JP2018155698A - Analysis chip - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の実施形態は、検体液中の微粒子を検出するための分析チップに関する。 Embodiments described herein relate generally to an analysis chip for detecting fine particles in a sample liquid.
近年、バイオ技術やヘルスケアの分野において、マイクロ流路や検出機構などの微小な流体要素を集積化した、半導体マイクロ分析チップが注目されている。この種の分析チップでは、微粒子やバイオポリマを分散させた検体液をマイクロ流路内に流し、マイクロ流路内に設けた微細孔を検体液中の微粒子が通過するときの電気信号の変化を取得することにより、検体液中に含まれる微粒子やバイオポリマを検出することができる。 In recent years, in the fields of biotechnology and healthcare, semiconductor microanalysis chips that integrate microfluidic elements such as microchannels and detection mechanisms have attracted attention. In this type of analysis chip, the sample liquid in which microparticles and biopolymer are dispersed is flowed into the microchannel, and the change in the electrical signal when the microparticles in the sample liquid pass through the micropores provided in the microchannel. By acquiring, it is possible to detect fine particles and biopolymers contained in the sample liquid.
発明が解決しようとする課題は、検体液中の微粒子を高感度に検出することのできる分析チップを提供することである。 The problem to be solved by the invention is to provide an analysis chip capable of detecting fine particles in a sample liquid with high sensitivity.
実施形態の分析チップは、主面側に溝部を有する基板と、前記溝部の一部に蓋をするように前記基板の主面上に設けられた絶縁性の隔壁膜と、前記隔壁膜上に設けられ、前記検体液を溜めるための液溜め部と、前記液溜め部の底部で前記隔壁膜に設けられ、前記微粒子を通過させるための複数の微細孔と、前記微細孔に対応して前記溝部内に設けられた複数の検出電極と、前記検出電極間を遮るように前記溝部内に設けられた仕切り構造と、を具備している。 The analysis chip of the embodiment includes a substrate having a groove on the main surface side, an insulating partition film provided on the main surface of the substrate so as to cover a part of the groove, and the partition film A liquid reservoir for storing the sample liquid, a plurality of micropores provided in the partition film at the bottom of the liquid reservoir, for allowing the microparticles to pass therethrough, and corresponding to the micropores A plurality of detection electrodes provided in the groove, and a partition structure provided in the groove so as to block the detection electrodes.
以下、実施形態の半導体マイクロ分析チップを、図面を参照して説明する。 Hereinafter, the semiconductor microanalysis chip of the embodiment will be described with reference to the drawings.
(第1の実施形態)
図1乃至図3は、第1の実施形態に係わる半導体マイクロ分析チップの概略構成を説明するためのもので、図1は斜視図、図2は平面図、図3は図2のI−I’断面図である。
(First embodiment)
1 to 3 are diagrams for explaining a schematic configuration of the semiconductor microanalysis chip according to the first embodiment. FIG. 1 is a perspective view, FIG. 2 is a plan view, and FIG. 3 is II of FIG. 'Cross section.
本実施形態の半導体マイクロ分析チップは、基板10の表面部に設けられた溝部20と、溝部20の上面を覆う絶縁膜(隔壁膜)17と、隔壁膜17に設けられた複数の微細孔40と、溝部20の底部に設けられた複数の検出電極50と、隣接する電極50間を仕切る仕切り板60とを有している。
The semiconductor micro-analysis chip of this embodiment includes a
基板10は、図3に示すように、Si基板11上にSiO2 等の絶縁膜12,13を積層したものである。Si基板11には増幅回路(AMP)14が設けられ、絶縁膜12には貫通電極15が埋め込まれ、絶縁膜13には選択エッチングによって溝部20が設けられている。
