouling agent may be used.
防汚剤の含有量としては、上述した重合性化合物１００質量部に対して、０．０１〜３．０質量部であることが好ましい。０．０１質量部以上であれば、樹脂層に充分な防汚性能を付与でき、また、３．０質量部以下であれば、樹脂層の硬度が低下するおそれもない。 The content of the antifouling agent is preferably 0.01 to 3.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the above-described polymerizable compound. When the amount is 0.01 parts by mass or more, sufficient antifouling performance can be imparted to the resin layer, and when the amount is 3.0 parts by mass or less, there is no possibility that the hardness of the resin layer is lowered.
防汚剤は、重量平均分子量が５０００以下であることが好ましく、防汚性能の耐久性を改善するために、反応性官能基を好ましくは１以上、より好ましくは２以上有する化合物である。なかでも、２以上の反応性官能基を有する防汚剤を用いることにより、優れた耐擦傷性を付与することができる。 The antifouling agent preferably has a weight average molecular weight of 5000 or less, and is a compound having preferably 1 or more, more preferably 2 or more reactive functional groups in order to improve the durability of the antifouling performance. Among them, excellent scratch resistance can be imparted by using an antifouling agent having two or more reactive functional groups.
防汚剤が反応性官能基を有さない場合、光学フィルムがロール状の場合でも、シート状の場合でも、重ねたときに光学フィルムの裏面に防汚剤が転移してしまい、光学フィルムの裏面に他の層を貼り付けまたは塗布しようとすると、他の層の剥がれ発生することがあり、更に、複数回の連続折り畳み試験を行うことで容易に剥がれる場合がある。 When the antifouling agent does not have a reactive functional group, the antifouling agent is transferred to the back surface of the optical film when stacked, even when the optical film is rolled or sheeted, and thus the optical film If it is attempted to attach or apply another layer to the back surface, peeling of the other layer may occur, and it may be easily peeled off by performing a plurality of continuous folding tests.
更に、上記反応性官能基を有する防汚剤は、防汚性能の性能持続性（耐久性）が良好となり、なかでも、上述したフッ素系防汚剤を含む樹脂層は、指紋が付きにくく（目立ちにくく）、拭き取り性も良好である。更に、樹脂層用組成物の塗工時の表面張力を下げることができるので、レベリング性がよく、形成する樹脂層の外観が良好なものとなる。 Furthermore, the antifouling agent having the reactive functional group has good performance persistence (durability) of the antifouling performance, and among them, the resin layer containing the above-mentioned fluorine-based antifouling agent is less likely to have fingerprints ( Inconspicuous) and good wipeability. Furthermore, since the surface tension at the time of coating of the composition for resin layers can be lowered, the leveling property is good and the appearance of the resin layer to be formed becomes good.
シリコーン系防汚剤を含む樹脂層は、滑り性がよく、耐スチールウール性が良好である。樹脂層にこのようなシリコーン系防汚剤を含む光学フィルムを搭載したタッチセンサは、指やペンなどで接触したときの滑りがよくなるため、触感がよくなる。また、樹脂層に指紋も付きにくく（目立ちにくく）、拭き取り性も良好となる。更に、樹脂層用組成物の塗工時の表面張力を下げることができるので、レベリング性がよく、形成する樹脂層の外観が良好なものとなる。 The resin layer containing the silicone antifouling agent has good slipperiness and good steel wool resistance. A touch sensor in which an optical film containing such a silicone-based antifouling agent is mounted on a resin layer has a good touch feeling because sliding on contact with a finger or a pen is improved. In addition, it is difficult for fingerprints to be attached to the resin layer (not noticeable), and the wiping performance is also improved. Furthermore, since the surface tension at the time of coating of the composition for resin layers can be lowered, the leveling property is good and the appearance of the resin layer to be formed becomes good.
シリコーン系防汚剤の市販品としては、例えば、ＳＵＡ１９００Ｌ１０（新中村化学社製）、ＳＵＡ１９００Ｌ６（新中村化学社製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ１３６０（ダイセルサイテック社製）、ＵＴ３９７１（日本合成社製）、ＢＹＫＵＶ３５００（ビックケミー社製）、ＢＹＫＵＶ３５１０（ビックケミー社製）、ＢＹＫＵＶ３５７０（ビックケミー社製）、Ｘ２２−１６４Ｅ、Ｘ２２−１７４ＢＸ、Ｘ２２−２４２６、ＫＢＭ５０３．ＫＢＭ５１０３（信越化学社製）、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２２５０、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２３００．ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２２００Ｎ、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２０１０、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２５００、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２６００、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２７００（エボニックジャパン社製）、メガファックＲＳ８５４（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。 Commercially available silicone antifouling agents include, for example, SUA1900L10 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), SUA1900L6 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), Ebecryl 1360 (manufactured by Daicel-Cytech Co., Ltd.), UT3971 (manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd.), BYKUV3500 (Bick Chemie) Company), BYKUV 3510 (by Bick Chemie), BYKUV 3570 (by Bick Chemie), X22-164E, X22-174BX, X22-2426, KBM 503. KBM5103 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), TEGO-RAD 2250, TEGO-RAD 2300. TEGO-RAD 2200 N, TEGO-RAD 2010, TEGO-RAD 2500, TEGO-RAD 2600, TEGO-RAD 2700 (manufactured by Evonik Japan), Megafuck RS 854 (manufactured by DIC), and the like.
フッ素系防汚剤の市販品としては、例えば、オプツールＤＡＣ、オプツールＤＳＸ（ダイキン工業社製）、メガファックＲＳ７１、メガファックＲＳ７４（ＤＩＣ社製）、ＬＩＮＣ１５２ＥＰＡ、ＬＩＮＣ１５１ＥＰＡ、ＬＩＮＣ１８２ＵＡ（共栄社化学社製）、フタージェント６５０Ａ、フタージェント６０１ＡＤ、フタージェント６０２等が挙げられる。 Commercially available fluorine antifouling agents include, for example, Optool DAC, Optool DSX (manufactured by Daikin Industries, Ltd.), Megafuck RS71, Megafuck RS74 (manufactured by DIC), LINC152EPA, LINC151EPA, LINC182UA (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), For example, the infant agent 650A, the infant agent 601 AD, the infant agent 602 and the like can be mentioned.
フッ素系かつシリコーン系で反応性官能基を有する防汚剤の市販品としては、例えば、メガファックＲＳ８５１、メガファックＲＳ８５２、メガファックＲＳ８５３、メガファックＲＳ８５４（ＤＩＣ社製）、オプスターＴＵ２２２５、オプスターＴＵ２２２４（ＪＳＲ社製）、Ｘ７１−１２０３Ｍ（信越化学社製）等が挙げられる。 As a commercial item of a fluorine-based and silicone-based antifouling agent having a reactive functional group, for example, Megafac RS 851, Megacac RS 852, Megacac RS 853, Megacac RS 854 (manufactured by DIC), Opstar TU 2225, Opstar TU 22 24 JSR Corporation), X71-1203M (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), etc. are mentioned.
＜＜第１の光学調整層＞＞
光学調整層１３は、光学フィルム１０の光透過率を向上させるための層である。光学調整層１３の屈折率は、光学フィルム１０の光透過率を向上させる観点から、空気の屈折率である１．０００より高く、かつ樹脂基材１１の屈折率よりも低くなっている。光学調整層１３の屈折率は、上記樹脂層１２の屈折率と同様の方法によって測定することができるので、ここでは説明を省略するものとする。
<< First Optical Adjustment Layer >>
The
樹脂基材１１と光学調整層１３との屈折率差（樹脂基材の屈折率−第１の光学調整層の屈折率）は、０．００５以上０．７００以下であることが好ましい。この屈折率差が、０．００５以上であれば、光学フィルム１０の光透過率を向上させることができ、また０．７００以下であれば、光学フィルム１０の透明性を損なわない。この屈折率差の下限は、０．００１以上であることがより好ましく、上限は０．６００以下であることがより好ましい。光学調整層１３の屈折率は、０．０５０以上０．５００以下であってもよい。
The difference in refractive index between the
光学調整層１３の膜厚は、３０ｎｍ以上１μｍ以下となっていることが好ましい。光学調整層１３の膜厚が、３０ｎｍ以上であれば、光学フィルム１０の光透過率をより向上させることができ、また１μｍ以下であれば、加工性の悪化を抑制できる。光学調整層１３の膜厚は、樹脂層１２と同様の方法によって求めることができる。光学調整層１３の下限は５０ｎｍ以上であることがより好ましく、上限は７００ｎｍ以下であることがより好ましく、５００ｎｍ以下がさらに好ましい。
The film thickness of the
光学調整層１３の構成は、屈折率が、１．０００より高く、かつ樹脂基材１１の屈折率よりも低い層であれば、特に限定されない。光学調整層１３は、樹脂から構成することが可能である。光学調整層１３は、樹脂の他、さらに屈折率を低下させるために、この樹脂よりも低い屈折率を有する低屈折率粒子を含んでいてもよい。また、光学調整層１３は、帯電防止性を得るために、帯電防止剤を含んでいてもよい。光学調整層１３が、帯電防止剤を含んでいる場合、光学調整層１３は、帯電防止層としても機能する。さらに、光学調整層１３は、光学フィルム１０の色味を調整するために、上記分光透過率調整剤等の色味調整剤を含んでいてもよい。
The configuration of the
＜樹脂＞
樹脂は、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、およびＡＢＳ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂であることが好ましい。これらの中でも、樹脂基材１１との密着性の観点から、（メタ）アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂等が好ましい。
<Resin>
The resin is at least one selected from the group consisting of (meth) acrylic resins, cellulose resins, urethane resins, vinyl chloride resins, polyester resins, polyolefin resins, polycarbonates, nylons, polystyrenes, and ABS resins. It is preferable that it is resin of Among these, (meth) acrylic resins, urethane resins, polyester resins and the like are preferable from the viewpoint of adhesion to the
上記（メタ）アクリル系樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。また、上記セルロース系樹脂としては、例えば、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ）等が挙げられる。上記ウレタン系樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂等が挙げられる。 Examples of the (meth) acrylic resin include polymethyl methacrylate and the like. Moreover, as said cellulose resin, a diacetyl cellulose, a cellulose acetate propionate (CAP), a cellulose acetate butyrate (CAB) etc. are mentioned, for example. As said urethane type resin, a urethane resin etc. are mentioned, for example.
上記塩化ビニル系樹脂としては、例えば、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。また、上記ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。また、上記ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられる。 As said vinyl chloride resin, a polyvinyl chloride, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, etc. are mentioned, for example. Moreover, as said polyester-type resin, a polyethylene terephthalate etc. are mentioned, for example. Moreover, as said polyolefin resin, polyethylene, a polypropylene, etc. are mentioned, for example.
