JP2018081941A - 電界測定システムのための電極設計 - Google Patents
電界測定システムのための電極設計 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018081941A JP2018081941A JP2018021632A JP2018021632A JP2018081941A JP 2018081941 A JP2018081941 A JP 2018081941A JP 2018021632 A JP2018021632 A JP 2018021632A JP 2018021632 A JP2018021632 A JP 2018021632A JP 2018081941 A JP2018081941 A JP 2018081941A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- conductive layer
- electrode arrangement
- conductive
- circuit board
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005684 electric field Effects 0.000 title claims abstract description 25
- 238000005259 measurement Methods 0.000 title abstract description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 64
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 8
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 8
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 8
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 2
- 238000012886 linear function Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/94—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the way in which the control signals are generated
- H03K17/96—Touch switches
- H03K17/962—Capacitive touch switches
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R27/00—Arrangements for measuring resistance, reactance, impedance, or electric characteristics derived therefrom
- G01R27/02—Measuring real or complex resistance, reactance, impedance, or other two-pole characteristics derived therefrom, e.g. time constant
- G01R27/26—Measuring inductance or capacitance; Measuring quality factor, e.g. by using the resonance method; Measuring loss factor; Measuring dielectric constants ; Measuring impedance or related variables
- G01R27/2605—Measuring capacitance
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/94—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the way in which the control signals are generated
- H03K17/96—Touch switches
- H03K2017/9602—Touch switches characterised by the type or shape of the sensing electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K2217/00—Indexing scheme related to electronic switching or gating, i.e. not by contact-making or -breaking covered by H03K17/00
- H03K2217/94—Indexing scheme related to electronic switching or gating, i.e. not by contact-making or -breaking covered by H03K17/00 characterised by the way in which the control signal is generated
- H03K2217/96—Touch switches
- H03K2217/9607—Capacitive touch switches
- H03K2217/960755—Constructional details of capacitive touch and proximity switches
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Switches That Are Operated By Magnetic Or Electric Fields (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Position Input By Displaying (AREA)
- Electronic Switches (AREA)
