JP2018011043A - Magnetic material and electronic component - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic material capable of improving insulation characteristics, and an electronic component.SOLUTION: The magnetic material according to one embodiment of the present invention includes: a plurality of soft magnetic alloy particles containing Fe, an element L (the element L is Si, Zr or Ti), and an element M (the element M is other than Si, Zr and Ti and is easier to oxidize than Fe); a first oxide film containing the element L and covering each of the plurality of soft magnetic alloy particles; a second oxide film containing the element M and covering the first oxide film; a third oxide film containing the element L and covering the second oxide film; a fourth oxide film containing Fe and covering the third oxide film; and a coupling part which is constituted of a part of the fourth oxide film and couples the plurality of soft magnetic alloy particles together.SELECTED DRAWING: Figure 7

Description

本発明は、コイル、インダクタ等において主に磁心として用いられる磁性材料及びそれを用いた電子部品に関する。   The present invention relates to a magnetic material mainly used as a magnetic core in a coil, an inductor, and the like, and an electronic component using the magnetic material.

インダクタ、チョークコイル、トランス等といった電子部品は、磁心としての磁性体と、この磁性体の内部または表面に形成されたコイルとを有する。磁性体の材料としては、例えば、ＮｉＣｕＺｎ系フェライト等のフェライト材料が一般に用いられている。   Electronic components such as inductors, choke coils, transformers, and the like have a magnetic body as a magnetic core and a coil formed inside or on the surface of the magnetic body. As the magnetic material, for example, a ferrite material such as NiCuZn ferrite is generally used.

近年、この種の電子部品には大電流化が求められており、その要求を満足するために、磁性体の材料を従前のフェライトから金属系の材料に切り替えることが検討されている。金属系の材料としては、ＦｅＳｉＣｒ合金、ＦｅＳｉＡｌ合金等が知られており、例えば特許文献１には、ＦｅＳｉＣｒ系軟磁性合金粉の合金相同士がＦｅ、Ｓｉ及びＣｒを含む酸化物相を介して結合された圧粉磁心が開示されている。   In recent years, this type of electronic component is required to have a large current, and in order to satisfy the demand, switching from a conventional ferrite material to a metal-based material has been studied. FeSiCr alloys, FeSiAl alloys, and the like are known as metal-based materials. For example, in Patent Document 1, the alloy phases of FeSiCr-based soft magnetic alloy powders are connected via an oxide phase containing Fe, Si, and Cr. A combined dust core is disclosed.

一方、金属系の磁性材料は、材料自体の飽和磁束密度がフェライトに比べて高い反面、材料自体の体積抵抗率が従前のフェライトに比べて低いため、電気絶縁特性の更なる向上が求められている。例えば特許文献２には、Ｆｅを主成分とする軟磁性金属粒子の粒子間にガラス部が介在する軟磁性圧粉磁心が開示されている。ガラス部は、低融点ガラス材料を加圧状態で熱により軟化させることで形成される。低融点ガラス材料は、融点が低く、加熱により軟磁性金属粒子間で拡散反応が起こり、軟磁性金属粒子の表面を覆う酸化物部で埋めきれない大きさの空隙を埋めることができるとしている。   On the other hand, metal-based magnetic materials have a higher saturation magnetic flux density than the ferrite itself, while the volume resistivity of the material itself is lower than the conventional ferrite. Yes. For example, Patent Document 2 discloses a soft magnetic powder magnetic core in which a glass portion is interposed between soft magnetic metal particles containing Fe as a main component. The glass part is formed by softening a low-melting glass material with heat under pressure. The low-melting-point glass material has a low melting point, and a diffusion reaction occurs between the soft magnetic metal particles by heating, so that a gap having a size that cannot be filled with an oxide portion that covers the surface of the soft magnetic metal particles can be filled.

特開２０１５−１２６０４７号公報JP2015-126047 A 特開２０１５−１４４２３８号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2015-144238

しかしながら、合金粒子間の隙間をガラスで埋めることは難しく、絶縁の安定性に欠けるという問題がある。また、合金粒子間の隙間をガラスで埋めることができたとしても、合金粒子の酸化反応が不安定となり、かえって絶縁特性を低下させるおそれがある。   However, it is difficult to fill the gaps between the alloy particles with glass, and there is a problem that the stability of insulation is lacking. Moreover, even if the gaps between the alloy particles can be filled with glass, the oxidation reaction of the alloy particles becomes unstable, and there is a possibility that the insulating characteristics are deteriorated.

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、絶縁特性を向上させることができる磁性材料及び電子部品を提供することにある。   In view of the circumstances as described above, an object of the present invention is to provide a magnetic material and an electronic component that can improve insulation characteristics.

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る磁性材料は、複数の磁性合金粒子と、第１の酸化膜と、第２の酸化膜と、第３の酸化膜と、第４の酸化膜と、結合部とを有する。
上記複数の磁性合金粒子は、Ｆｅ、元素Ｌ（但し、元素ＬはＳｉ、Ｚｒ、Ｔｉのいずれかである。）及び元素Ｍ（但し、元素ＭはＳｉ、Ｚｒ、Ｔｉ以外であってＦｅより酸化し易い元素である。）を含む。
上記第１の酸化膜は、元素Ｌを含み、上記複数の軟磁性合金粒子各々を覆う。
上記第２の酸化膜は、元素Ｍを含み、上記第１の酸化膜を覆う。
上記第３の酸化膜は、非晶質であり、元素Ｌを含み、上記第２の酸化膜を覆う。
上記第４の酸化膜は、Ｆｅを含み、前記第３の酸化膜を覆う。
上記結合部は、上記第４の酸化膜の一部で構成され、上記複数の軟磁性合金粒子どうしを結合する。 In order to achieve the above object, a magnetic material according to one embodiment of the present invention includes a plurality of magnetic alloy particles, a first oxide film, a second oxide film, a third oxide film, and a fourth oxide film. It has a membrane and a joint.
The plurality of magnetic alloy particles include Fe, element L (where element L is any one of Si, Zr, and Ti) and element M (where element M is other than Si, Zr, and Ti and is less than Fe. It is an element that is easily oxidized.
The first oxide film includes the element L and covers each of the plurality of soft magnetic alloy particles.
The second oxide film includes the element M and covers the first oxide film.
The third oxide film is amorphous, contains the element L, and covers the second oxide film.
The fourth oxide film contains Fe and covers the third oxide film.
The coupling portion is constituted by a part of the fourth oxide film, and couples the plurality of soft magnetic alloy particles.

上記磁性材料において、軟磁性合金粒子の表面は、上記第１〜第４の酸化膜で覆われているため、第４の酸化膜の一部で構成された結合部を介して結合される軟磁性合金粒子間の絶縁特性が効果的に高められる。   In the magnetic material, since the surface of the soft magnetic alloy particle is covered with the first to fourth oxide films, the soft magnetic alloy particles are bonded through a coupling portion constituted by a part of the fourth oxide film. Insulation characteristics between magnetic alloy particles are effectively enhanced.

典型的には、元素ＭはＣｒであり、元素ＬはＳｉである。   Typically, the element M is Cr and the element L is Si.

上記第３の酸化膜は、上記第１の酸化膜の厚み以上の厚みを有してもよい。
上記第３の酸化膜の厚みは特に限定されず、例えば、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下である。 The third oxide film may have a thickness greater than or equal to the thickness of the first oxide film.
The thickness of the third oxide film is not particularly limited, and is, for example, 1 nm or more and 20 nm or less.

本発明の他の形態に係る磁性材料は、複数の磁性合金粒子と、第１の酸化膜と、第２の酸化膜と、第３の酸化膜と、第４の酸化膜とを有する。
上記複数の磁性合金粒子は、Ｆｅ、元素Ｌ（但し、元素ＬはＳｉ、Ｚｒ、Ｔｉのいずれかである。）及び元素Ｍ（但し、元素ＭはＳｉ、Ｚｒ、Ｔｉ以外であってＦｅより酸化し易い元素である。）を含む。
上記第１の酸化膜は、元素Ｌを含み、上記複数の軟磁性合金粒子各々を覆う。
上記第２の酸化膜は、元素Ｍを含み、上記第１の酸化膜を覆う。
上記第３の酸化膜は、非晶質であり、元素Ｌを含み、上記第２の酸化膜を覆う。
上記第４の酸化膜は、Ｆｅを含み、前記第３の酸化膜を覆う。 A magnetic material according to another embodiment of the present invention includes a plurality of magnetic alloy particles, a first oxide film, a second oxide film, a third oxide film, and a fourth oxide film.
The plurality of magnetic alloy particles include Fe, element L (where element L is any one of Si, Zr, and Ti) and element M (where element M is other than Si, Zr, and Ti and is less than Fe. It is an element that is easily oxidized.
The first oxide film includes the element L and covers each of the plurality of soft magnetic alloy particles.
The second oxide film includes the element M and covers the first oxide film.
The third oxide film is amorphous, contains the element L, and covers the second oxide film.
The fourth oxide film contains Fe and covers the third oxide film.

本発明の一形態に係る電子部品は、上記磁性材料を含有する磁心を具備する。   An electronic component according to an aspect of the present invention includes a magnetic core containing the magnetic material.

本発明によれば、絶縁特性の向上を図ることができる。   According to the present invention, the insulation characteristics can be improved.

本発明の一実施形態に係るコイル部品の全体斜視図である。1 is an overall perspective view of a coil component according to an embodiment of the present invention. 図１におけるＡ−Ａ線断面図である。It is the sectional view on the AA line in FIG. 上記積層インダクタにおける部品本体の分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the component main body in the said multilayer inductor. 図１におけるＢ−Ｂ線断面図である。It is the BB sectional view taken on the line in FIG. 上記コイル部品における第１の磁性層を構成する磁性体中の酸化膜の微細構造を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the fine structure of the oxide film in the magnetic body which comprises the 1st magnetic layer in the said coil components. 上記第１の磁性層を構成する磁性体中の酸化膜の層構造を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the layer structure of the oxide film in the magnetic body which comprises the said 1st magnetic layer. 上記コイル部品における第２の磁性層を構成する磁性体中の酸化膜の微細構造を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the fine structure of the oxide film in the magnetic body which comprises the 2nd magnetic layer in the said coil components. 上記第２の磁性層を構成する磁性体中の酸化膜の層構造を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the layer structure of the oxide film in the magnetic body which comprises the said 2nd magnetic layer. 上記コイル部品における磁性体層の製造方法を説明する要部の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the principal part explaining the manufacturing method of the magnetic body layer in the said coil components. ３点曲げ破断応力の測定方法を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the measuring method of 3-point bending rupture stress. 比較例に示す方法で合金粒子の表面に形成されたＳｉＯ２微粒子の状態を模式的に示す粒子断面図である。The state of the SiO 2 particles formed on the surface of the alloy particles in the method shown in Comparative Examples is a particle cross-sectional view schematically showing. 実施例に示す方法で合金粒子の表面に形成されたコート層の状態を模式的に示す粒子断面図である。It is particle | grain sectional drawing which shows typically the state of the coat layer formed in the surface of the alloy particle by the method shown in an Example.

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図１は、本発明の一実施形態に係る電子部品としてのコイル部品（積層インダクタ）を示す全体斜視図である。図２は、図１におけるＡ−Ａ線断面図である。   FIG. 1 is an overall perspective view showing a coil component (multilayer inductor) as an electronic component according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG.

［コイル部品の全体構成］
本実施形態のコイル部品１０は、図１に示すように、部品本体１１と、一対の外部電極１４，１５とを有する。部品本体１１は、Ｘ軸方向に幅Ｗ、Ｙ軸方向に長さＬ、Ｚ軸方向に高さＨを有する直方体形状に形成される。一対の外部電極１４，１５は、部品本体１１の長辺方向（Ｙ軸方向）に対向する２つの端面に設けられる。 [Overall configuration of coil parts]
As shown in FIG. 1, the coil component 10 of the present embodiment includes a component main body 11 and a pair of external electrodes 14 and 15. The component main body 11 is formed in a rectangular parallelepiped shape having a width W in the X-axis direction, a length L in the Y-axis direction, and a height H in the Z-axis direction. The pair of external electrodes 14 and 15 are provided on two end faces facing the long side direction (Y-axis direction) of the component main body 11.

部品本体１１の各部の寸法は特に限定されず、本実施形態では、長さＬが１．６〜２ｍｍ、幅Ｗが０．８〜１．２ｍｍ、高さＨが０．４〜０．６ｍｍとされる。   The dimension of each part of the component main body 11 is not particularly limited. In the present embodiment, the length L is 1.6 to 2 mm, the width W is 0.8 to 1.2 mm, and the height H is 0.4 to 0.6 mm. It is said.

部品本体１１は、図２に示すように、直方体形状の磁性体部１２と、磁性体部１２によって覆われた螺旋状のコイル部１３（内部導体）とを有している。   As shown in FIG. 2, the component main body 11 includes a rectangular parallelepiped magnetic body portion 12 and a spiral coil portion 13 (internal conductor) covered with the magnetic body portion 12.

図３は、部品本体１１の分解斜視図である。図４は、図１におけるＢ−Ｂ線断面図である。   FIG. 3 is an exploded perspective view of the component main body 11. 4 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG.

磁性体部１２は、図３に示すように、複数の磁性体層ＭＬＵ、ＭＬ１〜ＭＬ７及びＭＬＤが高さ方向（Ｚ軸方向）に積層されて一体化された構造を有する。磁性体層ＭＬＵ及びＭＬＤは、磁性体部１２の上下のカバー層（第３の磁性層）を構成する。磁性体層ＭＬ１〜ＭＬ７は、コイル部１３を含む導体層を構成し、図４に示すように、それぞれ、第１の磁性層１２１と、第２の磁性層１２２と、導体パターンＣ１１〜Ｃ１７とを有する。   As shown in FIG. 3, the magnetic body portion 12 has a structure in which a plurality of magnetic body layers MLU, ML1 to ML7 and MLD are stacked and integrated in the height direction (Z-axis direction). The magnetic layers MLU and MLD constitute upper and lower cover layers (third magnetic layer) of the magnetic part 12. The magnetic layers ML1 to ML7 constitute a conductor layer including the coil portion 13, and as shown in FIG. 4, the first magnetic layer 121, the second magnetic layer 122, and the conductor patterns C11 to C17, respectively. Have

第１の磁性層１２１は、隣接する上下の導体パターンＣ１１〜Ｃ１７の間に介在する導体間層として構成される。第１の磁性層１２１は、軟磁性合金粒子が用いられる。軟磁性合金粒子として本実施形態では、例えばＦｅＳｉＣｒ系合金磁性粒子が用いられる。軟磁性合金粒子の組成は、典型的には、Ｃｒが１〜５ｗｔ％、Ｓｉが２〜１０ｗｔ％であり、不純物を除き、残りをＦｅとし全体で１００ｗｔ％である。   The first magnetic layer 121 is configured as an interconductor layer interposed between adjacent upper and lower conductor patterns C11 to C17. For the first magnetic layer 121, soft magnetic alloy particles are used. In this embodiment, for example, FeSiCr alloy magnetic particles are used as the soft magnetic alloy particles. The composition of the soft magnetic alloy particles is typically 1 to 5 wt% for Cr and 2 to 10 wt% for Si, except for impurities, the rest being Fe and 100 wt% as a whole.

軟磁性合金粒子の体積基準の粒子径として見た場合の平均粒径（メディアン径）は、目的とする磁気特性（比透磁率、インダクタンス、飽和磁化等）、第１の磁性層１２１の厚み等に応じて適宜設定可能である。一例として、第１の磁性層１２１の厚みが４μｍ以上２０μｍ以下の場合、第１の磁性層１２１を構成する軟磁性合金粒子の平均粒径は、上記厚み寸法において厚み方向（Ｚ軸方向）に４つ以上の合金粒子が並ぶ大きさとされ、例えば、１μｍ以上５μｍ以下とされる。   The average particle diameter (median diameter) when viewed as the volume-based particle diameter of the soft magnetic alloy particles is the target magnetic characteristics (relative magnetic permeability, inductance, saturation magnetization, etc.), the thickness of the first magnetic layer 121, etc. It can be set appropriately according to As an example, when the thickness of the first magnetic layer 121 is 4 μm or more and 20 μm or less, the average particle diameter of the soft magnetic alloy particles constituting the first magnetic layer 121 is in the thickness direction (Z-axis direction) in the above thickness dimension. The size is such that four or more alloy particles are arranged, for example, 1 μm or more and 5 μm or less.

軟磁性合金粒子としては、ＦｅＳｉＣｒ以外にも、ＦｅＺｒＣｒ、ＦｅＳｉＡｌ、ＦｅＳｉＴｉ、ＦｅＺｒＡｌ、ＦｅＺｒＴｉなどを用いることができる。すなわち軟磁性合金粒子は、Ｆｅを主成分とし、Ｓｉ、Ｚｒ及びＴｉのいずれか１つ以上の元素（以下、元素Ｌともいう）と、Ｓｉ、Ｚｒ及びＴｉ以外のＦｅより酸化しやすい、例えばＣｒ、Ａｌ等の１つ以上の元素（以下、元素Ｍともいう）とを含むものであれば良い。このような磁性材料を用いることで、軟磁性合金粒子の表面に後述する酸化膜が安定的に形成され、特に低温度で熱処理を行う場合でも、絶縁性を高くできる。   As the soft magnetic alloy particles, FeZrCr, FeSiAl, FeSiTi, FeZrAl, FeZrTi and the like can be used in addition to FeSiCr. That is, the soft magnetic alloy particles are mainly composed of Fe, and are more easily oxidized than any one or more of Si, Zr and Ti (hereinafter also referred to as element L) and Fe other than Si, Zr and Ti. Any material including one or more elements such as Cr and Al (hereinafter also referred to as element M) may be used. By using such a magnetic material, an oxide film, which will be described later, is stably formed on the surface of the soft magnetic alloy particles, and the insulation can be enhanced even when heat treatment is performed at a low temperature.

なお、ＦｅＳｉＣｒ系合金において、Ｓｉ及びＣｒ以外の残部は、不可避不純物を除いて、Ｆｅであることが好ましい。Ｆｅ、Ｓｉ及びＣｒ以外に含まれてもよい金属としては、Ａｌ、Ｍｇ（マグネシウム）、Ｃａ（カルシウム）、Ｔｉ、Ｍｎ（マンガン）、Ｃｏ（コバルト）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｃｕ（銅）などが挙げられ、非金属としては、Ｐ（リン）、Ｓ（硫黄）、Ｃ（カーボン）などが挙げられる。   In the FeSiCr alloy, the remainder other than Si and Cr is preferably Fe except for inevitable impurities. Examples of metals that may be contained in addition to Fe, Si, and Cr include Al, Mg (magnesium), Ca (calcium), Ti, Mn (manganese), Co (cobalt), Ni (nickel), Cu (copper), and the like. Non-metals include P (phosphorus), S (sulfur), C (carbon), and the like.

