JP2018151298A - Watch component and watch - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、時計用部品および時計に関する。 The present invention relates to a timepiece component and a timepiece.
時計は、実用品としての機能が求められるとともに、装飾品として優れた審美性(美的外観)が要求される。 A watch is required to have a function as a practical product and to have excellent aesthetics (aesthetic appearance) as a decorative product.
このため、ケース、バンド等の時計用部品には、優れた質感を有する貴金属材料が用いられている(例えば、特許文献1参照)。 For this reason, noble metal materials having excellent texture are used for timepiece parts such as cases and bands (see, for example, Patent Document 1).
しかしながら、貴金属材料は、一般に高価であるとともに、硬度が低く、傷つきやすい(耐擦性に劣る)等の問題があった。 However, noble metal materials are generally expensive and have problems such as low hardness and easy damage (poor abrasion resistance).
本発明の目的は、審美性に優れ(特に、明度が高く、明るい外観を呈し)、耐食性に優れるとともに、耐擦性、耐摩耗性にも優れる時計用部品を提供すること、また、前記時計用部品を備えた時計を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a timepiece component that is excellent in aesthetics (particularly, has a high brightness and a bright appearance), excellent in corrosion resistance, and excellent in abrasion resistance and wear resistance. It is to provide a watch provided with parts.
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の時計用部品は、基材と、
Coを主成分とし、Crを26質量%以上30質量%以下の含有率、Moを5質量%以上7質量%以下の含有率で含む材料で構成された第1の被膜とを備え、
前記第1の被膜の表面は、原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が0%以上1.2%以下であることを特徴とする。
Such an object is achieved by the present invention described below.
The watch component of the present invention comprises a base material,
A first film composed of a material containing Co as a main component, Cr in a content of 26% by mass to 30% by mass, and Mo in a content of 5% by mass to 7% by mass,
The surface of the first film has a surface area increase rate of 0% or more and 1.2% or less with respect to a flat surface when measured by an atomic force microscope.
これにより、審美性に優れ(特に、明度が高く、明るい外観を呈し)、耐食性に優れるとともに、耐擦性、耐摩耗性にも優れる時計用部品を提供することができる。 Thereby, it is possible to provide a timepiece component that is excellent in aesthetics (in particular, has a high brightness and a bright appearance), excellent in corrosion resistance, and excellent in abrasion resistance and wear resistance.
本発明の時計用部品では、前記第1の被膜が視認される側の面についてのJIS Z 8729で規定されるL*a*b*表示の色度図におけるL*が78.5以上89.0以下であることが好ましい。 In the timepiece part of the present invention, L * in the chromaticity diagram of the L * a * b * display defined by JIS Z 8729 for the surface on the side where the first coating is visually recognized is 78.5 or more and 89. It is preferably 0 or less.
これにより、時計用部品の明度がより高くなり、時計用部品は、より明るい外観を呈するものとなり、時計用部品の審美性はより優れたものとなる。 As a result, the brightness of the timepiece component becomes higher, the timepiece component has a brighter appearance, and the aesthetics of the timepiece component becomes better.
本発明の時計用部品では、前記基材は、ステンレス鋼、Tiの少なくとも一方を含む材料で構成されたものであることが好ましい。 In the timepiece component of the invention, it is preferable that the base material is made of a material containing at least one of stainless steel and Ti.
これにより、時計用部品の耐久性をより優れたものとすることができる。また、第1の被膜の厚さが比較的薄い場合等において、時計用部品全体としての外観に好適な影響を与えることができ、時計用部品全体としての審美性をより確実に優れたものとすることができる。 Thereby, the durability of the timepiece component can be further improved. In addition, when the thickness of the first film is relatively thin, etc., it is possible to suitably affect the appearance of the entire watch component, and the aesthetics of the entire watch component are more reliably improved. can do.
本発明の時計用部品では、前記基材と前記第1の被膜との間に、Tiを含む材料で構成された下地層が少なくとも1層設けられていることが好ましい。 In the timepiece component of the present invention, it is preferable that at least one base layer made of a material containing Ti is provided between the base material and the first coating.
これにより、時計用部品の耐久性をより優れたものとすることができる。また、時計用部品全体としての微妙な色味の調整を行うことができ、時計用部品の審美性をより確実に優れたものとすることができる。 Thereby, the durability of the timepiece component can be further improved. In addition, it is possible to adjust the subtle color tone of the timepiece part as a whole, and the aesthetics of the timepiece part can be more reliably improved.
本発明の時計用部品では、前記基材と前記第1の被膜との間に、TiC、TiCNの少なくとも一方を含む材料で構成された第2の被膜が設けられていることが好ましい。 In the timepiece component of the present invention, it is preferable that a second film made of a material containing at least one of TiC and TiCN is provided between the base material and the first film.
これにより、時計用部品の硬度をより高いものとすることができ、時計用部品の耐打痕性(打痕の付き難さ)等をより優れたものとすることができ、時計用部品の耐久性をより優れたものとすることができる。また、色味の調整(特に、光沢度の調整)を好適に行うことができる。 As a result, the hardness of the watch component can be made higher, and the dent resistance (hardness of the dent) of the watch component can be made more excellent. The durability can be further improved. In addition, color adjustment (in particular, glossiness adjustment) can be suitably performed.
本発明の時計用部品では、前記基材と前記第1の被膜との間に、TiC、TiCNの少なくとも一方を含む材料で構成された第2の被膜が設けられ、
前記第2の被膜の両面側にそれぞれ前記下地層が設けられていることが好ましい。
In the timepiece part of the present invention, a second film made of a material containing at least one of TiC and TiCN is provided between the base material and the first film,
It is preferable that the underlayer is provided on each side of the second coating.
これにより、時計用部品の耐久性をさらに優れたものとすることができる。また、時計用部品全体としての微妙な色味の調整を行うことができ、時計用部品の審美性をより確実に優れたものとすることができる。 Thereby, the durability of the timepiece component can be further improved. In addition, it is possible to adjust the subtle color tone of the timepiece part as a whole, and the aesthetics of the timepiece part can be more reliably improved.
本発明の時計用部品では、前記第2の被膜は、厚さ方向に組成が傾斜的に変化する部位を有するものであることが好ましい。 In the timepiece component according to the aspect of the invention, it is preferable that the second coating has a portion where the composition changes in an inclined manner in the thickness direction.
これにより、例えば、時計用部品の耐打痕性、耐擦性、耐磨耗性等の向上や、色味の調整(特に、光沢度の調整)等といった第2の被膜を設けることによる効果を得つつ、時計用部品の耐久性をより優れたものとすることができる。 Thereby, for example, the effect of providing the second coating such as improvement of dent resistance, abrasion resistance, abrasion resistance, etc. of the watch component, and adjustment of color (especially adjustment of glossiness). Thus, the durability of the timepiece component can be further improved.
本発明の時計用部品では、前記第2の被膜は、当該第2の被膜の表面側に向かってCおよびNの含有率の和が低下する領域を有するものであることが好ましい。 In the timepiece component according to the aspect of the invention, it is preferable that the second coating has a region where the sum of the C and N contents decreases toward the surface of the second coating.
これにより、例えば、時計用部品の耐打痕性、耐擦性、耐磨耗性等の向上や、色味の調整(特に、光沢度の調整)等といった第2の被膜を設けることによる効果を得つつ、時計用部品の耐久性をさらに優れたものとすることができる。 Thereby, for example, the effect of providing the second coating such as improvement of dent resistance, abrasion resistance, abrasion resistance, etc. of the watch component, and adjustment of color (especially adjustment of glossiness). Thus, the durability of the watch component can be further improved.
本発明の時計用部品では、前記第2の被膜は、当該第2の被膜の両面側にそれぞれ前記領域を有するものであることが好ましい。
これにより、時計用部品の耐久性を特に優れたものとすることができる。
In the timepiece component according to the aspect of the invention, it is preferable that the second coating has the regions on both sides of the second coating.
Thereby, the durability of the timepiece component can be made particularly excellent.
本発明の時計用部品では、前記第2の被膜の厚さが0.05μm以上4.0μm以下であることが好ましい。 In the timepiece component of the present invention, it is preferable that the thickness of the second film is 0.05 μm or more and 4.0 μm or less.
これにより、時計用部品の硬度をさらに高いものとすることができ、時計用部品の耐打痕性(打痕の付き難さ)等をより優れたものとし、時計用部品の耐久性をさらに優れたものとすることができる。また、時計用部品全体としての微妙な色味の調整をより好適に行うことができる。 As a result, the hardness of the watch component can be further increased, the dent resistance (hardness of the dent) of the watch component is improved, and the durability of the watch component is further increased. It can be excellent. In addition, the subtle color adjustment of the entire watch component can be more suitably performed.
本発明の時計用部品では、前記第1の被膜の厚さが0.02μm以上2.0μm以下であることが好ましい。 In the timepiece component of the present invention, it is preferable that the thickness of the first film is 0.02 μm or more and 2.0 μm or less.
これにより、時計用部品の生産コストを抑制しつつ、時計用部品全体としての光沢感、審美性や、耐擦性、耐摩耗性等をより優れたものとすることができる。また、時計用部品の耐久性をより優れたものとすることができる。 Thereby, while suppressing the production cost of the timepiece parts, the glossiness, aesthetics, abrasion resistance, wear resistance and the like of the timepiece parts as a whole can be further improved. In addition, the durability of the timepiece component can be further improved.
本発明の時計用部品は、ケースまたはバンドであることが好ましい。
これらの部品(時計用部品)は、時計全体の外観に大きな影響を与えるものであるため、これらの部品に本発明が適用されることにより、時計全体としての審美性をより優れたものとすることができる。また、これらの部品は、時計の使用時等において、通常、外部に露出する部品であり、また、皮膚に接触しやすいものであり、各種部品の中でも、特に優れた耐擦性、耐摩耗性、耐アレルギー性(アレルギー反応の起こしにくさ)等に優れることが特に強く求められる。したがって、これらの部品に本発明が適用されることにより、前述したような本発明による効果がより顕著に発揮される。
The timepiece component of the present invention is preferably a case or a band.
Since these parts (parts for watches) have a great influence on the appearance of the entire watch, the present invention is applied to these parts, thereby improving the aesthetics of the watch as a whole. be able to. In addition, these parts are usually exposed to the outside when using a watch, etc., and are likely to come into contact with the skin. Among various parts, particularly excellent abrasion resistance and wear resistance. In particular, it is strongly required to have excellent allergic resistance (resistance to allergic reaction). Therefore, by applying the present invention to these components, the effects of the present invention as described above are more remarkably exhibited.
本発明の時計は、本発明の時計用部品を備えたことを特徴とする。
これにより、審美性に優れ(特に、明度が高く、明るい外観を呈し)、耐食性に優れるとともに、耐擦性、耐摩耗性にも優れる時計用部品を備えた時計を提供することができる。
The timepiece of the present invention includes the timepiece component of the present invention.
Thereby, it is possible to provide a timepiece having a timepiece component that is excellent in aesthetics (particularly, has a high brightness and a bright appearance), excellent in corrosion resistance, and excellent in abrasion resistance and wear resistance.
以下、添付する図面を参照しつつ、好適な実施形態について詳細な説明をする。
《時計用部品》
まず、本発明の時計用部品について説明する。
Hereinafter, preferred embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
《Watch parts》
First, the timepiece part of the present invention will be described.
[第1実施形態]
図1は、本発明の時計用部品の第1実施形態を模式的に示す断面図である。以下、図1中の上側が観察者の視点側である場合について、中心的に説明する(後述する図2〜図5についても同様)。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a first embodiment of a timepiece part of the invention. Hereinafter, the case where the upper side in FIG. 1 is the observer's viewpoint side will be mainly described (the same applies to FIGS. 2 to 5 described later).
時計用部品10は、基材1と、Coを主成分とし、Crを26質量%以上30質量%以下の含有率、Moを5質量%以上7質量%以下の含有率で含む材料で構成された第1の被膜2とを備えている。
The
そして、第1の被膜2の表面22(基材1に対向する第1の面21とは反対側の第2の面22)は、原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が0%以上1.2%以下である。
And the surface 22 (
このような構成により、審美性に優れ(特に、光沢性が高く高級感のある外観を呈し)、耐食性に優れるとともに、耐擦性、耐摩耗性にも優れる時計用部品10を提供することができる。特に、貴金属を主材料として使用しなくても、光沢性が高く、高級感のある外観が得られる。また、基材1として、種々の材料で構成されたものを用いた場合でも、時計用部品10全体としての審美性等を優れたものすることができ、基材1の選択の幅が広い。また、上記のような第1の被膜2の構成材料は、アレルギーの問題を生じにくい材料である。また、第1の被膜2の厚さが比較的薄い場合であっても、光沢性が高く、優れた審美性が得られるため、時計用部品10の製造コストを抑制することができ、時計用部品10の生産性を優れたものとすることができる。
With such a configuration, it is possible to provide a
特に、第1の被膜2の表面(第2の面)22の表面積増加率が前記範囲内の値であることにより、明度が高く、明るい外観を呈するものとなり、時計用部品10の審美性は特に優れたものとなる。また、時計用部品10の表面(第1の被膜2の表面(第2の面)22)に汚れが強固に付着しにくくなり、時計用部品10の防汚性が優れたものとなる。
In particular, when the surface area increase rate of the surface (second surface) 22 of the
これに対し、上記のような条件を満足しない場合には、上記のような優れた効果が得られない。 On the other hand, when the above conditions are not satisfied, the above excellent effects cannot be obtained.
