JP2018103606A - 積層体 - Google Patents

Abstract

【課題】積層体表面上に粘着層を形成し、次いで粘着層を剥離したとき、剥離力が低く、粘着層の帯電が小さく、積層体の帯電が小さく、表面がオリゴマーブロック性及び耐溶媒密着性を有する積層体の提供。【解決手段】支持基材１の少なくとも一方の面に、層Ａ２と層Ｂ３とを支持基材１側からこの順に有する積層体であって、層Ａ２がオニウム塩を含み、層Ｂ３がオニウム塩及びポリジメチルシロキサンを含み、厚み方向における層Ｂ３の最表面の領域（領域Ｘ８）、層Ｂの中央部の領域（領域Ｙ９）、層Ａと層Ｂの界面の領域（領域Ｚ１０）におけるオニウム塩の濃度が式（１）又は（２）を満足する積層体。層Ａ２がポリアルコキシシロキサン及び金属キレートを含むことが、好ましい積層体。更に好ましくはオニウム塩がイオン液体である、積層体。領域Ｘ≧領域Ｚ＞領域Ｙ・・・式（１）、領域Ｚ＞領域Ｘ＞領域Ｙ・・・式（２）【選択図】図１

Description

本発明は積層体に関するものであり、特に粘着層が積層体の表面に形成され、使用時には粘着層から剥離される離型フィルムに好適に用いることができる積層体に関するものである。

透明なポリエステルフィルムは、液晶偏光板、位相差板等の光学フィルム製造時に用いる保護用フィルムとして近年多用されており、特にポリエステルフィルムを基材とする離型フィルムは、粘着層を保護するための離型フィルムとして用いられている。

光学フィルムの粘着層は、離型フィルムから剥離後、所定の材料に貼合されることでその機能を発揮する。そのため、離型フィルムの基本機能は、粘着層の粘着力を様々な保管環境、保管期間であっても維持、保護することである。さらに離型フィルムには、前述の基本機能に加えて、貼合工程の省力化、高速化、収率アップに貢献することが求められる。

具体的には、生産性の観点からは粘着層から離型フィルムをはがす際の剥離力が、剥離速度によらず低いことや、粘着層から離型フィルムをはがした後、離型フィルムや粘着層の帯電に起因する品位低下や埃の付着を防ぐ観点から、「帯電防止性」が求められている。

さらに粘着層の形成工程にて、粘着層側に離型フィルム基材の低分子量成分（オリゴマー）が移行、析出することによる異物が発生しないこと（以降「オリゴマーブロック性」とする）や、離型フィルム上に粘着剤を塗布−乾燥した際に、離型層が粘着層溶出しないこと（以降「溶媒密着性」とする）も求められる。

この離型フィルムに求められる上記４つの特性に対し、特許文献１では「平均粒子径０．５〜３．０μｍのコア・シェル型粒子を表層に含有する積層ポリエステルフィルムの一方の面に、四級アンモニウム塩基含有ポリマー、ポリエチレングリコール含有アクリレートポリマー、および架橋剤を含有する塗布液を塗布して得られたＡ層を有し、当該Ａ層上に、少なくとも一種のオルガノシロキサン化合物を含有する塗布剤を塗布して形成された、厚みが１０〜１００ｎｍのＢ層を有するポリエステルフィルムであって、当該Ｂ層上に離型層を有することを特徴とする離型ポリエステルフィルム」が提案されている。

また特許文献２では「二軸延伸ポリエステルフィルムの片面に、四級アンモニウム基含有ポリマーおよび多価アルデヒド化合物を含有する塗布液を塗布し、乾燥して得られた下引き層を有し、当該下引き層上に離型層を有することを特徴とする離型フィルム」が提案されている。

さらに特許文献３では「ポリエステルフィルムおよびその少なくとも一方の面に帯電防止剤および離型剤を含む帯電防止離型層を有する帯電防止離型性ポリエステルフィルムであって、該帯電防止剤がポリオキシアルキレン鎖を含有するカチオンポリマーであり、該カチオンポリマーが、下記式（１）または下記式（２）で表わされる単量体から形成された構成単位Ａ、および下記式（３）または下記式（４）で表わされる単量体から形成された構成単位Ｂを含んでなり、該離型剤がシリコーン化合物であり、含有量が帯電防止離型層の重量を基準として２０重量％以上であることを特徴とする帯電防止離型性ポリエステルフィルム」が提案されている。

特許文献４では「基材フィルムの片面に粘着剤層が形成された帯電防止表面保護フィルムの、前記粘着剤層の表面に、帯電防止剤を転写することができる帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムであって、 前記帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムは、樹脂フィルムの片面に、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、該剥離剤と反応しない帯電防止剤とを含有する剥離剤層を積層してなり、前記帯電防止剤の成分が、融点が３０℃未満のイオン性化合物で
あり、前記帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムを、前記剥離剤層を介して前記粘着剤層
の表面に貼り合せたときに、前記剥離剤層の帯電防止剤を前記粘着剤層の表面に転写できることを特徴とする帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルム」が提案されている。

特開２０１５−６２９９９号公報 特開２０１４−２２６９２４号公報 特許第５６２３７６７号公報 特開２０１６−１３００１６号公報

かかる背景技術において、本発明の積層体が実現しようとする課題をまとめると、以下の５点になる。
１．積層体表面上に粘着層を形成し、次いで粘着層を剥離したとき、剥離力が低いこと
２．積層体表面上に粘着層を形成し、次いで粘着層を剥離したとき、粘着層の帯電が小さいこと
３．積層体表面上に粘着層を形成し、次いで粘着層を剥離したとき、積層体の帯電が小さいこと
４．積層体の表面がオリゴマーブロック性を有すること
５．積層体の表面が耐溶媒密着性を有すること。

これに対し本発明者らが確認したところ、前述の公知技術は以下の状況にある。

特許文献１の技術は、オリゴマーブロック性が良好であるが、積層体側、粘着層側の帯電防止が不十分である。特許文献２の技術も、オリゴマーブロック性と積層体側の帯電防止は良好だが、粘着層側の帯電防止と、耐溶媒密着性が不十分である。特許文献３の技術は、積層体側の帯電防止は良好であるが、粘着層側の帯電防止と、オリゴマーブロック性、耐溶媒密着性が不十分である。特許文献４の技術は、粘着剤層と剥離剤層の間で剥離した際、粘着剤層側の帯電防止が良好だが、剥離剤層側の帯電防止と、剥離フィルムのオリゴマーブロック性が不十分である。以上の点から、これらいずれの技術またはこれらの技術の組み合わせを行っても前述の５つの項目を満たすことはできなかった。

なお、本発明者らは従来技術の問題点について以下のように考察した。まず、特許文献１に記載の技術で帯電防止性が不十分となる原因は積層構成にあり、帯電防止剤として用いられる四級アンモニウム塩基含有ポリマーを含む層Ａは、層Ａ上に層Ｂ、さらに層Ｂ上に層Ｃが積層されており、帯電防止性が必要な最表面からの距離が遠く、その結果、粘着層を離型フィルムから剥離したときの剥離帯電を低下させる能力が低く、離型層、および粘着層側の帯電防止性が低いと考えている。

特許文献２に記載の技術で溶媒密着性が不十分となる原因は、支持基材と離型層の間にある塗布層が、離型層に対して密着性が弱いことにあり、その本質的な原因は、塗布層の造膜成分と基材、および離型層の造膜成分の相溶性が低いためである。また、粘着層側の帯電防止が不十分な理由は、帯電防止剤として用いられる四級アンモニウム塩基含有ポリマーの存在位置が、剥離帯電を引き起こす粘着層と積層体表面の界面から離れているためと考えている。

特許文献３に記載の技術でオリゴマーブロック性が不十分となる原因は、ポリエステルフィルム基材から表面に供給されるオリゴマーを遮蔽する物が、帯電防止離型層のみであり、帯電防止離型層は、密度が低いシリコーン化合物と該帯電防止剤がポリオキシアルキレン鎖を含有するカチオンポリマーを含むため、オリゴマーを通過させやすいと考えている。また、粘着層側の帯電防止が不十分な理由は、帯電防止剤として用いられる四級アンモニウム塩基含有ポリマーの存在は離型層内で均一になっており、本来剥離帯電抑制に必要な粘着層と離型層表面が作る界面から離れているためと考えている。

特許文献４に記載の技術で、剥離フィルムのオリゴマーブロック性が不十分となる原因は、樹脂フィルムの片面に設けられた剥離剤層が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、該剥離剤と反応しない帯電防止剤とを含有したものであるため、密度が低くオリゴマーを通過させやすいと考えている。また、粘着剤層と剥離剤層の間で剥離した際、粘着剤層側の帯電防止が良好だが、剥離剤層側の帯電防止が不十分な理由は、剥離剤層の帯電防止剤が剥離時に粘着剤層の表面に転写するため、剥離剤層側の帯電防止成分が少なくなり、帯電防止性能が低下するためと考えている。

本発明者らは、前述の５つの課題に対して、支持基材の少なくとも一方の面に、層Ａと層Ｂとを支持基材側からこの順に有する積層体であって、該層Ａがオニウム塩を含み、該層Ｂがオニウム塩およびポリジメチルシロキサンを含む積層体で、積層体の層Ｂ内でのオニウム塩の厚み方向濃度分布が特定の形態にあることが、好ましいことを見いだした。なお、層Ｂ内でのオニウム塩の厚み方向の濃度分布とは、後述するように層Ｂを領域Ｘ、Ｙ、Ｚ（ただし、領域Ｚは層Ａおよび層Ｂの両方を含む層Ａと層Ｂの界面の領域である）に区分したときの、当該領域Ｘ、Ｙ、Ｚそれぞれのオニウム塩の濃度の分布をいう。つまり、本発明者らは、従来技術の実情に鑑み鋭意検討の結果、以下の発明に至った。

１．支持基材の少なくとも一方の面に、層Ａと層Ｂとを支持基材側からこの順に有する積層体であって、該層Ａがオニウム塩を含み、該層Ｂがオニウム塩およびポリジメチルシロキサンを含み、厚み方向における層Ｂの最表面の領域（領域Ｘ）、層Ｂの中央部の領域（領域Ｙ）、層Ａと層Ｂの界面の領域（領域Ｚ）におけるオニウム塩の濃度が下記式（１）または（２）を満足することを特徴とする積層体。
領域Ｘ≧領域Ｚ＞領域Ｙ ・・・式（１）
領域Ｚ＞領域Ｘ＞領域Ｙ ・・・式（２）。

２．支持基材の少なくとも一方の面に、層Ａと層Ｂとを支持基材側からこの順に有する積層体であって、該層Ａがオニウム塩を含み、該層Ｂがオニウム塩およびポリジメチルシロキサンを含み、厚み方向における層Ｂの最表面の領域（領域Ｖ）、層Ｂの中央部の領域（領域Ｓ）、層Ａの中央部の領域（領域Ｔ）、層Ａと支持基材の界面の領域（領域Ｗ）におけるオニウム塩の濃度が下記式（３）または（４）を満足することを特徴とする積層体。
領域Ｖ≧領域Ｗ＞領域Ｓおよび領域Ｔ ・・・式（３）
領域Ｗ＞領域Ｖ＞領域Ｓおよび領域Ｔ ・・・式（４）。