導体パターンＣ１１〜Ｃ１７は、第１の磁性層１２１の上に配置される。導体パターンＣ１１〜Ｃ１７は、図２に示すように、Ｚ軸まわりに巻回されるコイルの一部を構成し、ビアＶ１〜Ｖ６を介してＺ軸方向にそれぞれ電気的に接続されることで、コイル部１３が形成される。磁性体層ＭＬ１の導体パターンＣ１１は、一方の外部電極１４と電気的に接続される引出端部１３ｅ１を有し、磁性体層ＭＬ７の導体パターンＣ１７は、他方の外部電極１５と電気的に接続される引出端部１３ｅ２を有する。   The conductor patterns C11 to C17 are disposed on the first magnetic layer 121. As shown in FIG. 2, the conductor patterns C11 to C17 constitute a part of a coil wound around the Z axis, and are electrically connected in the Z axis direction via vias V1 to V6, respectively. The coil part 13 is formed. The conductor pattern C11 of the magnetic layer ML1 has a lead end portion 13e1 that is electrically connected to one external electrode 14, and the conductor pattern C17 of the magnetic layer ML7 is electrically connected to the other external electrode 15. It has a drawn-out end portion 13e2.

第２の磁性層１２２は、第１の磁性層１２１と同種の軟磁性合金粒子（本例ではＦｅＣｒＳｉ合金粒子）で構成される。第２の磁性層１２２は、第１の磁性層１２１を挟んでＺ軸方向に対向し、第１の磁性層１２１上の導体パターンＣ１１〜Ｃ１７の周囲（外周領域及び内周領域）にそれぞれ配置される。各磁性体層ＭＬ１〜ＭＬ７における第２の磁性層１２２のＺ軸方向に沿った厚みは、典型的には、導体パターンＣ１１〜Ｃ１７の厚みと同一であるが、これらの厚みに差があってもよい。   The second magnetic layer 122 is made of the same kind of soft magnetic alloy particles as the first magnetic layer 121 (in this example, FeCrSi alloy particles). The second magnetic layer 122 is opposed to the Z-axis direction with the first magnetic layer 121 interposed therebetween, and is disposed around the conductor patterns C11 to C17 on the first magnetic layer 121 (outer peripheral region and inner peripheral region). Is done. The thickness along the Z-axis direction of the second magnetic layer 122 in each of the magnetic layers ML1 to ML7 is typically the same as the thickness of the conductor patterns C11 to C17, but there is a difference in these thicknesses. Also good.

本実施形態において第２の磁性層１２２は、第１の磁性層１２１よりも高抵抗の磁性材料で構成される。これにより、導体パターンＣ１１〜Ｃ１７と外部電極１４，１５との間の所望とする電気的絶縁特性を安定に確保することができる。なお、第１の磁性層１２１を構成する磁性材料と第２の磁性層１２２を構成する磁性材料との違いについては、後述する。   In the present embodiment, the second magnetic layer 122 is made of a magnetic material having a higher resistance than the first magnetic layer 121. Thereby, desired electrical insulation characteristics between the conductor patterns C11 to C17 and the external electrodes 14 and 15 can be stably secured. Note that the difference between the magnetic material constituting the first magnetic layer 121 and the magnetic material constituting the second magnetic layer 122 will be described later.

第３の磁性層１２３は、第１の磁性層１２１と同種の軟磁性合金粒子（本例ではＦｅＣｒＳｉ合金粒子）で構成される。第３の磁性層１２３は、上層の磁性体層ＭＬＵ及び下層の磁性体層ＭＬＤにそれぞれ相当し、磁性体層ＭＬ１〜ＭＬ７の第１の磁性層１２１、第２の磁性層１２２及び導体パターンＣ１１〜Ｃ１７（コイル部１３）を挟んでＺ軸方向に対向して配置される。磁性体層ＭＬＵ，ＭＬＤはそれぞれ複数の第３の磁性層１２３の積層体で構成されるが、それらの積層数は特に限定されない。また、磁性体層ＭＬ７の第１の磁性層１２１は、磁性体層ＭＬＤの最上層に位置する第３の磁性層１２３で構成されてもよい。また、磁性体層ＭＬＵの最下層は第１の磁性層１２１で構成されてもよい。   The third magnetic layer 123 is composed of soft magnetic alloy particles of the same kind as the first magnetic layer 121 (FeCrSi alloy particles in this example). The third magnetic layer 123 corresponds to the upper magnetic layer MLU and the lower magnetic layer MLD, respectively, and the first magnetic layer 121, the second magnetic layer 122, and the conductor pattern C11 of the magnetic layers ML1 to ML7. ~ C17 (coil portion 13) are arranged opposite to each other in the Z-axis direction. The magnetic layers MLU and MLD are each composed of a stack of a plurality of third magnetic layers 123, but the number of stacked layers is not particularly limited. Further, the first magnetic layer 121 of the magnetic layer ML7 may be composed of a third magnetic layer 123 located at the uppermost layer of the magnetic layer MLD. Further, the lowermost layer of the magnetic layer MLU may be composed of the first magnetic layer 121.

続いて、コイル部１３は、導電性材料で構成され、外部電極１４と電気的に接続される引出端部１３ｅ１と、外部電極１５と電気的に接続される引出端部１３ｅ２とを有する。コイル部１３は、導電ペーストの焼成体で構成され、本実施形態では、銀（Ａｇ）ペーストの焼成体で構成される。   Subsequently, the coil portion 13 is made of a conductive material, and has a lead end portion 13 e 1 electrically connected to the external electrode 14 and a lead end portion 13 e 2 electrically connected to the external electrode 15. The coil part 13 is comprised by the baking body of the electrically conductive paste, and is comprised by the baking body of silver (Ag) paste in this embodiment.

コイル部１３は、磁性体部１２の内部において高さ方向（Ｚ軸方向）のまわりに螺旋状に巻回される。コイル部１３は、図３に示したように、磁性体層ＭＬ１〜ＭＬ７上にそれぞれ所定形状に形成された７つの導体パターンＣ１１〜Ｃ１７と、導体パターンＣ１１〜Ｃ１７をＺ軸方向に接続する計６個のビアＶ１〜Ｖ６とを有し、これらが螺旋状に一体化されることで構成される。なお、導体パターンＣ１２〜Ｃ１６は、コイル部１３の周回部に相当し、導体パターンＣ１１，Ｃ１７は、コイル部１３の引出し部に相当する。図示するコイル部１３の巻き数は、約５．５であるが、勿論これに限られない。   The coil portion 13 is wound spirally around the height direction (Z-axis direction) inside the magnetic body portion 12. As shown in FIG. 3, the coil unit 13 includes seven conductor patterns C11 to C17 formed in a predetermined shape on the magnetic layers ML1 to ML7, and the conductor patterns C11 to C17 connected in the Z-axis direction. It has six vias V1 to V6, and these are integrated by being spirally integrated. The conductor patterns C <b> 12 to C <b> 16 correspond to the winding part of the coil part 13, and the conductor patterns C <b> 11 and C <b> 17 correspond to the lead part of the coil part 13. The number of turns of the illustrated coil portion 13 is about 5.5, but of course not limited to this.

図３に示すように、コイル部１３は、Ｚ軸方向から見たとき、磁性体部１２の長辺方向を長軸とするオーバル形状に形成される。これにより、コイル部１３を流れる電流の経路を最短にすることができるため、直流抵抗の低抵抗化を実現することができる。ここで、オーバル形状とは、典型的には、楕円または長円（２つの半円を直線でつないだ形状）、角丸長方形状等を意味する。なお、これに限られず、コイル部１３は、Ｚ軸方向から見たときの形状が略矩形状のものであってもよい。   As shown in FIG. 3, the coil portion 13 is formed in an oval shape having a long axis in the long side direction of the magnetic body portion 12 when viewed from the Z-axis direction. Thereby, since the path | route of the electric current which flows through the coil part 13 can be made the shortest, low resistance of DC resistance is realizable. Here, the oval shape typically means an ellipse or an ellipse (a shape in which two semicircles are connected by a straight line), a rounded rectangular shape, or the like. However, the present invention is not limited to this, and the coil portion 13 may have a substantially rectangular shape when viewed from the Z-axis direction.

［磁性体部の詳細］
次に、磁性体部１２の詳細について説明する。 [Details of magnetic part]
Next, details of the magnetic body portion 12 will be described.

第１〜第３の磁性層１２１〜１２３を構成する軟磁性合金粒子（ＦｅＣｒＳｉ合金粒子）の表面には、該ＦｅＣｒＳｉ合金粒子の酸化物が絶縁膜として存在している。各磁性層１２１〜１２３内のＦｅＣｒＳｉ合金粒子は、上記酸化物を介して相互に結合し、コイル部１３近傍のＦｅＣｒＳｉ合金粒子は、上記酸化物を介してコイル部１３と密着している。上記酸化物は、典型的には、磁性体に属するＦｅ３Ｏ４、非磁性体に属するＦｅ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２の少なくとも１つを含む。 On the surfaces of the soft magnetic alloy particles (FeCrSi alloy particles) constituting the first to third magnetic layers 121 to 123, an oxide of the FeCrSi alloy particles exists as an insulating film. The FeCrSi alloy particles in each of the magnetic layers 121 to 123 are bonded to each other through the oxide, and the FeCrSi alloy particles in the vicinity of the coil part 13 are in close contact with the coil part 13 through the oxide. The oxide typically includes at least one of Fe 3 O 4 belonging to a magnetic material, Fe 2 O 3 , Cr 2 O 3 , and SiO 2 belonging to a non-magnetic material.

（第１の磁性層）
図５は、第１の磁性層１２１を構成する軟磁性合金粒子Ｐ１の表面に形成された第１の酸化物Ｆ１の概略断面図、図６はその第１の酸化物Ｆ１の層構造を説明する模式図である。 (First magnetic layer)
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of the first oxide F1 formed on the surface of the soft magnetic alloy particle P1 constituting the first magnetic layer 121, and FIG. 6 illustrates the layer structure of the first oxide F1. It is a schematic diagram to do.

第１の磁性層１２１は、全体としては、もともとは独立していた多数の軟磁性合金粒子Ｐ１どうしが結合してなる集合体、あるいは多数の軟磁性合金粒子Ｐ１からなる圧粉体で構成される。図５には、３つの軟磁性合金粒子Ｐ１の界面付近が拡大して描写されている。   The first magnetic layer 121 as a whole is composed of an aggregate formed by combining a large number of soft magnetic alloy particles P1 that were originally independent, or a green compact composed of a large number of soft magnetic alloy particles P1. The In FIG. 5, the vicinity of the interface of the three soft magnetic alloy particles P1 is enlarged and depicted.

少なくとも一部の軟磁性合金粒子Ｐ１にはその周囲の少なくとも一部、好ましくは概ね全体にわたって第１の酸化物Ｆ１が形成されていて、この第１の酸化物Ｆ１により第１の磁性層１２１の絶縁性が確保される。隣接する軟磁性合金粒子Ｐ１どうしは、主として、それぞれの軟磁性合金粒子Ｐ１の周囲にある第１の酸化物Ｆ１を介して結合し、結果として、一定の形状を有する磁性体が構成される。部分的には、隣接する軟磁性合金粒子Ｐ１が、金属部分どうしで結合していてもよい。なお、第１の酸化物Ｆ１を介して結合する場合、及び金属部分どうしで結合する場合のいずれにおいても、有機樹脂からなるマトリクスを実質的に含まないことが好ましい。   The first oxide F1 is formed on at least a part of the periphery of the soft magnetic alloy particles P1, preferably almost the whole, and the first oxide F1 forms the first magnetic layer 121. Insulation is ensured. Adjacent soft magnetic alloy particles P1 are mainly bonded via the first oxide F1 around each soft magnetic alloy particle P1, and as a result, a magnetic body having a certain shape is formed. In part, adjacent soft magnetic alloy particles P1 may be bonded to each other between metal portions. Note that it is preferable that a matrix made of an organic resin is not substantially included in both the case of bonding via the first oxide F1 and the case of bonding between metal portions.

個々の軟磁性合金粒子Ｐ１は、少なくとも鉄（Ｆｅ）と鉄より酸化しやすい２種の元素（元素Ｌ及びＭ）とを少なくとも含む合金である。元素Ｌと元素Ｍとは相異なり、いずれも、金属元素又はＳｉである。元素Ｌ及びＭが金属元素である場合は、典型的には、Ｃｒ（クロム）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｚｒ（ジルコニウム）、Ｔｉ（チタン）などが挙げられ、好ましくは、ＣｒまたはＡｌであり、さらにＳｉ又はＺｒを含むことが好ましい。   Each soft magnetic alloy particle P1 is an alloy including at least iron (Fe) and at least two elements (elements L and M) that are more easily oxidized than iron. The element L and the element M are different, and both are metal elements or Si. When the elements L and M are metal elements, typically, Cr (chromium), Al (aluminum), Zr (zirconium), Ti (titanium) and the like can be mentioned, preferably Cr or Al. Further, it preferably contains Si or Zr.

磁性体（第１の磁性層１２１）全体において、Ｆｅの含有率は好ましくは９２．５〜９６ｗｔ％である。前記範囲である場合に高い体積抵抗率が確保される。磁性体全体において、元素Ｌの含有率は好ましくは２．５〜６ｗｔ％である。磁性体全体において、元素Ｍの含有率は好ましくは１．５〜４．５ｗｔ％である。Ｆｅおよび元素Ｌ及びＭ以外に含まれていてもよい元素としてはＭｎ（マンガン）、Ｃｏ（コバルト）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｃｕ（銅）Ｐ（リン）、Ｓ（硫黄）、Ｃ（炭素）などが挙げられる。磁性体全体の組成については、例えば磁性体の断面をプラズマ発光分析することで算出することができる。   In the entire magnetic material (first magnetic layer 121), the Fe content is preferably 92.5 to 96 wt%. A high volume resistivity is ensured in the above range. In the entire magnetic material, the content of element L is preferably 2.5 to 6 wt%. In the entire magnetic material, the content of the element M is preferably 1.5 to 4.5 wt%. Elements that may be contained in addition to Fe and elements L and M include Mn (manganese), Co (cobalt), Ni (nickel), Cu (copper) P (phosphorus), S (sulfur), and C (carbon). Etc. The composition of the entire magnetic material can be calculated, for example, by performing plasma emission analysis on the cross section of the magnetic material.

第１の酸化物Ｆ１は、典型的には、磁性合金粒子Ｐ１により近い層（すなわち内側）から順に第１の酸化膜Ｆ１１、第２の酸化膜Ｆ１２および第３の酸化膜Ｆ１３を含む、３層構造の酸化膜で構成される。   The first oxide F1 typically includes a first oxide film F11, a second oxide film F12, and a third oxide film F13 in order from a layer closer to the magnetic alloy particle P1 (that is, the inner side). It is composed of a layered oxide film.

第１の酸化膜Ｆ１１は、元素Ｍよりも元素Ｌを多く含む酸化物である。一方、第２の酸化膜Ｆ１２は、元素Ｌよりも元素Ｍを多く含む酸化物である。本実施形態では、元素ＬはＳｉであり、第１の酸化膜Ｆ１１は、ＳｉＯ２である。一方、元素ＭはＣｒであり、第２の酸化膜Ｆ１２は、Ｃｒ２Ｏ３である。第３の酸化膜Ｆ１３は、元素Ｌ及びＭよりもＦｅを多く含む酸化物（ＦｅｘＯｙ）である。Ｆｅの酸化物は、典型的には、磁性体に属するＦｅ３Ｏ４又は非磁性体に属するＦｅ２Ｏ３である。 The first oxide film F11 is an oxide containing more element L than element M. On the other hand, the second oxide film F12 is an oxide containing more element M than element L. In the present embodiment, the element L is Si, and the first oxide film F11 is SiO 2 . On the other hand, the element M is Cr, and the second oxide film F12 is Cr 2 O 3 . The third oxide film F13 is an oxide (Fe x O y ) containing more Fe than the elements L and M. The oxide of Fe is typically Fe 3 O 4 belonging to a magnetic material or Fe 2 O 3 belonging to a non-magnetic material.

第１の酸化膜Ｆ１１に含まれる元素Ｌおよび第２の酸化膜Ｆ１２に含まれる元素Ｍは、いずれも軟磁性合金粒子Ｐ１の組成成分であるＳｉおよびＣｒが拡散、析出したものに相当する。第３の酸化膜Ｆ１３に含まれるＦｅも同様に、軟磁性合金粒子Ｐ１の組成成分であるＦｅが拡散、析出したものに相当する。   The element L contained in the first oxide film F11 and the element M contained in the second oxide film F12 both correspond to the diffusion and precipitation of Si and Cr, which are the composition components of the soft magnetic alloy particles P1. Similarly, Fe contained in the third oxide film F13 corresponds to a material in which Fe, which is a composition component of the soft magnetic alloy particles P1, is diffused and precipitated.

第１の磁性層１２１は、図５に示すように、軟磁性合金粒子Ｐ１どうしを結合する結合部Ｖ１を有する。結合部Ｖ１は、第３の酸化膜Ｆ１３の一部で構成され、複数の軟磁性合金粒子Ｐ１を相互に結合する。結合部Ｖ１の存在により、機械的強度と絶縁性の向上が図られる。   As shown in FIG. 5, the first magnetic layer 121 has a coupling portion V1 that couples the soft magnetic alloy particles P1. The coupling portion V1 is constituted by a part of the third oxide film F13, and couples the plurality of soft magnetic alloy particles P1 to each other. Due to the presence of the coupling portion V1, mechanical strength and insulation are improved.

第１の磁性層１２１は、その全体にわたり、隣接する軟磁性合金粒子Ｐ１が結合部Ｖ１を介して結合していることが好ましいが、部分的に第１の酸化物Ｆ１を介さずに、軟磁性合金粒子Ｐ１どうしが結合されている領域が存在していてもよい。さらに、第１の磁性層１２１は、結合部Ｖ１も、結合部Ｖ１以外の結合部（軟磁性合金粒子Ｐ１どうしの結合部）もいずれも存在せず単に物理的に接触又は接近するに過ぎない形態が部分的に含まれてもよい。さらに、第１の磁性層１２１は部分的に空隙を有していてもよい。   In the first magnetic layer 121, adjacent soft magnetic alloy particles P1 are preferably bonded through the bonding portion V1 over the entire area. However, the soft magnetic alloy particles P1 are not partially bonded through the first oxide F1 and are soft. There may be a region where the magnetic alloy particles P1 are bonded to each other. Further, the first magnetic layer 121 has no coupling portion V1 and no coupling portion (coupling portion between the soft magnetic alloy particles P1) other than the coupling portion V1, and is merely in physical contact or approach. A form may be partially included. Further, the first magnetic layer 121 may partially have a gap.

第１の酸化物Ｆ１は、磁性体（第１の磁性層１２１）を形成する前の原料粒子の段階で形成されていてもよいし、原料粒子の段階では第１の酸化物Ｆ１が存在しないか、極めて少なくし、成形過程において第１の酸化物Ｆ１を生成させてもよい。成形前の軟磁性合金粒子Ｐ１に熱処理を施して磁性体を得るときに、軟磁性合金粒子Ｐ１の表面部分が酸化して第１の酸化物Ｆ１が生成し、その生成した第１の酸化物Ｆ１を介して複数の軟磁性合金粒子Ｐ１が結合することが好ましい。   The first oxide F1 may be formed at the stage of raw material particles before forming the magnetic body (first magnetic layer 121), or the first oxide F1 does not exist at the stage of raw material particles. Alternatively, the first oxide F1 may be generated in the molding process with a very small amount. When heat treatment is performed on the soft magnetic alloy particles P1 before forming to obtain a magnetic body, the surface portion of the soft magnetic alloy particles P1 is oxidized to form a first oxide F1, and the generated first oxide It is preferable that a plurality of soft magnetic alloy particles P1 are bonded through F1.

特に、第１の酸化膜Ｆ１１が、軟磁性合金粒子Ｐ１の表面全体を覆うように形成されるため、磁性体全体において、元素Ｍより元素Ｌの含有率が高いことが好ましい。第１の酸化膜Ｆ１１が存在することで、安定した絶縁性を得ることができる。また、元素Ｍの含有率を１．５〜４．５ｗｔ％とすることで、過剰な酸化を抑えつつ、第１及び第２の酸化膜の厚みを薄くできることにつながっていると推定される。   In particular, since the first oxide film F11 is formed so as to cover the entire surface of the soft magnetic alloy particle P1, it is preferable that the content of the element L is higher than the element M in the entire magnetic body. The presence of the first oxide film F11 makes it possible to obtain stable insulation. Further, it is presumed that by setting the content rate of the element M to 1.5 to 4.5 wt%, it is possible to reduce the thickness of the first and second oxide films while suppressing excessive oxidation.

（第２の磁性層）
一方、図７は、第２の磁性層１２２を構成する軟磁性合金粒子Ｐ２の表面に形成された第２の酸化物Ｆ２の概略断面図、図８はその第２の酸化物Ｆ２の層構造を説明する模式図である。 (Second magnetic layer)
On the other hand, FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of the second oxide F2 formed on the surface of the soft magnetic alloy particles P2 constituting the second magnetic layer 122, and FIG. 8 is a layer structure of the second oxide F2. FIG.

第２の磁性層１２２も同様に、多数の軟磁性合金粒子Ｐ２どうしが結合してなる集合体、あるいは多数の軟磁性合金粒子Ｐ２からなる圧粉体で構成される。図７には、３つの軟磁性合金粒子Ｐ２の界面付近が拡大して描写されている。   Similarly, the second magnetic layer 122 is composed of an aggregate formed by bonding a large number of soft magnetic alloy particles P2 or a green compact including a large number of soft magnetic alloy particles P2. In FIG. 7, the vicinity of the interface between the three soft magnetic alloy particles P2 is enlarged and depicted.

少なくとも一部の軟磁性合金粒子Ｐ２にはその周囲の少なくとも一部、好ましくは概ね全体にわたって第２の酸化物Ｆ２が形成されていて、この第２の酸化物Ｆ２により第２の磁性層１２２の絶縁性が確保される。隣接する軟磁性合金粒子Ｐ２どうしは、主として、それぞれの軟磁性合金粒子Ｐ２の周囲にある第２の酸化物Ｆ２を介して結合し、結果として、一定の形状を有する磁性体が構成される。部分的には、隣接する軟磁性合金粒子Ｐ２が、金属部分どうしで結合していてもよいが、絶縁性をより確実なものとするためには、第２の酸化物Ｆ２による結合で磁性体を形成することが好ましい。なお、第２の酸化物Ｆ２を介して結合する場合、及び金属部分どうしで結合する場合のいずれにおいても、有機樹脂からなるマトリクスを実質的に含まないことが好ましい。   The second oxide F2 is formed on at least a part of the periphery of the soft magnetic alloy particles P2 and preferably almost the whole thereof, and the second oxide F2 forms the second magnetic layer 122. Insulation is ensured. Adjacent soft magnetic alloy particles P2 are mainly bonded via the second oxide F2 around each soft magnetic alloy particle P2, and as a result, a magnetic body having a certain shape is formed. In part, adjacent soft magnetic alloy particles P2 may be bonded to each other between the metal portions. However, in order to further ensure the insulation, the magnetic substance is bonded by the second oxide F2. Is preferably formed. Note that it is preferable that a matrix made of an organic resin is not substantially included in both the case of bonding via the second oxide F2 and the case of bonding between metal portions.

個々の軟磁性合金粒子Ｐ２は、少なくとも鉄（Ｆｅ）と鉄より酸化しやすい２種の元素（元素Ｌ及びＭ）とを少なくとも含む合金である。元素Ｌと元素Ｍとは相異なり、いずれも、金属元素又はＳｉである。元素Ｌ及びＭが金属元素である場合は、典型的には、Ｃｒ（クロム）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｚｒ（ジルコニウム）、Ｔｉ（チタン）などが挙げられ、好ましくは、ＣｒまたはＡｌであり、さらにＳｉ又はＺｒを含むことが好ましい。   Each soft magnetic alloy particle P2 is an alloy containing at least iron (Fe) and at least two elements (elements L and M) that are more easily oxidized than iron. The element L and the element M are different, and both are metal elements or Si. When the elements L and M are metal elements, typically, Cr (chromium), Al (aluminum), Zr (zirconium), Ti (titanium) and the like can be mentioned, preferably Cr or Al. Further, it preferably contains Si or Zr.

磁性体（第２の磁性層１２２）全体において、Ｆｅの含有率は好ましくは９２．５〜９６ｗｔ％である。前記範囲である場合に高い体積抵抗率が確保される。磁性体全体において、元素Ｌの含有率は好ましくは２．５〜６ｗｔ％である。磁性体全体において、元素Ｍの含有率は好ましくは１．５〜４．５ｗｔ％である。磁性体全体の組成については、例えば磁性体の断面をプラズマ発光分析することで算出することができる。   In the entire magnetic material (second magnetic layer 122), the Fe content is preferably 92.5 to 96 wt%. A high volume resistivity is ensured in the above range. In the entire magnetic material, the content of element L is preferably 2.5 to 6 wt%. In the entire magnetic material, the content of the element M is preferably 1.5 to 4.5 wt%. The composition of the entire magnetic material can be calculated, for example, by performing plasma emission analysis on the cross section of the magnetic material.

Ｆｅおよび元素Ｌ及びＭ以外に含まれていてもよい元素としてはＭｎ（マンガン）、Ｃｏ（コバルト）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｃｕ（銅）Ｐ（リン）、Ｓ（硫黄）、Ｃ（炭素）などが挙げられる。   Elements that may be contained in addition to Fe and elements L and M include Mn (manganese), Co (cobalt), Ni (nickel), Cu (copper) P (phosphorus), S (sulfur), and C (carbon). Etc.

第２の酸化物Ｆ２は、典型的には、軟磁性合金粒子Ｐ２を覆う第１の酸化膜Ｆ２１、第１の酸化膜Ｆ２１を覆う第２の酸化膜Ｆ２２、第２の酸化膜Ｆ２２を覆う第３の酸化膜Ｆ２３および第３の酸化膜Ｆ２３を覆う第４の酸化膜Ｆ２４を含む、４層構造の酸化膜で構成される。   The second oxide F2 typically covers the first oxide film F21 that covers the soft magnetic alloy particles P2, the second oxide film F22 that covers the first oxide film F21, and the second oxide film F22. The oxide film has a four-layer structure including a third oxide film F23 and a fourth oxide film F24 covering the third oxide film F23.

第１の酸化膜Ｆ２１および第３の酸化膜Ｆ２３は、元素Ｌを含む酸化物、典型的には、元素Ｍよりも元素Ｌを多く含む酸化物である。一方、第２の酸化膜Ｆ２２は、元素Ｍを含む酸化物、典型的には、元素Ｌよりも元素Ｍを多く含む酸化物である。本実施形態では、元素ＬはＳｉであり、第１及び第３の酸化膜Ｆ２１，Ｆ２３は、ＳｉＯ２である。一方、元素ＭはＣｒであり、第２の酸化膜Ｆ２２は、Ｃｒ２Ｏ３である。第４の酸化膜Ｆ２４は、元素ＬよりもＦｅを多く含む酸化物（ＦｅｘＯｙ）である。Ｆｅの酸化物は、典型的には、磁性体に属するＦｅ３Ｏ４又は非磁性体に属するＦｅ２Ｏ３である。 The first oxide film F21 and the third oxide film F23 are oxides containing the element L, typically oxides containing more element L than the element M. On the other hand, the second oxide film F22 is an oxide containing the element M, typically an oxide containing more element M than the element L. In this embodiment, the element L is Si, the first and third oxide film F21, F 23 is SiO 2. On the other hand, the element M is Cr, and the second oxide film F22 is Cr 2 O 3 . The fourth oxide film F24 is an oxide (Fe x O y ) containing more Fe than the element L. The oxide of Fe is typically Fe 3 O 4 belonging to a magnetic material or Fe 2 O 3 belonging to a non-magnetic material.

第１の酸化膜Ｆ２１に含まれる元素Ｌおよび第２の酸化膜Ｆ２２に含まれる元素Ｍは、いずれも軟磁性合金粒子Ｐ２の組成成分であるＳｉおよびＣｒが拡散、析出したものに相当する。第４の酸化膜Ｆ２４に含まれるＦｅも同様に、軟磁性合金粒子Ｐ２の組成成分であるＦｅが拡散、析出したものに相当する。これに対して、第３の酸化膜Ｆ２３を構成する元素Ｌ（Ｓｉ）は、後述するように予め軟磁性合金粒子Ｐ２の表面に形成されたＳｉＯ２膜で構成される。 The element L contained in the first oxide film F21 and the element M contained in the second oxide film F22 both correspond to the diffusion and precipitation of Si and Cr, which are the composition components of the soft magnetic alloy particles P2. Similarly, the Fe contained in the fourth oxide film F24 corresponds to the one in which Fe, which is a composition component of the soft magnetic alloy particle P2, is diffused and precipitated. On the other hand, the element L (Si) constituting the third oxide film F23 is composed of a SiO 2 film previously formed on the surface of the soft magnetic alloy particle P2, as will be described later.

第２の酸化物Ｆ２の存在については、倍率約５０００倍の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）の組成マッピングによって確認することができる。第２の酸化物Ｆ２を構成する第１〜第４の酸化膜Ｆ２１〜Ｆ２４の存在については、倍率約２００００倍の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の組成マッピングによって確認することができる。第１〜第４の酸化膜Ｆ２１〜Ｆ２４の厚みについては、倍率約８０００００倍のＴＥＭのエネルギ分散型Ｘ線分析装置（ＥＤＳ）によって確認することができる。   The presence of the second oxide F2 can be confirmed by composition mapping with a scanning electron microscope (SEM) at a magnification of about 5000 times. The presence of the first to fourth oxide films F21 to F24 constituting the second oxide F2 can be confirmed by transmission electron microscope (TEM) composition mapping at a magnification of about 20000 times. The thicknesses of the first to fourth oxide films F21 to F24 can be confirmed by a TEM energy dispersive X-ray analyzer (EDS) with a magnification of about 800,000 times.

第２の酸化物Ｆ２の存在により磁性体全体としての絶縁性が担保される。特に、第２の酸化物Ｆ２は、上述の第１の酸化物Ｆ１と比較して酸化膜（第３の酸化膜Ｆ２３）をさらに含むため、第１の酸化物Ｆ１よりも高い絶縁特性を得ることができる。   The presence of the second oxide F2 ensures the insulation as a whole magnetic material. In particular, since the second oxide F2 further includes an oxide film (third oxide film F23) as compared with the first oxide F1, the insulating property higher than that of the first oxide F1 is obtained. be able to.

第２の磁性層１２２は、図７に示すように、軟磁性合金粒子Ｐ２どうしを結合する結合部Ｖ２を有する。結合部Ｖ２は、第４の酸化膜Ｆ２４の一部で構成され、複数の軟磁性合金粒子Ｐ２を相互に結合する。結合部Ｖ２の存在は、例えば、約５０００倍に拡大したＳＥＭ観察像などから視認することができる。結合部Ｖ２の存在により、機械的強度と絶縁性の向上が図られる。   As shown in FIG. 7, the second magnetic layer 122 has a coupling portion V2 that couples the soft magnetic alloy particles P2. The coupling portion V2 is configured by a part of the fourth oxide film F24, and couples the plurality of soft magnetic alloy particles P2 to each other. The presence of the coupling portion V2 can be visually recognized from, for example, an SEM observation image magnified about 5000 times. Due to the presence of the coupling portion V2, mechanical strength and insulation are improved.

第２の磁性層１２２は、その全体にわたり、隣接する軟磁性合金粒子Ｐ２が結合部Ｖ２を介して結合していることが好ましいが、部分的に第２の酸化物Ｆ２を介さずに、軟磁性合金粒子Ｐ２どうしが結合されている領域が存在していてもよい。さらに、第２の磁性層１２２は、結合部Ｖ２も、結合部Ｖ２以外の結合部（軟磁性合金粒子Ｐ１どうしの結合部）もいずれも存在せず単に物理的に接触又は接近するに過ぎない形態が部分的に含まれてもよい。さらに、第２の磁性層１２２は部分的に空隙を有していてもよい。   The second magnetic layer 122 preferably has adjacent soft magnetic alloy particles P2 bonded through the bonding portion V2 throughout the entire layer, but the soft magnetic alloy particles P2 are not partially bonded through the second oxide F2. There may be a region where the magnetic alloy particles P2 are bonded to each other. Further, the second magnetic layer 122 has neither the coupling portion V2 nor the coupling portion other than the coupling portion V2 (the coupling portion between the soft magnetic alloy particles P1), and is merely in physical contact or approach. A form may be partially included. Further, the second magnetic layer 122 may partially have a gap.

第２の酸化物Ｆ２は、磁性体（第２の磁性層１２２）を形成する前の原料粒子の段階で形成されていてもよいし、原料粒子の段階では第２の酸化物Ｆ２が存在しないか、又は極めて少なくし、成形過程において第２の酸化物Ｆ２を生成させてもよい。   The second oxide F2 may be formed at the stage of raw material particles before forming the magnetic body (second magnetic layer 122), or the second oxide F2 is not present at the stage of raw material particles. Alternatively, or very little, the second oxide F2 may be generated in the molding process.

本実施形態では、磁性体（第２の磁性層１２２）を形成する前の原料粒子の段階で、第３の酸化膜Ｆ２３を軟磁性合金粒子Ｐ２の表面に形成する前処理が施される。そして、成形前の軟磁性合金粒子Ｐ２に熱処理を施して磁性体（第２の磁性層１２２）を得るときに、軟磁性合金粒子Ｐ２の表面部分が酸化して第１の酸化膜Ｆ２１、第２の酸化膜Ｆ２２、第４の酸化膜Ｆ２４および結合部Ｖ２が生成される。   In the present embodiment, a pretreatment for forming the third oxide film F23 on the surface of the soft magnetic alloy particles P2 is performed at the stage of the raw material particles before forming the magnetic body (second magnetic layer 122). Then, when the magnetic body (second magnetic layer 122) is obtained by performing a heat treatment on the soft magnetic alloy particles P2 before forming, the surface portion of the soft magnetic alloy particles P2 is oxidized and the first oxide film F21, the first The second oxide film F22, the fourth oxide film F24, and the coupling portion V2 are generated.

第３の酸化膜Ｆ２３を構成するコート材を原料粒子の表面に形成する前処理の方法は特に限定されず、本実施系形態では、ゾルゲル法を用いたコートプロセスが用いられる。典型的には、軟磁性合金粒子Ｐ２、エタノールおよびアンモニア水を含む混合液中に、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）、エタノールおよび水を含む処理液を混合、撹拌した後、軟磁性合金粒子Ｐ２をろ過・分離し、乾燥させることで、ＳｉＯ２膜からなるコート材が表面に形成された軟磁性合金粒子Ｐ２が作製される。 The pretreatment method for forming the coating material constituting the third oxide film F23 on the surface of the raw material particles is not particularly limited, and in the present embodiment, a coating process using a sol-gel method is used. Typically, a treatment liquid containing TEOS (tetraethoxysilane, Si (OC 2 H 5 ) 4 ), ethanol and water is mixed and stirred in a mixed liquid containing soft magnetic alloy particles P2, ethanol and aqueous ammonia. Thereafter, the soft magnetic alloy particles P2 are formed by filtering, separating, and drying the soft magnetic alloy particles P2 and having a coating material made of an SiO 2 film formed on the surface thereof.

ここで、上記混合液に上記処理液を一度に混合すると、均一核形成が優勢となり、溶液中でＳｉＯ２粒子が核形成・粒成長して凝集体を形成し、その凝集体が軟磁性合金粒子Ｐ２の表面に付着することで、コート材を安定に形成することができない。そこで本実施形態では、上記混合液に上記処理液を複数回に分けて滴下しながら混合することで、ＳｉＯ２粒子の均一核形成を抑制し、軟磁性合金粒子Ｐ２表面での不均一核形成を優勢にして、これにより、軟磁性合金粒子Ｐ２の表面にコート材を安定に形成することができる。 Here, when the processing solution is mixed with the mixed solution at once, uniform nucleation becomes dominant, and SiO 2 particles nucleate and grow in the solution to form aggregates, and the aggregates are soft magnetic alloys. A coating material cannot be stably formed by adhering to the surface of the particle P2. Therefore, in the present embodiment, the treatment liquid is mixed in the mixed solution while being dropped in a plurality of times, thereby suppressing uniform nucleation of SiO 2 particles and forming non-uniform nucleation on the surface of the soft magnetic alloy particle P2. Thus, the coating material can be stably formed on the surface of the soft magnetic alloy particle P2.

第３の酸化膜Ｆ２３（コート材）の厚みは、処理液に含まれるＴＥＯＳの量で調整することができ、ＴＥＯＳの量が多いほど厚い膜を得ることができる。第３の酸化膜Ｆ２３の厚みは特に限定されないが、好ましくは、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下である。厚みが１ｎｍ未満の場合、第３の酸化膜Ｆ２３のカバレッジ性が悪くなり、絶縁特性の向上を図ることが困難になる。また、厚みが２０ｎｍを超えると、軟磁性合金粒子Ｐ２の充填率の低下により磁気特性が低下する傾向にある。   The thickness of the third oxide film F23 (coating material) can be adjusted by the amount of TEOS contained in the treatment liquid, and a thicker film can be obtained as the amount of TEOS increases. The thickness of the third oxide film F23 is not particularly limited, but is preferably 1 nm or more and 20 nm or less. When the thickness is less than 1 nm, the coverage of the third oxide film F23 is deteriorated, and it is difficult to improve the insulation characteristics. On the other hand, if the thickness exceeds 20 nm, the magnetic properties tend to be reduced due to a decrease in the filling rate of the soft magnetic alloy particles P2.

