JP2018058738A - Cover glass for display device and electronic apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の実施形態は、表示装置用カバーガラスおよび電子機器に関する。 Embodiments described herein relate generally to a cover glass for a display device and an electronic apparatus.
従来、表示装置の保護および強化のために、前面にカバーガラスが設けられている。このようなカバーガラスには、表示の視認性を高めるために光の反射を防止する反射防止膜が設けられている(例えば、特許文献1参照。)。 Conventionally, a cover glass is provided on the front surface in order to protect and strengthen the display device. Such a cover glass is provided with an antireflection film for preventing reflection of light in order to improve display visibility (see, for example, Patent Document 1).
ところで、タッチパネル式の表示装置を有する携帯型電話機、例えば、スマートフォンにおいては、表示装置の周囲に近接センサが設けられることがある。近接センサにより、人間の耳等が携帯型電話機に近接していることを検知することができ、通話状態にあるかどうかを知ることができる。これにより、例えば、通話中の誤動作を防止するために操作を無効にしたり、バッテリの電力消費を抑制するために消灯させたりすることができる。 By the way, in a mobile phone having a touch panel display device, for example, a smartphone, a proximity sensor may be provided around the display device. With the proximity sensor, it is possible to detect that a human ear or the like is close to the mobile phone, and it is possible to know whether or not the telephone is in a call state. Thereby, for example, the operation can be invalidated to prevent a malfunction during a call, or the operation can be turned off to suppress the power consumption of the battery.
近接センサは、例えば、近赤外光を発光する発光部と、この発光部から発光されて検知対象物により反射された近赤外光を受光する受光部とを有する。発光部、受光部は、例えば、携帯型電話機における表示面側に設けられている。 The proximity sensor includes, for example, a light emitting unit that emits near infrared light, and a light receiving unit that receives the near infrared light emitted from the light emitting unit and reflected by the detection target. The light emitting unit and the light receiving unit are provided, for example, on the display surface side of the mobile phone.
通話状態にある場合、すなわち近接センサに人間の耳等が近接している場合、発光部から発光された近赤外光が検知対象物である人間の耳等により反射され、この反射された近赤外光が受光部において受光される。これにより、通話状態にあることを検知することができる(例えば、特許文献2、3参照。)。 When in a call state, that is, when a human ear or the like is in proximity to the proximity sensor, the near infrared light emitted from the light emitting unit is reflected by the human ear or the like that is the detection target, and the reflected near Infrared light is received by the light receiving unit. Thereby, it can detect that it is in a telephone call state (for example, refer patent documents 2 and 3).
しかしながら、従来の反射防止膜については、可視域の反射のみが考慮されており、近赤外領域の反射については必ずしも考慮されていない。通常、可視域については十分に反射率が低いものの、近赤外領域については波長の増加とともに反射率が高くなる。このため、近接センサに使用される近赤外光が十分に透過せず、検知対象物を適切に検知することができないおそれがある。また、タッチパネル式の表示装置等への使用の観点から、反射防止膜には耐擦傷性に優れることも求められる。 However, in the conventional antireflection film, only the reflection in the visible region is considered, and the reflection in the near infrared region is not necessarily considered. Usually, the reflectance is sufficiently low in the visible region, but the reflectance increases in the near infrared region as the wavelength increases. For this reason, near-infrared light used for the proximity sensor is not sufficiently transmitted, and there is a possibility that the detection object cannot be detected appropriately. Further, from the viewpoint of use in a touch panel type display device or the like, the antireflection film is also required to have excellent scratch resistance.
本発明が解決しようとする課題は、反射防止膜を有するものであって、近赤外光の透過率が高い表示装置用カバーガラスの提供を目的としている。また、本発明が解決しようとする課題は、このような表示装置用カバーガラスを有する表示装置の提供を目的としている。 The problem to be solved by the present invention is to provide a cover glass for a display device having an antireflection film and having a high transmittance of near infrared light. Another object of the present invention is to provide a display device having such a cover glass for a display device.
本発明の表示装置用カバーガラスは、透明基材と、前記透明基材上に設けられた反射防止膜とを有する表示装置用カバーガラスであって、前記反射防止膜は、屈折率が1.9以上である高屈折率膜と、屈折率が1.6以下である低屈折率膜とが交互に積層された構造を有し、前記高屈折率膜、前記低屈折率膜は、それぞれ、Al、Zr、Ti、Si、Sn、Hf、Taの酸化物、窒化物、および酸窒化物から選ばれる少なくとも1種を含む材料からなり、 可視光反射率が1.5%以下、800〜1200nmの波長範囲の少なくとも10nmの連続した波長範囲において透過率が90%以上となる領域を有する。 The cover glass for a display device of the present invention is a cover glass for a display device having a transparent base material and an antireflection film provided on the transparent base material, and the antireflection film has a refractive index of 1. A high refractive index film having a refractive index of 9 or more and a low refractive index film having a refractive index of 1.6 or less are alternately laminated, and the high refractive index film and the low refractive index film are respectively It is made of a material containing at least one selected from oxides, nitrides, and oxynitrides of Al, Zr, Ti, Si, Sn, Hf, and Ta, and has a visible light reflectance of 1.5% or less, 800 to 1200 nm. In the continuous wavelength range of at least 10 nm of the wavelength range, the transmittance is 90% or more.
本発明によれば、反射防止膜を有するものであって、近赤外光の透過率が高い表示装置用カバーガラスが提供される。 According to the present invention, a cover glass for a display device having an antireflection film and having a high transmittance of near infrared light is provided.
以下、本発明を実施するための形態について説明する。
図1は、表示装置用カバーガラスの一実施形態を示す断面図である。
なお、以下では、表示装置用カバーガラスを単にカバーガラスと記して説明する。
Hereinafter, modes for carrying out the present invention will be described.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a cover glass for a display device.
In the following description, the display device cover glass is simply referred to as a cover glass.