３．前記層Ａが、ポリアルコキシシロキサンおよび金属キレート化合物を含むことを特徴とする１または２に記載の積層体。

４．前記オニウム塩が、イオン液体であることを特徴とする１から３のいずれかに記載の積層体。

５．前記積層体の１８０℃、１０分間熱処理した後のジメチルホルムアミド抽出によるポリエステルオリゴマー量が０．１ｍｇ／ｍ^２以下であり、かつ、ガラス板検査法による、層Ｂ表面における外接直径が３０μｍ以上の大きさの異物欠点数が、２個／５０ｃｍ^２以下であることを特徴とする１から４のいずれかに記載の積層体。

本発明によれば、積層体表面上に粘着層を形成し次いで粘着層を剥離したとき、粘着層の剥離力が低く、粘着層から積層体を剥離した際に積層体表面と粘着層に生じる剥離帯電が小さく、さらに積層体の離型層のオリゴマーブロック性と溶媒密着性が優れた積層体を得ることができる。

本発明の積層体を説明する断面図である。 本発明の積層体を説明する断面図である。

本発明の実施の形態について具体的に述べる。

本発明における層Ａおよび層Ｂに含まれる「オニウム塩」とは、カチオン（陽イオン）化合物とアニオン（陰イオン）化合物を含む塩であり、水素化物のプロトン化により生じたカチオン（陽イオン）化合物を含む塩を指す。オニウム塩の具体例としては、ブロモニウム塩、ヨードニウム塩、オキソニウム塩、スルホニウム塩、アルソニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、イミダゾリウム塩、ピリジニウム塩などがある。オニウム塩は帯電防止性を発現することができる。

層Ａにオニウム塩を含有させる手法は特に限定されないが、例えばオニウム塩を含む層Ａ用塗料組成物を塗布・乾燥することにより、オニウム塩を含む層Ａを形成することができる。層Ｂにオニウム塩を含有させる手法は特に限定されないが、例えばオニウム塩を含む層Ａを形成するための層Ａ用塗料組成物の塗布・乾燥中にさらに層Ａ上に層Ｂを形成することにより、層Ａに含まれるオニウム塩を層Ｂに移行させ、オニウム塩を含む層Ｂを形成する手法が挙げられる。

前記オニウム塩は、イオン液体であることが好ましい。ここで「イオン液体」とは、カチオン（陽イオン）化合物とアニオン（陰イオン）化合物を含む塩の一種であり、１００℃以下で液体状態の塩を指す。イオン液体は高い電気伝導度を示すことから、優れた帯電防止性を発現することができるため好ましく、また積層体の層Ｂ内でのオニウム塩の厚み方向濃度分布を形成する観点からも好ましい。

イオン液体の具体例としては、カチオン部分がイミダゾリウム系、ピリジニウム系、アンモニウム系、スルホニウム系、ホスホニウム系、ヨウ素系などがあり、アニオン部分が硫酸エステル系、ホウ酸エステル系、燐酸エステル系、スルホン酸系、ハロゲン系などがあり、その組み合わせにより得られる。

さらに前記イオン液体が、下記のカチオン化合物群に記載のカチオン化合物およびアニオン化合物群に記載のアニオン化合物から構成されるイオン液体であることが好ましい。
（カチオン化合物群） ホスホニウム系カチオン化合物、アンモニウム系カチオン化合物およびピリジニウム系カチオン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のカチオン化合物。
（アニオン化合物群） 含フッ素系アニオン化合物、スルホン酸系アニオン化合物、カルボン酸系アニオン化合物および無機酸系アニオン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のアニオン化合物。

カチオン化合物群のホスホニウム系カチオン化合物の具体例は、テトラアルキルホスホニウムカチオン及び前記アルキル基の一部がアルケニル基に置換されたものなどが挙げられ、テトラメチルホスホニウムカチオン、テトラエチルホスホニウムカチオン、テトラプロピルホスホニウムカチオン、テトラブチルホスホニウムカチオン、テトラペンチルホスホニウムカチオン、テトラヘキシルホスホニウムカチオン、テトラヘプチルホスホニウムカチオン、テトラオクチルホスホニウムカチオン、テトラノニルホスホニウムカチオン、テトラデシルホスホニウムカチオン、テトラドデシルホスホニウムカチオン、トリブチルメチルホスホニウムカチオン、トリヘキシルテトラデシルホスホニウムカチオン、トリフェニルメチルホスホニウムカチオン、トリフェニルエチルホスホニウムカチオン、トリフェニルブチルホスホニウムカチオン、トリフェニルヘプチルホスホニウムカチオン、トリフェニルドデシルホスホニウムカチオン、トリフェニルヘキサデシルホスホニウムカチオン、トリフェニルベンジルホスホニウムカチオン、テトラフェニルホスホニウムカチオンなどがある。アンモニウム系カチオン化合物の具体例は、テトラアルキルアンモニウムカチオン、前記アルキル基の一部がアルケニル基に置換されたもの、ピペリジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、モルホリニウムカチオン、ビピロリジニウムカチオン、ビピペリジニウムカチオンなどが挙げられ、テトラメチルアンモニウムカチオン、テトラエチルアンモニウムカチオン、テトラプロピルアンモニウムカチオン、テトラブチルアンモニウムカチオン、テトラペンチルアンモニウムカチオン、テトラヘキシルアンモニウムカチオン、テトラヘプチルアンモニウムカチオン、テトラオクチルアンモニウムカチオン、テトラノニルアンモニウムカチオン、テトラデシルアンモニウムカチオン、テトラドデシルアンモニウムカチオン、テトラアリルアンモニウムカチオン、トリオクチルメチルアンモニウムカチオン、ジデシルジメチルアンモニウムカチオン、ジオレイルジメチルアンモニウムカチオン、トリメチルヘキサデシルアンモニウムカチオン、１，１−ジメチルピペリジニウムカチオン、１−エチル−１−メチルピペリジニウムカチオン、１−メチル−１−プロピルピペリジニウムカチオン、１−ブチル−１−メチルピペリジニウムカチオン、１，１−ジメチルピロリジニウムカチオン、１−エチル−１−メチルピロリジニウムカチオン、１−メチル−１−プロピルピロリジニウムカチオン、１−ブチル−１−メチルピロリジニウムカチオン、１，１’−スピロビピロリジニウムカチオンなどがある。ピリジニウム系カチオン化合物の具体例は、１−メチルピリジニウムカチオン、１−エチルピリジニウムカチオン、１−プロピルピリジニウムカチオン、１−ブチルピリジニウムカチオン、１−ヘキシルピリジニウムカチオン、１−オクチルピリジニウムカチオン、１−デシルピリジニウムカチオン、１−ドデシルピリジニウムカチオン、１−ヘキサデシルピリジニウムカチオン、１−メチル−２−メチルピリジニウムカチオン、１−エチル−２−メチルピリジニウムカチオン、１−プロピル−２−メチルピリジニウムカチオン、１−ブチル−２−メチルピリジニウムカチオン、１−ヘキシル−２−メチルピリジニウムカチオン、１−オクチル−２−メチルピリジニウムカチオン、１−デシル−２−メチルピリジニウムカチオン、１−ドデシル−２−メチルピリジニウムカチオン、１−ヘキサデシル−２−メチルピリジニウムカチオン、１−メチル−３−メチルピリジニウムカチオン、１−エチル−３−メチルピリジニウムカチオン、１−プロピル−３−メチルピリジニウムカチオン、１−ブチル−３−メチルピリジニウムカチオン、１−ヘキシル−３−メチルピリジニウムカチオン、１−オクチル−３−メチルピリジニウムカチオン、１−デシル−３−メチルピリジニウムカチオン、１−ドデシル−３−メチルピリジニウムカチオン、１−ヘキサデシル−３−メチルピリジニウムカチオン、１−メチル−４−メチルピリジニウムカチオン、１−エチル−４−メチルピリジニウムカチオン、１−プロピル−４−メチルピリジニウムカチオン、１−ブチル−４−メチルピリジニウムカチオン、１−ヘキシル−４−メチルピリジニウムカチオン、１−オクチル−４−メチルピリジニウムカチオン、１−デシル−４−メチルピリジニウムカチオン、１−ドデシル−４−メチルピリジニウムカチオン、１−ヘキサデシル−４−メチルピリジニウムカチオン、１−メチル−３，５−ジメチルピリジニウムカチオン、１−エチル−３，５−ジメチルピリジニウムカチオン、１−プロピル−３，５−ジメチルピリジニウムカチオン、１−ブチル−３，５−ジメチルピリジニウムカチオン、１−ヘキシル−３，５−ジメチルピリジニウムカチオン、１−オクチル−３，５−ジメチルピリジニウムカチオン、１−デシル−３，５−ジメチルピリジニウムカチオン、１−ドデシル−３，５−ジメチルピリジニウムカチオン、１−ヘキサデシル−３，５−ジメチルピリジニウムカチオン、１−メチル−３，５−ジエチルピリジニウムカチオン等が挙げられる。

アニオン化合物群の含フッ素系アニオン化合物の具体例は、ビス（パーフルオロアルカンスルホニル）イミドアニオン、パーフルオロアルカンスルホン酸アニオン、パーフルオロアルカンカルボン酸アニオン、テトラフルオロホウ酸アニオン、ヘキサフルオロリン酸アニオン、アルカンスルホン酸アニオン、ヘキサフルオロホスフェートアニオン、テトラフルオロボレートアニオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドアニオン、ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミドアニオン、（ヘプタフルオロプロパンスルホニル）イミドアニオン、（ノナフルオロブタンスルホニル）イミドアニオン、［（トリフルオロメタンスルホニル）（ペンタフルオロエタンスルホニル）］イミドアニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ペンタフルオロエタンスルホン酸アニオン、ヘプタフルオロプロパンスルホン酸アニオン、ノナフルオロブタンスルホン酸アニオン、ヘプタデカフルオロオクタンスルホン酸アニオン、トリフルオロ酢酸アニオン、ペンタフルオロプロピオン酸アニオン、ヘプタフルオロブタン酸アニオン、ペンタデカフルオロオクタン酸アニオンなどがある。スルホン酸系アニオン化合物の具体例としては、メタンスルホン酸アニオン、エタンスルホン酸アニオン、ブタンスルホン酸アニオン、オクタンスルホン酸アニオン、パラトルエンスルホン酸アニオン、デシルベンゼンスルホン酸アニオン、ドデシルベンゼンスルホン酸アニオン、テトラデシルベンゼンスルホン酸アニオンなどがある。カルボン酸系アニオン化合物の具体例としては、ギ酸アニオン、酢酸アニオン、プロピオン酸アニオン、ブタン酸アニオン、オクタン酸アニオン、デカン酸アニオン、安息香酸アニオン、サリチル酸アニオンなどがある。無機酸系アニオン化合物の具体例としては、過塩素酸アニオン、硝酸アニオン、硫酸アニオン、リン酸アニオン、ホウ酸アニオンなどがある。

