JP2018036257A - マイクロ分光分析用試料台の作製方法 - Google Patents
マイクロ分光分析用試料台の作製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018036257A JP2018036257A JP2017152169A JP2017152169A JP2018036257A JP 2018036257 A JP2018036257 A JP 2018036257A JP 2017152169 A JP2017152169 A JP 2017152169A JP 2017152169 A JP2017152169 A JP 2017152169A JP 2018036257 A JP2018036257 A JP 2018036257A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical material
- integer
- water
- oil repellency
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 238000001634 microspectroscopy Methods 0.000 title claims abstract description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 26
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 25
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims abstract description 5
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims abstract description 5
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 claims description 33
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 15
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 11
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 11
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims description 9
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 claims description 9
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims description 8
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 5
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 claims description 5
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 4
- PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N (fluoren-9-ylideneamino) n-naphthalen-1-ylcarbamate Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2C1=NOC(=O)NC1=CC=CC2=CC=CC=C12 PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L barium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ba+2] OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 claims description 3
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims description 3
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 abstract description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 abstract description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract description 2
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 238000001157 Fourier transform infrared spectrum Methods 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 238000005011 time of flight secondary ion mass spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 238000002042 time-of-flight secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 235000012424 soybean oil Nutrition 0.000 description 3
- 239000003549 soybean oil Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000012844 infrared spectroscopy analysis Methods 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 238000004451 qualitative analysis Methods 0.000 description 2
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 2
- DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane Chemical compound CCOC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- CKHJYUSOUQDYEN-UHFFFAOYSA-N gallium(3+) Chemical compound [Ga+3] CKHJYUSOUQDYEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
Description
(1)撥水性または撥油性を有する下記構造式(I)で表わされるパーフルオロアルキルポリエーテル基含有シラン化合物を溶媒に溶解してなる液に光学材料を浸漬させ、浸漬後に光学材料を加熱し、次いで光学材料を洗浄して、光学材料の表面が撥水性または撥油性に改質されており、かつ、該光学材料の測定に使用する面の一部が直線または曲線で閉じた形状であって、その内側が撥水性または撥油性を持たない部分を有することを特徴とする光学材料を用いたマイクロ分光分析用試料台の作製方法、
(2)前記光学材料が、シリコン、ゲルマニウム、サファイア、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、セレン化亜鉛、およびダイヤモンドから選ばれる1種以上を含む(1)に記載のマイクロ分光分析用試料台の作製方法、
(3)前記溶媒が、アルコール類、ケトン類、エーテル類、アルデヒド類、アミン類、脂肪酸類、エステル類およびニトリル類から選ばれる1種以上を含むものであり、かつ、該溶媒はフッ素変性されたものである(1)または(2)に記載のマイクロ分光分析用試料台の作製方法、
(4)前記撥水性または撥油性を持たない部分の該領域の面積が0.0001〜10mm2である(1)〜(3)のいずれかに記載のマイクロ分光分析用試料台の作製方法、
(5)前記撥水性または撥油性を持たない部分の深さが0.01〜10μmである(1)〜(4)のいずれかに記載のマイクロ分光分析用試料台の作製方法、
(6)前記撥水性または撥油性を持たない部分を加工するためのドライエッチングに使用するイオンがガリウムイオン、アルゴンイオン、セシウムイオン、および酸素イオンから選ばれる1種以上を含む(1)〜(5)のいずれかに記載のマイクロ分光分析用試料台の作製方法、
(7)前記撥水性または撥油性を持たない部分を加工するためのウエットエッチングに使用するアルカリ液体が水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウムから選ばれる1種以上を含む(1)〜(5)のいずれかに記載のマイクロ分光分析用試料台の作製方法、
(8)前記撥水性または撥油性を持たない部分を加工するためのウエットエッチングに使用するフッ酸との混合酸性液体が、塩酸、硫酸、硝酸、ギ酸、および酢酸から選ばれる1種以上を含む(1)〜(5)のいずれかに記載のマイクロ分光分析用試料台の作製方法、である。
2:光学材料
3:試料
4:検出器
5:赤外線
6:撥水性または撥油性を持たない部分
Claims (8)
- 撥水性または撥油性を有する下記構造式(I)で表わされるパーフルオロアルキルポリエーテル基含有シラン化合物を溶媒に溶解してなる液に、光学材料を浸漬させ、浸漬後に光学材料を加熱し、次いで光学材料を洗浄して、光学材料の表面が撥水性または撥油性に表面改質されており、かつ、該光学材料の測定に使用する面の一部が直線または曲線で閉じた形状であって、その内側が撥水性または撥油性を持たない部分を有することを特徴とする光学材料を用いたマイクロ分光分析用試料台の作製方法。
- 前記光学材料が、シリコン、ゲルマニウム、サファイア、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、セレン化亜鉛、およびダイヤモンドから選ばれる1種以上を含む請求項1に記載のマイクロ分光分析用試料台の作製方法。
- 前記溶媒が、アルコール類、ケトン類、エーテル類、アルデヒド類、アミン類、脂肪酸類、エステル類およびニトリル類から選ばれる1種以上を含むものであり、かつ、該溶媒はフッ素変性されたものである請求項1または2に記載のマイクロ分光分析用試料台の作製方法。
- 前記撥水性または撥油性を持たない部分の該領域の面積が0.0001〜10mm2であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のマイクロ分光分析用試料台の作製方法。
