JP2018152405A - 熱処理方法および熱処理装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】加熱処理後の基板の酸化を防止することができる熱処理方法および熱処理装置を提供する。【解決手段】未処理の半導体ウェハーＷはインデクサ部１０１から第１クールチャンバー１３１、搬送チャンバー１７０の順に経由して処理チャンバー６に搬送される。処理チャンバー６にて加熱処理の行われた処理後の半導体ウェハーＷは搬送チャンバー１７０、第１クールチャンバー１３１の順に経由してインデクサ部１０１に搬送される。未処理の半導体ウェハーＷが第１クールチャンバー１３１に搬入されてから所定時間は第１クールチャンバー１３１内に大供給流量にて窒素ガスを供給するとともに、第１クールチャンバー１３１から大排気流量にて排気を行う。第１クールチャンバー１３１内の酸素濃度は迅速に低下し、加熱処理後の半導体ウェハーＷの酸化を防止することができる。【選択図】図１

Description

本発明は、半導体ウェハー等の薄板状精密電子基板（以下、単に「基板」と称する）に光を照射することによって該基板を加熱する熱処理方法および熱処理装置に関する。
半導体デバイスの製造プロセスにおいて、極めて短時間で半導体ウェハーを加熱するフラッシュランプアニール（ＦＬＡ）が注目されている。フラッシュランプアニールは、キセノンフラッシュランプ（以下、単に「フラッシュランプ」とするときにはキセノンフラッシュランプを意味する）を使用して半導体ウェハーの表面にフラッシュ光を照射することにより、半導体ウェハーの表面のみを極めて短時間（数ミリ秒以下）に昇温させる熱処理技術である。
キセノンフラッシュランプの放射分光分布は紫外域から近赤外域であり、従来のハロゲンランプよりも波長が短く、シリコンの半導体ウェハーの基礎吸収帯とほぼ一致している。よって、キセノンフラッシュランプから半導体ウェハーにフラッシュ光を照射したときには、透過光が少なく半導体ウェハーを急速に昇温することが可能である。また、数ミリ秒以下の極めて短時間のフラッシュ光照射であれば、半導体ウェハーの表面近傍のみを選択的に昇温できることも判明している。
このようなフラッシュランプアニールは、極短時間の加熱が必要とされる処理、例えば典型的には半導体ウェハーに注入された不純物の活性化に利用される。イオン注入法によって不純物が注入された半導体ウェハーの表面にフラッシュランプからフラッシュ光を照射すれば、当該半導体ウェハーの表面を極短時間だけ活性化温度にまで昇温することができ、不純物を深く拡散させることなく、不純物活性化のみを実行することができるのである。
フラッシュランプアニールを行う熱処理装置として、例えば特許文献１に開示される構成のものが使用されている。特許文献１に開示されるフラッシュランプアニール装置におては、アニール処理を行う処理チャンバーに加えて半導体ウェハーの冷却処理を行うクールチャンバーを設けている。典型的には、フラッシュランプアニールに際しては、数１００℃に予備加熱された半導体ウェハーにフラッシュ光を照射してウェハー表面を瞬間的に１０００℃以上にまで昇温している。このように高温に加熱された半導体ウェハーＷをそのまま装置外に搬出することはできないため、加熱処理後の半導体ウェハーをクールチャンバーに搬入して冷却処理を行っているのである。
特開２０１４−１５７９６８号公報
しかしながら、瞬間的ではあるもののフラッシュ光照射によって半導体ウェハーの表面は１０００℃以上の高温に加熱されることもあり、そのような高温の半導体ウェハーの冷却には相当な長時間を要する。このため、フラッシュ加熱自体が短時間で完了したとしても、その後の冷却処理に長時間を要することとなり、冷却時間が律速要因となって装置全体のスループットは低くなるという問題が生じていた。
このため、特許文献１に開示される装置構成にクールチャンバーを２つ設け、それらに交互に半導体ウェハーを搬送することによってスループットの低下を抑制することが考えられる。しかし、クールチャンバーを２つ設けると、処理前の未処理の半導体ウェハーもクールチャンバーを通ることとなるため、加熱処理後の高温の半導体ウェハーがクールチャンバーに搬入されたときに、チャンバー内の残留酸素濃度が高く、その高温の半導体ウェハーが酸化されるという新たな問題が生じるおそれがある。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、加熱処理後の基板の酸化を防止することができる熱処理方法および熱処理装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、請求項１の発明は、基板に光を照射することによって該基板を加熱する熱処理方法において、未処理の基板を大気雰囲気に曝されたインデクサ部から前記インデクサ部に第１ゲートバルブを介して接続された冷却チャンバーに搬入する第１搬入工程と、前記未処理の基板を前記冷却チャンバーから前記冷却チャンバーに第２ゲートバルブを介して接続された搬送チャンバーに搬出する第１搬出工程と、前記未処理の基板を前記搬送チャンバーから前記搬送チャンバーに接続された処理チャンバーに搬送する搬送工程と、前記処理チャンバーにて前記未処理の基板に加熱処理を行う熱処理工程と、前記処理チャンバーにて加熱処理の行われた処理後の基板を前記搬送チャンバーを経由して前記冷却チャンバーに搬入する第２搬入工程と、前記冷却チャンバーにて前記処理後の基板を冷却する冷却工程と、前記冷却チャンバーにて冷却された前記処理後の基板を前記冷却チャンバーから前記インデクサ部に搬出する第２搬出工程と、を備え、前記冷却チャンバーには、第１供給流量または前記第１供給流量よりも大きな第２供給流量にて窒素ガスが供給され、前記冷却チャンバーからは、第１排気流量または前記第１排気流量よりも大きな第２排気流量にて雰囲気が排気され、少なくとも前記未処理の基板が前記冷却チャンバーに搬入されてから所定時間は前記冷却チャンバーに前記第２供給流量にて窒素ガスを供給するとともに、前記冷却チャンバーから前記第２排気流量にて排気を行うことを特徴とする。
また、請求項２の発明は、請求項１の発明に係る熱処理方法において、前記未処理の基板を前記冷却チャンバーから搬出する前に、前記冷却チャンバーに前記第１供給流量にて窒素ガスを供給するとともに、前記冷却チャンバーから前記第１排気流量にて排気を行うことを特徴とする。
また、請求項３の発明は、請求項１または請求項２の発明に係る熱処理方法において、前記処理後の基板を前記冷却チャンバーから搬出する前に、前記冷却チャンバーに前記第２供給流量にて窒素ガスを供給するとともに、前記冷却チャンバーから前記第２排気流量にて排気を行うことを特徴とする。
また、請求項４の発明は、請求項１から請求項３のいずれかの発明に係る熱処理方法において、前記冷却チャンバー内の気圧は、前記搬送チャンバー内の気圧よりも低く、かつ、大気圧よりも高く維持されることを特徴とする。
また、請求項５の発明は、基板に光を照射することによって該基板を加熱する熱処理装置において、大気雰囲気に曝されたインデクサ部と、前記インデクサ部と第１ゲートバルブを介して接続され、基板を冷却する冷却チャンバーと、前記冷却チャンバーと第２ゲートバルブを介して接続された搬送チャンバーと、前記搬送チャンバーと接続され、基板に加熱処理を行う処理チャンバーと、前記冷却チャンバーに第１供給流量または前記第１供給流量よりも大きな第２供給流量にて窒素ガスを供給するガス供給部と、前記冷却チャンバーから第１排気流量または前記第１排気流量よりも大きな第２排気流量にて雰囲気を排気する排気部と、前記ガス供給部による供給流量および前記排気部による排気流量を制御する制御部と、を備え、未処理の基板は前記インデクサ部から前記冷却チャンバー、前記搬送チャンバーの順に経由して前記処理チャンバーに搬送され、前記処理チャンバーにて加熱処理の行われた処理後の基板は前記処理チャンバーから前記搬送チャンバー、前記冷却チャンバーの順に経由して前記インデクサ部に搬送され、前記制御部は、少なくとも前記未処理の基板が前記冷却チャンバーに搬入されてから所定時間は前記冷却チャンバーに前記第２供給流量にて窒素ガスが供給されるとともに、前記冷却チャンバーから前記第２排気流量にて排気が行われるように前記ガス供給部および前記排気部を制御することを特徴とする。
また、請求項６の発明は、請求項５の発明に係る熱処理装置において、前記制御部は、前記未処理の基板が前記冷却チャンバーから搬出される前に、前記冷却チャンバーに前記第１供給流量にて窒素ガスが供給されるとともに、前記冷却チャンバーから前記第１排気流量にて排気が行われるように前記ガス供給部および前記排気部を制御することを特徴とする。
また、請求項７の発明は、請求項５または請求項６の発明に係る熱処理装置において、前記制御部は、前記処理後の基板が前記冷却チャンバーから搬出される前に、前記冷却チャンバーに前記第２供給流量にて窒素ガスが供給されるとともに、前記冷却チャンバーから前記第２排気流量にて排気を行われるように前記ガス供給部および前記排気部を制御することを特徴とする。
また、請求項８の発明は、請求項５から請求項７のいずれかの発明に係る熱処理装置において、前記冷却チャンバー内の気圧は、前記搬送チャンバー内の気圧よりも低く、かつ、大気圧よりも高く維持されることを特徴とする。
請求項１から請求項４の発明によれば、少なくとも未処理の基板が冷却チャンバーに搬入されてから所定時間は冷却チャンバーに第２供給流量にて窒素ガスを供給するとともに、冷却チャンバーから第２排気流量にて排気を行うため、未処理の基板の搬入にともなって急激に上昇した冷却チャンバー内の酸素濃度は迅速に低下し、加熱処理後の基板の酸化を防止することができる。
特に、請求項２の発明によれば、未処理の基板を冷却チャンバーから搬出する前に、冷却チャンバーに第１供給流量にて窒素ガスを供給するとともに、冷却チャンバーから第１排気流量にて排気を行うため、未処理の基板を搬出するときの冷却チャンバーから搬送チャンバーへの雰囲気流入を最小限に抑制することができる。
特に、請求項３の発明によれば、処理後の基板を冷却チャンバーから搬出する前に、冷却チャンバーに第２供給流量にて窒素ガスを供給するとともに、冷却チャンバーから第２排気流量にて排気を行うため、処理後の基板を搬出するときのインデクサ部から冷却チャンバーへの大気流入を最小限に抑制することができる。
請求項５から請求項８の発明によれば、少なくとも未処理の基板が冷却チャンバーに搬入されてから所定時間は冷却チャンバーに前記第２供給流量にて窒素ガスが供給されるとともに、冷却チャンバーから第２排気流量にて排気が行われるため、未処理の基板の搬入にともなって急激に上昇した冷却チャンバー内の酸素濃度は迅速に低下し、加熱処理後の基板の酸化を防止することができる。
特に、請求項６の発明によれば、未処理の基板が冷却チャンバーから搬出される前に、冷却チャンバーに第１供給流量にて窒素ガスが供給されるとともに、冷却チャンバーから第１排気流量にて排気が行われるため、未処理の基板を搬出するときの冷却チャンバーから搬送チャンバーへの雰囲気流入を最小限に抑制することができる。
特に、請求項７の発明によれば、処理後の基板が冷却チャンバーから搬出される前に、冷却チャンバーに第２供給流量にて窒素ガスが供給されるとともに、冷却チャンバーから第２排気流量にて排気を行われるため、処理後の基板を搬出するときのインデクサ部から冷却チャンバーへの大気流入を最小限に抑制することができる。
本発明に係る熱処理装置を示す平面図である。 図１の熱処理装置の正面図である。 熱処理部の構成を示す縦断面図である。 保持部の全体外観を示す斜視図である。 サセプタの平面図である。 サセプタの断面図である。 移載機構の平面図である。 移載機構の側面図である。 複数のハロゲンランプの配置を示す平面図である。 冷却部の構成を示す図である。 第１クールチャンバーに対する窒素ガスの供給流量および排気流量の変化を示す図である。
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。
まず、本発明に係る熱処理装置１００の全体概略構成について説明する。図１は、本発明に係る熱処理装置１００を示す平面図であり、図２はその正面図である。熱処理装置１００は基板として円板形状の半導体ウェハーＷにフラッシュ光を照射してその半導体ウェハーＷを加熱するフラッシュランプアニール装置である。処理対象となる半導体ウェハーＷのサイズは特に限定されるものではないが、例えばφ３００ｍｍやφ４５０ｍｍである。熱処理装置１００に搬入される前の半導体ウェハーＷには不純物が注入されており、熱処理装置１００による加熱処理によって注入された不純物の活性化処理が実行される。なお、図１および以降の各図においては、理解容易のため、必要に応じて各部の寸法や数を誇張または簡略化して描いている。また、図１〜図３の各図においては、それらの方向関係を明確にするためＺ軸方向を鉛直方向とし、ＸＹ平面を水平面とするＸＹＺ直交座標系を付している。
図１および図２に示すように、熱処理装置１００は、未処理の半導体ウェハーＷを外部から装置内に搬入するとともに処理済みの半導体ウェハーＷを装置外に搬出するためのインデクサ部１０１、未処理の半導体ウェハーＷの位置決めを行うアライメント部２３０、加熱処理後の半導体ウェハーＷの冷却を行う２つの冷却部１３０，１４０、半導体ウェハーＷにフラッシュ加熱処理を施す熱処理部１６０並びに冷却部１３０，１４０および熱処理部１６０に対して半導体ウェハーＷの受け渡しを行う搬送ロボット１５０を備える。また、熱処理装置１００は、上記の各処理部に設けられた動作機構および搬送ロボット１５０を制御して半導体ウェハーＷのフラッシュ加熱処理を進行させる制御部３を備える。
インデクサ部１０１は、複数のキャリアＣ（本実施形態では２個）を並べて載置するロードポート１１０と、各キャリアＣから未処理の半導体ウェハーＷを取り出すとともに、各キャリアＣに処理済みの半導体ウェハーＷを収納する受渡ロボット１２０とを備えている。未処理の半導体ウェハーＷを収容したキャリアＣは無人搬送車（ＡＧＶ、ＯＨＴ）等によって搬送されてロードポート１１０に載置されるともに、処理済みの半導体ウェハーＷを収容したキャリアＣは無人搬送車によってロードポート１１０から持ち去られる。
また、ロードポート１１０においては、受渡ロボット１２０がキャリアＣに対して任意の半導体ウェハーＷの出し入れを行うことができるように、キャリアＣが図２の矢印ＣＵにて示す如く昇降移動可能に構成されている。なお、キャリアＣの形態としては、半導体ウェハーＷを密閉空間に収納するＦＯＵＰ(front opening unified pod)の他に、ＳＭＩＦ(Standard Mechanical Inter Face)ポッドや収納した半導体ウェハーＷを外気に曝すＯＣ(open cassette)であっても良い。
また、受渡ロボット１２０は、図１の矢印１２０Ｓにて示すようなスライド移動、矢印１２０Ｒにて示すような旋回動作および昇降動作が可能とされている。これにより、受渡ロボット１２０は、２つのキャリアＣに対して半導体ウェハーＷの出し入れを行うとともに、アライメント部２３０および２つの冷却部１３０，１４０に対して半導体ウェハーＷの受け渡しを行う。受渡ロボット１２０によるキャリアＣに対する半導体ウェハーＷの出し入れは、ハンド１２１のスライド移動、および、キャリアＣの昇降移動により行われる。また、受渡ロボット１２０とアライメント部２３０または冷却部１３０，１４０との半導体ウェハーＷの受け渡しは、ハンド１２１のスライド移動、および、受渡ロボット１２０の昇降動作によって行われる。
アライメント部２３０は、Ｙ軸方向に沿ったインデクサ部１０１の側方に設けられている。アライメント部２３０は、半導体ウェハーＷを水平面内で回転させてフラッシュ加熱に適切な向きに向ける処理部である。アライメント部２３０は、アルミニウム合金製の筐体であるアライメントチャンバー２３１の内部に、半導体ウェハーＷを水平姿勢に支持して回転させる機構、および、半導体ウェハーＷの周縁部に形成されたノッチやオリフラ等を光学的に検出する機構などを設けて構成される。
アライメント部２３０への半導体ウェハーＷの受け渡しは受渡ロボット１２０によって行われる。受渡ロボット１２０からアライメントチャンバー２３１へはウェハー中心が所定の位置に位置するように半導体ウェハーＷが渡される。アライメント部２３０では、インデクサ部１０１から受け取った半導体ウェハーＷの中心部を回転中心として鉛直方向軸まわりで回転させ、ノッチ等を光学的に検出することによって半導体ウェハーＷの向きを調整する。向き調整の終了した半導体ウェハーＷは受渡ロボット１２０によってアライメントチャンバー２３１から取り出される。
搬送ロボット１５０による半導体ウェハーＷの搬送空間として搬送ロボット１５０を収容する搬送チャンバー１７０が設けられている。その搬送チャンバー１７０の三方に熱処理部１６０の処理チャンバー６、冷却部１３０の第１クールチャンバー１３１および冷却部１４０の第２クールチャンバー１４１が連通接続されている。
熱処理装置１００の主要部である熱処理部１６０は、予備加熱を行った半導体ウェハーＷにキセノンフラッシュランプＦＬからの閃光（フラッシュ光）を照射してフラッシュ加熱処理を行う基板処理部である。熱処理部１６０の構成については後にさらに詳述する。
２つの冷却部１３０，１４０は、概ね同様の構成を備える。図１０は、冷却部１３０の構成を示す図である。冷却部１３０は、アルミニウム合金製の筐体である第１クールチャンバー１３１（冷却チャンバー）の内部に、金属製の冷却プレート１３２を備える。冷却プレート１３２の上面には石英板１３３が載置される。冷却プレート１３２は、ペルチェ素子または恒温水循環によって常温（約２３℃）に温調されている。熱処理部１６０にてフラッシュ加熱処理が施された半導体ウェハーＷが第１クールチャンバー１３１に搬入されたときには、当該半導体ウェハーＷは石英板１３３に載置されて冷却される。また、第１クールチャンバー１３１内には、その内部空間の酸素濃度を測定する酸素濃度計１３５が設置されている。
第１クールチャンバー１３１には、半導体ウェハーＷを搬入出するための２つの開口が形設されている。２つの開口のうちインデクサ部１０１に接続される開口はゲートバルブ１８１によって開閉可能とされている。一方、搬送チャンバー１７０に接続される開口はゲートバルブ１８３によって開閉可能とされている。すなわち、第１クールチャンバー１３１とインデクサ部１０１とはゲートバルブ１８１を介して接続され、第１クールチャンバー１３１と搬送チャンバー１７０とはゲートバルブ１８３を介して接続されている。
インデクサ部１０１と第１クールチャンバー１３１との間で半導体ウェハーＷの受け渡しを行う際には、ゲートバルブ１８１が開放される。また、第１クールチャンバー１３１と搬送チャンバー１７０との間で半導体ウェハーＷの受け渡しを行う際には、ゲートバルブ１８３が開放される。ゲートバルブ１８１およびゲートバルブ１８３が閉鎖されているときには、第１クールチャンバー１３１の内部が密閉空間となる。
また、冷却部１３０は、第１クールチャンバー１３１に窒素ガス（Ｎ２）を供給するガス供給部２５０、および、第１クールチャンバー１３１から排気を行う排気部２６０を備える。ガス供給部２５０は、供給配管２５１、マスフローコントローラ２５２および窒素ガス供給源２５３を備える。供給配管２５１の先端は第１クールチャンバー１３１に接続され、基端は窒素ガス供給源２５３に接続されている。マスフローコントローラ２５２は、供給配管２５１の経路中に設けられている。マスフローコントローラ２５２は、窒素ガス供給源２５３から第１クールチャンバー１３１に供給する窒素ガスの流量を調整することができ、本実施形態においては大供給流量（例えば１２０リットル／分）または小供給流量（例えば２０リットル／分）に切り替える。すなわち、ガス供給部２５０は、第１クールチャンバー１３１に大供給流量または小供給流量にて窒素ガスを供給する。