イオン液体は、構成するカチオン化合物とアニオン化合物の種類、または組み合わせを変更することにより、様々な物性を得ることができる。層Ａに含まれるイオン液体が上記カチオン化合物群に記載のカチオン化合物およびアニオン化合物群に記載のアニオン化合物から構成されることにより、帯電防止性を発現しながら、オリゴマーブロック性、溶媒密着性を達成することができるため好ましい。

次に、本発明における層Ｂに含まれる「ポリジメチルシロキサン」は、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉからなるポリシロキサン骨格のＳｉにメチル基が２つ付いた構造を基本骨格とした材料で、一般にシリコーン樹脂とも呼ばれる。詳細は後述するが、層Ｂがポリジメチルシロキサンを含むことにより、積層体はその表面に粘着層を設けた場合にも、粘着層と層Ｂの間で容易に剥離することができる。

積層体の層Ｂ内でのオニウム塩の厚み方向濃度分布は、具体的には、厚み方向における層Ｂの最表面の領域（領域Ｘ）、層Ｂの中央部の領域（領域Ｙ）、層Ａと層Ｂの界面の領域（領域Ｚ）におけるオニウム塩の濃度が下記式（１）または（２）を満足することが好ましい。

領域Ｘ≧領域Ｚ＞領域Ｙ ・・・式（１）
領域Ｚ＞領域Ｘ＞領域Ｙ ・・・式（２）
本発明の積層体では、領域Ｚ、および領域Ｘの２カ所にオニウム塩が多く存在することにより、積層体の層Ｂ上に粘着層を形成し、次いで粘着層を剥離したとき、粘着層の帯電を小さくすることができ、剥離後の積層体の帯電も小さくすることができる。

上記式（１）は、領域Ｘ、および領域Ｚのオニウム塩濃度が等しいか、または、領域Ｚより領域Ｘのオニウム塩濃度が高いことを表している。また、領域Ｘ、および領域Ｚに対し、領域Ｙのオニウム塩濃度が低いことを表している。式（１）を満たすことにより、領域Ｘ、および領域Ｚの２カ所にオニウム塩が多く存在することにより、積層体の層Ｂ上に粘着層を形成し、次いで粘着層を剥離したとき、粘着層の帯電を小さくすることができ、剥離後の積層体の帯電も小さくすることができる。

上記式（２）は、領域Ｚのオニウム塩濃度が最も高く、次いで領域Ｘのオニウム塩濃度が高く、領域Ｙのオニウム塩濃度が最も低いことを表している。オニウム塩の濃度分布を上記のようにすることで、積層体の層Ｂ上に粘着層を形成し、次いで粘着層を剥離したとき、粘着層表面に移行する領域Ｘのオニウム塩の量を微量にすることができ、さらに剥離後の積層体の帯電もより小さくすることができる。

領域Ｘのオニウム塩濃度は、０．１％以上３０％以下であることが好ましく、より好ましくは０．５％以上２５％以下、さらに好ましくは１％以上２０％以下の範囲である。領域Ｘのオニウム塩濃度が３０％を超えると、積層体の剥離力が高くなる場合があり、０．１％未満では積層体の層Ｂ上に粘着層を形成し、次いで粘着層を剥離したとき、粘着層の帯電が大きくなる場合がある。

領域Ｙのオニウム塩濃度は、領域Ｘのオニウム塩の濃度の１/２以下であることがより好ましい。領域Ｙのオニウム塩濃度が低いことが望ましいが、後述する本発明の積層体の製造方法では０％とすることは難しく、下限値としては０．０５％程度である。領域Ｙのオニウム塩濃度が、領域Ｘのオニウム塩濃度の１/２を超えると、層Ｂの硬化不良が発生し、積層体の耐溶媒密着性が低下する場合がある。

領域Ｚのオニウム塩濃度は、０．１％以上３０％以下であることが好ましく、より好ましくは１％以上２５％以下、さらに好ましくは５％以上２５％以下の範囲である。領域Ｚのオニウム塩濃度が０．１％未満では、積層体の層Ｂ上に粘着層を形成し、次いで粘着層を剥離したとき、積層体の帯電が大きくなる場合があり、３０％を超えると、層Ａ、および層Ｂの硬化不良が発生し、積層体の耐溶媒密着性が低下する場合がある。なお、ここでいう％とは、各領域に含まれるオニウム塩に特徴的な元素の濃度（ａｔｍ％）である。

ここで、領域Ｘ、領域Ｙ、領域Ｚの位置関係を図１に示す。図１は本発明の積層体の断面を示し、支持基材１の一方の面上に層Ａ２、次いで層Ｂ３が順に積層されている。この断面において、支持基材に垂直な基準線４を引いたとき、層Ｂの表面との交点を点α５、層Ｂと層Ａの界面との交点を点γ７、基準線上の層Ｂの中点を点β６とする。

領域Ｘ８は、点αから厚み方向に１０ｎｍ、左右に１０ｎｍの範囲を、領域Ｙ９は、点βを含み、厚み方向に領域Ｘ、領域Ｚ以外の範囲を、領域Ｚ１０は、点γを含み、点γを中心に上下５ｎｍ、左右に１０ｎｍの範囲を指す。

各領域のオニウム塩の濃度の詳細な算出方法については後述するが、積層体の各領域について元素分析を実施し、得られた異なる元素ピークの強度比を濃度比として算出し、オニウム塩に含まれる特徴的な元素の濃度をオニウム塩の濃度とした。元素分析の手法については特に限定されるものではないが、ＥＤＸやＥＥＬＳ、ＴＯＦ−ＳＩＭＳなどを用いて分析することができる。また、オニウム塩に含まれる特徴的な元素の例としては、イミダゾリウム塩やアンモニウム塩を用いた場合はＮ元素、ホスホニウム塩を用いた場合はＰ元素、スルホニウム塩を用いた場合はＳ元素、等が挙げられる。

積層体の層Ｂ内でのオニウム塩の厚み方向濃度分布が、前述の条件を満たすことによって、積層体の層Ｂ上に、粘着層を形成し、ついで剥離したとき、粘着層側と積層体双方の剥離帯電を低くすることができる。その機構について、
積層体の層Ｂ上に粘着層を形成すると、オニウム塩は粘着層と積層体の界面部と積層体の層Ａと層Ｂの界面部の２カ所に高濃度で存在することになる。粘着層を積層体から粘着層と層Ｂの間で剥離すると、剥離した粘着層と層Ｂの表面にオニウム塩が存在するため、表面の帯電列が近くなるため剥離帯電量が小さくなり、さらに粘着層表面にオニウム塩が存在するため、剥離帯電による電荷を瞬時に漏洩、減衰させることができる。さらに離型フィルム側の帯電も、層Ｂと層Ａの界面に存在するオニウム塩の濃度の高い部位が導電パスを形成することで低くなる。

積層体の層Ａと層Ｂ内でのオニウム塩の厚み方向濃度分布を達成する方法については、特に限定されないが、後述する層Ａ用塗料組成物と層Ｂ用塗料組成物を後述する積層体の製造方法で塗布、乾燥することにより形成することが好ましい。

また、積層体の層Ｂおよび層Ａ内でのオニウム塩の厚み方向濃度分布は、具体的には、厚み方向における層Ｂの最表面の領域（領域Ｖ）、層Ｂの中央部の領域（領域Ｓ）、層Ａの中央部の領域（領域Ｔ）、層Ａと支持基材の界面の領域（領域Ｗ）におけるオニウム塩の濃度が下記式（３）または（４）を満足することが好ましい。
領域Ｖ≧領域Ｗ＞領域Ｓおよび領域Ｔ ・・・式（３）
領域Ｗ＞領域Ｖ＞領域Ｓおよび領域Ｔ ・・・式（４）。

本発明の積層体では、領域Ｖ、および領域Ｗの２カ所にオニウム塩が多く存在することにより、積層体の層Ｂ上に粘着層を形成し、次いで粘着層を剥離したとき、粘着層の帯電を小さくすること、および剥離後の積層体の帯電も小さくすることができ、さらに溶媒密着性を向上することができる。

上記式（３）は、領域Ｖ、および領域Ｗのオニウム塩濃度が等しいか、または、領域Ｗより領域Ｖのオニウム塩濃度が高いことを表している。また、領域Ｖ、および領域Ｗに対し、領域Ｓおよび領域Ｔのオニウム塩濃度が低いことを表している。式（３）を満たすことにより、領域Ｖ、および領域Ｗの２カ所にオニウム塩が多く存在することにより、積層体の層Ｂ上に粘着層を形成し、次いで粘着層を剥離したとき、粘着層の帯電を小さくすることができ、剥離後の積層体の帯電も小さくすることができる。

上記式（４）は、領域Ｗのオニウム塩濃度が最も高く、次いで領域Ｖのオニウム塩濃度が高く、領域Ｓおよび領域Ｔのオニウム塩濃度が最も低いことを表している。オニウム塩の濃度分布を上記のようにすることで、積層体の層Ｂ上に粘着層を形成し、次いで粘着層を剥離したとき、粘着層表面に移行する領域Ｖのオニウム塩の量を微量にすることができ、さらに剥離後の積層体の帯電もより小さくすることができることに加え、耐溶媒密着性を向上することができる。

領域Ｖのオニウム塩濃度は、０．１％以上３０％以下であることが好ましく、より好ましくは０．５％以上２５％以下、さらに好ましくは１％以上２０％以下の範囲である。領域Ｘのオニウム塩濃度が３０％を超えると、積層体の剥離力が高くなる場合があり、０．１％未満では積層体の層Ｂ上に粘着層を形成し、次いで粘着層を剥離したとき、粘着層の帯電が大きくなる場合がある。

領域Ｓのオニウム塩濃度は、領域Ｖのオニウム塩の濃度の１／２以下であることがより好ましい。領域Ｓのオニウム塩濃度は低いことが望ましいが、後述する本発明の積層体の製造方法では０％とすることは難しく、下限値としては０．０５％程度である。領域Ｓのオニウム塩濃度が、領域Ｖのオニウム塩濃度の１／２を超えると、層Ｂの硬化不良が発生し、積層体の耐溶媒密着性が低下する場合がある。

領域Ｔのオニウム塩濃度は、領域Ｗのオニウム塩の濃度の１／２以下であることがより好ましい。領域Ｔのオニウム塩濃度は低いことが望ましいが、後述する本発明の積層体の製造方法では０％とすることは難しく、下限値としては０．０５％程度である。領域Ｔのオニウム塩濃度が、領域Ｗのオニウム塩濃度の１／２を超えると、層Ａの硬化不良が発生し、積層体の耐溶媒密着性の低下、およびオリゴマーブロック性が低下する場合がある。

領域Ｗのオニウム塩濃度は、０．１％以上３０％以下であることが好ましく、より好ましくは１％以上３０％以下、さらに好ましくは５％以上３０％以下の範囲である。領域Ｗのオニウム塩濃度が０．１％未満では、積層体の層Ｂ上に粘着層を形成し、次いで粘着層を剥離したとき、積層体の帯電が大きくなる場合があり、３０％を超えると、層Ａの硬化不良が発生し、積層体の耐溶媒密着性の低下、およびオリゴマーブロック性が低下する場合がある。なお、ここでいう％とは、各領域に含まれるオニウム塩に特徴的な元素の濃度（ａｔｍ％）である。