また、第３の酸化膜Ｆ２３の厚みは、第１の酸化膜Ｆ２１の厚みと同等以上でもよいし、第１の酸化膜Ｆ２１の厚みよりも小さくてもよい。第３の酸化膜Ｆ２３の厚みを第１の酸化膜Ｆ２１の厚みと同等以上にすることで、第３の酸化膜Ｆ２３が存在しない場合と比較して、絶縁特性を効果的に高めることができる。一方、第３の酸化膜Ｆ２３の厚みを第１の酸化膜Ｆ２１の厚みよりも小さくすることで、第３の酸化膜Ｆ２３の存在による磁気特性（比透磁率など）の低下を抑えることができる。   The thickness of the third oxide film F23 may be equal to or greater than the thickness of the first oxide film F21, or may be smaller than the thickness of the first oxide film F21. By setting the thickness of the third oxide film F23 to be equal to or greater than the thickness of the first oxide film F21, it is possible to effectively improve the insulating characteristics as compared with the case where the third oxide film F23 does not exist. . On the other hand, by making the thickness of the third oxide film F23 smaller than the thickness of the first oxide film F21, it is possible to suppress a decrease in magnetic characteristics (such as relative magnetic permeability) due to the presence of the third oxide film F23. .

特に、第１の酸化膜Ｆ２１が、軟磁性合金粒子Ｐ２の表面全体を覆うように形成されるため、磁性体全体において、元素Ｍより元素Ｌの含有率が高いことが好ましい。第１の酸化膜Ｆ２１が存在することで、安定した絶縁性を得ることができる。また、元素Ｍの含有率を１．５〜４．５ｗｔ％とすることで、過剰な酸化を抑えつつ、第１及び第２の酸化膜Ｆ２１，Ｆ２２の厚みを薄くできる。また、ここで得られた第１、第２、第３および第４の酸化膜Ｆ２１〜Ｆ２４は、それぞれ非晶質、非晶質、非晶質および結晶質である。それぞれは、性質の異なる膜を交互に形成することで、絶縁性と酸化抑制とを併せ持つ酸化膜となり、必要以上の厚みを持たないことで、比透磁率を高くしつつ、絶縁性を併せ持つ磁性体を得ることになる。   In particular, since the first oxide film F21 is formed so as to cover the entire surface of the soft magnetic alloy particles P2, it is preferable that the content of the element L is higher than the element M in the entire magnetic body. The presence of the first oxide film F21 makes it possible to obtain stable insulation. In addition, by setting the content rate of the element M to 1.5 to 4.5 wt%, it is possible to reduce the thickness of the first and second oxide films F21 and F22 while suppressing excessive oxidation. The first, second, third and fourth oxide films F21 to F24 obtained here are amorphous, amorphous, amorphous and crystalline, respectively. Each of these films is an oxide film that has both insulation and oxidation suppression by alternately forming films with different properties, and by having a thickness that is not more than necessary, it has a high relative permeability and a magnetic property that has both insulation properties. You will get a body.

（第３の磁性層）
第３の磁性層１２３を構成する磁性材料は、第１の磁性層１２１と同様に構成されてもよいし、あるいは、第２の磁性層１２２と同様に構成されてもよい。典型的には、第３の磁性層１２３は、第１の磁性層１２１と同等以上の磁気特性を有する磁性材料で構成される。 (Third magnetic layer)
The magnetic material constituting the third magnetic layer 123 may be configured similarly to the first magnetic layer 121, or may be configured similar to the second magnetic layer 122. Typically, the third magnetic layer 123 is made of a magnetic material having a magnetic property equal to or higher than that of the first magnetic layer 121.

［コイル部品の製造方法］
続いて、コイル部品１０の製造方法について説明する。図９Ａ〜Ｃは、コイル部品１０における磁性体層ＭＬ１〜ＭＬ７の製造方法を説明する要部の概略断面図である。 [Manufacturing method of coil parts]
Then, the manufacturing method of the coil component 10 is demonstrated. 9A to 9C are schematic cross-sectional views of a main part for explaining a method for manufacturing the magnetic layers ML1 to ML7 in the coil component 10.

磁性体層ＭＬ１〜ＭＬ７の製造方法は、第１の磁性層１２１の作製工程と、導体パターンＣ１０の形成工程と、第２の磁性層１２２の作製工程とを有する。   The manufacturing method of the magnetic layers ML1 to ML7 includes a manufacturing process of the first magnetic layer 121, a forming process of the conductor pattern C10, and a manufacturing process of the second magnetic layer 122.

（第１の磁性層の作製）
第１の磁性層１２１の作製に際しては、ドクターブレードやダイコータ等の塗工機（図示略）を用いて、予め用意した磁性体ペースト（スラリー）をプラスチック製のベースフィルム（図示略）の表面に塗工する。次に、そのベースフィルムを熱風乾燥機等の乾燥機（図示略）を用いて、約８０℃、約５分の条件で乾燥させて、磁性体層ＭＬ１〜ＭＬ７に対応する第１〜第７の磁性シート１２１Ｓをそれぞれ作製する（図９Ａ参照）。これら磁性シート１２１Ｓは、第１の磁性層１２１を多数個取りすることができるサイズにそれぞれ形成される。 (Preparation of the first magnetic layer)
When the first magnetic layer 121 is manufactured, a magnetic paste (slurry) prepared in advance is applied to the surface of a plastic base film (not shown) using a coating machine (not shown) such as a doctor blade or a die coater. Apply. Next, the base film is dried under a condition of about 80 ° C. for about 5 minutes using a dryer (not shown) such as a hot-air dryer, and first to seventh corresponding to the magnetic layers ML1 to ML7. Each magnetic sheet 121S is prepared (see FIG. 9A). These magnetic sheets 121 </ b> S are each formed in a size that allows a large number of first magnetic layers 121 to be obtained.

ここで用いた磁性体ペーストの組成は、ＦｅＣｒＳｉ合金粒子群（軟磁性合金粒子Ｐ１）が７５〜８５ｗｔ％で、ブチルカルビトール（溶剤）が１３〜２１．７ｗｔ％で、ポリビニルブチラール（バインダ）が２〜３．３ｗｔ％で、ＦｅＣｒＳｉ粒子群の平均粒径（メディアン径）により調整される。例えば、ＦｅＣｒＳｉ合金粒子群の平均粒径（メディアン径）が３μｍ以上では、それぞれ８５ｗｔ％、１３ｗｔ％、２ｗｔ％とし、１．５μｍ以上３μｍ未満では、それぞれ８０ｗｔ％、１７．３ｗｔ％、２．７ｗｔ％とし、１．５μｍ未満では、それぞれ７５ｗｔ％、２１．７ｗｔ％、３．３ｗｔ％とする。ＦｅＣｒＳｉ合金粒子群の平均粒径は、第１の磁性層１２１の厚み等に応じて選択される。ＦｅＣｒＳｉ合金粒子群は、例えば、アトマイズ法で製造される。   The composition of the magnetic paste used here is 75 to 85 wt% for FeCrSi alloy particles (soft magnetic alloy particles P1), 13 to 21.7 wt% for butyl carbitol (solvent), and polyvinyl butyral (binder). It is 2 to 3.3 wt% and is adjusted by the average particle diameter (median diameter) of the FeCrSi particle group. For example, when the average particle diameter (median diameter) of the FeCrSi alloy particle group is 3 μm or more, it is 85 wt%, 13 wt%, or 2 wt%, respectively, and when it is 1.5 μm or more and less than 3 μm, 80 wt%, 17.3 wt%, or 2.7 wt%, respectively. If it is less than 1.5 μm, it is 75 wt%, 21.7 wt%, and 3.3 wt%, respectively. The average particle diameter of the FeCrSi alloy particle group is selected according to the thickness of the first magnetic layer 121 and the like. The FeCrSi alloy particle group is manufactured by, for example, an atomizing method.

第１の磁性層１２１は、厚み方向に沿って４つ以上の合金磁性粒子（ＦｅＣｒＳｉ合金粒子）が並ぶ厚さで作製され、その厚さは、例えば５μｍ以上２５μｍ以下である。本実施形態では、合金磁性粒子の平均粒径は、体積基準において、ｄ５０（メディアン径）が、好ましくは１〜４μｍとされる。合金磁性粒子のｄ５０は、レーザ回折散乱法を利用した粒子径・粒度分布測定装置（例えば、日機装社製のマイクロトラック）を用いて測定される。   The first magnetic layer 121 is formed with a thickness in which four or more alloy magnetic particles (FeCrSi alloy particles) are arranged along the thickness direction, and the thickness is, for example, 5 μm or more and 25 μm or less. In the present embodiment, the average particle diameter of the magnetic alloy particles is such that d50 (median diameter) is preferably 1 to 4 μm on a volume basis. The d50 of the alloy magnetic particles is measured using a particle size / particle size distribution measuring device (for example, Microtrack manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) using a laser diffraction scattering method.

次いで、打ち抜き加工機やレーザ加工機等の穿孔機（図示略）を用いて、磁性体層ＭＬ１〜ＭＬ６に対応する第１〜第６の磁性シート１２１Ｓに、ビアＶ１〜Ｖ６（図３参照）に対応する貫通孔（図示略）を所定配列で形成する。貫通孔の配列については、第１〜第７の磁性シート１２１Ｓを積層したときに、導体を充填した貫通孔と導体パターンＣ１１〜Ｃ１７とで内部導体が形成されるように設定される。   Next, vias V1 to V6 (see FIG. 3) are formed in the first to sixth magnetic sheets 121S corresponding to the magnetic layers ML1 to ML6 using a punching machine (not shown) such as a punching machine or a laser processing machine. Through holes (not shown) corresponding to are formed in a predetermined arrangement. About the arrangement | sequence of a through-hole, when the 1st-7th magnetic sheet 121S is laminated | stacked, it sets so that an internal conductor may be formed with the through-hole with which the conductor was filled, and the conductor patterns C11-C17.

（導体パターンの形成）
続いて、図９Ｂに示すように、第１〜第７の磁性シート１２１Ｓの上に、導体パターンＣ１１〜Ｃ１７が形成される。 (Conductor pattern formation)
Subsequently, as shown in FIG. 9B, conductor patterns C11 to C17 are formed on the first to seventh magnetic sheets 121S.

導体パターンＣ１１は、スクリーン印刷機やグラビア印刷機等の印刷機（図示略）を用いて、予め用意した導体ペーストを磁性体層ＭＬ１に対応する第１の磁性シート１２１Ｓの表面に印刷される。さらに、導体パターンＣ１１の形成に際して、ビアＶ１に対応する貫通孔に上記導体ペーストが充填される。そして、熱風乾燥機等の乾燥機（図示略）を用いて、第１の磁性シート１２１Ｓを約８０℃、約５分の条件で乾燥させ、導体パターンＣ１１に対応する第１の印刷層を所定配列で作製する。   The conductor pattern C11 is printed on the surface of the first magnetic sheet 121S corresponding to the magnetic layer ML1 using a printing machine (not shown) such as a screen printing machine or a gravure printing machine. Further, when the conductor pattern C11 is formed, the conductor paste is filled in the through hole corresponding to the via V1. Then, using a dryer (not shown) such as a hot air dryer, the first magnetic sheet 121S is dried at about 80 ° C. for about 5 minutes, and the first printed layer corresponding to the conductor pattern C11 is predetermined. Create in an array.

導体パターンＣ１２〜Ｃ１７及びビアＶ２〜Ｖ６についても上述と同様な方法で作製される。これにより、磁性体層ＭＬ２〜ＭＬ７に対応する第２〜第７の磁性シート１２１Ｓの表面に、導体パターンＣ１２〜Ｃ１７に対応する第２〜第７の印刷層が所定配列で作製される。   Conductive patterns C12 to C17 and vias V2 to V6 are also produced by the same method as described above. Thereby, the 2nd-7th printing layer corresponding to conductor pattern C12-C17 is produced by the predetermined arrangement | sequence on the surface of the 2nd-7th magnetic sheet 121S corresponding to magnetic body layer ML2-ML7.

ここで用いた導体ペーストの組成は、Ａｇ粒子群が８５ｗｔ％で、ブチルカルビトール（溶剤）が１３ｗｔ％で、ポリビニルブチラール（バインダ）が２ｗｔ％であり、Ａｇ粒子群のｄ５０（メディアン径）は、約５μｍである。   The composition of the conductive paste used here is 85 wt% for Ag particles, 13 wt% for butyl carbitol (solvent), 2 wt% for polyvinyl butyral (binder), and d50 (median diameter) of Ag particles is , About 5 μm.

（第２の磁性層の作製）
続いて、図６Ｃに示すように、第１〜第７の磁性シート１２１Ｓの上に、第２の磁性層１２２が形成される。 (Preparation of the second magnetic layer)
Subsequently, as shown in FIG. 6C, the second magnetic layer 122 is formed on the first to seventh magnetic sheets 121S.

第２の磁性層１２２の作製に際しては、まず、上述の前処理を施すことによって、表面にシリカ膜からなるコート材（第３の酸化膜Ｆ２３）が形成された軟磁性合金粒子Ｐ２を準備する。そして、この軟磁性合金粒子からなるＦｅＣｒＳｉ合金粒子群の磁性体ペースト（スラリー）を、スクリーン印刷機やグラビア印刷機等の印刷機（図示略）を用いて、第１〜第７の磁性シート１２１Ｓ上の導体パターンＣ１１〜Ｃ１７の周囲に塗工する。次に、その磁性体ペーストを熱風乾燥機等の乾燥機（図示略）を用いて、約８０℃、約５分の条件で乾燥させる。   In producing the second magnetic layer 122, first, the above-described pretreatment is performed to prepare soft magnetic alloy particles P2 having a coating material (third oxide film F23) made of a silica film on the surface. . Then, the magnetic paste (slurry) of the FeCrSi alloy particles composed of the soft magnetic alloy particles is used for the first to seventh magnetic sheets 121S by using a printing machine (not shown) such as a screen printing machine or a gravure printing machine. It coats around the upper conductor patterns C11 to C17. Next, the magnetic paste is dried at about 80 ° C. for about 5 minutes using a dryer (not shown) such as a hot air dryer.

ここで用いた磁性体ペーストの組成は、ＦｅＣｒＳｉ合金粒子群が８５ｗｔ％で、ブチルカルビトール（溶剤）が１３ｗｔ％で、ポリビニルブチラール（バインダ）が２ｗｔ％である。   The composition of the magnetic paste used here is 85 wt% for FeCrSi alloy particles, 13 wt% for butyl carbitol (solvent), and 2 wt% for polyvinyl butyral (binder).

第２の磁性層１２２の厚みは、導体パターンＣ１１〜Ｃ１７の厚みと同一又は２０％以内の厚みの差となるように調整され、積層方向にほぼ同一平面が形成され、各磁性層に段差を生じることなく、積層ずれ等を生じることなく磁性体部１２が得られる。第２の磁性層１２２は、厚み方向に沿って３つ以上の合金磁性粒子（ＦｅＣｒＳｉ合金粒子）が並ぶ厚さで作製され。その厚さは、例えば、４μｍ以上２０μｍ以下である。第２の磁性層１２２を構成する軟磁性合金粒子Ｐ２の平均粒径は、第１の磁性層１２１を構成する軟磁性合金粒子Ｐ１の平均粒径と同一か、またはそれよりも大きくてもよいし小さくてきもよい。本実施形態では、平均粒径は１〜４μｍである。軟磁性合金粒子Ｐ２の平均粒径が小さいほど、比表面積が増加するため、第２の酸化物Ｆ２による軟磁性合金粒子Ｐ２の絶縁効果が高まる。   The thickness of the second magnetic layer 122 is adjusted so as to be the same as the thickness of the conductor patterns C11 to C17 or within 20%, so that substantially the same plane is formed in the stacking direction, and there is a step in each magnetic layer. The magnetic body portion 12 can be obtained without causing any stacking deviation or the like. The second magnetic layer 122 is manufactured with a thickness in which three or more alloy magnetic particles (FeCrSi alloy particles) are arranged in the thickness direction. The thickness is, for example, 4 μm or more and 20 μm or less. The average particle diameter of the soft magnetic alloy particles P2 constituting the second magnetic layer 122 may be the same as or larger than the average particle diameter of the soft magnetic alloy particles P1 constituting the first magnetic layer 121. It may be small. In this embodiment, the average particle size is 1 to 4 μm. Since the specific surface area increases as the average particle size of the soft magnetic alloy particles P2 is smaller, the insulating effect of the soft magnetic alloy particles P2 by the second oxide F2 is enhanced.

以上のようにして、磁性体層ＭＬ１〜ＭＬ７に対応する第１〜第７のシートが作製される（図９Ｃ参照）。   As described above, first to seventh sheets corresponding to the magnetic layers ML1 to ML7 are produced (see FIG. 9C).

（第３の磁性層の作製）
第３の磁性層１２３の作製に際しては、ドクターブレードやダイコータ等の塗工機（図示略）を用いて、予め用意した磁性体ペースト（スラリー）をプラスチック製のベースフィルム（図示略）の表面に塗工する。次に、そのベースフィルムを熱風乾燥機等の乾燥機（図示略）を用いて、約８０℃、約５分の条件で乾燥させて、磁性体層ＭＬＵ，ＭＬＤを構成する第３の磁性層１２３に対応する磁性シートをそれぞれ作製する。これら磁性シートは、第３の磁性層１２３を多数個取りすることができるサイズにそれぞれ形成される。 (Preparation of third magnetic layer)
When the third magnetic layer 123 is manufactured, a magnetic paste (slurry) prepared in advance is applied to the surface of a plastic base film (not shown) using a coating machine (not shown) such as a doctor blade or a die coater. Apply. Next, the base film is dried under a condition of about 80 ° C. for about 5 minutes using a dryer (not shown) such as a hot air drier to form a third magnetic layer constituting the magnetic layers MLU and MLD. Magnetic sheets corresponding to 123 are prepared. These magnetic sheets are each formed in a size that allows a large number of third magnetic layers 123 to be obtained.

ここで用いた磁性体ペーストの組成は、ＦｅＣｒＳｉ合金粒子群が８５ｗｔ％で、ブチルカルビトール（溶剤）が１３ｗｔ％で、ポリビニルブチラール（バインダ）が２ｗｔ％である。   The composition of the magnetic paste used here is 85 wt% for FeCrSi alloy particles, 13 wt% for butyl carbitol (solvent), and 2 wt% for polyvinyl butyral (binder).

第３の磁性層１２３は、上述のように、磁性体層ＭＬＵ，ＭＬＤのそれぞれの厚みが例えば５０μｍ以上１２０μｍ以下となるように、その積層数に応じて設定される。本実施形態において第３の磁性層１２３を構成する合金磁性粒子の平均粒径は、第１の磁性層１２１を構成する合金磁性粒子の平均粒径及び第２の磁性層１２２を構成する合金磁性粒子の平均粒径と同一か、またはそれよりも大きくてもよいし小さくてもよい。平均粒径が同じ場合は、比透磁率を高くでき、小さい場合は、第３の磁性層１２３を薄くすることができる。   As described above, the third magnetic layer 123 is set according to the number of layers so that the thicknesses of the magnetic layers MLU and MLD are, for example, 50 μm or more and 120 μm or less. In the present embodiment, the average particle size of the alloy magnetic particles constituting the third magnetic layer 123 is the average particle size of the alloy magnetic particles constituting the first magnetic layer 121 and the alloy magnetism constituting the second magnetic layer 122. It may be the same as the average particle diameter of the particles, or may be larger or smaller. When the average particle diameter is the same, the relative magnetic permeability can be increased, and when the average particle diameter is small, the third magnetic layer 123 can be thinned.