As shown in FIG. 3, the
溝部20は、基板10の表面部に左右に長い溝を掘るようにエッチングすることにより形成されている。この溝部20は、電解液を流すための流路となる。基板10上に、溝部20に蓋をするように絶縁性の隔壁膜17が設けられている。溝部20の中央部に設けられた検査領域23において、隔壁膜17には、微粒子検出のための複数の微細孔40が設けられている。これらの微細孔40は、例えば、基板10の表面部において溝部20の長手方向に平行な方向と、それに直交する方向に一定間隔で設けられている。
The
検査領域23において、溝部20の底面、即ち絶縁膜12の表面上に、複数の検出電極50が設けられている。これらの検出電極50は、それぞれの微細孔40の直下に設けられており、材質としては例えばAg/AgCl、Au、Pt、Wなどを用いることができる。そして、各々の検出電極50は貫通電極15を通して増幅回路14に接続される。
In the
図1に示すように、検査領域23において隔壁膜17上には、複数の微細孔40を取り囲むように絶縁膜からなるバンク73が設けられ、これにより検体液滴下リザーバ(液溜め部)30が形成されている。そして、隔壁膜17によって隔てられたリザーバ30と溝部20とが、複数の微細孔40によって空間的に接続される構造となっている。
As shown in FIG. 1, a
また、基板10の表面上において、溝部20の長手方向の両端付近の隔壁膜17は開口されており、それらの開口を取り囲むように絶縁膜からなるバンク71,72を形成することにより、リザーバ21,22が設けられている。これにより、溝部20は、リザーバ21に滴下した電解液をリザーバ22へ流すための流路として機能する。なお、各バンク71,72,73は、図2及び図3に示すように、連続して一体に形成し、一つのバンク70で共用するようにしても良い。
On the surface of the
検査領域23において、溝部20には複数の絶縁性の仕切り板60が設けられている。仕切り板60は、溝部20の底面から基板10表面部方向に伸延するように設けてあり、仕切り板60の上面は隔壁膜17に接続している。また、仕切り板60は、隣接する検出電極50間を遮るように設けられている。これにより、検査領域23において、各検出電極50は周囲を仕切り板60で囲まれた形となっており、溝部20は、1つの電極を有するセル毎にほぼ分離されると見なすことができる。
In the
図1乃至図3では、各セルには1つの微細孔40と電極50が配置された形となっている。各々の仕切り板60は隙間61を残すようにして設けられており、隙間61から各セル内への流体の移動が可能となっている。これらの仕切り板60は、溝部20内に電解液が充填された場合に、隣接する検出電極50間の電解液を介した電流経路における電気抵抗を高くする役割を果たす。
In FIG. 1 to FIG. 3, each cell has a single
なお、仕切り板60は、絶縁膜13とは別に形成しても良いし、絶縁膜13で形成しても良い。例えば、絶縁膜13をエッチングして溝部20を形成する際に、絶縁膜13上に仕切り板60に対応するマスクを設けておき、この部分をエッチングせずに残すことによって溝部20と同時に形成しても良い。
The
次に、本実施形態の半導体マイクロ分析チップを用いた微粒子検出方法について説明する。 Next, a particle detection method using the semiconductor microanalysis chip of this embodiment will be described.
上記の構成において、リザーバ21に電解液を滴下すると、電解液は溝部20を流動し、リザーバ22へと排出される。このとき、溝部20内を流動している電解液は、検査領域23においても隙間61を介して仕切り板60で仕切られた各セル内に満たされる。なお、電解液とは、電解質を溶融させてイオン電流が流れ得る溶液である。
In the above configuration, when the electrolytic solution is dropped into the
溝部20内が電解液で満たされた状態で、リザーバ30に、微粒子を分散させた検体液を滴下すると、リザーバ30内の検体液と各セル内の電解液が、各微細孔40を介して接触する。なお、検体液とは、検出する微粒子を電解液中に懸濁した液である。
When the sample liquid in which fine particles are dispersed is dropped into the
この状態で、リザーバ30内に溜められた検体液に接触するように接地電極55をセットする。接地電極55は、図4に示すように、リザーバ30の上部において電極板を配置しても良いし、リザーバ30の上部から電極棒を挿入したりすれば良い。或いは、リザーバ30のバンクの内壁に予め導電膜等を形成しておいても良い。なお、接地電極55の材料としては、Ag/AgCl、Au、Ptなどを用いることができる。また、図4において81は電解液、82は検体液を示している。
In this state, the
検出電極50と接地電極55との間に電位差を与えると、微細孔40を介してイオン電流が流れる。このとき、検体液中の微粒子があるセルの微細孔40を通過すると、その微細孔部分の電気抵抗が上昇し、この微細孔40に対応した検出電極50に流れるイオン電流が変化する。イオン電流の変化量は、微粒子のサイズによって決まるため、高感度・高精度な微粒子検出が可能である。
When a potential difference is applied between the
例えば、リザーバ30に導入した検体液内の微粒子が負に帯電している場合、検出電極50を接地電極55よりも高い電位に設定しておくと、検出電極50と接地電極55との間に発生する電界によって、微粒子は電気泳動する。そして、微細孔40を通過して溝部20内へと移動していく。微粒子が微細孔40を通過する際に発生するイオン電流の変化を検出することにより、微粒子の検出を行うことができる。
For example, when the fine particles in the sample liquid introduced into the