ここで、領域Ｖ、領域Ｓ、領域Ｔ、領域Ｗの位置関係を図２に示す。図２は本発明の積層体の断面を示し、支持基材１１の一方の面上に層Ａ１２、次いで層Ｂ１３が順に積層されている。なお、前述の図１で示される積層体と図２で示される積層体はいずれも支持基材の少なくとも一方の面に、層Ａと層Ｂとを支持基材側からこの順に有する積層体であり、支持基材、層Ａと層Ｂという構成の点では図１および図２は同じ構成を有する積層体である。この断面において、支持基材に垂直な基準線１４を引いたとき、層Ｂの表面との交点を点ε１５、基準線上の層Ｂの中点を点σ１６、基準線上の層Ａの中点を点ω１７、層Ａと支持基材の界面との交点を点η１８とする。

領域Ｖ１９は、点εから厚み方向に１０ｎｍ、点εから左右に１０ｎｍの範囲を、領域Ｓ２０は、点σを含み、点σを中心に上下５ｎｍ、点σを中心に左右に１０ｎｍの範囲を、領域Ｔ２１は、点ωを含み、点ωを中心に上下５ｎｍ、点ωを中心に左右に１０ｎｍの範囲を、領域Ｗ２２は、点ηから層Ａ１２方向に１０ｎｍ、点ηから左右に１０ｎｍの範囲を指す。

各領域のオニウム塩の濃度の詳細な算出方法については後述するが、積層体の各領域について元素分析を実施し、得られた異なる元素ピークの強度比を濃度比として算出し、オニウム塩に含まれる特徴的な元素の濃度をオニウム塩の濃度とした。元素分析の手法については特に限定されるものではないが、ＥＤＸやＥＥＬＳ、ＴＯＦ−ＳＩＭＳなどを用いて分析することができる。また、オニウム塩に含まれる特徴的な元素の例としては、イミダゾリウム塩やアンモニウム塩を用いた場合はＮ元素、ホスホニウム塩を用いた場合はＰ元素、スルホニウム塩を用いた場合はＳ元素、等が挙げられる。

積層体の層Ｂおよび層Ａ内でのオニウム塩の厚み方向濃度分布が、前述の条件を満たすことによって、積層体の層Ｂ上に、粘着層を形成し、ついで剥離したとき、粘着層側と積層体双方の剥離帯電を低くすることができ、さらに溶媒密着性を向上することができる。その機構としては、積層体の層Ｂ上に粘着層を形成すると、オニウム塩は粘着層と積層体の界面部と積層体の層Ａと支持基材の界面部の２カ所に高濃度で存在することになる。粘着層を積層体から粘着層と層Ｂの間で剥離すると、剥離した粘着層と層Ｂの表面にオニウム塩が存在するため、表面の帯電列が近くなるため剥離帯電量が小さくなり、さらに粘着層表面にオニウム塩が存在するため、剥離帯電による電荷を瞬時に漏洩、減衰させることができる。さらに離型フィルム側の帯電も、層Ａと支持基材の界面に存在するオニウム塩の濃度の高い部位が導電パスを形成することで低くなる。また、層Ａと支持基材の界面にオニウム塩が多く存在することにより、オニウム塩が抽出されやすい粘着剤（溶媒）を用いた場合においても、粘着層表面に移行するオニウム塩の量を微量にすることができ、耐溶媒密着性を向上することができる。

積層体の層Ａと層Ｂ内でのオニウム塩の厚み方向濃度分布を達成する方法については、特に限定されないが、後述する層Ａ用塗料組成物と層Ｂ用塗料組成物を後述する積層体の製造方法で塗布、乾燥することにより形成することが好ましい。

また前記層Ａは、ポリアルコキシシロキサンおよび金属キレート化合物を含むことが好ましい。ここで「ポリアルコキシシロキサン」とは、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉからなるシロキサン骨格を繰り返し単位としたセグメントが、１次元から３次元に規則的またはランダムに連なり、Ｓｉ上の残りの部位にアルコキシ基が付いた物、アルコキシ基以外の官能基が付いたもの、アルコキシ基が加水分解によりシラノール基になったもの、さらにシラノール基が金属キレートを介して架橋したものなども含む。

層Ａがポリアルコキシシロキサンを含むと、シラノール基やアルコキシ基等の官能基が存在することにより基材との親和性が、さらに層Ａがシロキサン骨格を含むため、層Ｂに含まれるポリジメチルシロキサンとも親和性が得られるため、積層体の溶媒密着性が向上するため好ましい。また、ポリジメチルシロキサンは、緻密な膜を形成でき、かつ極性の大きな材料であるため、疎水的なオリゴマーを通しにくいため、オリゴマーブロック性の観点から好ましく、またオニウム塩の層内での移動を制御する観点から、積層体の層Ｂ内でのオニウム塩の厚み方向濃度分布を形成する上で、好ましい。

ポリアルコキシシロキサンは、アルコキシシランが加水分解しさらにシラノール縮合することにより得られる。ここでアルコキシシランは、化学式１または化学式２で示される化合物で、ｎは０〜３の整数、ｍは０〜２の整数、Ｒ^１は（メタ）アクリル基、エポキシ基、ビニル基、フェニル基、アミノ基等、Ｒ^２は炭素数１から４のアルキル基、Ｒ^３は炭素数１から３のアルキレン基及びそれらから導出されるエステル構造、Ｒ^４は水素又は炭素数が１から４のアルキル基が好ましい。

具体的にポリアルコキシシロキサンは、（メタ）アクリロキシ（モノ、ジ、トリ）アルコキシシラン、エポキシ（モノ、ジ、トリ）アルコキシシラン、ビニル（モノ、ジ、トリ）アルコキシシラン、フェニル（モノ、ジ、トリ）アルコキシシラン、アミノ（モノ、ジ、トリ）アルコキシシラン、およびテトラアルコキシシランからなる群より選ばれる少なくとも１種のアルコキシシランの加水分解縮合体、加水分解縮合体の金属キレートによる架橋体、およびその混合物であることが好ましく、テトラアルコキシシランの加水分解縮合体、加水分解縮合体の金属キレートによる架橋体、およびその混合物であることが、層Ａ内に緻密なシロキサン結合を形成することができるため、オリゴマーブロック性と、積層体の層Ｂ内でのオニウム塩の厚み方向濃度分布の観点からより好ましい。

さらに本発明のポリアルコキシシロキサンは、前記テトラアルコキシシランと、エポキシ（モノ、ジ、トリ）アルコキシシラン、フェニル（モノ、ジ、トリ）アルコキシシラン、メチル（モノ、ジ、トリ）アルコキシシランからなる群より選ばれる少なくとも１種のアルコキシシランとの加水分解縮合体、加水分解縮合体の金属キレートによる架橋体、およびその混合物であることにより、層Ａ内の有機基が支持基材との密着性を高め、耐溶媒性を向上することができ、さらに積層体の層Ｂから層Ａ内でのオニウム塩の厚み方向濃度分布の観点からより好ましい。

ポリアルコキシシロキサンのシロキサン骨格の構造には、一般に「はしご状」、「かご状」、「ランダム状」などの種類があるが、本発明の積層体の層Ａにおいては、オリゴマーブロック性の観点や、積層体の層Ｂ内でのオニウム塩の厚み方向濃度分布を形成する観点から、緻密な層が得られるはしご状、もしくはかご状の割合が多くなっていることが好ましい。

層Ａに含まれるポリアルコキシシロキサンの形成方法については特に限定されず、支持基材上に後述する層Ａ用塗料組成物として、前述のアルコキシランの単量体を含む塗料組成物を塗布し、塗膜の乾燥、硬化工程にて加水分解、縮合反応させてもよいし、事前にアルコキシシランの加水分解縮合体を形成し、これを含む層Ａ用塗料組成物を塗布、乾燥させてもよいが、後者の方がオリゴマーブロック性、および積層体の層Ｂ内でのオニウム塩の厚み方向濃度分布を形成する観点から好ましい。また、前記層Ａ用塗料組成物として、事前にアルコキシシランの加水分解縮合体を形成し、さらにアルコキシシランの単量体を一部混合したものを含む層Ａ用塗料組成物を塗布、乾燥させることにより、耐溶媒密着性、および積層体の層Ｂおよび層Ａ内でのオニウム塩の厚み方向濃度分布を形成する観点から好ましい。

前記「金属キレート」とは、金属元素に対して複数の配位原子が存在する配位子（多座配位子）のみが配位した化合物、金属元素とアルコールの塩（金属アルコキシ塩、金属アルコレート）の一部が前述の多座配位子に置き換わった化合物、およびそれらのオリゴマーを指す。

金属キレートの金属元素としては、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、亜鉛および鉄より選ばれる少なくとも１種が好ましく、多座配位子としては、アセチルアセトン、アセト酢酸エチル、マロン酸ジエチル等のβケトエステル、βジケトン、βジエステル類が好ましい。具体的な材料については後述する。前記層Ａが金属キレートを含むことにより、層Ａ内で金属イオンを介してポリアルコキシシロキサンを架橋することができるため、耐溶媒密着性、オリゴマーブロック性に加えて、積層体の層Ｂ内でのオニウム塩の厚み方向濃度分布を形成する上でも効果をもたらしている。

金属キレートとして、アルミニウム元素を含む金属キレートの例には、アルミニウムトリス（アセチルアセトネ−ト）、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウム−ジ−ｎ−ブトキシド−モノエチルアセトアセテート、アルミニウム−ジ−イソ−プロポキシド−モノメチルアセトアセテート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が例示される。チタン元素を含む金属キレートの例には、テトラメチルチタネート等のチタンベーターエステル類；チタンアセチルアセトナート、チタンテトラアセチルアセトナート、ポリチタンアセチルアセトナート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテート、チタントリエタノールアミネート、チタンエチルアセトアセテート類等が例示される。

具体的なジルコニウム元素を含む金属キレートの例には、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムモノアセチルアセトナート、ジルコニウムビスアセチルアセトナート等が例示される。

本発明の積層体は、特定の条件にて処理されたときのポリエステルオリゴマーの析出量が特定範囲であることが好ましい。具体的には好ましくは、１８０℃、１０分間熱処理した後の、積層体の層Ｂ表面のジメチルホルムアミド抽出によるポリエステルオリゴマー量が０．１ｍｇ／ｍ^２以下、より好ましくは、０ｍｇ／ｍ^２である。１８０℃、１０分間熱処理した後の積層体の層Ｂ表面のジメチルホルムアミド抽出によるポリエステルオリゴマー量が０．１ｍｇ／ｍ^２を上回るレベルにあると、例えば、本発明の積層体を偏光板用粘着層の離型フィルムとして使用された場合、ポリエステルオリゴマーが偏光板の粘着剤に転移、層内で粒子を形成し、最終的にディスプレイに貼付された場合に、画素欠陥が多く発生する可能性がある。