（積層及び切断）
続いて、吸着搬送機とプレス機（いずれも図示略）を用いて、第１〜第７のシート（磁性体層ＭＬ１〜ＭＬ７に対応）と、第８のシート群（磁性体層ＭＬＵ、ＭＬＤに対応）を、図３に示した順序で積み重ねて熱圧着して積層体を作製する。 (Lamination and cutting)
Subsequently, the first to seventh sheets (corresponding to the magnetic layers ML1 to ML7) and the eighth sheet group (magnetic layers MLU, MLD) are used by using an adsorption conveyance machine and a press machine (both not shown). Are stacked in the order shown in FIG. 3 and thermocompression bonded to produce a laminate.

続いて、ダイシング機やレーザ加工機等の切断機（図示略）を用いて、積層体を部品本体サイズに切断して、加工処理前チップ（加熱処理前の磁性体部及びコイル部を含む）を作製する。   Subsequently, using a cutting machine (not shown) such as a dicing machine or a laser processing machine, the laminated body is cut into a component body size, and a chip before processing (including a magnetic body part and a coil part before heat processing). Is made.

（脱脂及び酸化物の形成）
続いて、焼成炉等の加熱処理機（図示略）を用いて、大気等の酸化性雰囲気中で、加熱処理前チップを多数個一括で加熱処理する。この加熱処理は、脱脂プロセスと酸化物形成プロセスとを含み、脱脂プロセスは約５００℃、約１時間の条件で実施され、酸化物形成プロセスは約７００℃、約５時間の条件で実施される。 (Degreasing and oxide formation)
Subsequently, using a heat treatment machine (not shown) such as a baking furnace, a large number of pre-heat treatment chips are heat-treated in an oxidizing atmosphere such as the air. This heat treatment includes a degreasing process and an oxide forming process. The degreasing process is performed under conditions of about 500 ° C. and about 1 hour, and the oxide forming process is performed under conditions of about 700 ° C. and about 5 hours. .

脱脂プロセスを実施する前の加熱処理前チップにあっては、加熱処理前の磁性体内のＦｅＳｉＣｒ合金粒子の間に多数の微細間隙が存在し、当該微細間隙にはバインダ等が含まれている。しかし、これらは脱脂プロセスにおいて消失するため、脱脂プロセスが完了した後は、当該微細間隙はポア（空隙）に変わる。また、加熱処理前のコイル部内のＡｇ粒子の間にも多数の微細間隙が存在し、当該微細間隙にはバインダ等が含まれているが、これらは脱脂プロセスにおいて消失する。   In the pre-heat treatment chip before the degreasing process, there are a large number of fine gaps between FeSiCr alloy particles in the magnetic body before the heat treatment, and the fine gaps contain a binder and the like. However, since these disappear in the degreasing process, after the degreasing process is completed, the fine gap is changed to a pore. In addition, a large number of fine gaps exist between Ag particles in the coil part before the heat treatment, and the fine gaps contain a binder or the like, but these disappear in the degreasing process.

脱脂プロセスに続く酸化物形成プロセスでは、加熱処理前の磁性体内のＦｅＳｉＣｒ合金粒子が密集して磁性体部１２（図１、図２参照）が作製されると同時に、ＦｅＳｉＣｒ合金粒子それぞれの表面に当該粒子の酸化物（第１の酸化物Ｆ１および第２の酸化物Ｆ２）が形成される。また、加熱処理前のコイル部内のＡｇ粒子群が焼結してコイル部１３（図１、図２参照）が作製され、これにより部品本体１１が作製される。   In the oxide formation process following the degreasing process, the FeSiCr alloy particles in the magnetic body before the heat treatment are concentrated to form the magnetic body portion 12 (see FIGS. 1 and 2), and at the same time, on the surface of each FeSiCr alloy particle. Oxides of the particles (first oxide F1 and second oxide F2) are formed. Moreover, the Ag particle group in the coil part before heat processing sinters, the coil part 13 (refer FIG. 1, FIG. 2) is produced, and, thereby, the components main body 11 is produced.

このとき、第１の磁性層１２１については、第１〜第３の酸化膜Ｆ１１〜Ｆ１３を含む第１の酸化物Ｆ１が軟磁性合金粒子Ｐ１の表面に形成され、結合部Ｖ１を介して軟磁性粒子Ｐ１どうしが結合される（図５参照）。一方、第２の磁性層１２２については、第１〜第４の酸化膜Ｆ２１〜Ｆ２４を含む第２の酸化物Ｆ２が軟磁性合金粒子Ｐ２の表面に形成され、結合部Ｖ２を介して軟磁性合金粒子Ｐ２どうしが結合される（図７参照）。   At this time, for the first magnetic layer 121, the first oxide F1 including the first to third oxide films F11 to F13 is formed on the surface of the soft magnetic alloy particle P1, and is softened via the coupling portion V1. The magnetic particles P1 are coupled to each other (see FIG. 5). On the other hand, for the second magnetic layer 122, the second oxide F2 including the first to fourth oxide films F21 to F24 is formed on the surface of the soft magnetic alloy particle P2, and the soft magnetic property is obtained via the coupling portion V2. The alloy particles P2 are bonded to each other (see FIG. 7).

（外部電極の形成）
続いて、ディップ塗布機やローラ塗布機等の塗布機（図示略）を用いて、予め用意した導体ペーストを部品本体１１の長さ方向両端部に塗布し、これを焼成炉等の加熱処理機（図示略）を用いて、約６５０℃、約２０分の条件で焼付け処理を行い、当該焼付け処理によって溶剤及びバインダの消失とＡｇ粒子群の焼結を行って、外部電極１４，１５（図１、図２参照）を作製する。 (Formation of external electrodes)
Subsequently, using a coating machine (not shown) such as a dip coating machine or a roller coating machine, a conductor paste prepared in advance is applied to both ends in the length direction of the component body 11, and this is applied to a heat treatment machine such as a firing furnace. (Not shown), a baking process is performed at a temperature of about 650 ° C. for about 20 minutes, the solvent and binder are eliminated and the Ag particles are sintered by the baking process. 1 (see FIG. 2).

ここで用いた外部電極１４，１５用の導体ペーストの組成は、Ａｇ粒子群が８５ｗｔ％以上で、Ａｇ粒子群以外にガラス、ブチルカルビトール（溶剤）、ポリビニルブチラール（バインダ）を含み、Ａｇ粒子群のｄ５０（メディアン径）は、約５μｍである。   The composition of the conductor paste for the external electrodes 14 and 15 used here is such that the Ag particle group is 85 wt% or more, and contains glass, butyl carbitol (solvent), polyvinyl butyral (binder) in addition to the Ag particle group, and Ag particles The d50 (median diameter) of the group is about 5 μm.

最後に、めっきを行う。めっきは、一般的な電気めっきにより行われ、ＮｉとＳｎの金属膜が、先にＡｇ粒子群を焼結して形成された外部電極１４，１５に付けられる。このようにして、コイル部品１０を得ることができる。   Finally, plating is performed. The plating is performed by general electroplating, and a metal film of Ni and Sn is attached to the external electrodes 14 and 15 formed by previously sintering the Ag particle group. In this way, the coil component 10 can be obtained.

本実施形態のコイル部品１０において、第２の磁性層１２２を構成する磁性材料は、軟磁性合金粒子Ｐ２と、その表面に形成された第２の酸化物Ｆ２とを有する。上記磁性材料において、軟磁性合金粒子Ｐ２の表面は、第１〜第４の酸化膜Ｆ２１〜Ｆ２４で覆われているため、第１の磁性層１２１を構成する磁性材料よりも高い絶縁特性が得られる。これによりコイル部品１０の絶縁特性が向上し、大電流化にも容易に対応することが可能となる。   In the coil component 10 of the present embodiment, the magnetic material constituting the second magnetic layer 122 includes soft magnetic alloy particles P2 and a second oxide F2 formed on the surface thereof. In the magnetic material, since the surface of the soft magnetic alloy particle P2 is covered with the first to fourth oxide films F21 to F24, higher insulating properties than the magnetic material constituting the first magnetic layer 121 are obtained. It is done. As a result, the insulation characteristics of the coil component 10 are improved, and it is possible to easily cope with a large current.

さらに、第２の磁性層１２２は、第１の磁性層１２１よりも高い絶縁特性が得られるため、軟磁性合金粒子Ｐ２間の距離が短くなっても良好な絶縁特性が確保される。したがって磁性材料の圧粉密度（第２の磁性層１２２の相対密度）を高める処理を追加的に実施してその磁気特性の向上を図る場合にも、所望とする絶縁特性を安定に確保することができる。   Furthermore, since the second magnetic layer 122 has higher insulating properties than the first magnetic layer 121, good insulating properties are ensured even if the distance between the soft magnetic alloy particles P2 is shortened. Therefore, even when a process for increasing the dust density of the magnetic material (relative density of the second magnetic layer 122) is additionally performed to improve the magnetic characteristics, the desired insulating characteristics can be stably secured. Can do.

以下、本発明の実施例について説明する。   Examples of the present invention will be described below.

（実施例１）
平均粒径（Ｄ５０）６μｍの軟磁性合金粒子（ＦｅＳｉＣｒ合金粒子）と所定量のエタノールおよびアンモニア水とを含む混合液中に、所定量のＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）、エタノールおよび水を含む処理液を５０分かけて等量ずつ滴下して混合、撹拌した後、軟磁性合金粒子をろ過・分離し、乾燥させることで、厚み１５ｎｍのＳｉＯ２膜からなるコート層が表面に形成された軟磁性合金粒子を作製した。その軟磁性合金粒子の圧粉体（磁性体）を作製し、それらの比透磁率（μ）、体積抵抗率［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧（ＢＶＤ）［ＭＶ／ｃｍ］および強度［ｋｇｆ／ｍｍ２］を評価した。 Example 1
A predetermined amount of TEOS (tetraethoxysilane, Si (OC 2 H 5 ) 4 is contained in a mixed solution containing soft magnetic alloy particles (FeSiCr alloy particles) having an average particle diameter (D50) of 6 μm and a predetermined amount of ethanol and aqueous ammonia. ), A treatment liquid containing ethanol and water is added dropwise in equal amounts over 50 minutes, mixed and stirred, and then the soft magnetic alloy particles are filtered, separated, and dried to form a coating made of a SiO 2 film having a thickness of 15 nm. Soft magnetic alloy particles having a layer formed on the surface were prepared. The soft magnetic alloy particle compact (magnetic material) was prepared, and their relative magnetic permeability (μ), volume resistivity [Ω · cm], dielectric breakdown voltage (BVD) [MV / cm] and strength [kgf]. / Mm 2 ] was evaluated.

圧粉体の作製条件は、以下のとおりとした。
合金粒子１００重量部を、ＰＶＡバインダ１．５重量部とともに撹拌混合し、潤滑剤として０．５重量部のステアリン酸Ｚｎを添加した。その後、後述の各評価のための形状に、６〜１８ｔｏｎ／ｃｍ２の成形圧力で成形した。このとき、成形圧力は磁性体における軟磁性合金粒子の充填率が８０ｖｏｌ％になるように調節した。次いで、得られた圧粉体を５００℃にて１時間の条件で脱脂を行い、大気雰囲気下（酸化雰囲気下）において７００℃にて５時間熱処理を行い、磁性体を得た。 The conditions for producing the green compact were as follows.
100 parts by weight of alloy particles were stirred and mixed together with 1.5 parts by weight of a PVA binder, and 0.5 parts by weight of Zn stearate was added as a lubricant. Then, it shape | molded by the shaping | molding pressure of 6-18ton / cm < 2 > in the shape for each below-mentioned evaluation. At this time, the molding pressure was adjusted so that the filling rate of the soft magnetic alloy particles in the magnetic material was 80 vol%. Next, the obtained green compact was degreased at 500 ° C. for 1 hour, and heat-treated at 700 ° C. for 5 hours in an air atmosphere (oxidizing atmosphere) to obtain a magnetic body.

比透磁率（μ）の測定のために、外径８ｍｍ、内径４ｍｍ、厚さ１．３ｍｍのトロイダル状の磁性体を製造した。この磁性体に、直径０．３ｍｍのウレタン被覆銅線からなるコイルを２０ターン巻回して測定用試料を得た。Ｌクロムメーター（アジレントテクノロジー社製：４２８５Ａ）を用いて、測定周波数１０ＭＨｚにて磁性体の比透磁率を測定した。   In order to measure the relative permeability (μ), a toroidal magnetic body having an outer diameter of 8 mm, an inner diameter of 4 mm, and a thickness of 1.3 mm was manufactured. A coil made of urethane-coated copper wire having a diameter of 0.3 mm was wound around this magnetic body for 20 turns to obtain a measurement sample. The relative permeability of the magnetic material was measured at a measurement frequency of 10 MHz using an L chrome meter (manufactured by Agilent Technologies: 4285A).

体積抵抗率は、ＪＩＳ−Ｋ６９１１に準じた測定を行った。ただし、外形φ７．０ｍｍ×厚み０．５〜０．８ｍｍの円板状の磁性体を測定試料として製造した。上述した熱処理後に、円板状の両底面（底面の全面）にスパッタリングによりＡｕ膜を形成した。Ａｕ膜の両面に３．６Ｖ（６０Ｖ／ｃｍ）の電圧を印加した。この時の抵抗値から体積抵抗率を算出した。   The volume resistivity was measured according to JIS-K6911. However, a disk-shaped magnetic body having an outer diameter of 7.0 mm and a thickness of 0.5 to 0.8 mm was manufactured as a measurement sample. After the heat treatment described above, an Au film was formed by sputtering on both disk-shaped bottom surfaces (the entire bottom surface). A voltage of 3.6 V (60 V / cm) was applied to both surfaces of the Au film. The volume resistivity was calculated from the resistance value at this time.

絶縁破壊電圧の測定のために、外形φ７．０ｍｍ×厚み０．５〜０．８ｍｍの円板状の磁性体を測定試料として製造した。上述した熱処理後に、円板状の両底面（底面の全面）にスパッタリングによりＡｕ膜を形成した。Ａｕ膜の両面に電圧を印加して、Ｉ−Ｖ測定を行った。印加する電圧を徐々に上げて、電流密度が０．０１Ａ／ｃｍ２となった時点での印加電圧を破壊電圧であるとみなした。 In order to measure the dielectric breakdown voltage, a disk-shaped magnetic body having an outer diameter of 7.0 mm and a thickness of 0.5 to 0.8 mm was manufactured as a measurement sample. After the heat treatment described above, an Au film was formed by sputtering on both disk-shaped bottom surfaces (the entire bottom surface). A voltage was applied to both surfaces of the Au film to perform IV measurement. The applied voltage was gradually increased, and the applied voltage when the current density reached 0.01 A / cm 2 was regarded as the breakdown voltage.

機械的強度の評価のために、３点曲げ破断応力を測定した。図１０は、３点曲げ破断応力の測定の模式的な説明図である。測定対象物に対して図示されたように荷重をかけて測定対象物が破断するときの荷重Ｗを測定した。曲げモーメントＭおよび断面二次モーメントＩを考慮して、以下の式から、３点曲げ破断応力σｂを算出した。
σｂ＝（Ｍ／Ｉ）×（ｈ／２）＝３ＷＬ／２ｂｈ２
３点曲げ破断応力を測定するための試験片は、長さ５０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの板状の磁性体を測定試料として製造した。 For evaluation of mechanical strength, a three-point bending rupture stress was measured. FIG. 10 is a schematic explanatory diagram of the measurement of the three-point bending rupture stress. As shown in the figure, a load W was applied to the measurement object when the measurement object was broken. In consideration of the bending moment M and the cross-sectional secondary moment I, a three-point bending rupture stress σb was calculated from the following equation.
σb = (M / I) × (h / 2) = 3WL / 2bh 2
A test piece for measuring the three-point bending rupture stress was manufactured using a plate-like magnetic body having a length of 50 mm, a width of 10 mm, and a thickness of 4 mm as a measurement sample.

磁性体中の合金粒子の表面に形成された酸化膜（図７における第１〜第４の酸化膜Ｆ２１〜Ｆ２４に相当）の成分および厚みを測定した。測定には、ＥＤＳ（エネルギー分散Ｘ線分光検出器）を搭載したＳＴＥＭを用い、ＳＴＥＭ−ＥＤＳ法で酸化膜の成分を確かめ、ＳＴＥＭ−高角度環状暗視野（ＨＡＡＤＦ）法で、酸化膜の厚さを計測した。測定直前に、集束イオンビーム装置（ＦＩＢ）を用いて５０〜１００ｎｍとなるように薄片試料を作製し、電子ビーム径０．２〜１．５ｎｍの範囲でＥＤＳのライン分析法により酸化膜の成分を、ＨＡＡＤＦ法で酸化膜の厚さをそれぞれ計測した。各酸化膜の厚みを測定する場所は、合金粒子どうしを結合していない部分で行い、合金粒子の表面に垂線を引く。次に、この垂線上で合金粒子の表面から外側を見て、酸素の存在割合が５％以下である部分を合金粒子の表面とする。更に、合金粒子の表面から外側に向かって見て、元素Ｍ（Ｃｒ又はＡｌ）より元素Ｌ（Ｓｉ、Ｚｒ、Ｈｆ又はＴｉ）の量が多い範囲を元素Ｌの酸化膜（第１の酸化膜）の厚みとした。以降、同様に続けて外側に向かって見て、元素Ｌより元素Ｍの量が多い範囲を元素Ｍの酸化膜（第２の酸化膜）、元素Ｍより元素Ｌの量が多い範囲を元素Ｌの酸化膜（第３の酸化膜）とした。さらに、Ｆｅの酸化膜（第４の酸化膜）については、元素Ｌと比較して、Ｆｅの量が多い範囲とした。   Components and thicknesses of oxide films (corresponding to the first to fourth oxide films F21 to F24 in FIG. 7) formed on the surface of the alloy particles in the magnetic material were measured. For the measurement, a STEM equipped with an EDS (energy dispersive X-ray spectroscopic detector) is used, the components of the oxide film are confirmed by the STEM-EDS method, and the thickness of the oxide film is determined by the STEM-high angle annular dark field (HAADF) method. Measured. Immediately before the measurement, a thin sample was prepared to be 50 to 100 nm using a focused ion beam apparatus (FIB), and the components of the oxide film were analyzed by EDS line analysis in the range of electron beam diameter of 0.2 to 1.5 nm. The thickness of the oxide film was measured by the HAADF method. The place where the thickness of each oxide film is measured is a portion where the alloy particles are not bonded to each other, and a perpendicular line is drawn on the surface of the alloy particles. Next, when the outside is seen from the surface of the alloy particle on this perpendicular line, the portion where the oxygen content is 5% or less is defined as the surface of the alloy particle. Further, when viewed from the surface of the alloy particle toward the outside, the range in which the amount of the element L (Si, Zr, Hf or Ti) is larger than the element M (Cr or Al) is within the oxide film of the element L (first oxide film) ). Thereafter, similarly, looking outward, the range in which the amount of the element M is larger than the element L is the oxide film of the element M (second oxide film), and the range in which the amount of the element L is larger than the element M is the element L. Oxide film (third oxide film). Further, the Fe oxide film (fourth oxide film) was in a range where the amount of Fe was larger than that of the element L.