＜低屈折率粒子＞
低屈折率粒子としては、例えば、シリカ、またはフッ化マグネシウムからなる中実または中空粒子等が挙げられる。これらの中でも、中空シリカ粒子が好ましく、このような中空シリカ粒子は、例えば、特開２００５−０９９７７８号公報の実施例に記載の製造方法にて作製できる。
<Low refractive index particles>
The low refractive index particles include, for example, solid or hollow particles made of silica or magnesium fluoride. Among these, hollow silica particles are preferable, and such hollow silica particles can be produced, for example, by the production method described in the example of JP-A-2005-099778.
低屈折率粒子の平均粒子径（平均一次粒子径）は、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。低屈折率粒子の平均粒径が上記範囲内であれば、光学調整層１３の透明性を損なうことがなく、良好な粒子の分散状態が得られる。低屈折率粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した光学調整層１３の断面の画像から２０個の低屈折率粒子の粒子径を測定し、２０個の低屈折率粒子の粒子径の算術平均値とする。低屈折率粒子の平均粒子径の下限は１０ｎｍ以上であることがより好ましく、上限は８０ｎｍ以下がより好ましく、７０ｎｍ以下がさらに好ましい。
The average particle size (average primary particle size) of the low refractive index particles is preferably 5 nm or more and 100 nm or less. When the average particle diameter of the low refractive index particles is in the above range, the transparency of the
低屈折率粒子としては、表面に反応基を有するシリカ粒子（反応性シリカ粒子）を用いることが好ましく、反応性中空シリカ粒子が特に好ましい。このような表面に反応基を有するシリカ粒子は、シランカップリング剤等によってシリカ粒子を表面処理することによって作成することができる。シリカ粒子の表面をシランカップリング剤で処理する方法としては、シリカ粒子にシランカップリング剤をスプレーする乾式法や、シリカ粒子を溶剤に分散させてからシランカップリング剤を加えて反応させる湿式法等が挙げられる。 As the low refractive index particles, it is preferable to use silica particles (reactive silica particles) having a reactive group on the surface, and reactive hollow silica particles are particularly preferable. Such silica particles having a reactive group on the surface can be produced by surface treatment of the silica particles with a silane coupling agent or the like. As a method of treating the surface of the silica particles with a silane coupling agent, a dry method in which the silica particles are sprayed with the silane coupling agent, or a wet method in which the silica particles are dispersed in a solvent and then added with a silane coupling agent and reacted Etc.
＜帯電防止剤＞
光学調整層１３に含有させる帯電防止剤としては、樹脂層１２の欄で説明した帯電防止剤と同様のものを用いることができるので、ここでは説明を省略するものとする。
<Antistatic agent>
As the antistatic agent to be contained in the
＜＜第２の光学調整層＞＞
光学調整層１４は、干渉縞の発生を抑制するための層である。光学調整層１４の屈折率は、干渉縞の発生を抑制する観点から、樹脂基材１１の屈折率よりも低く、かつ樹脂層１２の屈折率よりも高いことが好ましい。光学調整層１４の屈折率は、樹脂層１２の屈折率と同様の方法によって測定することができるので、ここでは説明を省略するものとする。
<< 2nd optical adjustment layer >>
The
光学調整層１４と樹脂層１２との屈折率差（光学調整層の屈折率−樹脂層の屈折率）は、０．００５以上０．１００以下であることが好ましい。この屈折率差が、０．００５以上であれば、光学調整層１４と樹脂層１２における界面反射は生じるが干渉縞が視認できないレベルにすることができ、また０．１００以下であれば、干渉縞は若干確認されるが、実使用上問題ないレベルにすることができる。この屈折率差の下限は、０．００７以上であることがより好ましく、上限は０．０９０以下であることがより好ましい。光学調整層１４の屈折率は、０．０１０以上０．０８０以下であってもよい。
The refractive index difference between the
光学調整層１４の膜厚は、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下となっていることが好ましい。光学調整層１４の膜厚が、３０ｎｍ以上であれば、樹脂層１２と光学調整層１４の充分な密着性を確保でき、また２００ｎｍ以下であれば、干渉縞をより抑制することができる。光学調整層１４の膜厚は、樹脂層１２の膜厚と同様の方法によって求めるものとする。光学調整層１４の下限は５０ｎｍ以上であることがより好ましく、上限は１５０ｎｍ以下であることがより好ましい。
The film thickness of the
光学調整層１４は、樹脂のみから構成されていてもよいが、バインダ樹脂および屈折率を調整するための粒子を含んでいることが好ましい。光学調整層１４のバインダ樹脂は、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、およびＡＢＳ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂であることが好ましい。光学調整層１４の粒子は、シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率粒子、酸化チタンや酸化ジルコニウム等の金属酸化物粒子、コバルトブルー等の無機顔料等からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。これらの中でも、密着性と屈折率差調整の観点から、ポリエステル系樹脂と、酸化チタンや酸化ジルコニウム等の金属酸化物粒子との組み合わせがより好ましい。
The
＜＜第３の光学調整層＞＞
光学調整層１５は、主に干渉縞を発生させずに樹脂基材１１と光学調整層１４との間の密着性を向上させるための層である。樹脂基材１１と光学調整層１４の間に光学調整層１５を設けることにより、樹脂基材１１と光学調整層１４が直接接している場合よりも、密着性を向上させることができる。
<< Third Optical Adjustment Layer >>
The
光学調整層１５の屈折率は、干渉縞の観点から、樹脂基材１１の屈折率よりも低く、かつ光学調整層１４の屈折率よりも高いことが好ましい。光学調整層１５の屈折率は樹脂層１２の屈折率と同様の方法によって測定することができるので、ここでは説明省略するものとする。
The refractive index of the
光学調整層１５と光学調整層１４との屈折率差（第３の光学調整層の屈折率−第２の光学調整層の屈折率）は、０．００５以上０．１００以下であることが好ましい。この屈折率差が、０．００５以上であれば、光学調整層１５と光学調整層１４における界面反射は生じるが干渉縞が視認できないレベルにすることができ、また０．１００以下であれば、干渉縞は若干確認されるが、実使用上問題ないレベルにすることができる。この屈折率差の下限は、０．００７以上であることがより好ましく、上限は０．０９０以下であることがより好ましい。光学調整層１３の屈折率は、０．０１０以上０．０８０以下であってもよい。
The refractive index difference between the
光学調整層１５の膜厚は、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下となっていることが好ましい。光学調整層１５の膜厚が、３０ｎｍ以上であれば、光学調整層１４と光学調整層１５および樹脂基材１１と光学調整層１５の充分な密着性を確保でき、また２００ｎｍ以下であれば、光学調整層１５と光学調整層１４との屈折率差に起因して、干渉縞が発生することもない。光学調整層１５の膜厚は、樹脂層１２と同様の方法によって求めるものとする。光学調整層１５の下限は５０ｎｍ以上であることがより好ましく、上限は１５０ｎｍ以下であることがより好ましい。
The film thickness of the
光学調整層１５は、樹脂のみから構成されていてもよいが、バインダ樹脂および屈折率を調整するための粒子を含んでいることが好ましい。光学調整層１５の樹脂は、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、およびＡＢＳ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂であることが好ましい。光学調整層１５の粒子は、シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率粒子、酸化チタンや酸化ジルコニウム等の金属酸化物粒子、コバルトブルー等の無機顔料等からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。これらの中でも、密着性と屈折率差調整の観点から、ポリエステル系樹脂と、酸化チタンや酸化ジルコニウム等の金属酸化物粒子との組み合わせがより好ましい。
The
＜＜光学フィルムの製造方法＞＞
光学フィルム１０は、例えば、以下のようにして作製することができる。まず、樹脂基材１１の一方の面１１Ａ上に、バーコーター等の塗布装置によって、光学調整層１５を形成するための第３の光学調整層用組成物を塗布して、第３の光学調整層用組成物の塗膜を形成する。
<< Method for producing optical film >>
The
＜第３の光学調整層用組成物＞
第３の光学調整層用組成物は、バインダ樹脂前駆体、金属酸化物等の粒子および溶剤を含んでいる。本明細書における「バインダ樹脂前駆体」とは、溶剤を除去することによって、または熱や電離放射線で硬化させることによって、バインダ樹脂となる成分である。バインダ樹脂前駆体としては、溶剤乾燥型樹脂および熱や電離放射線で硬化する重合性化合物が挙げられる。本明細書における電離放射線としては、可視光線、並びに紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、およびγ線が挙げられる。第３の光学調整層用組成物は、その他、必要に応じて、シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率粒子、コバルトブルー等の無機顔料、レベリング剤、および重合開始剤の少なくともいずれかを含んでいてもよい。また、バインダ樹脂前駆体として、ポリエステル系樹脂を用いた場合には、第２の光学調整層用組成物は、その他、必要に応じて、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂からなる群より選択される１種以上の樹脂を含んでいてもよい。
<Composition for Third Optical Adjustment Layer>
The composition for the third optical adjustment layer contains a binder resin precursor, particles such as a metal oxide, and a solvent. The “binder resin precursor” in the present specification is a component to be a binder resin by removing a solvent or curing by heat or ionizing radiation. Examples of the binder resin precursor include solvent-drying resins and polymerizable compounds that are cured by heat or ionizing radiation. Ionizing radiation in the present specification includes visible light, as well as ultraviolet light, X-rays, electron beams, α-rays, β-rays and γ-rays. The composition for the third optical adjustment layer further contains, if necessary, at least one of low refractive index particles such as silica and magnesium fluoride, inorganic pigments such as cobalt blue, a leveling agent, and a polymerization initiator. It may be. In addition, when a polyester resin is used as the binder resin precursor, the second composition for an optical adjustment layer may additionally contain (meth) acrylic resin, cellulose resin, or urethane resin as required. It may contain one or more resins selected from the group consisting of vinyl chloride resins, polyolefin resins, polycarbonates, nylons, polystyrenes and ABS resins.
第３の光学調整層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば４０℃以上２００℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶剤を蒸発させて、または硬化させて、樹脂基材１１に隣接した光学調整層１５を形成する。
After forming a coating film of the third composition for optical adjustment layer, the coating film is dried by heating at a temperature of 40 ° C. or more and 200 ° C. or less for 10 seconds to 120 seconds by various known methods. Are evaporated or cured to form the
次いで、光学調整層１５上に、バーコーター等の塗布装置によって、光学調整層１４を形成するための第２の光学調整層用組成物を塗布して、第２の光学調整層用組成物の塗膜を形成する。
Next, a second optical adjustment layer composition for forming the
＜第２の光学調整層用組成物＞
第２の光学調整層用組成物は、バインダ樹脂前駆体、金属酸化物等の粒子および溶剤を含んでいる。第２の光学調整層用組成物は、その他、必要に応じて、シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率粒子、コバルトブルー等の無機顔料、レベリング剤、および重合開始剤の少なくともいずれかを含んでいてもよい。また、バインダ樹脂前駆体として、ポリエステル系樹脂を用いた場合には、第２の光学調整層用組成物は、その他、必要に応じて、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂からなる群より選択される１種以上の樹脂を含んでいてもよい。
<Composition for Second Optical Adjustment Layer>
The composition for the second optical adjustment layer contains a binder resin precursor, particles such as a metal oxide, and a solvent. The composition for the second optical adjustment layer further contains, if necessary, at least one of low refractive index particles such as silica and magnesium fluoride, inorganic pigments such as cobalt blue, a leveling agent, and a polymerization initiator. It may be. In addition, when a polyester resin is used as the binder resin precursor, the second composition for an optical adjustment layer may additionally contain (meth) acrylic resin, cellulose resin, or urethane resin as required. It may contain one or more resins selected from the group consisting of vinyl chloride resins, polyolefin resins, polycarbonates, nylons, polystyrenes and ABS resins.
第２の光学調整層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば４０℃以上２００℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶剤を蒸発させて、または硬化させて、光学調整層１４を形成する。
After forming the coating film of the second composition for optical adjustment layer, the coating film is dried by heating for 10 seconds to 120 seconds at a temperature of 40 ° C. to 200 ° C. by various known methods, for example, and a solvent Are evaporated or cured to form the
光学調整層１４を形成した後、光学調整層１４上に、バーコーター等の塗布装置によって、樹脂層１２を形成するための樹脂層用組成物を塗布して、樹脂層用組成物の塗膜を形成する。
After forming the
＜樹脂層用組成物＞
樹脂層用組成物は、硬化後バインダ樹脂となる重合性化合物を含んでいる。樹脂層用組成物は、その他、必要に応じて、帯電防止剤、紫外線吸収剤、分光透過率調整剤、防汚剤、無機粒子、レベリング剤、溶媒、重合開始剤を含んでいてもよい。
<Composition for resin layer>
The composition for resin layer contains a polymerizable compound that becomes a binder resin after curing. The composition for a resin layer may further contain, if necessary, an antistatic agent, an ultraviolet light absorber, a spectral transmittance regulator, an antifouling agent, inorganic particles, a leveling agent, a solvent, and a polymerization initiator.
（溶媒）
上記溶媒としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール、ジアセトンアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジアセトンアルコール）、エステル（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、蟻酸メチル、ＰＧＭＥＡ）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、カーボネート（炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸エチルメチル）、等が挙げられる。これらの溶媒、単独で用いられてもよく、２種類以上が併用されてもよい。なかでも、上記溶媒としては、ウレタン（メタ）アクリレート等の成分、並びに、他の添加剤を溶解或いは分散させ、樹脂層用組成物を好適に塗工できる点で、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンが好ましい。
(solvent)
Examples of the solvent include alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, s-butanol, t-butanol, benzyl alcohol, PGME, ethylene glycol, diacetone alcohol), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, Methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, heptanone, diisobutyl ketone, diethyl ketone, diacetone alcohol, ester (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, methyl formate, PGMEA), aliphatic Hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), (Eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol (eg, 1-methoxy-2-propanol), carbonate (dimethyl carbonate, diethyl carbonate, Ethyl methyl carbonate) and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Among them, methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone are preferable as the above-mentioned solvent, since components such as urethane (meth) acrylate and other additives can be dissolved or dispersed and the composition for resin layer can be suitably coated. .
（重合開始剤）
重合開始剤は、電離放射線照射より分解されて、ラジカルを発生して重合性化合物の重合（架橋）を開始または進行させる成分である。
(Polymerization initiator)
The polymerization initiator is a component that is decomposed by ionizing radiation and generates radicals to initiate or promote polymerization (crosslinking) of the polymerizable compound.
重合開始剤は、電離放射線照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものを用いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。 The polymerization initiator is not particularly limited as long as it can release a substance that initiates radical polymerization by ionizing radiation. The polymerization initiator is not particularly limited, and known ones may be used. Specific examples thereof include, for example, acetophenones, benzophenones, Michler's benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, thioxanthones, propiophenone , Benzyls, benzoins, acyl phosphine oxides. Further, it is preferable to use a mixture of photosensitizers, and specific examples thereof include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine and the like.
樹脂層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば３０℃以上１２０℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶剤を蒸発させる。 After forming the coating film of the composition for resin layer, the coating film is dried by heating for 10 seconds to 120 seconds at a temperature of 30 ° C. or more and 120 ° C. or less by various known methods, for example, to evaporate the solvent.
塗膜を乾燥させた後、塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、塗膜を硬化させる。これにより、光学調整層１４に隣接した樹脂層１２が形成される。
After drying the coating, the coating is irradiated with ionizing radiation such as ultraviolet light to cure the coating. Thereby, the
樹脂層１２を形成した後、樹脂基材１１の他方の面１１Ｂに、バーコーター等の塗布装置によって、光学調整層１３を形成するための第１の光学調整層用組成物を塗布して、第１の光学調整層用組成物の塗膜を形成する。
After the
＜第１の光学調整層用組成物＞
第１の光学調整層用組成物は、樹脂前駆体および溶剤を含んでいる。第１の光学調整層用組成物は、その他、必要に応じて、低屈折率粒子、帯電防止剤、コバルトブルー等の無機顔料、レベリング剤、および重合開始剤の少なくともいずれかを含んでいてもよい。また、樹脂前駆体として、ポリエステル系樹脂を用いた場合には、第１の光学調整層用組成物は、その他、必要に応じて、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂からなる群より選択される１種以上の樹脂を含んでいてもよい。溶剤は、樹脂層用組成物の欄で説明した溶剤と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
<Composition for First Optical Adjustment Layer>
The first composition for optical adjustment layer contains a resin precursor and a solvent. The composition for the first optical adjustment layer may further contain, if necessary, at least one of low refractive index particles, an antistatic agent, an inorganic pigment such as cobalt blue, a leveling agent, and a polymerization initiator. Good. In addition, when a polyester resin is used as the resin precursor, the first composition for an optical adjustment layer may additionally contain, as necessary, a (meth) acrylic resin, a cellulose resin, a urethane resin, It may contain one or more resins selected from the group consisting of vinyl chloride resins, polyolefin resins, polycarbonates, nylons, polystyrenes and ABS resins. The solvent is the same as the solvent described in the column for the composition for resin layer, and thus the description thereof is omitted here.
第１の光学調整層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば４０℃以上２００℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶剤を蒸発させて、または硬化させて、光学調整層１３を形成する。これにより、図１に示される光学フィルム１０が得られる。
After forming a coating film of the first composition for optical adjustment layer, the coating film is dried by heating at a temperature of 40 ° C. or more and 200 ° C. or less for 10 seconds to 120 seconds by various known methods. Are evaporated or cured to form the
＜＜＜他の光学フィルム＞＞＞
光学フィルムは、図４に示される光学フィルム３０であってもよい。図４に示される光学フィルム３０も、画像表示装置に用いられるものであり、折り畳み可能となっている。
<<< Other optical film >>>
The optical film may be the