- Measurement And Recording Of Electrical Phenomena And Electrical Characteristics Of The Living Body (AREA)
Abstract
【解決手段】伝送電極および少なくとも1つの受信電極を伴う電界センサデバイスのための電極配列は、第1の伝導層および第2の伝導層を有する、非伝導基板を有してもよい。第1の電極は、第1の伝導層内に配列され、第1の電極は、電界センサデバイスの受信電極であり、第2の電極は、第2の伝導層内に配列され、第2の電極は、電界センサデバイスの伝送電極であり、第2の電極は、第1の電極より大きい面積を被覆し、第2の電極は、第1の電極と第2の電極との間の静電容量を低減させるようにテクスチャ加工される。
【選択図】図5
Description
本出願は、2012年10月19日に出願された「ELECTRODE DESIGN
FOR ELECTRIC FIELD MEASUREMENT SYSTEM」という題名の米国仮出願第61/715,966号の利益を主張する。上記文献は、その全体として本明細書において援用される。
本開示は、電極に関し、特に、電界測定システムにおいて使用するための電極の設計に関する。
特に、モバイルデバイスのためのヒューマンデバイスインターフェースは、多くの場合、必ずしも、任意の可動部品を要求しない、ユーザ入力を検出するためのセンサ配列を使用する。実施例は、アクティブ化されるためにタッチされることが要求される、タッチスクリーンおよび容量スイッチである。そのようなセンサシステムは、デバイス上に配置され、ユーザがそれらにタッチする、または非常に接近する場合、静電容量の変化が、測定され、イベントをトリガすることができる、電極を備える。これらの電極は、多くの場合、小型金属プレート、回路基板上にエッチングされた面積、またはディスプレイにおいて使用するための透明TIN酸化物層等の金属層内の面積によって形成される。
準静電界を発生させ、物体が電界に進入すると、その電界内の擾乱を感知するシステム内で使用される電極の感度は、多くの場合、特に、固体電極を使用するシステムでは、低い。故に、改良された電極および電極配列の必要性がある。
本願明細書は、例えば、以下の項目も提供する。
(項目1)
少なくとも1つの伝送電極および少なくとも1つの受信電極を伴う、準静電界を発生させる電界センサデバイスのための電極配列であって、前記電極配列は、
第1の伝導層および第2の伝導層を有する非伝導基板と、
前記第1の伝導層内に配列される第1の電極であって、前記第1の電極は、前記電界センサデバイスの受信電極である、第1の電極と、
前記第2の伝導層内に配列される第2の電極であって、前記第2の電極は、前記電界センサデバイスの伝送電極であり、前記第2の電極は、前記第1の電極より大きい面積を被覆し、前記第1および/または第2の電極は、前記第1の電極と前記第2の電極との間の静電容量を低減させるようにテクスチャ加工されている、第2の電極と
を備える、電極配列。
(項目2)
前記第2の電極のみは、少なくとも1つの切り欠き面積を備えるようにテクスチャ加工され、前記少なくとも1つの切り欠き面積は、前記第1の電極の類似形態を有し、前記第1の電極が前記切り欠き面積を被覆するように前記第1の電極の下に位置する、項目1に記載の電極配列。
(項目3)
前記第2の電極の面積全体は、ハッシュまたはハッチテクスチャによってテクスチャ加工されている、項目1または2に記載の電極配列。
(項目4)
前記テクスチャは、複数の伝導線によって形成されている、項目3に記載の電極配列。
(項目5)
前記ハッシュまたはハッチテクスチャは、均質である、項目3に記載の電極配列。
(項目6)
前記ハッシュまたはハッチテクスチャは、編目を形成する複数の伝導線によって形成されている、項目3−5のいずれかに記載の電極配列。
(項目7)
前記編目は、第1の平行に配列された伝導線のセットおよび第2の平行に配列された伝導線のセットによって形成されている、項目6に記載の電極配列。
(項目8)
前記第1の平行に配列された伝導線のセットは、90度の角度で前記第2の平行に配列された伝導線のセットに交差する、項目7に記載の電極配列。
(項目9)
前記編目は、前記編目を包囲する周辺伝導線を備える、項目7に記載の電極配列。
(項目10)
前記第2の電極は、複数の溝を提供するようにテクスチャ加工されている、項目1または2に記載の電極配列。
(項目11)
前記溝は、所定の距離において平行に配列されている、項目10に記載の電極配列。
(項目12)
前記第1の電極のみは、テクスチャ加工されている、項目1に記載の電極配列。
(項目13)
前記第2の電極の上方に配列された複数の第1の電極と、前記第2の電極への電気接続のための複数の給電線とをさらに備える、項目1に記載の電極配列。
(項目14)
4つの第1の電極の少なくとも1セットは、長方形面積を画定するように配列されている、項目13に記載の電極配列。
(項目15)
前記4つの電極によって画定された長方形面積内に中心電極をさらに備える、項目14に記載の電極配列。
(項目16)
前記第2の電極は、編目電極としてテクスチャ加工され、前記4つの第1の電極の少なくとも1セットによって画定された長方形面積のみを被覆する、項目14に記載の電極配列。
(項目17)
前記給電線は、約0.15mmの幅を有する、項目13−16のいずれかに記載の電極配列。
(項目18)
前記第1の伝導層は、印刷回路基板の上層である、項目13−17のいずれかに記載の電極配列。
(項目19)
前記第2の伝導層は、印刷回路基板の底層である、項目18に記載の電極配列。
(項目20)
前記第1の伝導層は、透明絶縁担体材料上の透明伝導上層である、項目1−17のいずれかに記載の電極配列。
(項目21)
前記第2の伝導層は、前記透明絶縁担体材料上の底層である、項目20に記載の電極配列。
(項目22)
前記給電線および前記第2の電極は、多層印刷回路基板の内側層内に配列されている、項目13−19のいずれかに記載の電極配列。
(項目23)
前記多層印刷回路基板の底層は、接地に接続されている、項目22に記載の電極配列。
(項目24)
前記給電線を通して前記受信電極と結合されたフロントエンドアナログデバイスをさらに備える、項目13−23のいずれかに記載の電極配列。
(項目25)
前記フロントエンドアナログデバイスは、前記給電線を通して受信される信号を減衰させるための分圧器を備える、項目24に記載の電極配列。
(項目26)
前記分圧器は、周波数補償を備える、項目25に記載の電極配列。
(項目27)
相互から電気的に絶縁された複数の第2の電極を備え、前記複数の第2の電極のそれぞれは、部分的伝送電極を形成する、先行項目のいずれかに記載の電極配列。
(項目28)
各伝送電極は、長方形電極区分によって形成されている、項目27に記載の電極配列。
種々の実施形態によると、特に、統合型フロントエンドデバイスと併用するための電極設計は、追跡されるべき物体、例えば、ユーザの手に対して有意により高い感度をもたらすように改良されることができる。
(a)Rx給電線静電容量CL
(b)Rx電極接地静電容量CRxG
(c)RxおよびTx電極CRxTx間の静電容量
図6は、以下を伴う、標準的電極等価回路を示す。
VTxD−アナログフロントエンドデバイス電圧
VTx−伝送電極電圧
VRxBuf−アナログフロントエンドRxバッファ入力電圧
Vh−VRxBufを導出するための補助電圧
VN−受信電極eRxに投入される外部雑音電圧
eTx−システムの伝送Tx電極
eRx−システムの受信Rx電極
CTxG−Tx電極と接地との間の静電容量
CRxTx−Rx電極とTx電極との間の静電容量
CL−Txに対するRx給電静電容量
CRxG−Rx電極と接地との間の静電容量
CH−手とRxとの間の静電容量
CBuf−アナログフロントエンドRx入力バッファ間の入力静電容量
RT−アナログフロントエンドTxドライバソース抵抗
RBuf−アナログフロントエンドRx入力バッファの入力抵抗
図7は、以下を伴う、種々の実施形態による、拡張電極等価回路を示す。
VTxD−アナログフロントエンドデバイス電圧
VTx−伝送電極電圧
VRxBuf−アナログフロントエンドRxバッファ入力電圧
Vh−VRxBufを導出するための補助電圧
VN−受信電極eRxに投入される外部雑音電圧
eTx−システムの伝送Tx電極
eRx−システムの受信Rx電極
CTxG−Tx電極と接地との間の静電容量
CRxTx−Rx電極とTx電極との間の静電容量
CL−Txに対するRx給電静電容量
CRxG−Rx電極と接地との間の静電容量
CH−手とRxとの間の静電容量
CD−分圧器静電容量
CBuf−アナログフロントエンドRx入力バッファ間の入力静電容量
RD−周波数補償のための分圧器レジスタ
RBuf−アナログフロントエンドRx入力バッファの入力抵抗
バッファ入力抵抗は、30〜200kHzの関連周波数範囲内のバッファ入力静電容量よりはるかに低い効果を有すると仮定されることができ、さしあたり、以下と仮定される。
手の影響に関する受信機信号感度は、雑音がない条件(VN=0)における、手の静電容量の有無にかかわらず、信号デルタとして定義される。
(a)Rx給電線静電容量CL
(b)Rx電極接地静電容量CRxG
(c)Rx電極とTx電極CRxTxとの間の静電容量
(a)は、Tx電極およびその給電線までのRx給電線の距離を最大限にすることによって達成されることができる。なお、これは、推奨される、Rx給電線を手の影響から遮蔽することとの間のトレードオフである。式(7)は、接地の代わりに、Tx信号を用いてRx給電線を遮蔽することがより良いことを示す。接地遮蔽は、CRxGを増加させ、CLよりシステム感度に悪影響を及ぼすであろう(式(7)も参照)。常時、Rx給電線を可能な限り薄く作製することが好ましい。これは、Txおよび接地に対する給電線静電容量ならびに給電線に対する手の影響の両方を最小限にする。
(b)は、一般に、Rx−Tx電極積層と接地との間の距離を最大限にすることによって達成されることができる。接地部品は、典型的には、アナログフロントエンドシステム内の大面積を被覆するため、電界漂遊効果が、典型的には、CRxGを左右し、多くの場合、接地までのRx電極距離を数ミリメートルを超えて増加させることは、無意味である。
(c)は、Rx電極とTx電極との間の距離を増加させることによって達成されることができる。良好なアナログフロントエンド電極設計では、CRxTxが、他の静電容量を左右する。したがって、例えば、切り欠き面積240、520を使用して、前述のように、CRxTxを最適化することが望ましい。
アナログフロントエンドシステム内のユーザの手に対する信号偏差SDは、受信機利得gPGAによって増幅され、VDDA=3.0Vのチップのアナログ電圧範囲を参照する、受信機信号感度である。CHandが、Tx−Rx電極静電容量と比較して小さいとき、以下となる。
受信機入力信号対雑音比SNRは、式(4)の信号項と雑音項との間の比率として定義される。
第1の実施例では、分圧器は、使用されず、最適容量値が、選定される。伝送電圧レベルは、あらゆる雑音条件下、入力バッファの過負荷を回避するために、2Vppに設定される。
VTx=2Vpp
VN=3Vrms=8.5Vpp
a=1
CRxTx=15pF
CL=5pF
CRxG=7pF
CH=O.5pF
CN=1pF
CBuf=5pF
VTx=3Vpp
VN=3Vrms=8.5Vpp
a=0.666
CRxTx=15pF
CL=5pF
CRxG=7pF
CH=0.5pF
CN=1pF
CBuf=5pF
CD=10pF
VTx=2Vpp
VN=3Vrms=8.5Vpp
a=1
CRxTx=20pF
CL=10pF
CRxG=15pF
CH=0.5pF
CN=1pF
Cbuf=5pF
Claims (26)
- 電界センサデバイスのための電極配列であって、
第1の伝導層および第2の伝導層を有する非伝導基板と、
前記第1の伝導層内に配列された複数の受信電極と、
前記第2の伝導層内に配列された伝送電極であって、前記伝送電極は、テクスチャ加工されている、伝送電極と
を含む、電極配列。 - 前記伝送電極は、前記複数の受信電極の組み合わせられた面積よりも大きい面積にわたって延在する、請求項1に記載の電極配列。
- 前記伝送電極の面積全体は、テクスチャ加工されている、請求項1に記載の電極配列。
- 前記テクスチャは、グリッドを形成する、請求項3に記載の電極配列。
- 前記テクスチャは、均質である、請求項4に記載の電極配列。
- 前記テクスチャは、編目を形成する複数の伝導線によって形成されている、請求項4に記載の電極配列。
- 前記編目は、互いに平行に配列された伝導線の第1のセットと、互いに平行に配列された伝導線の第2のセットとによって形成されている、請求項6に記載の電極配列。
- 前記互いに平行に配列された伝導線の第1のセットは、前記互いに平行に配列された伝導線の第2のセットに90度の角度で交差する、請求項7に記載の電極配列。