カバーガラス10は、透明基材11と、この透明基材11上に設けられた反射防止膜12とを有する。反射防止膜12は、屈折率が1.9以上である高屈折率膜13と、屈折率が1.6以下である低屈折率膜14とが交互に積層された構造を有する。なお、屈折率は、波長600nmにおける屈折率である。
The
カバーガラス10は、1.5%以下の可視光反射率を有するとともに、800〜1200nmの波長範囲の少なくとも10nmの連続した波長範囲において透過率が90%以上となる領域を有する。なお、可視光反射率は、JIS R 3106(1998年)に定義される可視光反射率である。また、反射防止膜12を構成する高屈折率膜13および低屈折率膜14が、それぞれ、Al、Zr、Ti、Si、Sn、Hf、Taの酸化物、窒化物、または酸窒化物から選ばれる少なくとも一種類を含む材料からなる。
The
1.5%以下の可視光反射率を有することにより、可視光の反射が抑制され、表示装置の前面に配置したときの表示の視認性が良好になる。また、800〜1200nmの波長範囲の少なくとも10nmの連続した波長範囲において透過率が90%以上となる領域を有することにより、近赤外光の透過が良好となり、近接センサの使用が可能となる。 By having a visible light reflectance of 1.5% or less, reflection of visible light is suppressed, and display visibility when arranged on the front surface of the display device is improved. Moreover, by having a region where the transmittance is 90% or more in a continuous wavelength range of at least 10 nm in the wavelength range of 800 to 1200 nm, the transmission of near-infrared light becomes good and the use of a proximity sensor becomes possible.
以下、カバーガラス10の構成部材について具体的に説明する。
Hereinafter, the structural member of the
透明基材11は、可視光および近赤外光に対して透明性を有するものであればよく、無機ガラス、有機ガラスのいずれでもよい。
The
無機ガラスとしては、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、サファイアガラス等が挙げられる。無機ガラスとしては、強度が高く、耐擦傷性に優れることから、物理強化または化学強化が行われた強化ガラスやサファイアガラスが好ましい。なお、無機ガラスは、ハードコーティング等が行われたものでもよい。 Examples of the inorganic glass include soda lime glass, alkali-free glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, and sapphire glass. As the inorganic glass, tempered glass or sapphire glass subjected to physical strengthening or chemical strengthening is preferable because of its high strength and excellent scratch resistance. The inorganic glass may be hard-coated.
物理強化は、軟化点付近まで加熱したガラスの表面を風冷等により急冷する。急冷により、ガラスの表面に圧縮応力層が形成されて強度が向上する。 In the physical strengthening, the surface of the glass heated to the vicinity of the softening point is rapidly cooled by air cooling or the like. By rapid cooling, a compressive stress layer is formed on the surface of the glass to improve the strength.
化学強化は、ガラス転移点以下の温度でイオン交換によりガラスの表面のイオン半径が小さなアルカリ金属イオン(典型的にはLiイオン、Naイオン)をイオン半径のより大きなアルカリイオン(典型的にはKイオン)に交換する。このようなイオン交換により、ガラスの表面に圧縮応力層が形成されて強度が向上する。化学強化は、通常、アルカリ金属を含む溶融塩中にガラスを浸漬させることにより行われる。 In chemical strengthening, alkali metal ions (typically Li ions and Na ions) having a small ionic radius on the surface of the glass are exchanged with ions having a larger ionic radius (typically K) by ion exchange at a temperature below the glass transition point. Ion). By such ion exchange, a compressive stress layer is formed on the surface of the glass and the strength is improved. Chemical strengthening is usually performed by immersing glass in a molten salt containing an alkali metal.
有機ガラスとしては、ポリカーボネート、ポリエステル、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマー、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。耐候性および透明性の観点から、ポリカーボネート、ポリエステル、シクロオレフィンポリマーが好ましい。ポリエステルとして、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。 Examples of the organic glass include polycarbonate, polyester, triacetyl cellulose, cycloolefin polymer, polymethyl methacrylate, and the like. From the viewpoint of weather resistance and transparency, polycarbonate, polyester, and cycloolefin polymer are preferable. Examples of the polyester include polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate.
透明基材11の形態は、表示装置に応じて適宜選択することができ、板状、フィルム状のいずれでもよい。厚みについても、表示装置に応じて適宜選択することができる。強度等を確保する観点から、0.1mm以上が好ましく、0.3mm以上がより好ましい。また、薄型化および軽量化の観点から、2mm以下が好ましく、1.5mm以下がより好ましい。
The form of the
反射防止膜12は、既に説明したように、1.9以上の屈折率を有する高屈折率膜13と、1.6以下の屈折率を有する低屈折率膜14とが交互に積層されたものである。
As described above, the
高屈折率膜13、低屈折率膜14の積層順序は、特に制限されない。例えば、透明基材11側に配置される膜は、高屈折率膜13でもよいし、低屈折率膜14でもよい。また、透明基材11側とは反対側に配置される膜は、高屈折率膜13でもよいし、低屈折率膜14でもよいが、反射率を下げる観点から、低屈率材料が好ましい。図1の例では、透明基材11に最も近い膜を高屈折率膜13とし、透明基材11から最も離れた膜を低屈折率膜14としている。また、高屈折率膜13が部分的に隣接して積層されること、または、低屈折率膜14が部分的に隣接して積層されること、すなわち、交互に積層されていなくとも部分的であれば許容できる。
The stacking order of the high
高屈折率膜13の層数は、反射防止膜12中、2層以上が好ましく、3層以上がより好ましい。高屈折率膜13の層数が増加するにつれて、可視光の反射が抑制され、かつ近赤外光の透過も良好になる。通常、高屈折率膜13の層数は、生産性等の観点から、10層以下が好ましく、8層以下がより好ましい。
The number of layers of the high
低屈折率膜14の層数は、反射防止膜12中、2層以上が好ましく、3層以上がより好ましい。低屈折率膜14の層数が増加するにつれて、可視光の反射が抑制され、かつ近赤外光の透過も良好になる。通常、低屈折率膜14の層数は、生産性等の観点から、10層以下が好ましく、8層以下がより好ましい。
The number of layers of the low
反射防止膜12の層数、すなわち、全ての高屈折率膜13と低屈折率膜14とを合計した層数は、可視光の反射が抑制されるとともに、近赤外光の透過が良好になることから、4層以上が好ましく、6層以上がより好ましい。通常、反射防止膜12の層数は、生産性等の観点から、20層以下が好ましく、18層以下がより好ましい。
The number of layers of the
反射防止膜12、高屈折率膜13、低屈折率膜14の各層の厚みは、カバーガラス10が所定の光学特性を有するように調整される。具体的には、可視光反射率が1.5%以下となるように、かつ800〜1200nmの波長範囲の少なくとも10nmの連続した波長範囲において透過率が90%以上となる領域が形成されるように調整される。なお、反射防止膜12、高屈折率膜13、低屈折率膜14の厚みは、幾何学厚みである。
The thickness of each layer of the
反射防止膜12の厚み、すなわち、高屈折率膜13の各層全ておよび低屈折率膜14の各層全てを合計した厚みは、可視光の反射が抑制されるとともに、近赤外光の透過が良好になることから、300nm以上が好ましく、330nm以上がより好ましく、350nm以上がさらに好ましい。特に、近赤外光の透過が良好になることから、550nm以上が好ましく、600nm以上がより好ましい。一方、生産性等の観点から、1000nm以下が好ましく、900nm以下がより好ましく、800nm以下がさらに好ましい。
The thickness of the
高屈折率膜13の各層の厚みは、可視光の反射が抑制されるとともに、近赤外光の透過が良好になることから、それぞれ、1nm以上が好ましく、3nm以上がより好ましい。特に、1層の高屈折率膜13の厚みが1nm以上10nm未満であり、前記1層の高屈折率膜13以外の全ての高屈折率膜13の各層の厚みが10nm以上であるか、全ての高屈折率膜13の各層の厚みが10nm以上であることが好ましい。一方、生産性等の観点から、高屈折率膜13の各層の厚さはそれぞれ、250nm以下が好ましく、200nm以下がより好ましい。
The thickness of each layer of the high
低屈折率膜14の各層の厚みは、可視光の反射が抑制されるとともに、近赤外光の透過が良好になることから、それぞれ、1nm以上が好ましく、3nm以上がより好ましい。特に、1層の低屈折率膜14の厚みが1nm以上10nm未満であり、前記1層の低屈折率膜14以外の全ての低屈折率膜14の各層の厚みが10nm以上であるか、全ての低屈折率膜14の各層の厚みが10nm以上であることが好ましい。一方、生産性等の観点から、低屈折率膜14の各層の厚さはそれぞれ、300nm以下が好ましく、250nm以下がより好ましい。
The thickness of each layer of the low
高屈折率膜13の各層全てを合計した厚みは、可視光の反射が抑制されるとともに、近赤外光の透過が良好になることから、100nm以上が好ましく、150nm以上がより好ましい。一方、生産性等の観点から、500nm以下が好ましく、450nm以下がより好ましい。
The total thickness of all the layers of the high
低屈折率膜14の各層全てを合計した厚みは、可視光の反射が抑制されるとともに、近赤外光の透過が良好になることから、100nm以上が好ましく、150nm以上がより好ましい。一方、生産性等の観点から、500nm以下が好ましく、450nm以下がより好ましい。
The total thickness of all the layers of the low
高屈折率膜13の各層全てを平均した厚みは、可視光の反射が抑制されるとともに、近赤外光の透過が良好になることから、30nm以上が好ましく、35nm以上がより好ましく、40nm以上がさらに好ましく、43nm以上が特に好ましい。一方、生産性等の観点から、60nm以下が好ましく、55nm以下がより好ましい。
The average thickness of all the layers of the high
低屈折率膜14の各層全てを平均した厚みは、可視光の反射が抑制されるとともに、近赤外光の透過が良好になることから、25nm以上が好ましく、30nm以上がより好ましい。一方、生産性等の観点から、100nm以下が好ましく、90nm以下がより好ましい。
The average thickness of all the layers of the low
反射防止膜12は、特に、高屈折率膜13とこれに対して透明基材11側とは反対側に隣接する低屈折率膜14とを1つの積層単位としたとき、高屈折率膜13の厚み(H[nm])と低屈折率膜14の厚み(L[nm])との比(H/L)が2.0以上となるような積層単位を少なくとも1つ有することが好ましい。
The
比(H/L)が2.0以上となるような積層単位を少なくとも1つ有することにより、可視光の反射が抑制されるとともに、近赤外光の透過が良好になる。このような積層単位は、3.0以上の比(H/L)を有することが好ましく、3.5以上の比(H/L)を有することがより好ましい。通常、このような積層単位における比(H/L)は、50以下が好ましく、40以下がより好ましい。 By including at least one laminated unit having a ratio (H / L) of 2.0 or more, reflection of visible light is suppressed and near-infrared light transmission is improved. Such a laminate unit preferably has a ratio (H / L) of 3.0 or more, and more preferably has a ratio (H / L) of 3.5 or more. Usually, the ratio (H / L) in such a laminated unit is preferably 50 or less, and more preferably 40 or less.
比(H/L)が2.0以上となるような積層単位は、反射防止膜12に2つ以上設けられることが好ましい。比(H/L)が2.0以上となるような積層単位が2つ以上設けられることにより、特に、可視光の反射が抑制されるとともに、近赤外光の透過が良好になる。
It is preferable that two or more laminated units having a ratio (H / L) of 2.0 or more are provided in the
なお、これらの2つ以上設けられる積層単位は、連続して配置されてもよいし不連続に配置されてもよい。また、これらの積層単位は、同一の比(H/L)を有する必要はなく、異なる比(H/L)を有することができる。さらに、これらの積層単位は、少なくとも1つの積層単位が5.0以上の比(H/L)を有することが好ましく、10.0以上の比(H/L)を有することがより好ましい。 In addition, the lamination | stacking unit provided two or more of these may be arrange | positioned continuously and may be arrange | positioned discontinuously. Moreover, these laminated units do not need to have the same ratio (H / L), and can have different ratios (H / L). Furthermore, as for these lamination | stacking units, it is preferable that at least 1 lamination | stacking unit has ratio (H / L) of 5.0 or more, and it is more preferable to have ratio (H / L) of 10.0 or more.
その他の部分、すなわち、比(H/L)が2.0未満となるような積層単位からなる部分については、全ての積層単位が1.0未満の比(H/L)を有するか、1つの積層単位が1.0以上2.0未満の比(H/L)を有し、残りの積層単位が1.0未満の比(H/L)を有することが好ましい。 For other portions, that is, portions composed of laminated units such that the ratio (H / L) is less than 2.0, all the laminated units have a ratio (H / L) of less than 1.0, or 1 It is preferred that one laminate unit has a ratio (H / L) of 1.0 or more and less than 2.0, and the remaining laminate units have a ratio (H / L) of less than 1.0.
なお、比(H/L)は、通常、0.001以上である。上記部分、すなわち、比(H/L)が2.0未満となるような積層単位からなる部分については、全ての積層単位が0.1以上の比(H/L)を有するか、1つの積層単位が0.1未満の比(H/L)を有し、残りの積層単位が0.1以上の比(H/L)を有することが好ましい。 The ratio (H / L) is usually 0.001 or more. For the above portion, that is, the portion composed of the laminated units whose ratio (H / L) is less than 2.0, all the laminated units have a ratio (H / L) of 0.1 or more, It is preferred that the laminate units have a ratio (H / L) of less than 0.1 and the remaining laminate units have a ratio (H / L) of 0.1 or more.