また、本発明の積層体は、好ましくは、ガラス板検査法による外接直径３０μｍ以上の大きさの異物欠点数が、２個／５０ｃｍ^２以下、より好ましくは、０個／５０ｃｍ^２以下である。ガラス板検査法による外接直径３０μｍ以上の大きさの異物欠点数が、２個／５０ｃｍ^２以下であると、ＬＣＤ画面の輝度異常が目立たず、良好な光学特性を発揮することができる。なお、ここでいう「外接直径」とは、異物欠点を完全に囲む（外接する）最小の円の直径をいう。以下、本発明の各構成について詳細を述べる。

［積層体］
本発明の積層体は、支持基材の少なくとも一方の面に、前述の条件を満たす層Ａと層Ｂを支持基材側からこの順に有するものであればよく、支持基材の両方の面に支持基材側からこの順に層Ａ、層Ｂを有してもよい。

ここで本発明における「層」とは、前記積層体の表面から厚み方向に向かい、隣接する部位との構成元素の組成、粒子等の含有物の形状、厚み方向の物理特性が不連続な境界面を有することで区別される有限の厚みを有する部位を指す。より具体的には、前記積層体を表面から厚み方向に各種組成／元素分析装置（ＦＴ−ＩＲ、ＸＰＳ、ＸＲＦ、ＥＤＡＸ、ＳＩＭＳ、ＥＰＭＡ、ＥＥＬＳ等）、電子顕微鏡（透過型、走査型）または光学顕微鏡にて断面観察した際、前記不連続な境界面により区別され、有限の厚みを有する部位を指す。

［層Ａ］
本発明の積層体では、支持基材からの低分子量成分の表面移行を抑制するオリゴマーブロック性、層Ｂおよび支持基材との耐溶媒密着性、積層体の層Ｂ上に粘着層を形成し、次いで粘着層を剥離したときの粘着層と積層体の双方の帯電防止性の観点から、支持基材上にオニウム塩を含む１層以上の層Ａを設けることが好ましく、ポリアルコキシシロキサンおよび金属キレート化合物を含むことがより好ましい。本発明の積層体には、機能に合せて複数の層Ａを設けてもよい。また、支持基材の両方の面に層Ａを設けてもよい。

層Ａの形成方法は、前述の条件を満たすことができれば特に限定されないが、後述する層Ａ用塗料組成物を後述する積層体の積層方法により形成されていることが好ましい。層Ａの形成は支持基材の製膜途中で後述する層Ａ用塗料組成物を塗布したフィルムを作成してもよいし、支持基材の製膜後、層Ａ用塗料組成物を支持基材に塗布し、乾燥、巻き取りを行ってもよい。

層Ａの乾燥後の塗布厚みは、好ましくは、１０〜５００ｎｍ、より好ましくは１５〜２００ｎｍ、さらに好ましくは１５〜１００ｎｍである。塗布厚みが１０ｎｍ〜５００ｎｍであると、オリゴマーブロック性、層Ｂおよび支持基材との耐溶媒密着性、積層体の層Ｂ上に粘着層を形成し、次いで粘着層を剥離したときの粘着層と積層体の双方の帯電防止性、および優れた塗膜品位を得ることができるため好ましい。

［層Ａ用塗料組成物、樹脂組成物前駆体］
層Ａ用塗料組成物は、支持基材上に塗布、乾燥することで、層Ａがオニウム塩を含み、かつ積層体の層Ｂ内でのオニウム塩の厚み方向濃度分布が前述の特定の条件を満たすことができれば特に限定されないが、好ましくは、層Ａ用塗料組成物は、オニウム塩を含み、より好ましくはオニウム塩と金属キレートとポリアルコキシシロキサンもしくはその前駆体を含み、特に好ましくはイオン液体と金属キレートと、ポリアルコキシシロキサンもしくはその前駆体を含む。

層Ａ用塗料組成物に含まれることが好ましいオニウム塩、およびイオン液体の定義については、前述の通りである。

具体的なイオン液体の製品例としては、日本乳化剤（株）のＡＳ１００、ＡＳ２００、ＡＳ３００、ＡＳ４００、広栄化学（株）のＩＬ−Ｐシリーズ、ＩＬ−Ａシリーズ、ＩＬ−Ｃシリーズ、ＩＬ−ＩＭシリーズ、ＩＬ−ＡＰシリーズ、などが挙げられる。

さらに、本発明に用いられるイオン液体は反応性部位を有していてもよく、反応性部位を有するイオン液体の例としては、日本乳化剤（株）ＪＩ６２Ｊ０１、ＪＩ６２Ｇ０１、広栄化学（株）のＩＬ−ＭＡシリーズ、ＩＬ−Ｓシリーズ、スリーエムジャパン株式会社のＦＣ−４４００、などが挙げられる。

層Ａ用塗料組成物に含まれるイオン液体の量は、０．１〜３０質量％が好ましく、より好ましくは１〜２５質量％であり、さらに好ましくは３〜２０質量％の範囲である。イオン液体の量が０．１質量％未満であると、帯電防止性が不十分になる場合があり、イオン液体の量が３０質量％を超えると、イオン液体が積層体の表面に析出する場合がある。

層Ａ用塗料組成物Ａに含まれることが好ましい、ポリアルコキシシロキサン、およびアルコキシシランの定義は前述の通りである。ポリアルコキシシロキサン前駆体とは、前述のアルコキシシラン単量体、もしくはアルコキシシランの加水分解体、アルコキシシランの加水分解縮合体を指す。

層Ａ用塗料組成物Ａ反応性の観点から、オリゴマーとモノマーを併用してもよく、塗料組成物に含まれるモノマーの量は、０〜５０質量％が好ましく、０〜３０質量％がより好ましい。

層Ａ用塗料組成物に含まれることが好ましい金属キレートの定義については、前述の通りである。

具体的な金属キレートの製品例としては、マツモトファインケミカル（株）のＡＬ-３００１、ＡＬ-３１００、ＴＣ-４０１、ＴＣ-７５０、ＺＣ-１５０、ＺＣ-７００、ホープ製薬
（株）のアセトープＡｌ、アセトープＦｅ、川研ファインケミカル（株）のアルミキレートＡ、アルミキレートＤ、ＡＬＣＨ、ＡＩＰＤ、ＰＡＤＭ、などが挙げられる。

層Ａ用塗料組成物に含まれる金属キレートの量は０．１〜３０質量％が好ましく、より好ましくは１〜２０質量％であり、さらに好ましくは３〜１５質量％の範囲である。金属キレートの量が０．１質量％未満であると、層Ａの硬化反応が迅速に進まない場合があり、塗布速度を遅くする必要が生じる場合がある。さらに、層Ａの上に層Ｂを形成した場合、層Ｂの硬化阻害が発生し、剥離力が低下する場合がある。金属元素を有する化合物の量が３０質量％を超えると、塗料組成物の経時安定性の低下、塗膜品位の低下が発生する場合がある。

本発明における層Ａ用塗料組成物の固形分濃度は、特にこれに限定されないが、層Ａ用塗料組成物が溶媒を含む場合には、通常２０質量％以下が好ましく、更には０．５〜１０質量％であることが好ましい。固形分濃度が０．５質量％未満であると、基材フィルム上でハジキが発生しやすくなる場合があり、固形分濃度が２０質量％を超えると粘度が高くなるため、品位が低下する場合がある。

［層Ｂ］
本発明の積層体では、支持基材からの低分子量成分の表面移行を抑制するオリゴマーブロック性、層Ｂおよび支持基材との耐溶媒密着性、積層体の層Ｂ上に粘着層を形成し、次いで粘着層を剥離したときの粘着層と積層体の双方の帯電防止性の観点から、支持基材上に１層以上の層Ａを設けた上に、ポリジメチルシロキサンを含む層Ｂを設けることが好ましい。

層Ｂに含まれるポリジメチルシロキサンは、層Ｂ表面の元素分析を実施することで確認できる。具体的には、層Ｂ表面について、各種組成／元素分析装置（ＦＴ−ＩＲ、ＸＰＳ、ＸＲＦ、ＥＤＡＸ、ＳＩＭＳ、ＥＰＭＡ、ＥＥＬＳ等）を用いて元素分析を実施し、ポリジメチルシロキサン由来のＳｉ元素ピークの検出有無で確認できる。

層Ｂの形成方法は、ポリジメチルシロキサンを含む層Ｂが形成できれば特に限定されないが、層Ａ上に後述する層Ｂ用樹脂組成物の層が形成することができることが好ましく、層Ｂ用樹脂前駆体を含む層Ｂ用塗料組成物を後述する積層体の形成方法にて塗布、乾燥することが好ましい。

例えば層Ｂを塗布により形成する場合、層Ｂの乾燥塗布厚みは、１０〜５００ｎｍであることが好ましく、２０〜２００ｎｍであることがより好ましい。層Ｂの乾燥塗布厚みを上記範囲とすることで、生産性を低下させにくく安定した離型フィルムとしての基本機能と付加機能を実現させることができる。

［層Ｂ用樹脂組成物］
本発明における層Ｂ用樹脂組成物は、離型性の観点からポリジメチルシロキサンを含むことが好ましく、シリコーン系樹脂がより好ましく、特に硬化型シリコーン系樹脂が好ましい。

硬化型シリコーン系樹脂には、オルガノハイドロジェンポリロキサンとアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサンとを白金触媒のもとに、加熱硬化させた「付加反応型」、オルガノハイドロジェンポリロキサンと末端に水酸基を含有するオルガノポリシロキサンとを有機錫触媒を用いて加熱硬化させた「縮重合反応型」、アルケニル基を含有するオルガノポリシロキサンとメルカプト基を含有するオルガノポリシロキサンとを光重合触媒を用いて硬化させる「ラジカル付加型」、エポキシ基をオニウム塩開始剤にて光開環させて硬化させる「カチオン重合型」があり、いずれを用いてもよいが、生産性、剥離力の観点から、オルガノハイドロジェンポリロキサンとアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサンとを、白金触媒のもとに加熱硬化させた付加反応型が好ましい。

本発明における層Ｂ用樹脂組成物は、好ましくは後述する層Ｂ用塗料組成物を必要に応じて乾燥工程で溶媒を除去の上、硬化することにより形成することができる。

［層Ｂ用塗料組成物、層Ｂ用樹脂前駆体］
前述の層Ｂ用塗料組成物は、前述の層Ｂ、もしくは前述の層Ｂ用樹脂組成物を形成することができる室温にて液体の性状を示す混合物であり、少なくとも後述する層Ｂを有する積層体の製造方法によって、層Ｂ用樹脂組成物を形成可能な材料（以降これを樹脂前駆体と呼ぶ）と、重合開始剤、硬化剤、硬化触媒を含み、さらに溶媒、粒子、帯電防止剤などの各種添加剤を含んでもよい。

層Ｂ用塗料組成物は、層Ｂがポリジメチルシロキサンを含めば、その組成は特に限定されないが、前述のように離型性や耐熱性の観点から、シリコーン系樹脂、特に硬化型シリコーン系樹脂を形成可能な樹脂前駆体が好ましく、「付加反応型」、「縮重合反応型」、「ラジカル付加型」、「カチオン重合型」の樹脂前駆体、および重合開始剤、硬化剤、硬化触媒を含む塗料組成物がより好ましく、「付加反応型」が最も好ましい。

付加反応型シリコーン系樹脂前駆体と触媒の具体例としては、末端にビニル基を含有するポリジメチルシロキサンとハイドロジェンシロキサンとを含むものが好ましく、信越化学工業（株）社製のＫＳ−３６５０、ＫＳ８４３、ＫＳ８４７、ＫＳ８４７Ｈ、ＫＳ８４７Ｔ、Ｘ６２−２８２９、ＫＳ８３８、東レ・ダウコーニング（株）社製のＳＤ７３３３、ＳＲＸ３５７、ＳＲＸ３４５、ＬＴＣ３１０、ＬＴＣ３０３Ｅ、ＬＴＣ３００Ｂ、ＬＴＣ３５０Ｇ、ＬＴＣ７５０Ａ、ＬＴＣ８５１、ＬＴＣ７５９、ＬＴＣ７５５、ＬＴＣ７６１、ＬＴＣ８５６、などが挙げられる。

縮重合反応型シリコーン系樹脂前駆体と触媒の具体例としては、末端に水酸基を含有するポリジメチルシロキサンとハイドロジェンシロキサンとを有機錫触媒を含むものが好ましく、東レダウコーニング（株）社製ＳＲＸ２９０やＳＹ ＬＯＦＦ２３が挙げられる。

ラジカル付加型シリコーン系樹脂前駆体と触媒の具体例としては、アルケニル基を含むシロキサンとメルカプト基を含むシロキサンと光重合触媒を含むものが好ましく、東レ・ダウコーニング（株）社製ＢＹ２４−５１０ＨおよびＢＹ２４−５４４などが挙げられる。

カチオン重合型シリコーン系樹脂前駆体と触媒の具体例としては、エポキシ基を含むシロキサンと、オニウム塩開始剤を含むものが好ましく、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製ＴＰＲ６５０１、ＵＶ９３００およびＸＳ５６−Ａ２７７５などが挙げられる。

本発明における層Ｂ用塗料組成物の固形分濃度は、特に限定されないが、層Ｂ用塗料組成物が溶媒を含む場合には、通常１０質量％以下であり、更には０．５〜５質量％であることが好ましい。塗料組成物の固形分濃度が０．５質量％未満であると、支持基材もしくは前述の層Ａ上でハジキが発生しやすくなる場合があり、塗料組成物の固形分濃度が１０質量％を超えると表面が粗くなる場合がある。

［その他の塗料組成物添加剤］
前述の層Ａ用塗料組成物と層Ｂ用塗料組成物は溶媒を含んでいてもよく、製造適性の面から溶媒を含むことが好ましい。ここで溶媒とは塗布後の乾燥工程にてほぼ全量を蒸発させることが可能な、常温、常圧で液体である物質を指す。本発明の積層体に適した塗料組成物は、溶媒を含んでもよい。溶媒の種類数としては１種類以上２０種類以下が好ましく、より好ましくは１種類以上１０種類以下、さらに好ましくは１種類以上６種類以下である。

溶媒の種類とは溶媒を構成する分子構造によって決まる。すなわち、同一の元素組成で、かつ官能基の種類と数が同一であっても結合関係が異なるもの（構造異性体）、前記構造異性体ではないが、３次元空間内ではどのような配座をとっても重ならないもの（立体異性体）は、種類の異なる溶媒として取り扱う。例えば、２−プロパノールと、ｎ−プロパノールは異なる溶媒として取り扱う。

［支持基材］
本発明における支持基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリアミドフィルム、アクリル樹脂フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、シクロオレフィン樹脂フィルム等が挙げられるが、特に離型フィルムとして用いられる際に好適に使用される支持基材としては、機械的強度、耐熱性、熱寸法安定性および耐薬品性に優れ、且つ経済的である２軸延伸ポリエステルフィルムが好ましい。

支持基材の表面には、前記層Ａを形成する前に各種の表面処理を施すことも可能である。表面処理の例としては、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が挙げられる。これらの中でもグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と紫外線処理がさらに好ましい。

［積層体の製造方法］
本発明の積層体は、層Ａ用塗料組成物を支持基材上に塗布し、さらに層Ｂ用塗料組成物を塗布することにより形成する方法が好ましい。

支持基材上への塗料組成物の塗布方法は特に限定されないが、塗料組成物をディップコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やダイコート法（米国特許第２６８１２９４号明細書）などにより支持基材等に塗布することにより層を形成することが好ましい。さらに、これらの塗布方式のうち、グラビアコート法またはダイコート法が塗布方法としてより好ましい。次いで、支持基材等の上に塗布された液膜を乾燥する。得られる積層体中から完全に溶媒を除去することに加え、塗膜の硬化を促進する観点からも、乾燥工程では液膜の加熱を伴うことが好ましい。

乾燥方法については、伝熱乾燥（高熱物体への密着）、対流伝熱（熱風）、輻射伝熱（赤外線）、その他（マイクロ波、誘導加熱）などが挙げられる。この中でも、本発明の製造方法では、精密に幅方向でも乾燥速度を均一にする必要から、対流伝熱または輻射伝熱を使用した方式が好ましい。

さらに、熱またはエネルギー線を照射することによるさらなる硬化操作（硬化工程）を行ってもよい。硬化工程において、熱で硬化する場合には、室温から２００℃以下であることが好ましく、硬化反応の活性化エネルギーの観点から、より好ましくは１００℃以上２００℃以下、さらに好ましくは１３０℃以上２００℃以下である。

また、エネルギー線により硬化する場合には汎用性の点から電子線（ＥＢ線）および／または紫外線（ＵＶ線）であることが好ましい。また、紫外線を照射する際に用いる紫外線ランプの種類としては、例えば、放電ランプ方式、フラッシュ方式、レーザー方式、無電極ランプ方式等が挙げられる。放電ランプ方式である高圧水銀灯を用いて紫外線硬化させる場合、紫外線の照度が１００〜３，０００ｍＷ／ｃｍ^２、好ましくは２００〜２，０００ｍＷ／ｃｍ^２、さらに好ましくは３００〜１，００ｍＷ／ｃｍ^２となる条件で紫外線照射を行うことが好ましく、紫外線の積算光量が１００〜３，０００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは２００〜２，０００ｍＪ／ｃｍ^２、さらに好ましくは３００〜１，５００ｍＪ／ｃｍ^２となる条件で紫外線照射を行うことがより好ましい。ここで、紫外線照度とは、単位面積当たりに受ける照射強度で、ランプ出力、発光スペクトル効率、発光バルブの直径、反射鏡の設計および被照射物との光源距離によって変化する。しかし、搬送スピードによって照度は変化しない。また、紫外線積算光量とは単位面積当たりに受ける照射エネルギーで、その表面に到達するフォトンの総量である。積算光量は、光源下を通過する照射速度に反比例し、照射回数とランプ灯数に比例する。

［用途］
また、本発明の積層体は離型フィルムとして好適に用いることができ、特に偏光板、位相差フィルムの粘着層保護用の離型フィルムとして好適に用いることができる。

次に、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されない。なお、同一の化合物については特記しない限り同一の製品を用いた。

［支持基材の作成］
［支持基材１］
組成を表１の通りとして、原料を、酸素濃度を０．２体積％としたベント同方向二軸押出機に供給し、Ａ層押出機シリンダー温度を２８０℃で溶融し、短管温度を２７５℃、口金温度を２８０℃で、Ｔダイより２５℃に温度制御した冷却ドラム上にシート状に吐出した。その際、直径０．１ｍｍのワイヤー状電極を使用して静電印加し、冷却ドラムに密着させ未延伸シートを得た。次いで、長手方向への予熱温度８５℃で１．５秒間予熱を行い、延伸温度１１５℃で長手方向に３．３倍延伸し、すぐに４０℃に温度制御した金属ロールで冷却化した。次いでテンター式横延伸機にて予熱温度８５℃で１．５秒予熱を行い、延伸前半温度１１５℃、延伸中盤温度１３５℃、延伸後半温度１４５℃で幅方向に３．３倍延伸し、そのままテンター内にて、熱処理温度２３０℃で、幅方向に５％のリラックスを掛けながら熱処理を行い、フィルム厚み２３μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。これを支持基材１とした。

［塗料組成物の作成］
［層Ａ用塗料組成物ａ１〜ａ２９の作成］
層Ａ用塗料組成物ａ１〜ａ２９は、表２に示す材料と比率で混合することにより得た。なお表２中の各原材料の詳細は下記の通りである。

［層Ａ用塗料組成物ａ３０〜ａ５３の作成］
層Ａ用塗料組成物ａ３０〜ａ５３は、表５に示す材料と比率で混合することにより得た。なお表５中の各原材料の詳細は下記の通りである。

［アルコキシシラン］
Ａ１：３メタクリロキシプロピルトリメトキシシシラン（ＫＢＭ−５０３ 信越化学工業（株））
Ａ２：３グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−４０３ 信越化学工業（株））
Ａ３：テトラエトキシシラン（ＫＢＥ０４ 信越化学工業（株））
Ａ４：シランオリゴマー（ＫＲ５００ 信越化学工業（株））
Ａ５：シランオリゴマー（メチルシリケート５３Ａ コルコート（株））
Ａ６：シランオリゴマー（エチルシリケート４８ コルコート（株））
Ａ７：シランオリゴマー（ＨＡＳ−６ コルコート（株））
Ａ８：フェニルトリエトキシシラン（ＫＢＥ１０３ 信越化学工業（株））。

［オニウム塩］
Ｂ１：イオン液体（アミノイオン^ＲＡＳ１００ 日本乳化剤（株））
Ｂ２：イオン液体（ＫＯＥＬＩＱ^ＴＭＩＬ−ＡＰ３ 広栄化学工業（株））
Ｂ３：イオン液体（ＫＯＥＬＩＱ^ＴＭＩＬ−Ａ２ 広栄化学工業（株））
Ｂ４：イオン液体（ＫＯＥＬＩＱ^ＴＭＩＬ−Ｐ１４ 広栄化学工業（株））
Ｂ５：イオン液体（ＫＯＥＬＩＱ^ＴＭＩＬ−ＩＭ１ 広栄化学工業（株））
Ｂ６：アクリル基を有するイオン液体（アミノイオン^ＲＡＳシリーズＪＩ６２Ｊ０１ 日本乳化剤（株））
Ｂ７：アルコキシシリル基を有するイオン液体（アミノイオン^ＲＡＳシリーズＪＩ６２Ｇ０２ 日本乳化剤（株））。

［金属キレート化合物］
Ｃ１：アルミニウムトリスアセチルアセトネート（ＡＬ−３１００ マツモトファインケミカル（株））
Ｃ２：アルミニウムイソプロピレート（ＡＩＰＤ 川研ファインケミカル（株））
Ｃ３：チタンアセチルアセトネート（ＴＣ−１００ マツモトファインケミカル（株））
Ｃ４：ジルコニウムテトラアセチルアセトネート（ＺＣ−１５０マツモトファインケミカル（株））
Ｃ５：鉄アセチルアセトネート（アセトープＦｅ ホープ製薬（株）。

［他添加剤］
Ｄ１：光重合開始剤（イルガキュア１８４ ＢＡＳＦジャパン（株）。

［溶媒］
Ｅ１：イソプロピルアルコール
Ｅ２：メチルエチルケトン。

［層Ｂ用塗料組成物ｂ１〜ｂ３の作成］
［層Ｂ用塗料組成物ｂ１］ 下記材料を混合し層Ｂ用塗料組成物ｂ１を得た。
・メチルビニルポリシロキサンおよびメチル水素化ポリシロキサンのトルエン溶液：１０質量部 （ＫＳ８４７Ｈ 信越化学工業（株）製 固形分濃度 ３０質量％）
・メチルビニルポリシロキサンと白金の錯体溶液：０．１質量部（ＰＬ−５０Ｔ 信越化学工業（株）製）
・トルエン：１０質量部
・ヘプタン：１０質量部。

［層Ｂ用塗料組成物ｂ２］ 下記材料を混合し層Ｂ用塗料組成物ｂ２を得た。
・メチルヘキシレンポリシロキサンおよびメチル水素化ポリシロキサンのトルエン溶液：１０質量部（ＬＴＣ７５０Ａ 東レダウコーニング（株）製 固形分濃度 ３０質量％）
・メチルビニルポリシロキサンと白金の錯体溶液：０．１質量部（ＳＲＸ２１２ 東レダウコーニング（株）製）
・トルエン：１０質量部
・ヘプタン：１０質量部。

［層Ｂ用塗料組成物ｂ３］ 下記材料を混合し層Ｂ用塗料組成物ｂ３を得た。
・メチルビニルポリシロキサンおよびメチル水素化ポリシロキサンのトルエン溶液：１０質量部 （ＫＳ８４７Ｈ 信越化学工業（株）製 固形分濃度 ３０質量％）
・メチルビニルポリシロキサンと白金の錯体溶液：０．１質量部（ＰＬ−５０Ｔ 信越化学工業（株）製）
・イオン液体：０．０８８質量部（アミノイオン^ＲＡＳ１００ 日本乳化剤（株）製）
・トルエン：１０質量部
・ヘプタン：１０質量部。

［積層体の作成、層Ｂの作成］
以下の積層体の作成−ｃ１〜ｃ９、層Ｂの作成−ｃ１０にしたがって、積層体、および層Ｂを得た。

［積層体の作成−ｃ１］
厚み３８μｍのポリエステルフィルム（東レ（株）製商品名“ルミラー”（登録商標）Ｒ６０）に、層Ａ用塗料組成物を、乾燥・硬化後の塗布厚みが５０ｎｍとなるようにグラビアコーターで塗布し、８０℃で３秒乾燥硬化した。

次いで、３分以内に層Ｂ用塗料組成物を、乾燥後の塗布厚みが８０ｎｍとなるようにグラビアコートで塗布し、１２０℃で３０秒乾燥硬化し、積層体を得た。

［積層体の作成−ｃ２］
厚み３８μｍのポリエステルフィルム（東レ（株）製商品名“ルミラー”（登録商標）Ｒ６０）に、層Ａ用塗料組成物を、乾燥・硬化後の塗布厚みが５０ｎｍとなるようにグラビアコーターで塗布し、８０℃で３秒乾燥硬化した。

次いで、３分以内に層Ｂ用塗料組成物を、乾燥後の塗布厚みが８０ｎｍとなるようにグラビアコートで塗布し、１２０℃で３０秒乾燥硬化し、次いで高圧水銀灯にて、１００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して積層体を得た。

［積層体の作成−ｃ３］
前記積層体の作成−ｃ１に対し、層Ａ用塗料組成物の乾燥・硬化後の塗布厚みを８０ｎｍとなるようにグラビアコーターで塗布した以外は同様にして、積層体を得た。

［積層体の作成−ｃ４］
前記積層体の作成−ｃ１に対し、層Ａ用塗料組成物の乾燥・硬化後の塗布厚みを１２０ｎｍとなるようにグラビアコーターで塗布した以外は同様にして、積層体を得た。

［積層体の作成−ｃ５］
前記積層体の作成−ｃ１に対し、層Ａ用塗料組成物の乾燥・硬化後の塗布厚みを１５ｎｍとなるようにグラビアコーターで塗布した以外は同様にして、積層体を得た。

［積層体の作成−ｃ６］
前記積層体の作成−ｃ１に対し、層Ｂ用塗料組成物の乾燥・硬化後の塗布厚みを５０ｎｍとなるようにグラビアコーターで塗布した以外は同様にして、積層体を得た。

［積層体の作成−ｃ７］
前記積層体の作成−ｃ１に対し、層Ｂ用塗料組成物の乾燥・硬化後の塗布厚みを１５０ｎｍとなるようにグラビアコーターで塗布した以外は同様にして、積層体を得た。

［積層体の作成−ｃ８］
前記積層体の作成−ｃ１に対し、層Ｂ用塗料組成物の乾燥・硬化後の塗布厚みを３０ｎｍとなるようにグラビアコーターで塗布した以外は同様にして、積層体を得た。

［積層体の作成−ｃ９］
厚み２３μｍのポリエステルフィルム（支持基材１）に、層Ａ用塗料組成物を、乾燥・硬化後の塗布厚みが５０ｎｍとなるようにグラビアコーターで塗布し、８０℃で３秒乾燥硬化した。

次いで、３分以内に層Ｂ用塗料組成物を、乾燥後の塗布厚みが８０ｎｍとなるようにグラビアコートで塗布し、１２０℃で３０秒乾燥硬化し、積層体を得た。

［層Ｂの作成-ｃ１０］
厚み３８μｍのポリエステルフィルム（東レ（株）製商品名“ルミラー”（登録商標）Ｒ６０）に、層Ｂ用塗料組成物を、乾燥後の塗布厚みが８０ｎｍとなるようにグラビアコートで塗布し、１２０℃で３０秒乾燥硬化し、層Ｂを得た。

以上の方法により実施例１〜３５、実施例３６〜６５の積層体、比較例１〜３の積層体、比較例４の層Ｂ、比較例５の層Ｂ、比較例６〜８の積層体を作成した。実施例１〜３５と比較例１〜４の層Ａ、層Ｂの塗料組成物、層Ａ、層Ｂの厚み、製造方法を表３に、実施例３６〜６５と比較例５〜８の層Ａ、層Ｂの塗料組成物、層Ａ、層Ｂの厚み、製造方法を表６に記載した。

［積層体の評価］
作成した積層体について、次に示す性能評価を実施し、得られた結果を表４および表７に示す。特に断らなければ、測定は各実施例・比較例において、１つのサンプルにつき場所を変えて３回測定を行い、その平均値を用いた。

[オニウム塩の濃度（領域Ｘ、領域Ｙ、領域Ｚ）]
オニウム塩の濃度は、電界放出型透過電子顕微鏡（ＪＥＯＬ製 ＪＥＭ−２１００Ｆ）を用いて得られた積層体の断面（ＨＡＡＤＦ-ＳＴＥＭ像）について、各領域のＥＥＬＳ分析（元素分析）を実施し、オニウム塩の濃度を算出した。

具体的には、ＲｕＯ_４染色超薄切片法を用いて積層体の超薄膜切片を作成し、電界放出型透過電子顕微鏡（ＪＥＯＬ製 ＪＥＭ−２１００Ｆ）を用いて２０万倍の倍率で観察される断面（ＨＡＡＤＦ-ＳＴＥＭ像）について、各領域のＥＥＬＳ分析（元素分析）を実施した。

上記ＲｕＯ_４染色超薄切片法では、ＲｕＯ_４染料を用いて積層体断面の染色を実施し、包埋樹脂で固定化した後、凍結ミクロトームを用いて積層体断面の超薄膜切片を作成する。得られた超薄膜切片を電界放出型透過電子顕微鏡を用いて観察すると、層Ｂは染色され、層Ａは染色されないため、コントラスト差により層Ｂと層Ａの界面が観察される。

次いで、得られた積層体の断面像から、下記領域についてＥＥＬＳ分析（元素分析）を実施すると、各領域の元素ピーク（ａｔｍ％）比が得られる。得られた元素ピーク比を各元素の濃度比として算出し、オニウム塩に含まれる特徴的な元素の濃度をオニウム塩の濃度とした。
・領域Ｘ：厚み方向における層Ｂの最表面の領域
上記方法を用いて観察される積層体の断面像において、点α（包埋樹脂と層Ｂのコントラスト差から識別）から厚み方向に５ｎｍの点を測定の中心点としＥＥＬＳ分析を実施し、得られた異なる元素ピークの強度比を濃度比として算出し、オニウム塩に含まれる特徴的な元素の濃度を、領域Ｘのオニウム塩の濃度とした。
・領域Ｙ：層Ｂの中央部の領域
上記方法を用いて観察される積層体の断面像において、点β（コントラスト差から層Ｂを識別し、層Ｂの膜厚みから層Ｂの中点を算出）を含み、厚み方向に領域Ｘ、領域Ｚ以外の範囲についてＥＥＬＳ分析を実施する。領域Ｙは領域Ｘ、領域Ｚと比較して広域であるため、領域Ｘと領域Ｙとの界面から支持基材方向に５ｎｍの点から領域内を支持基材方向に１０ｎｍの範囲毎に元素分析を実施し、得られた異なる元素ピークの強度比を濃度比として算出し、オニウム塩に含まれる特徴的な元素の濃度をオニウム塩の濃度として算出した。領域Ｙ内において、最もオニウム塩濃度が高いものを、領域Ｙのオニウム塩の濃度とした。
・領域Ｚ：層Ａと層Ｂの界面の領域
上記方法を用いて観察される積層体の断面像において、点γ（層Ａと層Ｂのコントラスト差から識別）を含み、点γを測定の中心点としＥＥＬＳ分析を実施し、得られた異なる元素ピークの強度比を濃度比として算出し、オニウム塩に含まれる特徴的な元素の濃度を、領域Ｚのオニウム塩の濃度とした。

[オニウム塩の濃度（領域Ｖ、領域Ｓ、領域Ｔ、領域Ｗ）]
オニウム塩の濃度は、前述の[オニウム塩の濃度（領域Ｘ、領域Ｙ、領域Ｚ）]に記載の方法と同様にして、濃度を算出した。
・領域Ｖ：厚み方向における層Ｂの最表面の領域
上記方法を用いて観察される積層体の断面像において、点ε（包埋樹脂と層Ｂのコントラスト差から識別）から厚み方向に５ｎｍの点を測定の中心点としＥＥＬＳ分析を実施し、得られた異なる元素ピークの強度比を濃度比として算出し、オニウム塩に含まれる特徴的な元素の濃度を、領域Ｖのオニウム塩の濃度とした。
・領域Ｓ：層Ｂの中央部の領域
上記方法を用いて観察される積層体の断面像において、点σ（コントラスト差から層Ｂを識別し、層Ｂの膜厚みから層Ｂの中点を算出）を含み、点σを測定の中心点としてＥＥＬＳ分析を実施し、得られた異なる元素ピークの強度比を濃度比として算出し、オニウム塩に含まれる特徴的な元素の濃度を、領域Ｓのオニウム塩の濃度とした。
・領域Ｔ：層Ａの中央部の領域
上記方法を用いて観察される積層体の断面像において、点ω（コントラスト差から層Ａを識別し、層Ａの膜厚みから層Ａの中点を算出）を含み、点ωを測定の中心点としてＥＥＬＳ分析を実施し、得られた異なる元素ピークの強度比を濃度比として算出し、オニウム塩に含まれる特徴的な元素の濃度を、領域Ｔのオニウム塩の濃度とした。
・領域Ｗ：層Ａと支持基材の界面の領域
上記方法を用いて観察される積層体の断面像において、点η（層Ａと支持基材のコントラスト差から識別）から層Ａ方向に５ｎｍの点を測定の中心点としＥＥＬＳ分析を実施し、得られた異なる元素ピークの強度比を濃度比として算出し、オニウム塩に含まれる特徴的な元素の濃度を、領域Ｗのオニウム塩の濃度とした。