イオン電流の変化は、微細孔40の直下に配置した検出電極50から貫通電極15を通って増幅回路14に入力される。一般に、イオン電流の変化信号は微弱なため増幅する必要があるが、本実施形態のように検出電極50を溝部20の底部に設けることにより、貫通電極15を介して最短距離で検出電極50と増幅回路14との接続を取ることが可能となり、電極の引き回しなどによる信号の減衰等を招くことなく信号増幅することが可能となる。これにより、微粒子の高精度な検出を行うことが可能となる。なお、電解液は、イオン電流が流れる溶液であれば良く、特に材質は限定されない。従って、検体液を電解液として溝部20内に導入しても良い。
The change in the ionic current is input to the
また、電解液を、リザーバ21から導入し、リザーバ22から排出するようにしているため、溝部20内の電解液のスムーズな流れを実現することができる。これにより、リザーバ30に検体液を滴下した際の微細孔40における気泡巻き込みリスクを低減することが可能となる。さらに、微細孔40を通過した微粒子が溝部20内に滞留すると、イオン電流のノイズの原因となる恐れがある。しかし、電解液のスムーズな流れを実現することで、微粒子の排出を効率的に行うことが可能となる。
Further, since the electrolytic solution is introduced from the
このように本実施形態では、検体液の導入と電気的な観測だけで微粒子検出を行うことができる。このため、細菌やウイルスなどの高感度検出を手軽に実現できるようになる。従って、伝染病病原体や食中毒菌の簡易検出などに応用することで、流行性疾病の拡大防止や食の安全といった分野に貢献することが可能となる。また、大気中の浮遊粒子を捕集して液中分散したサンプルにおいて、微粒子状物質等の有害物質のモニタリングを行うなどの応用が可能となる。 As described above, in the present embodiment, the fine particle detection can be performed only by introducing the sample liquid and performing electrical observation. For this reason, highly sensitive detection of bacteria or viruses can be easily realized. Therefore, by applying to simple detection of infectious disease pathogens and food poisoning bacteria, it is possible to contribute to the fields such as prevention of spread of epidemic diseases and food safety. In addition, it is possible to apply an application such as monitoring a harmful substance such as a particulate matter in a sample in which airborne particles are collected and dispersed in a liquid.
これに加え本実施形態では、微細孔40を複数配置することで、微粒子検出を同時並列的に行うことができ、検出効率を向上させることができる。しかも、各検出電極50間を隔てるように仕切り板60を設けているので、検出電極50間の電気的絶縁を高めることができる。これにより、ある微細孔40を微粒子が通過した際に、その微細孔40に対応した検出電極50で検出すべきところ、隣接する検出電極50で検出してしまうクロストーク現象を抑制することが可能となり、誤検出のない高信頼な測定が行える。
In addition to this, in the present embodiment, by arranging a plurality of
また、それぞれの検出電極50は絶縁膜12を貫通して下層に引き出され、直下に設けられた増幅回路14に接続されている。このため、電極引き回し等によるノイズ増大を招くことなく、増幅回路14により検出信号を増幅することができる。従って、微小な検出信号に対しても精度良い検査が可能となる。
Each
即ち、本実施形態の半導体マイクロ分析チップは、複数の微細孔40とそれぞれの微細孔40に対応した検出電極50を有し、各検出電極50が電気的に絶縁されていることを特徴とする。具体的には、微細孔40を通過した微粒子を受容するための空洞に仕切り板60を設けることにより、各検出電極50を電気的に分離することを特徴としている。このような構成とすることで、複数の微細孔40を用いた同時並列な微粒子検出を、検出電極50間のクロストークを伴うことなく行うことが可能となり、微粒子検出の高感度化、高精度化及び高効率化が実現できる。
That is, the semiconductor micro-analysis chip of this embodiment has a plurality of
(第2の実施形態)
図5乃至図9を参照して、第2の実施形態に係わる半導体マイクロ分析チップの概略構成を説明する。図5は上面図、図6は図5のII−II’断面図、図7は図5の検査領域23における拡大図、図8は図7中の点線Aで囲んだ部分の鳥瞰図、図9は図8の一点鎖線III−III’における断面図である。なお、図1乃至図3と同一部分には同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。
(Second Embodiment)
With reference to FIGS. 5 to 9, a schematic configuration of the semiconductor micro-analysis chip according to the second embodiment will be described. 5 is a top view, FIG. 6 is a sectional view taken along the line II-II ′ of FIG. 5, FIG. 7 is an enlarged view of the
本実施形態は、検査領域23の仕切り構造65によって各検出電極50間を完全に分離した例である。第1の実施形態においては、仕切り板60と隙間61を設けることにより電極間の電気抵抗を高めると共に、仕切られたセル内に電解液を流入させる構造としていた。しかしながら、上記構造では、隙間61を介して隣接する電極50間にイオン電流が流れ、クロストークを抑制しきれない可能性があった。これに対し本実施形態では、仕切り構造65によって各検出電極50間を完全に分離しているため、隣接する電極50間のクロストーク抑制効果を高めることが可能である。
