JP2018172758A - Method for manufacturing vapor deposition mask having frame, method for manufacturing organic semiconductor element and method for manufacturing organic el display - Google Patents
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Abstract
Description
本開示の実施形態は、フレーム付き蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、および有機ELディスプレイの製造方法に関する。 Embodiments of the present disclosure relate to a method for manufacturing a vapor deposition mask with a frame, a method for manufacturing an organic semiconductor element, and a method for manufacturing an organic EL display.
蒸着マスクを用いた蒸着パターンの形成は、通常、蒸着作成するパターンに対応する開口部が設けられた蒸着マスクと蒸着対象物とを密着させ、蒸着源から放出された蒸着材を、開口部を通して、蒸着対象物に付着させることにより行われる。 Formation of a vapor deposition pattern using a vapor deposition mask is usually performed by bringing a vapor deposition mask provided with an opening corresponding to a pattern to be vapor-deposited and a vapor deposition target into close contact with each other, and allowing the vapor deposition material released from the vapor deposition source to pass through the opening. It is performed by adhering to a vapor deposition object.
上記蒸着パターンの形成に用いられる蒸着マスクとしては、例えば、蒸着作成するパターンに対応する樹脂マスク開口部を有する樹脂マスクと、金属マスク開口部(スリットと称される場合もある)を有する金属マスクとを積層してなる蒸着マスク(例えば、特許文献1)等が知られている。また、これらの蒸着マスクは、フレームに固定されて用いられる場合も多い。 As a vapor deposition mask used for the formation of the vapor deposition pattern, for example, a metal mask having a resin mask opening having a resin mask opening corresponding to the pattern to be vapor deposited and a metal mask opening (sometimes referred to as a slit). A vapor deposition mask (for example, Patent Document 1) formed by laminating and is known. In many cases, these vapor deposition masks are used by being fixed to a frame.
本開示の実施形態は、高精細な蒸着パターンの形成が可能なフレーム付き蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、および有機ELディスプレイの製造方法を提供することを主たる課題とする。 An embodiment of the present disclosure mainly provides a method for manufacturing a vapor deposition mask with a frame capable of forming a high-definition vapor deposition pattern, a method for manufacturing an organic semiconductor element, and a method for manufacturing an organic EL display.
本開示の一実施形態にかかるフレーム付き蒸着マスクの製造方法は、フレームに蒸着マスクが固定されたフレーム付き蒸着マスクの製造方法であって、フレームに蒸着マスクを固定する、蒸着マスク固定工程を含み、当該蒸着マスク固定工程は、フレーム内に位置する支持部材によって蒸着マスクが一時的に支持された状態にて行われる。 A method for manufacturing a vapor deposition mask with a frame according to an embodiment of the present disclosure is a method for manufacturing a vapor deposition mask with a frame in which the vapor deposition mask is fixed to the frame, and includes a vapor deposition mask fixing step of fixing the vapor deposition mask to the frame. The vapor deposition mask fixing step is performed in a state where the vapor deposition mask is temporarily supported by a support member located in the frame.
上記のフレーム付き蒸着マスクの製造方法にあっては、前記フレーム内に前記蒸着マスクを一時的に支持するための支持部材を載置する、支持部材載置工程を含み、前記蒸着マスク固定工程においては、前記支持部材上に前記蒸着マスクを載置した状態にて、前記フレームに前記蒸着マスクを固定してもよい。 In the manufacturing method of the vapor deposition mask with a frame, including a support member placing step of placing a support member for temporarily supporting the vapor deposition mask in the frame, the vapor deposition mask fixing step May fix the vapor deposition mask to the frame in a state where the vapor deposition mask is placed on the support member.
また、上記のフレーム付き蒸着マスクの製造方法にあっては、前記フレームは、フレーム本体と、前記フレーム本体内の開口空間を複数に区画する補助フレームと、を含み、前記蒸着マスク固定工程においては、前記支持部材は前記蒸着マスクのみならず前記補助フレームも支持し、前記支持部材上にて前記補助フレームに前記蒸着マスクを固定してもよい。 Further, in the above-described method for manufacturing a vapor deposition mask with a frame, the frame includes a frame main body and an auxiliary frame that divides an opening space in the frame main body into a plurality, and in the vapor deposition mask fixing step, The support member may support not only the vapor deposition mask but also the auxiliary frame, and the vapor deposition mask may be fixed to the auxiliary frame on the support member.
また、上記のフレーム付き蒸着マスクの製造方法にあっては、前記蒸着マスクが、蒸着作成するパターンに対応する複数の樹脂マスク開口部を有する樹脂マスクと、金属マスク開口部を有する金属マスクとが、前記樹脂マスク開口部と前記金属マスク開口部とが重なるようにして積層されてなる蒸着マスクであってもよい。 Further, in the above-described method for manufacturing a vapor deposition mask with a frame, the vapor deposition mask includes a resin mask having a plurality of resin mask openings corresponding to a pattern to be vapor deposited, and a metal mask having a metal mask opening. The deposition mask may be formed by laminating the resin mask opening and the metal mask opening so as to overlap each other.
本開示の他の一実施形態にかかるフレーム付き蒸着マスクの製造方法は、フレームに蒸着マスクが固定されたフレーム付き蒸着マスクの製造方法であって、フレームに蒸着マスク準備体を固定する、蒸着マスク準備体固定工程と、フレームに固定された蒸着マスク準備体に開口部を形成して蒸着マスクとする、蒸着マスク形成工程と、を含み、前記蒸着マスク準備体固定工程は、フレーム内に位置する支持部材によって蒸着マスク準備体が一時的に支持された状態にて行われる。 A manufacturing method of a deposition mask with a frame according to another embodiment of the present disclosure is a manufacturing method of a deposition mask with a frame in which the deposition mask is fixed to the frame, and the deposition mask preparation body is fixed to the frame. Including a preparation body fixing step and a vapor deposition mask forming step for forming a vapor deposition mask by forming an opening in the vapor deposition mask preparation body fixed to the frame, wherein the vapor deposition mask preparation body fixing step is located in the frame This is performed in a state where the deposition mask preparation is temporarily supported by the support member.
上記のフレーム付き蒸着マスクの製造方法にあっては、前記フレーム内に前記蒸着マスク準備体を一時的に支持するための支持部材を載置する、支持部材載置工程を含み、前記蒸着マスク準備体固定工程においては、前記支持部材上に前記蒸着マスク準備体を載置した状態にて、前記フレームに前記蒸着マスク準備体を固定してもよい。 In the above-described method for manufacturing a vapor deposition mask with a frame, the vapor deposition mask preparation includes a support member placement step of placing a support member for temporarily supporting the vapor deposition mask preparation in the frame. In the body fixing step, the vapor deposition mask preparation may be fixed to the frame in a state where the vapor deposition mask preparation is placed on the support member.
また、上記のフレーム付き蒸着マスクの製造方法にあっては、前記フレームは、フレーム本体と、前記フレーム本体内の開口空間を複数に区画する補助フレームと、を含み、前記蒸着マスク準備体固定工程においては、前記支持部材は前記蒸着マスク準備体のみならず前記補助フレームも支持し、前記支持部材上にて前記補助フレームに前記蒸着マスク準備体を固定してもよい。 Further, in the above-described method for manufacturing a vapor deposition mask with a frame, the frame includes a frame main body and an auxiliary frame that divides an opening space in the frame main body into a plurality of pieces, and the vapor deposition mask preparation body fixing step The support member may support not only the deposition mask preparation but also the auxiliary frame, and the deposition mask preparation may be fixed to the auxiliary frame on the support member.
また、上記のフレーム付き蒸着マスクの製造方法にあっては、前記蒸着マスク準備体が、金属マスク開口部を有する金属マスクと、樹脂層と、が積層されてなる蒸着マスク準備体であってもよい。 Moreover, in the above-described method for manufacturing a vapor deposition mask with a frame, even if the vapor deposition mask preparation is a vapor deposition mask preparation in which a metal mask having a metal mask opening and a resin layer are laminated. Good.
また、本開示の他の一実施形態の有機半導体素子の製造方法は、フレーム付き蒸着マスクを用いて蒸着対象物に蒸着パターンを形成する蒸着パターン形成工程を含み、前記蒸着パターン形成工程で用いられる前記フレーム付き蒸着マスクが、上記本開示の実施形態にかかるフレーム付き蒸着マスクの製造方法によって製造されたフレーム付き蒸着マスクである。 Moreover, the manufacturing method of the organic-semiconductor element of other one Embodiment of this indication includes the vapor deposition pattern formation process which forms a vapor deposition pattern in a vapor deposition target object using a vapor deposition mask with a flame | frame, and is used by the said vapor deposition pattern formation process. The framed deposition mask is a framed deposition mask manufactured by the framed deposition mask manufacturing method according to the embodiment of the present disclosure.
また、本開示の他の一実施形態の有機ELディスプレイの製造方法は、上記本開示の実施形態にかかる有機半導体素子の製造方法によって製造された有機半導体素子が用いられる。 Moreover, the organic-semiconductor element manufactured by the manufacturing method of the organic-semiconductor element concerning embodiment of the said this indication is used for the manufacturing method of the organic electroluminescent display of other one embodiment of this indication.
本開示のフレーム付き蒸着マスクの製造方法によれば、高精細な蒸着パターンを形成可能な蒸着マスクを製造することができる。また、本開示の有機半導体素子の製造方法および本開示の有機ELディスプレイの製造方法によれば、高精細な有機半導体素子または高精細のディスプレイを製造することができる。 According to the method for manufacturing a vapor deposition mask with a frame of the present disclosure, it is possible to manufacture a vapor deposition mask capable of forming a high-definition vapor deposition pattern. Moreover, according to the manufacturing method of the organic semiconductor element of this indication, and the manufacturing method of the organic EL display of this indication, a high-definition organic semiconductor element or a high-definition display can be manufactured.
以下、本発明の実施の形態を、図面等を参照しながら説明する。なお、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。また、説明の便宜上、上方又は下方等という語句を用いて説明するが、上下方向が逆転してもよい。左右方向についても同様である。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Note that the present invention can be implemented in many different modes, and is not construed as being limited to the description of the embodiments exemplified below. In addition, for the sake of clarity, the drawings may be schematically represented with respect to the width, thickness, shape, etc. of each part as compared to the actual embodiment, but are merely examples, and the interpretation of the present invention is not limited. It is not limited. In addition, in the present specification and each drawing, the same elements as those described above with reference to the previous drawings are denoted by the same reference numerals, and detailed description may be omitted as appropriate. In addition, for convenience of explanation, the description will be made using terms such as “upper” or “lower”, but the vertical direction may be reversed. The same applies to the left-right direction.
<第1のフレーム付き蒸着マスクの製造方法>
本開示の実施の形態にかかるフレーム付き蒸着マスクの製造方法は、フレームに蒸着マスクが固定されたフレーム付き蒸着マスクの製造方法であって、フレームに蒸着マスクを固定する、蒸着マスク固定工程を含み、当該蒸着マスク固定工程は、フレーム内に位置する支持部材によって蒸着マスクが一時的に支持された状態にて行われる。より具体的には、前記フレーム内に前記蒸着マスクを一時的に支持するための支持部材を載置する、支持部材載置工程と、前記支持部材上に前記蒸着マスクを載置した状態にて、前記フレームに前記蒸着マスクを固定する、蒸着マスク固定工程と、を含んでいる。
<The manufacturing method of the vapor deposition mask with the 1st frame>
A manufacturing method of a deposition mask with a frame according to an embodiment of the present disclosure is a manufacturing method of a deposition mask with a frame in which the deposition mask is fixed to the frame, and includes a deposition mask fixing step of fixing the deposition mask to the frame. The vapor deposition mask fixing step is performed in a state where the vapor deposition mask is temporarily supported by a support member located in the frame. More specifically, in a state in which a support member for temporarily supporting the vapor deposition mask is placed in the frame, a support member placing step, and the vapor deposition mask being placed on the support member And a vapor deposition mask fixing step of fixing the vapor deposition mask to the frame.
図1は、本開示の実施形態にかかるフレーム付き蒸着マスクの製造方法を説明するための図である。より具体的には、図1(a)は、支持部材載置工程が行われ、蒸着マスク固定工程が行われる前の状態を示す平面図であり、図1(b)は、図1(a)のA−A断面図である。 Drawing 1 is a figure for explaining a manufacturing method of a vapor deposition mask with a frame concerning an embodiment of this indication. More specifically, FIG. 1A is a plan view showing a state before the support member mounting step is performed and the vapor deposition mask fixing step is performed, and FIG. 1B is a plan view of FIG. It is AA sectional drawing of).
図1(a)および(b)に示すように、本開示の実施形態にかかるフレーム付き蒸着マスクの製造方法においては、フレーム60内に蒸着マスク100を一時的に支持するための支持部材70を載置する、支持部材載置工程が行われ、次いで、前記支持部材70上に前記蒸着マスク100を載置した状態にて、前記フレーム60に前記蒸着マスク100を固定する、蒸着マスク固定工程が行われる。なお、図1中の符号80は、フレーム付き蒸着マスクを製造するためのステージであり、フレーム60を支持するための台としての役割を果たしている。 As shown in FIGS. 1A and 1B, in the method for manufacturing a vapor deposition mask with a frame according to the embodiment of the present disclosure, a support member 70 for temporarily supporting the vapor deposition mask 100 in the frame 60 is provided. A supporting member mounting step is performed, and then a deposition mask fixing step of fixing the deposition mask 100 to the frame 60 in a state where the deposition mask 100 is mounted on the support member 70. Done. In addition, the code | symbol 80 in FIG. 1 is a stage for manufacturing a vapor deposition mask with a flame | frame, and has played the role as a stand for supporting the flame | frame 60. FIG.
このような本開示の実施形態にかかるフレーム付き蒸着マスクの製造方法によれば、フレーム60に蒸着マスク100を固定する、蒸着マスク固定工程を行うにあたり、その前の段階で支持部材載置工程が行われる。したがって、蒸着マスク100は、固定されるべきフレーム60のみならず、支持部材70によっても支えられているため、蒸着マスク100をより安定した状態にてフレーム60に固定することができる。これにより、蒸着マスク100の位置精度を向上することができ、高精度・高精細の蒸着マスクを製造することができる。 According to the method for manufacturing a vapor deposition mask with a frame according to the embodiment of the present disclosure, in performing the vapor deposition mask fixing process of fixing the vapor deposition mask 100 to the frame 60, the supporting member placing process is performed in the previous stage. Done. Therefore, since the vapor deposition mask 100 is supported not only by the frame 60 to be fixed but also by the support member 70, the vapor deposition mask 100 can be fixed to the frame 60 in a more stable state. Thereby, the positional accuracy of the vapor deposition mask 100 can be improved, and a highly accurate and high-definition vapor deposition mask can be manufactured.
(フレーム)
本方法において用いられるフレーム60については、特に限定されることはなく、従来から用いられている各種フレームを適宜選択して用いることができる。したがって、図1に示すフレーム60は、矩形形状を呈しているが、これに限定されることはなく、いかなる形状であってもよい。また、フレーム60の材質としても特に限定されることはなく、例えば、各種金属や合金、ガラス、セラミックなどから適宜選択して用いることができる。また、フレーム60の厚さについても特に限定されることはなく、適宜設計可能であるが、剛性等の観点から10mm以上30mm以下の範囲であることが好ましい。また、フレーム60を正面視した際のフレーム60の幅についても特に限定されることはなく、蒸着マスク100を固定できる程度の幅を有していればよく、例えば10mm以上70mm以下としてもよい。
(flame)
The frame 60 used in the present method is not particularly limited, and various conventionally used frames can be appropriately selected and used. Therefore, the frame 60 shown in FIG. 1 has a rectangular shape, but is not limited thereto, and may have any shape. Also, the material of the frame 60 is not particularly limited, and can be appropriately selected from various metals, alloys, glass, ceramics, and the like. Further, the thickness of the frame 60 is not particularly limited and can be appropriately designed, but is preferably in the range of 10 mm to 30 mm from the viewpoint of rigidity and the like. Further, the width of the frame 60 when the frame 60 is viewed from the front is not particularly limited as long as it has a width that can fix the vapor deposition mask 100, and may be, for example, 10 mm or more and 70 mm or less.
図2は、本開示の別の実施形態にかかるフレーム付き蒸着マスクの製造方法を説明するための図である。より具体的には、図2(a)は、支持部材載置工程が行われ、蒸着マスク固定工程が行われる前の状態を示す平面図であり、図2(b)は、図2(a)のA−A断面図である。 Drawing 2 is a figure for explaining a manufacturing method of a vapor deposition mask with a frame concerning another embodiment of this indication. More specifically, FIG. 2A is a plan view showing a state before the support member placing step is performed and the vapor deposition mask fixing step is performed, and FIG. 2B is a plan view of FIG. It is AA sectional drawing of).