［剥離力（常温）］
積層体の層Ｂ形成面に粘着テープ（日東電工（株）製、ポリエステルテープ商品名３１Ｂ：以下３１Ｂテープ）を、５ｋｇｆのゴムローラーを１往復させて圧着し、２０℃６５％ＲＨ２４時間放置後、引張り試験機を用いて３００ｍｍ／分の速度で１８０°剥離した時の応力を測定した。剥離力は０．１３ｍＮ以下を合格とした。

［耐溶媒密着性］
テスター産業社製、学振型摩擦試験機ＩＩ型を用いて、積層体の層Ｂ表面に対し、トルエン約１ｍｌを染み込ませた綿布（金巾３号）で荷重２００ｇｆ×３０往復擦過し、積層体についた溶剤を乾燥させた後、ポリエステル粘着テープ（日東電工（株）社製Ｎｏ．３１Ｂテープ、１８ｍｍ幅）を、５ｋｇｆローラーで圧着させながら貼り合わせ、１時間放置し、引張り試験機で剥離速度３００ｍｍ／分、剥離角度１８０°でテープを剥離した時の荷重を測定した。この剥離力をトルエン含浸綿布で擦過した後の層Ｂ形成面の剥離力とした。

上記測定に用いたサンプルとは別の積層体の層Ｂ形成面に、ポリエステル粘着テープ（日東電工（株）社製Ｎｏ．３１Ｂテープ、１８ｍｍ幅）を、５ｋｇｆローラーで圧着させながら貼り合わせ、１時間放置し、引張り試験機で剥離速度３００ｍｍ／分、剥離角度１８０°でテープを剥離した時の荷重を測定し、この剥離力を初期の層Ｂ形成面の剥離力とした。

この結果を以下の数式に当てはめて、耐溶媒密着性を計算した。耐溶媒密着性が８５％以上を合格とした。
耐溶媒密着性＝Ａ／Ｂ×１００
Ａ：初期の層Ｂ形成面の剥離力
Ｂ：トルエン含浸綿布で擦過した後の層Ｂ形成面の剥離力。

［耐溶媒密着性２］
テスター産業社製、学振型摩擦試験機ＩＩ型を用いて、積層体の層Ｂ表面に対し、酢酸エチル約１ｍｌを染み込ませた綿布（金巾３号）で荷重２００ｇｆ×３０往復擦過し、積層体についた溶剤を乾燥させる。次いで２３℃×６５％ＲＨ環境下にて、表面抵抗測定機（三菱化学（株）製 ハイレスターＵＸ 検出上限値 ９×１０^１４Ω／□）を用い、擦過後の積層体の層Ｂ表面の任意の３点を測定した。その平均値を酢酸エチル擦過後の表面抵抗値とし、９×１０^１２Ω／□以下を合格とした。

［帯電防止性１・・・初期の表面抵抗値と粘着層剥離後の表面抵抗値］
２３℃×６５％ＲＨ環境下にて、表面抵抗測定機（三菱化学（株）製 ハイレスターＵＸ 検出上限値 ９×１０^１４Ω／□）を用い、積層体の層Ｂ表面の任意の３点を測定した。その平均値を初期の表面抵抗値とし、９×１０^１２Ω／□以下を合格とした。

［帯電防止性２・・・剥離後の粘着層と積層体の帯電量］
積層体の層Ｂ上に、ワイヤーバー（Ｎｏ．４０）を用いてアクリル系粘着剤（トーヨーケム（株）製、オリバインＢＰＳ−８１７０）を塗布し、１５０℃のオーブンで２分間粘着剤を乾燥させ、粘着層を形成した。次いで、該粘着層上に、厚み２５μｍのポリエステルフィルムを５ｋｇのローラーで圧着させながら貼り合わせ、室温２３℃、湿度６５％ＲＨの雰囲気下で１時間放置した。

その後、ポリエステルフィルムと粘着層を介して圧着された積層体を、Ａ４（２１０ｍｍ×２９７ｍｍ）サイズに裁断し、積層体のみを剥離して剥離後の粘着層、および剥離後の積層体を得た。剥離後の粘着層、および剥離後の積層体について、表面電位計（トレックジャパン（株）製 ＭＯＤＥＬ３２３）を用いて電位を測定し、２０．０Ｖ以下を合格とした。電位は、Ａ４の短手方向（２１０ｍｍ）について測定し、得られた電位（絶対値）の平均値を算出して用いた。

［オリゴマーブロック性１・・・オリゴマー量］
オリゴマー量は、下記に示す方法で測定した。

積層体を１８０℃×１０分間熱処理後、底辺の面積が７２ｃｍ^２になるように積層体を折り、内側が層Ａ、層Ｂとなるように四角の箱を作成した。次いで、ここで作成した積層体の箱の中に、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１０ｍｌを入れ、底面積が全てＤＭＦに浸るようにし、３分間放置した後、ＤＭＦを回収し、液体クロマトグラフィー（Ｓｈｉｍａｄｚｕ ＣＬＡＳＳ−ＶＰ）に供給し、ＤＭＦ中のポリエステルオリゴマー量を求めた。ＤＭＦ中のポリエステルオリゴマー量を接触させた積層体の面積で割り、オリゴマー量（ｍｇ／ｍ^２）とし、オリゴマー量が０．１（ｍｇ／ｍ^２）以下を合格とした。

ＤＭＦ中のオリゴマー量は、標準試料ピーク面積と測定試料ピーク面積のピーク面積比より求めた。標準試料は、あらかじめ分取したポリエステルオリゴマー（環状三量体）を正確に秤量し、同時に正確に秤量したＤＭＦに溶解し得た。標準試料の濃度は０．００１〜０．０１（ｍｇ／ｍ^２）とした。

液体クロマトグラフによるＤＭＦ中のポリエステルオリゴマー量の測定条件は下記のとおりである。
移動相Ａ：メタノール
移動相Ｂ：純水
カラム：ＹＭＣ−Ｐａｃｋ ＯＳＤ−Ａ
カラム温度：４０℃
検出波長：２４０ｎｍ。

［オリゴマーブロック性２・・・異物欠点数］
異物欠点数は、下記に示すガラス板検査法で測定した。
積層体の層Ｂ上に、十分異物が無いことを確認した後、ワイヤーバー（Ｎｏ．４０）を用いてアクリル系粘着剤（トーヨーケム（株）製、オリバインＢＰＳ−８１７０）を塗布し、１５０℃のオーブンで２分間粘着剤を乾燥させ、粘着層を形成した。次いで、該粘着層上に、厚み２５μｍのポリエステルフィルムを５ｋｇのローラーで圧着させながら貼り合わせ、室温２３℃、湿度６５％ＲＨの雰囲気下で１時間放置した。

その後、ポリエステルフィルムと粘着層を介して圧着された積層体を、５０ｍｍ×１００ｍｍに裁断後、積層体のみを剥離し、厚み５ｍｍの平滑で透明なガラス板に、粘着層付きのポリエステルフィルムの粘着層側を５ｋｇローラーで圧着させながら貼り合わせた。

標準光源下にて、ガラス板／粘着層／ポリエステルフィルムの貼合品の両面を目視観察し、外接直径が３０μｍ以上の輝点、曇り等の異物欠点数を数えた。また、欠点の大きさは顕微鏡で観察した。下記判定基準で異物欠点数を判定し、２点以上を合格とした。
３点 ：異物欠点数＝０個 ／５０ｃｍ^２
２点 ：異物欠点数＝１〜２個／５０ｃｍ^２
１点 ：異物欠点数＝３個以上／５０ｃｍ^２。

１ 支持基材
２ 層Ａ
３ 層Ｂ
４ 支持基材に垂直な基準線
５ 点α
６ 点β
７ 点γ
８ 領域Ｘ
９ 領域Ｙ
１０ 領域Ｚ
１１ 支持基材
１２ 層Ａ
１３ 層Ｂ
１４ 支持基材に垂直な基準線
１５ 点ε
１６ 点σ
１７ 点ω
１８ 点η
１９ 領域Ｖ
２０ 領域Ｓ
２１ 領域Ｔ
２２ 領域Ｗ

本発明の積層体は、例えば偏光板、位相差フィルムの粘着層の保護用途に好適に利用することができる。

Claims (5)

1. 支持基材の少なくとも一方の面に、層Ａと層Ｂとを支持基材側からこの順に有する積層体であって、該層Ａがオニウム塩を含み、該層Ｂがオニウム塩およびポリジメチルシロキサンを含み、厚み方向における層Ｂの最表面の領域（領域Ｘ）、層Ｂの中央部の領域（領域Ｙ）、層Ａと層Ｂの界面の領域（領域Ｚ）におけるオニウム塩の濃度が下記式（１）または（２）を満足することを特徴とする積層体。
   領域Ｘ≧領域Ｚ＞領域Ｙ ・・・式（１）
   領域Ｚ＞領域Ｘ＞領域Ｙ ・・・式（２）
2. 支持基材の少なくとも一方の面に、層Ａと層Ｂとを支持基材側からこの順に有する積層体であって、該層Ａがオニウム塩を含み、該層Ｂがオニウム塩およびポリジメチルシロキサンを含み、厚み方向における層Ｂの最表面の領域（領域Ｖ）、層Ｂの中央部の領域（領域Ｓ）、層Ａの中央部の領域（領域Ｔ）、層Ａと支持基材の界面の領域（領域Ｗ）におけるオニウム塩の濃度が下記式（３）または（４）を満足することを特徴とする積層体。
   領域Ｖ≧領域Ｗ＞領域Ｓおよび領域Ｔ ・・・式（３）
   領域Ｗ＞領域Ｖ＞領域Ｓおよび領域Ｔ ・・・式（４）
3. 前記層Ａが、ポリアルコキシシロキサンおよび金属キレート化合物を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の積層体。
4. 前記オニウム塩が、イオン液体であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の積層体。
5. 前記積層体の１８０℃、１０分間熱処理した後のジメチルホルムアミド抽出によるポリエステルオリゴマー量が０．１ｍｇ／ｍ^２以下であり、かつ、ガラス板検査法による、層Ｂ表面における外接直径が３０μｍ以上の大きさの異物欠点数が、２個／５０ｃｍ^２以下であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の積層体。