In the present embodiment, the
なお、本実施形態においては、仕切り構造65によって溝部20が完全に仕切られており、第1の実施形態のように溝部20を流路として使用することができず、仕切られたセル内に電解液を供給することができない。そこで本実施形態では、溝部20の下層に更にマイクロ流路90を設けると共に、セル毎にマイクロ流路90と接続する開口を設けることにより、各セルに電解液を供給することが可能な構造となっている。
In the present embodiment, the
基板10は、第1の実施形態の構成に加え、絶縁膜12と絶縁膜13との間に絶縁膜16を挿入したもの、即ちSi基板11上に絶縁膜12,16,13を積層したものである。絶縁膜13には選択エッチングなどにより、流路を成す溝部20が設けられており、絶縁膜12の表面部には選択エッチングなどにより、リザーバ21に滴下した電解液をリザーバ22に向け流動させるマイクロ流路90が形成されている。絶縁膜16はマイクロ流路90の天井を成している。なお、図6には示さないが、Si基板11には第1の実施形態と同様に、増幅回路14が設けられており、絶縁膜12に形成された貫通電極15により検出電極50と接続されている。
In addition to the configuration of the first embodiment, the
仕切り構造65は、仕切り板60とは異なり、互いに分離することなく一体に形成されており、隣接する検出電極50間を完全に遮るように設けられている。これにより、検査領域23において溝部20は、1つの検出電極50を有するセル毎に完全に分離されるものとなっている。即ち、絶縁膜により形成されたセル仕切り構造65を設けることによって、溝部20は複数の小さなセルに区切られている。そして、各々のセルに1つの微細孔40と1つの検出電極50が対応するように配置されている。
Unlike the
なお、仕切り構造65は、絶縁膜13とは別に形成しても良いし、絶縁膜13で形成しても良い。例えば、絶縁膜13をエッチングして溝部20を形成する際に絶縁膜13上に仕切り構造65に対応するマスクを設けておき、この部分をエッチングせずに残すことによって形成しても良い。
The
図7は、図5の検査領域の拡大上面図である。この図では、微細孔40が形成されている隔壁膜17よりも下の部分について示している。また、図7中の点線Aで囲んだ部分、即ち仕切り構造65によって仕切られたセルのうちの一つの鳥瞰図を図8に示す。本実施形態の半導体マイクロ分析チップでは、マイクロ流路90は、各々のセルの下に1本が通るように、複数本設けられている。マイクロ流路90は、検査領域23において溝部20の下層を通り、リザーバ21とリザーバ22とを接続するように設けられている。そして、各々のセル内で絶縁膜16に開口91がそれぞれ設けられており、マイクロ流路90はこれらの開口91を介して各セルと接続されている。
FIG. 7 is an enlarged top view of the inspection region of FIG. In this figure, the part below the
図9に、図8の一点鎖線III−III’における断面図を示す。Si基板11上に絶縁膜12,16,13(65)、及び隔壁膜17が積層され、絶縁膜12には流路90が掘り込んであり、絶縁膜16には開口91が形成されている。また、絶縁膜13を部分的に取り除くことにより溝部20と共にセル仕切り構造65が形成されており、隔壁膜17には微細孔40が形成されている。絶縁膜16、セル仕切り構造65、隔壁膜17によりセルが形成され、各々のセルの底面に検出電極50が設けられている。検出電極50の下部には、絶縁膜12を貫通する貫通電極15が形成されており、検出電極50はSi基板11に形成した増幅回路14と接続されている。
FIG. 9 is a cross-sectional view taken along one-dot chain line III-III ′ in FIG. Insulating
次に、本実施形態の半導体マイクロ分析チップを用いた微粒子検出方法について説明する。 Next, a particle detection method using the semiconductor microanalysis chip of this embodiment will be described.
上記の構成において、リザーバ21に電解液を滴下すると、電解液はマイクロ流路90を流動し、リザーバ22へ排出される。このとき、マイクロ流路90内を流動している電解液の一部は、開口91を介して各セル内に流入する。これにより、各セル内が電解液で満たされる。
In the above configuration, when the electrolytic solution is dropped into the
セル内が電解液で満たされた状態で、リザーバ30に、微粒子を分散させた検体液を滴下すると、リザーバ30内の検体液と各セル内の電解液が、微細孔40を介して接触する。この状態で、リザーバ30内に溜められた検体液に接触するように接地電極(図示せず)をセットし、検出電極50と接地電極との間に電位差を与えると、微細孔40を介してイオン電流が流れると共に、微細孔40を微粒子が通過した際にはイオン電流変化が検出される。従って、第1の実施形態と同様に、高感度・高精度な微粒子検出が可能となる。
When the sample liquid in which the fine particles are dispersed is dropped into the
このように本実施形態では、検体液の導入と電気的な観測だけで微粒子検出を行うことができる。従って、第1の実施形態と同様の効果が得られる。 As described above, in the present embodiment, the fine particle detection can be performed only by introducing the sample liquid and performing electrical observation. Therefore, the same effect as the first embodiment can be obtained.
これに加え本実施形態では、各検出電極50を完全に隔てるようにセル仕切り構造65を形成しているので、検出電極50間の電気的絶縁を十分に確保することができる。セル仕切りがない場合には、複数の検出電極50が電解液を介して電気的に接続されることになり、電流リーク、ノイズ、電極間クロストークといった、微粒子計測上の不具合の原因となるが、本実施形態によってこれらを招くことなく、より高精度な微粒子検出が可能となる。
In addition to this, in this embodiment, since the
(第3の実施形態)
図10及び図11は、第3の実施形態に係わる半導体マイクロ分析チップの要部構成を説明するためのもので、図10は平面図、図11は図10のVI−VI’断面図である。図10は前記図7に対応している。なお、図5乃至図9と同一部分には同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。
(Third embodiment)
10 and 11 are diagrams for explaining a configuration of a main part of the semiconductor microanalysis chip according to the third embodiment. FIG. 10 is a plan view, and FIG. 11 is a cross-sectional view taken along the line VI-VI ′ of FIG. . FIG. 10 corresponds to FIG. The same parts as those in FIGS. 5 to 9 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
本実施形態が第2の実施形態と異なる点は、1つのセル下層に複数の流路90を設け、1本の流路が1つのセルに接続されるようにしたことである。即ち、図10,11に示すように、仕切り構造65によって分離されたセルを例えば4×4のセル群とすると、電解液の流れ方向に沿った4つのセルに対して4本のマイクロ流路90が設けられている。従って、合計で16本のマイクロ流路90が設けられている。各々のセルは、マイクロ流路90に共通に接続されるのではなく、セル毎に1本のマイクロ流路が接続されるように、開口91を有している。
The present embodiment is different from the second embodiment in that a plurality of
このような構成であれば、第2の実施形態と同様の効果が得られるのは勿論のこと、電解液の流れ方向に隣接する検出電極50間の電気的絶縁を更に高めることができる。即ち、第2の実施形態においては、溝部20に注目すると各検出電極は完全に分離されるものの、電解液の流れ方向に隣接するセル間はマイクロ流路90を介して電解液が連続しており、電流経路が形成されていた。これに対し本実施形態の構成では、それぞれのセルに専用のマイクロ流路90を割り当てることで異なるセル間の電流経路がなくなり、電気的絶縁性を更に高めることができる。従って、電流リーク、ノイズ、電極間クロストークといった、微粒子計測上の不具合の原因を更に減少することが可能となる。
With such a configuration, the same effects as those of the second embodiment can be obtained, and the electrical insulation between the
次に、図12乃至図14を参照して、本実施形態の半導体マイクロ分析チップの製造方法を説明する。図12乃至図14に含まれる各図は、本実施形態の半導体マイクロ分析チップ要部について、その製造工程を示す断面図である。なお、以下の説明は第3の実施形態の構成に対応するものであるが、第1及び第2の実施形態の構成にも同様に適用できるのは勿論のことである。 Next, with reference to FIGS. 12 to 14, a method for manufacturing the semiconductor micro-analysis chip of this embodiment will be described. Each of the drawings included in FIGS. 12 to 14 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the main part of the semiconductor microanalysis chip of this embodiment. The following description corresponds to the configuration of the third embodiment, but it is needless to say that it can be applied to the configurations of the first and second embodiments as well.
まず、図12(a)に示すように、CMOS回路等の増幅回路14が形成されたSi基板11を用意する。このSi基板11上にSiO2 等の絶縁膜12を形成し、増幅回路14と接続するように絶縁膜12を貫通する貫通電極15を埋め込み形成する。続いて、ドライエッチングにより絶縁膜12にマイクロ流路90を形成する。
First, as shown in FIG. 12A, a
なお、絶縁膜12の成膜は、例えばCVD(Chemical Vapor Deposition)等により行う。貫通電極15の形成は、フォトリソグラフィ及びRIE(Reactive Ion Etching)技術等を用いてコンタクトホールを形成した後に、導電膜の成膜及びCMP(Chemical Mechanical Polishing)等を用いて行う。導電膜の成膜は、CVD、スパッタリング、鍍金法などによる。マイクロ流路90の形成は、フォトリソグラフィ及びRIE技術等を用いて行う。
The insulating
次いで、図12(b)に示すように、マイクロ流路90を埋め込むように第1の犠牲層95を形成する。具体的には、例えばアモルファスシリコンなどの犠牲層材料を、CVDやスパッタリング等を用いて、マイクロ流路90を埋め込むように絶縁膜12上に成膜する。そして、CMP等を用いて流路90以外の犠牲層材料を除去することにより、流路90内のみに犠牲層95を残す。或いは、スピンコートなどを用いて樹脂材料等で流路90を埋め込むように塗布成膜し、CMPやエッチバック技術を用いて流路90内のみに犠牲層95を残す方法でも良い。
Next, as shown in FIG. 12B, a first
次いで、図12(c)に示すように、絶縁膜12及び犠牲層95上にCVD等によりSiO2 等の絶縁膜16を成膜する。続いて、絶縁膜16に、流路開口91及び検出電極用の開口51を、フォトリソグラフィ及びRIE技術等エッチングによって形成する。また、同時に、リザーバ21,22となる部分にも開口を形成する。
Next, as shown in FIG. 12C, an insulating
次いで、図12(d)に示すように、第2の犠牲層96を成膜・平坦化し、開口部分に犠牲層96を埋め込む。このとき、検出電極用開口にも犠牲層96が埋め込まれるが、この部分については犠牲層96をリソグラフィ及びRIE等により除去しておく。この第2の犠牲層96の形成は、第1の犠牲層95の形成と同様にして行うことができる。
Next, as shown in FIG. 12D, a second
次いで、図13(e)に示すように、検出電極用開口51内に検出電極50を埋め込み形成する。具体的には、導電材料を成膜した後に、CMPやエッチバック技術を用いて検出電極用開口内のみに導電材料を残すようにすれば良い。なお、検出電極50は、必ずしも開口内のみに形成される必要はなく、一部が絶縁膜16上に延在していても良い。
Next, as shown in FIG. 13E, the
次いで、図13(f)に示すように、SiO2 等の絶縁膜13を成膜し、セルとなる部分をエッチングにより除去する(セル仕切りを残す)。このとき、リザーバ21,22となる部分もリソグラフィ及びRIE等によりエッチングにより除去する。即ち、セル仕切りとなる部分を除いて、溝部20となる部分をエッチングにより除去する。
Next, as shown in FIG. 13 (f), an insulating
次いで、図13(g)に示すように、第3の犠牲層97を成膜・平坦化し、セル部分に犠牲層97を埋め込む。この第3の犠牲層97の形成は、第1の犠牲層95の形成と同様にして行うことができる。
Next, as shown in FIG. 13G, a third
次いで、図14(h)に示すように、SiO2 等からなる隔壁膜17をCVD等で成膜する。続いて、フォトリソグラフィや電子ビームリソグラフィとRIE等を用いて、リザーバ30となる部分で隔壁膜17に複数の微細孔40を開口する。また、同時に、リザーバ21,22となる部分にも開口を形成する。
Next, as shown in FIG. 14H, a
次いで、図14(i)に示すように、検体液用のリザーバ30を形成する。このリザーバ30は、例えば厚さ50μm程度の厚膜感光性ポリイミドを用いてフォトリソグラフィによりバンク70を設けることにより形成する。また、このとき同時に、電解液用のリザーバ21,22も形成する。
Next, as shown in FIG. 14I, a
次いで、図14(j)に示すように、犠牲層95,96,97をドライエッチングやウェットエッチング等により除去することにより、本実施形態の半導体マイクロ分析チップが完成する。
Next, as shown in FIG. 14J, the
(第4の実施形態)
図15及び図16は、第4の実施形態に係わる半導体マイクロ分析チップの概略構成を説明するためのもので、図15は平面図、図16は図15のV−V’断面図である。なお、図5及び図6と同一部分には同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。
(Fourth embodiment)
FIGS. 15 and 16 are for explaining a schematic configuration of the semiconductor micro-analysis chip according to the fourth embodiment. FIG. 15 is a plan view and FIG. 16 is a cross-sectional view taken along line VV ′ of FIG. 5 and 6 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
本実施形態が先に説明した第2の実施形態と異なる点は、リザーバ30下の検査領域23で溝部20内に仕切りを設けて複数のセルを構成するのではなく、検査領域23で基板に複数の微小溝部25を設けてセルを構成することにある。
The difference between the present embodiment and the second embodiment described above is that the
基板10の基本的な構成は、第2の実施形態と同様である。リザーバ30下の検査領域23で絶縁膜13を選択エッチングすることにより、複数の微小溝部25が形成されている。これらの溝部が設けられた基板10の表面上に隔壁膜17が設けられている。さらに、隔壁膜17には、セル毎に微細孔40が設けられ、各セルには検出電極50が設けられている。なお、リザーバ21,22となる領域には、絶縁膜13の選択エッチングにより溝部26,27が形成されている。
The basic configuration of the
即ち本実施形態では、流路となる溝部を仕切り板で区切ることによってセルを構成するのではなく、検査領域23に複数の微小溝部25を掘ることによって複数のセルを構成している。そして、微細孔40、検出電極50、マイクロ流路90、開口91は先の第2の実施形態と同様に形成されている。
That is, in this embodiment, a cell is not formed by dividing a groove portion serving as a flow path with a partition plate, but a plurality of cells are formed by digging a plurality of
このような構成であっても、検査領域23の各セル内にマイクロ流路90から電解液を供給することができ、第2の実施形態と同様に検査を行うことができる。従って、第2の実施形態と同様の効果が得られる。
Even with such a configuration, the electrolytic solution can be supplied from the
(第5の実施形態)
図17は、第5の実施形態に係わる半導体マイクロ分析チップの概略構成を説明するためのものであり、仕切り構造65に仕切られて隣接している二つのセルの拡大鳥瞰図である。図8と同一部分には同一符号を付し、その詳しい説明は省略する。
(Fifth embodiment)
FIG. 17 is an enlarged bird's-eye view of two cells that are partitioned by a
本実施形態が先に説明した第2及び第3の実施形態と異なる点は、隣接する二つのセルA,Bにおいて、セルAに接続するマイクロ流路90aとセルBに接続するマイクロ流路90bとを立体交差するように配置していることにある。図17に示すように、マイクロ流路90bは、基板10の表面部からみてマイクロ流路90aよりも一段深い位置に配置されている。従って、セルBとマイクロ流路90bを接続する流路開口91bの深さは、セルAとマイクロ流路90aを接続する流路開口91の深さよりも深くなっている。
The difference between this embodiment and the second and third embodiments described above is that, in two adjacent cells A and B, a
先に説明した第3の実施形態のように、複数のマイクロ流路90を同一平面に形成する場合、微細孔の個数が多い場合(即ち、セルのアレイ規模が大きい場合)には複数のマイクロ流路90を密に形成する必要がある。これにより、セルのアレイ規模に対してマイクロ流路1本当たりの太さを細くするとともに、長さを長くすることが必要となり、流路の圧力損失などの影響で電解液が各セルに良好に供給されなくなる可能性がある。
When the plurality of
これに対し本実施形態では、先に説明した実施形態と同様の効果が得られる上、複数のマイクロ流路を異なる層で3次元的に配置するため、マイクロ流路を2次元的に配置する場合に比べレイアウトの自由度が大幅に増加し、圧力損失等の不具合が生じないように設計することが可能となる。 On the other hand, in this embodiment, the same effects as those of the above-described embodiment can be obtained, and a plurality of microchannels are three-dimensionally arranged in different layers, so that the microchannels are two-dimensionally arranged. Compared to the case, the degree of freedom of layout is greatly increased, and it is possible to design so as not to cause problems such as pressure loss.
(変形例)
なお、本発明は上述した各実施形態に限定されるものではない。
(Modification)
The present invention is not limited to the above-described embodiments.
検体液の液溜め部と電解液の流路との関係は、必ずしも前記図1に示す構造に限るものではない。例えば図18に示すように、検体液を流すための流路110と電解液を流すための流路120とが交差している構造で、これらの交差部に第1の実施形態と同様の微細孔40、検出電極50、及び仕切り板60等を設けるようにしても良い。このように、液溜め部が検体液を流す流路を兼ねていても良い。
The relationship between the sample liquid reservoir and the electrolyte flow path is not necessarily limited to the structure shown in FIG. For example, as shown in FIG. 18, the
ここで、検体液導入リザーバ111及び検体液排出リザーバ112は、リザーバ21,22と同様にして形成すればよい。また、流路120側を、第2,第3の実施形態のように、仕切り構造65及びマイクロ流路90を有する構成としても良い。
Here, the sample
また、微細孔及び検出電極の数や配列は、仕様に応じて適宜変更可能である。一つのセルに対して複数個の微細孔を配置することも可能である。さらに、各部の材料や膜厚等も、仕様に応じて適宜変更可能である。 Further, the number and arrangement of the fine holes and the detection electrodes can be appropriately changed according to the specifications. It is also possible to arrange a plurality of micropores for one cell. Furthermore, the material, film thickness, and the like of each part can be appropriately changed according to specifications.
また、溝部を有する基板の主要構成部材としては、必ずしもSi基板に限らず他の半導体基板を用いることもできる。さらに、半導体基板に限らず微細加工が可能な材料であれば用いることが可能である。 Further, the main constituent member of the substrate having the groove is not necessarily limited to the Si substrate, and other semiconductor substrates can be used. Furthermore, the material is not limited to a semiconductor substrate, and any material that can be finely processed can be used.
本発明の幾つかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。 Although several embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented by way of example and are not intended to limit the scope of the invention. These embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the spirit of the invention. These embodiments and their modifications are included in the scope and gist of the invention, and are also included in the invention described in the claims and the equivalents thereof.
10…基板
11…Si基板
12,13,16…絶縁膜
14…増幅回路
15…貫通電極
17…隔壁膜
20…溝部
21…電解液導入リザーバ
22…電解液排出リザーバ
23…流路の中央部(検査領域)
25…微小溝部
30…検体液滴下リザーバ
40…微細孔
50…検出電極
55…接地電極
60…仕切り板
65…仕切り構造
70,71,72,73…バンク
81…電解液
82…検体液
90…マイクロ流路
91…開口
95,96,97…犠牲層
110,120…流路
111…検体液導入リザーバ
112…検体液排出リザーバ
DESCRIPTION OF
25 ...
実施形態の分析チップは、溝部を備えた基板と、第1の微細孔及び第2の微細孔を備えた膜を備え、前記膜に対向して設けられた開口を備えた液溜め部と、前記溝部に設けられた第1及び第2の電極と、前記溝部に設けられ、前記第1の電極と前記第2の電極との間に設けられた仕切りと、を備え、前記開口と前記膜と前記第1の電極は第1方向に沿って重なって設けられている。 The analysis chip of the embodiment includes a substrate having a groove, a film having a first microhole and a second microhole, and a liquid reservoir having an opening provided to face the film, First and second electrodes provided in the groove, and a partition provided in the groove and provided between the first electrode and the second electrode, the opening and the film The first electrode is provided so as to overlap along the first direction .
Claims (7)
主面側に溝部を有する基板と、
前記溝部の一部に蓋をするように前記基板の主面上に設けられた絶縁性の隔壁膜と、
前記隔壁膜上に設けられた、前記検体液を溜めるための液溜め部と、
前記液溜め部の底部で前記隔壁膜に設けられた、前記微粒子を通過させるための複数の微細孔と、
前記微細孔に対応して前記溝部内に設けられた複数の検出電極と、
前記検出電極間を遮るように前記溝部内に設けられた仕切り構造と、
を具備したことを特徴とする分析チップ。 An analysis chip for detecting fine particles in a sample liquid,
A substrate having a groove on the main surface side;
An insulating partition film provided on the main surface of the substrate so as to cover a part of the groove,
A liquid reservoir for storing the sample liquid, provided on the partition wall;
A plurality of micropores provided in the partition film at the bottom of the liquid reservoir for passing the fine particles;
A plurality of detection electrodes provided in the groove corresponding to the fine holes;
A partition structure provided in the groove so as to block between the detection electrodes;
An analysis chip comprising:
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210075760A (en) * | 2019-12-13 | 2021-06-23 | 한국전자기술연구원 | Electrochemical Sensor Strip and Manufacturing Method Thereof |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050014162A1 (en) * | 2003-07-17 | 2005-01-20 | Barth Phillip W. | Apparatus and method for threading a biopolymer through a nanopore |
US20100331194A1 (en) * | 2009-04-10 | 2010-12-30 | Pacific Biosciences Of California, Inc. | Nanopore sequencing devices and methods |
JP2012026986A (en) * | 2010-07-28 | 2012-02-09 | Hitachi High-Technologies Corp | Nanopore-based analyzer and chamber for sample analysis |
WO2014137588A1 (en) * | 2013-03-05 | 2014-09-12 | Lucien Ghislain | Aperture force sensor |
WO2015079510A1 (en) * | 2013-11-27 | 2015-06-04 | 株式会社日立製作所 | Current measurement device, current measurement method, and current measurement kit |
JP2015535179A (en) * | 2012-10-26 | 2015-12-10 | オックスフォード ナノポール テクノロジーズ リミテッド | Formation of membrane arrays and apparatus therefor |
JP2016057263A (en) * | 2014-09-12 | 2016-04-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Biological polymer analysis device and analysis system |
WO2016088486A1 (en) * | 2014-12-04 | 2016-06-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Biomolecule measurement system and biomolecule measurement method |
JP2016145767A (en) * | 2015-02-09 | 2016-08-12 | 株式会社東芝 | Micro analysis package |
WO2016181465A1 (en) * | 2015-05-11 | 2016-11-17 | 株式会社日立製作所 | Analysis device and analysis method |
-
2017
- 2017-03-21 JP JP2017054699A patent/JP2018155698A/en active Pending
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050014162A1 (en) * | 2003-07-17 | 2005-01-20 | Barth Phillip W. | Apparatus and method for threading a biopolymer through a nanopore |
US20100331194A1 (en) * | 2009-04-10 | 2010-12-30 | Pacific Biosciences Of California, Inc. | Nanopore sequencing devices and methods |
JP2012026986A (en) * | 2010-07-28 | 2012-02-09 | Hitachi High-Technologies Corp | Nanopore-based analyzer and chamber for sample analysis |
JP2015535179A (en) * | 2012-10-26 | 2015-12-10 | オックスフォード ナノポール テクノロジーズ リミテッド | Formation of membrane arrays and apparatus therefor |
WO2014137588A1 (en) * | 2013-03-05 | 2014-09-12 | Lucien Ghislain | Aperture force sensor |
WO2015079510A1 (en) * | 2013-11-27 | 2015-06-04 | 株式会社日立製作所 | Current measurement device, current measurement method, and current measurement kit |
JP2016057263A (en) * | 2014-09-12 | 2016-04-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Biological polymer analysis device and analysis system |
WO2016088486A1 (en) * | 2014-12-04 | 2016-06-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Biomolecule measurement system and biomolecule measurement method |
JP2016145767A (en) * | 2015-02-09 | 2016-08-12 | 株式会社東芝 | Micro analysis package |
WO2016181465A1 (en) * | 2015-05-11 | 2016-11-17 | 株式会社日立製作所 | Analysis device and analysis method |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210075760A (en) * | 2019-12-13 | 2021-06-23 | 한국전자기술연구원 | Electrochemical Sensor Strip and Manufacturing Method Thereof |
KR102345691B1 (en) | 2019-12-13 | 2021-12-31 | 한국전자기술연구원 | Electrochemical Sensor Strip and Manufacturing Method Thereof |
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