光学フィルム３０は、樹脂基材１１と、樹脂基材１１の一方の面１１Ａ側に設けられた樹脂層１２と、樹脂基材１１の一方の面１１Ａとは反対側の面である他方の面１１Ｂに設けられた光学調整層１３と、樹脂基材１１と樹脂層１２の間に設けられ、樹脂層１２に隣接した光学調整層１４とを備えるものである。なお、図４に示される光学フィルム３０は、光学調整層１５は設けられておらず、光学調整層１４は樹脂層１２および樹脂基材１１に隣接している。光学フィルム３０の物性等は光学フィルム１０の物性等と同様であるので、ここでは、説明を省略するものとする。光学フィルム３０の表面３０Ａは、樹脂層１２の表面１２Ａとなっており、光学フィルム３０の裏面３０Ｂは、光学調整層１３における樹脂基材１１側の面とは反対側の面１３Ａとなっている。
The
＜＜＜画像表示装置＞＞＞
光学フィルム１０、３０は、折り畳み可能な画像表示装置に組み込んで使用することが可能である。図５は、本実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。図５に示されるように、画像表示装置４０は、観察者側に向けて、主に、電池等が収納された筐体４１、保護フィルム４２、表示素子４３、タッチセンサ４４、円偏光板４５、および光学フィルム１０がこの順で積層されている。表示素子４３とタッチセンサ４４との間、タッチセンサ４４と円偏光板４５との間、円偏光板４５と光学フィルム１０との間には、光透過性を有する粘着層４６が配置されており、これら部材は粘着層４６によって互いに固定されている。なお、粘着層４６は、表示素子４３とタッチセンサ４４との間、タッチセンサ４４と円偏光板４５との間、円偏光板４５と光学フィルム１０との間に配置されているが、粘着層の配置箇所は、カバーフィルムと表示パネルとの間であれば、特に限定されない。
<<< image display device >>>
The
光学フィルム１０は、樹脂層１２が光学調整層１３よりも観察者側となるように配置されている。画像表示装置４０においては、光学フィルム１０の表面１０Ａ（樹脂層１２の表面１２Ａ）が、画像表示装置４０の表面４０Ａを構成している。
The
画像表示装置４０においては、表示素子４３は、有機発光ダイオード等を含む有機発光ダイオード素子となっている。タッチセンサ４４は、円偏光板４５よりも表示素子４３側に配置されているが、円偏光板４５と光学フィルム１０との間に配置されていてもよい。また、タッチセンサ４４は、オンセル方式やインセル方式であってもよい。粘着層４６としては、例えば、ＯＣＡ(Optical Clear Adhesive)を用いることができる。
In the
光学フィルムの裏面が樹脂基材となっている場合、樹脂基材は空気層と接することになるので、樹脂基材と空気層との界面で反射が生じ、これにより光透過率が低下してしまうおそれがある。特に樹脂基材として、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる樹脂基材を用いた場合には、これらの樹脂基材の屈折率は比較的高いので、界面反射が生じやすい。これに対し、本実施形態においては、樹脂基材として、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる樹脂基材１１を用いているが、樹脂基材１１の他方の面１１Ｂに屈折率が１．０００より高く、かつ樹脂基材１１の屈折率よりも低い光学調整層１３を設けているので、樹脂基材が空気層と接しているときと比べて、界面反射を低減させることができ、光反射率を低下させることができる。これにより、光学フィルム１０、３０の光透過率を向上させることができる。
When the back surface of the optical film is a resin substrate, the resin substrate comes in contact with the air layer, so that reflection occurs at the interface between the resin substrate and the air layer, thereby reducing the light transmittance. There is a risk of In particular, when a resin base made of one or more resins selected from the group consisting of polyimide resins, polyamideimide resins, polyamide resins, and polyester resins is used as the resin substrate, these resins Since the refractive index of the substrate is relatively high, interface reflection tends to occur. On the other hand, in the present embodiment, the
上記したように樹脂基材として、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる樹脂基材を用いた場合には、これらの樹脂基材の屈折率は比較的高いので、樹脂基材と樹脂層の屈折率差が大きい。このため、樹脂基材と樹脂層との屈折率差に起因して、虹色状のムラである干渉縞が発生するおそれがある。ここで、干渉縞の発生を抑制するためには、樹脂層の膜厚を厚くするという方法もあるが、樹脂層の膜厚を厚くすると、折り畳み時に樹脂層が割れてしまうおそれがあるので、この方法は採用できない。これに対し、本実施形態においては、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる樹脂基材１１を用いているが、樹脂基材１１と樹脂層１２の間に、樹脂層１２に隣接した光学調整層１５を設けているので、折り畳み可能でありながら、干渉縞の発生を抑制することができる。
As described above, when a resin base made of at least one resin selected from the group consisting of polyimide resins, polyamideimide resins, polyamide resins, and polyester resins is used as the resin base, Since the refractive index of these resin substrates is relatively high, the difference in refractive index between the resin substrate and the resin layer is large. Therefore, due to the difference in refractive index between the resin base and the resin layer, there is a possibility that interference fringes, which are iridescent unevenness, may occur. Here, there is also a method of increasing the film thickness of the resin layer in order to suppress the generation of the interference fringes, but if the film thickness of the resin layer is increased, the resin layer may be broken at the time of folding. This method can not be adopted. On the other hand, in the present embodiment, the
光学調整層１３が帯電防止剤を含んでいる場合には、光学フィルム１０、３０は、樹脂基材１１の一方の面１１Ａ側に帯電防止ハードコート層である樹脂層１２を備えており、また樹脂基材１１の他方の面１１Ｂ側に帯電防止剤を含む光学調整層１５を備えているので、光学フィルム１０、３０に埃等が付着することが抑制できる。また、この場合には、光学フィルム１０、３０の両面に保護フィルム（図示せず）を貼り付けた状態で、光学フィルム１０、３０から保護フィルムを剥離したとしても、光学フィルム１０、３０の帯電を抑制できる。これにより、画像表示装置の組立工程の歩留まりを向上させることができる。
When the
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。なお、下記の「固形分１００％換算値」とは、溶剤希釈品中の固形分を１００％としたときの値である。
EXAMPLES The present invention will be described by way of examples to describe the present invention in detail, but the present invention is not limited to these descriptions. In addition, the following "
＜光学調整層用組成物の調製＞
まず、下記に示す組成となるように各成分を配合して、光学調整層用組成物を得た。
（光学調整層用組成物１）
・第４級アンモニウム基塩含有帯電防止剤（製品名「１ＳＸ−３０００」、大成ファインケミカル社製）：１００質量部（固形分１００％換算値）
・重合開始剤（製品名「イルガキュア（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１５０質量部
<Preparation of composition for optical adjustment layer>
First, each component was blended so as to obtain the composition shown below, to obtain a composition for an optical adjustment layer.
(Composition for Optical Adjustment Layer 1)
-Quaternary ammonium group salt containing antistatic agent (product name "1SX-3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.): 100 parts by mass (
-Polymerization initiator (Product name "IRGACURE (registered trademark) 184", manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass-Methyl isobutyl ketone (MIBK): 150 parts by mass
（光学調整層用組成物２）
・ウレタン変性ポリエステル系樹脂（製品名「ＵＲ−３２００」、東洋紡社製）：８５質量部（固形分１００％換算値）
・酸化ジルコニウム（平均粒子径２０ｎｍ、ＣＩＫナノテック社製）：１５質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１７０質量部
(Composition for Optical Adjustment Layer 2)
-Urethane-modified polyester resin (product name "UR-3200", manufactured by Toyobo Co., Ltd.): 85 parts by mass (
・ Zirconium oxide (average particle diameter: 20 nm, manufactured by CIK Nanotech Inc.): 15 parts by mass (
-Methyl isobutyl ketone (MIBK): 170 parts by mass
（光学調整層用組成物３）
・ウレタン変性ポリエステル系樹脂（製品名「ＵＲ−１７００」、東洋紡社製）：７０質量部（固形分１００％換算値）
・酸化ジルコニウム（平均粒子径２０ｎｍ、ＣＩＫナノテック社製）：３０質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１７０質量部
(Composition for optical adjustment layer 3)
· Urethane-modified polyester resin (product name "UR-1700", manufactured by Toyobo Co., Ltd.): 70 parts by mass (
・ Zirconium oxide (
-Methyl isobutyl ketone (MIBK): 170 parts by mass
（光学調整層用組成物４）
・ウレタン変性ポリエステル系樹脂（製品名「ＵＲ−３２００」、東洋紡社製）：８０質量部（固形分１００％換算値）
・コバルトブルー（平均粒子径４０ｎｍ、ＣＩＫナノテック社製）：２０質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１７０質量部
(Composition for optical adjustment layer 4)
-Urethane modified polyester resin (product name "UR-3200", manufactured by Toyobo Co., Ltd.): 80 parts by mass (
-Cobalt blue (
-Methyl isobutyl ketone (MIBK): 170 parts by mass
（光学調整層用組成物５）
・ウレタン変性ポリエステル系樹脂（製品名「ＵＲ−３２００」、東洋紡社製）：７０質量部（固形分１００％換算値）
・酸化ジルコニウム（平均粒子径２０ｎｍ、ＣＩＫナノテック社製）：１５質量部（固形分１００％換算値）
・コバルトブルー（平均粒子径４０ｎｍ、ＣＩＫナノテック社製）：１５質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１７０質量部
(Composition for Optical Adjustment Layer 5)
· Urethane-modified polyester resin (product name "UR-3200", manufactured by Toyobo Co., Ltd.): 70 parts by mass (
・ Zirconium oxide (average particle diameter: 20 nm, manufactured by CIK Nanotech Inc.): 15 parts by mass (
-Cobalt blue (
-Methyl isobutyl ketone (MIBK): 170 parts by mass
（光学調整層用組成物６）
・ポリオレフィン系樹脂（製品名「Ｐ−９０１」、三井化学社製）：７０質量部（固形分１００％換算値）
・酸化ジルコニウム（平均粒子径２０ｎｍ、ＣＩＫナノテック社製）：３０質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１７０質量部
(
-Polyolefin resin (product name "P-901", manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.): 70 parts by mass (
・ Zirconium oxide (
-Methyl isobutyl ketone (MIBK): 170 parts by mass
（光学調整層用組成物７）
・ウレタン変性ポリエステル系樹脂（製品名「ＵＲ−１７００」、東洋紡社製）：３５質量部（固形分１００％換算値）
・酸化ジルコニウム（平均粒子径２０ｎｍ、ＣＩＫナノテック社製）：６５質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１７０質量部
(Composition 7 for Optical Control Layer)
-Urethane-modified polyester resin (product name "UR-1700", manufactured by Toyobo Co., Ltd.): 35 parts by mass (
Zirconium oxide (
-Methyl isobutyl ketone (MIBK): 170 parts by mass
＜ハードコート層用組成物＞
下記に示す組成となるように各成分を配合して、ハードコート層用組成物を得た。
（ハードコート層用組成物１）
・ウレタン系樹脂（製品名「Ｕ−６ＬＰＡ」、新中村化学社製）：７０質量部
・ウレタン系樹脂（製品名「ＵＶ２７５０Ｂ」、日本合成化学社製）：２０質量部
・第４級アンモニウム基塩含有帯電防止剤（製品名「１ＳＸ−３０００」、大成ファインケミカル社製）：１０質量部（固形換算）
・重合開始剤（製品名「イルガキュア（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・紫外線吸収剤（製品名「ＴＩＮＵＶＩＮ４７７」、ＢＡＳＦ社製）：５質量部（固形分１００％換算値）
・防汚剤（製品名「ＢＹＫＵＶ３５００」、ビックケミー社製）：１．５質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１５０質量部
<Composition for hard coat layer>
Each component was blended so as to obtain the composition shown below to obtain a composition for hard coat layer.
(Composition for hard coat layer 1)
-Urethane resin (product name "U-6LPA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.): 70 parts by mass-Urethane resin (product name "UV2750B", manufactured by Japan Synthetic Chemical Co., Ltd.): 20 parts by mass-quaternary ammonium group Salt-containing antistatic agent (product name “1SX-3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.): 10 parts by mass (solid conversion)
-Polymerization initiator (product name "IRGACURE (registered trademark) 184", manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass-UV absorber (product name "TINUVIN 477, manufactured by BASF Corp.): 5 parts by mass (solid content converted to 100%) value)
Antifouling agent (product name "BYKUV3500", manufactured by BIC-Chemie): 1.5 parts by mass (
・ Methyl isobutyl ketone (MIBK): 150 parts by mass
＜実施例１＞
樹脂基材として、屈折率１．６３０および厚さ３０μｍのポリイミド系基材（製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学社製）を準備し、ポリイミド系基材の一方の面に、バーコーターで光学調整層用組成物３を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、９０℃で１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させて、屈折率１．５６２および膜厚１００ｎｍの第３の光学調整層を形成した。第３の光学調整層を形成した後、第３の光学調整層の表面に、バーコーターで光学調整層用組成物２を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、９０℃で１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させて、屈折率１．５４４および膜厚１００ｎｍの第２の光学調整層を形成した。第２の光学調整層を形成した後、第２の光学調整層の表面に、バーコーターでハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させて、屈折率１．５３１および膜厚１０μｍのハードコート層を形成した。次いで、ポリイミド系基材における前記一方の面とは反対側の面である他方の面に、バーコーターで光学調整層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させて、屈折率１．５３６および膜厚１００ｎｍの第１の光学調整層を形成した。これにより、第１の光学調整層、ポリイミド系基材、第３の光学調整層、第２の光学調整層、およびハードコート層がこの順で積層された光学フィルムを得た。なお、実施例１に係る光学フィルムの表面はハードコート層の表面であり、裏面は第１の光学調整層の表面であった。
Example 1
Prepare a polyimide-based substrate (product name "Neoprim", manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) with a refractive index of 1.630 and a thickness of 30 μm as a resin substrate, and use an optical bar coater on one side of the polyimide-based substrate. Composition 3 for adjustment layer was applied to form a coating film. Then, the solvent in the coating film was evaporated by heating the formed coating film at 90 ° C. for 1 minute to form a third optical adjustment layer having a refractive index of 1.562 and a film thickness of 100 nm. After forming the third optical adjustment layer, the composition 2 for optical adjustment layer was coated on the surface of the third optical adjustment layer with a bar coater to form a coating film. Then, the solvent in the coating film was evaporated by heating the formed coating film at 90 ° C. for 1 minute to form a second optical adjustment layer having a refractive index of 1.544 and a film thickness of 100 nm. After forming the second optical adjustment layer, the composition 1 for hard coat layer was applied to the surface of the second optical adjustment layer with a bar coater to form a coating film. Thereafter, the formed coating film is heated at 70 ° C. for 1 minute to evaporate the solvent in the coating film, and the ultraviolet light is aired using an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan Ltd., light source H bulb) The coating film was cured by irradiation so that the accumulated light amount was 200 mJ / cm 2 in the middle, to form a hard coat layer having a refractive index of 1.531 and a film thickness of 10 μm. Subsequently, the composition 1 for optical adjustment layers was apply | coated with the bar coater on the other surface which is a surface on the opposite side to the said one surface in a polyimide-type base material, and the coating film was formed. With respect to the formed coating film, the solvent in the coating film was evaporated by heating at 70 ° C. for 1 minute to form a first optical adjustment layer having a refractive index of 1.536 and a film thickness of 100 nm. Thus, an optical film in which the first optical adjustment layer, the polyimide-based substrate, the third optical adjustment layer, the second optical adjustment layer, and the hard coat layer were laminated in this order was obtained. The surface of the optical film according to Example 1 was the surface of the hard coat layer, and the back surface was the surface of the first optical adjustment layer.
ポリイミド系基材の屈折率は、以下のようにして求められた。まず、ハードコート層や光学調整層が形成されていない状態で５ｃｍ×１０ｃｍの大きさにポリイミド系基材を切り出し、サンプルを得た。そして、このサンプルにおいて、ポリイミド系基材の一方の面に、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒ビニールテープ（例えば、ヤマトビニールテープＮＯ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼り付けた。そして、分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、島津製作所社製）に接続した大形試料室（製品名「ＭＰＣ−３１００」、島津製作所社製）内に絶対鏡面反射測定装置（製品名「ＡＳＲ３１０５」、島津製作所社製）を設置し、絶対鏡面反射測定装置のサンプルホルダに上記サンプルを取り付け、０．５ｎｍ間隔で波長３８０〜７８０ｎｍの鏡面反射光（５°反射）の絶対反射率を測定し、得られた絶対反射率の平均値を用いて上記式（Ａ）に基づいてポリイミド系基材の屈折率を求めた。また、ポリイミド系基材の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、ポリイミド系基材の断面を撮影し、その断面の画像においてポリイミド系基材の厚みをそれぞれ２０箇所測定し、その２０箇所の厚みの算術平均値とした。実施例２〜１３および比較例１〜４においても、実施例１と同様の手法によってポリイミド系基材等の樹脂基材の屈折率および膜厚を測定した。 The refractive index of the polyimide-based substrate was determined as follows. First, a polyimide base material was cut out to a size of 5 cm × 10 cm in a state where no hard coat layer or optical adjustment layer was formed, to obtain a sample. Then, in this sample, a black vinyl tape (for example, Yamato vinyl tape NO 200-38-21 38 mm wide) with a width larger than the measurement spot area is attached to one surface of the polyimide base material to prevent back reflection. I put it. Then, the absolute specular reflection measuring apparatus (product name) is stored in a large sample chamber (product name "MPC-3100", manufactured by Shimadzu Corporation) connected to a spectrophotometer (product name "UV-3100PC", manufactured by Shimadzu Corporation) Install “ASR 3105” (manufactured by Shimadzu Corporation), attach the above sample to the sample holder of the absolute specular reflection measurement device, and measure the absolute reflectance of specular reflected light (5 ° reflection) of wavelength 380 to 780 nm at 0.5 nm intervals. It measured and the refractive index of the polyimide-type base material was calculated | required based on the said Formula (A) using the average value of the acquired absolute reflectance. In addition, the thickness of the polyimide-based substrate is obtained by photographing a cross-section of the polyimide-based substrate using a scanning electron microscope (SEM), and measuring the thickness of the polyimide-based substrate at 20 points in the image of the cross-section Arithmetic mean value of thickness of 20 places. Also in Examples 2 to 13 and Comparative Examples 1 to 4, the refractive index and the film thickness of the resin base such as the polyimide base were measured by the same method as in Example 1.
ハードコート層の屈折率は、以下のようにして求められた。まず、易接着処理が施されていない厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材上にハードコート層用組成物を塗布し、硬化させて膜厚１〜１０μｍのハードコート層を形成した後、５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出して、サンプルを得た。そして、サンプルにおいて、ＰＥＴ基材におけるハードコート層が形成されていない面（裏面）に、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒ビニールテープ（例えば、ヤマトビニールテープＮＯ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼り付けた。次いで、分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、島津製作所社製）に接続した大形試料室（製品名「ＭＰＣ−３１００」、島津製作所社製）内に絶対鏡面反射測定装置（製品名「ＡＳＲ３１０５」、島津製作所社製）を設置し、絶対鏡面反射測定装置のサンプルホルダに上記サンプルを取り付け、０．５ｎｍ間隔で波長３８０〜７８０ｎｍの鏡面反射光（５°反射）の絶対反射率を測定し、得られた絶対反射率の平均値を用いて上記式（Ｂ）に基づいてハードコート層の屈折率を求めた。また、光学調整層の屈折率も、ハードコート層の屈折率と同様にして、求められた。また、各層の膜厚は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、各層の断面を撮影し、その断面の画像において各層の膜厚をそれぞれ２０箇所測定し、その２０箇所の膜厚の算術平均値とした。実施例２〜１３および比較例１〜４においても、実施例１と同様の手法によって各層の屈折率および膜厚を測定した。 The refractive index of the hard coat layer was determined as follows. First, a composition for a hard coat layer is applied on a 50 μm thick polyethylene terephthalate (PET) substrate not subjected to an easy adhesion treatment and cured to form a hard coat layer having a thickness of 1 to 10 μm, The sample was cut out to a size of 5 cm × 10 cm. Then, in the sample, a black vinyl tape (for example, Yamato Vinyl Tape NO 200-38) having a width larger than the measurement spot area in order to prevent back reflection on the surface (back surface) where the hard coat layer is not formed in the PET substrate. −21 38 mm width) was pasted. Next, the absolute specular reflection measuring apparatus (product name) is stored in a large sample chamber (product name "MPC-3100", made by Shimadzu Corporation) connected to a spectrophotometer (product name "UV-3100PC", manufactured by Shimadzu Corporation) Install “ASR 3105” (manufactured by Shimadzu Corporation), attach the above sample to the sample holder of the absolute specular reflection measurement device, and measure the absolute reflectance of specular reflected light (5 ° reflection) of wavelength 380 to 780 nm at 0.5 nm intervals. It measured and the refractive index of the hard-coat layer was calculated | required based on the said Formula (B) using the average value of the obtained absolute reflectance. The refractive index of the optical adjustment layer was also determined in the same manner as the refractive index of the hard coat layer. The film thickness of each layer is obtained by photographing the cross section of each layer using a scanning electron microscope (SEM), measuring the film thickness of each layer at 20 points in the image of the cross section, and calculating the arithmetic of the film thickness of the 20 points. Average value. Also in Examples 2 to 13 and Comparative Examples 1 to 4, the refractive index and the film thickness of each layer were measured by the same method as in Example 1.
なお、上記においては、ポリイミド系基材等の屈折率を、波長３８０〜７８０ｎｍの平均反射率を用いて求めているが、ＪＩＳ Ｋ７１４２：２００８のＢ法に準拠したベッケ法によっても、同等の屈折率となるので、ベッケ法によってポリイミド系基材等の屈折率を求めてもよい。ポリイミド系基材の屈折率を、ベッケ法を用いて求める場合、ポリイミド系基材の欠片を１０個切り出し、切り出した１０個の欠片において、波長５８９ｎｍのナトリウムＤ線および屈折率標準液を用いて、欠片の屈折率をそれぞれ測定し、測定した欠片の屈折率の１０個の平均値をポリイミド系基材の屈折率とする。ハードコート層や光学調整層の屈折率を、ベッケ法を用いて求める場合も、上記ベッケ法によるポリイミド系基材の屈折率の求め方と同様の方法によって求めるものとする。 In the above, the refractive index of the polyimide base material or the like is determined using the average reflectance at a wavelength of 380 to 780 nm, but the same refractive index can be obtained by the Becke method based on JIS K7142: 2008 method B. The refractive index of a polyimide-based substrate or the like may be determined by the Becke method because it becomes a rate. When the refractive index of a polyimide-based substrate is determined using the Becke method, 10 pieces of the polyimide-based substrate are cut out and 10 pieces cut out using sodium D-line having a wavelength of 589 nm and a refractive index standard solution The refractive index of each piece is measured, and the average value of the 10 measured refractive indices of the pieces is taken as the refractive index of the polyimide-based substrate. In the case where the refractive index of the hard coat layer or the optical adjustment layer is determined by the Becke method, it is determined by the same method as the method of determining the refractive index of the polyimide base material by the Becke method.
＜実施例２＞
実施例２においては、第１の光学調整層の膜厚を１μｍ（１０００ｎｍ）としたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。
Example 2
In Example 2, an optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the first optical adjustment layer was 1 μm (1000 nm).
＜実施例３＞
実施例３においては、第２の光学調整層の膜厚を２００ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。
Example 3
In Example 3, an optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the second optical adjustment layer was set to 200 nm.
＜実施例４＞
実施例４においては、第３の光学調整層の膜厚を２００ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。
Example 4
In Example 4, an optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the third optical adjustment layer was set to 200 nm.
＜実施例５＞
実施例３においては、光学調整層用組成物１に代わりに光学調整層用組成物４を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。なお、光学調整層用組成物４を用いて形成した第１の光学調整層の屈折率は１．５４１であった。
Example 5
In Example 3, an optical film was obtained in the same manner as Example 1, except that the composition 4 for optical adjustment layer was used instead of the composition 1 for optical adjustment layer. In addition, the refractive index of the 1st optical adjustment layer formed using the composition 4 for optical adjustment layers was 1.541.