図2に示す本開示の別の実施形態にかかるフレーム付き蒸着マスクの製造方法にあっては、用いられるフレーム60が、フレーム本体61と、このフレーム本体61内の開口空間を複数(図2においては3つ)に区画する補助フレーム62とから構成されている。本開示の実施形態にかかるフレーム付き蒸着マスクの製造方法にあっては、このような補助フレーム62を有するフレーム60を用いることもできる。 In the method of manufacturing a vapor deposition mask with a frame according to another embodiment of the present disclosure shown in FIG. 2, the frame 60 used includes a frame main body 61 and a plurality of opening spaces in the frame main body 61 (in FIG. 2). Is composed of an auxiliary frame 62 partitioned into three). In the manufacturing method of the vapor deposition mask with a frame according to the embodiment of the present disclosure, the frame 60 having such an auxiliary frame 62 can also be used.
この場合においては、図2に示すように、支持部材載置工程においては、支持部材70は蒸着マスク100のみならず補助フレーム62も支持するように載置され、蒸着マスク固定工程においては、支持部材70上にて補助フレーム62に前記蒸着マスク100が固定される。 In this case, as shown in FIG. 2, in the supporting member placing step, the supporting member 70 is placed so as to support not only the vapor deposition mask 100 but also the auxiliary frame 62, and in the vapor deposition mask fixing step, the supporting member 70 is supported. The vapor deposition mask 100 is fixed to the auxiliary frame 62 on the member 70.
このような補助フレーム62を有するフレーム60を用いることにより、蒸着マスク100をフレーム60により精度よく固定することが可能となる。 By using the frame 60 having such an auxiliary frame 62, it becomes possible to fix the vapor deposition mask 100 to the frame 60 with high accuracy.
ここで、フレーム60を構成するフレーム本体61は、図1で説明したフレーム60に該当するためここでの説明は省略する。また、フレーム60を構成する補助フレーム62は、図2においては、フレーム本体61によって形成される開口空間を縦長の短冊状に区画すべく縦方向にのみ設けられているが、これに限定されることはなく、例えば、縦横に格子状に形成されていてもよく、開口空間を横長の短冊状に区画すべく横方向にのみ設けられていてもよい。 Here, the frame main body 61 constituting the frame 60 corresponds to the frame 60 described with reference to FIG. Further, in FIG. 2, the auxiliary frame 62 constituting the frame 60 is provided only in the vertical direction so as to divide the opening space formed by the frame main body 61 into a vertically long strip shape. However, the auxiliary frame 62 is limited to this. For example, it may be formed in a lattice shape vertically and horizontally, or may be provided only in the lateral direction so as to divide the opening space into horizontally long strips.
また、補助フレーム62の材質についても特に限定されることはなく、上記フレーム本体(フレーム60)61と同じ材質、つまり、各種金属や合金、ガラス、セラミックなどから適宜選択して用いることができる。フレーム本体61と補助フレーム62とを同じ材質とすることにより、図2に示すように、フレーム本体61と補助フレーム62を一体に成形することができる。 Further, the material of the auxiliary frame 62 is not particularly limited, and can be appropriately selected from the same material as the frame main body (frame 60) 61, that is, various metals, alloys, glass, ceramics, and the like. By making the frame main body 61 and the auxiliary frame 62 the same material, as shown in FIG. 2, the frame main body 61 and the auxiliary frame 62 can be integrally formed.
フレーム本体61と補助フレーム62とを一体に成形する方法としては、特に限定されることはないが、例えば、各種金属板などを準備し、切削などの物理的な加工またはエッチングなどの化学的な加工により、複数に区画された開口空間を形成することで、フレーム本体61および補助フレーム62を有するフレーム60としてもよい。 A method of integrally forming the frame main body 61 and the auxiliary frame 62 is not particularly limited. For example, various metal plates are prepared, and physical processing such as cutting or chemical processing such as etching is performed. A frame 60 having a frame main body 61 and an auxiliary frame 62 may be formed by forming a plurality of opening spaces by processing.
(支持部材)
本開示のフレーム付き蒸着マスクの製造方法における支持部材載置工程において用いられる支持部材70は、上記の通り、フレーム60(フレーム本体61)や補助フレーム62に蒸着マスク100を固定する際に、当該蒸着マスク100を支持しておくために用いられる部材であり、したがって、この作用効果を奏し得る部材であれば特に限定されない。
(Support member)
As described above, the support member 70 used in the support member mounting step in the method of manufacturing the vapor deposition mask with frame of the present disclosure is performed when the vapor deposition mask 100 is fixed to the frame 60 (frame body 61) or the auxiliary frame 62. It is a member used for supporting the vapor deposition mask 100, and therefore is not particularly limited as long as it is a member capable of exhibiting this action effect.
例えば、図1や図2においては、1つの蒸着マスク100に対して、直方体を呈する2つの支持部材70を用いて支持をしているが、必ずしこの態様に限定されることはなく、例えば1つの蒸着マスクに対して1つの支持部材を用いて支持をしてもよく、2つ以上の蒸着マスクに対して1つの支持部材を用いて支持をしてもよい。 For example, in FIG. 1 and FIG. 2, two vapor deposition masks 100 are supported by using two support members 70 each having a rectangular parallelepiped shape. However, the present invention is not necessarily limited to this mode. One vapor deposition mask may be supported using one support member, and two or more vapor deposition masks may be supported using one support member.
また、図1や図2においては、フレーム60内の開口空間を横方向に区切るように、2つの支持部材70を平行に配置しているが、この態様に限定されることはなく、例えば、フレーム60内の開口空間全体に1つの支持部材70を配置して、フレーム60内の開口空間を支持部材70によって埋めてしまってもよく、または、フレーム60内の開口空間に複数の柱状の支持部材を点在させてもよい。 In FIG. 1 and FIG. 2, the two support members 70 are arranged in parallel so as to divide the opening space in the frame 60 in the lateral direction, but the present invention is not limited to this mode. One support member 70 may be arranged in the entire opening space in the frame 60, and the opening space in the frame 60 may be filled with the supporting member 70, or a plurality of columnar supports may be supported in the opening space in the frame 60. Members may be interspersed.
このような支持部材70の断面の高さ、つまり、図1(b)および図2(b)に示す支持部材70の高さについても特に限定されることはない。図1(b)や図2(b)に示すように、支持部材70の断面の高さを、フレーム60(フレーム本体61)の断面の高さと同一にすることで、フレーム60(フレーム本体61)における蒸着マスクの固定面と、支持部材70における蒸着マスクの支持面の高さを揃えるようにしてもよく、一方で、支持部材の断面の高さをフレーム60(フレーム本体61)の断面の高さよりも高くしたり、低くしたりしてもよい。支持部材の断面の高さをフレーム60(フレーム本体61)の断面の高さよりも低くすることで、蒸着マスク100を意図的に撓ませた状態にて、蒸着マスク100をフレームに固定することができる。 The height of the cross section of the support member 70, that is, the height of the support member 70 shown in FIGS. 1B and 2B is not particularly limited. As shown in FIGS. 1B and 2B, the height of the cross section of the support member 70 is made equal to the height of the cross section of the frame 60 (frame main body 61), so that the frame 60 (frame main body 61) is obtained. ) And the height of the support surface of the vapor deposition mask in the support member 70 may be equalized, while the height of the cross section of the support member is set to the height of the cross section of the frame 60 (frame body 61). It may be higher or lower than the height. By setting the height of the cross section of the support member to be lower than the height of the cross section of the frame 60 (frame body 61), the vapor deposition mask 100 can be fixed to the frame while the vapor deposition mask 100 is intentionally bent. it can.
また、支持部材70の材質についても特に限定はされず、各種金属材料、合金材料、樹脂材料などを適宜選択して用いることができる。また、支持部材70は、光を透過するように構成されていてもよく、光を透過しないように構成してもよい。光を透過するように構成された支持部材であれば、支持部材を通してアライメントマークなどを確認することが可能なので、支持部材の配置の自由度が増す。一方で、光を透過しないように構成された支持部材を用いる場合には、蒸着マスクを固定すべき位置を確認するためのアライメントマークなどを当該支持部材上に設けてもよい。 Further, the material of the support member 70 is not particularly limited, and various metal materials, alloy materials, resin materials, and the like can be appropriately selected and used. Further, the support member 70 may be configured to transmit light or may be configured not to transmit light. If the support member is configured to transmit light, an alignment mark or the like can be confirmed through the support member, so that the degree of freedom in arranging the support member is increased. On the other hand, when a support member configured not to transmit light is used, an alignment mark or the like for confirming a position where the vapor deposition mask should be fixed may be provided on the support member.
また、支持部材70における少なくとも蒸着マスク100を支持する面に磁性を付与してもよい。蒸着マスク100を支持する面に磁性を付与することにより、磁力を用いて、蒸着マスク100を仮固定することが可能となり、蒸着マスク100を固定する際の位置精度を向上することができる。 Further, magnetism may be imparted to at least the surface of the support member 70 that supports the vapor deposition mask 100. By applying magnetism to the surface that supports the vapor deposition mask 100, the vapor deposition mask 100 can be temporarily fixed using magnetic force, and the positional accuracy when the vapor deposition mask 100 is fixed can be improved.
蒸着マスク100を固定する際の位置精度を向上するために、支持部材における少なくとも蒸着マスク100を支持する面に自己吸着性または自己粘着性を有する樹脂を設けてもよい。 In order to improve the positional accuracy when fixing the vapor deposition mask 100, a resin having self-adsorption or self-adhesiveness may be provided on at least the surface of the support member that supports the vapor deposition mask 100.
ここで、自己吸着性または自己粘着性とは、支持部材70自体の機構によって蒸着マスク100と吸着または粘着可能な性質を意味する。具体的には、支持部材70と蒸着マスク100との間に、接着剤や粘着剤などを介さず、また磁石など外力を用いることなく、蒸着マスク100を支持部材70に密着せしめることができる性質を意味する。 Here, the self-adsorption property or the self-adhesive property means a property capable of being adsorbed or adhered to the vapor deposition mask 100 by the mechanism of the support member 70 itself. Specifically, the property that the vapor deposition mask 100 can be brought into close contact with the support member 70 between the support member 70 and the vapor deposition mask 100 without using an adhesive or a pressure sensitive adhesive, or without using an external force such as a magnet. Means.
このような自己吸着性もしくは自己粘着性を有する樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、シクロオレフィン樹脂、ポリエチレン樹脂等を挙げることができる。また、このような樹脂に代えて、支持部材70の表面にセル吸盤構造を形成することで自己吸着性もしくは自己粘着性を発現せしめることもできる。セル吸盤構造とは、表面に形成された連続する微細な凹凸構造を意味し、この連続する微細な凹凸構造が吸盤としての作用を奏することで支持部材70に自己吸着性もしくは自己粘着性が付与される。このような材料としては、例えば、特開2008−36895号公報に記載されているセル吸盤構造を有するシート状物等を挙げることができる。 Examples of such self-adsorbing or self-adhesive resins include acrylic resins, silicone resins, urethane resins, polyester resins, epoxy resins, polyvinyl alcohol resins, cycloolefin resins, and polyethylene resins. Can do. Moreover, it can replace with such resin and can make self-adsorption property or self-adhesiveness express by forming a cell suction cup structure on the surface of the supporting member 70. The cell suction cup structure means a continuous fine concavo-convex structure formed on the surface, and the continuous fine concavo-convex structure acts as a sucker to give the support member 70 self-adsorption or self-adhesiveness. Is done. Examples of such a material include a sheet-like material having a cell suction cup structure described in JP 2008-36895 A.
以上で説明した本実施形態にかかるフレーム付き蒸着マスクの製造方法にあっては、フレーム60内に支持部材70を予め載置し、その後、当該支持部材70上に蒸着マスク100を載置しているが、この態様に限定されることはない。すなわち、フレーム60に予め蒸着マスク100を載置しておき、その後、可動式の支持部材70をフレーム60内に移動させることでフレーム60上の蒸着マスク100を支持するようにしてもよい(図示せず)。可動式の支持部材70を用いる場合にあっては、当該支持部材70を垂直方向に移動させてもよいし、水平方向に移動させてもよい。 In the method for manufacturing the vapor deposition mask with frame according to the present embodiment described above, the support member 70 is placed in advance in the frame 60, and then the vapor deposition mask 100 is placed on the support member 70. However, it is not limited to this mode. That is, the vapor deposition mask 100 may be placed on the frame 60 in advance, and then the movable support member 70 may be moved into the frame 60 to support the vapor deposition mask 100 on the frame 60 (FIG. Not shown). In the case where the movable support member 70 is used, the support member 70 may be moved in the vertical direction or may be moved in the horizontal direction.
<第2のフレーム付き蒸着マスクの製造方法>
本開示の第2の実施形態にかかるフレーム付き蒸着マスクの製造方法は、フレームに蒸着マスクが固定されたフレーム付き蒸着マスクの製造方法であって、フレームに蒸着マスク準備体を固定する、蒸着マスク準備体固定工程と、フレームに固定された蒸着マスク準備体に開口部を形成して蒸着マスクとする、蒸着マスク形成工程と、を含み、前記蒸着マスク準備体固定工程は、フレーム内に位置する支持部材によって蒸着マスク準備体が一時的に支持された状態にて行われる。
<The manufacturing method of the vapor deposition mask with a 2nd frame>
A manufacturing method of a deposition mask with a frame according to a second embodiment of the present disclosure is a manufacturing method of a deposition mask with a frame in which the deposition mask is fixed to the frame, and the deposition mask preparation body is fixed to the frame. Including a preparation body fixing step and a vapor deposition mask forming step for forming a vapor deposition mask by forming an opening in the vapor deposition mask preparation body fixed to the frame, wherein the vapor deposition mask preparation body fixing step is located in the frame This is performed in a state where the deposition mask preparation is temporarily supported by the support member.
上記第1のフレーム付き蒸着マスクの製造方法にあっては、完成された蒸着マスク100を用い、これをフレーム60に固定するにあたり、支持部材を用いて蒸着マスク100を一次的に支持したのに対し、第2のフレーム付き蒸着マスクの製造方法は、蒸着マスク準備体をフレームに固定し、フレームに固定された状態にて当該蒸着マスク準備体に開口部を形成することで蒸着マスクとする方法であり、この方法において、蒸着マスク準備体をフレームに固定するにあたり支持部材を用いて蒸着マスク準備体を一次的に支持することに特徴を有している。 In the first method for manufacturing a vapor deposition mask with a frame, the completed vapor deposition mask 100 was used, and the vapor deposition mask 100 was temporarily supported by using a support member when the vapor deposition mask 100 was fixed to the frame 60. On the other hand, the second method for manufacturing a vapor deposition mask with a frame is a method in which the vapor deposition mask preparation is fixed to the frame, and an opening is formed in the vapor deposition mask preparation in a state of being fixed to the frame. In this method, the deposition mask preparation body is temporarily supported using a support member when the deposition mask preparation body is fixed to the frame.
したがって、当該第2のフレーム付き蒸着マスクの製造方法は、上記で説明した第1のフレーム付き蒸着マスクの製造方法における「蒸着マスク100」を「蒸着マスク準備体」に置き換えたものであると言え、よって、各工程のここでの説明は省略する。 Therefore, it can be said that the manufacturing method of the said 2nd frame-equipped vapor deposition mask replaces "the vapor deposition mask 100" in the manufacturing method of the 1st frame-equipped vapor deposition mask demonstrated above with the "vapor deposition mask preparation body." Therefore, description of each step is omitted here.
(蒸着マスク)
本開示の第1の実施形態にかかるフレーム付き蒸着マスクの製造方法において用いられる蒸着マスク100については特に限定されることはなく、従来から用いられている金属製の蒸着マスクや樹脂製の蒸着マスクなど、種々の蒸着マスクから適宜選択することができる。
(Deposition mask)
The vapor deposition mask 100 used in the method of manufacturing the frame-equipped vapor deposition mask according to the first embodiment of the present disclosure is not particularly limited, and conventionally used metal vapor deposition masks and resin vapor deposition masks are used. It is possible to appropriately select from various deposition masks.
図3(a)は、本開示の第1の実施形態にかかる蒸着マスクの製造方法において用いられる蒸着マスクを金属マスク側から平面視したときの一例を示す正面図であり、図3(b)は、(a)のA−A部分での断面図である。なお、図3(b)における蒸着マスクの中央付近の一部は省略されている。 FIG. 3A is a front view showing an example when the vapor deposition mask used in the vapor deposition mask manufacturing method according to the first embodiment of the present disclosure is viewed in plan from the metal mask side, and FIG. These are sectional drawings in the AA part of (a). Note that a portion near the center of the vapor deposition mask in FIG. 3B is omitted.
図3に示す蒸着マスク100は、金属マスク開口部15を有する金属マスク10と、蒸着作成するパターンに対応する複数の樹脂マスク開口部25を有する樹脂マスク20とが、前記金属マスク開口部15と前記樹脂マスク開口部25とが重なるようにして積層されてなる。金属マスク10と樹脂マスク20とを積層してなる蒸着マスク100は、高精細かつ高精度の蒸着マスクとして注目されており、本開示のフレーム付き蒸着マスクの製造方法において好適に用いることができる。 The vapor deposition mask 100 shown in FIG. 3 includes a metal mask 10 having a metal mask opening 15 and a resin mask 20 having a plurality of resin mask openings 25 corresponding to a pattern to be vapor-deposited. The resin mask openings 25 are stacked so as to overlap. The vapor deposition mask 100 formed by laminating the metal mask 10 and the resin mask 20 is attracting attention as a high-definition and high-accuracy vapor deposition mask, and can be suitably used in the method of manufacturing a frame-equipped vapor deposition mask of the present disclosure.
以下に、図3に示す蒸着マスク100について説明する。 Below, the vapor deposition mask 100 shown in FIG. 3 is demonstrated.
(金属マスク)
金属マスク10は、金属から構成され、縦方向或いは横方向に延びる金属マスク開口部15が配置されている。金属マスク開口部の配置例について特に限定はなく、縦方向、及び横方向に延びる金属マスク開口部が、縦方向、及び横方向に複数列配置されていてもよく、縦方向に延びる金属マスク開口部が、横方向に複数列配置されていてもよく、横方向に延びる金属マスク開口部が縦方向に複数列配置されていてもよい。また、縦方向、或いは横方向に1列のみ配置されていてもよい。なお、本願明細書で言う「縦方向」、「横方向」とは、図面の上下方向、左右方向を意味し、蒸着マスクの長手方向、幅方向の何れの方向であってもよい。例えば、蒸着マスクの長手方向を「縦方向」としてもよく、幅方向を「縦方向」としてもよい。また、本願明細書では、蒸着マスクを平面視したときの形状が矩形状である場合を例に挙げて説明しているが、これ以外の形状、例えば、円形状や、ひし形状等の多角形状としてもよい。この場合、対角線の長手方向や、径方向、或いは、任意の方向を「長手方向」とし、この「長手方向」に直交する方向を、「幅方向(短手方向と言う場合もある)」とすればよい。
(Metal mask)
The metal mask 10 is made of metal, and has a metal mask opening 15 extending in the vertical direction or the horizontal direction. The arrangement example of the metal mask openings is not particularly limited, and the metal mask openings extending in the vertical direction and the horizontal direction may be arranged in a plurality of rows in the vertical direction and the horizontal direction, and the metal mask openings extending in the vertical direction. The portions may be arranged in a plurality of rows in the horizontal direction, and the metal mask openings extending in the horizontal direction may be arranged in a plurality of rows in the vertical direction. Further, only one row may be arranged in the vertical direction or the horizontal direction. In the present specification, “vertical direction” and “lateral direction” mean the vertical and horizontal directions of the drawing, and may be either the longitudinal direction or the width direction of the vapor deposition mask. For example, the longitudinal direction of the vapor deposition mask may be “vertical direction”, and the width direction may be “vertical direction”. In addition, in the present specification, the case where the shape of the vapor deposition mask when viewed in plan is a rectangular shape is described as an example, but other shapes, for example, a circular shape, a polygonal shape such as a rhombus shape, etc. It is good. In this case, the longitudinal direction, the radial direction, or an arbitrary direction of the diagonal line is defined as a “longitudinal direction”, and a direction orthogonal to the “longitudinal direction” is referred to as a “width direction (sometimes referred to as a short direction)”. do it.
金属マスク10の材料について特に限定はなく、蒸着マスクの分野で従来公知のものを適宜選択して用いることができ、例えば、ステンレス鋼、鉄ニッケル合金、アルミニウム合金などの金属材料を挙げることができる。中でも、鉄ニッケル合金であるインバー材は熱による変形が少ないので好適に用いることができる。 The material of the metal mask 10 is not particularly limited, and any conventionally known material can be appropriately selected and used in the field of the evaporation mask, and examples thereof include metal materials such as stainless steel, iron-nickel alloy, and aluminum alloy. . Among them, an invar material that is an iron-nickel alloy can be suitably used because it is less deformed by heat.
金属マスク10の厚みについても特に限定はないが、シャドウの発生をより効果的に防止するためには、100μm以下であることが好ましく、50μm以下であることがより好ましく、35μm以下であることが特に好ましい。なお、5μmより薄くした場合、破断や変形のリスクが高まるとともにハンドリングが困難となる傾向にある。 Although the thickness of the metal mask 10 is not particularly limited, it is preferably 100 μm or less, more preferably 50 μm or less, and more preferably 35 μm or less in order to more effectively prevent the occurrence of shadows. Particularly preferred. When the thickness is less than 5 μm, the risk of breakage and deformation increases and handling tends to be difficult.
また、図3(a)に示す形態では、金属マスク開口部15を平面視したときの開口形状は、矩形状を呈しているが、開口形状について特に限定はなく、金属マスク開口部15の開口形状は、台形状、円形状等いかなる形状であってもよい。 In the form shown in FIG. 3A, the opening shape when the metal mask opening 15 is viewed in plan is a rectangular shape, but the opening shape is not particularly limited, and the opening of the metal mask opening 15 is not limited. The shape may be any shape such as a trapezoidal shape or a circular shape.
金属マスク10に形成される金属マスク開口部15の断面形状についても特に限定されることはないが、図3(b)に示すように蒸着源に向かって広がりをもつような形状であることが好ましい。より具体的には、金属マスク開口部における下底先端と、同じく金属マスク開口部15における上底先端とを結んだ直線と、金属マスク10の底面とのなす角度、換言すれば、金属マスク開口部15を構成する内壁面の厚み方向断面において、金属マスク開口部15の内壁面と金属マスク10の樹脂マスク20と接する側の面(図示する形態では、金属マスクの下面)とのなす角度は、5°以上85°以下の範囲内であることが好ましく、15°〜80°の範囲内であることがより好ましく、25°以上65°以下の範囲内であることがさらに好ましい。特には、この範囲内の中でも、使用する蒸着機の蒸着角度よりも小さい角度であることが好ましい。 The cross-sectional shape of the metal mask opening 15 formed in the metal mask 10 is not particularly limited, but may be a shape that expands toward the evaporation source as shown in FIG. preferable. More specifically, the angle formed by the straight line connecting the lower bottom tip of the metal mask opening and the upper bottom tip of the metal mask opening 15 and the bottom surface of the metal mask 10, in other words, the metal mask opening. In the thickness direction cross section of the inner wall surface constituting the portion 15, the angle formed between the inner wall surface of the metal mask opening 15 and the surface of the metal mask 10 on the side in contact with the resin mask 20 (in the illustrated embodiment, the lower surface of the metal mask) is It is preferably within the range of 5 ° to 85 °, more preferably within the range of 15 ° to 80 °, and even more preferably within the range of 25 ° to 65 °. In particular, within this range, an angle smaller than the vapor deposition angle of the vapor deposition machine to be used is preferable.
(樹脂マスク)
図3に示す蒸着マスク100を構成する樹脂マスク20の主材料について限定はなく、レーザー加工等によって高精細な樹脂マスク開口部25の形成が可能であり、熱や経時での寸法変化率や吸湿率が小さく、軽量な材料を用いることが好ましい。このような材料としては、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体樹脂、エチレン−メタクリル酸共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、セロファン、アイオノマー樹脂等を挙げることができる。上記に例示した材料の中でも、熱膨張係数が16ppm/℃以下である樹脂材料が好ましく、吸湿率が1.0%以下である樹脂材料が好ましく、この双方の条件を備える樹脂材料が特に好ましい。この樹脂材料を用いた樹脂マスクとすることで、樹脂マスク開口部25の寸法精度を向上させることができ、かつ熱や経時での寸法変化率や吸湿率を小さくすることができる。
(Resin mask)
The main material of the resin mask 20 constituting the vapor deposition mask 100 shown in FIG. 3 is not limited, and a high-definition resin mask opening 25 can be formed by laser processing or the like, and the dimensional change rate or moisture absorption over time, heat, or the like. It is preferable to use a light material with a low rate. Examples of such materials include polyimide resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyester resin, polyethylene resin, polyvinyl alcohol resin, polypropylene resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, polyacrylonitrile resin, ethylene vinyl acetate copolymer resin, ethylene- Examples thereof include vinyl alcohol copolymer resin, ethylene-methacrylic acid copolymer resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, cellophane, and ionomer resin. Among the materials exemplified above, a resin material having a thermal expansion coefficient of 16 ppm / ° C. or less is preferable, a resin material having a moisture absorption rate of 1.0% or less is preferable, and a resin material having both conditions is particularly preferable. By using this resin material as a resin mask, the dimensional accuracy of the resin mask opening 25 can be improved, and the dimensional change rate and moisture absorption rate with heat and time can be reduced.
樹脂マスク20の厚みについて特に限定はないが、シャドウの発生の抑制効果をさらに向上せしめる場合には、樹脂マスク20の厚みは、25μm以下であることが好ましく、10μm未満であることがより好ましい。下限値の好ましい範囲について特に限定はないが、樹脂マスク20の厚みが3μm未満である場合には、ピンホール等の欠陥が生じやすく、また変形等のリスクが高まる。特に、樹脂マスク20の厚みを、3μm以上10μm未満、より好ましくは4μm以上8μm以下とすることで、400ppiを超える高精細パターンを形成する際のシャドウの影響をより効果的に防止することができる。また、樹脂マスク20と金属マスク10とは、直接的に接合されていてもよく、粘着剤層を介して接合されていてもよいが、粘着剤層を介して樹脂マスク20と金属マスク10とが接合される場合には、樹脂マスク20と粘着剤層との合計の厚みが上記好ましい厚みの範囲内であることが好ましい。なお、シャドウとは、蒸着源から放出された蒸着材の一部が、金属マスク開口部や、樹脂マスクの開口部の内壁面に衝突して蒸着対象物へ到達しないことにより、目的とする蒸着膜厚よりも薄い膜厚となる未蒸着部分が生ずる現象のことを言う。 The thickness of the resin mask 20 is not particularly limited, but in the case of further improving the effect of suppressing the generation of shadows, the thickness of the resin mask 20 is preferably 25 μm or less, and more preferably less than 10 μm. Although there is no particular limitation on the preferable range of the lower limit value, when the thickness of the resin mask 20 is less than 3 μm, defects such as pinholes are likely to occur, and the risk of deformation and the like increases. In particular, by setting the thickness of the resin mask 20 to 3 μm or more and less than 10 μm, more preferably 4 μm or more and 8 μm or less, it is possible to more effectively prevent the influence of shadows when forming a high-definition pattern exceeding 400 ppi. . In addition, the resin mask 20 and the metal mask 10 may be directly bonded or may be bonded via an adhesive layer, but the resin mask 20 and the metal mask 10 may be bonded via an adhesive layer. When is bonded, it is preferable that the total thickness of the resin mask 20 and the pressure-sensitive adhesive layer is within the preferable thickness range. In addition, the shadow means that a part of the vapor deposition material discharged from the vapor deposition source collides with the inner wall surface of the opening part of the metal mask or the resin mask and does not reach the vapor deposition target, thereby achieving the target vapor deposition. This refers to a phenomenon in which an undeposited portion having a film thickness thinner than the film thickness occurs.
樹脂マスク開口部25の断面形状についても特に限定はなく、樹脂マスク開口部25を形成する樹脂マスクの向かいあう端面同士が略平行であってもよいが、図3(b)に示すように、樹脂マスク開口部25はその断面形状が、蒸着源に向かって広がりをもつような形状であることが好ましい。換言すれば、金属マスク10側に向かって広がりをもつテーパー面を有していることが好ましい。テーパー角については、樹脂マスク20の厚み等を考慮して適宜設定することができるが、樹脂マスク開口部における下底先端と、同じく樹脂マスク開口部における上底先端を結んだ直線と、樹脂マスク底面とのなす角度、換言すれば、樹脂マスク開口部25を構成する内壁面の厚み方向断面において、樹脂マスク開口部25の内壁面と樹脂マスク20の金属マスク10と接しない側の面(図示する形態では、樹脂マスクの下面)とのなす角度は、5°以上85°以下の範囲内であることが好ましく、15°以上75°以下の範囲内であることがより好ましく、25°以上65°以下の範囲内であることがさらに好ましい。特には、この範囲内の中でも、使用する蒸着機の蒸着角度よりも小さい角度であることが好ましい。また、図示する形態では、樹脂マスク開口部25を形成する端面は直線形状を呈しているが、これに限定されることはなく、外に凸の湾曲形状となっている、つまり樹脂マスク開口部25の全体の形状がお椀形状となっていてもよい。また、その逆、つまり内に凸の湾曲形状となっていてもよい。 The cross-sectional shape of the resin mask opening 25 is not particularly limited, and the end faces of the resin mask that form the resin mask opening 25 may be substantially parallel to each other. However, as shown in FIG. It is preferable that the cross-sectional shape of the mask opening 25 is a shape that expands toward the vapor deposition source. In other words, it is preferable to have a tapered surface that expands toward the metal mask 10 side. The taper angle can be set as appropriate in consideration of the thickness of the resin mask 20 and the like. However, the lower bottom tip of the resin mask opening, the straight line connecting the upper base tips of the resin mask opening, and the resin mask The angle formed with the bottom surface, in other words, the cross-section in the thickness direction of the inner wall surface constituting the resin mask opening 25, the surface on the side that does not contact the inner mask of the resin mask opening 25 and the metal mask 10 of the resin mask 20 (illustrated) In this embodiment, the angle formed with the lower surface of the resin mask is preferably in the range of 5 ° to 85 °, more preferably in the range of 15 ° to 75 °, and more preferably 25 ° to 65 °. More preferably, it is within the range of 0 ° or less. In particular, within this range, an angle smaller than the vapor deposition angle of the vapor deposition machine to be used is preferable. In the illustrated embodiment, the end face forming the resin mask opening 25 has a linear shape, but is not limited to this, and has an outwardly convex curved shape, that is, the resin mask opening. The entire shape of 25 may be a bowl shape. Further, it may be the opposite, that is, it may have a convex curved shape.
(蒸着マスク準備体)
本開示の第2の実施形態にかかるフレーム付き蒸着マスクの製造方法において用いられる蒸着マスク準備体とは、蒸着マスクとなる前の、蒸着作成するパターンに対応する開口部が形成されていない状態のものをいい、その構成等については特に限定されることはない。
(Deposition mask preparation)
The vapor deposition mask preparation used in the method of manufacturing a frame-equipped vapor deposition mask according to the second embodiment of the present disclosure is a state in which an opening corresponding to a pattern to be vapor deposited is not formed before the vapor deposition mask is formed. There is no particular limitation on the configuration and the like.
例えば、上記で説明した樹脂マスク20と金属マスク10とが積層された蒸着マスク100における蒸着マスク準備体としては、金属マスク10と、樹脂マスクとなる前の、つまり蒸着作成しようとするパターンに対応する樹脂マスク開口部が形成されていない状態の樹脂層と、が積層されたものや、金属マスクとなる前の、つまり金属マスク開口部が開口されていない状態の金属板と、前記樹脂層とが積層されたもの、などを挙げることができる。 For example, as the vapor deposition mask preparation in the vapor deposition mask 100 in which the resin mask 20 and the metal mask 10 described above are laminated, it corresponds to the metal mask 10 and the pattern before forming the resin mask, that is, the pattern to be vapor deposited. A resin layer in a state in which no resin mask opening is formed, a metal layer before being formed into a metal mask, that is, a state in which the metal mask opening is not opened, and the resin layer Can be mentioned.
(蒸着マスクの製造方法)
以下、蒸着マスクの製造方法について一例を挙げて説明する。
(Method for manufacturing vapor deposition mask)
Hereinafter, an example is given and demonstrated about the manufacturing method of a vapor deposition mask.
まず、金属板の一方の面上に樹脂層(または樹脂膜)が形成された樹脂層付き金属板を準備し、この樹脂層付き金属板に金属マスク開口部15を形成することにより、蒸着マスク準備体が製造される。 First, a metal plate with a resin layer in which a resin layer (or resin film) is formed on one surface of the metal plate is prepared, and a metal mask opening 15 is formed in the metal plate with a resin layer, whereby a vapor deposition mask. A preparation is produced.
次いで、この蒸着マスク準備体に対し、金属マスク10側から金属マスク開口部15を通してレーザーを照射して、樹脂層に蒸着作成するパターンに対応する樹脂マスク開口部25を形成することで樹脂マスク20が形成され、蒸着マスク100が製造される。 Next, the deposition mask preparation is irradiated with laser through the metal mask opening 15 from the metal mask 10 side to form the resin mask opening 25 corresponding to the pattern to be deposited on the resin layer, thereby forming the resin mask 20. Is formed, and the vapor deposition mask 100 is manufactured.
より具体的には、例えば、樹脂層付き金属板の製造方法としては、金属板上に、従来公知のコーティング法等によって、最終的に樹脂マスクとなる樹脂層を形成することができる。 More specifically, for example, as a method of manufacturing a metal plate with a resin layer, a resin layer that finally becomes a resin mask can be formed on the metal plate by a conventionally known coating method or the like.
また、蒸着マスク準備体の製造方法としては、樹脂層付き金属板の樹脂層と接しない側の表面にマスキング部材、例えば、レジスト材を塗工し、所定の箇所を露光し、現像することで、最終的に金属マスク開口部15が形成される位置を残したレジストパターンを形成する。マスキング部材として用いるレジスト材としては処理性が良く、所望の解像性があるものが好ましい。次いで、このレジストパターンを耐エッチングマスクとして用いてエッチング法により、樹脂層付き金属板の樹脂層と接しない側からエッチング加工する。エッチングが終了後、レジストパターンを洗浄除去する。これにより、金属マスク開口部15が設けられた金属マスク10の一方の面に樹脂層が積層された蒸着マスク準備体を製造することができる。なお、樹脂層が、金属板のエッチング材に対し耐エッチング性を有する場合には、樹脂層の表面をマスキングする必要はないが、樹脂層が、金属板のエッチング材に対する耐性を有しない場合には、樹脂層の表面にマスキング部材を塗工しておく必要がある。また、上記では、マスキング部材としてレジスト材を中心に説明を行ったが、レジスト材を塗工する代わりにドライフィルムレジストをラミネートし、同様のパターニングを行ってもよい。 Moreover, as a manufacturing method of a vapor deposition mask preparation body, a masking member, for example, a resist material is applied to the surface of the metal plate with a resin layer which is not in contact with the resin layer, and a predetermined portion is exposed and developed. Finally, a resist pattern is formed leaving the position where the metal mask opening 15 is to be formed. As the resist material used as the masking member, those having good processability and desired resolution are preferable. Next, etching is performed from the side of the metal plate with a resin layer that does not contact the resin layer by an etching method using the resist pattern as an etching resistant mask. After the etching is completed, the resist pattern is removed by washing. Thereby, the vapor deposition mask preparation body by which the resin layer was laminated | stacked on one surface of the metal mask 10 in which the metal mask opening part 15 was provided can be manufactured. In addition, when the resin layer has etching resistance to the etching material of the metal plate, it is not necessary to mask the surface of the resin layer, but when the resin layer does not have resistance to the etching material of the metal plate. Needs to be coated with a masking member on the surface of the resin layer. In the above description, the resist material is mainly described as the masking member. However, instead of coating the resist material, a dry film resist may be laminated and the same patterning may be performed.
樹脂マスク開口部25の形成方法としては、上記で準備された蒸着マスク準備体に対し、レーザー加工法、精密プレス加工、フォトリソ加工等を用いて、樹脂層を貫通させ、樹脂層に蒸着作成するパターンに対応する樹脂マスク開口部25を形成することで、蒸着作成するパターンに対応する樹脂マスク開口部25が設けられた樹脂マスク20の一方の面上に、金属マスク開口部15が設けられた金属マスク10が積層された蒸着マスク100を得る。なお、高精細な樹脂マスク開口部25を容易に形成することができる点からは、樹脂マスク開口部25の形成には、レーザー加工法を用いることが好ましい。 As a method of forming the resin mask opening 25, the vapor deposition mask prepared body prepared above is penetrated through the resin layer using a laser processing method, precision press processing, photolithographic processing, and the like, and vapor deposition is created on the resin layer. By forming the resin mask opening 25 corresponding to the pattern, the metal mask opening 15 is provided on one surface of the resin mask 20 provided with the resin mask opening 25 corresponding to the pattern to be deposited. The vapor deposition mask 100 on which the metal mask 10 is laminated is obtained. In addition, it is preferable to use the laser processing method for formation of the resin mask opening part 25 from the point which can form the high-definition resin mask opening part 25 easily.
<有機半導体素子の製造方法>
次に、本開示の実施の形態にかかる有機半導体素子の製造方法(以下、本開示の有機半導体素子の製造方法と言う)について説明する。本開示の有機半導体素子の製造方法は、フレーム付き蒸着マスクを用いて蒸着対象物に蒸着パターンを形成する工程を含み、蒸着パターンを形成する工程において、上記で説明した本開示のフレーム付き蒸着マスクの製造方法によって製造されたフレーム付き蒸着マスクが用いられることを特徴としている。
<Method for manufacturing organic semiconductor element>
Next, a method for manufacturing an organic semiconductor element according to an embodiment of the present disclosure (hereinafter referred to as an organic semiconductor element manufacturing method of the present disclosure) will be described. The method for producing an organic semiconductor element of the present disclosure includes a step of forming a vapor deposition pattern on a vapor deposition object using a vapor deposition mask with a frame, and in the step of forming the vapor deposition pattern, the vapor deposition mask with a frame of the present disclosure described above. A vapor deposition mask with a frame manufactured by the manufacturing method is used.
フレーム付き蒸着マスクを用いた蒸着法により蒸着パターンを形成する工程について特に限定はなく、基板上に電極を形成する電極形成工程、有機層形成工程、対向電極形成工程、封止層形成工程等を有し、各任意の工程において、上記で説明した本開示のフレーム付き蒸着マスクの製造方法によって製造されたフレーム付き蒸着マスクを用いて、蒸着パターンが形成される。例えば、有機ELデバイスのR(レッド),G(グリーン),B(ブルー)各色の発光層形成工程に、上記で説明した本開示のフレーム付き蒸着マスクの製造方法によって製造されたフレーム付き蒸着マスクをそれぞれ適用する場合には、基板上に各色発光層の蒸着パターンが形成される。なお、本開示の有機半導体素子の製造方法は、これらの工程に限定されるものではなく、従来公知の有機半導体素子の製造における任意の工程に適用可能である。 There is no particular limitation on the process of forming a vapor deposition pattern by a vapor deposition method using a vapor deposition mask with a frame, and an electrode forming process for forming an electrode on a substrate, an organic layer forming process, a counter electrode forming process, a sealing layer forming process, etc. In each optional step, a vapor deposition pattern is formed using the frame-equipped vapor deposition mask manufactured by the above-described method for manufacturing a frame-equipped vapor deposition mask described above. For example, the frame-equipped vapor deposition mask manufactured by the method of manufacturing the frame-equipped vapor deposition mask of the present disclosure described above in the R (red), G (green), and B (blue) light emitting layer forming steps of the organic EL device When each is applied, a vapor deposition pattern of each color light emitting layer is formed on the substrate. In addition, the manufacturing method of the organic-semiconductor element of this indication is not limited to these processes, It is applicable to the arbitrary processes in manufacture of a conventionally well-known organic-semiconductor element.
以上説明した本開示の有機半導体素子の製造方法によれば、フレーム付き蒸着マスクと蒸着対象物とを隙間なく密着させた状態で、有機半導体素子を形成する蒸着を行うことができ、高精細な有機半導体素子を製造することができる。本開示の有機半導体素子の製造方法で製造される有機半導体素子としては、例えば、有機EL素子の有機層、発光層や、カソード電極等を挙げることができる。特に、本開示の有機半導体素子の製造方法は、高精細なパターン精度が要求される有機EL素子のR(レッド),G(グリーン),B(ブルー)発光層の製造に好適に用いることができる。 According to the method for manufacturing an organic semiconductor element of the present disclosure described above, vapor deposition for forming the organic semiconductor element can be performed in a state in which the deposition mask with the frame and the deposition target are closely adhered to each other without gaps, and high-definition is achieved. An organic semiconductor element can be manufactured. As an organic semiconductor element manufactured with the manufacturing method of the organic semiconductor element of this indication, the organic layer, light emitting layer, cathode electrode, etc. of an organic EL element can be mentioned, for example. In particular, the method for manufacturing an organic semiconductor element of the present disclosure is preferably used for manufacturing R (red), G (green), and B (blue) light emitting layers of organic EL elements that require high-definition pattern accuracy. it can.