例えば、第1の被膜2中におけるCrの含有率が前記下限値未満であると、耐食性、耐擦性、耐磨耗性が不十分となる。
For example, when the Cr content in the
また、第1の被膜2中におけるCrの含有率が前記上限値を超えると、審美性が低下し、高級感のある光沢感が得られない。
Moreover, when the content rate of Cr in the
また、第1の被膜2中におけるMoの含有率が前記下限値未満であると、耐擦性、耐磨耗性が不十分となる。
Further, if the Mo content in the
また、第1の被膜2中におけるMoの含有率が前記上限値を超えると、審美性が低下し、高級感のある光沢感が得られない。
On the other hand, if the Mo content in the
また、第1の被膜2として、Co、CrおよびMoを含む合金で構成された被膜の代わりに、Pt等の貴金属材料で構成されたものを用いると、耐擦性、耐磨耗性が著しく低いものとなる。
In addition, when a film made of a noble metal material such as Pt is used as the
また、表面積増加率が大きすぎると、時計用部品10の審美性が劣ったものになるわけではないが、十分な明度が得られず、例えば、後述するような十分に大きいL*の値が得られず、暗い外観となり、目的とする十分な光沢感が得られなくなってしまう。また、時計用部品10の防汚性が低下する。
Further, if the surface area increase rate is too large, the aesthetics of the
第1の被膜2の表面22についての表面積増加率は、凹凸が全く無いと仮定した場合の表面(平坦面)の面積(投影面積)を基準にして、原子間力顕微鏡を用いた測定により求められたサンプルの実表面積(極微小なナノメーターオーダーの凹凸が形成された表面の面積)との比(比表面積)を求め、その増加分を百分率で表したものである。言い換えると、実表面積をA[μm2]とし、サンプル表面が完全に平坦とした時の測定対象投影面積をB[μm2]としたとき、表面積増加率C[%]は以下のように定義される。
C=[(A/B)−1]×100
The surface area increase rate for the
C = [(A / B) −1] × 100
原子間力顕微鏡を用いた測定は、例えば、サンプル表面の5μm角の領域について行うことができる。 Measurement using an atomic force microscope can be performed, for example, on a 5 μm square region on the sample surface.
また、測定視野を変えて複数箇所(例えば、5箇所)について測定を行い、その平均値に基づいて、表面積増加率を求めてもよい。 Alternatively, the measurement field of view may be changed and measurement is performed at a plurality of locations (for example, 5 locations), and the surface area increase rate may be obtained based on the average value.
原子間力顕微鏡としては、例えば、ディジタル・インストルメント(Digital Instruments)社製の「ナノスコープIIIa」等が挙げられる。 Examples of the atomic force microscope include “Nanoscope IIIa” manufactured by Digital Instruments.
例えば、時計用部品10の種々の製造条件を調整することにより、上記のような表面積増加率の条件を満足するようにすることができる。より具体的には、例えば、第1の被膜2の成膜条件や、第1の被膜2の形成後の表面加工(例えば、研磨加工や粗面化加工等)、第1の被膜2の成膜前における母材(基材1等)の表面状態の調整等により、上記表面積増加率の条件を調整することができる。
For example, by adjusting various manufacturing conditions of the
≪基材≫
基材1は、第1の被膜2等を支持する支持体としての機能を有するものである。
基材1は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、基材1の構成材料としては、例えば、Al、Ti、V、Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Zr、Nb、Mo、In、Sn、Hf、Ta、W、Bi、Mgや、これらのうち少なくとも1種を含む合金等の金属材料;アルミナ、ジルコニア、チタニア等の酸化物系セラミックス、ハイドロキシアパタイト等の水酸化物系セラミックス、窒化ケイ素等の窒化物系セラミックス、炭化ケイ素等の炭化物系セラミックス、蛍石等のハロゲン化物系セラミックス、炭酸塩系セラミックス、リン酸塩系セラミックス等の各種セラミックス材料;サファイアガラス、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等のガラス材料;各種熱可塑性樹脂、各種硬化性樹脂等のプラスチック材料等が挙げられる。
≪Base material≫
The
Although the
これらの中でも、基材1は、金属材料であるのがよく、特に、ステンレス鋼、Tiの少なくとも一方を含む材料で構成されたものであるのが好ましい。
Among these, the
これにより、高強度、高耐食性を有する基材1が得られるとともに、第1の被膜2等との密着性をより優れたものとすることができ、時計用部品10の耐久性をより優れたものとすることができる。また、第1の被膜2の厚さが比較的薄い場合等において、時計用部品10全体としての外観に好適な影響を与えることができ、時計用部品10全体としての審美性をより確実に優れたものとすることができる。また、第1の被膜2の厚さを比較的薄くした場合でも十分に優れた審美性が得られるため、時計用部品10の生産コストの抑制等の観点からも有利である。
As a result, the
Tiとしては、純Ti、Ti合金(α合金、α−β合金、β合金)のいずれでもよい。
ステンレス鋼としては、フェライト系、オーステナイト系、マルテンサイト系、オーステナイト・フェライト系等のいずれをも用いることができる。
ここで、フェライト系ステンレス鋼の中でも、後述する実施形態で用いたSUS444は、極低C、極低N、18Cr−2Moの高純度フェライト系ステンレス鋼であり、特に、耐孔食性、耐隙間腐食性、耐応力腐食割れ性に優れているため、好適に用いることができる。
Ti may be pure Ti or a Ti alloy (α alloy, α-β alloy, β alloy).
As the stainless steel, any of ferritic, austenitic, martensitic, austenitic / ferritic, etc. can be used.
Here, among ferritic stainless steels, SUS444 used in the embodiments described later is a high purity ferritic stainless steel of extremely low C, extremely low N, 18Cr-2Mo, and particularly pitting corrosion resistance and crevice corrosion resistance. It can be suitably used because of its excellent properties and stress corrosion cracking resistance.
基材1中におけるステンレス鋼およびTiの含有率は、95質量%以上であるのが好ましく、99質量%以上であるのがより好ましい。
これにより、前述したような効果がより顕著に発揮される。
The content of stainless steel and Ti in the
Thereby, the effects as described above are more remarkably exhibited.
基材1は、貴金属元素(Au、Ag、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、Os)の含有率が十分に低いものであるのが好ましく、基材1中における貴金属元素の含有率(複数種の貴金属元素を含む場合はこれらの含有率の総和)は、1.0質量%以下であるのが好ましく、0.5質量%以下であるのがより好ましく、0.1質量%以下であるのがさらに好ましい。
The
これにより、貴金属を主材料として使用しなくても、優れた外観が得られるという効果がより顕著に発揮される。 As a result, the effect that an excellent appearance can be obtained even when noble metal is not used as the main material is more remarkably exhibited.
基材1は、各部位で均一な組成を有するものであってもよいし、組成の異なる部位を有するものであってもよい。例えば、基材1は、基部と、当該基部を被覆し当該基部とは異なる組成を有する少なくとも1層の膜を有するものや、組成が傾斜的に変化する傾斜材料(例えば、厚さ方向に組成が傾斜的に変化する傾斜材料等)で構成されたもの等であってもよい。
The
基材1の形状、大きさは、特に限定されず、通常、時計用部品10の形状、大きさに基づいて決定される。
The shape and size of the
基材1は、例えば、表面に、鏡面加工(研磨加工)、スジ目加工、梨地加工等の表面加工が施されたものであってもよい。また、基材1には、文字、数字、記号、模様等の凹凸パターンが設けられていてもよい。
The
これにより、例えば、時計用部品10の表面の光沢具合にバリエーションを持たせることが可能となり、時計用部品10の審美性をさらに向上させることができる。特に、鏡面加工(研磨加工)を施すことにより、基材1の表面状態をより平滑なものとすることができ、これにより、時計用部品10の表面(第1の被膜2の表面22)の状態をより平滑なものとすることができる。その結果、第1の被膜2の表面22の表面積増加率を前記範囲内の値に容易に調整することができる。また、後に詳述する各種の膜(例えば、第1の被膜2)は、一般に比較的薄いものであるため、当該膜に鏡面加工(研磨加工)を施す場合に比べて、基材1に鏡面加工(研磨加工)を施した場合、加工が容易で、不良品の発生率を低下させることができる。
Thereby, for example, it becomes possible to give variations to the glossiness of the surface of the
鏡面加工は、例えば、周知の研磨方法を用いて行うことができ、例えば、バフ(羽布)研磨、バレル研磨、その他の機械研磨等を採用することができる。 The mirror surface processing can be performed using, for example, a well-known polishing method, and for example, buffing (bedding) polishing, barrel polishing, and other mechanical polishing can be employed.
≪第1の被膜≫
第1の被膜2は、Coを主成分とし、Crを26質量%以上30質量%以下の含有率、Moを5質量%以上7質量%以下の含有率で含む材料で構成されたものである。
≪First film≫
The
このような材料で構成された第1の被膜2は、貴金属を含んでいなくても優れた光沢感を呈し、審美性に優れている。また、耐食性、耐擦性、耐摩耗性等にも優れている。
The
第1の被膜2は、Coを主成分とするものであるが、第1の被膜2中におけるCoの含有率は、55質量%以上69質量%以下であるのが好ましく、62質量%以上68質量%以下であるのがより好ましく、63質量%以上67質量%以下であるのがさらに好ましい。
The
これにより、審美性、および、耐擦性・耐摩耗性をより高いレベルで両立することができる。 As a result, it is possible to achieve a higher level of aesthetics, rub resistance and wear resistance.
第1の被膜2中におけるCrの含有率は、26質量%以上30質量%以下であればよいが、26.2質量%以上29.8質量%以下であるのが好ましく、26.4質量%以上29.6質量%以下であるのがより好ましく、26.6質量%以上29.4質量%以下であるのがさらに好ましい。
The Cr content in the
これにより、審美性をより優れたものとしつつ、耐食性、耐擦性、耐摩耗性を特に優れたものとすることができる。 Thereby, while making aesthetics more excellent, corrosion resistance, abrasion resistance, and abrasion resistance can be made especially excellent.
第1の被膜2中におけるMoの含有率は、5質量%以上7質量%以下であればよいが、5.2質量%以上6.8質量%以下であるのが好ましく、5.3質量%以上6.7質量%以下であるのがより好ましく、5.4質量%以上6.6質量%以下であるのがさらに好ましい。
The Mo content in the
これにより、審美性、および、耐擦性・耐摩耗性をより高いレベルで両立することができる。 As a result, it is possible to achieve a higher level of aesthetics, rub resistance and wear resistance.
第1の被膜2は、上記以外の成分を含むものであってもよい。このような成分としては、例えば、Si、Mn、N、Fe、C、Ni、Ti、Al、Ag、Pt、Pd、Rh、Ir等が挙げられる。
The
ただし、第1の被膜2中におけるCo、CrおよびMo以外の成分の含有率(複数種の成分を含む場合にはこれらの含有率の和)は、3.0質量%以下であるのが好ましく、2.0質量%以下であるのがより好ましく、1.5質量%以下であるのがさらに好ましい。 However, the content of components other than Co, Cr and Mo in the first coating 2 (the sum of these content rates in the case of including a plurality of components) is preferably 3.0% by mass or less. 2.0% by mass or less, more preferably 1.5% by mass or less.
特に、第1の被膜2中における貴金属元素(Au、Ag、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、Os)の含有率(複数種の貴金属元素を含む場合はこれらの含有率の総和)は、1.0質量%以下であるのが好ましく、0.5質量%以下であるのがより好ましく、0.1質量%以下であるのがさらに好ましい。 In particular, the content of noble metal elements (Au, Ag, Pt, Pd, Rh, Ir, Ru, Os) in the first coating 2 (the sum of these content rates when containing multiple types of noble metal elements) is: It is preferably 1.0% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, and further preferably 0.1% by mass or less.
これにより、貴金属を主材料として使用しなくても、優れた外観が得られるという効果がより顕著に発揮される。 As a result, the effect that an excellent appearance can be obtained even when noble metal is not used as the main material is more remarkably exhibited.
第1の被膜2は、各部位で均一な組成を有するものであってもよいし、組成の異なる部位を有するものであってもよい。例えば、第1の被膜2は、複数の層が積層された積層体や、組成が傾斜的に変化する傾斜材料(例えば、厚さ方向に組成が傾斜的に変化する傾斜材料等)で構成されたもの等であってもよい。これにより、例えば、上記のような第1の被膜2を設けることによる効果を得つつ、第1の被膜2と基材1等との密着性をより優れたものとすることができ、時計用部品10の耐久性をより優れたものとすることができる。
The
第1の被膜2の表面22は、該表面22に対し原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が、0%以上1.2%以下であればよいが、0%以上1.1%以下であるのが好ましく、0%以上1.0%以下であるのがより好ましく、0%超0.9%以下であるのがさらに好ましい。
The
これにより、時計用部品10の明度がより高くなり、時計用部品10は、より明るい外観を呈するものとなり、時計用部品10の審美性はより優れたものとなる。
Thereby, the brightness of the
第1の被膜2の厚さは、0.02μm以上2.0μm以下であるのが好ましく、0.04μm以上1.8μm以下であるのがより好ましく、0.07μm以上1.6μm以下であるのがさらに好ましい。
The thickness of the
これにより、時計用部品10の生産コストを抑制しつつ、時計用部品10全体としての光沢感、審美性や、耐擦性、耐摩耗性等をより優れたものとすることができる。また、第1の被膜2の不本意な剥離等をより効果的に防止し、時計用部品10の耐久性をより優れたものとすることができる。
Thereby, while suppressing the production cost of the
第1の被膜2の形成方法は、特に限定されず、例えば、スピンコート、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法や、熱CVD、プラズマCVD、レーザーCVD等の化学蒸着法(CVD)、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、レーザーアブレーション等の乾式めっき法(気相成膜法)、溶射等が挙げられるが、乾式めっき法(気相成膜法)が好ましい。
The method for forming the
第1の被膜2の形成方法として乾式めっき法(気相成膜法)を適用することにより、均一な膜厚を有し、均質で、かつ、基材1等との密着性が特に優れた第1の被膜2を確実に形成することができる。その結果、時計用部品10の審美性、耐久性を特に優れたものとすることができる。
By applying a dry plating method (vapor phase film formation method) as a method of forming the
また、第1の被膜2の形成方法として乾式めっき法(気相成膜法)を適用することにより、形成すべき第1の被膜2が比較的薄いものであっても、膜厚の不本意なばらつきを十分に小さいものとすることができる。このため、時計用部品10の信頼性を向上させる上でも有利である。
Further, by applying a dry plating method (vapor phase film forming method) as a method for forming the
第1の被膜2をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるArガス流量は、50ccm以上150ccm以下であるのが好ましく、80ccm以上120ccm以下であるのがより好ましい。
When the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
第1の被膜2をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時における雰囲気圧力は、0.1Pa以上2.5Pa以下であるのが好ましく、0.2Pa以上1.0Pa以下であるのがより好ましい。
When the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
第1の被膜2をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるスパッタリング装置のパワーは、2kW以上15kW以下であるのが好ましく、6kW以上12kW以下であるのがより好ましい。
When the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
第1の被膜2をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるバイアス電圧は、−180V以上−70V以下であるのが好ましく、−150V以上−90V以下であるのがより好ましい。
When the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
第1の被膜2をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時における基材1の温度は、150℃以上250℃以下であるのが好ましく、180℃以上220℃以下であるのがより好ましい。
When forming the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
第1の被膜2は、例えば、表面に、鏡面加工(研磨加工)等の表面加工が施されたものであってもよい。
For example, the
これにより、第1の被膜2の表面22(時計用部品10の表面)の状態をより平滑なものとすることができ、より確実に第1の被膜2の表面22の表面積増加率を前記範囲内の値に調整することができる。
Thereby, the state of the
第1の被膜2の表面22(第1の被膜2が視認される側の面(時計用部品10の使用時において観察者の視点側の面))についてのJIS Z 8729で規定されるL*a*b*表示の色度図におけるL*は、78.5以上89.0以下であるのが好ましく、80.0以上88.5以下であるのがより好ましく、82.0以上88.0以下であるのがさらに好ましい。
L * defined by JIS Z 8729 on the
これにより、時計用部品10の明度がより高くなり、時計用部品10は、より明るい外観を呈するものとなり、時計用部品10の審美性はより優れたものとなる。
Thereby, the brightness of the
なお、L*の測定においては、光源として、JIS Z 8720で規定されるD65のものを用いることができる。また、L*の測定時における視野角は2°とすることができる。 In the measurement of L * , a light source of D65 defined by JIS Z 8720 can be used as the light source. The viewing angle at the time of measuring L * can be 2 °.
また、第1の被膜2の表面22(第1の被膜2が視認される側の面(時計用部品10の使用時において観察者の視点側の面))についてのJIS Z 8729で規定されるL*a*b*表示の色度図におけるa*は、−2.0以上3.0以下であるのが好ましく、−1.5以上2.5以下であるのがより好ましく、−1.0以上2.0以下であるのがさらに好ましい。
Further, JIS Z 8729 defines the
また、第1の被膜2の表面22(第1の被膜2が視認される側の面(時計用部品10の使用時において観察者の視点側の面))についてのJIS Z 8729で規定されるL*a*b*表示の色度図におけるb*は、−1.0以上10.0以下であるのが好ましく、0.0以上9.0以下であるのがより好ましく、1.0以上8.0以下であるのがさらに好ましい。
Further, JIS Z 8729 defines the
このような条件を満足することにより、時計用部品10の審美性は、特に優れたものとなる。
By satisfying such conditions, the aesthetics of the
なお、a*、b*の測定においては、光源として、JIS Z 8720で規定されるD65のものを用いることができる。また、a*、b*の測定時における視野角は2°とすることができる。 In the measurement of a * and b * , the light source of D65 defined by JIS Z 8720 can be used. The viewing angle at the time of measuring a * and b * can be 2 °.
時計用部品10は、時計を構成する部品であればいかなるものであってもよいが、時計の使用時において外部から視認しうる部品であるのが好ましく、具体的には、風防ガラス、ケース、ベゼル、裏蓋、バンド(バンドの駒、バンド中留、尾錠、バックル、バンド・バングル着脱機構等を含む)、文字板、時計用針、ローター、りゅうず(例えば、ネジロック式りゅうず等)、ボタン、ダイヤルリング、見切板等が挙げられ、中でも、ケースまたはバンドであるのが好ましい。
The
これらの部品(時計用部品)は、時計全体の外観に大きな影響を与えるものであるため、これらの部品に本発明が適用されることにより、時計全体としての審美性をより優れたものとすることができる。また、これらの部品は、時計の使用時等において、通常、外部に露出する部品であり、また、皮膚に接触しやすいものであり、各種部品の中でも、特に優れた耐擦性、耐摩耗性、耐アレルギー性(アレルギー反応の起こしにくさ)等に優れることが特に強く求められる。したがって、これらの部品に本発明が適用されることにより、前述したような本発明による効果がより顕著に発揮される。 Since these parts (parts for watches) have a great influence on the appearance of the entire watch, the present invention is applied to these parts, thereby improving the aesthetics of the watch as a whole. be able to. In addition, these parts are usually exposed to the outside when using a watch, etc., and are likely to come into contact with the skin. Among various parts, particularly excellent abrasion resistance and wear resistance. In particular, it is strongly required to have excellent allergic resistance (resistance to allergic reaction). Therefore, by applying the present invention to these components, the effects of the present invention as described above are more remarkably exhibited.
[第2実施形態]
次に、第2実施形態の時計用部品について説明する。
[Second Embodiment]
Next, the timepiece part of the second embodiment will be described.
図2は、本発明の時計用部品の第2実施形態を模式的に示す断面図である。以下の説明では、前述した実施形態との相違点について中心的に説明し、同様の事項についての説明は省略する。 FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a second embodiment of the timepiece part of the invention. In the following description, differences from the above-described embodiment will be mainly described, and description of similar matters will be omitted.
本実施形態の時計用部品10では、基材1の表面に、Tiを含む材料で構成された下地層(第1の下地層)3、および、Coを主成分とし、Crを26質量%以上30質量%以下の含有率、Moを5質量%以上7質量%以下の含有率で含む材料で構成された第1の被膜2がこの順に積層されている。言い換えると、本実施形態の時計用部品10では、基材1と第1の被膜2との間に、Tiを含む材料で構成された下地層3が設けられている。
In the
これにより、基材1と第1の被膜2との密着性をより優れたものとすることができるとともに、時計用部品10に加わる衝撃を緩和することができ、時計用部品10の耐久性をより優れたものとすることができる。また、基材1の表面を平滑化することができ、また、時計用部品10全体としての微妙な色味の調整を行うことができ、時計用部品10の審美性をより確実に優れたものとすることができる。
Thereby, while being able to make the adhesiveness of the
下地層3は、Ti以外の成分を含むものであってもよい。
ただし、下地層3中におけるTi以外の成分の含有率は、2.0質量%以下であるのが好ましく、1.0質量%以下であるのがより好ましく、0.5質量%以下であるのがさらに好ましい。
The
However, the content of components other than Ti in the
特に、下地層3中における貴金属元素(Au、Ag、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、Os)の含有率(複数種の貴金属元素を含む場合はこれらの含有率の総和)は、1.0質量%以下であるのが好ましく、0.5質量%以下であるのがより好ましく、0.1質量%以下であるのがさらに好ましい。 In particular, the content of the noble metal elements (Au, Ag, Pt, Pd, Rh, Ir, Ru, Os) in the underlayer 3 (the sum of these contents when a plurality of types of noble metal elements are included) is 1. The content is preferably 0% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, and further preferably 0.1% by mass or less.
下地層3の厚さは、0.01μm以上1.0μm以下であるのが好ましく、0.02μm以上0.5μm以下であるのがより好ましく、0.03μm以上0.3μm以下であるのがさらに好ましい。
The thickness of the
これにより、基材1と第1の被膜2との密着性や衝撃緩和の機能をさらに優れたものとすることができ、時計用部品10の耐久性をさらに優れたものとすることができるとともに、時計用部品10の生産性をより優れたものとし、時計用部品10の生産コストをより効果的に抑制することができる。また、基材1の表面を好適に平滑化させることができ、第1の被膜2の表面22の表面積増加率を前記範囲内の値に容易に調整することができる。
As a result, the adhesion between the
下地層3の形成方法は、特に限定されず、例えば、スピンコート、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法や、熱CVD、プラズマCVD、レーザーCVD等の化学蒸着法(CVD)、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、レーザーアブレーション等の乾式めっき法(気相成膜法)、溶射等が挙げられるが、乾式めっき法(気相成膜法)が好ましい。
The formation method of the
下地層3の形成方法として乾式めっき法(気相成膜法)を適用することにより、均一な膜厚を有し、均質で、かつ、基材1等との密着性が特に優れた下地層3を確実に形成することができる。その結果、時計用部品10の審美性、耐久性を特に優れたものとすることができる。
By applying a dry plating method (vapor phase film formation method) as a method for forming the
また、下地層3の形成方法として乾式めっき法(気相成膜法)を適用することにより、形成すべき下地層3が比較的薄いものであっても、膜厚の不本意なばらつきを十分に小さいものとすることができる。このため、時計用部品10の信頼性を向上させる上でも有利である。
Further, by applying a dry plating method (vapor deposition method) as a method for forming the
下地層3をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるArガス流量は、50ccm以上150ccm以下であるのが好ましく、80ccm以上120ccm以下であるのがより好ましい。
When the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
下地層3をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時における雰囲気圧力は、0.1Pa以上2.5Pa以下であるのが好ましく、0.2Pa以上1.0Pa以下であるのがより好ましい。
When the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
下地層3をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるスパッタリング装置のパワーは、2kW以上15kW以下であるのが好ましく、6kW以上12kW以下であるのがより好ましい。
When the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
下地層3をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるバイアス電圧は、−180V以上−70V以下であるのが好ましく、−150V以上−90V以下であるのがより好ましい。
When the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
下地層3をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時における基材1の温度は、150℃以上250℃以下であるのが好ましく、180℃以上220℃以下であるのがより好ましい。
When the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
下地層3は、例えば、表面に、鏡面加工(研磨加工)等の表面加工が施されたものであってもよい。
The
これにより、下地層3の表面状態をより平滑なものとすることができ、時計用部品10の表面(第1の被膜2の表面22)の状態をより平滑なものとすることができる。その結果、より確実に第1の被膜2の表面22の表面積増加率を前記範囲内の値に調整することができる。
Thereby, the surface state of the
[第3実施形態]
次に、第3実施形態の時計用部品について説明する。
[Third Embodiment]
Next, the timepiece part of the third embodiment will be described.
図3は、本発明の時計用部品の第3実施形態を模式的に示す断面図である。以下の説明では、前述した実施形態との相違点について中心的に説明し、同様の事項についての説明は省略する。 FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a third embodiment of the timepiece part of the invention. In the following description, differences from the above-described embodiment will be mainly described, and description of similar matters will be omitted.
本実施形態の時計用部品10では、基材1の表面に、Tiを含む材料で構成された下地層(第1の下地層)3、TiC、TiCNの少なくとも一方を含む材料で構成された第2の被膜4、および、Coを主成分とし、Crを26質量%以上30質量%以下の含有率、Moを5質量%以上7質量%以下の含有率で含む材料で構成された第1の被膜2がこの順に積層されている。言い換えると、基材1と第1の被膜2との間に、TiC、TiCNの少なくとも一方を含む材料で構成された第2の被膜4が設けられている以外は、前述した第2実施形態と同様である。
In the
これにより、時計用部品10の硬度をより高いものとすることができ、時計用部品10の耐打痕性(打痕の付き難さ)等をより優れたものとすることができるとともに、応力をより効果的に緩和することができ、時計用部品10の耐久性をより優れたものとすることができる。また、色味の調整(特に、光沢度の調整)を好適に行うことができる。
Thereby, the hardness of the
第2の被膜4は、TiC、TiCN以外の成分を含むものであってもよい。
ただし、第2の被膜4中におけるTiC、TiCN以外の成分の含有率は、2.0質量%以下であるのが好ましく、1.0質量%以下であるのがより好ましく、0.5質量%以下であるのがさらに好ましい。
The
However, the content of components other than TiC and TiCN in the
特に、第2の被膜4中における貴金属元素(Au、Ag、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、Os)の含有率(複数種の貴金属元素を含む場合はこれらの含有率の総和)は、1.0質量%以下であるのが好ましく、0.5質量%以下であるのがより好ましく、0.1質量%以下であるのがさらに好ましい。 In particular, the content of noble metal elements (Au, Ag, Pt, Pd, Rh, Ir, Ru, Os) in the second coating 4 (the sum of these content rates when containing multiple types of noble metal elements) is: It is preferably 1.0% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, and further preferably 0.1% by mass or less.
第2の被膜4は、各部位で均一な組成を有するものであってもよいし、組成の異なる部位を有するものであってもよい。例えば、第2の被膜4は、複数の層が積層された積層体等であってもよい。
The
特に、第2の被膜4は、厚さ方向に組成が傾斜的に変化する部位を有するものであるのが好ましい。
In particular, it is preferable that the
これにより、例えば、時計用部品10の耐打痕性、耐擦性、耐磨耗性等の向上や、色味の調整(特に、光沢度の調整)等といった第2の被膜4を設けることによる効果を得つつ、第2の被膜4と当該第2の被膜4に隣接する部位(図示の構成では下地層3および第1の被膜2)との密着性をより優れたものとすることができ、また、第2の被膜4の破壊(層内剥離等)をより効果的に防止することができ、時計用部品10の耐久性をより優れたものとすることができる。
Thereby, for example, the
第2の被膜4は、当該第2の被膜4の表面42側に向かってCおよびNの含有率の和が低下する領域を有するものであるのが好ましい。
The
これにより、例えば、時計用部品10の耐打痕性、耐擦性、耐磨耗性等の向上や、色味の調整(特に、光沢度の調整)等といった第2の被膜4を設けることによる効果を得つつ、第2の被膜4と当該第2の被膜4に隣接する部位(図示の構成では下地層3および第1の被膜2)との密着性をさらに優れたものとすることができ、また、第2の被膜4の破壊(層内剥離等)をさらに効果的に防止することができ、時計用部品10の耐久性をさらに優れたものとすることができる。
Thereby, for example, the
第2の被膜4は、当該第2の被膜4の厚さ方向の中央部から一方の表面側に向かって、CおよびNの含有率の和が低下する領域を有するものであってもよいが、当該第2の被膜4の厚さ方向の中央部から両面側にそれぞれ、CおよびNの含有率の和が低下する領域を有するものであるのが好ましい。
The
これにより、第2の被膜4と第2の被膜4の両面側に設けられた部位(図示の構成では、下地層3および第1の被膜2)との密着性を特に優れたものとすることができ、時計用部品10の耐久性を特に優れたものとすることができる。
Accordingly, the adhesion between the
第2の被膜4中においてCおよびNの含有率の和が最大となる部位(例えば、第2の被膜4の厚さ方向の中央部付近)でのCおよびNの含有率をX1[質量%]、第2の被膜4中においてCおよびNの含有率の和が最小となる部位(例えば、表面42またはこれと反対側の表面)でのCおよびNの含有率をX2[質量%]としたとき、1≦X1−X2≦20の関係を満足するのが好ましく、2≦X1−X2≦15の関係を満足するのがより好ましく、3≦X1−X2≦12の関係を満足するのがさらに好ましい。
これにより、前述したような効果がより顕著に発揮される。
The content of C and N at the portion where the sum of the C and N contents in the
Thereby, the effects as described above are more remarkably exhibited.
第2の被膜4の厚さは、0.05μm以上4.0μm以下であるのが好ましく、0.1μm以上2.0μm以下であるのがより好ましく、0.2μm以上1.5μm以下であるのがさらに好ましい。
The thickness of the
これにより、時計用部品10の硬度をさらに高いものとすることができ、時計用部品10の耐打痕性(打痕の付き難さ)等をより優れたものとし、時計用部品10の耐久性をさらに優れたものとすることができるとともに、時計用部品10の生産性をより優れたものとし、時計用部品10の生産コストをより効果的に抑制することができる。また、時計用部品10全体としての微妙な色味の調整をより好適に行うことができる。
Thereby, the hardness of the
また、下地層3が設けられているため、基材1と第2の被膜4との密着性がより優れたものとなっており、時計用部品10の耐久性が特に優れたものとなっている。
Further, since the
第2の被膜4の形成方法は、特に限定されず、例えば、スピンコート、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法や、熱CVD、プラズマCVD、レーザーCVD等の化学蒸着法(CVD)、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、レーザーアブレーション等の乾式めっき法(気相成膜法)、溶射等が挙げられるが、乾式めっき法(気相成膜法)が好ましい。
The method for forming the
第2の被膜4の形成方法として乾式めっき法(気相成膜法)を適用することにより、均一な膜厚を有し、均質で、かつ、下地層3等との密着性が特に優れた第2の被膜4を確実に形成することができる。その結果、時計用部品10の審美性、耐久性を特に優れたものとすることができる。
By applying a dry plating method (vapor phase film forming method) as a method for forming the
また、第2の被膜4の形成方法として乾式めっき法(気相成膜法)を適用することにより、形成すべき第2の被膜4が比較的薄いものであっても、膜厚の不本意なばらつきを十分に小さいものとすることができる。このため、時計用部品10の信頼性を向上させる上でも有利である。
In addition, by applying a dry plating method (vapor phase film forming method) as a method for forming the
第2の被膜4をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるArガス流量は、50ccm以上150ccm以下であるのが好ましく、80ccm以上120ccm以下であるのがより好ましい。
When the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
第2の被膜4をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるC2H2ガス流量は、10ccm以上50ccm以下であるのが好ましく、15ccm以上30ccm以下であるのがより好ましい。
When the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
第2の被膜4をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時における雰囲気圧力は、0.1Pa以上2.5Pa以下であるのが好ましく、0.2Pa以上1.0Pa以下であるのがより好ましい。
When the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
第2の被膜4をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるスパッタリング装置のパワーは、6kW以上15kW以下であるのが好ましく、7kW以上12kW以下であるのがより好ましい。
When the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
第2の被膜4をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるバイアス電圧は、−150V以上−30V以下であるのが好ましく、−120V以上−50V以下であるのがより好ましい。
When the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
第2の被膜4をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時における基材1の温度は、150℃以上250℃以下であるのが好ましく、180℃以上220℃以下であるのがより好ましい。
When forming the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
第2の被膜4は、例えば、表面に、鏡面加工(研磨加工)等の表面加工が施されたものであってもよい。
For example, the
これにより、第2の被膜4の表面状態をより平滑なものとすることができ、時計用部品10の表面(第1の被膜2の表面22)の状態をより平滑なものとすることができる。その結果、第1の被膜2の表面22の表面積増加率を前記範囲内の値に容易に調整することができる。
Thereby, the surface state of the
以上のような第2の被膜4は、前記第1実施形態に適用することもでき、同様の効果を発揮する。
The
[第4実施形態]
次に、第4実施形態の時計用部品について説明する。
[Fourth Embodiment]
Next, the timepiece part of the fourth embodiment will be described.
図4は、本発明の時計用部品の第4実施形態を模式的に示す断面図である。以下の説明では、前述した実施形態との相違点について中心的に説明し、同様の事項についての説明は省略する。 FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a fourth embodiment of the timepiece part of the invention. In the following description, differences from the above-described embodiment will be mainly described, and description of similar matters will be omitted.
本実施形態の時計用部品10では、基材1の表面に、Tiを含む材料で構成された下地層(第1の下地層)3、TiC、TiCNの少なくとも一方を含む材料で構成された第2の被膜4、Tiを含む材料で構成された下地層(第2の下地層)5、および、Coを主成分とし、Crを26質量%以上30質量%以下の含有率、Moを5質量%以上7質量%以下の含有率で含む材料で構成された第1の被膜2がこの順に積層されている。言い換えると、本実施形態では、基材1と第1の被膜2との間に、TiC、TiCNの少なくとも一方を含む材料で構成された第2の被膜4が設けられ、当該第2の被膜4の両面側にそれぞれ下地層3および5が設けられている。
In the
これにより、基材1と第2の被膜4との密着性だけでなく、第2の被膜4と第1の被膜2との密着性も優れたものとすることができ、また、時計用部品10に加わる衝撃をより効果的に緩和することができ、時計用部品10の耐久性をさらに優れたものとすることができる。また、第2の被膜4の表面を平滑化することができ、また、時計用部品10全体としての微妙な色味の調整を行うことができ、時計用部品10の審美性をより確実に優れたものとすることができる。
Thereby, not only the adhesion between the
下地層5は、Ti以外の成分を含むものであってもよい。
ただし、下地層5中におけるTi以外の成分の含有率は、2.0質量%以下であるのが好ましく、1.0質量%以下であるのがより好ましく、0.5質量%以下であるのがさらに好ましい。
The
However, the content of components other than Ti in the
特に、下地層5中における貴金属元素(Au、Ag、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、Os)の含有率(複数種の貴金属元素を含む場合はこれらの含有率の総和)は、1.0質量%以下であるのが好ましく、0.5質量%以下であるのがより好ましく、0.1質量%以下であるのがさらに好ましい。 In particular, the content of noble metal elements (Au, Ag, Pt, Pd, Rh, Ir, Ru, Os) in the underlayer 5 (the sum of these content rates when a plurality of types of noble metal elements are included) is 1. The content is preferably 0% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, and further preferably 0.1% by mass or less.
下地層5の厚さは、0.01μm以上1.0μm以下であるのが好ましく、0.02μm以上0.5μm以下であるのがより好ましく、0.03μm以上0.3μm以下であるのがさらに好ましい。
The thickness of the
これにより、第2の被膜4と第1の被膜2との密着性や、衝撃緩和の機能をさらに優れたものとすることができ、時計用部品10の耐久性をさらに優れたものとすることができるとともに、時計用部品10の生産性をより優れたものとし、時計用部品10の生産コストをより効果的に抑制することができる。また、第2の被膜4の表面の平滑化や、時計用部品10全体としての微妙な色味の調整をより好適に行うことができる。
Thereby, it is possible to further improve the adhesion between the
下地層5の形成方法は、特に限定されず、例えば、スピンコート、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法や、熱CVD、プラズマCVD、レーザーCVD等の化学蒸着法(CVD)、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、レーザーアブレーション等の乾式めっき法(気相成膜法)、溶射等が挙げられるが、乾式めっき法(気相成膜法)が好ましい。
The formation method of the
下地層5の形成方法として乾式めっき法(気相成膜法)を適用することにより、均一な膜厚を有し、均質で、かつ、第2の被膜4等との密着性が特に優れた下地層5を確実に形成することができる。その結果、時計用部品10の審美性、耐久性を特に優れたものとすることができる。
By applying a dry plating method (vapor phase film forming method) as a method for forming the
また、下地層5の形成方法として乾式めっき法(気相成膜法)を適用することにより、形成すべき下地層5が比較的薄いものであっても、膜厚の不本意なばらつきを十分に小さいものとすることができる。このため、時計用部品10の信頼性を向上させる上でも有利である。
Further, by applying a dry plating method (vapor phase film forming method) as the formation method of the
下地層5をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるArガス流量は、50ccm以上150ccm以下であるのが好ましく、80ccm以上120ccm以下であるのがより好ましい。
When the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
下地層5をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時における雰囲気圧力は、0.1Pa以上2.5Pa以下であるのが好ましく、0.2Pa以上1.0Pa以下であるのがより好ましい。
When the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
下地層5をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるスパッタリング装置のパワーは、2kW以上15kW以下であるのが好ましく、6kW以上12kW以下であるのがより好ましい。
When the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
下地層5をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるバイアス電圧は、−180V以上−70V以下であるのが好ましく、−150V以上−90V以下であるのがより好ましい。
When the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
下地層5をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時における基材1の温度は、150℃以上250℃以下であるのが好ましく、180℃以上220℃以下であるのがより好ましい。
When the
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第1の被膜2をより好適に形成することができる。
Thereby, even when post-processing such as polishing is omitted or simplified, it is possible to more suitably form the
下地層3は、例えば、表面に、鏡面加工(研磨加工)等の表面加工が施されたものであってもよい。
The
これにより、下地層3の表面状態をより平滑なものとすることができ、時計用部品10の表面(第1の被膜2の表面22)の状態をより平滑なものとすることができる。その結果、より確実に第1の被膜2の表面22の表面積増加率を前記範囲内の値に調整することができる。
Thereby, the surface state of the
[第5実施形態]
次に、第5実施形態の時計用部品について説明する。
[Fifth Embodiment]
Next, the timepiece part of the fifth embodiment will be described.
図5は、本発明の時計用部品の第5実施形態を模式的に示す断面図である。以下の説明では、前述した実施形態との相違点について中心的に説明し、同様の事項についての説明は省略する。 FIG. 5 is a sectional view schematically showing a fifth embodiment of the timepiece part of the invention. In the following description, differences from the above-described embodiment will be mainly described, and description of similar matters will be omitted.
本実施形態の時計用部品10では、基材1の表面に、Tiを含む材料で構成された下地層(第1の下地層)3、TiC、TiCNの少なくとも一方を含む材料で構成された第2の被膜4、Tiを含む材料で構成された下地層(第2の下地層)5、Coを主成分とし、Crを26質量%以上30質量%以下の含有率、Moを5質量%以上7質量%以下の含有率で含む材料で構成された第1の被膜2、および、フッ素含有有機ケイ素化合物を含む材料で構成されたコート層6がこの順に積層されている。言い換えると、第1の被膜2の外表面側に、フッ素含有有機ケイ素化合物を含む材料で構成されたコート層6が設けられている以外は、前述した第4実施形態と同様である。
In the
これにより、汚れの付着による審美性の低下をより効果的に防止することができる。また、汚れが付着した場合であっても、より容易に当該汚れを除去することができる。したがって、長期間にわたって、様々な環境下において、優れた審美性をさらに好適に保持することができる。また、フッ素含有有機ケイ素化合物を含む材料で構成されたコート層6を有することにより、防汚性だけでなく、手触り感、防水性等も向上する。また、フッ素含有有機ケイ素化合物は、時計用部品10全体としての外観に与える影響が小さいため、より確実に時計用部品10の審美性を優れたものとすることができる。
Thereby, the fall of the aesthetics by adhesion of dirt can be prevented more effectively. Moreover, even if dirt is attached, the dirt can be more easily removed. Therefore, excellent aesthetics can be more suitably maintained over a long period of time in various environments. In addition, by having the
フッ素含有有機ケイ素化合物の具体例としては、CF3(CF2)2C2H4Si(OCH3)3、CF3(CF2)4C2H4Si(OCH3)3、CF3(CF2)6C2H4Si(OCH3)3、CF3(CF2)8C2H4Si(OCH3)3、CF3(CF2)10C2H4Si(OCH3)3、CF3(CF2)12C2H4Si(OCH3)3、CF3(CF2)14C2H4Si(OCH3)3、CF3(CF2)16C2H4Si(OCH3)3、CF3(CF2)18C2H4Si(OCH3)3、CF3(CF2)6C2H4Si(OC2H5)3、CF3(CF2)8C2H4Si(OC2H5)3、CF3(CF2)6C2H4SiCl3、CF3(CF2)8C2H4SiCl3、CF3(CF2)6C3H6Si(OCH3)3、CF3(CF2)8C3H6Si(OCH3)3、CF3(CF2)6C3H6Si(OC2H5)3、CF3(CF2)8C3H6Si(OC2H5)3、CF3(CF2)6C3H6SiCl3、CF3(CF2)8C3H6SiCl3、CF3(CF2)6C4H8Si(OCH3)3、CF3(CF2)8C4H8Si(OCH3)3、CF3(CF2)6C4H8Si(OC2H5)3、CF3(CF2)8C4H8Si(OC2H5)3、CF3(CF2)6C2H4Si(CH3)(OCH3)2、CF3(CF2)8C2H4Si(CH3)(OCH3)2、CF3(CF2)6C2H4Si(CH3)Cl2、CF3(CF2)8C2H4Si(CH3)Cl2、CF3(CF2)6C2H4Si(C2H5)(OC2H5)2、CF3(CF2)8C2H4Si(C2H5)(OC2H5)2等が挙げられる。 Specific examples of the fluorine-containing organosilicon compound include CF 3 (CF 2 ) 2 C 2 H 4 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 4 C 2 H 4 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 ( CF 2) 6 C 2 H 4 Si (OCH 3) 3, CF 3 (CF 2) 8 C 2 H 4 Si (OCH 3) 3, CF 3 (CF 2) 10 C 2 H 4 Si (OCH 3) 3 CF 3 (CF 2 ) 12 C 2 H 4 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 14 C 2 H 4 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 16 C 2 H 4 Si ( OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 18 C 2 H 4 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 6 C 2 H 4 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 8 C 2 H 4 Si (OC 2 H 5 ) 3 CF 3 (CF 2 ) 6 C 2 H 4 SiCl 3 , CF 3 (CF 2 ) 8 C 2 H 4 SiCl 3 , CF 3 (CF 2 ) 6 C 3 H 6 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 ( CF 2) 8 C 3 H 6 Si (OCH 3) 3, CF 3 (CF 2) 6 C 3 H 6 Si (OC 2 H 5) 3, CF 3 (CF 2) 8 C 3 H 6 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 6 C 3 H 6 SiCl 3 , CF 3 (CF 2 ) 8 C 3 H 6 SiCl 3 , CF 3 (CF 2 ) 6 C 4 H 8 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2) 8 C 4 H 8 Si (OCH 3) 3, CF 3 (CF 2) 6 C 4 H 8 Si (OC 2 H 5) 3, CF 3 (CF 2) 8 C 4 H 8 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 6 C 2 H 4 Si (CH 3 ) (OCH 3 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 8 C 2 H 4 Si (CH 3 ) (OCH 3 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 6 C 2 H 4 Si (CH 3) Cl 2, CF 3 ( CF 2) 8 C 2 H 4 Si (CH 3) Cl 2, CF 3 (CF 2) 6 C 2 H 4 Si (C 2 H 5) (OC 2 H 5) 2, CF 3 (CF 2) 8 C 2 H 4 Si (C 2 H 5) (OC 2 H 5) 2 and the like.
また、フッ素含有有機ケイ素化合物としては、アミノ基を含有する化合物も好適に用いることができる。 Moreover, as a fluorine-containing organosilicon compound, the compound containing an amino group can also be used suitably.
アミノ基を含有するフッ素含有有機ケイ素化合物としては、例えば、C9F19CONH(CH2)3Si(OC2H5)3、C9F19CONH(CH2)3SiCl3、C9F19CONH(CH2)3Si(CH3)Cl2、C9F19CONH(CH2)NH(CH2)Si(OC2H5)3、C9F19CONH(CH2)5CONH(CH2)Si(OC2H5)3、C8F17SO2NH(CH2)5CONH(CH2)Si(OC2H5)3、C3F7O(CF(CF3)CF2O)2−CF(CF3)−CONH(CH2)Si(OC2H5)3、C3F7O(CF(CF3)CF2O)m’−CF(CF3)−CONH(CH2)Si(OCH3)3[ここで、m’は1以上の整数]等が挙げられる。 Examples of the fluorine-containing organosilicon compound containing an amino group include C 9 F 19 CONH (CH 2 ) 3 Si (OC 2 H 5 ) 3 , C 9 F 19 CONH (CH 2 ) 3 SiCl 3 , C 9 F 19 CONH (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) Cl 2 , C 9 F 19 CONH (CH 2 ) NH (CH 2 ) Si (OC 2 H 5 ) 3 , C 9 F 19 CONH (CH 2 ) 5 CONH ( CH 2) Si (OC 2 H 5) 3, C 8 F 17 SO 2 NH (CH 2) 5 CONH (CH 2) Si (OC 2 H 5) 3, C 3 F 7 O (CF (CF 3) CF 2 O) 2 -CF (CF 3 ) -CONH (CH 2) Si (OC 2 H 5) 3, C 3 F 7 O (CF (CF 3) CF 2 O) m '-CF (CF 3) -CONH (CH 2) S (OCH 3) 3 [where, m 'is an integer of 1 or more], and the like.
また、フッ素含有有機ケイ素化合物としては、例えば、Rf’(CH2)2SiCl3、Rf’(CH2)2Si(CH3)Cl2、(Rf’CH2CH2)2SiCl2、Rf’(CH2)2Si(OCH3)3、Rf’CONH(CH2)3Si(OC2H5)3、Rf’CONH(CH2)2NH(CH2)3Si(OC2H5)3、Rf’SO2N(CH3)(CH2)2CONH(CH2)3Si(OC2H5)3、Rf’(CH2)2OCO(CH2)2S(CH2)3Si(OCH3)3、Rf’(CH2)2OCONH(CH2)2Si(OC2H5)3、Rf’COO−Cy(OH)−(CH2)2Si(OCH3)3、Rf’(CH2)2NH(CH2)2Si(OCH3)3、およびRf’(CH2)2NH(CH2)2NH(CH2)2Si(OCH2CH2OCH3)3等を用いてもよい。上記の各式において、Cyはシクロヘキサン残基であり、Rf’は、炭素数4以上16以下のポリフルオロアルキル基である。
Examples of the fluorine-containing organosilicon compound include R f ′ (CH 2 ) 2 SiCl 3 , R f ′ (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) Cl 2 , (R f ′ CH 2 CH 2 ) 2 SiCl. 2, R f '(CH 2 ) 2 Si (OCH 3) 3, R f' CONH (CH 2) 3 Si (OC 2 H 5) 3, R f 'CONH (CH 2) 2 NH (CH 2) 3 Si (OC 2 H 5) 3 , R f 'SO 2 N (CH 3) (CH 2) 2 CONH (CH 2) 3 Si (OC 2 H 5) 3, R f' (CH 2) 2 OCO (
コート層6を構成するフッ素含有有機ケイ素化合物としては、特に、下記式(1)または下記式(2)で示される化合物が好ましい。
As the fluorine-containing organosilicon compound constituting the
式(1)中、Rf 1はパーフルオロアルキル基を示す。Xは臭素、ヨウ素または水素を示す。Yは水素または低級アルキル基を示し、Zはフッ素またはトリフルオロメチル基を示す。R1は加水分解可能な基を示し、R2は水素または不活性な1価の炭化水素基を示す。a、b、c、d、eは0または1以上の整数で、かつa+b+c+d+eは少なくとも1以上であり、a、b、c、d、eで括られた各繰り返し単位の存在順序は、式中において限定されない。fは0、1または2である。gは1、2または3である。hは1以上の整数である。 In formula (1), R f 1 represents a perfluoroalkyl group. X represents bromine, iodine or hydrogen. Y represents hydrogen or a lower alkyl group, and Z represents a fluorine or trifluoromethyl group. R 1 represents a hydrolyzable group, and R 2 represents hydrogen or an inert monovalent hydrocarbon group. a, b, c, d and e are 0 or an integer of 1 or more, and a + b + c + d + e is at least 1 or more. It is not limited in. f is 0, 1 or 2. g is 1, 2 or 3. h is an integer of 1 or more.
式(2)中、Rf 2は式:「−(CkF2k)O−」で示される単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する2価の基を示す。なお、式:「−(CkF2k)O−」におけるkは1以上6以下の整数である。R3は炭素原子数1以上8以下の1価炭化水素基であり、Wは加水分解性基またはハロゲン原子を示す。pは0、1または2であり、nは1以上5以下の整数である。mおよびrは、2または3である。 In formula (2), R f 2 is a divalent group having a linear perfluoropolyalkylene ether structure containing a unit represented by the formula: “— (C k F 2k ) O—” and having no branch. Indicates. Note that k in the formula: “— (C k F 2k ) O—” is an integer of 1 to 6. R 3 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and W represents a hydrolyzable group or a halogen atom. p is 0, 1 or 2, and n is an integer of 1 to 5. m and r are 2 or 3.
コート層6の厚さは、0.01μm以上1.0μm以下であるのが好ましく、0.02μm以上0.5μm以下であるのがより好ましく、0.03μm以上0.3μm以下であるのがさらに好ましい。
The thickness of the
以上のようなコート層6は、前記第1〜第4実施形態のいずれにも適用することができ、同様の効果を発揮する。
The
《時計》
次に、本発明の時計について説明する。
"clock"
Next, the timepiece of the invention will be described.
図6は、本発明の時計(腕時計)の好適な実施形態を模式的に示す部分断面図である。
本実施形態の腕時計(時計)W10は、胴(ケース)W22と、裏蓋W23と、ベゼル(縁)W24と、ガラス板(風防ガラス)W25とを備えている。また、ケースW22内には、図示しないムーブメント(例えば、文字板、針付きのもの)が収納されている。
FIG. 6 is a partial cross-sectional view schematically showing a preferred embodiment of the timepiece (watch) of the present invention.
The wristwatch (clock) W10 of the present embodiment includes a trunk (case) W22, a back cover W23, a bezel (edge) W24, and a glass plate (windshield) W25. In addition, in the case W22, a movement (not shown) (for example, one with a dial and a needle) is accommodated.
胴W22には巻真パイプW26が嵌入・固定され、この巻真パイプW26内にはりゅうずW27の軸部W271が回転可能に挿入されている。 A winding stem pipe W26 is fitted and fixed to the trunk W22, and a shaft portion W271 of a crown W27 is rotatably inserted into the winding stem pipe W26.
胴W22とベゼルW24とは、プラスチックパッキンW28により固定され、ベゼルW24とガラス板W25とはプラスチックパッキンW29により固定されている。 The body W22 and the bezel W24 are fixed by a plastic packing W28, and the bezel W24 and the glass plate W25 are fixed by a plastic packing W29.
また、胴W22に対し裏蓋W23が嵌合(または螺合)されており、これらの接合部(シール部)W50には、リング状のゴムパッキン(裏蓋パッキン)W40が圧縮状態で介挿されている。この構成によりシール部W50が液密に封止され、防水機能が得られる。 Further, a back cover W23 is fitted (or screwed) to the body W22, and a ring-shaped rubber packing (back cover packing) W40 is inserted in a compressed state at these joint portions (seal portions) W50. Has been. With this configuration, the seal portion W50 is sealed in a liquid-tight manner, and a waterproof function is obtained.
りゅうずW27の軸部W271の途中の外周には溝W272が形成され、この溝W272内にはリング状のゴムパッキン(りゅうずパッキン)W30が嵌合されている。ゴムパッキンW30は巻真パイプW26の内周面に密着し、該内周面と溝W272の内面との間で圧縮される。この構成により、りゅうずW27と巻真パイプW26との間が液密に封止され防水機能が得られる。なお、りゅうずW27を回転操作したとき、ゴムパッキンW30は軸部W271と共に回転し、巻真パイプW26の内周面に密着しながら周方向に摺動する。 A groove W272 is formed on the outer periphery of the shaft W271 of the crown W27, and a ring-shaped rubber packing (crown packing) W30 is fitted in the groove W272. The rubber packing W30 is in close contact with the inner peripheral surface of the winding stem pipe W26 and is compressed between the inner peripheral surface and the inner surface of the groove W272. With this configuration, the space between the crown W27 and the winding stem pipe W26 is sealed in a liquid-tight manner to obtain a waterproof function. When the crown W27 is rotated, the rubber packing W30 rotates together with the shaft portion W271 and slides in the circumferential direction while being in close contact with the inner peripheral surface of the winding stem pipe W26.
本発明の時計としての腕時計W10は、その構成部品のうち少なくとも1つが前述したような本発明の時計用部品で構成されたものである。言い換えると、本発明の時計は、本発明の時計用部品を備えたものである。 The wristwatch W10 as a timepiece of the present invention is constituted by at least one of the constituent parts of the timepiece part of the present invention as described above. In other words, the timepiece of the present invention includes the timepiece component of the present invention.
これにより、審美性に優れ(特に、明度が高く、明るい外観を呈し)、耐食性に優れるとともに、耐擦性、耐摩耗性にも優れる時計用部品を備えた時計W10を提供することができる。 Thereby, it is possible to provide a timepiece W10 including a timepiece component that is excellent in aesthetics (particularly, having high brightness and a bright appearance), excellent in corrosion resistance, and excellent in abrasion resistance and wear resistance.
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。 As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described, this invention is not limited to these.
例えば、本発明の時計用部品および時計では、各部の構成は、同様の機能を発揮する任意の構成のものに置換することができ、また、任意の構成を付加することもできる。
例えば、時計用部品は、Ti以外の材料で構成された下地層を備えるものや、フッ素含有有機ケイ素化合物以外の材料で構成されたコート層を備えるもの等であってもよい。
For example, in the timepiece component and timepiece of the present invention, the configuration of each part can be replaced with any configuration that exhibits the same function, and any configuration can be added.
For example, the timepiece component may be provided with a base layer made of a material other than Ti, or provided with a coat layer made of a material other than a fluorine-containing organosilicon compound.
また、前述した実施形態では、下地層を有する時計用部品の形態としては、1層または2層の下地層を有する構成について説明したが、時計用部品は、3層以上の下地層を備えるものであってもよい。また、前述した実施形態では、第2の被膜を有する時計用部品の形態としては、1層の第2の被膜を有する構成について説明したが、時計用部品は、2層以上の第2の被膜を備えるものであってもよい。 In the above-described embodiment, the configuration of the watch component having the base layer has been described with respect to the configuration having one or two base layers. However, the watch component includes three or more base layers. It may be. In the above-described embodiment, the configuration of the watch component having the second coating has been described with respect to the configuration having one layer of the second coating. However, the watch component has the second coating of two or more layers. May be provided.
また、時計用部品は、下地層と第2の被膜とのセットを複数備えるものであってもよい。 Moreover, the timepiece component may include a plurality of sets of the base layer and the second film.
また、前記実施形態では、時計用部品の使用時等における観察者の視点が、時計用部品の第1の被膜が設けられた面側である場合について中心的に説明したが、基材が透明性を有する材料で構成されたものである場合等には、観察者の視点が反対の面側であってもよい。言い換えると、基材を介して、第1の被膜が視認されるものであってもよい。このような場合、第1の被膜の観察者側の表面である基材と対向する側の表面が、前述したような表面積増加率の条件を満足していればよい。 Further, in the above-described embodiment, the case where the observer's viewpoint when using the watch part is the surface side on which the first coating of the watch part is provided has been mainly described, but the base material is transparent. In the case of a material made of a material having properties, the viewer's viewpoint may be on the opposite side. In other words, the first film may be visually recognized through the base material. In such a case, the surface on the side facing the base material, which is the surface on the observer side of the first film, only needs to satisfy the condition for the surface area increase rate as described above.
次に、本発明の具体的実施例について説明する。なお、以下の説明でのスパッタリングは、マグネトロンスパッタ装置(ProChina社製、AS14G)を用いて行った。 Next, specific examples of the present invention will be described. Sputtering in the following description was performed using a magnetron sputtering apparatus (manufactured by ProChina, AS14G).
[1]時計用部品の製造
(実施例1)
まず、腕時計用ケースに対応する形状の純Ti製の基材を用意した。
[1] Manufacture of watch parts (Example 1)
First, a pure Ti base material having a shape corresponding to a wristwatch case was prepared.
次に、基材の表面(第1の被膜が形成される側の表面)にバフ研磨を施し、当該表面について原子間力顕微鏡による測定を行ったところ、平坦面を基準としたときの表面積増加率は0.7%であった。 Next, the surface of the substrate (the surface on which the first film is formed) is subjected to buffing, and the surface is measured with an atomic force microscope. As a result, the surface area increases with respect to the flat surface. The rate was 0.7%.
次に、この研磨処理が施された基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を30秒間行い、次いで、中和を10秒間、水洗を10秒間、純水洗浄を10秒間行った。 Next, the substrate subjected to this polishing treatment was washed. As the cleaning of the substrate, first, alkaline electrolytic degreasing was performed for 30 seconds, then neutralization was performed for 10 seconds, water was washed for 10 seconds, and pure water was washed for 10 seconds.
次に、スパッタリングを行うことにより、基材の表面に、CoCrMo合金で構成された厚さ0.5μmの第1の被膜を形成し、時計用部品としての腕時計用ケースを得た。第1の被膜の形成時におけるArガス流量は100ccm、雰囲気圧力は0.3Pa、パワーは9kW、バイアス電圧は−120V、基材温度は200℃に設定した。 Next, sputtering was performed to form a first film having a thickness of 0.5 μm made of a CoCrMo alloy on the surface of the base material, thereby obtaining a watch case as a watch part. The Ar gas flow rate during the formation of the first coating was 100 ccm, the atmospheric pressure was 0.3 Pa, the power was 9 kW, the bias voltage was −120 V, and the substrate temperature was 200 ° C.
第1の被膜の表面(第2の面)は、原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が0.7%であった。 The surface area (second surface) of the first film had a surface area increase rate of 0.7% when measured with an atomic force microscope and based on a flat surface.
なお、原子間力顕微鏡を用いた測定は、サンプル表面の測定視野を変えた5箇所の5μm角の領域について行い、それぞれの領域について表面積増加率を求め、これらの平均値として表面積増加率を当該表面の表面積増加率とした。原子間力顕微鏡としては、ディジタル・インストルメント(Digital Instruments)社製の「ナノスコープIIIa」を用いた。以下の各実施例および各比較例についても同様である。 The measurement using an atomic force microscope is performed for five 5 μm square regions with different measurement fields on the sample surface, and the surface area increase rate is obtained for each region, and the surface area increase rate is calculated as the average value of these areas. The surface area increase rate was taken as the surface area. As the atomic force microscope, “Nanoscope IIIa” manufactured by Digital Instruments was used. The same applies to each of the following examples and comparative examples.
(実施例2)
基材として、研磨処理を施していないフェライト系ステンレス鋼であるSUS444製のもの(第1の被膜が形成される側の表面の原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が2.5%のもの)を用い、第1の被膜の表面にバフ研磨を施した以外は、前記実施例1と同様にして時計用部品(腕時計用ケース)を製造した。
(Example 2)
As a base material, a ferritic stainless steel made of SUS444 that is not subjected to polishing treatment (based on a flat surface when measured by an atomic force microscope on the surface on which the first film is formed) The watch part (watch case) was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the surface area increase rate was 2.5% and the surface of the first coating was buffed. did.
(実施例3)
まず、腕時計用ケースに対応する形状の純Ti製の基材を用意した。
(Example 3)
First, a pure Ti base material having a shape corresponding to a wristwatch case was prepared.
次に、基材の表面(下地層、第1の被膜が形成される側の表面)にバフ研磨を施し、当該表面について原子間力顕微鏡による測定を行ったところ、平坦面を基準としたときの表面積増加率は0.7%であった Next, when the surface of the substrate (the surface on which the first layer is formed) is subjected to buffing and the surface is measured with an atomic force microscope, the flat surface is used as a reference. The surface area increase rate was 0.7%
次に、この研磨処理が施された基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を30秒間行い、次いで、中和を10秒間、水洗を10秒間、純水洗浄を10秒間行った。 Next, the substrate subjected to this polishing treatment was washed. As the cleaning of the substrate, first, alkaline electrolytic degreasing was performed for 30 seconds, then neutralization was performed for 10 seconds, water was washed for 10 seconds, and pure water was washed for 10 seconds.
次に、スパッタリングを行うことにより、基材の表面に、Tiで構成された厚さ0.1μmの下地層(第1の下地層)を形成した。下地層の形成時におけるArガス流量は100ccm、雰囲気圧力は0.3Pa、パワーは9kW、バイアス電圧は−80V、基材温度は200℃に設定した。 Next, by performing sputtering, a 0.1 μm-thick underlayer (first underlayer) made of Ti was formed on the surface of the base material. During the formation of the underlayer, the Ar gas flow rate was set to 100 ccm, the atmospheric pressure was set to 0.3 Pa, the power was set to 9 kW, the bias voltage was set to −80 V, and the substrate temperature was set to 200 ° C.
引き続き、スパッタリングにより、下地層の表面にCoCrMo合金で構成された厚さ0.5μmの第1の被膜を形成し、時計用部品としての腕時計用ケースを得た。第1の被膜の形成時におけるArガス流量は100ccm、雰囲気圧力は0.3Pa、パワーは9kW、バイアス電圧は−120V、基材温度は200℃に設定した。 Subsequently, a first film having a thickness of 0.5 μm made of a CoCrMo alloy was formed on the surface of the underlayer by sputtering to obtain a watch case as a watch part. The Ar gas flow rate during the formation of the first coating was 100 ccm, the atmospheric pressure was 0.3 Pa, the power was 9 kW, the bias voltage was −120 V, and the substrate temperature was 200 ° C.
(実施例4)
基材として研磨処理を施していないSUS444製のもの(下地層、第1の被膜が形成される側の表面の原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が2.5%のもの)を用い、第1の被膜の形成時にターゲットとして用いたCoCrMo合金の組成を変更し、第1の被膜の形成後に当該第1の被膜の表面にバフ研磨を施した以外は、前記実施例3と同様にして時計用部品(腕時計用ケース)を製造した。
(Example 4)
Made of SUS444 that has not been subjected to polishing treatment as a base material (surface area based on a flat surface when measured by an atomic force microscope on the surface on the side on which the base layer and the first film are formed) The composition of the CoCrMo alloy used as the target at the time of forming the first film was changed, and the surface of the first film was buffed after the first film was formed. A watch component (watch case) was produced in the same manner as in Example 3 except that the above procedure was performed.
(実施例5)
まず、腕時計用ケースに対応する形状の純Ti製の基材を用意した。
次に、基材の表面(下地層、第2の被膜、第1の被膜が形成される側の表面)にバフ研磨を施し、当該表面について原子間力顕微鏡による測定を行ったところ、平坦面を基準としたときの表面積増加率は0.7%であった。
(Example 5)
First, a pure Ti base material having a shape corresponding to a wristwatch case was prepared.
Next, the surface of the base material (the surface on which the base layer, the second coating, and the first coating are formed) is subjected to buffing, and the surface is measured with an atomic force microscope. The surface area increase rate was 0.7% with reference to.
次に、この研磨処理が施された基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を30秒間行い、次いで、中和を10秒間、水洗を10秒間、純水洗浄を10秒間行った。 Next, the substrate subjected to this polishing treatment was washed. As the cleaning of the substrate, first, alkaline electrolytic degreasing was performed for 30 seconds, then neutralization was performed for 10 seconds, water was washed for 10 seconds, and pure water was washed for 10 seconds.
次に、スパッタリングを行うことにより、基材の表面に、Tiで構成された厚さ0.1μmの下地層を形成した。下地層の形成時におけるArガス流量は100ccm、雰囲気圧力は0.3Pa、パワーは9kW、バイアス電圧は−80V、基材温度は200℃に設定した。 Next, by performing sputtering, an underlayer having a thickness of 0.1 μm made of Ti was formed on the surface of the base material. During the formation of the underlayer, the Ar gas flow rate was set to 100 ccm, the atmospheric pressure was set to 0.3 Pa, the power was set to 9 kW, the bias voltage was set to −80 V, and the substrate temperature was set to 200 ° C.
引き続き、スパッタリングにより、下地層の表面にTiCで構成された厚さ0.35μmの第2の被膜を形成した。第2の被膜の形成時におけるArガス流量は100ccm、C2H2ガス流量は22ccm、雰囲気圧力は0.3Pa、パワーは9kW、バイアス電圧は−80V、基材温度は200℃に設定した。 Subsequently, a second film having a thickness of 0.35 μm made of TiC was formed on the surface of the underlayer by sputtering. During the formation of the second film, the Ar gas flow rate was set to 100 ccm, the C 2 H 2 gas flow rate was set to 22 ccm, the atmospheric pressure was set to 0.3 Pa, the power was set to 9 kW, the bias voltage was set to −80 V, and the substrate temperature was set to 200 ° C.
引き続き、スパッタリングにより、下地層の表面にCoCrMo合金で構成された厚さ0.5μmの第1の被膜を形成し、時計用部品としての腕時計用ケースを得た。第1の被膜の形成時におけるArガス流量は100ccm、雰囲気圧力は0.3Pa、パワーは9kW、バイアス電圧は−120V、基材温度は200℃に設定した。 Subsequently, a first film having a thickness of 0.5 μm made of a CoCrMo alloy was formed on the surface of the underlayer by sputtering to obtain a watch case as a watch part. The Ar gas flow rate during the formation of the first coating was 100 ccm, the atmospheric pressure was 0.3 Pa, the power was 9 kW, the bias voltage was −120 V, and the substrate temperature was 200 ° C.
(実施例6)
基材として研磨処理を施していないSUS444製のもの(下地層、第2の被膜、第1の被膜が形成される側の表面の原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が2.5%のもの)を用い、第1の被膜の形成時にターゲットとして用いたCoCrMo合金の組成を変更し、第1の被膜の形成後に当該第1の被膜の表面にバフ研磨を施した以外は、前記実施例5と同様にして時計用部品(腕時計用ケース)を製造した。
(Example 6)
Made of SUS444 that has not been subjected to polishing treatment as a base material (based on a flat surface when an atomic force microscope is used to measure the surface on which the underlayer, the second film, and the first film are formed) And the composition of the CoCrMo alloy used as a target at the time of forming the first film was changed, and the first film was formed after the first film was formed. A watch part (watch case) was manufactured in the same manner as in Example 5 except that the surface was buffed.
(実施例7)
まず、腕時計用ケースに対応する形状の純Ti製の基材を用意した。
次に、基材の表面(第1の下地層、第2の被膜、第2の下地層、第1の被膜が形成される側の表面)にバフ研磨を施し、当該表面について原子間力顕微鏡による測定を行ったところ、平坦面を基準としたときの表面積増加率は0.7%であった。
(Example 7)
First, a pure Ti base material having a shape corresponding to a wristwatch case was prepared.
Next, buffing is performed on the surface of the base material (the surface on which the first base layer, the second film, the second base layer, and the first film are formed), and the surface is subjected to an atomic force microscope. As a result of measurement, the surface area increase rate based on the flat surface was 0.7%.
次に、この研磨処理が施された基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を30秒間行い、次いで、中和を10秒間、水洗を10秒間、純水洗浄を10秒間行った。 Next, the substrate subjected to this polishing treatment was washed. As the cleaning of the substrate, first, alkaline electrolytic degreasing was performed for 30 seconds, then neutralization was performed for 10 seconds, water was washed for 10 seconds, and pure water was washed for 10 seconds.
次に、スパッタリングを行うことにより、基材の表面に、Tiで構成された厚さ0.1μmの第1の下地層を形成した。第1の下地層の形成時におけるArガス流量は100ccm、雰囲気圧力は0.3Pa、パワーは9kW、バイアス電圧は−80V、基材温度は200℃に設定した。 Next, a first underlayer having a thickness of 0.1 μm made of Ti was formed on the surface of the base material by sputtering. During the formation of the first underlayer, the Ar gas flow rate was set to 100 ccm, the atmospheric pressure was set to 0.3 Pa, the power was set to 9 kW, the bias voltage was set to −80 V, and the substrate temperature was set to 200 ° C.
引き続き、スパッタリングにより、第1の下地層の表面にTiCで構成された厚さ0.50μmの第2の被膜を形成した。第2の被膜の形成時におけるArガス流量は100ccm、雰囲気圧力は0.3Pa、パワーは9kW、バイアス電圧は−80V、基材温度は200℃に設定した。また、このとき、C2H2ガスの流量を10ccmから20ccmまで上昇させ、その後、C2H2ガスの流量を20ccmから10ccmまで低下させることにより、第2の被膜を、厚さの中心部付近でCおよびNの含有率の和が大きく、両表面に向かってCおよびNの含有率の和の値が漸減する傾斜材料で構成されたものとして形成した。 Subsequently, a second film having a thickness of 0.50 μm composed of TiC was formed on the surface of the first underlayer by sputtering. The Ar gas flow rate during the formation of the second coating was 100 ccm, the atmospheric pressure was 0.3 Pa, the power was 9 kW, the bias voltage was −80 V, and the substrate temperature was 200 ° C. Further, at this time, the flow rate of the C 2 H 2 gas is increased from 10 ccm to 20 ccm, and then the flow rate of the C 2 H 2 gas is decreased from 20 ccm to 10 ccm. The sum of the content ratios of C and N was large in the vicinity, and it was formed of a gradient material in which the value of the sum of the content ratios of C and N gradually decreased toward both surfaces.
引き続き、スパッタリングにより、第2の被膜の表面にTiで構成された厚さ0.05μmの第2の下地層を形成した。第2の下地層の形成時におけるArガス流量は100ccm、雰囲気圧力は0.3Pa、パワーは9kW、バイアス電圧は−80V、基材温度は200℃に設定した。 Subsequently, a second underlayer having a thickness of 0.05 μm made of Ti was formed on the surface of the second coating by sputtering. At the time of forming the second underlayer, the Ar gas flow rate was set to 100 ccm, the atmospheric pressure was set to 0.3 Pa, the power was set to 9 kW, the bias voltage was set to −80 V, and the substrate temperature was set to 200 ° C.
引き続き、スパッタリングにより、第2の下地層の表面にCoCrMo合金で構成された厚さ0.5μmの第1の被膜を形成し、時計用部品としての腕時計用ケースを得た。なお、第1の被膜の形成時において、Arガス流量は100ccm、雰囲気圧力は0.3Pa、基材温度は200℃に設定し、パワーを1kWから9kWへと経時的に変化させ、また、バイアス電圧を−80Vから−120Vへと経時的に変化させることにより、第1の被膜を、厚さ方向で組成、膜質が傾斜的に変化する傾斜材料として形成した。 Subsequently, a first film having a thickness of 0.5 μm made of a CoCrMo alloy was formed on the surface of the second underlayer by sputtering to obtain a watch case as a watch part. At the time of forming the first film, the Ar gas flow rate was set to 100 ccm, the atmospheric pressure was set to 0.3 Pa, the substrate temperature was set to 200 ° C., the power was changed from 1 kW to 9 kW over time, and the bias By changing the voltage from −80 V to −120 V over time, the first film was formed as a gradient material in which the composition and film quality varied in the thickness direction.
(実施例8)
基材として研磨処理を施していないSUS444製のもの(第1の下地層、第2の被膜、第2の下地層、第1の被膜が形成される側の表面の原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が2.5%のもの)を用いるとともに、各膜(各層)の成膜時間を変更し、さらに、第1の被膜の形成後に当該第1の被膜の表面にバフ研磨を施すことにより、表1に示すような構成となるようにした以外は、前記実施例7と同様にして時計用部品(腕時計用ケース)を製造した。
(Example 8)
Made of SUS444 that has not been subjected to polishing treatment as a substrate (measurement by means of an atomic force microscope on the surface on which the first underlayer, the second coating, the second underlayer, and the first coating are formed) The surface area increase rate with respect to the flat surface as a reference is 2.5%), the film formation time of each film (each layer) is changed, and further, after the formation of the first film A watch component (watch case) was manufactured in the same manner as in Example 7 except that the surface of the first coating was buffed to obtain the structure shown in Table 1.
(実施例9)
まず、腕時計用ケースに対応する形状の純Ti製の基材を用意した。
次に、基材の表面(第1の下地層、第2の被膜、第2の下地層、第1の被膜、コート層が形成される側の表面)にバフ研磨を施し、当該表面について原子間力顕微鏡による測定を行ったところ、平坦面を基準としたときの表面積増加率は0.7%であった。
Example 9
First, a pure Ti base material having a shape corresponding to a wristwatch case was prepared.
Next, buffing is performed on the surface of the base material (the surface on which the first base layer, the second coating, the second base layer, the first coating, and the coating layer are formed), and the surface is atomized. As a result of measurement with an atomic force microscope, the surface area increase rate with respect to the flat surface was 0.7%.
次に、この研磨処理が施された基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を30秒間行い、次いで、中和を10秒間、水洗を10秒間、純水洗浄を10秒間行った。 Next, the substrate subjected to this polishing treatment was washed. As the cleaning of the substrate, first, alkaline electrolytic degreasing was performed for 30 seconds, then neutralization was performed for 10 seconds, water was washed for 10 seconds, and pure water was washed for 10 seconds.
次に、スパッタリングを行うことにより、基材の表面に、Tiで構成された厚さ0.1μmの第1の下地層を形成した。第1の下地層の形成時におけるArガス流量は100ccm、雰囲気圧力は0.3Pa、パワーは9kW、バイアス電圧は−80V、基材温度は200℃に設定した。 Next, a first underlayer having a thickness of 0.1 μm made of Ti was formed on the surface of the base material by sputtering. During the formation of the first underlayer, the Ar gas flow rate was set to 100 ccm, the atmospheric pressure was set to 0.3 Pa, the power was set to 9 kW, the bias voltage was set to −80 V, and the substrate temperature was set to 200 ° C.
引き続き、スパッタリングにより、第1の下地層の表面にTiCで構成された厚さ0.35μmの第2の被膜を形成した。第2の被膜の形成時におけるArガス流量は100ccm、C2H2ガス流量は22ccm、雰囲気圧力は0.3Pa、パワーは9kW、バイアス電圧は−80V、基材温度は200℃に設定した。 Subsequently, a second film having a thickness of 0.35 μm made of TiC was formed on the surface of the first underlayer by sputtering. During the formation of the second film, the Ar gas flow rate was set to 100 ccm, the C 2 H 2 gas flow rate was set to 22 ccm, the atmospheric pressure was set to 0.3 Pa, the power was set to 9 kW, the bias voltage was set to −80 V, and the substrate temperature was set to 200 ° C.
引き続き、スパッタリングにより、第2の被膜の表面にTiで構成された厚さ0.05μmの第2の下地層を形成した。第2の下地層の形成時におけるArガス流量は100ccm、雰囲気圧力は0.3Pa、パワーは9kW、バイアス電圧は−80V、基材温度は200℃に設定した。 Subsequently, a second underlayer having a thickness of 0.05 μm made of Ti was formed on the surface of the second coating by sputtering. At the time of forming the second underlayer, the Ar gas flow rate was set to 100 ccm, the atmospheric pressure was set to 0.3 Pa, the power was set to 9 kW, the bias voltage was set to −80 V, and the substrate temperature was set to 200 ° C.
引き続き、スパッタリングにより、第2の下地層の表面にCoCrMo合金で構成された厚さ0.5μmの第1の被膜を形成した。第1の被膜の形成時におけるArガス流量は100ccm、雰囲気圧力は0.3Pa、パワーは9kW、バイアス電圧は−120V、基材温度は200℃に設定した。 Subsequently, a first film having a thickness of 0.5 μm made of a CoCrMo alloy was formed on the surface of the second underlayer by sputtering. The Ar gas flow rate during the formation of the first coating was 100 ccm, the atmospheric pressure was 0.3 Pa, the power was 9 kW, the bias voltage was −120 V, and the substrate temperature was 200 ° C.
次に、以下のようにして、第1の被膜の表面に、フッ素含有有機ケイ素化合物で構成された厚さ0.03μmのコート層を形成し、時計用部品としての腕時計用ケースを得た。 Next, a 0.03 μm-thick coat layer composed of a fluorine-containing organosilicon compound was formed on the surface of the first film as described below to obtain a watch case as a watch part.
すなわち、まず、フッ素含有有機ケイ素化合物(信越化学工業社製、KY−130(3))をフッ素系溶剤(信越化学工業社製、FRシンナー)で希釈して固形分3質量%となるように調製したものを、スチールウール(日本スチールウール社製、#0、線径0.025mm)0.5gが前もって充填された容器(上方が解放された円筒形の銅製容器、内径16mm×内高さ6mm)に、1.0g充填して、120℃で1時間乾燥した。次に、この銅製容器を、第1の下地層、第2の被膜、第2の下地層および第1の被膜が形成された基材とともに、真空蒸発装置内に載置し、装置内を0.01Paの圧力とした後、0.6Å/sの膜形成速度(蒸着速度)となるように銅製容器からフッ素含有有機ケイ素化合物を蒸発させた。加熱源としてはモリブデン製抵抗加熱ボートを用いた。
That is, first, a fluorine-containing organosilicon compound (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KY-130 (3)) is diluted with a fluorine-based solvent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., FR thinner) so as to have a solid content of 3% by mass. The prepared one was pre-filled with 0.5 g of steel wool (manufactured by Nippon Steel Wool Co., # 0, wire diameter 0.025 mm) (cylindrical copper container with open top, inner diameter 16 mm ×
(実施例10)
基材として研磨処理を施していないSUS444製のもの(第1の下地層、第2の被膜、第2の下地層、第1の被膜、コート層が形成される側の表面の原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が2.5%のもの)を用い、第1の被膜の形成後に当該第1の被膜の表面にバフ研磨を施した以外は、前記実施例9と同様にして時計用部品(腕時計用ケース)を製造した。
(Example 10)
Made of SUS444 that has not been subjected to polishing treatment as a base material (atomic force microscope on the surface on which the first base layer, the second coating, the second base layer, the first coating, and the coating layer are formed) And the surface of the first coating was buffed after the first coating was formed using a surface area increase rate of 2.5% with respect to a flat surface. Except for the above, a watch part (watch case) was manufactured in the same manner as in Example 9.
(比較例1)
CoCrMo合金で構成された第1の被膜の代わりに、Ptからなる膜を形成した以外は、前記実施例1と同様にして時計用部品(腕時計用ケース)を製造した。
(Comparative Example 1)
A watch part (watch case) was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a film made of Pt was formed instead of the first film made of the CoCrMo alloy.
(比較例2〜5)
第1の被膜の形成時にターゲットとして用いたCoCrMo合金の組成を変更した以外は、前記実施例1と同様にして時計用部品(腕時計用ケース)を製造した。
(Comparative Examples 2 to 5)
A watch part (watch case) was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the composition of the CoCrMo alloy used as a target during the formation of the first film was changed.
(比較例6)
基材として、研磨処理を施していない純Ti製のもの(第1の被膜が形成される側の表面の原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が2.5%のもの)を用い、第1の被膜の形成条件(設定条件)を、Arガス流量:100ccm、雰囲気圧力:3Pa、パワー:1kW、バイアス電圧:−60V、基材温度:120℃に変更した以外は、前記実施例1と同様にして時計用部品(腕時計用ケース)を製造した。
(Comparative Example 6)
Base material made of pure Ti that has not been subjected to polishing treatment (surface area increase when measured with an atomic force microscope on the surface on the side where the first film is formed, based on a flat surface The first film is formed under the following conditions (setting conditions): Ar gas flow rate: 100 ccm, atmospheric pressure: 3 Pa, power: 1 kW, bias voltage: −60 V, substrate temperature: A watch part (watch case) was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the temperature was changed to 120 ° C.
(比較例7)
基材として研磨処理を施していない純Ti製のもの(下地層、第2の被膜、第1の被膜が形成される側の表面の原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が2.5%のもの)を用い、第2の被膜の形成条件(設定条件)を、Arガス流量:100ccm、C2H2ガス流量:22ccm、雰囲気圧力:3Pa、パワー:5kW、バイアス電圧:−80V、基材温度:120℃に変更し、第1の被膜の形成条件を、Arガス流量:100ccm、雰囲気圧力:3Pa、パワー:1kW、バイアス電圧:−60V、基材温度:120℃に変更した以外は、前記実施例5と同様にして時計用部品(腕時計用ケース)を製造した。
(Comparative Example 7)
Made of pure Ti that has not been subjected to polishing treatment as a base material (a flat surface when an atomic force microscope is used to measure the surface on which the base layer, the second film, and the first film are formed) The surface area increase rate when the standard is 2.5%) is used, and the formation conditions (setting conditions) of the second coating are Ar gas flow rate: 100 ccm, C 2 H 2 gas flow rate: 22 ccm, and atmospheric pressure: 3 Pa, power: 5 kW, bias voltage: −80 V, substrate temperature: 120 ° C., the first film formation conditions were Ar gas flow rate: 100 ccm, atmospheric pressure: 3 Pa, power: 1 kW, bias voltage: − A watch part (watch case) was manufactured in the same manner as in Example 5 except that the temperature was changed to 60 V and the base material temperature: 120 ° C.
各実施例および各比較例の時計用部品の構成を表1にまとめて示す。なお、比較例1については、Ptからなる膜の条件を第1の被膜の欄に示した。また、第1の被膜中における表1に示した以外の成分の含有率(複数の成分の含有率の和)は、各実施例および各比較例のいずれについても、1.5質量%以下であった。また、時計用部品を構成する各部位について、表中に示す成分の含有率は、いずれも、99.9質量%以上であった。 Table 1 summarizes the configurations of the timepiece parts of each example and each comparative example. For Comparative Example 1, the conditions of the film made of Pt are shown in the column of the first film. In addition, the content of components other than those shown in Table 1 in the first coating (sum of the content of a plurality of components) is 1.5% by mass or less for each example and each comparative example. there were. Moreover, the content rate of the component shown in the table | surface about each site | part which comprises the components for timepieces was all 99.9 mass% or more.
[2]評価
[2−1]目視による外観評価
前記各実施例および各比較例で製造した各時計用部品について、目視による観察を行い、以下の基準に従い評価した。
[2] Evaluation [2-1] Visual appearance evaluation Each watch part manufactured in each of the above Examples and Comparative Examples was visually observed and evaluated according to the following criteria.
A:高級感に溢れ、高い光沢感を有する極めて優れた外観を呈する。
B:高級感に溢れ、高い光沢感を有する非常に優れた外観を呈する。
C:高級感があり、高い光沢感を有する優れた外観を呈する。
D:光沢感が不十分でやや劣った外観を呈する。
E:光沢感が低く劣った外観を呈する。
A: It is full of luxury and exhibits a very excellent appearance with high gloss.
B: It is full of luxury and exhibits a very excellent appearance with high gloss.
C: It has a high-class feeling and exhibits an excellent appearance with high gloss.
D: Appears slightly inferior due to insufficient gloss.
E: Low gloss and poor appearance.
[2−2]分光測色計による外観評価
[2−2−1]L*についての評価
前記各実施例および各比較例で製造した時計用部品について、分光測色計(コニカミノルタ社製、CM−5)を用いた測定を行い、以下の基準に従い評価した。
[2-2] Appearance evaluation using a spectrocolorimeter [2-2-1] Evaluation of L * For the timepiece parts manufactured in the examples and comparative examples, a spectrocolorimeter (manufactured by Konica Minolta, Measurement using CM-5) was performed and evaluated according to the following criteria.
A:JIS Z 8729で規定されるL*a*b*表示の色度図において、L*が82.0以上88.0以下の範囲内である。
B:JIS Z 8729で規定されるL*a*b*表示の色度図において、L*が80.0以上88.5以下の範囲内である(ただし、Aの範囲を除く)。
C:JIS Z 8729で規定されるL*a*b*表示の色度図において、L*が78.5以上89.0以下の範囲内である(ただし、AおよびBの範囲を除く)。
D:JIS Z 8729で規定されるL*a*b*表示の色度図において、L*が74.0以上78.5未満の範囲内である。
E:JIS Z 8729で規定されるL*a*b*表示の色度図において、L*が89.0超または74.0未満の値である。
A: In the chromaticity diagram of L * a * b * display defined by JIS Z 8729, L * is in the range of 82.0 or more and 88.0 or less.
B: In the chromaticity diagram of L * a * b * display specified by JIS Z 8729, L * is in the range of 80.0 or more and 88.5 or less (excluding the range of A).
C: In the chromaticity diagram of L * a * b * display specified by JIS Z 8729, L * is in the range of 78.5 or more and 89.0 or less (except for the ranges of A and B).
D: In the chromaticity diagram of L * a * b * display defined by JIS Z 8729, L * is in the range of 74.0 or more and less than 78.5.
E: In the chromaticity diagram of L * a * b * display specified by JIS Z 8729, L * is a value greater than 89.0 or less than 74.0.
なお、分光測色計の光源としては、JIS Z 8720で規定されるD65のものを用い、視野角:2°で測定した。 In addition, as a light source of a spectrocolorimeter, the thing of D65 prescribed | regulated by JISZ8720 was used, and it measured by the viewing angle: 2 degrees.
[2−2−2]a*およびb*についての評価
前記各実施例および各比較例で製造した時計用部品について、分光測色計(コニカミノルタ社製、CM−5)を用いた測定を行い、以下の基準に従い評価した。
[2-2-2] Evaluation of a * and b * For the timepiece parts manufactured in each of the above examples and comparative examples, measurement using a spectrocolorimeter (Konica Minolta, CM-5) was performed. And evaluated according to the following criteria.
A:JIS Z 8729で規定されるL*a*b*表示の色度図において、a*が−1.0以上2.0以下でありかつb*が1.0以上8.0以下の範囲内である。
B:JIS Z 8729で規定されるL*a*b*表示の色度図において、a*が−1.5以上2.5以下でありかつb*が0.0以上9.0以下の範囲内である(ただし、Aの範囲を除く)。
C:JIS Z 8729で規定されるL*a*b*表示の色度図において、a*が−2.0以上3.0以下でありかつb*が−1.0以上10.0以下の範囲内である(ただし、AおよびBの範囲を除く)。
D:JIS Z 8729で規定されるL*a*b*表示の色度図において、a*が−3.0以上4.0以下でありかつb*が−2.0以上11.0以下の範囲内である(ただし、A、BおよびCの範囲を除く)。
E:JIS Z 8729で規定されるL*a*b*表示の色度図において、a*が−3.0以上4.0以下でありかつb*が−2.0以上11.0以下の範囲外である。
A: In the chromaticity diagram of L * a * b * display defined by JIS Z 8729, a * is in the range of −1.0 to 2.0 and b * is in the range of 1.0 to 8.0. Is within.
B: In the chromaticity diagram of L * a * b * display specified in JIS Z 8729, a * is in the range of −1.5 to 2.5 and b * is in the range of 0.0 to 9.0. (Except the range of A).
C: In the chromaticity diagram of L * a * b * display specified by JIS Z 8729, a * is −2.0 to 3.0 and b * is −1.0 to 10.0 Within range (excluding ranges A and B).
D: In the chromaticity diagram of L * a * b * display defined by JIS Z 8729, a * is −3.0 to 4.0 and b * is −2.0 to 11.0 Within range (except A, B, and C ranges).
E: In the chromaticity diagram of L * a * b * display specified by JIS Z 8729, a * is −3.0 or more and 4.0 or less and b * is −2.0 or more and 11.0 or less. Out of range.
なお、分光測色計の光源としては、JIS Z 8720で規定されるD65のものを用い、視野角:2°で測定した。 In addition, as a light source of a spectrocolorimeter, the thing of D65 prescribed | regulated by JISZ8720 was used, and it measured by the viewing angle: 2 degrees.
[2−3]耐食性評価
デシケーター内に人工汗を入れ、45℃で12時間放置した。その後、デシケーター内に、各時計用部品を入れ、さらに45℃で放置した。このとき、各時計用部品は、人工汗中に浸漬しないように配置した。120時間後、各時計用部品をデシケーター内から取り出し、時計用部品の色調を分光測色計(コニカミノルタ社製、CM−5)を用いて測定し、前記曝気試験を行う前後での色差を求め、以下の基準に従い評価した。
[2-3] Evaluation of corrosion resistance Artificial sweat was put in a desiccator and left at 45 ° C. for 12 hours. Thereafter, each watch component was placed in a desiccator and further left at 45 ° C. At this time, each watch component was arranged so as not to be immersed in artificial sweat. After 120 hours, each watch part is taken out from the desiccator, and the color tone of the watch part is measured using a spectrocolorimeter (Konica Minolta, CM-5), and the color difference before and after the aeration test is performed. And evaluated according to the following criteria.
A:色差ΔEが3未満である。
B:色差ΔEが3以上4未満である。
C:色差ΔEが4以上5未満である。
D:色差ΔEが5以上6未満である。
E:色差ΔEが6以上である。
A: Color difference ΔE is less than 3.
B: Color difference ΔE is 3 or more and less than 4.
C: Color difference ΔE is 4 or more and less than 5.
D: Color difference ΔE is 5 or more and less than 6.
E: Color difference ΔE is 6 or more.
なお、分光測色計の光源としては、JIS Z 8720で規定されるD65のものを用い、視野角:2°で測定した。 In addition, as a light source of a spectrocolorimeter, the thing of D65 prescribed | regulated by JISZ8720 was used, and it measured by the viewing angle: 2 degrees.
[2−4]耐擦傷性・耐磨耗性評価
前記各実施例および各比較例で製造した各時計用部品について、以下に示すような試験を行い、耐擦傷性・耐磨耗性を評価した。
[2-4] Scratch resistance and abrasion resistance evaluation Each watch component manufactured in each of the above Examples and Comparative Examples was subjected to the following tests to evaluate the scratch resistance and abrasion resistance. did.
スガ磨耗試験機(スガ試験機社製、NUS−ISO−1)を用いて、荷重:200gfという条件で、各時計用部品の表面を、合計300DS(ダブルストローク)磨耗した後の各時計用部品の外観を目視により観察し、これらの外観を以下の基準に従い評価した。なお、上記試験は、住友スリーエム社製、ラッピングフィルム(酸化アルミニウム、粒度:30μm)を用いて行った。 Using a Suga Abrasion Tester (Suga Test Instruments Co., Ltd., NUS-ISO-1), each watch component after the surface of each watch component was worn for a total of 300 DS (double stroke) under the condition of load: 200 gf The external appearance was visually observed, and the external appearance was evaluated according to the following criteria. The test was performed using a wrapping film (aluminum oxide, particle size: 30 μm) manufactured by Sumitomo 3M Limited.
A:表面に傷の発生が全く認められない。
B:表面に傷の発生がほとんど認められない。
C:表面に傷の発生がわずかに認められる。
D:表面に傷の発生が顕著に認められる。または、被膜(第1の被膜、コート層等)の剥離が認められる。
A: No scratches are observed on the surface.
B: Scratches are hardly observed on the surface.
C: Slight scratches are observed on the surface.
D: Scratches are significantly observed on the surface. Or peeling of a film (a 1st film, a coat layer, etc.) is recognized.
[2−5]耐打痕性評価
前記各実施例および各比較例で製造した各時計用部品について、以下に示すような試験を行うことにより、耐打痕性を評価した。
[2-5] Evaluation of dent resistance The dent resistance was evaluated by performing the following test on each timepiece part manufactured in each of the above Examples and Comparative Examples.
各時計用部品の特定の部位に向けて、ステンレス鋼製の球(径1cm)を高さ100cmの位置から落下させて、時計用部品表面の凹みの大きさ(凹み痕の直径)の測定を行い、以下の基準に従い評価した。
A stainless steel ball (
A:凹み痕の直径が0.5mm未満、または、凹み痕が求められない。
B:凹み痕の直径が0.5mm以上1.0mm未満。
C:凹み痕の直径が1.0mm以上1.5mm未満。
D:凹み痕の直径が1.5mm以上。
これらの結果を、表2にまとめて示す。
A: The diameter of the dent mark is less than 0.5 mm, or the dent mark is not required.
B: The diameter of the dent mark is 0.5 mm or more and less than 1.0 mm.
C: The diameter of the dent mark is 1.0 mm or more and less than 1.5 mm.
D: The diameter of the dent mark is 1.5 mm or more.
These results are summarized in Table 2.
表2から明らかなように、本発明では優れた結果が得られた。また、国際皮膚学会によるICDRGの基準に基づくパッチテストを行ったところ、本発明の時計用部品では、アレルギー反応は確認されなかった。また、JCWA−T003、EN1811に基づく人口汗による溶出テストを行ったところ、アレルギー反応が問題となる成分の溶出は確認されなかった。これに対し、比較例では満足のいく結果が得られなかった。また、フッ素含有有機ケイ素化合物を含む材料で構成されたコート層を有する実施例9、10の時計用部品では、防汚性、手触り感等が特に優れていた。 As is apparent from Table 2, excellent results were obtained in the present invention. Further, when a patch test based on the ICDRG standard by the International Dermatological Association was performed, no allergic reaction was confirmed in the watch part of the present invention. Further, when an elution test by artificial sweat based on JCWA-T003 and EN1811 was performed, elution of components causing an allergic reaction was not confirmed. On the other hand, satisfactory results were not obtained in the comparative example. In addition, the timepiece parts of Examples 9 and 10 having a coat layer made of a material containing a fluorine-containing organosilicon compound were particularly excellent in antifouling property, touch feeling and the like.
基材の形状をバンドに変更した以外は、前記各実施例および各比較例と同様にして時計用部品(バンド)を製造して、前記と同様の評価を行ったところ、前記と同様の結果が得られた。 Except that the shape of the base material was changed to a band, a watch part (band) was manufactured in the same manner as in the above Examples and Comparative Examples, and the same evaluation as described above was performed. was gotten.
また、第2の被膜をTiCの代わりにTiCNで構成されたものとして形成した以外は、前記実施例5〜10と同様にして時計用部品を製造して、前記と同様の評価を行ったところ、前記と同様の結果が得られた。 A watch part was manufactured in the same manner as in Examples 5 to 10 except that the second film was formed of TiCN instead of TiC, and the same evaluation as described above was performed. The same result as above was obtained.
また、前記各実施例および各比較例で製造した時計用部品を用いて、図6に示すような腕時計を組み立てた。これらの腕時計にて、上記と同様な評価を行ったところ、上記と同様の結果が得られた。 In addition, a wristwatch as shown in FIG. 6 was assembled using the timepiece parts manufactured in the respective examples and comparative examples. When these wristwatches were evaluated in the same manner as described above, the same results as described above were obtained.
10…時計用部品、1…基材、2…第1の被膜、21…第1の面、22…第2の面(表面)、3…下地層(第1の下地層)、4…第2の被膜、42…表面、5…下地層(第2の下地層)、6…コート層、W10…腕時計(時計)、W22…胴(ケース)、W23…裏蓋、W24…ベゼル(縁)、W25…ガラス板(風防ガラス)、W26…巻真パイプ、W27…りゅうず、W271…軸部、W272…溝、W28…プラスチックパッキン、W29…プラスチックパッキン、W30…ゴムパッキン(りゅうずパッキン)、W40…ゴムパッキン(裏蓋パッキン)、W50…接合部(シール部)
DESCRIPTION OF
Claims (13)
Coを主成分とし、Crを26質量%以上30質量%以下の含有率、Moを5質量%以上7質量%以下の含有率で含む材料で構成された第1の被膜とを備え、
前記第1の被膜の表面は、平坦面を基準としたときの表面積増加率が0%以上1.2%以下であることを特徴とする時計用部品。 A substrate;
A first film composed of a material containing Co as a main component, Cr in a content of 26% by mass to 30% by mass, and Mo in a content of 5% by mass to 7% by mass,
The timepiece component, wherein the surface of the first coating has a surface area increase rate of 0% or more and 1.2% or less with respect to a flat surface.
前記第2の被膜の両面側にそれぞれ前記下地層が設けられている請求項4に記載の時計用部品。 Between the base material and the first film, a second film made of a material containing at least one of TiC and TiCN is provided,
The timepiece component according to claim 4, wherein the base layer is provided on both sides of the second coating.
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