＜実施例６＞
実施例６においては、光学調整層用組成物２に代わりに光学調整層用組成物５を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。なお、光学調整層用組成物５を用いて形成した第２の光学調整層の屈折率は１．５４７であった。
Example 6
In Example 6, an optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition 5 for optical adjustment layer was used instead of the composition 2 for optical adjustment layer. In addition, the refractive index of the 2nd optical adjustment layer formed using the composition 5 for optical adjustment layers was 1.547.
＜実施例７＞
実施例７においては、光学調整層用組成物３に代わりに光学調整層用組成物６を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。なお、光学調整層用組成物６を用いて形成した第３の光学調整層の屈折率は１．５６３であった。
Example 7
In Example 7, an optical film was obtained in the same manner as Example 1, except that the
＜実施例８＞
樹脂基材として、屈折率１．６３０および厚さ３０μｍのポリイミド系基材（製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学社製）を準備し、ポリイミド系基材の一方の面に、バーコーターで光学調整層用組成物２を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、９０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させて、ポリイミド系基材に隣接した屈折率１．５４４および膜厚１００ｎｍの第２の光学調整層を形成した。第２の光学調整層を形成した後、第２の光学調整層の表面に、バーコーターでハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、９０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させて、屈折率１．５３１および膜厚１０μｍのハードコート層を形成した。次いで、ポリイミド系基材における前記一方の面とは反対側の面である他方の面に、バーコーターで光学調整層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させて、屈折率１．５３６および膜厚１００ｎｍの第１の光学調整層を形成した。これにより、第１の光学調整層、ポリイミド系基材、第２の光学調整層、およびハードコート層がこの順で積層された光学フィルムを得た。なお、実施例８に係る光学フィルムの表面はハードコート層の表面であり、裏面は第１の光学調整層の表面であった。
Example 8
Prepare a polyimide-based substrate (product name "Neoprim", manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) with a refractive index of 1.630 and a thickness of 30 μm as a resin substrate, and use an optical bar coater on one side of the polyimide-based substrate. The composition for adjustment layer 2 was applied to form a coating film. Thereafter, the formed coating is heated at 90 ° C. for 1 minute to evaporate the solvent in the coating, and the second optical with a refractive index of 1.544 and a film thickness of 100 nm adjacent to the polyimide-based substrate An adjustment layer was formed. After forming the second optical adjustment layer, the composition 1 for hard coat layer was applied to the surface of the second optical adjustment layer with a bar coater to form a coating film. Thereafter, the formed coating film is heated at 90 ° C. for 1 minute to evaporate the solvent in the coating film, and the ultraviolet light is aired using an ultraviolet irradiation apparatus (Fusion UV System Japan Ltd., light source H bulb) The coating film was cured by irradiation so that the accumulated light amount was 200 mJ / cm 2 in the middle, to form a hard coat layer having a refractive index of 1.531 and a film thickness of 10 μm. Subsequently, the composition 1 for optical adjustment layers was apply | coated with the bar coater on the other surface which is a surface on the opposite side to the said one surface in a polyimide-type base material, and the coating film was formed. With respect to the formed coating film, the solvent in the coating film was evaporated by heating at 70 ° C. for 1 minute to form a first optical adjustment layer having a refractive index of 1.536 and a film thickness of 100 nm. Thus, an optical film in which the first optical adjustment layer, the polyimide-based substrate, the second optical adjustment layer, and the hard coat layer were laminated in this order was obtained. In addition, the surface of the optical film which concerns on Example 8 was the surface of a hard-coat layer, and the back was a surface of the 1st optical adjustment layer.
＜実施例９＞
実施例９においては、ハードコート層の膜厚を２０μｍにしたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。
Example 9
In Example 9, an optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the hard coat layer was 20 μm.
＜実施例１０＞
実施例１０においては、ハードコート層の膜厚を４０μｍにしたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。
Example 10
In Example 10, an optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the hard coat layer was 40 μm.
＜実施例１１＞
実施例１１においては、ポリイミド系基材の代わりに、屈折率１．６６２および厚さ３０μｍのポリアミドイミド系基材（製品名「ＴＨＤ−３０」、コーロン社製）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。
Example 11
Example 11 is carried out except that a polyamideimide based substrate (product name “THD-30”, manufactured by Koron Co., Ltd.) having a refractive index of 1.662 and a thickness of 30 μm is used instead of the polyimide based substrate. An optical film was obtained in the same manner as Example 1.
＜実施例１２＞
実施例１２においては、ポリイミド系基材の代わりに、屈折率１．７０１および厚さ３０μｍのポリアミド系基材（製品名「アラミド」、東レ社製）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。
Example 12
In Example 12, Example 1 and Example 1 were used except that a polyamide-based substrate having a refractive index of 1.701 and a thickness of 30 μm (product name “aramid”, manufactured by Toray Industries, Inc.) was used instead of the polyimide-based substrate. An optical film was obtained in the same manner.
＜実施例１３＞
実施例１３においては、ポリイミド系基材の代わりに、屈折率１．６５４および厚さ２３μｍのポリエステル系基材（製品名「Ｕ４０３」、東レ社製）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。
Example 13
In Example 13, Example 1 and Example 1 were used except that a polyester-based substrate having a refractive index of 1.654 and a thickness of 23 μm (product name "U403", manufactured by Toray Industries, Inc.) was used instead of the polyimide-based substrate. An optical film was obtained in the same manner.
＜比較例１＞
樹脂基材として、屈折率１．６３０および厚さ３０μｍのポリイミド系基材（製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学社製）を準備し、ポリイミド系基材の一方の面に、バーコーターでハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させて、屈折率１．５３１および膜厚１０μｍのハードコート層を形成し、ポリイミド系基材にハードコート層が隣接した光学フィルムを得た。なお、比較例１に係る光学フィルムの表面はハードコート層の表面であり、裏面はポリイミド系基材の一方の面とは反対側の面であった。
Comparative Example 1
Prepare a polyimide-based substrate (product name "Neoprim", manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) with a refractive index of 1.630 and a thickness of 30 μm as a resin substrate, and use a bar coater to hard one surface of the polyimide-based substrate. Coating layer composition 1 was applied to form a coating. Thereafter, the formed coating film is heated at 70 ° C. for 1 minute to evaporate the solvent in the coating film, and the ultraviolet light is aired using an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan Ltd., light source H bulb) The coating film is cured by irradiation so that the accumulated light amount is 200 mJ / cm 2 in the inside, a hard coat layer having a refractive index of 1.531 and a film thickness of 10 μm is formed, and the hard coat layer is formed on the polyimide base An adjacent optical film was obtained. In addition, the surface of the optical film which concerns on the comparative example 1 was a surface of a hard-coat layer, and the back surface was a surface on the opposite side to one surface of a polyimide-type base material.
＜比較例２＞
比較例２においては、ハードコート層の膜厚を５０μｍにしたこと以外は、比較例１と同様にして、光学フィルムを得た。
Comparative Example 2
In Comparative Example 2, an optical film was obtained in the same manner as Comparative Example 1 except that the film thickness of the hard coat layer was 50 μm.
＜比較例３＞
比較例３においては、第１の光学調整層を設けなかったこと以外は、実施例８と同様にして、光学フィルムを得た。
Comparative Example 3
In Comparative Example 3, an optical film was obtained in the same manner as in Example 8 except that the first optical adjustment layer was not provided.
＜比較例４＞
比較例４においては、光学調整層用組成物１に代わりに光学調整層用組成物７を用いたこと以外は、実施例８と同様にして、光学フィルムを得た。なお、光学調整層用組成物７を用いて形成した第１の光学調整層の屈折率は１．６４７であった。
Comparative Example 4
In Comparative Example 4, an optical film was obtained in the same manner as Example 8, except that the composition 7 for optical adjustment layer was used instead of the composition 1 for optical adjustment layer. In addition, the refractive index of the 1st optical adjustment layer formed using the composition 7 for optical adjustment layers was 1.647.
＜全光線透過率測定＞
実施例および比較例に係る光学フィルムについて、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７３６１に従って全光線透過率を測定した。全光線透過率を測定する際には５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムの裏面側から光を照射し、また全光線透過率は３回測定して得られた値の算術平均値とした。
<Total light transmittance measurement>
About the optical film which concerns on an Example and a comparative example, the total light transmittance was measured according to JISK7361 using the haze meter (product name "HM-150", Murakami Color Research Laboratory make). When measuring the total light transmittance, light is irradiated from the back side of the optical film cut out to a size of 5 cm × 10 cm, and the total light transmittance is measured three times and the arithmetic mean value of the values obtained did.
＜干渉縞評価＞
実施例および比較例に係る光学フィルムにおいて、干渉縞が観察されるか評価した。具体的には、５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムの裏面に透明粘着剤を介して、裏面反射を防止するための黒色アクリル板を貼り、光学フィルムの表面側から各光学フィルムに光を照射し、干渉縞が確認されるか目視で観察した。光源としては、三波長管蛍光灯を使用した。干渉縞の発生を以下の基準により評価した。
○：干渉縞は確認されなかった、または干渉縞は若干確認されたが、実使用上問題ないレベルであった。
×：干渉縞が明確に確認された。
<Interference fringe evaluation>
In the optical films according to Examples and Comparative Examples, it was evaluated whether interference fringes were observed. Specifically, a black acrylic plate for preventing back surface reflection is attached to the back surface of the optical film cut into a size of 5 cm × 10 cm via a transparent adhesive, and light is applied to each optical film from the front surface side of the optical film. And visually observed if interference fringes were confirmed. A three-wavelength tube fluorescent lamp was used as a light source. The occurrence of interference fringes was evaluated according to the following criteria.
:: No interference fringes were confirmed, or interference fringes were slightly confirmed, but at a level at which there is no problem in practical use.
X: Interference fringes were clearly confirmed.