<有機ELディスプレイの製造方法>
次に、本開示の実施の形態にかかる有機ELディスプレイ(有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ)の製造方法(以下、本開示の有機ELディスプレイの製造方法と言う)について説明する。本開示の有機ELディスプレイの製造方法は、有機ELディスプレイの製造工程において、上記で説明した本開示の有機半導体素子の製造方法により製造された有機半導体素子が用いられる。
<Method for manufacturing organic EL display>
Next, a method for manufacturing an organic EL display (organic electroluminescence display) according to an embodiment of the present disclosure (hereinafter referred to as a method for manufacturing an organic EL display of the present disclosure) will be described. The manufacturing method of the organic EL display of the present disclosure uses the organic semiconductor element manufactured by the manufacturing method of the organic semiconductor element of the present disclosure described above in the manufacturing process of the organic EL display.
上記本開示の有機半導体素子の製造方法により製造された有機半導体素子が用いられた有機ELディスプレイとしては、例えば、ノートパソコン(図4(a)参照)、タブレット端末(図4(b)参照)、携帯電話(図4(c)参照)、スマートフォン(図4(d)参照)、ビデオカメラ(図4(e)参照)、デジタルカメラ(図4(f)参照)、スマートウォッチ(図4(g)参照)等に用いられる有機ELディスプレイを挙げることができる。 Examples of the organic EL display using the organic semiconductor element manufactured by the organic semiconductor element manufacturing method of the present disclosure include a notebook personal computer (see FIG. 4A) and a tablet terminal (see FIG. 4B). Mobile phones (see FIG. 4C), smartphones (see FIG. 4D), video cameras (see FIG. 4E), digital cameras (see FIG. 4F), smart watches (FIG. Examples thereof include organic EL displays used in g).
10・・・金属マスク
15・・・金属マスク開口部
20・・・樹脂マスク
25・・・樹脂マスク開口部
60・・・フレーム
61・・・フレーム本体
62・・・補助フレーム
70・・・支持部材
80・・・ステージ
100・・・蒸着マスク
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Metal mask 15 ... Metal mask opening part 20 ... Resin mask 25 ... Resin mask opening part 60 ... Frame 61 ... Frame main body 62 ... Auxiliary frame 70 ... Support Member 80 ... Stage 100 ... Deposition mask
Claims (10)
フレームに蒸着マスクを固定する、蒸着マスク固定工程を含み、
当該蒸着マスク固定工程は、フレーム内に位置する支持部材によって蒸着マスクが一時的に支持された状態にて行われる、
フレーム付き蒸着マスクの製造方法。 A method of manufacturing a vapor deposition mask with a frame in which a vapor deposition mask is fixed to a frame,
Including a deposition mask fixing process for fixing the deposition mask to the frame;
The deposition mask fixing step is performed in a state where the deposition mask is temporarily supported by a support member located in the frame.
A method for manufacturing a vapor deposition mask with a frame.
前記蒸着マスク固定工程においては、前記支持部材上に前記蒸着マスクを載置した状態にて、前記フレームに前記蒸着マスクを固定する、
請求項1に記載のフレーム付き蒸着マスクの製造方法。 Including a supporting member placing step of placing a supporting member for temporarily supporting the vapor deposition mask in the frame;
In the vapor deposition mask fixing step, the vapor deposition mask is fixed to the frame in a state where the vapor deposition mask is placed on the support member.
The manufacturing method of the vapor deposition mask with a frame of Claim 1.
前記蒸着マスク固定工程においては、前記支持部材は前記蒸着マスクのみならず前記補助フレームも支持し、前記支持部材上にて前記補助フレームに前記蒸着マスクを固定する、
請求項1または2に記載のフレーム付き蒸着マスクの製造方法。 The frame includes a frame body, and an auxiliary frame that divides an opening space in the frame body into a plurality of parts,
In the deposition mask fixing step, the support member supports not only the deposition mask but also the auxiliary frame, and fixes the deposition mask to the auxiliary frame on the support member.
The manufacturing method of the vapor deposition mask with a frame of Claim 1 or 2.
蒸着作成するパターンに対応する複数の樹脂マスク開口部を有する樹脂マスクと、金属マスク開口部を有する金属マスクとが、前記樹脂マスク開口部と前記金属マスク開口部とが重なるようにして積層されてなる蒸着マスクである、
請求項1〜3の何れか一項に記載のフレーム付き蒸着マスクの製造方法。 The vapor deposition mask is
A resin mask having a plurality of resin mask openings corresponding to a pattern to be deposited and a metal mask having a metal mask opening are stacked so that the resin mask openings and the metal mask openings overlap. Is a vapor deposition mask,
The manufacturing method of the vapor deposition mask with a frame as described in any one of Claims 1-3.
フレームに蒸着マスク準備体を固定する、蒸着マスク準備体固定工程と、
フレームに固定された蒸着マスク準備体に開口部を形成して蒸着マスクとする、蒸着マスク形成工程と、を含み、
前記蒸着マスク準備体固定工程は、フレーム内に位置する支持部材によって蒸着マスク準備体が一時的に支持された状態にて行われる、
フレーム付き蒸着マスクの製造方法。 A method of manufacturing a vapor deposition mask with a frame in which a vapor deposition mask is fixed to a frame,
A deposition mask preparation body fixing step of fixing the deposition mask preparation body to the frame;
Forming an opening in the vapor deposition mask preparation body fixed to the frame to form a vapor deposition mask, and a vapor deposition mask forming step,
The deposition mask preparation body fixing step is performed in a state where the deposition mask preparation body is temporarily supported by a support member located in the frame.
A method for manufacturing a vapor deposition mask with a frame.
前記蒸着マスク準備体固定工程においては、前記支持部材上に前記蒸着マスク準備体を載置した状態にて、前記フレームに前記蒸着マスク準備体を固定する、
請求項5に記載のフレーム付き蒸着マスクの製造方法。 Including a support member placing step of placing a support member for temporarily supporting the vapor deposition mask preparation in the frame;
In the deposition mask preparation body fixing step, the deposition mask preparation body is fixed to the frame in a state where the deposition mask preparation body is placed on the support member.
The manufacturing method of the vapor deposition mask with a frame of Claim 5.
前記蒸着マスク準備体固定工程においては、前記支持部材は前記蒸着マスク準備体のみならず前記補助フレームも支持し、前記支持部材上にて前記補助フレームに前記蒸着マスク準備体を固定する、
請求項5または6に記載のフレーム付き蒸着マスクの製造方法。 The frame includes a frame body, and an auxiliary frame that divides an opening space in the frame body into a plurality of parts,
In the deposition mask preparation body fixing step, the support member supports not only the deposition mask preparation body but also the auxiliary frame, and fixes the deposition mask preparation body to the auxiliary frame on the support member.
The manufacturing method of the vapor deposition mask with a frame of Claim 5 or 6.
金属マスク開口部を有する金属マスクと、樹脂層と、が積層されてなる蒸着マスク準備体である、
請求項5〜7の何れか一項に記載のフレーム付き蒸着マスクの製造方法。 The deposition mask preparation is
A metal mask having a metal mask opening and a vapor deposition mask preparation in which a resin layer is laminated,
The manufacturing method of the vapor deposition mask with a frame as described in any one of Claims 5-7.
フレーム付き蒸着マスクを用いて蒸着対象物に蒸着パターンを形成する蒸着パターン形成工程を含み、
前記蒸着パターン形成工程で用いられる前記フレーム付き蒸着マスクが、前記請求項1〜8の何れか一項に記載のフレーム付き蒸着マスクの製造方法によって製造された、フレーム付き蒸着マスクである、
有機半導体素子の製造方法。 A method for producing an organic semiconductor element, comprising:
Including a vapor deposition pattern forming step of forming a vapor deposition pattern on a vapor deposition object using a vapor deposition mask with a frame;
The said vapor deposition mask with a frame used in the said vapor deposition pattern formation process is a vapor deposition mask with a flame | frame manufactured by the manufacturing method of the vapor deposition mask with a flame | frame as described in any one of the said Claims 1-8.
A method for producing an organic semiconductor element.
請求項9に記載の有機半導体素子の製造方法によって製造された有機半導体素子が用いられる、
有機ELディスプレイの製造方法。 An organic EL display manufacturing method comprising:
An organic semiconductor element manufactured by the method for manufacturing an organic semiconductor element according to claim 9 is used.
Manufacturing method of organic EL display.
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