高屈折率膜13は、それぞれ、Al、Zr、Ti、Si、Sn、Hf、Taの酸化物、窒化物、および酸窒化物から選ばれる少なくとも1種を含む材料からなる。低屈折率膜14は、それぞれ、Al、Zr、Ti、Si、Sn、Hf、Taの酸化物、窒化物、および酸窒化物から選ばれる少なくとも1種を含む材料からなる。上記材料によれば、所定の屈折率を得ることができる。
Each of the high
高屈折率膜13と低屈折率膜14との組み合わせとしては、例えば、Siの窒化物からなる高屈折率膜13と、Siの酸化物からなる低屈折率膜14との組み合わせが好ましい。このような組み合わせによれば、可視光の反射が抑制されるとともに、近赤外光の透過が良好となる。
As a combination of the high
次に、カバーガラス10の光学特性について説明する。
Next, the optical characteristics of the
カバーガラス10は、既に説明したように、1.5%以下の可視光反射率を有するとともに、800〜1200nmの波長範囲の少なくとも10nmの連続した波長範囲において透過率が90%以上となる領域を有する。上記領域としては、例えば、近接センサに使用される近赤外光の代表的な中心波長、具体的には、850nm、950nm等を含む領域が挙げられる。表示装置への使用、近接センサの併用等の観点から、カバーガラス10は、さらに以下のような光学特性を有することが好ましい。
As already described, the
可視光反射率は、1.3%以下が好ましく、1.0%以下がより好ましく、0.9%以下がさらに好ましい。上記領域、すなわち、800〜1200nmの波長範囲において透過率が90%以上となる領域は、800〜1200nmの波長範囲において、透過率が90%以上となる波長範囲が連続して10nm以上の幅を有することにより、近接センサに使用される近赤外光が良好に透過する。上記領域の透過率は、91%以上が好ましく、92%以上がより好ましく、93%以上がさらに好ましく、94%以上が特に好ましい。 The visible light reflectance is preferably 1.3% or less, more preferably 1.0% or less, and even more preferably 0.9% or less. In the above-mentioned region, that is, the region where the transmittance is 90% or more in the wavelength range of 800 to 1200 nm, the wavelength range where the transmittance is 90% or more continuously in the wavelength range of 800 to 1200 nm has a width of 10 nm or more. By having it, the near-infrared light used for a proximity sensor transmits favorably. The transmittance of the region is preferably 91% or more, more preferably 92% or more, still more preferably 93% or more, and particularly preferably 94% or more.
800〜1200nmの少なくとも1つの波長を有する光について、入射角が30度のときの反射率が3%以下であることが好ましい。上記波長としては、例えば、近接センサに使用される近赤外光の代表的な中心波長、具体的には、850nm、950nm等が挙げられる。上記入射角が30度のときの反射率が3%以下である場合、近赤外光の入射角が変化したときの反射率の変化、すなわち、近赤外光の入射角依存性が低下するために好ましい。上記入射角が30度のときの反射率は、2.5%以下であることがより好ましい。 For light having at least one wavelength of 800 to 1200 nm, the reflectance when the incident angle is 30 degrees is preferably 3% or less. Examples of the wavelength include typical center wavelengths of near-infrared light used for proximity sensors, specifically, 850 nm, 950 nm, and the like. When the reflectance when the incident angle is 30 degrees is 3% or less, the change in reflectance when the incident angle of near-infrared light is changed, that is, the dependence on the incident angle of near-infrared light is reduced. Therefore, it is preferable. The reflectance when the incident angle is 30 degrees is more preferably 2.5% or less.
800〜1200nmの少なくとも1つの波長を有する光について、入射角が60度のときの反射率が25%以下であることが好ましい。上記波長としては、例えば、近接センサに使用される近赤外光の代表的な中心波長、具体的には、850nm、950nm等が挙げられる。上記入射角が60度のときの反射率が25%以下である場合、近赤外光の入射角が変化したときの反射率の変化、すなわち、近赤外光の入射角依存性が低下するために好ましい。上記入射角が60度のときの反射率は、20%以下であることがより好ましい。 For light having at least one wavelength of 800 to 1200 nm, the reflectance when the incident angle is 60 degrees is preferably 25% or less. Examples of the wavelength include typical center wavelengths of near-infrared light used for proximity sensors, specifically, 850 nm, 950 nm, and the like. When the reflectance when the incident angle is 60 degrees is 25% or less, the change in reflectance when the incident angle of near-infrared light changes, that is, the dependence on the incident angle of near-infrared light is reduced. Therefore, it is preferable. The reflectance when the incident angle is 60 degrees is more preferably 20% or less.
CIE1976により規格化されたL*a*b*表色系のD65光源による反射光の色差ΔE(L*、a*、b*)が、以下の式(1)を満たすことが好ましい。以下の式(1)を満たすことにより、反射光の色調が無彩色に近くなる。これにより、表示装置の前面に配置したときに表示の色調変化が抑制される。尚、反射光の色調は反射防止膜12に対して透明基材11側の反射の影響をなくして測定された値である。
√((L*)2+(a*)2+(b*)2)≦5 ……(1)
It is preferable that the color difference ΔE (L * , a * , b * ) of the reflected light from the D65 light source of the L * a * b * color system normalized by CIE 1976 satisfies the following formula (1). By satisfying the following formula (1), the color tone of the reflected light becomes close to an achromatic color. Thereby, when it arrange | positions in the front surface of a display apparatus, the color tone change of a display is suppressed. The color tone of the reflected light is a value measured without the influence of reflection on the
√ ((L * ) 2 + (a * ) 2 + (b * ) 2 ) ≦ 5 (1)
カバーガラス10は、反射防止膜12以外の膜を本発明の効果を損なわない範囲で有することができる。このようなものとして、防汚膜、保護膜等が挙げられる。防汚膜、保護膜は、反射防止膜12に対して透明基材11側とは反対側に設けられる。
The
防汚膜は、フッ素含有有機ケイ素化合物により構成できる。フッ素含有有機ケイ素化合物としては、防汚性、撥水性、撥油性を付与するものであれば特に限定されず、例えば、ポリフルオロポリエーテル基、ポリフルオロアルキレン基、およびポリフルオロアルキル基からなる群から選ばれる1つ以上の基を有するフッ素含有有機ケイ素化合物が挙げられる。なお、ポリフルオロポリエーテル基とは、ポリフルオロアルキレン基とエーテル性酸素原子とが交互に結合した構造を有する2価の基を意味する。 The antifouling film can be composed of a fluorine-containing organosilicon compound. The fluorine-containing organosilicon compound is not particularly limited as long as it imparts antifouling properties, water repellency, and oil repellency. For example, a group consisting of a polyfluoropolyether group, a polyfluoroalkylene group, and a polyfluoroalkyl group And fluorine-containing organosilicon compounds having one or more groups selected from The polyfluoropolyether group means a divalent group having a structure in which polyfluoroalkylene groups and etheric oxygen atoms are alternately bonded.
反射防止膜12以外の膜が設けられる場合、反射防止膜12以外の膜が設けられた状態で所定の光学特性を満たすことが好ましい。すなわち、反射防止膜12以外の膜が設けられた状態で、1.5%以下の可視光反射率を有するとともに、800〜1200nmの波長範囲の少なくとも10nmの連続した波長範囲において透過率が90%以上となる領域を有することが好ましい。
When a film other than the
このようなカバーガラス10は、表示装置を有する各種の電子機器に用いられる。このような電子機器としては、テレビ受像機、パーソナルコンピュータ、ナビゲーションシステム、操作パネル、携帯型情報端末等が挙げられる。携帯型情報端末としては、スマートフォンをはじめとする携帯型電話機、携帯型コンピュータ、携帯型ゲーム機、電子書籍、表示装置を有する時計等が挙げられる。電子機器としては、特に、近赤外光を使用した近接センサを有するものが好ましい。
Such a
次に、カバーガラス10の製造方法について説明する。
Next, the manufacturing method of the
カバーガラス10は、透明基材11上に反射防止膜12を構成する高屈折率膜13と低屈折率膜14とを交互に成膜することにより製造することができる。成膜は、気相成膜法により行うことができる。気相成膜法として、化学蒸着法(CVD)、物理蒸着法(PVD)が挙げられる。化学蒸着法(CVD)として、熱CVD、プラズマCVD、レーザーCVD等が挙げられる。物理蒸着法(PVD)として、真空蒸着、イオンアシスト蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等が挙げられる。
The
成膜装置としては、例えば、ラジカルアシストスパッタ装置が好適に使用される。ラジカルアシストスパッタ装置は、単一の真空容器内に成膜領域と反応領域とが分離して設けられ、成膜処理と反応処理とを独立して行うことができる。以下、ラジカルアシストスパッタ装置について具体的に説明する。 As the film forming apparatus, for example, a radical assist sputtering apparatus is preferably used. In the radical assist sputtering apparatus, a film formation region and a reaction region are separately provided in a single vacuum vessel, and film formation processing and reaction processing can be performed independently. Hereinafter, the radical assist sputtering apparatus will be specifically described.
図2は、ラジカルアシストスパッタ装置の一例を示したものである。
ラジカルアシストスパッタ装置20は、装置本体21と、この内部に設けられたドラム22とを有する。ドラム22は、透明基材11を保持するものであり、透明基材11を保持した状態で回転する。ドラム22の周囲の空間は、壁部23によって複数の領域に分割されている。
FIG. 2 shows an example of a radical assist sputtering apparatus.
The radical
第1の領域(図中、右側)は、成膜領域となるものであり、ターゲット24が配置される。ターゲット24には、電源25が接続される。また、第1の領域には、アルゴンガスを供給するアルゴンガス供給部26が接続される。
The first region (right side in the figure) is a film formation region, and the
第2の領域(図中、下側)は、反応領域となるものであり、ラジカル源27が配置される。ラジカル源27には、整合機およびRF源28が接続される。また、第2の領域には、アルゴンガスを供給するアルゴンガス供給部31、窒素ガスを供給する窒素ガス供給部32、および酸素ガスを供給する酸素ガス供給部33が接続される
The second region (lower side in the figure) is a reaction region, and the
このようなラジカルアシストスパッタ装置20においては、まず、ドラム22に透明基材11が保持される。その後、ドラム22が回転することにより、第1の領域(図中、右側)に透明基材11が搬送される。第1の領域には、アルゴンガス供給部26からアルゴンガスが供給される。そして、ターゲット24がスパッタリングされることにより、透明基材11の表面にターゲット24の構成材料からなる膜が成膜される。このような膜として、例えば、酸化や窒化が行われていない金属膜が挙げられる。酸化や窒化を行わないことにより、成膜速度が向上するとともに、成膜が安定して行われることから膜質が向上する。
In such a radical
その後、透明基材11を保持したドラム22が回転することにより、第2の領域(図中、下側)に透明基材11が搬送される。第2の領域には、アルゴンガス供給部31、窒素ガス供給部32、酸素ガス供給部33から、必要に応じて、窒素ガス、アルゴンガス、酸素ガスが供給される。そして、透明基材11に設けられた膜にプラズマが接触することにより酸化や窒化が行われる。プラズマを使用することにより、酸化や窒化を均一に行うことができるとともに、緻密な膜を得ることができる。
Thereafter, the
次に、カバーガラス10を有する電子機器について説明する。
図3は、電子機器としての携帯型電話機の一実施形態を示す断面図である。図4は、図3に示される携帯型電話機のA−A線断面図である。
Next, an electronic device having the
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an embodiment of a mobile phone as an electronic apparatus. FIG. 4 is a cross-sectional view of the mobile phone shown in FIG.
携帯型電話機40は、例えば、スマートフォンと呼ばれるものであり、筐体41、表示装置42、およびカバーガラス43を有する。筐体41は、一端が開口された箱形を有する。表示装置42は、例えば、タッチパネル式の表示装置であり、箱形を有する筐体41の内部に収容されている。機器本体は、このような筐体41およびこれに収容された表示装置42等から構成されている。カバーガラス43は、筐体41と同様の大きさを有するものであり、筐体41およびこれに収容される表示装置42を覆うように設けられている。このようなカバーガラス43として、上述したカバーガラス10が使用される。
The
筐体41の内部には、さらに近接センサ45が設けられる。具体的には、筐体41、表示装置42、およびカバーガラス43により形成される空間部分、すなわち隙間部分に設けられる。
A
近接センサ45は、例えば、発光部451、受光部452、およびこれらを搭載する基板453からなる。近接センサ45は、発光部451および受光部452がカバーガラス43側となるように配置されている。
The
発光部451は、近赤外光を発光する。具体的には、800〜1200nmの波長範囲に中心波長を有する光を発光する。発光部451は、電流の供給により近赤外光を発光するものであればよく、例えば、近赤外LED(Light Emitting Diode)が挙げられる。
The
受光部452は、検知対象物により反射された近赤外光を受光するものである。受光部452は、近赤外光を受光して電流を発生させるものであればよく、例えば、PN接合を有するフォトダイオードが挙げられる。
The
このような携帯型電話機40によれば、近接センサ45を有することにより、通話状態にあるかどうかを検知することができる。すなわち、通話状態にある場合、発光部451から発光された近赤外光が検知対象物である人間の耳等により反射される。この反射された近赤外光を受光部452において受光することにより、通話状態にあることかどうかを検知することができる
According to such a
特に、カバーガラス43として上述したカバーガラス10を有することにより、近接センサ45における検知を適切に行うことができる。すなわち、近接センサ45に使用される近赤外光の透過が妨げられず、検知を適切に行うことができる。また、カバーガラス10を有することにより、可視光の反射が抑制されて表示の視認性に優れる。
In particular, by having the above-described
以下、実施例を参照して本発明をより具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
<実施例1〜5>
透明基材としての化学強化ガラス上に、表1に示すような膜厚および比(H/L)となるように高屈折率膜としての窒化ケイ素膜(SiNx膜)と低屈折率膜としての酸化ケイ素膜(SiO2膜)とを交互に成膜することにより反射防止膜を形成して、実施例1〜5のカバーガラスを製造した。以下、透明基材、反射防止膜について具体的に説明する。
<Examples 1-5>
On a chemically tempered glass as a transparent substrate, a silicon nitride film (SiN x film) as a high refractive index film and a low refractive index film so as to have a film thickness and ratio (H / L) as shown in Table 1 An antireflection film was formed by alternately forming silicon oxide films (SiO 2 films), and cover glasses of Examples 1 to 5 were manufactured. Hereinafter, the transparent substrate and the antireflection film will be specifically described.
(透明基材)
硝酸カリウム9700g、炭酸カリウム890g、硝酸ナトリウム400gをステンレススチール(SUS)製のカップに入れ、マントルヒーターで450℃まで加熱して、炭酸カリウム濃度が6mol%、ナトリウム濃度が10000重量ppmの溶融塩を調製した。
(Transparent substrate)
Put 9700 g of potassium nitrate, 890 g of potassium carbonate and 400 g of sodium nitrate in a stainless steel (SUS) cup and heat to 450 ° C. with a mantle heater to prepare a molten salt with a potassium carbonate concentration of 6 mol% and a sodium concentration of 10,000 ppm by weight. did.
100mm×100mm×0.56mmのアルミノシリケートガラス(比重2.48)を200〜400℃に予熱した後、上記溶融塩に2時間浸漬してイオン交換処理を行った。その後、室温付近まで冷却し、水洗いを行った。 An aluminosilicate glass (specific gravity 2.48) of 100 mm × 100 mm × 0.56 mm was preheated to 200 to 400 ° C. and then immersed in the molten salt for 2 hours for ion exchange treatment. Then, it cooled to near room temperature and washed with water.
なお、上記アルミノシリケートガラスは、SiO2 64.4mol%、Al2O3 8.0mol%、Na2O 12.5mol%、K2O 4.0mol%、MgO 10.5mol%、CaO 0.1mol%、SrO 0.1mol%、BaO 0.1mol%、ZrO2 0.5mol%の組成を有する。 The aluminosilicate glass is composed of SiO 2 64.4 mol%, Al 2 O 3 8.0 mol%, Na 2 O 12.5 mol%, K 2 O 4.0 mol%, MgO 10.5 mol%, CaO 0.1 mol. %, SrO 0.1 mol%, BaO 0.1 mol%, ZrO 2 0.5 mol%.
次いで、6.0重量%の硝酸溶液をビーカーに入れ、ウォーターバスにより40℃の温度に調整した。この硝酸溶液中に上記ガラスを120秒間浸漬させて酸処理を行った。その後、このガラスを水洗いした。 Next, a 6.0 wt% nitric acid solution was placed in a beaker and adjusted to a temperature of 40 ° C. with a water bath. The glass was immersed in this nitric acid solution for 120 seconds for acid treatment. Thereafter, the glass was washed with water.
次に、4.0重量%の水酸化ナトリウム水溶液をビーカーに入れ、ウォーターバスにより40℃の温度に調整した。その後、水酸化ナトリウム水溶液中に上記ガラスを120秒間浸漬させてアルカリ処理を行った。その後、このガラスを水洗した。その後、エアブローにより乾燥させて、透明基材となる化学強化ガラスを得た。 Next, 4.0 wt% sodium hydroxide aqueous solution was placed in a beaker and adjusted to a temperature of 40 ° C. with a water bath. Thereafter, the glass was immersed in an aqueous sodium hydroxide solution for 120 seconds for alkali treatment. Thereafter, the glass was washed with water. Then, it was made to dry by air blow, and the chemically strengthened glass used as a transparent base material was obtained.
(反射防止膜)
上記した透明基材である化学強化ガラスの表面に、窒化ケイ素膜および酸化ケイ素膜を交互に成膜して反射防止膜を形成した。窒化ケイ素膜は、波長600nmにおける屈折率が1.95である。酸化ケイ素膜は、波長600nmにおける屈折率が1.47である。
(Antireflection film)
An antireflection film was formed by alternately forming a silicon nitride film and a silicon oxide film on the surface of the chemically strengthened glass as the transparent substrate. The silicon nitride film has a refractive index of 1.95 at a wavelength of 600 nm. The silicon oxide film has a refractive index of 1.47 at a wavelength of 600 nm.
ここで、窒化ケイ素膜、酸化ケイ素膜は、いずれも後反応スパッタにより成膜した。すなわち、ケイ素ターゲットを用いてケイ素膜を成膜した後、プラズマ源により活性化された窒素、酸素、または窒素と酸素の混合ガスと反応させた。 Here, both the silicon nitride film and the silicon oxide film were formed by post-reaction sputtering. That is, after a silicon film was formed using a silicon target, it was reacted with nitrogen, oxygen, or a mixed gas of nitrogen and oxygen activated by a plasma source.
窒化ケイ素膜の成膜は、後反応スパッタ装置:アルバック社製、商品名 ULDis、ターゲット:p−Siターゲット、成膜ガス:アルゴンガス(流量100sccm)、スパッタ電力:6kW、窒化源ガス:窒素ガス(流量100sccm)、窒化源電力:1.5kW、基板温度:常温、成膜レート:0.2nm/minの条件で行った。なお、このような成膜条件とした場合、成膜された膜は圧縮応力を有するものとなる。 The silicon nitride film is formed by post-reaction sputtering apparatus: ULVAC, trade name: ULDis, target: p-Si target, deposition gas: argon gas (flow rate: 100 sccm), sputtering power: 6 kW, nitriding source gas: nitrogen gas (Flow rate 100 sccm), nitriding source power: 1.5 kW, substrate temperature: room temperature, film formation rate: 0.2 nm / min. Note that when such film forming conditions are used, the formed film has a compressive stress.
酸化ケイ素膜の成膜は、後反応スパッタ装置:アルバック社製、商品名 ULDis、ターゲット:p−Siターゲット・成膜ガス:アルゴンガス(流量100sccm)、スパッタ電力:6kW、酸化源ガス:酸素ガス(流量100sccm)、酸化源電力:1.5kW、基板温度:常温、成膜レート:0.3nm/minの条件で行った。 The film formation of the silicon oxide film is performed by a post-reaction sputtering apparatus: ULVAC, trade name: ULDis, target: p-Si target, film forming gas: argon gas (flow rate 100 sccm), sputtering power: 6 kW, oxidation source gas: oxygen gas (Flow rate 100 sccm), oxidation source power: 1.5 kW, substrate temperature: room temperature, film formation rate: 0.3 nm / min.
<実施例6>
表1に示すように、高屈折率膜を酸化ジルコニウム膜(ZrO2膜)に変更するとともに、膜厚、比(H/L)、積層数を変更したことを除いて、実施例1と同様にして実施例6のカバーガラスを製造した。
<Example 6>
As shown in Table 1, the high refractive index film was changed to a zirconium oxide film (ZrO 2 film), and the film thickness, ratio (H / L), and the number of stacked layers were changed, and the same as in Example 1 Thus, the cover glass of Example 6 was produced.
なお、酸化ジルコニウム膜の成膜は、後反応スパッタ装置:アルバック社製、商品名 ULDis、ターゲット:Zrターゲット、成膜ガス:アルゴンガス(流量100sccm)、スパッタ電力:6kW、酸化源ガス:酸素ガス(流量100sccm)、酸化源電力:1.5kW、基板温度:常温、成膜レート:0.2nm/minの条件で行った。 The zirconium oxide film was formed by post-reaction sputtering equipment: ULVAC, trade name: ULDis, target: Zr target, deposition gas: argon gas (flow rate 100 sccm), sputtering power: 6 kW, oxidation source gas: oxygen gas (Flow rate 100 sccm), oxidation source power: 1.5 kW, substrate temperature: room temperature, film formation rate: 0.2 nm / min.
<比較例1〜3>
表2に示すように、膜厚、比(H/L)、積層数を変更したことを除いて、実施例1と同様にして比較例1〜3のカバーガラスを製造した。
<Comparative Examples 1-3>
As shown in Table 2, the cover glasses of Comparative Examples 1 to 3 were produced in the same manner as in Example 1 except that the film thickness, the ratio (H / L), and the number of laminated layers were changed.
次に、実施例1〜6および比較例1〜3のカバーガラスについて以下の測定または評価を行った。結果を、表1、表2に示す。 Next, the following measurements or evaluations were performed on the cover glasses of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3. The results are shown in Tables 1 and 2.
(可視光反射率)
カバーガラスの反射防止膜が形成されている側について、JIS R 3106(1998年)に定義される可視光反射率を測定した。測定は、紫外可視分光光度計(株式会社日立ハイテクノロジーズ社製 紫外可視分光光度計 U4100)を用いて、入射角5度、P・S波混合光、スキャンスピード600nm/分、サンプリング間隔1nm、スリット8nmで測定を行った。カバーガラスの反射光は反射防止膜が形成されていない側の反射光の影響をなくす目的で、反射防止膜が形成されていない面にサンドブラストによる処理を行い油性マジックで黒塗りを行った。
(Visible light reflectance)
The visible light reflectance defined in JIS R 3106 (1998) was measured on the side of the cover glass on which the antireflection film was formed. Measurement is performed using an ultraviolet-visible spectrophotometer (UV-Spectrophotometer U4100 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), an incident angle of 5 degrees, a P / S wave mixed light, a scan speed of 600 nm / min, a sampling interval of 1 nm, and a slit. Measurements were taken at 8 nm. For the purpose of eliminating the influence of the reflected light on the side where the antireflection film is not formed, the surface of the cover glass where the antireflection film was not formed was treated with sandblasting and blacked with oily magic.
(近赤外光の透過率)
近赤外光の透過率として、近赤外センサに使用される代表的な近赤外光の中心波長である850nmまたは950nmでの透過率を測定した。測定は、紫外可視分光光度計(株式会社日立ハイテクノロジーズ社製 紫外可視分光光度計 U4100)を用いて、入射角5度、P・S波混合光、スキャンスピード750nm/分、サンプリング間隔1nm、スリット自動制御で測定を行った。なお、表中、中心波長をIRセンサ中心波長と記し、当該中心波長における近赤外光の透過率をIR透過率と記した。
なお、800〜1200nmの波長範囲の少なくとも10nmの連続した波長範囲とは、中心波長を含む10nm以上の範囲を示す。本実施例においては、サンプリング間隔1nmで測定しており、中心波長を含む10nm以上の波長範囲における近赤外光の透過率の各測定値を評価した。
(Near-infrared light transmittance)
As the transmittance of near-infrared light, the transmittance at 850 nm or 950 nm, which is the central wavelength of typical near-infrared light used in the near-infrared sensor, was measured. Measurement is performed using an ultraviolet-visible spectrophotometer (UV-visible spectrophotometer U4100 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), an incident angle of 5 degrees, a P / S wave mixed light, a scan speed of 750 nm / min, a sampling interval of 1 nm, and a slit. Measurements were made with automatic control. In the table, the center wavelength is described as the IR sensor center wavelength, and the transmittance of near-infrared light at the center wavelength is described as IR transmittance.
In addition, the continuous wavelength range of at least 10 nm in the wavelength range of 800 to 1200 nm indicates a range of 10 nm or more including the center wavelength. In this example, measurement was performed at a sampling interval of 1 nm, and each measured value of transmittance of near infrared light in a wavelength range of 10 nm or more including the center wavelength was evaluated.
表1から明らかなように、実施例1〜6のカバーガラスは、1.5%以下の可視光反射率を有するとともに、850nmまたは950nmの波長を含んだ少なくとも10nmの連続した波長範囲において90%以上のIR透過率を有する。 As is apparent from Table 1, the cover glasses of Examples 1 to 6 have a visible light reflectance of 1.5% or less and 90% in a continuous wavelength range of at least 10 nm including a wavelength of 850 nm or 950 nm. It has the above IR transmittance.
一方、表2から明らかなように、比較例1〜3のカバーガラスは、850nmおよび950nmの波長を含んだ少なくとも10nmの連続した波長範囲において90%以上のIR透過率を得ることができない。なお、比較例1〜3のカバーガラスは、800〜1200nmの波長範囲の少なくとも10nmの連続した波長範囲において透過率が90%以上となる領域を有しない。 On the other hand, as is clear from Table 2, the cover glasses of Comparative Examples 1 to 3 cannot obtain an IR transmittance of 90% or more in a continuous wavelength range of at least 10 nm including wavelengths of 850 nm and 950 nm. In addition, the cover glasses of Comparative Examples 1 to 3 do not have a region where the transmittance is 90% or more in a continuous wavelength range of at least 10 nm in the wavelength range of 800 to 1200 nm.
なお、表1には記載されていないが、実施例1〜6のカバーガラスは、850nmまたは950nmの波長を含んだ少なくとも10nmの連続した波長範囲において、サンプリング間隔1nmにおける透過率の各測定値が90%以上になっている。 Although not described in Table 1, in the cover glasses of Examples 1 to 6, each measured value of transmittance at a sampling interval of 1 nm is obtained in a continuous wavelength range of at least 10 nm including a wavelength of 850 nm or 950 nm. It is over 90%.
また、実施例1〜6のカバーガラスは、CIE1976により規格化されたL*a*b*表色系のD65光源による反射光の色差ΔE(L*、a*、b*)が、√((L*)2+(a*)2+(b*)2)≦5を満たしている。尚、反射光の色差ΔE(L*、a*、b*)は、カバーガラスの反射防止膜が形成されている側について、JIS R 3106(1998年)に定義される可視光反射率を測定した。測定は、紫外可視分光光度計(株式会社日立ハイテクノロジーズ社製 紫外可視分光光度計 U4100)を用いて、入射角5度、P・S波混合光、スキャンスピード600nm/分、サンプリング間隔1nm、スリット8nmで測定を行った。反射光の色差は反射防止膜12に対して透明基材11側の反射の影響をなくして測定された値である。
In addition, the cover glasses of Examples 1 to 6 have a color difference ΔE (L * , a * , b * ) of light reflected by a D65 light source of L * a * b * color system standardized by CIE 1976, √ ( (L *) 2 + (a *) satisfies the 2 + (b *) 2) ≦ 5. The color difference ΔE (L * , a * , b * ) of reflected light is measured by the visible light reflectance defined in JIS R 3106 (1998) on the side of the cover glass where the antireflection film is formed. did. Measurement is performed using an ultraviolet-visible spectrophotometer (UV-visible spectrophotometer U4100, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), an incident angle of 5 degrees, a P / S wave mixed light, a scan speed of 600 nm / min, a sampling interval of 1 nm, and a slit. Measurements were taken at 8 nm. The color difference of the reflected light is a value measured without the influence of reflection on the
さらに、実施例1〜6のカバーガラスは、850nmまたは950nmの波長について、入射角が30度のときの可視光反射率が3%以下となるとともに、入射角が60度のときの可視光反射率が25%以下となっている。 Further, the cover glasses of Examples 1 to 6 have a visible light reflectance of 3% or less at an incident angle of 30 degrees and a visible light reflection at an incident angle of 60 degrees for a wavelength of 850 nm or 950 nm. The rate is 25% or less.
実施例1〜6のカバーガラスは、可視光反射率が1.5%以下、800〜1200nmの波長範囲の少なくとも10nmの連続した波長範囲において透過率が90%以上であるため近赤外光の透過が良好である。そのため表示装置の周囲に近接センサを設けることが可能となり、表示装置を有する携帯型電話機等の各種の電子機器に好適である。
以上、本発明の実施の形態を、実施例を用いて詳述したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲での種々の設計変更が可能である。
Since the cover glasses of Examples 1 to 6 have a visible light reflectance of 1.5% or less and a transmittance of 90% or more in a continuous wavelength range of at least 10 nm in a wavelength range of 800 to 1200 nm, Good transmission. Therefore, a proximity sensor can be provided around the display device, which is suitable for various electronic devices such as a mobile phone having the display device.
Although the embodiments of the present invention have been described in detail using examples, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various design changes can be made without departing from the spirit of the present invention. Is possible.
10…カバーガラス、11…透明基材、12…反射防止膜、13…高屈折率膜、14…低屈折率膜、20…ラジカルアシストスパッタ装置、21…装置本体、22…ドラム、23…壁部、24…ターゲット、26…アルゴンガス供給部、27…ラジカル源、28…整合機およびRF源、31…アルゴンガス供給部、32…窒素ガス供給部、33…酸素ガス供給部、35…電源、40…携帯型電話機、41…筐体、42…表示装置、43…カバーガラス、45…近接センサ、451…発光部、452…受光部、453…基板
DESCRIPTION OF
Claims (18)
前記反射防止膜は、屈折率が1.9以上である高屈折率膜と、屈折率が1.6以下である低屈折率膜とが交互に積層された構造を有し、
前記高屈折率膜、前記低屈折率膜は、それぞれ、Al、Zr、Ti、Si、Sn、Hf、Taの酸化物、窒化物、および酸窒化物から選ばれる少なくとも1種を含む材料からなり、
可視光反射率が1.5%以下、800〜1200nmの波長範囲の少なくとも10nmの連続した波長範囲において透過率が90%以上となる領域を有する
ことを特徴とする表示装置用カバーガラス。 A cover glass for a display device having a transparent base material and an antireflection film provided on the transparent base material,
The antireflection film has a structure in which a high refractive index film having a refractive index of 1.9 or more and a low refractive index film having a refractive index of 1.6 or less are alternately laminated,
The high refractive index film and the low refractive index film are each made of a material containing at least one selected from oxides, nitrides, and oxynitrides of Al, Zr, Ti, Si, Sn, Hf, and Ta. ,
A cover glass for a display device, having a visible light reflectance of 1.5% or less and a transmittance of 90% or more in a continuous wavelength range of at least 10 nm in a wavelength range of 800 to 1200 nm.
√((L*)2+(a*)2+(b*)2)≦5
を満たすことを特徴とする請求項1〜10のいずれか一項に記載の表示装置用カバーガラス。 The L * value, a * value, and b * value in the L * a * b * color space of the reflected light are
√ ((L * ) 2 + (a * ) 2 + (b * ) 2 ) ≦ 5
The cover glass for a display device according to any one of claims 1 to 10, wherein:
前記表示装置を覆うように設けられる請求項1〜14のいずれか一項に記載の表示装置用カバーガラスと、を有することを特徴とする電子機器。 An apparatus body having a display device;
An electronic apparatus comprising: the cover glass for a display device according to claim 1, which is provided so as to cover the display device.
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