＜連続折り畳み性および密着性＞
実施例および比較例に係る光学フィルムを、３０ｍｍ×１００ｍｍの長方形にカットして作製したサンプルを、耐久試験機（製品名「ＤＬＤＭＬＨ−ＦＳ」、ユアサシステム機器社製）に、サンプルの短辺（３０ｍｍ）側を固定部でそれぞれ固定し、図２（Ｃ）に示したように対向する２つの辺部の最小の間隔が１０ｍｍとなるようにして取り付け、サンプルの表面側を１８０°折り畳む連続折り畳み試験（ハードコート層が内側となり、第１の光学調整層または基材が外側となるように折り畳む試験）を１万回行い、基材とハードコート層との間に浮き（隙間）が生じていないか調べるとともに、屈曲部に割れ又は破断が生じていないか調べた。連続折り畳み試験の結果を、連続折り畳み性および密着性に分けて、以下の基準で評価した。
（連続折り畳み性）
○：連続折り畳み試験において、屈曲部に割れ又は破断が生じていなかった。
×：連続折り畳み試験において、屈曲部に割れ又は破断が生じていた。
（密着性）
○：連続折り畳み試験において、基材とハードコート層の間に浮きが生じていなかった。
△：連続折り畳み試験において、基材とハードコート層の間に浮きが若干生じていたが、実使用上問題ないレベルであった。
×：連続折り畳み試験において、基材とハードコート層の間に明らかに浮きが生じていた。
<Continuous foldability and adhesion>
A sample produced by cutting the optical film according to the example and the comparative example into a rectangle of 30 mm × 100 mm was used as a durability tester (product name “DLDMLH-FS”, manufactured by Yuasa System Instruments Co., Ltd.) to the short side of the
(Continuous foldability)
○: In the continuous folding test, no fracture or breakage occurred in the bent portion.
X: In the continuous folding test, a crack or break occurred in the bent portion.
(Adhesiveness)
Good: In the continuous folding test, no floating occurred between the substrate and the hard coat layer.
Δ: In the continuous folding test, a slight lifting occurred between the substrate and the hard coat layer, but at a level that causes no problem in practical use.
X: In the continuous folding test, a float was clearly generated between the substrate and the hard coat layer.
＜鉛筆硬度＞
実施例および比較例に係る光学フィルムの表面における鉛筆硬度を、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４：１９９９に基づいてそれぞれ測定した。鉛筆硬度の測定の際には、５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムをガラス板上に折れやシワがないようニチバン社製のセロテープ（登録商標）で固定した状態で、鉛筆に７５０ｇの荷重をかけながら、鉛筆を速度１ｍｍ／秒で移動させた。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験において光学フィルムの表面に傷が付かなかった最も高い硬度とする。なお、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆１本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回のうち４回以上蛍光灯下で光学フィルムの表面を透過観察した際に光学フィルムの表面に傷が視認されなかった場合には、この硬度の鉛筆においては光学フィルムの表面に傷が付かなかったと判断する。
<Pencil hardness>
The pencil hardness on the surface of the optical film which concerns on an Example and a comparative example was each measured based on JISK5600-5-4: 1999. When measuring pencil hardness, an optical film cut into a size of 5 cm × 10 cm is fixed to 750 g of a pencil in a state of being fixed with Sellotape (registered trademark) made by Nichiban Co., Ltd. so as not to break or wrinkle on a glass plate. The pencil was moved at a speed of 1 mm / sec while applying a load. The pencil hardness is taken as the highest hardness at which the surface of the optical film is not scratched in the pencil hardness test. In addition, in the case of measurement of pencil hardness, although it carries out using two or more pencils which differ in hardness, a pencil hardness test is performed 5 times per one pencil, and the surface of an optical film under fluorescent light 4 times or more out of 5 times. When no flaw is visually recognized on the surface of the optical film when the light transmission observation is conducted, it is determined that the surface of the optical film is not scratched with a pencil of this hardness.
＜剥離帯電防止性＞
実施例および比較例に係る光学フィルムの表面および裏面に保護フィルムを貼り合わせて、光学フィルムの表面から保護フィルムを剥離させたときの剥離帯電量を測定して、剥離帯電量の大きさを評価した。具体的には、光学フィルムの表面に粘着層付き保護フィルム（製品名「ＳＡＴ２０３８Ｔ−ＪＳＬ」、サンエー化研社製）を貼り合わせて、２３℃、相対湿度５０％の環境下で、光学フィルムの表面および裏面から剥離速度３００ｍｍ／分で保護フィルムを１８０°剥離したときの光学フィルムの表面の電位を、静電気測定器（製品名「ＫＳＤ−０１０３」、春日電機社製）を用いて、表面より５０ｍｍの距離から測定し、剥離帯電量を測定した。剥離帯電量は、光学フィルムの両面において、それぞれ１０回測定し、１０回測定した剥離帯電量の算術平均値とした。評価基準は以下の通りとした。
○：光学フィルムの表面における剥離帯電量がいずれも−１０ｋＶ〜１０ｋＶの範囲内であった。
×：光学フィルムの表面における剥離帯電量のいずれかが±１０ｋＶを超えていた。
<Peeling antistatic property>
Protective films are attached to the front and back surfaces of the optical films according to Examples and Comparative Examples, and the amount of peeling charge when the protective film is peeled from the surface of the optical film is measured to evaluate the magnitude of the peeling charge. did. Specifically, a protective film with an adhesive layer (product name “SAT2038T-JSL”, manufactured by Sun Akaken Co., Ltd.) is bonded to the surface of the optical film, and the optical film is obtained under an environment of 23 ° C. and 50% relative humidity. The potential of the surface of the optical film when the protective film was peeled 180 ° at a peeling speed of 300 mm / min from the front and back surfaces was measured from the surface using an electrostatic measuring instrument (product name “KSD-0103”, manufactured by Kasuga Denki Co., Ltd.) It measured from the distance of 50 mm, and measured the amount of peeling charges. The peeling charge amount was measured ten times on each side of the optical film, and was taken as the arithmetic mean value of the peeling charge amount measured ten times. Evaluation criteria were as follows.
○: The peeling charge amount on the surface of the optical film was in the range of -10 kV to 10 kV.
X: Any of the peeling charge amount on the surface of the optical film exceeded ± 10 kV.
＜飽和帯電圧＞
実施例および比較例に係る光学フィルムの表面における飽和帯電圧をそれぞれ測定した。具体的には、２３℃、相対湿度５０％の環境下で、光学フィルムの表面より５０ｍｍの距離から１０ｋＶの電圧を印加し、帯電電荷減衰度測定器（製品名「Ｈ−０１１０」、シシド静電気社製）を用いて、１０ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムの表面の飽和耐電圧を測定した。飽和帯電圧は、３回測定して得られた値の算術平均値とした。
<Saturation band voltage>
The saturation charging voltages on the surfaces of the optical films according to the example and the comparative example were measured. Specifically, under an environment of 23 ° C. and a relative humidity of 50%, a voltage of 10 kV is applied from a distance of 50 mm from the surface of the optical film, and a charged charge decay measuring instrument (product name “H-0110”, Shicid electrostatics) The saturation withstanding voltage of the surface of the optical film cut out to a size of 10 cm × 10 cm was measured using The saturation voltage was an arithmetic mean value of the values obtained by measuring three times.
＜表面抵抗値＞
実施例および比較例に係る光学フィルムにおいて、抵抗率計（製品名「ハイレスタ−ＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０」、三菱化学アナリテック社製、プローブ：ＵＲＳ）を用いて、表面の抵抗値を測定した。表面抵抗値は、５ｃｍ×５ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムの表面の表面抵抗値をランダムにそれぞれ１０箇所測定し、測定した１０箇所の表面抵抗値の算術平均値とした。なお、光学フィルムとしては、上記耐久性試験前の光学フィルムを用いた。
<Surface resistance value>
In the optical films according to the examples and comparative examples, the surface resistance value was measured using a resistivity meter (product name “Hiresta-UP MCP-HT450”, manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd., probe: URS). The surface resistance value was obtained by randomly measuring the surface resistance value of the surface of the optical film cut into a size of 5 cm × 5 cm at 10 points, and taking the measured surface resistance value at 10 points as an arithmetic mean value. In addition, as an optical film, the optical film before the said durability test was used.
＜イエローインデックス（ＹＩ）＞
実施例および比較例に係る光学フィルムにおいて、イエローインデックスをそれぞれ測定した。具体的には、光学フィルムのイエローインデックスは、分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、島津製作所社製、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）を用いて、５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムの裏面側から波長２００ｎｍ〜７８０ｎｍの光を照射し、光学フィルムを透過する波長２００ｎｍ〜７８０ｎｍの光から測定した。イエローインデックスは、測定された値からＪＩＳ Ｚ８７２２：２００９に記載された演算式に従って色度三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを計算し、三刺激値Ｘ、Ｙ、ＺからＡＳＴＭ Ｄ１９２５：１９６２に記載された演算式に従って算出した。イエローインデックスは、３回測定して得られた値の算術平均値とした。
<Yellow Index (YI)>
The yellow index was measured in each of the optical films according to the example and the comparative example. Specifically, the yellow index of the optical film is cut out to a size of 5 cm × 10 cm using a spectrophotometer (product name “UV-3100PC”, manufactured by Shimadzu Corporation, light source: tungsten lamp and deuterium lamp) The light of wavelength 200nm-780nm was irradiated from the back side of the optical film, and it measured from the light of wavelength 200nm-780nm which penetrates an optical film. The yellow index calculates chromaticity tristimulus values X, Y, Z from measured values according to the arithmetic equation described in JIS Z 8722: 2009, and is described in tristimulus values X, Y, Z to ASTM D1925: 1962. Calculated according to the formula. The yellow index was taken as the arithmetic mean of the values obtained by measuring three times.
以下、結果を表１および表２に示す。
以下、結果について述べる。実施例１〜１３に係る光学フィルムにおいては、各種樹脂基材の他方の面に第１の光学調整層が設けられていたので、ポリイミド系基材の他方の面に第１の光学調整層が設けられていない比較例１〜３に係る光学フィルムまたはポリイミド系基材の他方の面に第１の光学調整層が設けられているが、屈折率がポリイミド系基材の屈折率よりも高い比較例４よりも、全光線透過率が高かった。 The following describes the results. In the optical films according to Examples 1 to 13, since the first optical adjustment layer was provided on the other side of various resin substrates, the first optical adjustment layer was formed on the other side of the polyimide-based substrate. Although the first optical adjustment layer is provided on the other surface of the optical film or the polyimide-based substrate according to Comparative Examples 1 to 3 which is not provided, a comparison in which the refractive index is higher than the refractive index of the polyimide-based substrate The total light transmittance was higher than in Example 4.
比較例２に係る光学フィルムにおいては、ハードコート層の膜厚が厚かったので、干渉縞の発生が抑制されたが、連続折り畳み性に劣っていた。これに対し、実施例１〜１３に係る光学フィルムにおいては、各種基材とハードコート層との間に、ハードコート層に隣接する第２の光学調整層が設けられていたので、干渉縞の発生が抑制され、かつ連続折り畳み性にも優れていた。 In the optical film according to Comparative Example 2, since the film thickness of the hard coat layer was thick, the occurrence of interference fringes was suppressed, but the continuous foldability was inferior. On the other hand, in the optical films according to Examples 1 to 13, since the second optical adjustment layer adjacent to the hard coat layer was provided between the various substrates and the hard coat layer, The occurrence was suppressed and the continuous foldability was also excellent.
また、実施例１および１０に係る光学フィルムにおいて、３０ｍｍ×１００ｍｍの長方形にカットして作製したサンプルの短辺（３０ｍｍ）側を、サンプルの対向する辺部の間隔が１０ｍｍとなるように平行に配置された固定部にそれぞれ固定し、光学フィルムを折り畳んだ状態で、７０℃で１２時間静置する折り畳み静置試験を行った。そして、折り畳み静置試験後に片方の辺部から固定部を外すことによって、折り畳み状態を開放して、室温で３０分後に光学フィルムが自然に開く角度である開き角（図３（Ｂ）参照）を測定したところ、実施例１に係る光学フィルムの開き角は１００°以上であり、実施例１０に係る光学フィルムの開き角よりも大きかった。なお、開き角としては、ハードコート層が内側となるように折り畳む場合と、ハードコート層が外側となるように折り畳む場合との両方で折り畳み静置試験をし、角度が小さい方を採用した。
Further, in the optical films according to Examples 1 and 10, the short side (30 mm) side of the sample prepared by cutting into a rectangle of 30 mm × 100 mm is parallel to make the distance between opposing sides of the
また、実施例１〜１３に係る光学フィルムに係る光学フィルムのハードコート層のマルテンス硬度を用いて測定したところ、ハードコート層のマルテンス硬度は６５０ＭＰａであった。マルテンス硬度は、ＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製の「ＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」を用いて、以下の測定条件で、ハードコート層の断面中央においてそれぞれＢｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子（三角錐）を５００ｎｍ押し込み、一定保持して残留応力の緩和を行った後、除荷させて、緩和後の最大荷重を計測し、該最大荷重Ｐｍａｘ（μＮ）と深さ５００ｎｍのくぼみ面積Ａ（ｎｍ２）とを用い、Ｐｍａｘ／Ａにより算出した。マルテンス硬度は、１０箇所測定して得られた値の算術平均値とした。
（測定条件）
・荷重速度：１０ｎｍ／秒
・保持時間：５秒
・荷重除荷速度：１０ｎｍ／秒
・測定温度：２５℃
Moreover, when it measured using the Martens hardness of the hard-coat layer of the optical film which concerns on the optical film which concerns on Examples 1-13, the Martens hardness of the hard-coat layer was 650 Mpa. The Martens hardness is obtained by pressing a Berkovich indenter (triangular pyramid) at the center of the cross section of the hard coat layer by 500 nm under the following measurement conditions using “TI950 TriboIndenter” manufactured by HYSITRON (Heiditron), and holding the residual stress constant. After relaxation, the load is unloaded, and the maximum load after relaxation is measured, using the maximum load P max (μN) and the depression area A (nm 2 ) with a depth of 500 nm, according to P max / A Calculated. Martens hardness was taken as the arithmetic mean value of the value obtained by measuring ten places.
(Measurement condition)
Loading speed: 10 nm / sec Holding time: 5 seconds Load unloading speed: 10 nm / sec Measurement temperature: 25 ° C.
１０、３０…光学フィルム
１０Ａ、１２Ａ…表面
１１…樹脂基材
１１Ａ…一方の面
１１Ｂ…他方の面
１２…樹脂層
１３…第１の光学調整層
１４…第２の光学調整層
１５…第３の光学調整層
４０…画像表示装置
４３…表示素子
10, 30 ...
Claims (8)
ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる樹脂基材と、
前記樹脂基材の一方の面側に設けられた樹脂層と、
前記樹脂基材における前記一方の面とは反対側の面である他方の面に設けられ、かつ屈折率が、１．０００より高く、かつ前記樹脂基材の屈折率よりも低い第１の光学調整層と、
を備える、光学フィルム。 A foldable optical film for use in an image display, comprising:
A resin base material comprising one or more resins selected from the group consisting of polyimide resins, polyamideimide resins, polyamide resins, and polyester resins;
A resin layer provided on one side of the resin base,
A first optical member provided on the other surface opposite to the one surface of the resin base and having a refractive index higher than 1.000 and lower than the refractive index of the resin base Adjustment layer,
, An optical film.
前記表示素子よりも観察者側に配置された請求項１に記載の光学フィルムと、
を備える、折り畳み可能な画像表示装置。 A display element,
The optical film according to claim 1, which is disposed closer to the viewer than the display element.
, A foldable image display device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017079540A JP7000701B2 (en) | 2017-04-13 | 2017-04-13 | Optical film and image display device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017079540A JP7000701B2 (en) | 2017-04-13 | 2017-04-13 | Optical film and image display device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018180274A true JP2018180274A (en) | 2018-11-15 |
| JP7000701B2 JP7000701B2 (en) | 2022-01-19 |
Family
ID=64276500
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017079540A Active JP7000701B2 (en) | 2017-04-13 | 2017-04-13 | Optical film and image display device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7000701B2 (en) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020091395A (en) * | 2018-12-05 | 2020-06-11 | 大日本印刷株式会社 | Optical film for flexible display, polarizing plate for flexible display, and flexible display |
| US10985344B2 (en) | 2017-10-27 | 2021-04-20 | Applied Materials, Inc. | Flexible cover lens films |
| US11579339B2 (en) | 2018-05-10 | 2023-02-14 | Applied Materials, Inc. | Replaceable cover lens for flexible display |
| WO2023190270A1 (en) * | 2022-03-28 | 2023-10-05 | 日本製紙株式会社 | Hard-coat film and method for manufacturing same |
| JP7359630B2 (en) | 2018-10-08 | 2023-10-11 | 三星電子株式会社 | Laminated film and display device including laminated film |
| US11789300B2 (en) | 2019-06-26 | 2023-10-17 | Applied Materials, Inc. | Flexible multi-layered cover lens stacks for foldable displays |
| US11988810B2 (en) | 2018-08-14 | 2024-05-21 | Applied Materials, Inc. | Multi-layer wet-dry hardcoats for flexible cover lens |
| EP4169974A4 (en) * | 2020-06-23 | 2024-07-17 | Kolon Inc | Multi-structured film having improved interference fringe, and display device comprising same |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000347003A (en) * | 1999-06-02 | 2000-12-15 | Dainippon Printing Co Ltd | Optical film |
| JP2006189867A (en) * | 2005-01-04 | 2006-07-20 | Samsung Corning Co Ltd | Display filter and display device including the same |
| JP2007058178A (en) * | 2005-07-25 | 2007-03-08 | Hitachi Maxell Ltd | Optical film and image display apparatus panel using the same |
| JP2007156391A (en) * | 2005-11-14 | 2007-06-21 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | Transparent substrate with anti-reflection film attached thereto |
| KR20160150007A (en) * | 2015-06-18 | 2016-12-28 | 삼성전자주식회사 | Display device and electronic device with the same |
| JP2017033034A (en) * | 2015-07-17 | 2017-02-09 | 大日本印刷株式会社 | Laminated body for touch panel, and folding type image display device |
| WO2017056635A1 (en) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | コニカミノルタ株式会社 | Organic electroluminescent element |
| WO2018037490A1 (en) * | 2016-08-23 | 2018-03-01 | リンテック株式会社 | Hard coat film |
-
2017
- 2017-04-13 JP JP2017079540A patent/JP7000701B2/en active Active
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000347003A (en) * | 1999-06-02 | 2000-12-15 | Dainippon Printing Co Ltd | Optical film |
| JP2006189867A (en) * | 2005-01-04 | 2006-07-20 | Samsung Corning Co Ltd | Display filter and display device including the same |
| JP2007058178A (en) * | 2005-07-25 | 2007-03-08 | Hitachi Maxell Ltd | Optical film and image display apparatus panel using the same |
| JP2007156391A (en) * | 2005-11-14 | 2007-06-21 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | Transparent substrate with anti-reflection film attached thereto |
| KR20160150007A (en) * | 2015-06-18 | 2016-12-28 | 삼성전자주식회사 | Display device and electronic device with the same |
| JP2017033034A (en) * | 2015-07-17 | 2017-02-09 | 大日本印刷株式会社 | Laminated body for touch panel, and folding type image display device |
| WO2017056635A1 (en) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | コニカミノルタ株式会社 | Organic electroluminescent element |
| WO2018037490A1 (en) * | 2016-08-23 | 2018-03-01 | リンテック株式会社 | Hard coat film |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10985344B2 (en) | 2017-10-27 | 2021-04-20 | Applied Materials, Inc. | Flexible cover lens films |
| US11758757B2 (en) | 2017-10-27 | 2023-09-12 | Applied Materials, Inc. | Flexible cover lens films |
| US11579339B2 (en) | 2018-05-10 | 2023-02-14 | Applied Materials, Inc. | Replaceable cover lens for flexible display |
| US11988810B2 (en) | 2018-08-14 | 2024-05-21 | Applied Materials, Inc. | Multi-layer wet-dry hardcoats for flexible cover lens |
| JP7359630B2 (en) | 2018-10-08 | 2023-10-11 | 三星電子株式会社 | Laminated film and display device including laminated film |
| US11945199B2 (en) | 2018-10-08 | 2024-04-02 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Laminated film, and display device including same |
| JP7298146B2 (en) | 2018-12-05 | 2023-06-27 | 大日本印刷株式会社 | Optical films for flexible displays, polarizing plates for flexible displays, and flexible displays |
| JP2020091395A (en) * | 2018-12-05 | 2020-06-11 | 大日本印刷株式会社 | Optical film for flexible display, polarizing plate for flexible display, and flexible display |
| US11789300B2 (en) | 2019-06-26 | 2023-10-17 | Applied Materials, Inc. | Flexible multi-layered cover lens stacks for foldable displays |
| US11934056B2 (en) | 2019-06-26 | 2024-03-19 | Applied Materials, Inc. | Flexible multi-layered cover lens stacks for foldable displays |
| US11940682B2 (en) | 2019-06-26 | 2024-03-26 | Applied Materials, Inc. | Flexible multi-layered cover lens stacks for foldable displays |
| US11940683B2 (en) | 2019-06-26 | 2024-03-26 | Applied Materials, Inc. | Flexible multi-layered cover lens stacks for foldable displays |
| EP4169974A4 (en) * | 2020-06-23 | 2024-07-17 | Kolon Inc | Multi-structured film having improved interference fringe, and display device comprising same |
| WO2023190270A1 (en) * | 2022-03-28 | 2023-10-05 | 日本製紙株式会社 | Hard-coat film and method for manufacturing same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP7000701B2 (en) | 2022-01-19 |
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Legal Events
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