- 前記編目は、前記編目を包囲する周辺伝導線を含む、請求項7に記載の電極配列。
- 前記編目を包囲する線は、前記複数の受信電極によって画定される組み合わせられた面積よりも大きい面積を包囲する、請求項9に記載の電極配列。
- 中心受信電極を囲む4つの受信電極を含む、請求項1に記載の電極配列。
- 前記中心受信電極は、テクスチャ加工されている、請求項11に記載の電極配列。
- 前記複数の受信電極との電気接続のために前記第1の伝導層内に形成された複数の給電線をさらに含む、請求項1に記載の電極配列。
- 前記4つの受信電極のそれぞれは、前記第1の伝導層によって形成された固体で充填された電極面積を含む、請求項11に記載の電極配列。
- 前記非伝導基板は、印刷回路基板であり、前記複数の受信電極のうちの1つは、前記印刷回路基板の中心面積内に配列された中心電極である、請求項1に記載の電極配列。
- 前記中心電極は、編目電極としてテクスチャ加工されている、請求項15に記載の電極配列。
- 前記給電線を通して前記受信電極に結合された回路をさらに含み、前記回路は、前記給電線を通して受信される信号の変化を検出するように構成されている、請求項13に記載の電極配列。
- 前記回路は、前記給電線を通して受信される前記信号を減衰させるための分圧器を含む、請求項17に記載の電極配列。
- 前記分圧器は、周波数補償を含む、請求項18に記載の電極配列。
- 前記第1の伝導層は、印刷回路基板の上層である、請求項1に記載の電極配列。
- 前記第2の伝導層は、印刷回路基板の底層である、請求項20に記載の電極配列。
- 電界センサデバイスのための電極配列を含む印刷回路基板であって、
第1の伝導層および第2の伝導層を有する非伝導基板と、
前記第1の伝導層内に配列された複数の受信電極と、
前記第2の伝導層内に配列された伝送電極であって、前記伝送電極は、テクスチャ加工されており、前記伝送電極は、前記複数の受信電極の組み合わせられた面積よりも大きい面積にわたって延在する、伝送電極と
を含む、印刷回路基板。 - 電界センサデバイスのための電極配列を含む印刷回路基板であって、
第1の伝導層および第2の伝導層を有する非伝導基板と、
前記第1の伝導層内に配列された複数の受信電極と、
前記第2の伝導層内に配列された伝送電極であって、前記伝送電極の面積全体は、テクスチャ加工されており、前記テクスチャは、編目を形成する複数の伝導線によって形成されており、前記編目は、前記編目を包囲する周辺伝導線を含み、前記編目を包囲する線は、前記複数の受信電極によって画定される組み合わせられた面積よりも大きい面積を包囲する、伝送電極と
を含む、印刷回路基板。 - 前記編目は、互いに平行に配列された伝導線の第1のセットと、互いに平行に配列された伝導線の第2のセットとによって形成されており、前記互いに平行に配列された伝導線の第1のセットは、前記互いに平行に配列された伝導線の第2のセットに90度の角度で交差する、請求項23に記載の印刷回路基板。
- 中心受信電極を囲む4つの受信電極を含み、前記中心受信電極は、テクスチャ加工されている、請求項23に記載の印刷回路基板。
- 前記4つの受信電極および前記中心受信電極に対する電気的接続のために前記第1の伝導層内に形成された複数の給電線をさらに含む、請求項25に記載の印刷回路基板。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201261715966P | 2012-10-19 | 2012-10-19 | |
US61/715,966 | 2012-10-19 | ||
US14/055,989 | 2013-10-17 | ||
US14/055,989 US9459296B2 (en) | 2012-10-19 | 2013-10-17 | Electrode design for electric field measurement system |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015537283A Division JP6291500B2 (ja) | 2012-10-19 | 2013-10-18 | 電界測定システムのための電極設計 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018081941A true JP2018081941A (ja) | 2018-05-24 |
JP6529200B2 JP6529200B2 (ja) | 2019-06-12 |
Family
ID=50484792
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015537283A Active JP6291500B2 (ja) | 2012-10-19 | 2013-10-18 | 電界測定システムのための電極設計 |
JP2018021632A Active JP6529200B2 (ja) | 2012-10-19 | 2018-02-09 | 電界測定システムのための電極設計 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015537283A Active JP6291500B2 (ja) | 2012-10-19 | 2013-10-18 | 電界測定システムのための電極設計 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9459296B2 (ja) |
EP (1) | EP2909939B1 (ja) |
JP (2) | JP6291500B2 (ja) |
KR (1) | KR102027908B1 (ja) |
CN (1) | CN104838591B (ja) |
TW (1) | TWI598797B (ja) |
WO (1) | WO2014060603A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009057933B3 (de) * | 2009-12-11 | 2011-02-24 | Ident Technology Ag | Sensoreinrichtung sowie Verfahren zur Annäherungs- und Berührungsdetektion |