測定結果を表１及び表２に示す。比透磁率は２７、体積抵抗率は２．７×１０３［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧は１．３×１０−２［ＭＶ／ｃｍ］、強度は１０［ｋｇｆ／ｍｍ２］であった。また、第１の酸化膜の厚みは５ｎｍ（成分Ｓｉ）、第２の酸化膜の厚みは１１ｎｍ（成分Ｃｒ）、第３の酸化膜の厚みは１５ｎｍ（成分Ｓｉ）、第４の酸化膜の厚みは２０ｎｍ（成分Ｆｅ）であった。 The measurement results are shown in Tables 1 and 2. The relative permeability was 27, the volume resistivity was 2.7 × 10 3 [Ω · cm], the dielectric breakdown voltage was 1.3 × 10 −2 [MV / cm], and the strength was 10 [kgf / mm 2 ]. It was. The thickness of the first oxide film is 5 nm (component Si), the thickness of the second oxide film is 11 nm (component Cr), the thickness of the third oxide film is 15 nm (component Si), and the thickness of the fourth oxide film is The thickness was 20 nm (component Fe).

（実施例２）
平均粒径（Ｄ５０）６μｍの軟磁性合金粒子（ＦｅＳｉＣｒ合金粒子）と所定量のエタノールおよびアンモニア水とを含む混合液中に、所定量のＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）、エタノールおよび水を含む処理液を１０分かけて等量ずつ滴下して混合、撹拌した後、軟磁性合金粒子をろ過・分離し、乾燥させることで、厚み１ｎｍのＳｉＯ２膜からなるコート層が表面に形成された軟磁性合金粒子を作製した。実施例１と同一の条件で、その軟磁性合金粒子の圧粉体（磁性体）を作製し、それらの比透磁率（μ）、体積抵抗率［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧（ＢＶＤ）［ＭＶ／ｃｍ］および強度［ｋｇｆ／ｍｍ２］を評価した。 (Example 2)
A predetermined amount of TEOS (tetraethoxysilane, Si (OC 2 H 5 ) 4 is contained in a mixed solution containing soft magnetic alloy particles (FeSiCr alloy particles) having an average particle diameter (D50) of 6 μm and a predetermined amount of ethanol and aqueous ammonia. ), A treatment liquid containing ethanol and water is added dropwise in equal amounts over 10 minutes, mixed and stirred, and then the soft magnetic alloy particles are filtered, separated, and dried to form a coat made of a SiO 2 film having a thickness of 1 nm. Soft magnetic alloy particles having a layer formed on the surface were prepared. A green compact (magnetic body) of the soft magnetic alloy particles was produced under the same conditions as in Example 1, and their relative magnetic permeability (μ), volume resistivity [Ω · cm], dielectric breakdown voltage (BVD). [MV / cm] and strength [kgf / mm 2 ] were evaluated.

測定結果を表１及び表２に示す。比透磁率は３６、体積抵抗率は７．１×１０１［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧は５．３×１０−３［ＭＶ／ｃｍ］、強度は１４［ｋｇｆ／ｍｍ２］であった。また、第１の酸化膜の厚みは５ｎｍ（成分Ｓｉ）、第２の酸化膜の厚みは１１ｎｍ（成分Ｃｒ）、第３の酸化膜の厚みは１ｎｍ（成分Ｓｉ）、第４の酸化膜の厚みは６０ｎｍ（成分Ｆｅ）であった。 The measurement results are shown in Tables 1 and 2. The relative magnetic permeability was 36, the volume resistivity was 7.1 × 10 1 [Ω · cm], the dielectric breakdown voltage was 5.3 × 10 −3 [MV / cm], and the strength was 14 [kgf / mm 2 ]. It was. The thickness of the first oxide film is 5 nm (component Si), the thickness of the second oxide film is 11 nm (component Cr), the thickness of the third oxide film is 1 nm (component Si), and the thickness of the fourth oxide film The thickness was 60 nm (component Fe).

（実施例３）
平均粒径（Ｄ５０）６μｍの軟磁性合金粒子（ＦｅＳｉＣｒ合金粒子）と所定量のエタノールおよびアンモニア水とを含む混合液中に、所定量のＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）、エタノールおよび水を含む処理液を１５分かけて等量ずつ滴下して混合、撹拌した後、軟磁性合金粒子をろ過・分離し、乾燥させることで、厚み５ｎｍのＳｉＯ２膜からなるコート層が表面に形成された軟磁性合金粒子を作製した。実施例１と同一の条件で、その軟磁性合金粒子の圧粉体（磁性体）を作製し、それらの比透磁率（μ）、体積抵抗率［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧（ＢＶＤ）［ＭＶ／ｃｍ］および強度［ｋｇｆ／ｍｍ２］を評価した。 (Example 3)
A predetermined amount of TEOS (tetraethoxysilane, Si (OC 2 H 5 ) 4 is contained in a mixed solution containing soft magnetic alloy particles (FeSiCr alloy particles) having an average particle diameter (D50) of 6 μm and a predetermined amount of ethanol and aqueous ammonia. ), A treatment liquid containing ethanol and water is added dropwise in equal amounts over 15 minutes, mixed and stirred, and then the soft magnetic alloy particles are filtered, separated, and dried to form a coating made of a SiO 2 film having a thickness of 5 nm. Soft magnetic alloy particles having a layer formed on the surface were prepared. A green compact (magnetic body) of the soft magnetic alloy particles was produced under the same conditions as in Example 1, and their relative magnetic permeability (μ), volume resistivity [Ω · cm], dielectric breakdown voltage (BVD). [MV / cm] and strength [kgf / mm 2 ] were evaluated.

測定結果を表１及び表２に示す。比透磁率は３４、体積抵抗率は３．２×１０２［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧は７．８×１０−３［ＭＶ／ｃｍ］、強度は１２［ｋｇｆ／ｍｍ２］であった。また、第１の酸化膜の厚みは５ｎｍ（成分Ｓｉ）、第２の酸化膜の厚みは１１ｎｍ（成分Ｃｒ）、第３の酸化膜の厚みは５ｎｍ（成分Ｓｉ）、第４の酸化膜の厚みは４０ｎｍ（成分Ｆｅ）であった。 The measurement results are shown in Tables 1 and 2. The relative permeability was 34, the volume resistivity was 3.2 × 10 2 [Ω · cm], the dielectric breakdown voltage was 7.8 × 10 −3 [MV / cm], and the strength was 12 [kgf / mm 2 ]. It was. The thickness of the first oxide film is 5 nm (component Si), the thickness of the second oxide film is 11 nm (component Cr), the thickness of the third oxide film is 5 nm (component Si), and the thickness of the fourth oxide film is The thickness was 40 nm (component Fe).

（実施例４）
平均粒径（Ｄ５０）６μｍの軟磁性合金粒子（ＦｅＳｉＣｒ合金粒子）と所定量のエタノールおよびアンモニア水とを含む混合液中に、所定量のＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）、エタノールおよび水を含む処理液を２０分かけて等量ずつ滴下して混合、撹拌した後、軟磁性合金粒子をろ過・分離し、乾燥させることで、厚み１１ｎｍのＳｉＯ２膜からなるコート層が表面に形成された軟磁性合金粒子を作製した。実施例１と同一の条件で、その軟磁性合金粒子の圧粉体（磁性体）を作製し、それらの比透磁率（μ）、体積抵抗率［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧（ＢＶＤ）［ＭＶ／ｃｍ］および強度［ｋｇｆ／ｍｍ２］を評価した。 Example 4
A predetermined amount of TEOS (tetraethoxysilane, Si (OC 2 H 5 ) 4 is contained in a mixed solution containing soft magnetic alloy particles (FeSiCr alloy particles) having an average particle diameter (D50) of 6 μm and a predetermined amount of ethanol and aqueous ammonia. ), A treatment solution containing ethanol and water was added dropwise in equal amounts over 20 minutes, mixed and stirred, and then the soft magnetic alloy particles were filtered, separated, and dried to form a coating comprising a SiO 2 film having a thickness of 11 nm. Soft magnetic alloy particles having a layer formed on the surface were prepared. A green compact (magnetic body) of the soft magnetic alloy particles was produced under the same conditions as in Example 1, and their relative magnetic permeability (μ), volume resistivity [Ω · cm], dielectric breakdown voltage (BVD). [MV / cm] and strength [kgf / mm 2 ] were evaluated.

測定結果を表１及び表２に示す。比透磁率は３０、体積抵抗率は３．２×１０２［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧は７．８×１０−３［ＭＶ／ｃｍ］、強度は１１［ｋｇｆ／ｍｍ２］であった。また、第１の酸化膜の厚みは５ｎｍ（成分Ｓｉ）、第２の酸化膜の厚みは１１ｎｍ（成分Ｃｒ）、第３の酸化膜の厚みは１１ｎｍ（成分Ｓｉ）、第４の酸化膜の厚みは３０ｎｍ（成分Ｆｅ）であった。 The measurement results are shown in Tables 1 and 2. The relative permeability was 30, the volume resistivity was 3.2 × 10 2 [Ω · cm], the dielectric breakdown voltage was 7.8 × 10 −3 [MV / cm], and the strength was 11 [kgf / mm 2 ]. It was. The thickness of the first oxide film is 5 nm (component Si), the thickness of the second oxide film is 11 nm (component Cr), the thickness of the third oxide film is 11 nm (component Si), and the thickness of the fourth oxide film is The thickness was 30 nm (component Fe).

（実施例５）
平均粒径（Ｄ５０）６μｍの軟磁性合金粒子（ＦｅＳｉＣｒ合金粒子）と所定量のエタノールおよびアンモニア水とを含む混合液中に、所定量のテトラ―ｉ―プロポキシジルコニウム、Ｚｒ（Ｏ−ｉ−Ｃ３Ｈ７）４、エタノールおよび水を含む処理液を５０分かけて等量ずつ滴下して混合、撹拌した後、軟磁性合金粒子をろ過・分離し、乾燥させることで、厚み１５ｎｍのＺｒＯ２膜からなるコート層が表面に形成された軟磁性合金粒子を作製した。実施例１と同一の条件で、その軟磁性合金粒子の圧粉体（磁性体）を作製し、それらの比透磁率（μ）、体積抵抗率［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧（ＢＶＤ）［ＭＶ／ｃｍ］および強度［ｋｇｆ／ｍｍ２］を評価した。 (Example 5)
In a mixed solution containing soft magnetic alloy particles (FeSiCr alloy particles) having an average particle diameter (D50) of 6 μm and a predetermined amount of ethanol and aqueous ammonia, a predetermined amount of tetra-i-propoxyzirconium, Zr (Oi-C) 3 H 7 ) 4 , a treatment solution containing ethanol and water was added dropwise in equal amounts over 50 minutes, mixed and stirred, and then the soft magnetic alloy particles were filtered, separated, and dried to obtain ZrO 2 having a thickness of 15 nm. Soft magnetic alloy particles having a coating layer formed of a film formed on the surface were prepared. A green compact (magnetic body) of the soft magnetic alloy particles was produced under the same conditions as in Example 1, and their relative magnetic permeability (μ), volume resistivity [Ω · cm], dielectric breakdown voltage (BVD). [MV / cm] and strength [kgf / mm 2 ] were evaluated.

測定結果を表１及び表２に示す。比透磁率は２７、体積抵抗率は２．５×１０３［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧は１．１×１０−２［ＭＶ／ｃｍ］、強度は１０［ｋｇｆ／ｍｍ２］であった。また、第１の酸化膜の厚みは５ｎｍ（成分Ｓｉ）、第２の酸化膜の厚みは１１ｎｍ（成分Ｃｒ）、第３の酸化膜の厚みは１５ｎｍ（成分Ｚｒ）、第４の酸化膜の厚みは２０ｎｍ（成分Ｆｅ）であった。 The measurement results are shown in Tables 1 and 2. The relative permeability was 27, the volume resistivity was 2.5 × 10 3 [Ω · cm], the dielectric breakdown voltage was 1.1 × 10 −2 [MV / cm], and the strength was 10 [kgf / mm 2 ]. It was. The thickness of the first oxide film is 5 nm (component Si), the thickness of the second oxide film is 11 nm (component Cr), the thickness of the third oxide film is 15 nm (component Zr), and the thickness of the fourth oxide film is The thickness was 20 nm (component Fe).

（実施例６）
平均粒径（Ｄ５０）６μｍの軟磁性合金粒子（ＦｅＳｉＣｒ合金粒子）と所定量のエタノールおよびアンモニア水とを含む混合液中に、所定量のテトラ―ｉ―プロポキシハフニウム、Ｈｆ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］４、エタノールおよび水を含む処理液を５０分かけて等量ずつ滴下して混合、撹拌した後、軟磁性合金粒子をろ過・分離し、乾燥させることで、厚み１５ｎｍのＨｆＯ２膜からなるコート層が表面に形成された軟磁性合金粒子を作製した。実施例１と同一の条件で、その軟磁性合金粒子の圧粉体（磁性体）を作製し、それらの比透磁率（μ）、体積抵抗率［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧（ＢＶＤ）［ＭＶ／ｃｍ］および強度［ｋｇｆ／ｍｍ２］を評価した。 (Example 6)
A predetermined amount of tetra-i-propoxyhafnium, Hf [OCH (CH 3 ) in a mixed solution containing soft magnetic alloy particles (FeSiCr alloy particles) having an average particle diameter (D50) of 6 μm and a predetermined amount of ethanol and aqueous ammonia. 2 ] 4 , a treatment solution containing ethanol and water is added dropwise in equal amounts over 50 minutes, mixed and stirred, and then the soft magnetic alloy particles are filtered, separated, and dried to remove the HfO 2 film having a thickness of 15 nm. Soft magnetic alloy particles having a coating layer formed on the surface were prepared. A green compact (magnetic body) of the soft magnetic alloy particles was produced under the same conditions as in Example 1, and their relative magnetic permeability (μ), volume resistivity [Ω · cm], dielectric breakdown voltage (BVD). [MV / cm] and strength [kgf / mm 2 ] were evaluated.

測定結果を表１及び表２に示す。比透磁率は２６、体積抵抗率は２．４×１０３［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧は１．２×１０−２［ＭＶ／ｃｍ］、強度は１０［ｋｇｆ／ｍｍ２］であった。また、第１の酸化膜の厚みは５ｎｍ（成分Ｓｉ）、第２の酸化膜の厚みは１１ｎｍ（成分Ｃｒ）、第３の酸化膜の厚みは１５ｎｍ（成分Ｈｆ）、第４の酸化膜の厚みは２０ｎｍ（成分Ｆｅ）であった。 The measurement results are shown in Tables 1 and 2. The relative permeability was 26, the volume resistivity was 2.4 × 10 3 [Ω · cm], the dielectric breakdown voltage was 1.2 × 10 −2 [MV / cm], and the strength was 10 [kgf / mm 2 ]. It was. The thickness of the first oxide film is 5 nm (component Si), the thickness of the second oxide film is 11 nm (component Cr), the thickness of the third oxide film is 15 nm (component Hf), and the thickness of the fourth oxide film is The thickness was 20 nm (component Fe).

（実施例７）
平均粒径（Ｄ５０）６μｍの軟磁性合金粒子（ＦｅＳｉＣｒ合金粒子）と所定量のエタノールおよびアンモニア水とを含む混合液中に、所定量のテトラ―ｉ―プロポキシチタン、Ｔｉ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］４、エタノールおよび水を含む処理液を５０分かけて等量ずつ滴下して混合、撹拌した後、軟磁性合金粒子をろ過・分離し、乾燥させることで、厚み１５ｎｍのＴｉＯ２膜からなるコート層が表面に形成された軟磁性合金粒子を作製した。実施例１と同一の条件で、その軟磁性合金粒子の圧粉体（磁性体）を作製し、それらの比透磁率（μ）、体積抵抗率［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧（ＢＶＤ）［ＭＶ／ｃｍ］および強度［ｋｇｆ／ｍｍ２］を評価した。 (Example 7)
In a mixed solution containing soft magnetic alloy particles (FeSiCr alloy particles) having an average particle diameter (D50) of 6 μm and a predetermined amount of ethanol and aqueous ammonia, a predetermined amount of tetra-i-propoxytitanium, Ti [OCH (CH 3 ) 2 ] 4 , a treatment liquid containing ethanol and water is added dropwise in equal amounts over 50 minutes, mixed and stirred, and then the soft magnetic alloy particles are filtered, separated, and dried to remove the TiO 2 film having a thickness of 15 nm. Soft magnetic alloy particles having a coating layer formed on the surface were prepared. A green compact (magnetic body) of the soft magnetic alloy particles was produced under the same conditions as in Example 1, and their relative magnetic permeability (μ), volume resistivity [Ω · cm], dielectric breakdown voltage (BVD). [MV / cm] and strength [kgf / mm 2 ] were evaluated.

測定結果を表１及び表２に示す。比透磁率は２７、体積抵抗率は２．５×１０３［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧は１．１×１０−２［ＭＶ／ｃｍ］、強度は１０［ｋｇｆ／ｍｍ２］であった。また、第１の酸化膜の厚みは５ｎｍ（成分Ｓｉ）、第２の酸化膜の厚みは１１ｎｍ（成分Ｃｒ）、第３の酸化膜の厚みは１５ｎｍ（成分Ｔｉ）、第４の酸化膜の厚みは２０ｎｍ（成分Ｆｅ）であった。 The measurement results are shown in Tables 1 and 2. The relative permeability was 27, the volume resistivity was 2.5 × 10 3 [Ω · cm], the dielectric breakdown voltage was 1.1 × 10 −2 [MV / cm], and the strength was 10 [kgf / mm 2 ]. It was. The thickness of the first oxide film is 5 nm (component Si), the thickness of the second oxide film is 11 nm (component Cr), the thickness of the third oxide film is 15 nm (component Ti), and the thickness of the fourth oxide film The thickness was 20 nm (component Fe).

（実施例８）
平均粒径（Ｄ５０）６μｍの軟磁性合金粒子（ＦｅＳｉＡｌ合金粒子）と所定量のエタノールおよびアンモニア水とを含む混合液中に、所定量のＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）、エタノールおよび水を含む処理液を５０分かけて等量ずつ滴下して混合、撹拌した後、軟磁性合金粒子をろ過・分離し、乾燥させることで、厚み１５ｎｍのＳｉＯ２膜からなるコート層が表面に形成された軟磁性合金粒子を作製した。実施例１と同一の条件で、その軟磁性合金粒子の圧粉体（磁性体）を作製し、それらの比透磁率（μ）、体積抵抗率［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧（ＢＶＤ）［ＭＶ／ｃｍ］および強度［ｋｇｆ／ｍｍ２］を評価した。 (Example 8)
A predetermined amount of TEOS (tetraethoxysilane, Si (OC 2 H 5 ) 4 is contained in a mixed liquid containing soft magnetic alloy particles (FeSiAl alloy particles) having an average particle diameter (D50) of 6 μm and a predetermined amount of ethanol and aqueous ammonia. ), A treatment liquid containing ethanol and water is added dropwise in equal amounts over 50 minutes, mixed and stirred, and then the soft magnetic alloy particles are filtered, separated, and dried to form a coating made of a SiO 2 film having a thickness of 15 nm. Soft magnetic alloy particles having a layer formed on the surface were prepared. A green compact (magnetic body) of the soft magnetic alloy particles was produced under the same conditions as in Example 1, and their relative magnetic permeability (μ), volume resistivity [Ω · cm], dielectric breakdown voltage (BVD). [MV / cm] and strength [kgf / mm 2 ] were evaluated.

測定結果を表１及び表２に示す。比透磁率は２５、体積抵抗率は３．０×１０３［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧は１．１×１０−２［ＭＶ／ｃｍ］、強度は１１［ｋｇｆ／ｍｍ２］であった。また、第１の酸化膜の厚みは５ｎｍ（成分Ｓｉ）、第２の酸化膜の厚みは１５ｎｍ（成分Ａｌ）、第３の酸化膜の厚みは１５ｎｍ（成分Ｓｉ）、第４の酸化膜の厚みは２０ｎｍ（成分Ｆｅ）であった。 The measurement results are shown in Tables 1 and 2. The relative permeability was 25, the volume resistivity was 3.0 × 10 3 [Ω · cm], the dielectric breakdown voltage was 1.1 × 10 −2 [MV / cm], and the strength was 11 [kgf / mm 2 ]. It was. The thickness of the first oxide film is 5 nm (component Si), the thickness of the second oxide film is 15 nm (component Al), the thickness of the third oxide film is 15 nm (component Si), and the thickness of the fourth oxide film is The thickness was 20 nm (component Fe).

（実施例９）
平均粒径（Ｄ５０）６μｍの軟磁性合金粒子（ＦｅＺｒＣｒ合金粒子）と所定量のエタノールおよびアンモニア水とを含む混合液中に、所定量のＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）、エタノールおよび水を含む処理液を５０分かけて等量ずつ滴下して混合、撹拌した後、軟磁性合金粒子をろ過・分離し、乾燥させることで、厚み１５ｎｍのＳｉＯ２膜からなるコート層が表面に形成された軟磁性合金粒子を作製した。実施例１と同一の条件で、その軟磁性合金粒子の圧粉体（磁性体）を作製し、それらの比透磁率（μ）、体積抵抗率［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧（ＢＶＤ）［ＭＶ／ｃｍ］および強度［ｋｇｆ／ｍｍ２］を評価した。 Example 9
A predetermined amount of TEOS (tetraethoxysilane, Si (OC 2 H 5 ) 4 is contained in a mixed solution containing soft magnetic alloy particles (FeZrCr alloy particles) having an average particle diameter (D50) of 6 μm and a predetermined amount of ethanol and aqueous ammonia. ), A treatment liquid containing ethanol and water is added dropwise in equal amounts over 50 minutes, mixed and stirred, and then the soft magnetic alloy particles are filtered, separated, and dried to form a coating made of a SiO 2 film having a thickness of 15 nm. Soft magnetic alloy particles having a layer formed on the surface were prepared. A green compact (magnetic body) of the soft magnetic alloy particles was produced under the same conditions as in Example 1, and their relative magnetic permeability (μ), volume resistivity [Ω · cm], dielectric breakdown voltage (BVD). [MV / cm] and strength [kgf / mm 2 ] were evaluated.

測定結果を表１及び表２に示す。比透磁率は２７、体積抵抗率は２．０×１０３［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧は１．１×１０−２［ＭＶ／ｃｍ］、強度は１０［ｋｇｆ／ｍｍ２］であった。また、第１の酸化膜の厚みは５ｎｍ（成分Ｚｒ）、第２の酸化膜の厚みは１１ｎｍ（成分Ｃｒ）、第３の酸化膜の厚みは１５ｎｍ（成分Ｓｉ）、第４の酸化膜の厚みは２０ｎｍ（成分Ｆｅ）であった。 The measurement results are shown in Tables 1 and 2. The relative permeability was 27, the volume resistivity was 2.0 × 10 3 [Ω · cm], the dielectric breakdown voltage was 1.1 × 10 −2 [MV / cm], and the strength was 10 [kgf / mm 2 ]. It was. The thickness of the first oxide film is 5 nm (component Zr), the thickness of the second oxide film is 11 nm (component Cr), the thickness of the third oxide film is 15 nm (component Si), and the thickness of the fourth oxide film The thickness was 20 nm (component Fe).

（実施例１０）
平均粒径（Ｄ５０）６μｍの軟磁性合金粒子（ＦｅＺｒＣｒ合金粒子）と所定量のエタノールおよびアンモニア水とを含む混合液中に、所定量のＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）、エタノールおよび水を含む処理液を７０分かけて等量ずつ滴下して混合、撹拌した後、軟磁性合金粒子をろ過・分離し、乾燥させることで、厚み２０ｎｍのＳｉＯ２膜からなるコート層が表面に形成された軟磁性合金粒子を作製した。実施例１と同一の条件で、その軟磁性合金粒子の圧粉体（磁性体）を作製し、それらの比透磁率（μ）、体積抵抗率［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧（ＢＶＤ）［ＭＶ／ｃｍ］および強度［ｋｇｆ／ｍｍ２］を評価した。 (Example 10)
A predetermined amount of TEOS (tetraethoxysilane, Si (OC 2 H 5 ) 4 is contained in a mixed solution containing soft magnetic alloy particles (FeZrCr alloy particles) having an average particle diameter (D50) of 6 μm and a predetermined amount of ethanol and aqueous ammonia. ), A treatment liquid containing ethanol and water is added dropwise in equal amounts over 70 minutes, mixed and stirred, and then the soft magnetic alloy particles are filtered, separated, and dried to form a coating comprising a SiO 2 film having a thickness of 20 nm. Soft magnetic alloy particles having a layer formed on the surface were prepared. A green compact (magnetic body) of the soft magnetic alloy particles was produced under the same conditions as in Example 1, and their relative magnetic permeability (μ), volume resistivity [Ω · cm], dielectric breakdown voltage (BVD). [MV / cm] and strength [kgf / mm 2 ] were evaluated.

測定結果を表１及び表２に示す。比透磁率は２５、体積抵抗率は４．１×１０３［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧は１．１×１０−２［ＭＶ／ｃｍ］、強度は１０［ｋｇｆ／ｍｍ２］であった。また、第１の酸化膜の厚みは５ｎｍ（成分Ｓｉ）、第２の酸化膜の厚みは１１ｎｍ（成分Ｃｒ）、第３の酸化膜の厚みは２０ｎｍ（成分Ｓｉ）、第４の酸化膜の厚みは２０ｎｍ（成分Ｆｅ）であった。 The measurement results are shown in Tables 1 and 2. The relative permeability was 25, the volume resistivity was 4.1 × 10 3 [Ω · cm], the dielectric breakdown voltage was 1.1 × 10 −2 [MV / cm], and the strength was 10 [kgf / mm 2 ]. It was. The thickness of the first oxide film is 5 nm (component Si), the thickness of the second oxide film is 11 nm (component Cr), the thickness of the third oxide film is 20 nm (component Si), and the thickness of the fourth oxide film is The thickness was 20 nm (component Fe).

（実施例１１）
平均粒径（Ｄ５０）６μｍの軟磁性合金粒子（ＦｅＺｒＣｒ合金粒子）と所定量のエタノールおよびアンモニア水とを含む混合液中に、所定量のＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）、エタノールおよび水を含む処理液を９０分かけて等量ずつ滴下して混合、撹拌した後、軟磁性合金粒子をろ過・分離し、乾燥させることで、厚み２４ｎｍのＳｉＯ２膜からなるコート層が表面に形成された軟磁性合金粒子を作製した。実施例１と同一の条件で、その軟磁性合金粒子の圧粉体（磁性体）を作製し、それらの比透磁率（μ）、体積抵抗率［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧（ＢＶＤ）［ＭＶ／ｃｍ］および強度［ｋｇｆ／ｍｍ２］を評価した。 (Example 11)
A predetermined amount of TEOS (tetraethoxysilane, Si (OC 2 H 5 ) 4 is contained in a mixed solution containing soft magnetic alloy particles (FeZrCr alloy particles) having an average particle diameter (D50) of 6 μm and a predetermined amount of ethanol and aqueous ammonia. ), A treatment liquid containing ethanol and water is added dropwise in equal amounts over 90 minutes, mixed and stirred, and then the soft magnetic alloy particles are filtered, separated, and dried to form a coating made of a SiO 2 film having a thickness of 24 nm. Soft magnetic alloy particles having a layer formed on the surface were prepared. A green compact (magnetic body) of the soft magnetic alloy particles was produced under the same conditions as in Example 1, and their relative magnetic permeability (μ), volume resistivity [Ω · cm], dielectric breakdown voltage (BVD). [MV / cm] and strength [kgf / mm 2 ] were evaluated.

測定結果を表１及び表２に示す。比透磁率は２１、体積抵抗率は５．０×１０３［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧は８．０×１０−３［ＭＶ／ｃｍ］、強度は８［ｋｇｆ／ｍｍ２］であった。また、第１の酸化膜の厚みは５ｎｍ（成分Ｓｉ）、第２の酸化膜の厚みは１１ｎｍ（成分Ｃｒ）、第３の酸化膜の厚みは２４ｎｍ（成分Ｓｉ）、第４の酸化膜の厚みは１５ｎｍ（成分Ｆｅ）であった。 The measurement results are shown in Tables 1 and 2. The relative permeability was 21, the volume resistivity was 5.0 × 10 3 [Ω · cm], the dielectric breakdown voltage was 8.0 × 10 −3 [MV / cm], and the strength was 8 [kgf / mm 2 ]. It was. The thickness of the first oxide film is 5 nm (component Si), the thickness of the second oxide film is 11 nm (component Cr), the thickness of the third oxide film is 24 nm (component Si), and the thickness of the fourth oxide film is The thickness was 15 nm (component Fe).

（実施例１２）
平均粒径（Ｄ５０）２μｍの軟磁性合金粒子（ＦｅＳｉＣｒ合金粒子）と所定量のエタノールおよびアンモニア水とを含む混合液中に、所定量のＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）、エタノールおよび水を含む処理液を１０分かけて等量ずつ滴下して混合、撹拌した後、軟磁性合金粒子をろ過・分離し、乾燥させることで、厚み１ｎｍのＳｉＯ２膜からなるコート層が表面に形成された軟磁性合金粒子を作製した。実施例１と同一の条件で、その軟磁性合金粒子の圧粉体（磁性体）を作製し、それらの比透磁率（μ）、体積抵抗率［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧（ＢＶＤ）［ＭＶ／ｃｍ］および強度［ｋｇｆ／ｍｍ２］を評価した。 (Example 12)
A predetermined amount of TEOS (tetraethoxysilane, Si (OC 2 H 5 ) 4 is contained in a mixed solution containing soft magnetic alloy particles (FeSiCr alloy particles) having an average particle diameter (D50) of 2 μm and a predetermined amount of ethanol and aqueous ammonia. ), A treatment liquid containing ethanol and water is added dropwise in equal amounts over 10 minutes, mixed and stirred, and then the soft magnetic alloy particles are filtered, separated, and dried to form a coat made of a SiO 2 film having a thickness of 1 nm. Soft magnetic alloy particles having a layer formed on the surface were prepared. A green compact (magnetic body) of the soft magnetic alloy particles was produced under the same conditions as in Example 1, and their relative magnetic permeability (μ), volume resistivity [Ω · cm], dielectric breakdown voltage (BVD). [MV / cm] and strength [kgf / mm 2 ] were evaluated.

測定結果を表１及び表２に示す。比透磁率は２１、体積抵抗率は８．０×１０１［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧は６．６×１０−３［ＭＶ／ｃｍ］、強度は１２［ｋｇｆ／ｍｍ２］であった。また、第１の酸化膜の厚みは５ｎｍ（成分Ｓｉ）、第２の酸化膜の厚みは１１ｎｍ（成分Ｃｒ）、第３の酸化膜の厚みは１ｎｍ（成分Ｓｉ）、第４の酸化膜の厚みは６０ｎｍ（成分Ｆｅ）であった。 The measurement results are shown in Tables 1 and 2. The relative permeability was 21, the volume resistivity was 8.0 × 10 1 [Ω · cm], the dielectric breakdown voltage was 6.6 × 10 −3 [MV / cm], and the strength was 12 [kgf / mm 2 ]. It was. The thickness of the first oxide film is 5 nm (component Si), the thickness of the second oxide film is 11 nm (component Cr), the thickness of the third oxide film is 1 nm (component Si), and the thickness of the fourth oxide film The thickness was 60 nm (component Fe).

（実施例１３）
平均粒径（Ｄ５０）１μｍの軟磁性合金粒子（ＦｅＳｉＣｒ合金粒子）と所定量のエタノールおよびアンモニア水とを含む混合液中に、所定量のＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）、エタノールおよび水を含む処理液を１０分かけて等量ずつ滴下して混合、撹拌した後、軟磁性合金粒子をろ過・分離し、乾燥させることで、厚み１ｎｍのＳｉＯ２膜からなるコート層が表面に形成された軟磁性合金粒子を作製した。実施例１と同一の条件で、その軟磁性合金粒子の圧粉体（磁性体）を作製し、それらの比透磁率（μ）、体積抵抗率［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧（ＢＶＤ）［ＭＶ／ｃｍ］および強度［ｋｇｆ／ｍｍ２］を評価した。 (Example 13)
A predetermined amount of TEOS (tetraethoxysilane, Si (OC 2 H 5 ) 4 is contained in a mixed solution containing soft magnetic alloy particles (FeSiCr alloy particles) having an average particle diameter (D50) of 1 μm and predetermined amounts of ethanol and aqueous ammonia. ), A treatment liquid containing ethanol and water is added dropwise in equal amounts over 10 minutes, mixed and stirred, and then the soft magnetic alloy particles are filtered, separated, and dried to form a coat made of a SiO 2 film having a thickness of 1 nm. Soft magnetic alloy particles having a layer formed on the surface were prepared. A green compact (magnetic body) of the soft magnetic alloy particles was produced under the same conditions as in Example 1, and their relative magnetic permeability (μ), volume resistivity [Ω · cm], dielectric breakdown voltage (BVD). [MV / cm] and strength [kgf / mm 2 ] were evaluated.

測定結果を表１及び表２に示す。比透磁率は１０、体積抵抗率は１．０×１０２［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧は１．２×１０−２［ＭＶ／ｃｍ］、強度は１３［ｋｇｆ／ｍｍ２］であった。また、第１の酸化膜の厚みは５ｎｍ（成分Ｓｉ）、第２の酸化膜の厚みは１１ｎｍ（成分Ｃｒ）、第３の酸化膜の厚みは１ｎｍ（成分Ｓｉ）、第４の酸化膜の厚みは６０ｎｍ（成分Ｆｅ）であった。 The measurement results are shown in Tables 1 and 2. The relative permeability was 10, the volume resistivity was 1.0 × 10 2 [Ω · cm], the dielectric breakdown voltage was 1.2 × 10 −2 [MV / cm], and the strength was 13 [kgf / mm 2 ]. It was. The thickness of the first oxide film is 5 nm (component Si), the thickness of the second oxide film is 11 nm (component Cr), the thickness of the third oxide film is 1 nm (component Si), and the thickness of the fourth oxide film The thickness was 60 nm (component Fe).

（比較例）
平均粒径（Ｄ５０）６μｍの軟磁性合金粒子（ＦｅＳｉＣｒ合金粒子）と所定量のエタノールおよびアンモニア水とを含む混合液中に、所定量のＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）、エタノールおよび水を含む処理液をすべて一度に混合、撹拌した後、軟磁性合金粒子をろ過・分離し、乾燥させることで、厚み３０ｎｍのＳｉＯ２膜からなるコート層が表面に形成された軟磁性合金粒子を作製した。実施例１と同一の条件で、その軟磁性合金粒子の圧粉体（磁性体）を作製し、それらの比透磁率（μ）、体積抵抗率［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧（ＢＶＤ）［ＭＶ／ｃｍ］および強度［ｋｇｆ／ｍｍ２］を評価した。 (Comparative example)
A predetermined amount of TEOS (tetraethoxysilane, Si (OC 2 H 5 ) 4 is contained in a mixed solution containing soft magnetic alloy particles (FeSiCr alloy particles) having an average particle diameter (D50) of 6 μm and a predetermined amount of ethanol and aqueous ammonia. ), All of the treatment liquid containing ethanol and water were mixed and stirred all at once, and then the soft magnetic alloy particles were filtered, separated, and dried to form a coating layer composed of a SiO 2 film having a thickness of 30 nm on the surface. Soft magnetic alloy particles were prepared. A green compact (magnetic body) of the soft magnetic alloy particles was produced under the same conditions as in Example 1, and their relative magnetic permeability (μ), volume resistivity [Ω · cm], dielectric breakdown voltage (BVD). [MV / cm] and strength [kgf / mm 2 ] were evaluated.

測定結果を表１及び表２に示す。比透磁率は２０、体積抵抗率は１．１×１０１［Ω・ｃｍ］、絶縁破壊電圧は７．０×１０−４［ＭＶ／ｃｍ］、強度は７［ｋｇｆ／ｍｍ２］であった。また、第１の酸化膜の厚みは５ｎｍ（成分Ｓｉ）、第２の酸化膜の厚みは１１ｎｍ（成分Ｃｒ）、第３の酸化膜の厚みは７１ｎｍであり、その成分は、Ｆｅを主成分にＳｉとＣｒが混在したものであった。なお、第４の酸化膜は確認できなかった。 The measurement results are shown in Tables 1 and 2. The relative magnetic permeability was 20, the volume resistivity was 1.1 × 10 1 [Ω · cm], the dielectric breakdown voltage was 7.0 × 10 −4 [MV / cm], and the strength was 7 [kgf / mm 2 ]. It was. The thickness of the first oxide film is 5 nm (component Si), the thickness of the second oxide film is 11 nm (component Cr), the thickness of the third oxide film is 71 nm, and the component is mainly composed of Fe. In addition, Si and Cr were mixed. The fourth oxide film could not be confirmed.

Figure 2018011043
Figure 2018011043

Figure 2018011043
Figure 2018011043

表１，２に示すように、合金粒子の溶液中に処理液を所定量ずつ滴下混合してコート材を形成する実施例１〜１１によれば、上記溶液中に処理液を一度に混合してコート材を形成する比較例よりも、高い絶縁破壊特性と高い比透磁率とを得ることができた。これは、第３の酸化膜（コート材）が合金粉末の表面に均質に形成され、酸化膜の厚みは薄いながらも欠陥がほとんど存在しないことによるものと推定される。また、第１の酸化膜と第３の酸化膜を併せ持つことも絶縁破壊特性に寄与しており、第１〜第４の酸化膜全体としての厚みを薄くできることにつながっていると推定される。   As shown in Tables 1 and 2, according to Examples 1 to 11 in which a treatment liquid is dropped and mixed into a solution of alloy particles by a predetermined amount to form a coating material, the treatment liquid is mixed into the solution at a time. Thus, higher dielectric breakdown characteristics and higher relative magnetic permeability were obtained than in the comparative example in which the coating material was formed. This is presumably due to the fact that the third oxide film (coating material) is uniformly formed on the surface of the alloy powder, and the oxide film is thin but has almost no defects. Further, it is presumed that having both the first oxide film and the third oxide film contributes to the dielectric breakdown characteristics, and that the thickness of the first to fourth oxide films as a whole can be reduced.

ここで、実施例１と比較例とを比較すると、合金粒子にＳｉ酸化膜からなるコート層を形成する前処理として、エタノール、アンモニア水、ＴＥＯＳ、水を含む混合液を用いる点で共通する。しかし、この混合液の調製の仕方で、合金粒子の表面に形成されるＳｉＯ２膜の形態が大きく異なる結果になる。 Here, when Example 1 is compared with a comparative example, it is common in the point to use the liquid mixture containing ethanol, ammonia water, TEOS, and water as pre-processing which forms the coating layer which consists of Si oxide films on an alloy particle. However, depending on the method of preparing the mixed solution, the form of the SiO 2 film formed on the surface of the alloy particles varies greatly.

すなわち、合金粒子、エタノール、アンモニア水、ＴＥＯＳおよび水を一度に混合する比較例の処理方法では、上述のように、溶液中でＳｉＯ２粒子が核形成・粒成長して凝集体を形成し、その凝集体が合金粒子の表面に付着する均一核形成が優勢となる。その結果、ＳｉＯ２微粒子は合金粒子全体を覆えず部分的に表面に付着し、軟磁性合金粒子の絶縁耐圧特性を向上させることができない。 That is, in the treatment method of the comparative example in which alloy particles, ethanol, aqueous ammonia, TEOS and water are mixed at a time, as described above, SiO 2 particles nucleate and grow in the solution to form aggregates, Uniform nucleation in which the aggregates adhere to the surface of the alloy particles becomes dominant. As a result, the SiO 2 fine particles do not cover the entire alloy particles and partially adhere to the surface, and the dielectric strength characteristics of the soft magnetic alloy particles cannot be improved.

図１１は、合金粒子、エタノール、アンモニア水、ＴＥＯＳおよび水を一度に混合する比較例の場合の軟磁性合金粒子の表面に形成されたＳｉＯ２微粒子の状態を模式的に示す粒子断面図である。なお、上記混合液の調製によりＳｉＯ２微粒子の形成を行った場合、均一核形成および粒成長により得られるＳｉＯ２粒子は、５万倍程度の倍率で高分解能ＴＥＭ観察した結果、例えば縞状に見える干渉模様が観察される。この干渉模様は結晶の格子縞であり、これが観察されることから比較例の処理方法で得られる凝集体は、結晶性である。 FIG. 11 is a particle cross-sectional view schematically showing the state of SiO 2 fine particles formed on the surface of soft magnetic alloy particles in the case of a comparative example in which alloy particles, ethanol, ammonia water, TEOS, and water are mixed at once. . In the case of performing the formation of SiO 2 particles in the preparation of the mixed solution, SiO 2 particles obtained by uniformly nucleation and grain growth are 50,000 times magnification with high resolution TEM observation result of, for example, stripes on A visible interference pattern is observed. This interference pattern is a crystal lattice pattern, and since this is observed, the aggregate obtained by the treatment method of the comparative example is crystalline.

これに対して、合金粒子、エタノールおよびアンモニア水を含む混合液中に、ＴＥＯＳ、エタノールおよび水を含む処理液を複数回に分けて滴下しながら混合する実施例１の処理方法によれば、均一核形成が抑制され、合金粒子表面での不均一核形成が優勢になるため、合金粒子の表面のコート層は、２５ｎｍ未満の厚みでも、安定に一様な厚みで形成される。この方法を用いることにより、コート膜厚はＴＥＯＳの投入量によりシングルナノオーダーで制御することが可能であり、例えば１ｎｍの厚みであっても、安定したコート膜の形成が実現できる。   On the other hand, according to the treatment method of Example 1 in which the treatment liquid containing TEOS, ethanol and water is mixed while being dropped in a plurality of times in the mixed liquid containing alloy particles, ethanol and aqueous ammonia, and uniform. Since nucleation is suppressed and non-uniform nucleation on the surface of the alloy particles becomes dominant, the coat layer on the surface of the alloy particles is stably formed with a uniform thickness even with a thickness of less than 25 nm. By using this method, the coating film thickness can be controlled on the order of a single nanometer by the input amount of TEOS. For example, even when the thickness is 1 nm, a stable coating film can be formed.

図１２は、実施例１により軟磁性合金粒子にコート層を形成した場合のコート層の状態を模式的に示す粒子断面図である。また、実施例１により形成されたコート層を５万倍程度の倍率で高分解能ＴＥＭ観察した結果、例えば縞状に見える干渉模様が観察されない。この干渉模様が観察されないことから、実施例１のコート層は非晶質であることが確認できる。一般的に非晶質のＳｉＯ２の絶縁抵抗値は結晶性のＳｉＯ２の抵抗値より２〜３桁程度高い。したがって、実施例１でコートしたＳｉＯ２の膜厚が例えば１ｎｍの厚みであっても、比較例より高い絶縁耐圧特性を有することができる。さらに、実施例１〜１１のコート層の厚みは２４ｎｍ以下と薄いため、熱処理により合金粒子から鉄（Ｆｅ）がコート層の外側に拡散して第４の酸化膜が安定に形成される。これにより、絶縁特性の更なる向上が図られる。 12 is a particle cross-sectional view schematically showing the state of the coat layer when the coat layer is formed on the soft magnetic alloy particles in Example 1. FIG. Further, as a result of high resolution TEM observation of the coating layer formed in Example 1 at a magnification of about 50,000 times, for example, an interference pattern that looks like a stripe is not observed. Since this interference pattern is not observed, it can be confirmed that the coating layer of Example 1 is amorphous. In general, the insulation resistance value of amorphous SiO 2 is about two to three digits higher than the resistance value of crystalline SiO 2 . Therefore, even if the film thickness of SiO 2 coated in Example 1 is 1 nm, for example, it can have higher withstand voltage characteristics than the comparative example. Furthermore, since the thickness of the coat layers of Examples 1 to 11 is as thin as 24 nm or less, iron (Fe) is diffused from the alloy particles to the outside of the coat layer by heat treatment, so that the fourth oxide film is stably formed. Thereby, the insulation characteristic can be further improved.

このように、実施例１と比較例１とは前処理としての酸化膜の形成方法が大きく異なるため、得られる酸化膜の膜質が大きく相違する。この酸化膜の膜質の相違が、熱処理後の圧粉体の絶縁耐圧特性や強度の違いとして現れる。   Thus, since the method for forming the oxide film as the pretreatment is greatly different between the first embodiment and the comparative example 1, the film quality of the obtained oxide film is greatly different. This difference in film quality of the oxide film appears as a difference in dielectric strength characteristics and strength of the green compact after the heat treatment.

上記評価によれば、実施例１は実施例８より比透磁率を高くできている。これは、ＣｒよりＡｌの方が酸化反応し易いことにより、この影響によりわずかに熱処理後の充填率に影響したと予測される。比透磁率を高くできる点から元素ＭはＣｒが好ましい。また、実施例１は、実施例５及び６より絶縁破壊特性を高くできている。これは、Ｚｒ、Ｈｆと同じ厚みの酸化膜でも、Ｓｉの酸化膜の均一性が高く、欠陥の少ない酸化膜となっていると予測される。   According to the above evaluation, Example 1 has a higher relative magnetic permeability than Example 8. This is presumed to be due to the fact that Al is easier to oxidize than Cr, and this influence slightly affects the filling rate after heat treatment. The element M is preferably Cr because the relative permeability can be increased. In addition, the dielectric breakdown characteristics of Example 1 are higher than those of Examples 5 and 6. This is presumed that even with an oxide film having the same thickness as Zr and Hf, the uniformity of the Si oxide film is high and the oxide film has few defects.

特に、第１〜第４の酸化膜の厚みについては、第１＜第３＜第４の順の厚みとする場合（実施例１，４〜９）、より絶縁性を高くできる。同じ大きさの軟磁性合金粒子、かつ第３≦第１＜第４とする場合（実施例２，３）には、比透磁率を高くできる。第４の酸化膜は、バインダを脱脂することで生じる空隙を埋めるものであり、この厚みを厚くしても、大きく比透磁率を低下させるものではなく、空隙を埋める働きから強度を高く、また外部から水などの浸透を少なくでき、信頼性の向上につながる。また、実施例５，６，７の第１及び第２の酸化膜については、軟磁性合金粒子の成分のみで構成されていることがわかり、各酸化膜が独立して形成されていることを示している。   In particular, with respect to the thicknesses of the first to fourth oxide films, when the thicknesses are in the order of 1 <3 <4th (Examples 1 and 4 to 9), the insulating properties can be made higher. In the case of soft magnetic alloy particles having the same size and satisfying 3 ≦ first <fourth (Examples 2 and 3), the relative permeability can be increased. The fourth oxide film fills voids generated by degreasing the binder. Even if the thickness is increased, the relative permeability is not greatly reduced, and the strength is increased by the function of filling the voids. Water penetration from outside can be reduced, leading to improved reliability. In addition, it can be seen that the first and second oxide films of Examples 5, 6, and 7 are composed only of the components of the soft magnetic alloy particles, and that each oxide film is formed independently. Show.

また、実施例１１では、実施例１０より更に比透磁率の低下が見られ、比較例よりわずかに上回る値となっている。これは、第３の酸化膜を過剰に形成されることで生じているものと予想される。また、ここでの実施例では、第３の酸化膜の厚みを１ｎｍより薄いものは行っていない。１ｎｍ未満では、軟磁性合金粒子の表面を覆うような膜の形成ができていない。第３の酸化膜を形成する元素Ｌによる酸化物は、酸化物としての大きさは０．５ｎｍ以上になることが予想され、この大きさの酸化物が連続的に並ぶためには、１ｎｍ以上の酸化膜とする必要があったことになる。このため、第３の酸化膜は、１ｎｍ以上であって、２０ｎｍ以下であることが好ましい。   In Example 11, the relative permeability was further decreased as compared with Example 10, which was slightly higher than that of the comparative example. This is expected to be caused by excessive formation of the third oxide film. Further, in this embodiment, the third oxide film is not thinner than 1 nm. If the thickness is less than 1 nm, a film that covers the surface of the soft magnetic alloy particles cannot be formed. The oxide of the element L that forms the third oxide film is expected to have an oxide size of 0.5 nm or more. In order to continuously arrange oxides of this size, 1 nm or more Therefore, it was necessary to form an oxide film. Therefore, the third oxide film is preferably 1 nm or more and 20 nm or less.

実施例１２、１３では、第３の酸化膜の厚みが同じ１ｎｍである実施例２が６μｍの合金粒子を用いているのに対して、それぞれ２μｍと１μｍの合金粒子を用いている。合金粒子が微細化したことで比透磁率は低下するが、実施例２と同様の方法を用いて処理することにより、合金粒子の粒径によらず、図１２に示したような安定で一様な厚みのコートが形成されるため、絶縁破壊特性を高くすることができている。これに対し、合金粒子、エタノール、アンモニア水、ＴＥＯＳおよび水を一度に混合する比較例の処理方法では、ＳｉＯ２粒子の凝集体を合金粒子表面に付着させることで絶縁破壊特性を確保するが、合金粒子とＳｉＯ２粒子の粒子径差が小さくなると、合金粒子表面を緻密に覆うことが困難になり、絶縁破壊特性が向上しない。 In Examples 12 and 13, Example 2 in which the third oxide film has the same thickness of 1 nm uses 6 μm alloy particles, whereas alloy particles of 2 μm and 1 μm are used, respectively. Although the relative magnetic permeability is reduced by making the alloy particles finer, by using the same method as in Example 2, it is possible to achieve a stable and stable one as shown in FIG. 12 regardless of the particle diameter of the alloy particles. Since a coat having such a thickness is formed, the dielectric breakdown characteristics can be enhanced. On the other hand, in the treatment method of the comparative example in which alloy particles, ethanol, ammonia water, TEOS and water are mixed at a time, the dielectric breakdown characteristics are ensured by adhering aggregates of SiO 2 particles to the surface of the alloy particles. When the particle size difference between the alloy particles and the SiO 2 particles becomes small, it becomes difficult to cover the surface of the alloy particles densely, and the dielectric breakdown characteristics are not improved.

また、ＦｅＳｉＡｌ系、ＦｅＺｒＣｒ系の各磁性体においても、ＦｅＳｉＣｒ系磁性体と同様な絶縁特性を得られることが確認された。また、コート材の成分がＺｒ、Ｈｆ、Ｔｉの場合にも、Ｓｉ成分のコート材を有する磁性体と同様な絶縁特性を得られることが確認された。   It was also confirmed that the same insulating properties as those of the FeSiCr magnetic material can be obtained in the FeSiAl-based and FeZrCr-based magnetic materials. It was also confirmed that the same insulating properties as those of the magnetic material having the Si component coating material can be obtained when the coating material component is Zr, Hf, or Ti.

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態にのみ限定されるものではなく種々変更を加え得ることは勿論である。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited only to the above-mentioned embodiment, Of course, a various change can be added.

例えば以上の実施形態では、第２の磁性層１２２にのみ本発明に係る磁性材料を適用した例について説明したが、これに限られず、第１の磁性層１２１、第３の磁性層１２３、あるいは第１〜第３の磁性層の少なくとも２つにも本発明は適用可能である。   For example, in the above embodiment, the example in which the magnetic material according to the present invention is applied only to the second magnetic layer 122 has been described. However, the present invention is not limited to this, and the first magnetic layer 121, the third magnetic layer 123, or The present invention is also applicable to at least two of the first to third magnetic layers.

また以上の実施形態では、磁性材料としてコイル部品あるいは積層インダクタの磁心を構成する磁性体を例に挙げて説明したが、これに限られず、モータ、アクチュエータ、ジェネレータ、リアクトル、チョークコイル等の電磁気部品に使用される磁性体にも、本発明は適用可能である。   In the above embodiment, the magnetic material constituting the magnetic core of the coil component or the multilayer inductor has been described as an example of the magnetic material. However, the present invention is not limited to this, and electromagnetic components such as a motor, an actuator, a generator, a reactor, and a choke coil are used. The present invention can also be applied to a magnetic material used in the above.

１０…コイル部品
１１…部品本体
１２…磁性体部
１３…コイル部
１４，１５…外部電極
１２１…第１の磁性層
１２２…第２の磁性層
１２３…第３の磁性層
Ｐ１，Ｐ２…軟磁性合金粒子
Ｆ１，Ｆ２…酸化物
Ｆ２１…第１の酸化膜
Ｆ２２…第２の酸化膜
Ｆ２３…第３の酸化膜
Ｆ２４…第４の酸化膜
Ｖ２…結合部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Coil component 11 ... Component main body 12 ... Magnetic part 13 ... Coil part 14, 15 ... External electrode 121 ... 1st magnetic layer 122 ... 2nd magnetic layer 123 ... 3rd magnetic layer P1, P2 ... Soft magnetism Alloy particles F1, F2 ... oxide F21 ... first oxide film F22 ... second oxide film F23 ... third oxide film F24 ... fourth oxide film V2 ... coupling portion

Claims (7)

Ｆｅ、元素Ｌ（但し、元素ＬはＳｉ、Ｚｒ、Ｔｉのいずれかである。）及び元素Ｍ（但し、元素ＭはＳｉ、Ｚｒ、Ｔｉ以外であってＦｅより酸化し易い元素である。）を含む複数の軟磁性合金粒子と、
元素Ｌを含み、前記複数の軟磁性合金粒子各々を覆う第１の酸化膜と、
元素Ｍを含み、前記第１の酸化膜を覆う第２の酸化膜と、
元素Ｌを含み、前記第２の酸化膜を覆う非晶質の第３の酸化膜と、
Ｆｅを含み、前記第３の酸化膜を覆う第４の酸化膜と、
前記第４の酸化膜の一部で構成され、前記複数の軟磁性合金粒子どうしを結合する結合部と
を具備する磁性材料。 Fe, element L (where element L is any one of Si, Zr, and Ti) and element M (where element M is an element other than Si, Zr, and Ti and more easily oxidized than Fe) A plurality of soft magnetic alloy particles comprising:
A first oxide film containing the element L and covering each of the plurality of soft magnetic alloy particles;
A second oxide film containing the element M and covering the first oxide film;
An amorphous third oxide film containing the element L and covering the second oxide film;
A fourth oxide film containing Fe and covering the third oxide film;
A magnetic material comprising: a coupling portion configured by a part of the fourth oxide film and coupling the plurality of soft magnetic alloy particles. 請求項１に記載の磁性材料であって、
元素Ｍは、Ｃｒである
磁性材料。 The magnetic material according to claim 1,
Element M is Cr Magnetic material. 請求項１又は２に記載の磁性材料であって、
元素Ｌは、Ｓｉである
磁性材料。 The magnetic material according to claim 1 or 2,
Element L is Si Magnetic material. 請求項１〜３のいずれか１つに記載の磁性材料であって、
前記第３の酸化膜は、前記第１の酸化膜の厚み以上の厚みを有する
磁性材料。 The magnetic material according to any one of claims 1 to 3,
The third oxide film has a thickness greater than or equal to the thickness of the first oxide film. 請求項１〜４のいずれか１つに記載の磁性材料であって、
前記第３の酸化膜は、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下の厚みを有する
磁性材料。 The magnetic material according to any one of claims 1 to 4,
The third oxide film has a thickness of 1 nm or more and 20 nm or less. Ｆｅ、元素Ｌ（但し、元素ＬはＳｉ、Ｚｒ、Ｔｉのいずれかである。）及び元素Ｍ（但し、元素ＭはＳｉ、Ｚｒ、Ｔｉ以外であってＦｅより酸化し易い元素である。）を含む複数の軟磁性合金粒子と、
元素Ｌを含み、前記複数の軟磁性合金粒子各々を覆う第１の酸化膜と、
元素Ｍを含み、前記第１の酸化膜を覆う第２の酸化膜と、
元素Ｌを含み、前記第２の酸化膜を覆う非晶質の第３の酸化膜と、
Ｆｅを含み、前記第３の酸化膜を覆う第４の酸化膜と
を具備する磁性材料。 Fe, element L (where element L is any one of Si, Zr, and Ti) and element M (where element M is an element other than Si, Zr, and Ti and more easily oxidized than Fe) A plurality of soft magnetic alloy particles comprising:
A first oxide film containing the element L and covering each of the plurality of soft magnetic alloy particles;
A second oxide film containing the element M and covering the first oxide film;
An amorphous third oxide film containing the element L and covering the second oxide film;
A magnetic material comprising: a fourth oxide film containing Fe and covering the third oxide film. 請求項１〜６のいずれか１つに記載の磁性材料を含有する磁心
を具備する電子部品。 The electronic component which comprises the magnetic core containing the magnetic material as described in any one of Claims 1-6.
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