排気部２６０は、排気管２６１、メインバルブ２６３、補助バルブ２６２および排気機構２６４を備える。排気管２６１の先端は第１クールチャンバー１３１に接続され、基端は排気機構２６４に接続されている。排気管２６１の基端側は、メイン排気管２６１ａと補助排気管２６１ｂとの二叉に分岐されており、それらメイン排気管２６１ａおよび補助排気管２６１ｂのそれぞれが排気機構２６４に接続される。メインバルブ２６３はメイン排気管２６１ａの経路途中に設けられ、補助バルブ２６２は補助排気管２６１ｂの経路途中に設けられる。
メイン排気管２６１ａと補助排気管２６１ｂとでは配管径が異なる。メイン排気管２６１ａの配管径は補助排気管２６１ｂの配管径よりも大きい。すなわち、メイン排気管２６１ａを使用した排気経路と補助排気管２６１ｂを使用した排気経路とでは排気のコンダクタンスが異なる。本実施形態においては、補助バルブ２６２は常時開放されているのに対して、メインバルブ２６３の開閉は適宜に切り替えられる。メインバルブ２６３および補助バルブ２６２の双方が開放されているときには、第１クールチャンバー１３１内の雰囲気が大排気流量にて排気されることとなる。一方、メインバルブ２６３が閉鎖されて補助バルブ２６２のみが開放されているときには、第１クールチャンバー１３１内の雰囲気が小排気流量にて排気されることとなる。すなわち、排気部２６０は、第１クールチャンバー１３１から大排気流量または小排気流量にて雰囲気を排気する。なお、窒素ガス供給源２５３および排気機構２６４は、熱処理装置１００に設けられた機構であっても良いし、熱処理装置１００が設置される工場のユーティリティであっても良い。
冷却部１４０も冷却部１３０と概ね同様の構成を備える。すなわち、冷却部１４０は、アルミニウム合金製の筐体である第２クールチャンバー１４１の内部に、金属製の冷却プレートと、その上面に載置された石英板を備える。第２クールチャンバー１４１とインデクサ部１０１とはゲートバルブ１８２を介して接続され、第２クールチャンバー１４１と搬送チャンバー１７０とはゲートバルブ１８４を介して接続されている（図１）。また、冷却部１４０も、上述したガス供給部２５０および排気部２６０と同様の給排気機構を備える。
搬送チャンバー１７０に設けられた搬送ロボット１５０は、鉛直方向に沿った軸を中心に矢印１５０Ｒにて示すように旋回可能とされる。搬送ロボット１５０は、複数のアームセグメントからなる２つのリンク機構を有し、それら２つのリンク機構の先端にはそれぞれ半導体ウェハーＷを保持する搬送ハンド１５１ａ，１５１ｂが設けられている。これらの搬送ハンド１５１ａ，１５１ｂは上下に所定のピッチだけ隔てて配置され、リンク機構によりそれぞれ独立して同一水平方向に直線的にスライド移動可能とされている。また、搬送ロボット１５０は、２つのリンク機構が設けられるベースを昇降移動することにより、所定のピッチだけ離れた状態のまま２つの搬送ハンド１５１ａ，１５１ｂを昇降移動させる。
搬送ロボット１５０が第１クールチャンバー１３１、第２クールチャンバー１４１または熱処理部１６０の処理チャンバー６を受け渡し相手として半導体ウェハーＷの受け渡し（出し入れ）を行う際には、まず、両搬送ハンド１５１ａ，１５１ｂが受け渡し相手と対向するように旋回し、その後（または旋回している間に）昇降移動していずれかの搬送ハンドが受け渡し相手と半導体ウェハーＷを受け渡しする高さに位置する。そして、搬送ハンド１５１ａ（１５１ｂ）を水平方向に直線的にスライド移動させて受け渡し相手と半導体ウェハーＷの受け渡しを行う。
搬送ロボット１５０と受渡ロボット１２０との半導体ウェハーＷの受け渡しは冷却部１３０，１４０を介して行われる。すなわち、２つの冷却部１３０，１４０は、搬送ロボット１５０と受渡ロボット１２０との間で半導体ウェハーＷを受け渡すためのパスとしても機能するものである。具体的には、搬送ロボット１５０または受渡ロボット１２０のうちの一方が第１クールチャンバー１３１または第２クールチャンバー１４１に渡した半導体ウェハーＷを他方が受け取ることによって半導体ウェハーＷの受け渡しが行われる。
上述したように、第１クールチャンバー１３１および第２クールチャンバー１４１とインデクサ部１０１との間にはそれぞれゲートバルブ１８１，１８２が設けられている。また、搬送チャンバー１７０と第１クールチャンバー１３１および第２クールチャンバー１４１との間にはそれぞれゲートバルブ１８３，１８４が設けられている。さらに、搬送チャンバー１７０と熱処理部１６０の処理チャンバー６との間にはゲートバルブ１８５が設けられている。熱処理装置１００内にて半導体ウェハーＷが搬送される際には、適宜これらのゲートバルブが開閉される。
また、搬送チャンバー１７０およびアライメントチャンバー２３１にもガス供給部から窒素ガスが供給されるとともに、それらの内部の雰囲気が排気部によって排気される（いずれも図示省略）。
次に、熱処理部１６０の構成について説明する。図３は、熱処理部１６０の構成を示す縦断面図である。熱処理部１６０は、半導体ウェハーＷを収容して加熱処理を行う処理チャンバー６と、複数のフラッシュランプＦＬを内蔵するフラッシュランプハウス５と、複数のハロゲンランプＨＬを内蔵するハロゲンランプハウス４と、を備える。処理チャンバー６の上側にフラッシュランプハウス５が設けられるとともに、下側にハロゲンランプハウス４が設けられている。また、熱処理部１６０は、処理チャンバー６の内部に、半導体ウェハーＷを水平姿勢に保持する保持部７と、保持部７と搬送ロボット１５０との間で半導体ウェハーＷの受け渡しを行う移載機構１０と、を備える。
処理チャンバー６は、筒状のチャンバー側部６１の上下に石英製のチャンバー窓を装着して構成されている。チャンバー側部６１は上下が開口された概略筒形状を有しており、上側開口には上側チャンバー窓６３が装着されて閉塞され、下側開口には下側チャンバー窓６４が装着されて閉塞されている。処理チャンバー６の天井部を構成する上側チャンバー窓６３は、石英により形成された円板形状部材であり、フラッシュランプＦＬから出射されたフラッシュ光を処理チャンバー６内に透過する石英窓として機能する。また、処理チャンバー６の床部を構成する下側チャンバー窓６４も、石英により形成された円板形状部材であり、ハロゲンランプＨＬからの光を処理チャンバー６内に透過する石英窓として機能する。
また、チャンバー側部６１の内側の壁面の上部には反射リング６８が装着され、下部には反射リング６９が装着されている。反射リング６８，６９は、ともに円環状に形成されている。上側の反射リング６８は、チャンバー側部６１の上側から嵌め込むことによって装着される。一方、下側の反射リング６９は、チャンバー側部６１の下側から嵌め込んで図示省略のビスで留めることによって装着される。すなわち、反射リング６８，６９は、ともに着脱自在にチャンバー側部６１に装着されるものである。処理チャンバー６の内側空間、すなわち上側チャンバー窓６３、下側チャンバー窓６４、チャンバー側部６１および反射リング６８，６９によって囲まれる空間が熱処理空間６５として規定される。
チャンバー側部６１に反射リング６８，６９が装着されることによって、処理チャンバー６の内壁面に凹部６２が形成される。すなわち、チャンバー側部６１の内壁面のうち反射リング６８，６９が装着されていない中央部分と、反射リング６８の下端面と、反射リング６９の上端面とで囲まれた凹部６２が形成される。凹部６２は、処理チャンバー６の内壁面に水平方向に沿って円環状に形成され、半導体ウェハーＷを保持する保持部７を囲繞する。チャンバー側部６１および反射リング６８，６９は、強度と耐熱性に優れた金属材料（例えば、ステンレススチール）にて形成されている。
また、チャンバー側部６１には、処理チャンバー６に対して半導体ウェハーＷの搬入および搬出を行うための搬送開口部（炉口）６６が形設されている。搬送開口部６６は、ゲートバルブ１８５によって開閉可能とされている。搬送開口部６６は凹部６２の外周面に連通接続されている。このため、ゲートバルブ１８５が搬送開口部６６を開放しているときには、搬送開口部６６から凹部６２を通過して熱処理空間６５への半導体ウェハーＷの搬入および熱処理空間６５からの半導体ウェハーＷの搬出を行うことができる。また、ゲートバルブ１８５が搬送開口部６６を閉鎖すると処理チャンバー６内の熱処理空間６５が密閉空間とされる。
また、処理チャンバー６の内壁上部には熱処理空間６５に処理ガスを供給するガス供給孔８１が形設されている。ガス供給孔８１は、凹部６２よりも上側位置に形設されており、反射リング６８に設けられていても良い。ガス供給孔８１は処理チャンバー６の側壁内部に円環状に形成された緩衝空間８２を介してガス供給管８３に連通接続されている。ガス供給管８３は処理ガス供給源８５に接続されている。また、ガス供給管８３の経路途中にはバルブ８４が介挿されている。バルブ８４が開放されると、処理ガス供給源８５から緩衝空間８２に処理ガスが送給される。緩衝空間８２に流入した処理ガスは、ガス供給孔８１よりも流体抵抗の小さい緩衝空間８２内を拡がるように流れてガス供給孔８１から熱処理空間６５内へと供給される。処理ガスとしては、窒素（Ｎ２）等の不活性ガス、または、水素（Ｈ２）、アンモニア（ＮＨ３）等の反応性ガスを用いることができる（本実施形態では窒素）。
一方、処理チャンバー６の内壁下部には熱処理空間６５内の気体を排気するガス排気孔８６が形設されている。ガス排気孔８６は、凹部６２よりも下側位置に形設されており、反射リング６９に設けられていても良い。ガス排気孔８６は処理チャンバー６の側壁内部に円環状に形成された緩衝空間８７を介してガス排気管８８に連通接続されている。ガス排気管８８は排気機構１９０に接続されている。また、ガス排気管８８の経路途中にはバルブ８９が介挿されている。バルブ８９が開放されると、熱処理空間６５の気体がガス排気孔８６から緩衝空間８７を経てガス排気管８８へと排出される。なお、ガス供給孔８１およびガス排気孔８６は、処理チャンバー６の周方向に沿って複数設けられていても良いし、スリット状のものであっても良い。また、処理ガス供給源８５および排気機構１９０は、熱処理装置１００に設けられた機構であっても良いし、熱処理装置１００が設置される工場のユーティリティであっても良い。
また、搬送開口部６６の先端にも熱処理空間６５内の気体を排出するガス排気管１９１が接続されている。ガス排気管１９１はバルブ１９２を介して排気機構１９０に接続されている。バルブ１９２を開放することによって、搬送開口部６６を介して処理チャンバー６内の気体が排気される。
図４は、保持部７の全体外観を示す斜視図である。保持部７は、基台リング７１、連結部７２およびサセプタ７４を備えて構成される。基台リング７１、連結部７２およびサセプタ７４はいずれも石英にて形成されている。すなわち、保持部７の全体が石英にて形成されている。
基台リング７１は円環形状から一部が欠落した円弧形状の石英部材である。この欠落部分は、後述する移載機構１０の移載アーム１１と基台リング７１との干渉を防ぐために設けられている。基台リング７１は凹部６２の底面に載置されることによって、処理チャンバー６の壁面に支持されることとなる（図３参照）。基台リング７１の上面に、その円環形状の周方向に沿って複数の連結部７２（本実施形態では４個）が立設される。連結部７２も石英の部材であり、溶接によって基台リング７１に固着される。
サセプタ７４は基台リング７１に設けられた４個の連結部７２によって支持される。図５は、サセプタ７４の平面図である。また、図６は、サセプタ７４の断面図である。サセプタ７４は、保持プレート７５、ガイドリング７６および複数の基板支持ピン７７を備える。保持プレート７５は、石英にて形成された略円形の平板状部材である。保持プレート７５の直径は半導体ウェハーＷの直径よりも大きい。すなわち、保持プレート７５は、半導体ウェハーＷよりも大きな平面サイズを有する。
保持プレート７５の上面周縁部にガイドリング７６が設置されている。ガイドリング７６は、半導体ウェハーＷの直径よりも大きな内径を有する円環形状の部材である。例えば、半導体ウェハーＷの直径がφ３００ｍｍの場合、ガイドリング７６の内径はφ３２０ｍｍである。ガイドリング７６の内周は、保持プレート７５から上方に向けて広くなるようなテーパ面とされている。ガイドリング７６は、保持プレート７５と同様の石英にて形成される。ガイドリング７６は、保持プレート７５の上面に溶着するようにしても良いし、別途加工したピンなどによって保持プレート７５に固定するようにしても良い。或いは、保持プレート７５とガイドリング７６とを一体の部材として加工するようにしても良い。
保持プレート７５の上面のうちガイドリング７６よりも内側の領域が半導体ウェハーＷを保持する平面状の保持面７５ａとされる。保持プレート７５の保持面７５ａには、複数の基板支持ピン７７が立設されている。本実施形態においては、保持面７５ａの外周円（ガイドリング７６の内周円）と同心円の周上に沿って３０°毎に計１２個の基板支持ピン７７が立設されている。１２個の基板支持ピン７７を配置した円の径（対向する基板支持ピン７７間の距離）は半導体ウェハーＷの径よりも小さく、半導体ウェハーＷの径がφ３００ｍｍであればφ２７０ｍｍ〜φ２８０ｍｍ（本実施形態ではφ２７０ｍｍ）である。それぞれの基板支持ピン７７は石英にて形成されている。複数の基板支持ピン７７は、保持プレート７５の上面に溶接によって設けるようにしても良いし、保持プレート７５と一体に加工するようにしても良い。
図４に戻り、基台リング７１に立設された４個の連結部７２とサセプタ７４の保持プレート７５の周縁部とが溶接によって固着される。すなわち、サセプタ７４と基台リング７１とは連結部７２によって固定的に連結されている。このような保持部７の基台リング７１が処理チャンバー６の壁面に支持されることによって、保持部７が処理チャンバー６に装着される。保持部７が処理チャンバー６に装着された状態においては、サセプタ７４の保持プレート７５は水平姿勢（法線が鉛直方向と一致する姿勢）となる。すなわち、保持プレート７５の保持面７５ａは水平面となる。
処理チャンバー６に搬入された半導体ウェハーＷは、処理チャンバー６に装着された保持部７のサセプタ７４の上に水平姿勢にて載置されて保持される。このとき、半導体ウェハーＷは保持プレート７５上に立設された１２個の基板支持ピン７７によって支持されてサセプタ７４に保持される。より厳密には、１２個の基板支持ピン７７の上端部が半導体ウェハーＷの下面に接触して当該半導体ウェハーＷを支持する。１２個の基板支持ピン７７の高さ（基板支持ピン７７の上端から保持プレート７５の保持面７５ａまでの距離）は均一であるため、１２個の基板支持ピン７７によって半導体ウェハーＷを水平姿勢に支持することができる。
また、半導体ウェハーＷは複数の基板支持ピン７７によって保持プレート７５の保持面７５ａから所定の間隔を隔てて支持されることとなる。基板支持ピン７７の高さよりもガイドリング７６の厚さの方が大きい。従って、複数の基板支持ピン７７によって支持された半導体ウェハーＷの水平方向の位置ずれはガイドリング７６によって防止される。
また、図４および図５に示すように、サセプタ７４の保持プレート７５には、上下に貫通して開口部７８が形成されている。開口部７８は、放射温度計２０（図３参照）がサセプタ７４に保持された半導体ウェハーＷの下面から放射される放射光（赤外光）を受光するために設けられている。すなわち、放射温度計２０が開口部７８を介してサセプタ７４に保持された半導体ウェハーＷの下面から放射された光を受光し、別置のディテクタによってその半導体ウェハーＷの温度が測定される。さらに、サセプタ７４の保持プレート７５には、後述する移載機構１０のリフトピン１２が半導体ウェハーＷの受け渡しのために貫通する４個の貫通孔７９が穿設されている。
図７は、移載機構１０の平面図である。また、図８は、移載機構１０の側面図である。移載機構１０は、２本の移載アーム１１を備える。移載アーム１１は、概ね円環状の凹部６２に沿うような円弧形状とされている。それぞれの移載アーム１１には２本のリフトピン１２が立設されている。各移載アーム１１は水平移動機構１３によって回動可能とされている。水平移動機構１３は、一対の移載アーム１１を保持部７に対して半導体ウェハーＷの移載を行う移載動作位置（図７の実線位置）と保持部７に保持された半導体ウェハーＷと平面視で重ならない退避位置（図７の二点鎖線位置）との間で水平移動させる。水平移動機構１３としては、個別のモータによって各移載アーム１１をそれぞれ回動させるものであっても良いし、リンク機構を用いて１個のモータによって一対の移載アーム１１を連動させて回動させるものであっても良い。
また、一対の移載アーム１１は、昇降機構１４によって水平移動機構１３とともに昇降移動される。昇降機構１４が一対の移載アーム１１を移載動作位置にて上昇させると、計４本のリフトピン１２がサセプタ７４に穿設された貫通孔７９（図４，５参照）を通過し、リフトピン１２の上端がサセプタ７４の上面から突き出る。一方、昇降機構１４が一対の移載アーム１１を移載動作位置にて下降させてリフトピン１２を貫通孔７９から抜き取り、水平移動機構１３が一対の移載アーム１１を開くように移動させると各移載アーム１１が退避位置に移動する。一対の移載アーム１１の退避位置は、保持部７の基台リング７１の直上である。基台リング７１は凹部６２の底面に載置されているため、移載アーム１１の退避位置は凹部６２の内側となる。なお、移載機構１０の駆動部（水平移動機構１３および昇降機構１４）が設けられている部位の近傍にも図示省略の排気機構が設けられており、移載機構１０の駆動部周辺の雰囲気が処理チャンバー６の外部に排出されるように構成されている。
図３に戻り、処理チャンバー６の上方に設けられたフラッシュランプハウス５は、筐体５１の内側に、複数本（本実施形態では３０本）のキセノンフラッシュランプＦＬからなる光源と、その光源の上方を覆うように設けられたリフレクタ５２と、を備えて構成される。また、フラッシュランプハウス５の筐体５１の底部にはランプ光放射窓５３が装着されている。フラッシュランプハウス５の床部を構成するランプ光放射窓５３は、石英により形成された板状の石英窓である。フラッシュランプハウス５が処理チャンバー６の上方に設置されることにより、ランプ光放射窓５３が上側チャンバー窓６３と相対向することとなる。フラッシュランプＦＬは処理チャンバー６の上方からランプ光放射窓５３および上側チャンバー窓６３を介して熱処理空間６５にフラッシュ光を照射する。
複数のフラッシュランプＦＬは、それぞれが長尺の円筒形状を有する棒状ランプであり、それぞれの長手方向が保持部７に保持される半導体ウェハーＷの主面に沿って（つまり水平方向に沿って）互いに平行となるように平面状に配列されている。よって、フラッシュランプＦＬの配列によって形成される平面も水平面である。
キセノンフラッシュランプＦＬは、その内部にキセノンガスが封入されその両端部にコンデンサーに接続された陽極および陰極が配設された棒状のガラス管（放電管）と、該ガラス管の外周面上に付設されたトリガー電極とを備える。キセノンガスは電気的には絶縁体であることから、コンデンサーに電荷が蓄積されていたとしても通常の状態ではガラス管内に電気は流れない。しかしながら、トリガー電極に高電圧を印加して絶縁を破壊した場合には、コンデンサーに蓄えられた電気がガラス管内に瞬時に流れ、そのときのキセノンの原子あるいは分子の励起によって光が放出される。このようなキセノンフラッシュランプＦＬにおいては、予めコンデンサーに蓄えられていた静電エネルギーが０．１ミリセカンドないし１００ミリセカンドという極めて短い光パルスに変換されることから、ハロゲンランプＨＬの如き連続点灯の光源に比べて極めて強い光を照射し得るという特徴を有する。すなわち、フラッシュランプＦＬは、１秒未満の極めて短い時間で瞬間的に発光するパルス発光ランプである。なお、フラッシュランプＦＬの発光時間は、フラッシュランプＦＬに電力供給を行うランプ電源のコイル定数によって調整することができる。
また、リフレクタ５２は、複数のフラッシュランプＦＬの上方にそれら全体を覆うように設けられている。リフレクタ５２の基本的な機能は、複数のフラッシュランプＦＬから出射されたフラッシュ光を熱処理空間６５の側に反射するというものである。リフレクタ５２はアルミニウム合金板にて形成されており、その表面（フラッシュランプＦＬに臨む側の面）はブラスト処理により粗面化加工が施されている。
処理チャンバー６の下方に設けられたハロゲンランプハウス４は、筐体４１の内側に複数本（本実施形態では４０本）のハロゲンランプＨＬを内蔵している。複数のハロゲンランプＨＬは処理チャンバー６の下方から下側チャンバー窓６４を介して熱処理空間６５への光照射を行う。
図９は、複数のハロゲンランプＨＬの配置を示す平面図である。本実施形態では、上下２段に各２０本ずつのハロゲンランプＨＬが配設されている。各ハロゲンランプＨＬは、長尺の円筒形状を有する棒状ランプである。上段、下段ともに２０本のハロゲンランプＨＬは、それぞれの長手方向が保持部７に保持される半導体ウェハーＷの主面に沿って（つまり水平方向に沿って）互いに平行となるように配列されている。よって、上段、下段ともにハロゲンランプＨＬの配列によって形成される平面は水平面である。
また、図９に示すように、上段、下段ともに保持部７に保持される半導体ウェハーＷの中央部に対向する領域よりも周縁部に対向する領域におけるハロゲンランプＨＬの配設密度が高くなっている。すなわち、上下段ともに、ランプ配列の中央部よりも周縁部の方がハロゲンランプＨＬの配設ピッチが短い。このため、ハロゲンランプＨＬからの光照射による加熱時に温度低下が生じやすい半導体ウェハーＷの周縁部により多い光量の照射を行うことができる。
また、上段のハロゲンランプＨＬからなるランプ群と下段のハロゲンランプＨＬからなるランプ群とが格子状に交差するように配列されている。すなわち、上段の各ハロゲンランプＨＬの長手方向と下段の各ハロゲンランプＨＬの長手方向とが直交するように計４０本のハロゲンランプＨＬが配設されている。
ハロゲンランプＨＬは、ガラス管内部に配設されたフィラメントに通電することでフィラメントを白熱化させて発光させるフィラメント方式の光源である。ガラス管の内部には、窒素やアルゴン等の不活性ガスにハロゲン元素（ヨウ素、臭素等）を微量導入した気体が封入されている。ハロゲン元素を導入することによって、フィラメントの折損を抑制しつつフィラメントの温度を高温に設定することが可能となる。したがって、ハロゲンランプＨＬは、通常の白熱電球に比べて寿命が長くかつ強い光を連続的に照射できるという特性を有する。すなわち、ハロゲンランプＨＬは少なくとも１秒以上連続して発光する連続点灯ランプである。また、ハロゲンランプＨＬは棒状ランプであるため長寿命であり、ハロゲンランプＨＬを水平方向に沿わせて配置することにより上方のシリコン基板Ｗへの放射効率が優れたものとなる。
また、ハロゲンランプハウス４の筐体４１内にも、２段のハロゲンランプＨＬの下側にリフレクタ４３が設けられている（図３）。リフレクタ４３は、複数のハロゲンランプＨＬから出射された光を熱処理空間６５の側に反射する。
上記の構成以外にも熱処理部１６０は、半導体ウェハーＷの熱処理時にハロゲンランプＨＬおよびフラッシュランプＦＬから発生する熱エネルギーによるハロゲンランプハウス４、フラッシュランプハウス５および処理チャンバー６の過剰な温度上昇を防止するため、様々な冷却用の構造を備えている。例えば、処理チャンバー６の壁体には水冷管（図示省略）が設けられている。また、ハロゲンランプハウス４およびフラッシュランプハウス５は、内部に気体流を形成して排熱する空冷構造とされている。また、上側チャンバー窓６３とランプ光放射窓５３との間隙にも空気が供給され、フラッシュランプハウス５および上側チャンバー窓６３を冷却する。
制御部３は、熱処理装置１００に設けられた上記の種々の動作機構を制御する。制御部３のハードウェアとしての構成は一般的なコンピュータと同様である。すなわち、制御部３は、各種演算処理を行う回路であるＣＰＵ、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるＲＯＭ、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるＲＡＭおよび制御用ソフトウェアやデータなどを記憶しておく磁気ディスクを備えている。制御部３のＣＰＵが所定の処理プログラムを実行することによって熱処理装置１００における処理が進行する。なお、図１においては、インデクサ部１０１内に制御部３を示しているが、これに限定されるものではなく、制御部３は熱処理装置１００内の任意の位置に配置することができる。
次に、本発明に係る熱処理装置１００による半導体ウェハーＷの処理動作について説明する。処理対象となる半導体ウェハーＷはイオン注入法により不純物（イオン）が添加された半導体基板である。その不純物の活性化が熱処理装置１００によるフラッシュ光照射加熱処理（アニール）により実行される。ここでは、まず熱処理装置１００における大まかな半導体ウェハーＷの搬送手順と熱処理部１６０における半導体ウェハーＷの加熱処理について説明する。
まず、不純物が注入された未処理の半導体ウェハーＷがキャリアＣに複数枚収容された状態でインデクサ部１０１のロードポート１１０に載置される。そして、受渡ロボット１２０がキャリアＣから未処理の半導体ウェハーＷを１枚ずつ取り出し、アライメント部２３０のアライメントチャンバー２３１に搬入する。アライメントチャンバー２３１では、半導体ウェハーＷをその中心部を回転中心として水平面内にて鉛直方向軸まわりで回転させ、ノッチ等を光学的に検出することによって半導体ウェハーＷの向きを調整する。
次に、インデクサ部１０１の受渡ロボット１２０がアライメントチャンバー２３１から向きの調整された半導体ウェハーＷを取り出し、冷却部１３０の第１クールチャンバー１３１または冷却部１４０の第２クールチャンバー１４１に搬入する。第１クールチャンバー１３１または第２クールチャンバー１４１に搬入された未処理の半導体ウェハーＷは搬送ロボット１５０の上側の搬送ハンド１５１ａによって搬送チャンバー１７０に搬出される。未処理の半導体ウェハーＷがインデクサ部１０１から第１クールチャンバー１３１または第２クールチャンバー１４１を経て搬送チャンバー１７０に移送される際には、第１クールチャンバー１３１および第２クールチャンバー１４１は半導体ウェハーＷの受け渡しのためのパスとして機能する。なお、半導体ウェハーＷの搬送のタイミングに合わせて、当該半導体ウェハーＷが搬入された第１クールチャンバー１３１または第２クールチャンバー１４１の雰囲気制御を行うのであるが、その詳細についてはさらに後述する。
半導体ウェハーＷを取り出した搬送ロボット１５０は熱処理部１６０を向くように旋回する。続いて、ゲートバルブ１８５が処理チャンバー６と搬送チャンバー１７０との間を開放し、搬送ロボット１５０が未処理の半導体ウェハーＷを処理チャンバー６に搬入する。このときに、先行する加熱処理済みの半導体ウェハーＷが処理チャンバー６に存在している場合には、下側の搬送ハンド１５１ｂによって加熱処理後の半導体ウェハーＷを取り出してから上側の搬送ハンド１５１ａによって未処理の半導体ウェハーＷを処理チャンバー６に搬入してウェハー入れ替えを行う。その後、ゲートバルブ１８５が処理チャンバー６と搬送チャンバー１７０との間を閉鎖する。
処理チャンバー６に搬入された半導体ウェハーＷには、ハロゲンランプＨＬによって予備加熱が行われた後、フラッシュランプＦＬからのフラッシュ光照射によってフラッシュ加熱処理が行われる。このフラッシュ加熱処理により不純物の活性化が行われる。
フラッシュ加熱処理が終了した後、ゲートバルブ１８５が処理チャンバー６と搬送チャンバー１７０との間を再び開放し、搬送ロボット１５０が搬送ハンド１５１ｂによって処理チャンバー６からフラッシュ加熱処理後の半導体ウェハーＷを搬送チャンバー１７０に搬出する。半導体ウェハーＷを取り出した搬送ロボット１５０は、処理チャンバー６から第１クールチャンバー１３１または第２クールチャンバー１４１に向くように旋回する。また、ゲートバルブ１８５が処理チャンバー６と搬送チャンバー１７０との間を閉鎖する。
その後、搬送ロボット１５０が搬送ハンド１５１ｂを前進させて加熱処理後の半導体ウェハーＷを冷却部１３０の第１クールチャンバー１３１または冷却部１４０の第２クールチャンバー１４１に搬入する。このときに、当該処理後の半導体ウェハーＷがインデクサ部１０１から第１クールチャンバー１３１を経て搬送チャンバー１７０に搬送されている場合には、当該処理後の半導体ウェハーＷを第１クールチャンバー１３１に搬送する。一方、当該処理後の半導体ウェハーＷがインデクサ部１０１から第２クールチャンバー１４１を経て搬送チャンバー１７０に搬送されている場合には、当該処理後の半導体ウェハーＷを第２クールチャンバー１４１に搬送する。すなわち、半導体ウェハーＷが往路で通過した第１クールチャンバー１３１または第２クールチャンバー１４１に復路でも搬入されるのである。
また、第１クールチャンバー１３１または第２クールチャンバー１４１に新たな未処理の半導体ウェハーＷが存在している場合には、上側の搬送ハンド１５１ａによって当該未処理の半導体ウェハーＷを取り出してから下側の搬送ハンド１５１ｂによって処理後の半導体ウェハーＷを第１クールチャンバー１３１または第２クールチャンバー１４１に搬入してウェハー入れ替えを行う。
第１クールチャンバー１３１または第２クールチャンバー１４１では、フラッシュ加熱処理後の半導体ウェハーＷの冷却処理が行われる。熱処理部１６０の処理チャンバー６から搬出された時点での半導体ウェハーＷ全体の温度は比較的高温であるため、これを第１クールチャンバー１３１または第２クールチャンバー１４１にて常温近傍にまで冷却するのである。所定の冷却処理時間が経過した後、受渡ロボット１２０が冷却後の半導体ウェハーＷを第１クールチャンバー１３１または第２クールチャンバー１４１から搬出し、キャリアＣへと返却する。キャリアＣに所定枚数の処理済み半導体ウェハーＷが収容されると、そのキャリアＣはインデクサ部１０１のロードポート１１０から搬出される。
熱処理部１６０におけるフラッシュ加熱処理について説明を続ける。処理チャンバー６への半導体ウェハーＷの搬入に先立って、給気のためのバルブ８４が開放されるとともに、排気用のバルブ８９，１９２が開放されて処理チャンバー６内に対する給排気が開始される。バルブ８４が開放されると、ガス供給孔８１から熱処理空間６５に窒素ガスが供給される。また、バルブ８９が開放されると、ガス排気孔８６から処理チャンバー６内の気体が排気される。これにより、処理チャンバー６内の熱処理空間６５の上部から供給された窒素ガスが下方へと流れ、熱処理空間６５の下部から排気される。
また、バルブ１９２が開放されることによって、搬送開口部６６からも処理チャンバー６内の気体が排気される。さらに、図示省略の排気機構によって移載機構１０の駆動部周辺の雰囲気も排気される。なお、熱処理部１６０における半導体ウェハーＷの熱処理時には窒素ガスが熱処理空間６５に継続的に供給されており、その供給量は処理工程に応じて適宜変更される。
続いて、ゲートバルブ１８５が開いて搬送開口部６６が開放され、搬送ロボット１５０により搬送開口部６６を介して処理対象となる半導体ウェハーＷが処理チャンバー６内の熱処理空間６５に搬入される。搬送ロボット１５０は、未処理の半導体ウェハーＷを保持する搬送ハンド１５１ａを保持部７の直上位置まで進出させて停止させる。そして、移載機構１０の一対の移載アーム１１が退避位置から移載動作位置に水平移動して上昇することにより、リフトピン１２が貫通孔７９を通ってサセプタ７４の保持プレート７５の上面から突き出て半導体ウェハーＷを受け取る。このとき、リフトピン１２は基板支持ピン７７の上端よりも上方にまで上昇する。
未処理の半導体ウェハーＷがリフトピン１２に載置された後、搬送ロボット１５０が搬送ハンド１５１ａを熱処理空間６５から退出させ、ゲートバルブ１８５によって搬送開口部６６が閉鎖される。そして、一対の移載アーム１１が下降することにより、半導体ウェハーＷは移載機構１０から保持部７のサセプタ７４に受け渡されて水平姿勢にて下方より保持される。半導体ウェハーＷは、保持プレート７５上に立設された複数の基板支持ピン７７によって支持されてサセプタ７４に保持される。また、半導体ウェハーＷは、パターン形成がなされて不純物が注入された表面を上面として保持部７に保持される。複数の基板支持ピン７７によって支持された半導体ウェハーＷの裏面（表面とは反対側の主面）と保持プレート７５の保持面７５ａとの間には所定の間隔が形成される。サセプタ７４の下方にまで下降した一対の移載アーム１１は水平移動機構１３によって退避位置、すなわち凹部６２の内側に退避する。
半導体ウェハーＷが保持部７のサセプタ７４によって水平姿勢にて下方より保持された後、４０本のハロゲンランプＨＬが一斉に点灯して予備加熱（アシスト加熱）が開始される。ハロゲンランプＨＬから出射されたハロゲン光は、石英にて形成された下側チャンバー窓６４およびサセプタ７４を透過して半導体ウェハーＷの下面から照射される。ハロゲンランプＨＬからの光照射を受けることによって半導体ウェハーＷが予備加熱されて温度が上昇する。なお、移載機構１０の移載アーム１１は凹部６２の内側に退避しているため、ハロゲンランプＨＬによる加熱の障害となることは無い。
ハロゲンランプＨＬによる予備加熱を行うときには、半導体ウェハーＷの温度が放射温度計２０によって測定されている。すなわち、サセプタ７４に保持された半導体ウェハーＷの下面から開口部７８を介して放射された赤外光を放射温度計２０が受光して昇温中のウェハー温度を測定する。測定された半導体ウェハーＷの温度は制御部３に伝達される。制御部３は、ハロゲンランプＨＬからの光照射によって昇温する半導体ウェハーＷの温度が所定の予備加熱温度Ｔ１に到達したか否かを監視しつつ、ハロゲンランプＨＬの出力を制御する。すなわち、制御部３は、放射温度計２０による測定値に基づいて、半導体ウェハーＷの温度が予備加熱温度Ｔ１となるようにハロゲンランプＨＬの出力をフィードバック制御する。予備加熱温度Ｔ１は、半導体ウェハーＷに添加された不純物が熱により拡散する恐れのない、６００℃ないし８００℃程度とされる（本実施の形態では７００℃）。
半導体ウェハーＷの温度が予備加熱温度Ｔ１に到達した後、制御部３は半導体ウェハーＷをその予備加熱温度Ｔ１に暫時維持する。具体的には、放射温度計２０によって測定される半導体ウェハーＷの温度が予備加熱温度Ｔ１に到達した時点にて制御部３がハロゲンランプＨＬの出力を調整し、半導体ウェハーＷの温度をほぼ予備加熱温度Ｔ１に維持している。
このようなハロゲンランプＨＬによる予備加熱を行うことによって、半導体ウェハーＷの全体を予備加熱温度Ｔ１に均一に昇温している。ハロゲンランプＨＬによる予備加熱の段階においては、より放熱が生じやすい半導体ウェハーＷの周縁部の温度が中央部よりも低下する傾向にあるが、ハロゲンランプハウス４におけるハロゲンランプＨＬの配設密度は、半導体ウェハーＷの中央部に対向する領域よりも周縁部に対向する領域の方が高くなっている。このため、放熱が生じやすい半導体ウェハーＷの周縁部に照射される光量が多くなり、予備加熱段階における半導体ウェハーＷの面内温度分布を均一なものとすることができる。
半導体ウェハーＷの温度が予備加熱温度Ｔ１に到達して所定時間が経過した時点にてフラッシュランプＦＬが半導体ウェハーＷの上面にフラッシュ光照射を行う。このとき、フラッシュランプＦＬから放射されるフラッシュ光の一部は直接に処理チャンバー６内へと向かい、他の一部は一旦リフレクタ５２により反射されてから処理チャンバー６内へと向かい、これらのフラッシュ光の照射により半導体ウェハーＷのフラッシュ加熱が行われる。
フラッシュ加熱は、フラッシュランプＦＬからのフラッシュ光（閃光）照射により行われるため、半導体ウェハーＷの表面温度を短時間で上昇することができる。すなわち、フラッシュランプＦＬから照射されるフラッシュ光は、予めコンデンサーに蓄えられていた静電エネルギーが極めて短い光パルスに変換された、照射時間が０．１ミリセカンド以上１００ミリセカンド以下程度の極めて短く強い閃光である。そして、フラッシュランプＦＬからのフラッシュ光照射によりフラッシュ加熱される半導体ウェハーＷの上面温度は、瞬間的に１０００℃以上の処理温度Ｔ２まで上昇し、半導体ウェハーＷに注入された不純物が活性化された後、上面温度が急速に下降する。このように、半導体ウェハーＷの上面温度を極めて短時間で昇降することができるため、半導体ウェハーＷに注入された不純物の熱による拡散を抑制しつつ不純物の活性化を行うことができる。なお、不純物の活性化に必要な時間はその熱拡散に必要な時間に比較して極めて短いため、０．１ミリセカンドないし１００ミリセカンド程度の拡散が生じない短時間であっても活性化は完了する。
フラッシュ加熱処理が終了した後、所定時間経過後にハロゲンランプＨＬが消灯する。これにより、半導体ウェハーＷが予備加熱温度Ｔ１から急速に降温する。降温中の半導体ウェハーＷの温度は放射温度計２０によって測定され、その測定結果は制御部３に伝達される。制御部３は、放射温度計２０の測定結果より半導体ウェハーＷの温度が所定温度まで降温したか否かを監視する。そして、半導体ウェハーＷの温度が所定以下にまで降温した後、移載機構１０の一対の移載アーム１１が再び退避位置から移載動作位置に水平移動して上昇することにより、リフトピン１２がサセプタ７４の上面から突き出て熱処理後の半導体ウェハーＷをサセプタ７４から受け取る。続いて、ゲートバルブ１８５により閉鎖されていた搬送開口部６６が開放され、リフトピン１２上に載置された処理後の半導体ウェハーＷが搬送ロボット１５０の下側の搬送ハンド１５１ｂにより搬出される。搬送ロボット１５０は、下側の搬送ハンド１５１ｂをリフトピン１２によって突き上げられた半導体ウェハーＷの直下位置にまで進出させて停止させる。そして、一対の移載アーム１１が下降することにより、フラッシュ加熱後の半導体ウェハーＷが搬送ハンド１５１ｂに渡されて載置される。その後、搬送ロボット１５０が搬送ハンド１５１ｂを処理チャンバー６から退出させて処理後の半導体ウェハーＷを搬出する。
本実施形態においては、未処理基板として冷却部１３０の第１クールチャンバー１３１を通過した半導体ウェハーＷは、熱処理部１６０における加熱処理後に処理後基板として再び第１クールチャンバー１３１に戻って冷却される。同様に、未処理基板として冷却部１４０の第２クールチャンバー１４１を通過した半導体ウェハーＷは、熱処理部１６０における加熱処理後に処理後基板として再び第２クールチャンバー１４１に戻って冷却される。
また、第１クールチャンバー１３１および第２クールチャンバー１４１においては、未処理の半導体ウェハーＷが搬送チャンバー１７０に搬出されるのとほぼ同時に処理後の半導体ウェハーＷが搬入されるという搬送ロボット１５０によるウェハー入れ替えが行われる。装置外部との間でキャリアＣが受け渡しされるインデクサ部１０１は大気雰囲気に曝されている。その大気雰囲気に曝されたインデクサ部１０１から第１クールチャンバー１３１（または第２クールチャンバー１４１）に未処理の半導体ウェハーＷが搬入されると、第１クールチャンバー１３１の内部に大気雰囲気が混入して酸素濃度が急激に上昇することとなる。その状態にて、ウェハー入れ替えが行われて、加熱処理後の比較的高温の半導体ウェハーＷが第１クールチャンバー１３１に搬入されると、当該処理後の半導体ウェハーＷが酸化されるおそれがある。
そこで、本実施形態においては、半導体ウェハーＷの搬送のタイミングに合わせて、ガス供給部２５０および排気部２６０によって第１クールチャンバー１３１内の雰囲気を調整している。以下、その第１クールチャンバー１３１における雰囲気制御について説明する。なお、以下は第１クールチャンバー１３１における雰囲気制御についての説明であるが、第２クールチャンバー１４１についても同様である。
図１１は、第１クールチャンバー１３１に対する窒素ガスの供給流量および排気流量の変化を示す図である。同図の上段には、第１クールチャンバー１３１に対する窒素ガスの供給流量を示し、下段には第１クールチャンバー１３１からの排気流量を示す。第１クールチャンバー１３１に対する窒素ガスの供給流量はマスフローコントローラ２５２によって大供給流量または小供給流量に切り替えられる。一方、第１クールチャンバー１３１からの排気流量はメインバルブ２６３の開閉によって大排気流量または小排気流量に切り替えられる。
まず、第１クールチャンバー１３１内に半導体ウェハーＷが存在していない時刻ｔ１に窒素ガスの供給流量を大供給流量にするとともに、排気流量も大排気流量に切り替える。このときには、ゲートバルブ１８１およびゲートバルブ１８３が閉鎖されて第１クールチャンバー１３１内は密閉空間とされている。
次に、時刻ｔ２にゲートバルブ１８１が開放され、続く時刻ｔ３にインデクサ部１０１から未処理の半導体ウェハーＷが第１クールチャンバー１３１内に搬入される。このときに、大気雰囲気に曝されたインデクサ部１０１から受渡ロボット１２０によって第１クールチャンバー１３１に未処理の半導体ウェハーＷが搬入されるため、第１クールチャンバー１３１内に大気雰囲気が混入することとなる。もっとも、第１クールチャンバー１３１には大供給流量にて窒素ガスが供給されているため、第１クールチャンバー１３１のインデクサ部１０１側の開口からは窒素ガスが流れ出てインデクサ部１０１からの大気流入を最小限に抑制することができる。それでも、第１クールチャンバー１３１内への大気雰囲気の混入を完全に防ぐことはできないため、第１クールチャンバー１３１内の酸素濃度は数％程度にまで急激に上昇する。
続いて、時刻ｔ４に、ゲートバルブ１８１が閉鎖されて第１クールチャンバー１３１内は密閉空間とされる。時刻ｔ４から所定時間（例えば、約１分）、密閉空間とされた第１クールチャンバー１３１内には大供給流量にて窒素ガスが供給されるとともに、第１クールチャンバー１３１から大排気流量にて雰囲気が排気される。これにより、半導体ウェハーＷの搬入にともなって第１クールチャンバー１３１内に混入した酸素は迅速に第１クールチャンバー１３１から排出されることとなる。その結果、数％程度にまで上昇した第１クールチャンバー１３１内の酸素濃度は速やかに１ｐｐｍ以下にまで低下する。
また、第１クールチャンバー１３１内に大供給流量にて窒素ガスが供給されると、第１クールチャンバー１３１内の気圧が搬送チャンバー１７０内の気圧よりも高くなり、第１クールチャンバー１３１内の雰囲気が搬送チャンバー１７０に漏出して搬送チャンバー１７０内の酸素濃度が上昇するおそれがある。しかし、第１クールチャンバー１３１には大供給流量にて窒素ガスを供給しているものの、その第１クールチャンバー１３１からは大排気流量にて雰囲気の排気を行っているため、第１クールチャンバー１３１内の気圧は搬送チャンバー１７０内の気圧よりも低く維持される。このため、第１クールチャンバー１３１から搬送チャンバー１７０への雰囲気の漏出は防止される。
その後、時刻ｔ５には第１クールチャンバー１３１への窒素ガスの供給流量が小供給流量に切り替えられるとともに、第１クールチャンバー１３１からの排気流量が小排気流量に切り替えられる。第１クールチャンバー１３１への窒素ガスの供給流量が小供給流量に切り替えられると、今度は第１クールチャンバー１３１内の気圧が大気圧よりも低くなり、インデクサ部１０１の大気雰囲気が第１クールチャンバー１３１内に漏出するおそれがある。しかし、第１クールチャンバー１３１への窒素ガスの供給流量を小供給流量に切り替えると同時に、第１クールチャンバー１３１からの排気流量を小排気流量に切り替えているため、第１クールチャンバー１３１内の気圧は大気圧よりも高く維持される。このため、インデクサ部１０１から第１クールチャンバー１３１への大気雰囲気の漏出は防止される。
次に、時刻ｔ６にゲートバルブ１８３が開放され、第１クールチャンバー１３１の内部空間と搬送チャンバー１７０内部空間とが連通状態となる。そして、続く時刻ｔ７に搬送ロボット１５０によって未処理の半導体ウェハーＷが第１クールチャンバー１３１から搬送チャンバー１７０に搬出されるとともに、先行する処理後の半導体ウェハーＷが搬送チャンバー１７０から第１クールチャンバー１３１内に搬入される。すなわち、搬送ロボット１５０によって半導体ウェハーＷの入れ替えが行われる。時刻ｔ６にゲートバルブ１８３が開放されるよりも以前に、第１クールチャンバー１３１内の酸素濃度が１ｐｐｍ以下にまで低下されているため、半導体ウェハーＷの入れ替えにともなって搬送チャンバー１７０内の酸素濃度が上昇することは防止される。
また、第１クールチャンバー１３１に搬入された処理後の半導体ウェハーＷは冷却プレート１３２上の石英板１３３に載置されて冷却される。第１クールチャンバー１３１に搬入された時点での処理後の半導体ウェハーＷは比較的高温ではあるが、その時点での第１クールチャンバー１３１内の酸素濃度は１ｐｐｍ以下にまで低下されているため、加熱処理後の半導体ウェハーＷの酸化を防止することができる。
続いて、時刻ｔ８に、ゲートバルブ１８３が閉鎖されて第１クールチャンバー１３１内は再び密閉空間とされる。時刻ｔ８から所定時間（例えば、約５０秒）、密閉空間とされた第１クールチャンバー１３１内には小供給流量にて窒素ガスが供給されるとともに、第１クールチャンバー１３１から小排気流量にて雰囲気が排気される。これにより、処理後の半導体ウェハーＷが冷却されるとともに、第１クールチャンバー１３１内は低酸素濃度に維持される。
その後、時刻ｔ９には第１クールチャンバー１３１への窒素ガスの供給流量が大供給流量に切り替えられるとともに、第１クールチャンバー１３１からの排気流量が大排気流量に切り替えられる。このときにも、第１クールチャンバー１３１への窒素ガスの供給流量を大供給流量に切り替えると同時に、第１クールチャンバー１３１からの排気流量を大排気流量に切り替えているため、第１クールチャンバー１３１内の気圧は搬送チャンバー１７０内の気圧よりも低く維持され、第１クールチャンバー１３１から搬送チャンバー１７０への雰囲気の漏出は防止される。
時刻ｔ１０にゲートバルブ１８１が開放され、第１クールチャンバー１３１の内部空間と大気雰囲気に曝されたインデクサ部１０１とが連通状態となる。そして、時刻ｔ１１に冷却された処理後の半導体ウェハーＷが第１クールチャンバー１３１からインデクサ部１０１に搬出され、続いて新たな未処理の半導体ウェハーＷがインデクサ部１０１から第１クールチャンバー１３１内に搬入される。このときに、再び第１クールチャンバー１３１内に大気雰囲気が混入して第１クールチャンバー１３１内の酸素濃度が数％程度にまで急激に上昇する。その後、時刻ｔ１２に、ゲートバルブ１８１が閉鎖されて第１クールチャンバー１３１内が密閉空間とされ、以降上記と同様の手順が繰り返される。
以上のように、本実施形態においては、未処理の半導体ウェハーＷが第１クールチャンバー１３１（または第２クールチャンバー１４１）に搬入されてから所定時間は第１クールチャンバー１３１内に大供給流量にて窒素ガスを供給するとともに、第１クールチャンバー１３１から大排気流量にて排気を行っている。これにより、未処理の半導体ウェハーＷの搬入にともなって急激に上昇した第１クールチャンバー１３１内の酸素濃度は迅速に低下し、加熱処理後の比較的高温の半導体ウェハーＷが第１クールチャンバー１３１に搬入された時点では第１クールチャンバー１３１内の酸素濃度が十分低くなっている。その結果、加熱処理後の半導体ウェハーＷの酸化を防止することができる。
第１クールチャンバー１３１への窒素ガスの供給流量を大供給流量としたまま、ゲートバルブ１８３を開放して半導体ウェハーＷの入れ替えを行うと、第１クールチャンバー１３１内の雰囲気が搬送チャンバー１７０に流入するおそれがある。本実施形態においては、未処理の半導体ウェハーＷを第１クールチャンバー１３１から搬出する前に、第１クールチャンバー１３１内に小供給流量にて窒素ガスを供給するとともに、第１クールチャンバー１３１から小排気流量にて排気を行っている。このため、未処理の半導体ウェハーＷを第１クールチャンバー１３１から搬送チャンバー１７０に搬出するときの、第１クールチャンバー１３１からの雰囲気流入を最小限に抑制することができる。また、半導体ウェハーＷの搬出にともなって第１クールチャンバー１３１内の雰囲気が搬送チャンバー１７０に若干流入したとしても、第１クールチャンバー１３１内の酸素濃度が十分に低いため、搬送チャンバー１７０内の酸素濃度の上昇は防止される。
さらに、冷却した処理後の半導体ウェハーＷを第１クールチャンバー１３１から搬出する前に、再び第１クールチャンバー１３１内に大供給流量にて窒素ガスを供給するとともに、第１クールチャンバー１３１から大排気流量にて排気を行っている。このため、処理後の半導体ウェハーＷが第１クールチャンバー１３１から搬出される際には、第１クールチャンバー１３１のインデクサ部１０１側の開口から窒素ガスが流れ出てインデクサ部１０１からの大気流入を最小限に抑制することができる。
ところで、各チャンバー内の気圧については、半導体ウェハーＷの加熱処理を行う処理チャンバー６内の酸素濃度を最も低くする観点から処理チャンバー６、搬送チャンバー１７０、第１クールチャンバー１３１および第２クールチャンバー１４１、大気圧の順に小さくなるようにするのが好ましい。このようにすれば、大気雰囲気に曝されたインデクサ部１０１から第１クールチャンバー１３１（または第２クールチャンバー１４１）、搬送チャンバー１７０を経て処理チャンバー６への雰囲気の漏出を最小限に抑制することができる。
本実施形態においては、第１クールチャンバー１３１への窒素ガスの供給流量を大供給流量に切り替えると同時に、第１クールチャンバー１３１からの排気流量を大排気流量に切り替えているため、第１クールチャンバー１３１内の気圧は搬送チャンバー１７０内の気圧よりも常に低く維持される。逆に、第１クールチャンバー１３１への窒素ガスの供給流量を小供給流量に切り替えると同時に、第１クールチャンバー１３１からの排気流量を小排気流量に切り替えているため、第１クールチャンバー１３１内の気圧は大気圧よりも常に高く維持される。すなわち、第１クールチャンバー１３１内の気圧は、搬送チャンバー１７０内の気圧よりも低く、かつ、大気圧よりも高く維持されるのである。
以上、本発明の実施の形態について説明したが、この発明はその趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、排気部２６０のメイン排気管２６１ａおよび補助排気管２６１ｂのそれぞれに、第１クールチャンバー１３１内の気圧を一定に保つための自動圧力制御(APC:Automatic Pressure Control)バルブを設けるようにしても良い。それに加えて、搬送チャンバー１７０の排気系にも、搬送チャンバー１７０内の気圧を一定に保つための自動圧力制御バルブを設けるようにしても良い。このようにすれば、第１クールチャンバー１３１内の気圧を確実に、搬送チャンバー１７０内の気圧よりも低く、かつ、大気圧よりも高く維持することができる。
また、上記実施形態においては、第１クールチャンバー１３１に対する窒素ガスの供給流量をマスフローコントローラ２５２によって大供給流量または小供給流量の２段に切り替えていたが、供給流量は２段に限定されるものではなく、３段以上の多段で切り替えられるようにしても良い。同様に、第１クールチャンバー１３１からの排気流量も３段以上の多段で切り替えられるようにしても良い。
また、第１クールチャンバー１３１内に設けた酸素濃度計１３５（図１０）による酸素濃度測定結果に基づいて、第１クールチャンバー１３１に対する窒素ガスの供給流量および排気流量を制御するようにしても良い。
また、補助バルブ２６２は、常時開放されているのであれば、必ずしも補助排気管２６１ｂに設ける必要はない。
また、上記実施形態においては、ハロゲンランプＨＬからの光照射によって半導体ウェハーＷの予備加熱を行うようにしていたが、これに代えて半導体ウェハーＷを保持するサセプタをホットプレート上に載置し、そのホットプレートからの熱伝導によって半導体ウェハーＷを予備加熱するようにしても良い。
また、上記実施形態においては、フラッシュランプハウス５に３０本のフラッシュランプＦＬを備えるようにしていたが、これに限定されるものではなく、フラッシュランプＦＬの本数は任意の数とすることができる。また、フラッシュランプＦＬはキセノンフラッシュランプに限定されるものではなく、クリプトンフラッシュランプであっても良い。また、ハロゲンランプハウス４に備えるハロゲンランプＨＬの本数も４０本に限定されるものではなく、任意の数とすることができる。
また、熱処理装置１００によって処理対象となる基板は半導体ウェハーに限定されるものではなく、液晶表示装置などのフラットパネルディスプレイに用いるガラス基板や太陽電池用の基板であっても良い。また、本発明に係る技術は、高誘電率ゲート絶縁膜（High-k膜）の熱処理、金属とシリコンとの接合、或いはポリシリコンの結晶化に適用するようにしても良い。
３ 制御部
４ ハロゲンランプハウス
５ フラッシュランプハウス
６ 処理チャンバー
７ 保持部
１０ 移載機構
６５ 熱処理空間
７４ サセプタ
１００ 熱処理装置
１０１ インデクサ部
１２０ 受渡ロボット
１３０，１４０ 冷却部
１３１ 第１クールチャンバー
１３５ 酸素濃度計
１４１ 第２クールチャンバー
１５０ 搬送ロボット
１６０ 熱処理部
１７０ 搬送チャンバー
１８１，１８２，１８３，１８４，１８５ ゲートバルブ
２３０ アライメント部
２３１ アライメントチャンバー
２５０ ガス供給部
２５２ マスフローコントローラ
２６０ 排気部
２６２ 補助バルブ
２６３ メインバルブ
ＦＬ フラッシュランプ
ＨＬ ハロゲンランプ
Ｗ 半導体ウェハー

Claims (8)

  1. 基板に光を照射することによって該基板を加熱する熱処理方法であって、
    未処理の基板を大気雰囲気に曝されたインデクサ部から前記インデクサ部に第１ゲートバルブを介して接続された冷却チャンバーに搬入する第１搬入工程と、
    前記未処理の基板を前記冷却チャンバーから前記冷却チャンバーに第２ゲートバルブを介して接続された搬送チャンバーに搬出する第１搬出工程と、
    前記未処理の基板を前記搬送チャンバーから前記搬送チャンバーに接続された処理チャンバーに搬送する搬送工程と、
    前記処理チャンバーにて前記未処理の基板に加熱処理を行う熱処理工程と、
    前記処理チャンバーにて加熱処理の行われた処理後の基板を前記搬送チャンバーを経由して前記冷却チャンバーに搬入する第２搬入工程と、
    前記冷却チャンバーにて前記処理後の基板を冷却する冷却工程と、
    前記冷却チャンバーにて冷却された前記処理後の基板を前記冷却チャンバーから前記インデクサ部に搬出する第２搬出工程と、
    を備え、
    前記冷却チャンバーには、第１供給流量または前記第１供給流量よりも大きな第２供給流量にて窒素ガスが供給され、
    前記冷却チャンバーからは、第１排気流量または前記第１排気流量よりも大きな第２排気流量にて雰囲気が排気され、
    少なくとも前記未処理の基板が前記冷却チャンバーに搬入されてから所定時間は前記冷却チャンバーに前記第２供給流量にて窒素ガスを供給するとともに、前記冷却チャンバーから前記第２排気流量にて排気を行うことを特徴とする熱処理方法。
  2. 請求項１記載の熱処理方法において、
    前記未処理の基板を前記冷却チャンバーから搬出する前に、前記冷却チャンバーに前記第１供給流量にて窒素ガスを供給するとともに、前記冷却チャンバーから前記第１排気流量にて排気を行うことを特徴とする熱処理方法。
  3. 請求項１または請求項２記載の熱処理方法において、
    前記処理後の基板を前記冷却チャンバーから搬出する前に、前記冷却チャンバーに前記第２供給流量にて窒素ガスを供給するとともに、前記冷却チャンバーから前記第２排気流量にて排気を行うことを特徴とする熱処理方法。
  4. 請求項１から請求項３のいずれかに記載の熱処理方法において、
    前記冷却チャンバー内の気圧は、前記搬送チャンバー内の気圧よりも低く、かつ、大気圧よりも高く維持されることを特徴とする熱処理方法。
  5. 基板に光を照射することによって該基板を加熱する熱処理装置であって、
    大気雰囲気に曝されたインデクサ部と、
    前記インデクサ部と第１ゲートバルブを介して接続され、基板を冷却する冷却チャンバーと、
    前記冷却チャンバーと第２ゲートバルブを介して接続された搬送チャンバーと、
    前記搬送チャンバーと接続され、基板に加熱処理を行う処理チャンバーと、
    前記冷却チャンバーに第１供給流量または前記第１供給流量よりも大きな第２供給流量にて窒素ガスを供給するガス供給部と、
    前記冷却チャンバーから第１排気流量または前記第１排気流量よりも大きな第２排気流量にて雰囲気を排気する排気部と、
    前記ガス供給部による供給流量および前記排気部による排気流量を制御する制御部と、
    を備え、
    未処理の基板は前記インデクサ部から前記冷却チャンバー、前記搬送チャンバーの順に経由して前記処理チャンバーに搬送され、
    前記処理チャンバーにて加熱処理の行われた処理後の基板は前記処理チャンバーから前記搬送チャンバー、前記冷却チャンバーの順に経由して前記インデクサ部に搬送され、
    前記制御部は、少なくとも前記未処理の基板が前記冷却チャンバーに搬入されてから所定時間は前記冷却チャンバーに前記第２供給流量にて窒素ガスが供給されるとともに、前記冷却チャンバーから前記第２排気流量にて排気が行われるように前記ガス供給部および前記排気部を制御することを特徴とする熱処理装置。
  6. 請求項５記載の熱処理装置において、
    前記制御部は、前記未処理の基板が前記冷却チャンバーから搬出される前に、前記冷却チャンバーに前記第１供給流量にて窒素ガスが供給されるとともに、前記冷却チャンバーから前記第１排気流量にて排気が行われるように前記ガス供給部および前記排気部を制御することを特徴とする熱処理装置。
  7. 請求項５または請求項６記載の熱処理装置において、
    前記制御部は、前記処理後の基板が前記冷却チャンバーから搬出される前に、前記冷却チャンバーに前記第２供給流量にて窒素ガスが供給されるとともに、前記冷却チャンバーから前記第２排気流量にて排気を行われるように前記ガス供給部および前記排気部を制御することを特徴とする熱処理装置。
  8. 請求項５から請求項７のいずれかに記載の熱処理装置において、
    前記冷却チャンバー内の気圧は、前記搬送チャンバー内の気圧よりも低く、かつ、大気圧よりも高く維持されることを特徴とする熱処理装置。
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