US9459296B2 (en) | 2012-10-19 | 2016-10-04 | Microchip Technology Germany Gmbh Ii & Co. Kg | Electrode design for electric field measurement system |
FR3008809B1 (fr) * | 2013-07-18 | 2017-07-07 | Fogale Nanotech | Dispositif accessoire garde pour un appareil electronique et/ou informatique, et appareil equipe d'un tel dispositif accessoire |
FR3013472B1 (fr) | 2013-11-19 | 2016-07-08 | Fogale Nanotech | Dispositif accessoire couvrant pour un appareil portable electronique et/ou informatique, et appareil equipe d'un tel dispositif accessoire |
CN104267266B (zh) * | 2014-09-23 | 2017-02-01 | 清华大学 | 一种基于压电弯折效应的电场测量传感装置 |
US10108292B2 (en) * | 2015-04-22 | 2018-10-23 | Microchip Technology Incorporated | Capacitive sensor system with multiple transmit electrodes |
DE102015223534B4 (de) | 2015-11-27 | 2019-05-23 | Siemens Healthcare Gmbh | Schaltungsanordnung zur Reduzierung der maximalen elektrischen Feldstärke, Hochspannungserzeugungseinheit mit einer derartigen Schaltungsanordnung und Röntgengenerator mit einer derartigen Hochspannungserzeugungseinheit |
JP6815105B2 (ja) * | 2016-06-28 | 2021-01-20 | セーレン株式会社 | 電界センサ |
KR102635976B1 (ko) | 2016-12-30 | 2024-02-13 | 에스엘 주식회사 | 제스처 인식 장치 |
KR102678241B1 (ko) * | 2018-06-29 | 2024-06-26 | 현대자동차주식회사 | 모션 인식 센서, 모션 인식 센서를 포함하는 차량 |
WO2020046207A1 (en) * | 2018-08-31 | 2020-03-05 | National University Of Singapore | Method and system for integrity testing of blister packages |
CN110596472A (zh) * | 2019-09-29 | 2019-12-20 | 清华大学 | 电介质极化电容式静电场测量方法和*** |
DE112021000831T5 (de) | 2020-04-03 | 2022-12-01 | Continental Automotive Technologies GmbH | Verfahren zur Rückgewinnung diskreter digitaler Signale in rauschbehafteten, überlasteten drahtlosen Kommunikationssystemen bei Vorliegen von Hardwarebeeinträchtigungen |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09274053A (ja) * | 1996-01-29 | 1997-10-21 | Fluke Corp | 測定計器用の補助装置を識別するためのシステム |
JP2007086075A (ja) * | 2005-09-20 | 2007-04-05 | Philipp Harald | 容量接触センサ |
JP4944998B1 (ja) * | 2011-04-15 | 2012-06-06 | パナソニック株式会社 | タッチパネル装置およびこれを備えたプラズマディスプレイ装置 |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5315232A (en) * | 1991-01-03 | 1994-05-24 | Stewart Michael F | Electric field measuring system |
JPH09274093A (ja) | 1996-04-08 | 1997-10-21 | Hitachi Ltd | 沸騰水型原子炉 |
US8259078B2 (en) * | 2006-06-09 | 2012-09-04 | Apple Inc. | Touch screen liquid crystal display |
US8284165B2 (en) * | 2006-10-13 | 2012-10-09 | Sony Corporation | Information display apparatus with proximity detection performance and information display method using the same |
TW200901014A (en) | 2007-06-28 | 2009-01-01 | Sense Pad Tech Co Ltd | Touch panel device |
WO2009058745A2 (en) * | 2007-10-28 | 2009-05-07 | Synaptics Incorporated | Determining actuation of multi-sensor electrode capacitive buttons |