- 前記撥水性または撥油性を持たない部分の深さが0.01〜10μmであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のマイクロ分光分析用試料台の作製方法。
- 前記撥水性または撥油性を持たない部分を加工するためのドライエッチングに使用するイオンがガリウムイオン、アルゴンイオン、セシウムイオン、および酸素イオンから選ばれる1種以上を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のマイクロ分光分析用試料台の作製方法。
- 前記撥水性または撥油性を持たない部分を加工するためのウエットエッチングに使用するアルカリ液体が水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウムから選ばれる1種以上を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のマイクロ分光分析用試料台の作製方法。
- 前記撥水性または撥油性を持たない部分を加工するためのウエットエッチングに使用するフッ酸との混合酸性液体が、塩酸、硫酸、硝酸、ギ酸、および酢酸から選ばれる1種以上を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のマイクロ分光分析用試料台の作製方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016164439 | 2016-08-25 | ||
JP2016164439 | 2016-08-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018036257A true JP2018036257A (ja) | 2018-03-08 |
JP6974810B2 JP6974810B2 (ja) | 2021-12-01 |
Family
ID=61565702
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017152169A Active JP6974810B2 (ja) | 2016-08-25 | 2017-08-07 | マイクロ分光分析用試料台の作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6974810B2 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH093414A (ja) * | 1995-06-19 | 1997-01-07 | Kuraray Co Ltd | 粘着性基体 |
US20020045270A1 (en) * | 2000-09-01 | 2002-04-18 | Martin Schurenberg | Structured biosample support plates for mass spectroscopic analyses and procedures for manufacturing and use |
JP2012225910A (ja) * | 2011-04-14 | 2012-11-15 | E M D Millipore Corp | 赤外線(ir)に基づき生体分子を定量するためのデバイスおよび方法 |
JP2013102013A (ja) * | 2011-11-08 | 2013-05-23 | Toyota Motor Corp | 半導体装置の製造方法と半導体装置 |
JP5870439B1 (ja) * | 2015-04-02 | 2016-03-01 | 株式会社東レリサーチセンター | マイクロ分光分析用試料台の作製方法 |
-
2017
- 2017-08-07 JP JP2017152169A patent/JP6974810B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH093414A (ja) * | 1995-06-19 | 1997-01-07 | Kuraray Co Ltd | 粘着性基体 |
US20020045270A1 (en) * | 2000-09-01 | 2002-04-18 | Martin Schurenberg | Structured biosample support plates for mass spectroscopic analyses and procedures for manufacturing and use |
JP2012225910A (ja) * | 2011-04-14 | 2012-11-15 | E M D Millipore Corp | 赤外線(ir)に基づき生体分子を定量するためのデバイスおよび方法 |
JP2013102013A (ja) * | 2011-11-08 | 2013-05-23 | Toyota Motor Corp | 半導体装置の製造方法と半導体装置 |
JP5870439B1 (ja) * | 2015-04-02 | 2016-03-01 | 株式会社東レリサーチセンター | マイクロ分光分析用試料台の作製方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6974810B2 (ja) | 2021-12-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Kim et al. | Fiber‐optic SERS probes fabricated using two‐photon polymerization for rapid detection of bacteria | |
US7829844B2 (en) | Substrate for mass spectrometry, and method for manufacturing substrate for mass spectrometry | |
Li et al. | Electrochemical fabrication of silver tips for tip‐enhanced Raman spectroscopy assisted by a machine vision system | |
CN103712972B (zh) | 一种表面增强拉曼基底的制备方法 | |
CN102565024A (zh) | 基于表面等离子体激元局域场耦合效应的表面增强拉曼散射基底及其制备方法 | |
JP5870439B1 (ja) | マイクロ分光分析用試料台の作製方法 | |
JP2012132826A (ja) | シリコンウェハの金属不純物分析方法 | |
CN109444193A (zh) | 半导体芯片的失效分析方法 | |
Ye et al. | Improving UV laser damage threshold of fused silica optics by wet chemical etching technique | |
JP2018036257A (ja) | マイクロ分光分析用試料台の作製方法 | |
JP6872457B2 (ja) | 質量分析用試料台の作製方法 | |
CN107328750B (zh) | 高活性高均一性表面增强拉曼散射基底及其制备方法 | |
JP5147307B2 (ja) | 質量分析用基板及び質量分析用基板の製造方法 | |
CN108611604A (zh) | 一种基于高介电材料的经济型高精密表面增强拉曼活性基底的制造方法 | |
US10746635B2 (en) | Method and apparatus for inspecting process solution, and sample preparation apparatus in inspection | |
JP2017083281A (ja) | マイクロ分光分析用試料台の作製方法 | |
WO2016158221A1 (ja) | マイクロ分光分析用試料台の作製方法 | |
JP2017106727A (ja) | マイクロ分光分析用試料台の作製方法 | |
JP2007207783A (ja) | シリコンウェーハのエッチング方法およびシリコンウェーハの検査方法 | |
JP2004257973A (ja) | 微小物の形状・構造分析方法及び装置 | |
JP2015105837A (ja) | 光学デバイスおよび分析装置 | |
CN100468664C (zh) | 氧化锌紫外焦平面成像阵列制作工艺中的化学刻蚀方法 | |
JPH01132903A (ja) | 走査型トンネル顕微鏡 | |
Ueno et al. | Adhesive Layer for Robust Graphene Transferred on Solid Support and Its Application to Graphene Microelectrode Manufacturing. | |
Zhao et al. | Subsurface damage distribution and processing method of ground fused silica |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200110 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20201021 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201117 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201221 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210309 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20210507 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20210507 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20210507 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210527 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211005 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211020 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6974810 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |