JP2018135558A - Workpiece rotation device and film deposition apparatus with the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ワーク回転装置およびそれを備えた成膜装置に関する。 The present invention relates to a workpiece rotating device and a film forming apparatus including the workpiece rotating device.
従来、エンジンのピストンリングなどのワークの耐摩耗性を向上するために、当該ワークの外周面に窒化クロムなどの硬質皮膜をPVDなどの成膜方法によって形成することが行われる。 Conventionally, in order to improve the wear resistance of a workpiece such as an engine piston ring, a hard film such as chromium nitride is formed on the outer peripheral surface of the workpiece by a film forming method such as PVD.
ピストンリングは、円環の一部が途切れた形状を有する金属製の部材であり、円環の一部が途切れることにより形成された開口部分、すなわち、合口部を有している。ピストンリングは、その外径を小さくするように合口部が閉じる方向へ変形させながらエンジンのシリンダに挿入された状態で使用される。この使用状態では、ピストンリングの合口部の周辺部には、外側に開こうとする力が最も大きくかかる。このため、当該周辺部は、シリンダ内壁に最も強く押し付けられるので、エンジンの使用時に最も摩耗しやすい。 The piston ring is a metal member having a shape in which a part of the ring is interrupted, and has an opening, that is, a joint part formed by part of the ring being interrupted. The piston ring is used in a state of being inserted into the engine cylinder while being deformed in a direction in which the joint portion is closed so as to reduce the outer diameter thereof. In this state of use, the force for opening outward is the largest on the periphery of the joint portion of the piston ring. For this reason, the peripheral portion is most strongly pressed against the inner wall of the cylinder, so that it is most easily worn when the engine is used.
そこで、ピストンリングの合口部の周辺部の摩耗を防止するために、当該周辺部に部分的に上記の硬質皮膜を厚く形成することが考えられる。 Therefore, in order to prevent the peripheral portion of the joint portion of the piston ring from being worn, it is conceivable that the hard coating is partially thickened on the peripheral portion.
従来では、ピストンリングにおける合口部の周辺部における硬質皮膜の膜厚を他の部位の膜厚よりも厚くする成膜方法として、特許文献1の記載の成膜方法が知られている。
Conventionally, a film forming method described in
この成膜方法では、ピストンリングを自転および公転させる回転テーブルに載せ、当該回転テーブルを駆動するモータに対して速度指令を与えることにより、ピストンリングの合口部が蒸発源にほぼ正対するときにピストンリングの自転速度が遅くなるようにモータを制御する。これにより、ピストンリングの合口部が蒸発源に正対するときのピストンリングの自転速度を、合口部以外の部位が蒸発源に正対するときよりも遅くして、合口部の周辺部において硬質皮膜を厚く形成することを可能にしている。 In this film forming method, the piston ring is placed on a rotary table that rotates and revolves, and a speed command is given to a motor that drives the rotary table, so that the piston ring has a piston when the abutting portion of the piston ring substantially faces the evaporation source. The motor is controlled so that the rotation speed of the ring becomes slow. As a result, the rotation speed of the piston ring when the abutment portion of the piston ring faces the evaporation source is made slower than when the portion other than the abutment portion faces the evaporation source, and a hard film is formed around the abutment portion. It is possible to form it thickly.
しかし、上記のようにモータを制御してピストンリングの自転速度を変える成膜方法を行う場合、モータに対して速度指令を与えてから回転テーブル上のピストンリングが所定の自転速度に達するまでにはタイムラグが生じる。そのタイムラグは、ピストンリングなどのワークの重量、または回転テーブルの状態や温度などにより成膜処理中に変化するので、ピストンリングの自転速度の制御に関する再現性が低くなる。そのため、ピストンリングの合口部およびその周辺部が蒸発源に向いているときにピストリンリングの自転速度を遅くする速度制御を確実に行うことが難しい。その結果、合口部の周辺部における膜厚を精度良く制御するのは非常に困難である。 However, when the film forming method for controlling the motor to change the rotation speed of the piston ring as described above is performed, the speed command is given to the motor until the piston ring on the rotary table reaches the predetermined rotation speed. Causes a time lag. Since the time lag changes during the film forming process depending on the weight of the work such as the piston ring or the state and temperature of the rotary table, the reproducibility regarding the control of the rotation speed of the piston ring is lowered. For this reason, it is difficult to reliably perform speed control for reducing the rotation speed of the pistol ring when the joint portion of the piston ring and the peripheral portion thereof are directed to the evaporation source. As a result, it is very difficult to accurately control the film thickness in the peripheral part of the joint part.
本発明は、上記のような事情に鑑みてなされたものであり、ワークの自転速度を確実に制御することが可能なワーク回転装置を提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of the above situations, and it aims at providing the workpiece rotating apparatus which can control the autorotation speed of a workpiece | work reliably.
上記課題を解決するためのものとして、本発明のワーク回転装置は、成膜される外周面を有するワークを、所定の自転軸の回りに自転させながら当該自転軸が延びる方向と異なる所定の移動方向へ移動させるワーク回転装置であって、本体部と、前記ワークを保持して前記自転軸の回りに自転可能な自転部と、前記自転部を前記移動方向へ移動させる自転部移動部と、を備え、前記自転部は、前記ワークを保持して前記自転軸の回りに自転可能な保持部と、前記保持部に連結され、当該保持部とともに前記自転軸の回りに自転可能であり、前記自転軸を中心とする第1のピッチ円に沿って並ぶ複数の歯を有する第1の自転歯列部と、前記保持部に連結され、当該前記保持部とともに前記自転軸の回りに自転可能であり、前記自転軸を中心とする前記第1のピッチ円よりも小さい第2のピッチ円に沿って並ぶ複数の歯を有する第2の自転歯列部とを有し、前記本体部は、前記第1の自転歯列部の歯に噛み合うことが可能な位置で前記移動方向に沿って並ぶ複数の歯を有する第1の本体歯列部と、前記第2の自転歯列部の歯に噛み合うことが可能な位置で前記移動方向に沿って並ぶ複数の歯を有する第2の本体歯列部とを有し、前記第1の自転歯列部、前記第2の自転歯列部、前記第1の本体歯列部、および前記第2の本体歯列部は、前記第1の自転歯列部が前記第1の本体歯列部に噛み合うときには、前記第2の自転歯列部が前記第2の本体歯列部との噛み合いが解除され、かつ、前記第2の自転歯列部が前記第2の本体歯列部に噛み合うときには、前記第1の自転歯列部が前記第1の本体歯列部との噛み合いが解除されていることが可能な位置に、それぞれ配置されていることを特徴とする。 In order to solve the above-described problem, the work rotation device of the present invention is a predetermined movement different from the direction in which the rotation axis extends while rotating a work having an outer peripheral surface to be formed around the rotation axis. A workpiece rotating device that moves in a direction, a main body portion, a rotation portion that holds the workpiece and can rotate around the rotation axis, and a rotation portion movement portion that moves the rotation portion in the movement direction, The rotation part is capable of rotating around the rotation axis together with the holding part, connected to the holding part and holding part capable of rotating around the rotation axis while holding the workpiece, A first rotation tooth row portion having a plurality of teeth arranged along a first pitch circle centered on the rotation shaft, and connected to the holding portion, and capable of rotating around the rotation shaft together with the holding portion. Yes, with the rotation axis as the center A second rotation tooth row portion having a plurality of teeth arranged along a second pitch circle smaller than the first pitch circle, and the main body portion has teeth of the first rotation tooth row portion. The first body dentition portion having a plurality of teeth arranged in the movement direction at a position where the teeth can engage with each other, and the movement direction at a position where the teeth of the second rotation dentition portion can be engaged with each other. A second body dentition having a plurality of teeth arranged along the first rotation dentition, the second rotation dentition, the first body dentition, and the The second body dentition portion is engaged with the second body dentition portion when the first rotation dentition portion is engaged with the first body dentition portion. Is released, and when the second rotation tooth row portion meshes with the second main body tooth row portion, the first rotation tooth row portion becomes the first rotation tooth portion. The meshing capable being released position of the main teeth portion, characterized in that it is arranged.
かかる構成では、成膜されるワークを保持する自転部が自転部移動部によって所定の移動方向へ一定の速度で移動されたときに、自転部の第1および第2の自転歯列部のいずれかがそれぞれに対応する本体部の第1および第2の本体歯列部に択一的に噛み合うことによって、ワークを所定の移動方向へ一定の速度で移動させながら当該ワークの自転速度を変えて自転させることを可能にする。 In such a configuration, when the rotating part holding the workpiece to be deposited is moved at a constant speed in the predetermined moving direction by the rotating part moving part, any one of the first and second rotating tooth row parts of the rotating part. Are selectively meshed with the first and second body dentitions of the corresponding main body, thereby changing the rotation speed of the work while moving the work in a predetermined moving direction at a constant speed. Allows you to rotate.
具体的には、ワークを保持する自転部は、自転軸を中心とする第1のピッチ円に沿って配置された複数の歯を有する第1の自転歯列部と、前記第1のピッチ円よりも小さい第2のピッチ円に沿って配置された複数の歯を有する第2の自転歯列部を有する。したがって、第1の自転歯列部は、第2の自転歯列部よりも大きい曲率半径を有し(すなわち大径であり)、第2の自転歯列部は、第1の自転歯列部よりも小さい曲率半径を有する(すなわち小径である)。 Specifically, the rotation portion that holds the workpiece includes a first rotation tooth row portion having a plurality of teeth arranged along a first pitch circle centered on the rotation axis, and the first pitch circle. A second rotating tooth row having a plurality of teeth arranged along a second smaller pitch circle. Therefore, the first rotation dentition has a larger radius of curvature than the second rotation dentition (ie, has a larger diameter), and the second rotation dentition is the first rotation dentition. Have a smaller radius of curvature (i.e. smaller diameter).
ワークを保持する自転部が自転しながら前記移動方向に移動している間、大径の第1の自転歯列部が第1の本体歯列部に噛み合い、かつ、小径の第2の自転歯列部が第2の本体歯列部との噛み合いが解除された状態では、自転部および当該自転部に保持されるワークの自転速度が遅くなる。 While the rotating part that holds the workpiece moves in the moving direction while rotating, the first rotating tooth row part having a large diameter meshes with the first body tooth row part, and the second rotating tooth having a small diameter. In a state in which the row portion is disengaged from the second body tooth row portion, the rotation speed of the rotation portion and the work held by the rotation portion is slow.
一方、小径の第2の自転歯列部が第2本体歯列部に噛み合い、かつ、大径の第1の自転歯列部が第1の本体歯列部との噛み合いが解除された状態では、自転部およびワークの自転速度が速くなる。 On the other hand, in a state where the small-diameter second rotation tooth row portion is engaged with the second main body tooth row portion and the large-diameter first rotation tooth row portion is disengaged from the first main body tooth row portion. , The rotation speed of the rotating part and the workpiece is increased.
このように、自転部の第1の自転歯列部および第2の自転歯列部がそれに対応する本体部の第1の本体歯列部および第2の本体歯列部に択一的に噛み合うことによって、当該自転部の自転速度を確実に変速することが可能になる。その結果、自転部に保持されたワークの自転速度を確実に制御することが可能になる。 As described above, the first rotation tooth row portion and the second rotation tooth row portion of the rotation portion selectively mesh with the corresponding first body tooth row portion and second body tooth row portion of the main body portion corresponding thereto. This makes it possible to reliably shift the rotation speed of the rotation section. As a result, it is possible to reliably control the rotation speed of the work held by the rotation portion.
前記移動方向は、前記自転軸と平行に延びる公転軸を回転中心として前記自転部が公転する方向であり、前記第1の本体歯列部は、前記公転軸を中心とする第1の公転円に沿って配置され、前記第2の本体歯列部は、前記公転軸を中心とする前記第1の公転円よりも大きい第2の公転円に沿って配置されているのが好ましい。 The moving direction is a direction in which the rotation portion revolves around a revolution axis extending in parallel with the rotation axis, and the first body tooth row portion is a first revolution circle around the revolution axis. Preferably, the second body dentition portion is arranged along a second revolution circle larger than the first revolution circle around the revolution axis.
かかる構成によれば、ワークを保持する自転部が自転部移動部によって公転軸を回転中心として公転するときに、自転部の第1および第2の自転歯列部のいずれかがそれに対応する本体部の第1および第2の本体歯列部に択一的に噛み合うことによって、ワークを公転させならがら当該ワークの自転速度を変えて自転させることを可能にすることが可能である。 According to this structure, when the rotation part holding a workpiece revolves around the rotation axis by the rotation part moving part, one of the first and second rotation tooth rows of the rotation part corresponds to the main body. By selectively meshing with the first and second main body dentitions of the part, it is possible to change the rotation speed of the work and revolve the work while revolving the work.
具体的には、第1の本体歯列部は、公転軸を中心とする第1の公転円に沿って配置されている。第2の本体歯列部は、公転軸を中心とする前記第1の公転円よりも大きい第2の公転円に沿って配置されている。したがって、第1の本体歯列部は、第2の本体歯列部よりも小さい曲率半径を有し(すなわち小径であり)、第2の本体歯列部は、第1の本体歯列部よりも大きい曲率半径を有する(すなわち大径である)。 Specifically, the first body dentition portion is arranged along a first revolution circle centered on the revolution axis. The second body dentition portion is arranged along a second revolution circle that is larger than the first revolution circle around the revolution axis. Therefore, the first body dentition has a smaller radius of curvature than the second body dentition (ie, has a smaller diameter), and the second body dentition is more than the first body dentition. Also have a large radius of curvature (ie, a large diameter).
ワークを保持する自転部が自転しながら公転軸回りに公転している間、大径の第1の自転歯列部が小径の第1の本体歯列部に噛み合い、かつ、小径の第2の自転歯列部が大径の第2の本体歯列部との噛み合いが解除された状態では、自転部および当該自転部に保持されるワークの自転速度が遅くなる。 While the rotating part holding the workpiece is revolving around the revolving axis while rotating, the first rotating tooth part having the large diameter meshes with the first body tooth part having the small diameter, and the second part having the small diameter. In a state in which the rotation tooth row portion is disengaged from the second main body tooth row portion having a large diameter, the rotation speed of the rotation portion and the work held by the rotation portion is reduced.
一方、小径の第2の自転歯列部が大径の第2本体歯列部に噛み合い、かつ、大径の第1の自転歯列部が小径の第1の本体歯列部との噛み合いが解除された状態では、自転部およびワークの自転速度が速くなる。 On the other hand, the small-diameter second rotation tooth row portion meshes with the large-diameter second main body tooth row portion, and the large-diameter first rotation tooth row portion meshes with the small-diameter first main body tooth row portion. In the released state, the rotation speed of the rotating portion and the workpiece is increased.
このように、自転部の第1の自転歯列部および第2の自転歯列部がそれに対応する本体部の第1の本体歯列部および第2の本体歯列部に択一的に噛み合うことによって、当該自転部は公転軸の回りに公転しながら自転速度を確実に変速することが可能になる。その結果、自転部に保持されたワークを公転させながら当該ワークの自転速度を確実に制御することが可能になる。 As described above, the first rotation tooth row portion and the second rotation tooth row portion of the rotation portion selectively mesh with the corresponding first body tooth row portion and second body tooth row portion of the main body portion corresponding thereto. As a result, the rotation part can reliably shift the rotation speed while revolving around the revolution axis. As a result, it is possible to reliably control the rotation speed of the workpiece while revolving the workpiece held by the rotation portion.
前記本体部は、前記第1の本体歯列部を有する第1の本体ギアと、前記第2の本体歯列部を有する第2の本体ギアとを有し、前記第1の本体ギアおよび前記第2の本体ギアは、前記公転軸に沿って同軸に連結され、前記自転部は、前記第1の自転歯列部を有する第1の自転ギアと、前記第2の自転歯列部を有する第2の自転ギアとを有し、前記第1の自転ギアおよび前記第2の自転ギアは、前記自転軸に沿って同軸に連結されているのが好ましい。 The main body portion includes a first main body gear having the first main body tooth row portion and a second main body gear having the second main body tooth row portion, and the first main body gear and the The second main body gear is coaxially connected along the revolution axis, and the rotation portion includes a first rotation gear having the first rotation tooth row portion and the second rotation tooth row portion. It is preferable that the first rotation gear and the second rotation gear are coaxially connected along the rotation axis.
かかる構成によれば、本体部が具備する2枚の本体ギアの組み合わせ、および自転部が具備する2枚の自転ギアの組み合わせによって、ワークの自転速度を容易に設定することが可能である。したがって、回転装置の設計および製造を容易に行なうことが可能である。 According to such a configuration, it is possible to easily set the rotation speed of the workpiece by a combination of two main body gears included in the main body portion and a combination of two rotation gears included in the rotation portion. Therefore, it is possible to easily design and manufacture the rotating device.
前記本体部は、前記第1の本体歯列部および前記第2の本体歯列部が前記公転軸に直交する同一の平面に配置されるように形成された1枚の共通本体ギアを備え、前記自転部は、前記第1の自転歯列部および前記第2の自転歯列部が前記自転軸に直交する同一の平面に配置されるように形成された1枚の共通自転ギアを備えていてもよい。 The main body portion includes one common main body gear formed such that the first main body tooth row portion and the second main body tooth row portion are arranged on the same plane orthogonal to the revolution axis, The rotation portion includes one common rotation gear formed so that the first rotation tooth row portion and the second rotation tooth row portion are arranged on the same plane orthogonal to the rotation axis. May be.
かかる構成によれば、第1の本体歯列部および第2の本体歯列部は、1枚の共通本体ギアにおいて同一の平面に並ぶように配置され、かつ、第1の自転歯列部および第2の自転歯列部は、1枚の共通自転ギアにおいて同一の平面に並ぶように配置されるので、本体部および自転部の占有スペースが小さくなり、回転装置の小型化が可能になる。 According to such a configuration, the first body dentition and the second body dentition are arranged so as to be aligned in the same plane in one common body gear, and the first rotation dentition and Since the second rotation tooth row portion is arranged so as to be aligned on the same plane in one common rotation gear, the space occupied by the main body portion and the rotation portion is reduced, and the size of the rotation device can be reduced.
前記移動方向は、前記自転軸と直交する方向へ直進する直進方向であり、前記第1の本体歯列部および前記第2の本体歯列部は、互いに平行に並んで前記直進方向に沿って直線的に配置されていてもよい。 The moving direction is a rectilinear direction that goes straight in a direction orthogonal to the rotation axis, and the first body dentition portion and the second body dentition portion are arranged in parallel with each other along the rectilinear direction. You may arrange | position linearly.
かかる構成によれば、ワークを保持する自転部が自転部移動部によって自転軸と直交する方向へ真っ直ぐに移動されたときに、自転部の第1および第2の自転歯列部のいずれかがそれに対応する本体部の第1および第2の本体歯列部に択一的に噛み合うことによって、ワークを直進させならがら自転速度を変えて自転させることを可能にすることが可能である。 According to such a configuration, when the rotating part holding the workpiece is moved straight in the direction orthogonal to the rotation axis by the rotating part moving part, one of the first and second rotating dentitions of the rotating part is By selectively meshing with the first and second main body dentitions of the main body corresponding thereto, it is possible to rotate the work while changing the rotation speed while moving straight.
すなわち、ワークを保持する自転部が自転しながら直進している間、大径の第1の自転歯列部が直線的に延びる第1の本体歯列部に噛み合い、小径の第2の自転歯列部が直線的に延びる第2の本体歯列部との噛み合いが解除された状態では、自転部および当該自転部に保持されるワークの自転速度が遅くなる。 That is, while the rotating part holding the workpiece is moving straight while rotating, the first rotating tooth row part with the large diameter is engaged with the first main body tooth part extending linearly, and the second rotating tooth with the small diameter is engaged. In a state where the meshing with the second main body tooth row portion in which the row portion extends linearly is released, the rotation speed of the rotation portion and the work held by the rotation portion becomes slow.
一方、小径の第2の自転歯列部が第2本体歯列部に噛み合い、かつ、大径の第1の自転歯列部が第1の本体歯列部との噛み合いが解除された状態では、自転部およびワークの自転速度が速くなる。 On the other hand, in a state where the small-diameter second rotation tooth row portion is engaged with the second main body tooth row portion and the large-diameter first rotation tooth row portion is disengaged from the first main body tooth row portion. , The rotation speed of the rotating part and the workpiece is increased.
このように、自転部は第1の自転歯列部および第2の自転歯列部がそれに対応する本体部の直線的に延びる第1の本体歯列部および第2の本体歯列部に択一的に噛み合うことによって、自転部は直進しながら自転速度を確実に変速することが可能になる。その結果、自転部に保持されたワークを直進させながら当該ワークの自転速度を確実に制御することが可能になる。 In this way, the rotation part is selected as the first body dentition part and the second body dentition part in which the first rotation dentition part and the second rotation dentition part extend linearly of the corresponding body part. By meshing with each other, the rotation portion can surely shift the rotation speed while going straight. As a result, it is possible to reliably control the rotation speed of the workpiece while moving the workpiece held by the rotation portion straight.
前記自転部は、前記自転軸を中心とする前記第1のピッチ円より小さく、かつ、前記第2のピッチ円よりも大きい第3のピッチ円に沿って配置された複数の歯を有する第3の自転歯列部をさらに有し、前記本体部は、前記第3の自転歯列部の歯に噛み合うことが可能な位置で前記移動方向に沿って並ぶ複数の歯を有する第3の本体歯列部とを有し、前記第3の自転歯列部および前記第3の本体歯列部は、前記第3の自転歯列部が前記第3の本体歯列部に噛み合うときには、前記第1の自転歯列部と前記第1の本体歯列部との噛み合いおよび前記第2の自転歯列部と前記第2の本体歯列部との噛み合いが解除され、かつ、前記第1の自転歯列部と前記第1の本体歯列部との噛み合いおよび前記第2の自転歯列部と前記第2の本体歯列部との噛み合いのいずれかが行われている状態のときには、前記第3の自転歯列部が前記第3の本体歯列部との噛み合いが解除されていることが可能な位置に配置されていてもよい。 The rotation portion has a plurality of teeth arranged along a third pitch circle smaller than the first pitch circle centered on the rotation axis and larger than the second pitch circle. A third tooth having a plurality of teeth arranged along the moving direction at a position where the body portion can mesh with the teeth of the third rotation tooth row portion. And when the third rotation tooth row part meshes with the third main body tooth row part, the third rotation tooth row part and the third body tooth row part are The engagement between the rotation tooth row portion and the first body tooth row portion and the engagement between the second rotation tooth row portion and the second body tooth row portion are released, and the first rotation tooth Engagement between the row portion and the first body tooth row portion and engagement between the second rotation tooth row portion and the second body tooth row portion When any of the above is performed, the third rotation tooth row portion may be disposed at a position where the meshing with the third body tooth row portion can be released. .
かかる構成によれば、自転部が第1の自転歯列部および第2の自転歯列部の他に第3の自転歯列部をさらに有し、かつ、本体部が第3の本体歯列部をさらに有しているので、ワークの自転速度を多段階に変えることが可能であり、ワークの自転速度をより円滑に変えることが可能である。 According to this configuration, the rotation portion further includes the third rotation tooth row portion in addition to the first rotation tooth row portion and the second rotation tooth row portion, and the main body portion has the third body tooth row. Further, since the rotation speed of the workpiece can be changed in multiple stages, the rotation speed of the workpiece can be changed more smoothly.
本発明の成膜装置は、上記のワーク回転装置と、当該ワーク回転装置の前記自転部に保持される前記ワークの外周面に成膜するための材料となる粒子が飛び出す出射面を有する蒸発源と、を備え、前記自転部の前記移動方向への移動領域は、前記ワークの外周面のうち皮膜を厚く形成すべき特定部分を含む範囲が前記蒸発源が設けられている側に対向する第1領域と、当該第1領域以外の第2領域とを有し、前記第1の自転歯列部、前記第2の自転歯列部、前記第1の本体歯列部、および前記第2の本体歯列部は、前記第1領域では、前記第1の自転歯列部が前記第1の本体歯列部に噛み合い、かつ、前記第2の自転歯列部が前記第2の本体歯列部との噛み合いが解除され、一方、前記第2領域では、前記第2の自転歯列部が前記第2の本体歯列部に噛み合い、かつ、前記第1の自転歯列部が前記第1の本体歯列部との噛み合いが解除されていることが可能な位置にそれぞれ配置されていることを特徴とする。 The film forming apparatus of the present invention is an evaporation source having the work rotating device described above and an emission surface from which particles as a material for forming a film on the outer peripheral surface of the work held by the rotating portion of the work rotating device are ejected. And a moving region of the rotating portion in the moving direction is a first region in which a range including a specific portion of the outer peripheral surface of the workpiece on which the film is to be formed thicker faces the side where the evaporation source is provided. 1 area | region and 2nd area | regions other than the said 1st area | region, Said 1st rotation dentition part, said 2nd rotation dentition part, said 1st main body dentition part, and said 2nd In the first region, the first dentition is meshed with the first main dentition, and the second dentition is the second main dentition in the first region. The meshing with the part is released, while in the second region, the second rotating tooth row part is the second main body. Meshing the row part, and said first rotation teeth portion is characterized in that it is arranged on the possible locations that engagement being released when said first body teeth portion.
かかる構成によれば、ワーク回転装置の自転部が自転しながら前記移動方向に移動している間、当該自転部に保持されたワークの外周面のうち皮膜を厚く形成すべき特定部分を含む範囲が蒸発源が設けられている側に対向している自転部の第1領域では、大径の第1の自転歯列部が第1の本体歯列部に噛み合い、かつ、小径の第2の自転歯列部が第2の本体歯列部との噛み合いが解除されるので、自転部および当該自転部に保持されるワークの自転速度が遅くなる。その結果、ワークの外周面のうち当該特定部分を含む範囲は、蒸発源の出射面に対向している時間が長くなり、当該特定部分に厚い皮膜を形成することが可能になる。 According to such a configuration, while the rotating part of the work rotating device moves in the moving direction while rotating, a range including a specific part where the film should be thickly formed on the outer peripheral surface of the work held by the rotating part. In the first region of the rotation portion facing the side where the evaporation source is provided, the large-diameter first rotation dentition meshes with the first main body dentition and the small-diameter second Since the rotation tooth row portion is disengaged from the second body tooth row portion, the rotation speed of the rotation portion and the work held by the rotation portion is reduced. As a result, in the range including the specific portion of the outer peripheral surface of the work, the time facing the emission surface of the evaporation source becomes long, and a thick film can be formed on the specific portion.
一方、ワークの外周面のうち前記特定部分が蒸発源が設けられている側に対向していない自転部の第2領域では、小径の第2の自転歯列部が第2本体歯列部に噛み合い、かつ、大径の第1の自転歯列部が第1の本体歯列部との噛み合いが解除されるので、自転部およびワークの自転速度が速くなる。その結果、特定部分以外の部分は、蒸発源の出射面に対向している時間が短くなり、当該特定部分以外の部分に形成される皮膜の厚さを低減することが可能になる。 On the other hand, in the second region of the rotation portion where the specific portion of the outer peripheral surface of the workpiece does not face the side on which the evaporation source is provided, the second rotation tooth row portion having a small diameter becomes the second body tooth row portion. The meshing and large-diameter first rotation tooth row portion is disengaged from the first main body tooth row portion, so that the rotation speed of the rotation portion and the workpiece is increased. As a result, the time other than the specific portion is opposed to the emission surface of the evaporation source, and the thickness of the film formed on the portion other than the specific portion can be reduced.
このように、自転部は第1の自転歯列部および第2の自転歯列部がそれに対応する本体部の第1の本体歯列部および第2の本体歯列部に択一的に噛み合うことによって、ワークの特定部分が蒸発源が設けられている側に対向している間だけワークの自転速度を確実に減速させて、当該特定部分の成膜時間を長くし、当該特定部分に厚い皮膜を確実に形成することが可能になる。その結果、ワークの外周面における特定部分の成膜面の厚さと当該特定部分以外の部分の成膜面の厚さの比である膜厚比を精度良く制御することが可能である。 As described above, the first rotation tooth row portion and the second rotation tooth row portion alternatively mesh with the first main body tooth row portion and the second main body tooth row portion of the main body portion corresponding to the first rotation tooth row portion and the second rotation tooth row portion, respectively. Thus, the rotation speed of the work is reliably reduced only while the specific part of the work faces the side where the evaporation source is provided, and the film formation time of the specific part is lengthened, and the specific part is thick. A film can be reliably formed. As a result, it is possible to accurately control the film thickness ratio, which is the ratio of the thickness of the film forming surface of the specific portion on the outer peripheral surface of the workpiece to the thickness of the film forming surface of the portion other than the specific portion.
前記移動方向は、前記自転軸と平行に延びる公転軸を回転中心として前記自転部が公転する方向であり、前記第1の本体歯列部は、前記公転軸を中心とする第1の公転円に沿って配置され、前記第2の本体歯列部は、前記公転軸を中心とする前記第1の公転円よりも大きい第2の公転円に沿って配置され、前記蒸発源は、前記自転部が前記公転軸を回転中心として公転する軌道よりも外側に配置されているのが好ましい。 The moving direction is a direction in which the rotation portion revolves around a revolution axis extending in parallel with the rotation axis, and the first body tooth row portion is a first revolution circle around the revolution axis. The second body dentition is disposed along a second revolution circle that is larger than the first revolution circle around the revolution axis, and the evaporation source is configured to rotate the rotation source. It is preferable that the portion is disposed outside a track that revolves around the revolution axis.
かかる構成によれば、蒸発源が自転部の公転軌道よりも外側に配置されているので、蒸発源を自転部および本体部に干渉しない位置に自由に配置することが可能である。また、蒸発源を本体部の外周を取り囲む位置に複数個配置することが可能である。 According to such a configuration, since the evaporation source is arranged outside the revolution track of the rotation part, the evaporation source can be freely arranged at a position that does not interfere with the rotation part and the main body part. A plurality of evaporation sources can be arranged at positions surrounding the outer periphery of the main body.
前記移動方向は、前記自転軸と平行に延びる公転軸を回転中心として前記自転部が公転する方向であり、前記第1の本体歯列部は、前記公転軸を中心とする第1の公転円に沿って配置され、前記第2の本体歯列部は、前記公転軸を中心とする前記第1の公転円よりも大きい第2の公転円に沿って配置され、前記蒸発源は、前記第1の公転円の内側に配置されていてもよい。 The moving direction is a direction in which the rotation portion revolves around a revolution axis extending in parallel with the rotation axis, and the first body tooth row portion is a first revolution circle around the revolution axis. The second body dentition is disposed along a second revolution circle that is larger than the first revolution circle around the revolution axis, and the evaporation source includes the first It may be arranged inside one revolution circle.
かかる構成によれば、蒸発源が第1の公転円の内側、すなわち、第1の本体歯列部および第2の本体歯列部よりも公転軸に近い位置に配置されているので、本体部および自転部の外周側に蒸発源を設置するためのスペースが不要になる。その結果、成膜装置の小型化が可能である。 According to such a configuration, the evaporation source is disposed inside the first revolution circle, that is, at a position closer to the revolution axis than the first body dentition portion and the second body dentition portion. In addition, a space for installing the evaporation source on the outer peripheral side of the rotation portion is not necessary. As a result, the film forming apparatus can be downsized.
前記蒸発源は、前記公転軸に沿うように配置され、前記出射面は、前記公転軸の周囲を取り囲むように配置され、前記公転軸から離れる方向を向くのが好ましい。 It is preferable that the evaporation source is disposed along the revolution axis, and the emission surface is disposed so as to surround the revolution axis, and is directed in a direction away from the revolution axis.
かかる構成によれば、公転軸に沿って配置された蒸発源によって、複数のワークを同時に成膜することが可能である。したがって、蒸発源の数が少なくて済む。 According to this configuration, it is possible to form a plurality of workpieces at the same time by using the evaporation source arranged along the revolution axis. Therefore, the number of evaporation sources can be reduced.
前記ワークは、円環の一部が途切れた形状を有する部材であり、前記ワークの特定部分は、前記円環の一部が途切れた部分の周辺部であってもよい。 The workpiece may be a member having a shape in which a part of the ring is interrupted, and the specific part of the workpiece may be a peripheral portion of a part in which the part of the ring is interrupted.
上記のように成膜されるワークとして円環の一部が途切れた形状を有するピストンリングなどの部材が適用される場合には、ワークの特定部分である前記円環の一部が途切れた部分(いわゆる合口部)の周辺部が蒸発源の出射面に対して対向している間だけワークの自転速度を確実に減速させて、当該周辺部に厚い皮膜を確実に形成することが可能になる
。
When a member such as a piston ring having a shape in which a part of the ring is interrupted is applied as a work to be formed as described above, a part in which the part of the ring that is a specific part of the work is interrupted It is possible to reliably reduce the rotation speed of the work only while the peripheral part of the so-called abutment part faces the emission surface of the evaporation source, and to reliably form a thick film on the peripheral part. .
以上説明したように、本発明のワーク回転装置によれば、ワークの自転速度を確実に制御することが可能である。 As described above, according to the workpiece rotating device of the present invention, the rotation speed of the workpiece can be reliably controlled.
また、本発明の成膜装置によれば、上記のワーク回転装置を備えた成膜装置によって、ワークの特定部分に厚い皮膜を確実に形成することが可能になり、ワークの特定の向きの成膜面とそれ以外の成膜面の膜厚比を精度良く制御することが可能である。 In addition, according to the film forming apparatus of the present invention, it is possible to reliably form a thick film on a specific part of the work by the film forming apparatus provided with the work rotating device described above, and to achieve a specific orientation of the work. It is possible to accurately control the film thickness ratio between the film surface and the other film formation surfaces.
つぎに、図面を参照しながら本発明の成膜装置およびそれを用いた成膜方法の実施形態について詳細に説明する。 Next, embodiments of a film forming apparatus and a film forming method using the same according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
図1に示される成膜装置1は、成膜されるワークである複数のピストンリング100を自公転させながらピストンリング100の外周面にPVDなどによって成膜処理を行なう装置である。成膜装置1は、チャンバ2と、複数のピストンリング100を自公転させるワーク回転装置3と、ターゲット20を含む蒸発源19とを備えている。
A
チャンバ2は、中空の筐体からなり、具体的には、天壁2aと、天壁2aの下方に位置する底壁2bと、当該天壁2aおよび底壁2bの側縁同士を連結する複数の側壁2cと、側壁2cに形成された開口2dを開閉する扉2fとを有する。これら天壁2a、底壁2b、複数の側壁2c、および扉2fによって、密閉された空間2eが形成される。この空間2eには、ピストンリング100およびワーク回転装置3が収納される。扉2fが開かれた状態では、ワーク回転装置3を、ピストンリング100を保持した状態で開口2dを通してチャンバ2から外部へ取り出し、またはチャンバ2内部へ挿入することが可能である。
The
蒸発源19は、ターゲット20と、ターゲット20と電気的に接続されたターゲット電極21と、ターゲット電極21を介してターゲット20に電圧を印加するアーク電源22とを有する。
The
ターゲット20は、当該ワーク回転装置3の後述の自転部5に保持されるピストンリング100の外周面に成膜するための材料(例えば、例えば、窒化クロムや窒化チタンの硬質皮膜を形成するためのチタンやクロムなどの材料)を含む。ターゲット20は、当該材料となる粒子が飛び出す出射面20aを有する。蒸発源19のターゲット20は、自転部5が公転軸S1を回転中心として公転する軌道Q(図4参照)よりも外側に配置されている。
The
ワークであるピストンリング100は、図3に示されるように、円環の一部が途切れた形状を有する部材である。すなわち、ピストンリング100は、円環の一部が途切れた開口部分である合口部101を有する。ピストンリング100の外周面には、摩耗防止のために上記の成膜装置1によって硬質皮膜が形成される。ピストンリング100の外周面のうち皮膜を厚く形成すべき周辺部102は、エンジンの使用時にシリンダの内部で最も磨耗が激しい合口部101の周辺部102である。
As shown in FIG. 3, the
ピストンリング100の成膜を行う場合、チャンバ2内部がほぼ真空状態まで減圧された環境下で、ピストンリング100は、ワーク回転装置3を介してバイアス電位印加部23からバイアス電位が印加される。この状態で、アーク電源22からターゲット20へ電圧を印加することにより、ターゲット20の出射面20aから当該ターゲット20の材料が蒸発して高エネルギーの粒子が飛び出てピストンリング100の外周面に衝突することにより、ピストンリング100の外周面に被膜が形成される。
When film formation of the
ワーク回転装置3は、成膜プロセス中に、ピストンリング100を所定の自転軸S2の回りに自転させながら当該自転軸S2が延びる方向と異なる所定の移動方向として公転方向Sへ移動させる装置である。ここで、公転方向Sとは、自転軸S2と平行に延びる公転軸S1を回転中心として自転部5が公転する方向のことである。
The work rotation device 3 is a device that moves the
図1〜2に示されるように、ワーク回転装置3は、本体部4と、積層された複数のピストンリング100を保持して自転軸S2の回りに自転可能な複数の自転部5と、当該複数の自転部5を公転方向Sへ回転移動させる自転部移動部6とを備える。自転部5は、自転軸S2が円環状のピストンリング100の中心に位置するように、当該ピストンリング100を保持する。
As shown in FIGS. 1 and 2, the workpiece rotating device 3 includes a
ワーク回転装置3の本体部4は、チャンバ2の内部に静止状態で配置され、図示されない固定手段によってチャンバ2の内部に固定される。
The
本体部4は、具体的には、台車部7と、当該台車部7に搭載された第1の本体ギア8、第2の本体ギア9、および円形案内部10とを備えている。第2の本体ギア9は、第1の本体ギア8の上に配置されている。第1の本体ギア8および第2の本体ギア9は、公転軸S1に沿って同軸に連結されている。
Specifically, the
台車部7は、テーブルベース7aと、当該テーブルベース7aの下部に取り付けられた複数の車輪7bとを備えている。車輪7bがチャンバ2外部の平坦面(例えば、ワーク回転装置3を搬送するための搬送台車の載置面、または建物の床面など)の上を転がることにより、ワーク回転装置3は、チャンバ2の内部と外部との間を自由に移動することが可能である。なお、車輪7bを省略して、テーブルベース7aがチャンバ2の底壁2bに固定されていてもよい。
The cart unit 7 includes a table base 7a and a plurality of wheels 7b attached to the lower part of the table base 7a. When the wheel 7b rolls on a flat surface outside the chamber 2 (for example, a placement surface of a transport carriage for transporting the work rotation device 3 or a floor surface of a building), the work rotation device 3 is It is possible to move freely between the inside and the outside of the. The wheel base 7b may be omitted and the table base 7a may be fixed to the