JP5540520B2 (ja) | 2009-02-16 | 2014-07-02 | ソニー株式会社 | 容量素子、容量素子の設計方法および容量素子を含む集積回路装置 |
US8810249B2 (en) * | 2009-03-20 | 2014-08-19 | Thomas G. Cehelnik | E-field sensor arrays for interactive gaming, computer interfaces, machine vision, medical imaging, and geological exploration CIP |
CN105424067B (zh) * | 2009-05-13 | 2019-04-09 | 辛纳普蒂克斯公司 | 电容传感器装置 |
US9177761B2 (en) * | 2009-08-25 | 2015-11-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Plasma CVD apparatus, method for forming microcrystalline semiconductor film and method for manufacturing semiconductor device |
US8599150B2 (en) | 2009-10-29 | 2013-12-03 | Atmel Corporation | Touchscreen electrode configuration |
TWI417777B (zh) * | 2009-12-24 | 2013-12-01 | Orise Technology Co Ltd | 具有高感度的電容式觸控面板 |
CN201622554U (zh) * | 2010-02-04 | 2010-11-03 | 深圳市汇顶科技有限公司 | 一种电容式触摸传感器、触摸检测装置及触控终端 |
EP2542954B1 (en) * | 2010-02-10 | 2017-11-01 | Microchip Technology Germany GmbH | System and method for the generation of a signal correlated with a manual input operation |
EP2558927B1 (de) * | 2010-04-16 | 2022-06-15 | Microchip Technology Germany GmbH | Tft-lc display sowie verfahren zur detektion der räumlichen position von gliedmassen in dem einem display vorgelagerten räumlichen bereich |
US8482546B2 (en) | 2010-06-30 | 2013-07-09 | Cypress Semiconductor Corporation | Self shielding capacitance sensing panel |
DE102010031034A1 (de) * | 2010-07-07 | 2012-01-12 | Robert Bosch Gmbh | Erfassung eines dielektrischen Gegenstandes |
JP2012068724A (ja) * | 2010-09-21 | 2012-04-05 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 入力装置 |
US8638316B2 (en) * | 2011-03-11 | 2014-01-28 | Cypress Semiconductor Corporation | Two prong capacitive sensor pattern |
US9337833B2 (en) * | 2011-11-14 | 2016-05-10 | Atmel Corporation | Driven shield for shaping an electric field of a touch sensor |
US20130181911A1 (en) * | 2012-01-17 | 2013-07-18 | Esat Yilmaz | On-Display-Sensor Stack |
US9459296B2 (en) | 2012-10-19 | 2016-10-04 | Microchip Technology Germany Gmbh Ii & Co. Kg | Electrode design for electric field measurement system |
US8717325B1 (en) * | 2013-02-18 | 2014-05-06 | Atmel Corporation | Detecting presence of an object in the vicinity of a touch interface of a device |
US20140267137A1 (en) * | 2013-03-14 | 2014-09-18 | Synaptics Incorporated | Proximity sensing using driven ground plane |
US9946410B2 (en) * | 2013-03-15 | 2018-04-17 | Microchip Technology Germany Gmbh | System and method for energy efficient measurement of sensor signal |
US10352976B2 (en) * | 2013-03-15 | 2019-07-16 | Microchip Technology Incorporated | Matrix electrode design for three-dimensional e-filed sensor |
-
2013
- 2013-10-17 US US14/055,989 patent/US9459296B2/en active Active
- 2013-10-18 WO PCT/EP2013/071905 patent/WO2014060603A1/en active Application Filing