テーブルベース7aの上面には、環状の突起7cが形成されている。第1の本体ギア8および第2の本体ギア9は、テーブルベース7a上面の環状の突起7cの上端に回転できないように固定されている。
An
図2および図4に示されるように、第1の本体ギア8は、その外周面の全周において、公転方向Sに沿って並ぶ複数の歯を有する第1の本体歯列部31を有する。第1の本体歯列部31は、公転軸S1を中心とする第1の公転円D1に沿って配置される。第1の公転円D1は、第1の本体歯列部31のピッチ円である。
As shown in FIG. 2 and FIG. 4, the first
第2の本体ギア9は、第1の本体ギア8よりも大きい直径を有する歯車である。第2の本体ギア9は、公転方向Sに沿って並ぶ複数の歯を有する第2の本体歯列部32を有する。具体的には、その外周面の全周において、第2の本体歯列部32は、公転軸S1を中心とする第2の公転円D2に沿って配置される。第2の公転円D2の直径は、上記の第1の公転円D1よりも大きい。第2の公転円D2は、第2の本体歯列部32のピッチ円である。
The second
したがって、第2の本体歯列部32は、第1の本体歯列部31よりも大きい曲率半径を有する(すなわち大径である)。言い換えれば、第1の本体歯列部31は、第2の本体歯列部32よりも小さい曲率半径を有する(すなわち小径である)。
Therefore, the second
第1の本体ギア8および第2の本体ギア9の上面には、後述の自転移動部6の回転テーブル15を公転軸S1を回転中心として回転できるように当該公転軸S1の周方向に案内する円形案内部10が取り付けられている。円形案内部10は、環状のレール部10aと、当該レール部10aに沿って設けられた複数のボール10bとを備えている。レール部10aは、第1の本体ギア8および第2の本体ギア9の上面に固定されている。ボール10bは、レール部10aの上面において当該レール部10aに沿って転動自在に配置されている。
On the upper surfaces of the first
自転部移動部6は、複数の自転部5のそれぞれの自転を許容しながら当該複数の自転部5を公転方向Sへ回転移動させる構成を有する。具体的は、自転部移動部6は、回転テーブル15と、駆動モータ16と、駆動モータ16の駆動軸16aに固定された駆動ギア17と、駆動ギア17に噛み合う従動ギア18とを有する。
The rotation
回転テーブル15は、円盤状の部材であり、複数の自転部5を自転可能に保持するための複数の貫通孔15aを有する。複数の貫通孔15aは、公転軸S1回りに等間隔に配置されている。回転テーブル15は、上記の本体部4の円形案内部10のボール10bによって下方から支持されている。そのため、ボール10bがレール部10a上で転がることによって、回転テーブル15が公転軸S1を回転中心として回転することが許容される。このように構成された回転テーブル15は、ピストンリング100を保持する自転部5とともにで公転軸S1回りに回転することが可能である。
The
回転テーブル15は、その下面から公転軸S1に沿って下方に延びる軸部15aを有する。軸部15aは、上記のテーブルベース7aおよび第1の本体ギア8および第2の本体ギア9の中央部にそれぞれ形成された貫通孔を通してテーブルベース7aの下方に突出している。これら貫通孔の内径は、軸部15aの回転を許容する大きさに設定されている。軸部15aの下端には、従動ギア18が当該軸部15aと同軸に固定されている。従動ギア18は、チャンバ2内部に配置された駆動ギア17に噛み合っている。駆動ギア17は、モータ16の駆動軸16aに連結されている。モータ16の回転駆動力は、駆動ギア17および従動ギア18を介して回転テーブル15に伝達され、当該回転テーブル15および自転部5を公転軸S1回りに公転させる。
The
自転部5は、図2〜4に示されるように、保持部11と、第1の自転ギア13と、当該保持部11と第1の自転ギア13とを連結する軸部13と、第2の自転ギア14とを有する。第1の自転ギア13および第2の自転ギア14は、自転軸S2に沿って同軸に連結されている。
As shown in FIGS. 2 to 4, the
軸部13は、回転テーブル15の貫通孔15aに回転可能に挿入されている。これにより、自転部5は、回転テーブル15の貫通孔15aが形成された部分において回転自在に支持される。自転部5は、回転テーブル15とともに公転軸S1を回転中心として公転方向Sへ公転することが可能である。自転部5は、公転している間、第1の自転ギア13および第2の自転ギア14が上記の本体部4の第1の本体ギア8および第2の本体ギア9に択一的に噛み合うことにより、自転軸S2を回転中心として自転することが可能である。なお、択一的な噛み合いについては、後段で詳述する。
The
保持部11は、ピストンリング100を保持して自転軸S2の回りに自転可能な構成を有する。保持部11は、積層された複数のピストンリング100が載置される台座部11aと、自転軸S2に沿って延びる円柱状の支柱部11bとを有する。支柱部11bは、積層された複数のピストンリング100の内部に挿入されることにより、これらのピストンリング100を内側から保持する。支柱部11bの周面には、ピストンリング100の合口部101の周辺部102の向く方向を決めるためのリブ11b1が形成されている。リブ11b1は、自転軸S2と同じ方向に延び、ピストントンリング100の合口部101に挿入可能な幅を有する。
The holding
第1の自転ギア13は、軸部12を介して保持部11に連結され、当該保持部11とともに自転軸S2の回りに自転可能である。第1の自転ギア13は、自転軸S2を中心とする第1のピッチ円C1に沿って並ぶ複数の歯を有する第1の自転歯列部33を有する。
The
図2および図4に示されるように、第1の自転歯列部33は、第1の自転ギア13の外周面の一部に形成されている。当該第1の自転ギア13の外周面の他の部分は、滑らかな円弧状の周面が形成されている。
As shown in FIGS. 2 and 4, the first rotation
第2の自転ギア14は、保持部11に連結され、当該保持部11とともに自転軸S2の回りに自転可能であり、自転軸S2を中心とする第1のピッチ円C1よりも小さい第2のピッチ円C2に沿って並ぶ複数の歯を有する第2の自転歯列部34を有する。したがって、第2の自転歯列部34は、第1の自転歯列部33よりも小さい曲率半径を有する(すなわち小径である)。言い換えれば、第1の自転歯列部33は、第2の自転歯列部34よりも大きい曲率半径を有する(すなわち大径である)。
The
図2および図4に示されるように、第2の自転歯列部34は、第2の自転ギア14の外周面のうち上記の第1の自転歯列部33と当該第2の自転ギア14の径方向において重なり合わない範囲に形成されている。当該第1の自転ギア14の外周面のうち上記の第1の自転歯列部33と上記の径方向において重なり合う範囲には、滑らかな円弧状の周面が形成されている。
As shown in FIG. 2 and FIG. 4, the second rotation
これらの第1の自転歯列部33および第2の自転歯列部34は、本体部4における第1の本体歯列部31および第2の本体歯列部32に対して択一的に噛み合うことが可能な位置に配置されている。第1の自転歯列部33および第2の自転歯列部34の具体的な配置は、以下のようにして決定される。
The first rotation
図4に示されるように、自転部5の公転方向Sへの移動領域は、ピストンリング100の外周面のうち皮膜を厚く形成すべき特定部分である合口部101の周辺部102を含む範囲がターゲット20が設けられている側(具体的には、自転部5の公転軌道Qの外側)に対向する第1領域P1と、当該第1領域P1以外の第2領域P2とを有する。第2領域P2では、当該合口部101の周辺部102を含む範囲がターゲット20のが設けられている側に対向していない。
As shown in FIG. 4, the range of movement of the
したがって、第1の自転歯列部33、第2の自転歯列部34、第1の本体歯列部31、および第2の本体歯列部32は、第1領域P1では、第1の自転歯列部33が第1の本体歯列部31に噛み合い、かつ、第2の自転歯列部34が第2の本体歯列部32との噛み合いが解除され、一方、第2領域P2では、第2の自転歯列部34が第2の本体歯列部32に噛み合い、かつ、第1の自転歯列部33が第1の本体歯列部31との噛み合いが解除されていることが可能な位置にそれぞれ配置されている。
Therefore, the first rotation
すなわち、第1の自転歯列部33は、第1の自転ギア13の外周面において、第1領域P1において第1の本体ギア8の第1の本体歯列部31に噛み合う範囲に配置されている。具体的には、図2および図4に示されるように、第1の自転歯列部33は、自転軸S2に関して、ピストンリング100の合口部101の周辺部102および当該周辺部102の方向を決めるリブ11b1と反対側の位置を向くように配置されている。
That is, the first rotation
第2の自転歯列部34は、第2の自転ギア14の外周面において、第2領域P2において第2の本体ギア9の第2の本体歯列部33に噛み合う範囲に配置されている。
The second rotation
上記のように構成された本実施形態のワーク回転装置3では、成膜されるピストンリング100を保持する自転部5が自転部移動部6からの駆動力を受けて公転軸S1を回転中心として所定の公転方向Sへ一定の回転速度で公転するときに、自転部5の第1自転歯列部33および第2の自転歯列部34のいずれかがそれぞれに対応する本体部4の第1の本体歯列部32および第2の本体歯列部33に択一的に噛み合うことによって、ピストンリング100を一定の回転速度で公転させながら当該ピストンリング100の自転速度を変えて自転させることを可能にする。
In the workpiece rotating device 3 of the present embodiment configured as described above, the
具体的には、ピストンリング100を保持する自転部5が自転しながら公転軸S1を回転中心として公転している間、大径の第1の自転歯列部33が小径の第1の本体歯列部31に噛み合い、かつ、小径の第2の自転歯列部34が大径の第2の本体歯列部32との噛み合いが解除される状態になったときには、自転部5および当該自転部5に保持されるピストンリング100の自転速度が遅くなる。
Specifically, while the
一方、小径の第2の自転歯列部34が大径の第2本体歯列部に噛み合い、かつ、大径の第1の自転歯列部33が小径の第1の本体歯列部31との噛み合いが解除された状態になったときには、自転部5およびピストンリング100の自転速度が速くなる。
On the other hand, the small-diameter second
ここで、ピストンリング100の自転速度の比率は以下のようにして考えられる。まず、半径r1の第1の自転歯列部33および当該半径r1よりも小さい半径r2の第2の自転歯列部34がそれぞれ自転軸S2の全周に亘って形成されていると仮定する。ピストンリング100が公転軸S1の周囲を半径Rの公転軌道Qに沿って1回公転する間、大径(半径r1)の第1の自転歯列部33がそれに対応する第1の本体歯列部31に噛み合う場合のピストンリング100の自転数は、(R―r1)/r1+1=R/r1回である。
Here, the ratio of the rotation speed of the
一方、小径(半径r2)の第2の自転歯列部34がそれに対応する第2の本体歯列部32に噛み合う場合のピストンリング100の自転数は、(R―r2)/r2+1=R/r2回である。したがって、大径(半径r1)の第1の自転歯列部33が噛み合うときの自転数(R/r1)は、小径(半径r2)の第2の自転歯列部34が噛み合うときの自転数(R/r2)よりも小さい。したがって、自転数の逆比である自転速度を考えた場合、大径(半径r1)の第1の自転歯列部33が噛み合うときの自転速度v1と小径(半径r2)の第2の自転歯列部34が噛み合うときの自転速度v2との比は、v1/v2=r2/r1になる。
On the other hand, the rotation number of the
このように、自転部5の第1の自転歯列部33および第2の自転歯列部34がそれに対応する本体部4の第1の本体歯列部31および第2の本体歯列部32に択一的に噛み合うことによって、当該自転部5は公転軸の回りに公転しながら自転速度を確実に変速することが可能になる。その結果、自転部5に保持されたピストンリング100を公転させながら当該ピストンリング100の自転速度を確実に制御することが可能になる。
In this way, the first rotation
したがって、上記のように構成されたワーク回転装置3を備えた成膜装置1では、ピストンリング100の外周面において皮膜を厚く形成すべき合口部101の周辺部102における成膜厚さと他の部分との成膜厚さとの比である膜厚比を精度良く制御することが可能になる。すなわち、図4に示されるように、ワーク回転装置3の自転部5が自転しながら公転方向Sに移動している間、当該自転部5に保持されたピストンリング100の外周面のうち皮膜を厚く形成すべき合口部101の周辺部102を含む範囲が蒸発源19のターゲット20が設けられている側(具体的には、自転部5の公転軌道Qの外側)に対向している第1領域P1では、大径の第1の自転歯列部33が第1の本体歯列部31に噛み合い、かつ、小径の第2の自転歯列部34が第2の本体歯列部32との噛み合いが解除されるので、自転部5および当該自転部5に保持されるピストンリング100の自転速度が遅くなる。その結果、ピストンリング100の外周面のうち合口部101の周辺部102を含む範囲は、蒸発源19のターゲット20の出射面20aに対向している時間が長くなり、当該周辺部102に厚い皮膜を形成することが可能になる。
Therefore, in the
例えば、複数のピストンリング100が自転しながら公転軸S1回りを公転するとき、各ピストンリング100の周辺部102を含む範囲が公転軌道Qの外側を向いたときに自転速度が遅くなる。このとき、複数のピストンリング100のうちの少なくとも1個のピストンリング100の周辺部102を含む範囲がターゲット20の出射面20aに対向することにより、当該周辺部102に厚い皮膜を形成することが可能になる。
For example, when the plurality of
なお、複数のピストンリング100について周辺部102とそれ以外の膜厚比を精度良く(すなわち、膜厚比が自転ピッチ円半径比r2/r1になるように)制御するためには、複数のピストンリング100の成膜条件(すなわち、周辺部102がターゲット20の出射面20aを向く時間や頻度など)を同等の条件にする必要がある。そのためには、特定のピストンリング100のみの周辺部102が出射面20aに頻繁に向かないように、自公転のためのギア比、すなわち、自転部5の第1の自転歯列部33と本体部4の第1の本体歯列部31とのギア比、および第2の自転歯列部34と第2の本体歯列部32とのギア比をそれぞれ整数ではないギア比(例えば、1.33など)に設定すればよい。これにより、複数のピストンリング100のそれぞれのピストンリング100が公転軌道Qの外側を向く位置は、1公転ごとに公転方向Sにずれていくので、複数のピストンリング100の成膜条件(すなわち、周辺部102がターゲット20の出射面20aを向く時間や頻度など)を同等の条件にすることが可能になる。その結果、ターゲット20もピストンリング100の移動方向(すなわち公転方向S)に自由に配置することが可能である。一方、ピストンリング100の外周面のうち当該周辺部102がターゲット20が設けられている側に対向していない自転部5の第2領域P2では、小径の第2の自転歯列部34が第2本体歯列部に噛み合い、かつ、大径の第1の自転歯列部33が第1の本体歯列部31との噛み合いが解除されるので、自転部5およびピストンリング100の自転速度が速くなる。その結果、周辺部102以外の部分は、ターゲット20の出射面20aに対向している時間が短くなり、当該周辺部102以外の部分に形成される皮膜の厚さを低減することが可能になる。
In order to control the
このように、自転部5は第1の自転歯列部33および第2の自転歯列部34がそれに対応する本体部4の第1の本体歯列部31および第2の本体歯列部32に択一的に噛み合うことによって、ピストンリング100の周辺部102がターゲット20が設けられている側(具体的には、自転部5の公転軌道Qの外側)に対向している間だけピストンリング100の自転速度を確実に減速させて、当該周辺部102の成膜時間を長くし、当該周辺部102に厚い皮膜を確実に形成することが可能になる。その結果、ピストンリング100の外周面における周辺部102の成膜面の厚さと当該周辺部102以外の部分の成膜面の厚さの比である膜厚比を精度良く制御することが可能である。
As described above, the
また、本実施形態の成膜装置1では、蒸発源19のターゲット20が自転部5の公転軌道Qよりも外側に配置されているので、ターゲット20を自転部5および本体部4に干渉しない位置に自由に配置することが可能である。また、ターゲット20を本体部4の外周を取り囲む位置に複数個配置することが可能である。
Further, in the
本実施形態のワーク回転装置3では、本体部4が第1の本体ギア8および第2の本体ギア9を有し、自転部5が第1の自転ギア13および第2の自転ギア14を有している。そのため、本体部4が具備する2枚の本体ギア8、9の組み合わせ、および自転部5が具備する2枚の自転ギア13、14の組み合わせによって、ピストンリング100の自転速度を容易に設定することが可能である。したがって、ワーク回転装置3の設計および製造を容易に行なうことが可能である。
In the work rotation device 3 of the present embodiment, the
(変形例)
(A)
上記の実施形態のワーク回転装置3は、本体部4が第1の本体ギア8および第2の本体ギア9を有し、自転部5が第1の自転ギア13および第2の自転ギア14を有しているが、本発明はこれに限定されるものではない。本発明では、本体部4が第1の本体歯列部31および第2の本体歯列部32を有し、自転部5が第1の自転歯列部33および第2の自転歯列部34を有していれば他の構成でもよい。
(Modification)
(A)
In the workpiece rotating device 3 of the above embodiment, the
例えば、本発明のワーク回転装置の変形例として、図5に示されるように、本体部4が第1の本体歯列部31および第2の本体歯列部32が公転軸に直交する同一の平面に配置されるように形成された1枚の共通本体ギア35を備え、それに対応して、自転部5が、第1の自転歯列部33および第2の自転歯列部34が自転軸S2に直交する同一の平面に配置されるように形成された1枚の共通自転ギア36を備えていてもよい。
For example, as a modification of the workpiece rotating device of the present invention, as shown in FIG. 5, the
第1の本体歯列部31は、共通本体ギア35の外周面のうち、ピストンリング100の合口部101の周辺部102を含む範囲がターゲット20が設けられている側(具体的には、自転部5の公転軌道Qの外側)に対向する第1領域P1の範囲に形成されている。また、第2の本体歯列部32は、周辺部102が出射面20aに対向しない第2領域P2の範囲に形成されている。
The first
図5に示されるワーク回転装置の構成においても、上記図4に示される成膜装置と同様に、自転部5は第1の自転歯列部33および第2の自転歯列部34がそれに対応する本体部4の第1の本体歯列部31および第2の本体歯列部32に択一的に噛み合うことによって、ピストンリング100の周辺部102がターゲット20の出射面20aに対向している間だけピストンリング100の自転速度を確実に減速させて、当該周辺部102の成膜時間を長くし、当該周辺部102に厚い皮膜を確実に形成することが可能になる。
Also in the configuration of the work rotation device shown in FIG. 5, as with the film forming device shown in FIG. 4, the
この図5に示されるワーク回転装置の構成では、第1の本体歯列部31および第2の本体歯列部32は、1枚の共通本体ギア35において同一の平面に並ぶように配置されている。しかも、第1の自転歯列部33および第2の自転歯列部34は、1枚の共通自転ギア36において同一の平面に並ぶように配置されている。したがって、本体部4および自転部5の占有スペースが小さくなり、回転装置の小型化が可能になる。
In the configuration of the workpiece rotating device shown in FIG. 5, the first main
(B)
上記の実施形態のワーク回転装置3では、図4に示されるように、固定側の本体部4の第1の本体歯列部31および第2の本体歯列部32が公転軸S1を中心とする第1および第2の公転円D1、D2に沿って円弧状に形成されているが、本発明はこれに限定されるものではない。本発明の他の変形例として、図6に示されるワーク回転装置は、自転部5が自転軸S2と直交する方向へ直進しながら自転することが可能な構成であってもよい。この場合の自転部5の直進方向は、自転軸S2と直交する方向で、かつ、ターゲット20の出射面20aに沿う方向に設定される。
(B)
In the workpiece rotating device 3 of the above embodiment, as shown in FIG. 4, the first main
図6のワーク回転装置の構成では、本体部4の第1の本体歯列部41および第2の本体歯列部42は、互いに平行に並んで自転部5の直進方向に沿って直線的に配置されている。例えば、平行に延びる2本の直線状のラックのそれぞれにおいて、上記の第1の本体歯列部41および第2の本体歯列部42が形成されている。さらに、図6に示されるワーク回転装置は、自転部5を直進方向へ移動させる自転部移動部43を備える。自転部移動部43は、直進方向へ移動可能(往復直線移動または一方向への直線移動どちらでもよい)な構成を有しており、自転部5の軸部12を回転自在に支持する支持孔43aを有する。自転部移動部43は、軸部12から自転部5へ直進駆動力を与えることにより、自転部5を自転させながら直線移動(往復直線移動または一方向への直線移動)させることが可能である。
In the configuration of the work rotation device of FIG. 6, the first main
図6に示されるワーク回転装置の構成では、ピストンリング100を保持する自転部5が自転部移動部43によって自転軸S2と直交する方向へ真っ直ぐに移動されたときに、自転部5の第1および第2の自転歯列部33、34のいずれかがそれに対応する本体部4の第1および第2の本体歯列部32に択一的に噛み合うことによって、ピストンリング100を直進させながら自転速度を変えて自転させることを可能にすることが可能である。
In the configuration of the workpiece rotating device shown in FIG. 6, when the
すなわち、ピストンリング100を保持する自転部5が自転しながら直進している間、ピストンリング100の合口部101の周辺部102がターゲット20が設けられている側(具体的には、第1の本体歯列部41および第2の本体歯列部42に対して反対側)に対向する第1領域P1では、大径の第1の自転歯列部33が直線的に延びる第1の本体歯列部41に噛み合い、かつ、小径の第2の自転歯列部34が直線的に延びる第2の本体歯列部42との噛み合いが解除された状態では、自転部5および当該自転部5に保持されるピストンリング100の自転速度が遅くなる。
That is, while the
一方、周辺部102が出射面20aに対向しない第2領域P2では、小径の第2の自転歯列部34が第2の本体歯列部42に噛み合い、かつ、大径の第1の自転歯列部33が第1の本体歯列部41との噛み合いが解除された状態になり、自転部5およびピストンリング100の自転速度が速くなる。
On the other hand, in the second region P2 where the
このように、自転部5は第1の自転歯列部33および第2の自転歯列部34がそれに対応する本体部4の直線的に延びる第1の本体歯列部41および第2の本体歯列部42に択一的に噛み合うことによって、自転部5は直進しながら自転速度を確実に変速することが可能になる。その結果、自転部5に保持されたピストンリング100を直進させながら当該ピストンリング100の自転速度を確実に制御することが可能になる。
Thus, the
自転部移動部43は、自転部5を自転させながら往復直線移動させることにより、ピストンリング100の自転および直進移動を連続的に実行することが可能になり、ピストンリング100をターゲット20の出射面20aの前を複数回横切って当該ピストンリング100の成膜を行うことが可能である。
The rotation
(C)
上記の実施形態のワーク回転装置3は、ピストンリング100の自転速度を2段階に変更する構成を有しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、多段階(3段階以上)にピストンリング100の自転速度を変更可能な構成であってもよい。
(C)
Although the workpiece | work rotating apparatus 3 of said embodiment has the structure which changes the autorotation speed of the
図7に示されるように、本発明の他の変形例のワーク回転装置では、自転部5は、第1および第2の自転ギア13、14の他に、第3の自転ギア51を有する。第3の自転ギア51は、第3の自転歯列部52を有する。第3の自転歯列部52は、自転軸S2を中心とする第1のピッチ円C1より小さく、かつ、第2のピッチ円C2よりも大きい第3のピッチ円C3に沿って配置された複数の歯を有する。第3の自転歯列部52は、自転軸S2の周方向において、第1および第2の自転歯列部33、34が形成されていない範囲に形成されている。
As shown in FIG. 7, in the work rotation device according to another modified example of the present invention, the
一方、本体部4は、、第1および第2の本体ギア8、9の他に、第3の本体ギア53を有する。第3の本体ギア53は、第3の本体歯列部54を有する。第3の本体歯列部54は、第3の自転歯列部52の歯に噛み合うことが可能な位置で公転方向Sに沿って並ぶ複数の歯を有する。第3の自転歯列部52および第3の本体歯列部54は、第3の自転歯列部52が第3の本体歯列部54に噛み合うときには、第1の自転歯列部33と第1の本体噛合部31との噛み合いおよび第2の自転歯列部34と第2の本体歯列部32との噛み合いが解除され、かつ、第1の自転歯列部33と第1の本体歯列部31との噛み合いおよび第2の自転歯列部34と第2の本体歯列部32との噛み合いのいずれかが行われている状態のときには、第3の自転歯列部52が第3の本体歯列部54との噛み合いが解除されていることが可能な位置に配置されている。
On the other hand, the
図7に示されるワーク回転装置の構成によれば、自転部5が第1の自転歯列部33および第2の自転歯列部34の他に第3の自転歯列部52をさらに有し、かつ、本体部4が当該第3の自転歯列部52に対応する第3の本体歯列部54をさらに有している。そのため、ピストンリング100の自転速度を多段階に変えることが可能であり、ピストンリング100の自転速度をより円滑に変えることが可能である。
According to the configuration of the work rotation device shown in FIG. 7, the
(D)
上記の実施形態の成膜装置1では蒸発源19のターゲット20が自転部5の公転軌道Qの外側に配置されているが、本発明はこれに限定されるのものではない。本発明の成膜装置1の他の変形例として、図8に示されるように、蒸発源のターゲット61は、第1の公転円D1の内側に配置されていてもよい。
(D)
In the
図8に示される成膜装置では、ターゲット61は、公転軸Sに沿うように配置された円筒状の出射面20aを有する。円筒状の出射面20aは、公転軸S1の周囲を取り囲むように配置され、公転軸S1から離れる方向を向く。
In the film forming apparatus shown in FIG. 8, the
図8に示される成膜装置では、自転部5の移動領域のうちの第1領域P1では、ピストンリング100の合口部101の周辺部102は、ターゲット61が設けられている側、すなわち、公転軌道Qの内側を向き、そのとき円筒状の出射面20aを向く。第1の自転歯列部33は、第1の自転ギア13の外周面において、当該第1領域P1において、第1の本体ギア8の第1の本体歯列部31に噛み合う範囲に配置されている。具体的には、第1の自転歯列部33は、自転軸S2に関して、ピストンリング100の合口部101の周辺部102と同じ側に配置されている。この構成であっても、ピストンリング100の合口部101の周辺部102がターゲット61が設けられている側を向く第1領域P1において、大径の第1の自転歯列部33がそれに対応する第1の本体歯列部31に噛み合うことにより、ピストンリング100の自転速度を遅くして、当該周辺部102の成膜時間を長くして、厚い皮膜を形成することが可能である。
In the film forming apparatus shown in FIG. 8, in the first region P <b> 1 of the moving region of the
第2の自転歯列部34は、上記図4の第2の第2の自転歯列部34と同様に、自転ギア14の外周面において、第2領域P2において第2の本体ギア9の第2の本体歯列部33に噛み合う範囲に配置されている。
The second
図8に示される成膜装置では、蒸発源のターゲット61が第1の公転円D1の内側、すなわち、第1の本体歯列部31および第2の本体歯列部32よりも公転軸S1に近い位置に配置されている。そのため、本体部4および自転部5の外周側に蒸発源のターゲットを設置するためのスペースが不要になる。その結果、成膜装置1の小型化が可能である。
In the film forming apparatus shown in FIG. 8, the
また、図8に示される成膜装置1では、公転軸S1に沿って配置されたターゲット61によって、複数のピストンリング100を同時に成膜することが可能である。したがって、蒸発源のターゲットの数が少なくて済む。
Further, in the
なお、蒸発源のターゲットは、第1の公転円の内側に配置されていれば、公転軸S1からずれた位置に配置されていてもよい。その場合も本体部4および自転部5の外周側に蒸発源のターゲットを設置するためのスペースが不要になり、成膜装置1の小型化が可能である。
The target of the evaporation source may be arranged at a position shifted from the revolution axis S1 as long as it is arranged inside the first revolution circle. Also in this case, a space for installing the evaporation source target on the outer peripheral side of the
(E)
上記実施形態では、成膜装置で成膜されるワークの一例として、ピストンリング100を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されない。本発明の成膜装置で成膜されるワークには、当該ワークの外周面のうち皮膜を厚く形成すべき特定部分を有するものであれば、円筒状のワークや種々の形状のワークが含まれる。円筒状のワークの場合、自転軸が円筒状のワークの中心にあるようにワーク回転装置の自転部を構成すればよい。
(E)
In the above-described embodiment, the
例えば、図9に示される切削加工用のバイト200をワークとして採用することも可能である。バイト200は、高速回転する切削加工対象(回転ワーク)に当接するすくい面201と、当該回転ワークとの接触を避ける方向に延びる逃げ面202と、当該すくい面201と逃げ面202との間に形成された鋭利な切れ刃203とを有する。バイト200のすくい面201は、回転ワークに当接して摩耗しやすいので、厚い硬質皮膜が必要である。他方、バイト200のすくい面201以外の部分に硬質皮膜を厚く形成すると、バイト200が折れやすくなるので、硬質皮膜を厚くしない方が好ましい。
For example, a
このようなバイト200の成膜を行う場合に、上記の実施形態の成膜装置を用いれば、バイト200のすくい面201における硬質皮膜の膜厚を厚くする制御が可能である。例えば、図10に示されるように、複数のバイト200は、複数の自転部5の保持部11にそれぞれ立直状態で取り付られる。自転部移動部6の回転テーブル15を回転すれば、自転部5に保持されたバイト200は、上記の成膜装置のように、バイト200の自転速度を変えながら自公転することが可能である。この場合も、自転部5の移動領域のうち、バイト200のすくい面201がターゲット20が設けられている側に対向している範囲では、バイト200の自転速度を遅くして、すくい面201の成膜時間を長くして形成される皮膜の厚さを厚くする。一方、すくい面201がターゲット20が設けられている側に対向していない範囲では、バイト200の自転速度を速くして、すくい面201以外の部分における皮膜の厚さを抑えることが可能である。
When forming the
1 成膜装置
3 ワーク回転装置
4 本体部
5 自転部
6、43 自転部移動部
8 第1の本体ギア
9 第2の本体ギア
11 保持部
13 第1の自転ギア
14 第2の自転ギア
19 蒸発源
20、61 ターゲット
20a、62 出射面
31、41 第1の本体歯列部
32、42 第2の本体歯列部
33 第1の自転歯列部
34 第2の自転歯列部
35 本体共通ギア
36 自転共通ギア
52 第3の自転歯列部
54 第3の本体歯列部
S1 公転軸
S2 自転軸
C1 第1のピッチ円
C2 第2のピッチ円
D1 第1の公転円
D2 第2の公転円
DESCRIPTION OF
Claims (11)
本体部と、
前記ワークを保持して前記自転軸の回りに自転可能な自転部と、
前記自転部を前記移動方向へ移動させる自転部移動部と、
を備え、
前記自転部は、前記ワークを保持して前記自転軸の回りに自転可能な保持部と、前記保持部に連結され、当該保持部とともに前記自転軸の回りに自転可能であり、前記自転軸を中心とする第1のピッチ円に沿って並ぶ複数の歯を有する第1の自転歯列部と、前記保持部に連結され、当該前記保持部とともに前記自転軸の回りに自転可能であり、前記自転軸を中心とする前記第1のピッチ円よりも小さい第2のピッチ円に沿って並ぶ複数の歯を有する第2の自転歯列部とを有し、
前記本体部は、前記第1の自転歯列部の歯に噛み合うことが可能な位置で前記移動方向に沿って並ぶ複数の歯を有する第1の本体歯列部と、前記第2の自転歯列部の歯に噛み合うことが可能な位置で前記移動方向に沿って並ぶ複数の歯を有する第2の本体歯列部とを有し、
前記第1の自転歯列部、前記第2の自転歯列部、前記第1の本体歯列部、および前記第2の本体歯列部は、前記第1の自転歯列部が前記第1の本体歯列部に噛み合うときには、前記第2の自転歯列部が前記第2の本体歯列部との噛み合いが解除され、かつ、前記第2の自転歯列部が前記第2の本体歯列部に噛み合うときには、前記第1の自転歯列部が前記第1の本体歯列部との噛み合いが解除されていることが可能な位置に、それぞれ配置されている、
ワーク回転装置。 A work rotating device that moves a workpiece having an outer peripheral surface to be formed in a predetermined movement direction different from a direction in which the rotation axis extends while rotating around a predetermined rotation axis,
The main body,
A rotation part capable of holding the workpiece and rotating around the rotation axis;
A rotation unit moving unit that moves the rotation unit in the moving direction;
With
The rotation unit is configured to hold the workpiece and rotate around the rotation axis, and is connected to the holding unit, and can rotate around the rotation axis together with the holding unit. A first rotating tooth row portion having a plurality of teeth arranged along a first pitch circle as a center, and connected to the holding portion, and capable of rotating around the rotation axis together with the holding portion; A second rotation tooth row portion having a plurality of teeth arranged along a second pitch circle smaller than the first pitch circle around the rotation axis;
The main body portion includes a first main body dentition portion having a plurality of teeth arranged along the moving direction at a position where the main portion can mesh with teeth of the first rotation dentition portion, and the second rotation teeth. A second body tooth row portion having a plurality of teeth arranged along the moving direction at a position capable of meshing with the teeth of the row portion;
The first rotation tooth row portion, the second rotation tooth row portion, the first main body tooth row portion, and the second main body tooth row portion are the first rotation tooth row portion, and the first rotation tooth row portion is the first rotation tooth row portion. When the second tooth row is engaged with the second body tooth portion, and the second tooth portion is released from the second tooth portion. When meshing with the row portion, the first rotation tooth row portion is disposed at a position where the meshing with the first body tooth row portion can be released, respectively.
Work rotation device.
前記第1の本体歯列部は、前記公転軸を中心とする第1の公転円に沿って配置され、
前記第2の本体歯列部は、前記公転軸を中心とする前記第1の公転円よりも大きい第2の公転円に沿って配置されている、
請求項1に記載のワーク回転装置。 The moving direction is a direction in which the rotation part revolves around a rotation axis extending in parallel with the rotation axis,
The first main body dentition is disposed along a first revolution circle centered on the revolution axis,
The second body dentition is disposed along a second revolution circle that is larger than the first revolution circle around the revolution axis.
The work rotating apparatus according to claim 1.
前記自転部は、前記第1の自転歯列部を有する第1の自転ギアと、前記第2の自転歯列部を有する第2の自転ギアとを有し、前記第1の自転ギアおよび前記第2の自転ギアは、前記自転軸に沿って同軸に連結されている、
請求項2に記載のワーク回転装置。 The main body portion includes a first main body gear having the first main body tooth row portion and a second main body gear having the second main body tooth row portion, and the first main body gear and the The second body gear is coaxially coupled along the revolution axis,
The rotation portion includes a first rotation gear having the first rotation tooth row portion and a second rotation gear having the second rotation tooth row portion, and the first rotation gear and the The second rotation gear is coaxially connected along the rotation axis.
The work rotation device according to claim 2.
前記自転部は、前記第1の自転歯列部および前記第2の自転歯列部が前記自転軸に直交する同一の平面に配置されるように形成された1枚の共通自転ギアを備えている、
請求項2に記載のワーク回転装置。 The main body portion includes one common main body gear formed such that the first main body tooth row portion and the second main body tooth row portion are arranged on the same plane orthogonal to the revolution axis,
The rotation portion includes one common rotation gear formed so that the first rotation tooth row portion and the second rotation tooth row portion are arranged on the same plane orthogonal to the rotation axis. Yes,
The work rotation device according to claim 2.
前記第1の本体歯列部および前記第2の本体歯列部は、互いに平行に並んで前記直進方向に沿って直線的に配置されている、
請求項1に記載のワーク回転装置。 The moving direction is a straight direction that goes straight in a direction perpendicular to the rotation axis,
The first body dentition and the second body dentition are arranged in parallel with each other and linearly along the straight direction.
The work rotating apparatus according to claim 1.
前記本体部は、前記第3の自転歯列部の歯に噛み合うことが可能な位置で前記移動方向に沿って並ぶ複数の歯を有する第3の本体歯列部とを有し、
前記第3の自転歯列部および前記第3の本体歯列部は、前記第3の自転歯列部が前記第3の本体歯列部に噛み合うときには、前記第1の自転歯列部と前記第1の本体歯列部との噛み合いおよび前記第2の自転歯列部と前記第2の固定噛合との噛み合いが解除され、かつ、前記第1の自転歯列部と前記第1の本体歯列部との噛み合いおよび前記第2の自転歯列部と前記第2の本体歯列部との噛み合いのいずれかが行われている状態のときには、前記第3の自転歯列部が前記第3の本体歯列部との噛み合いが解除されていることが可能な位置に配置されている、
請求項1〜5のいずれか1項に記載のワーク回転装置。 The rotation portion has a plurality of teeth arranged along a third pitch circle smaller than the first pitch circle centered on the rotation axis and larger than the second pitch circle. A rotation dentition of
The main body portion includes a third main body dentition portion having a plurality of teeth arranged along the moving direction at a position where the main portion can mesh with teeth of the third rotation dentition portion,
When the third rotation dentition meshes with the third body dentition, the third rotation dentition and the third body dentition are the same as the first rotation dentition and the third rotation dentition. The meshing with the first body tooth row and the meshing between the second rotation tooth row and the second fixed mesh are released, and the first rotation tooth row and the first body tooth. When the engagement with the row portion and the engagement between the second rotation tooth row portion and the second body tooth row portion are performed, the third rotation tooth row portion is the third rotation tooth row portion. Is arranged at a position where the meshing with the main body dentition portion can be released,
The work rotation device according to any one of claims 1 to 5.
当該ワーク回転装置の前記自転部に保持される前記ワークの外周面に成膜するための材料となる粒子が飛び出す出射面を有する蒸発源と、
を備え、
前記自転部の前記移動方向への移動領域は、前記ワークの外周面のうち皮膜を厚く形成すべき特定部分を含む範囲が前記蒸発源が設けられている側に対向する第1領域と、当該第1領域以外の第2領域とを有し、
前記第1の自転歯列部、前記第2の自転歯列部、前記第1の本体歯列部、および前記第2の本体歯列部は、前記第1領域では、前記第1の自転歯列部が前記第1の本体歯列部に噛み合い、かつ、前記第2の自転歯列部が前記第2の本体歯列部との噛み合いが解除され、一方、前記第2領域では、前記第2の自転歯列部が前記第2の本体歯列部に噛み合い、かつ、前記第1の自転歯列部が前記第1の本体歯列部との噛み合いが解除されていることが可能な位置にそれぞれ配置されている、
ことを特徴とする成膜装置。 The work rotation device according to claim 1;
An evaporation source having an exit surface from which particles as a material for forming a film on the outer peripheral surface of the work held by the rotation portion of the work rotation device are projected;
With
The moving region of the rotating portion in the moving direction includes a first region facing a side where the evaporation source is provided in a range including a specific portion of the outer peripheral surface of the workpiece on which a film is to be thickly formed. A second region other than the first region,
The first rotation tooth row portion, the second rotation tooth row portion, the first main body tooth row portion, and the second main body tooth row portion are the first rotation teeth in the first region. The row portion meshes with the first main body tooth row portion, and the second rotation tooth row portion is disengaged from the second main body tooth row portion, while the second region A position where the two rotation tooth row portions can mesh with the second body tooth row portion, and the first rotation tooth row portion can be disengaged from the first body tooth row portion. Are arranged respectively,
A film forming apparatus.
前記第1の本体歯列部は、前記公転軸を中心とする第1の公転円に沿って配置され、
前記第2の本体歯列部は、前記公転軸を中心とする前記第1の公転円よりも大きい第2の公転円に沿って配置され、
前記蒸発源は、前記自転部が前記公転軸を回転中心として公転する軌道よりも外側に配置されている、
請求項7に記載の成膜装置。 The moving direction is a direction in which the rotation part revolves around a rotation axis extending in parallel with the rotation axis,
The first main body dentition is disposed along a first revolution circle centered on the revolution axis,
The second body dentition is disposed along a second revolution circle that is larger than the first revolution circle around the revolution axis,
The evaporation source is disposed outside the orbit where the rotating part revolves around the revolution axis as a rotation center.
The film forming apparatus according to claim 7.
前記第1の本体歯列部は、前記公転軸を中心とする第1の公転円に沿って配置され、
前記第2の本体歯列部は、前記公転軸を中心とする前記第1の公転円よりも大きい第2の公転円に沿って配置され、
前記蒸発源は、前記第1の公転円の内側に配置されている、
請求項7に記載の成膜装置。 The moving direction is a direction in which the rotation part revolves around a rotation axis extending in parallel with the rotation axis,
The first main body dentition is disposed along a first revolution circle centered on the revolution axis,
The second body dentition is disposed along a second revolution circle that is larger than the first revolution circle around the revolution axis,
The evaporation source is disposed inside the first revolution circle.
The film forming apparatus according to claim 7.
前記出射面は、前記公転軸の周囲を取り囲むように配置され、前記公転軸から離れる方向を向く、
請求項9に記載の成膜装置。 The evaporation source is disposed along the revolution axis,
The exit surface is disposed so as to surround the revolution axis and faces a direction away from the revolution axis.
The film forming apparatus according to claim 9.
前記ワークの特定部分は、前記円環の一部が途切れた部分の周辺部である、
請求項7〜10のいずれか1項に記載の成膜装置。 The workpiece is a member having a shape in which a part of the ring is interrupted,
The specific part of the work is a peripheral part of a part where a part of the ring is interrupted,
The film-forming apparatus of any one of Claims 7-10.
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