- 2013-10-18 CN CN201380063805.4A patent/CN104838591B/zh active Active
- 2013-10-18 KR KR1020157012176A patent/KR102027908B1/ko active IP Right Grant
- 2013-10-18 TW TW102137797A patent/TWI598797B/zh active
- 2013-10-18 JP JP2015537283A patent/JP6291500B2/ja active Active
- 2013-10-18 EP EP13779818.7A patent/EP2909939B1/en active Active
-
2016
- 2016-07-13 US US15/209,321 patent/US10873330B2/en active Active
-
2018
- 2018-02-09 JP JP2018021632A patent/JP6529200B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09274053A (ja) * | 1996-01-29 | 1997-10-21 | Fluke Corp | 測定計器用の補助装置を識別するためのシステム |
JP2007086075A (ja) * | 2005-09-20 | 2007-04-05 | Philipp Harald | 容量接触センサ |
JP4944998B1 (ja) * | 2011-04-15 | 2012-06-06 | パナソニック株式会社 | タッチパネル装置およびこれを備えたプラズマディスプレイ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI598797B (zh) | 2017-09-11 |
CN104838591B (zh) | 2018-11-09 |
JP6529200B2 (ja) | 2019-06-12 |
EP2909939B1 (en) | 2021-03-10 |
US9459296B2 (en) | 2016-10-04 |
US10873330B2 (en) | 2020-12-22 |
KR20160021425A (ko) | 2016-02-25 |
WO2014060603A1 (en) | 2014-04-24 |
TW201419110A (zh) | 2014-05-16 |
KR102027908B1 (ko) | 2019-11-14 |
US20160322971A1 (en) | 2016-11-03 |
EP2909939A1 (en) | 2015-08-26 |
JP6291500B2 (ja) | 2018-03-14 |
JP2016506010A (ja) | 2016-02-25 |
US20140111222A1 (en) | 2014-04-24 |
CN104838591A (zh) | 2015-08-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6529200B2 (ja) | 電界測定システムのための電極設計 | |
US9857828B2 (en) | Electrode arrangement for gesture detection and tracking | |
KR101911842B1 (ko) | 용량성 센서의 전극 구성을 포함하는 인쇄 회로 기판 | |
US20120146958A1 (en) | Position indicator | |
JP6324484B2 (ja) | 3次元電場センサのための行列電極設計 | |
JP2016506010A5 (ja) | ||
US9140738B2 (en) | Electrostatic capacitance detection device | |
US20140111474A1 (en) | Multiplexed conductors using dynamically configurable controller in capacitive touch sensors | |
TWI711959B (zh) | 具有多個傳輸電極之電容式感測器系統 | |
US20170010701A1 (en) | Touch panel | |
US9229564B2 (en) | Touch display and electronic device | |
US20130321324A1 (en) | System for reducing finger-coupled noise in capacitive touch sensors | |
US11281340B2 (en) | Radio frequency transparent capacitive touch systems and methods | |
TWI604364B (zh) | 互電容式觸控螢幕 | |
US20220155893A1 (en) | Shield for a Capacitive Touch System | |
JP2024070622A (ja) | 静電容量式のタッチセンサ用のrx電極、静電容量式のタッチセンサ及びノイズ低減方法 | |
TWI630520B (zh) | 觸控面板 | |
CN111459342A (zh) | 用于电容式触摸***的屏蔽体 | |
TW201738718A (zh) | 互電容式觸控螢幕 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20181214 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181221 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190322 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190508 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190513 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6529200 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |