JP2018001124A - Coating device and coating method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To shorten a coating intermittent part in carrying out intermittent coating on a substrate.SOLUTION: A coating device 5 is provided with a coater 10 which has a discharge port 11 for discharging a coating liquid to a coated surface of a substrate W, moving means 20 which moves the substrate W with respect to the coater 10, and supply means 70 which supplies the coating liquid to the coater 10. The supply means 70 is provided with a supply channel 60 connected to the coater 10, a pump 30 which supplies the coating liquid to the coater 10 through the supply channel 60, and a plurality of opening/closing valves 31, 32 which are arranged in parallel between the pump 30 and the coater 10 in the supply channel 60.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、被塗布部材に塗膜を形成するための塗布装置及び塗布方法に関する。   The present invention relates to a coating apparatus and a coating method for forming a coating film on a member to be coated.

カラー液晶用ディスプレイは、カラーフィルタ、ＴＦＴ用アレイ基板等により構成されている。これらカラーフィルタやＴＦＴ用アレイ基板の製造には、被塗布部材である基板に対して塗布液（液体材料）を塗布し塗膜を形成する工程が含まれている。   The color liquid crystal display includes a color filter, a TFT array substrate, and the like. The manufacture of these color filters and TFT array substrates includes a step of applying a coating liquid (liquid material) to a substrate which is a member to be coated to form a coating film.

基板に塗膜を形成するための塗布装置として、スリットコータが用いられており（例えば、特許文献１参照）、スリットコータは、図１１に示すように、細長い吐出口９１を有する塗布器９０（ノズルともいう。）を備えている。このスリットコータによる塗布方法は、基板９９に吐出口９１を接近させ、基板９９と塗布器９０とを相対的に移動させながら吐出口９１から塗布液を吐出させることで行われる。これにより、基板９９上に塗膜Ｃ２を形成することが可能となる。   As a coating device for forming a coating film on a substrate, a slit coater is used (see, for example, Patent Document 1), and the slit coater has an applicator 90 (see FIG. 11) having an elongated discharge port 91 (see FIG. 11). It is also called a nozzle.) The coating method using the slit coater is performed by causing the discharge port 91 to approach the substrate 99 and discharging the coating liquid from the discharge port 91 while relatively moving the substrate 99 and the applicator 90. Thereby, the coating film C2 can be formed on the substrate 99.

このようなスリットコータを用いて、図１１に示すように、一枚の基板９９に複数の塗膜Ｃ１，Ｃ２を、間隔ｄを空けて形成することが行われている。すなわち、塗布器９０と基板９９とを相対的に移動させながら、基板９９に対して塗布器９０から塗布液を吐出し、一旦この吐出を休止し、再び吐出を開始する塗布動作が行われる。このような塗布動作を「間欠塗布」と呼ぶ。   Using such a slit coater, as shown in FIG. 11, a plurality of coating films C1 and C2 are formed on a single substrate 99 at intervals d. That is, while the applicator 90 and the substrate 99 are moved relatively, the coating liquid is discharged from the applicator 90 to the substrate 99, the discharge is temporarily stopped, and the discharge operation is started again. Such a coating operation is called “intermittent coating”.

そして、カラーフィルタやＴＦＴ用アレイ基板の製造において、歩留まりの向上を図るために、一枚の基板９９において隣り合う塗膜Ｃ１，Ｃ２の間隔ｄを可及的に狭くすることが要求される場合がある。隣り合う塗膜Ｃ１，Ｃ２の間の領域（間隔ｄ）を「塗布間欠部ｄ」と呼ぶ。   When manufacturing a color filter or TFT array substrate, it is required to reduce the distance d between the adjacent coatings C1 and C2 as much as possible in one substrate 99 in order to improve the yield. There is. A region (interval d) between adjacent coating films C1 and C2 is referred to as “application intermittent portion d”.

特開２０１５−１９２９８７号公報JP2015-192987A

塗布器９０から塗布液を吐出させたり、その吐出を休止させたりするための動作は、塗布器９０とポンプ９２との間に設けられている開閉バルブ９３の開閉の切り換え動作によって行われる。すなわち、間欠塗布を行うためには、塗布器９０と基板９９とを相対移動させた状態で、開閉バルブ９３を開状態として塗布器９０から塗布液を吐出させ、塗布を一旦休止させるためにこの開閉バルブ９３を閉じ、その後、再び開閉バルブ９３を開けばよい。なお、開閉バルブ９３の開閉を行わせる駆動部は、例えば比較的応答性の高い電磁式のアクチュエータが用いられている。   The operation for discharging the application liquid from the applicator 90 or stopping the discharge is performed by an opening / closing switching operation of an open / close valve 93 provided between the applicator 90 and the pump 92. That is, in order to perform intermittent coating, the coating liquid is discharged from the coating device 90 with the opening / closing valve 93 opened while the coating device 90 and the substrate 99 are relatively moved, and this coating is temporarily stopped. The on-off valve 93 may be closed and then the on-off valve 93 may be opened again. Note that the drive unit that opens and closes the opening / closing valve 93 uses, for example, an electromagnetic actuator with relatively high responsiveness.

図１２は、間欠塗布を行うための開閉バルブ９３の開閉状態を示すタイムチャートである。図１１に示す基板９９において、例えば一番目（一面目）の塗膜Ｃ１を形成するために開閉バルブ９３は開状態にある（図１２参照）。そして、開閉バルブ９３を閉じるための指令信号が所定のタイミング（時刻ｔ１）で与えられ、開閉バルブ９３は閉動作して一番目の塗膜Ｃ１の終端で開閉バルブ９３が全閉状態となる（時刻ｔ２）。そして、塗布を再開するために、開閉バルブ９３を開けるための指令信号が出力され（時刻ｔ３）、開閉バルブ９３は開動作して全開状態となり（時刻ｔ４）、二番目（二面目）の塗膜Ｃ２の形成が始まる。   FIG. 12 is a time chart showing the open / close state of the open / close valve 93 for intermittent application. In the substrate 99 shown in FIG. 11, the open / close valve 93 is in an open state in order to form, for example, the first (first surface) coating film C1 (see FIG. 12). Then, a command signal for closing the opening / closing valve 93 is given at a predetermined timing (time t1), the opening / closing valve 93 is closed, and the opening / closing valve 93 is fully closed at the end of the first coating film C1 ( Time t2). Then, in order to restart the application, a command signal for opening the opening / closing valve 93 is output (time t3), the opening / closing valve 93 is opened and fully opened (time t4), and the second (second surface) coating is performed. Formation of film C2 begins.

ここで、開閉バルブ９３の応答時間（スペック値）が例えば２０ミリ秒であるとすると、閉の指令（時刻ｔ１）から、全閉状態を経て、再び全開状態となる（時刻ｔ４）までに要する時間（時刻ｔ１〜ｔ４）は、実際の塗布装置において、前記応答時間（２０ミリ秒）の２倍（４０ミリ秒）よりも長くなってしまう。これは、開閉バルブ９３が全閉となるまでの応答時間（２０ミリ秒）及び全開となるまでの応答時間（２０ミリ秒）の他に、後に説明する反転動作のための空白時間（図１２において、時刻ｔ２から時刻ｔ３までの時間）が必須となるためである。   Here, if the response time (spec value) of the open / close valve 93 is, for example, 20 milliseconds, it takes from the close command (time t1) to the fully open state again (time t4). The time (time t1 to t4) is longer than twice the response time (20 milliseconds) (40 milliseconds) in the actual coating apparatus. In addition to the response time (20 milliseconds) until the on-off valve 93 is fully closed and the response time (20 milliseconds) until the open / close valve 93 is fully open, the blank time for the reversing operation described later (FIG. 12). This is because the time from time t2 to time t3) is essential.

前記応答時間は、開動作（又は閉動作）のトリガとなる指令信号の入力から開閉バルブ９３が全開状態（又は全閉状態）となるまでの時間である。開閉バルブ９３に開（閉）のための指令信号が入力されてから、実際に駆動部が作用して（磁化して）弁体を移動させ、開閉バルブ９３が所定のストロークを移動して完全に開いた状態（閉じた状態）となるまでには、所定の時間を要する。この時間が前記応答時間となる。   The response time is a time from the input of a command signal serving as a trigger for the opening operation (or closing operation) until the on-off valve 93 is fully opened (or fully closed). After a command signal for opening (closing) is input to the on-off valve 93, the drive section actually operates (magnetizes) to move the valve body, and the on-off valve 93 moves a predetermined stroke to complete the operation. It takes a predetermined time to reach the open state (closed state). This time becomes the response time.

前記反転動作のための空白時間は、閉じる動作を終えた後（時刻ｔ２）、その反転動作として開く動作を開始するまで（時刻ｔ３）に要する時間であり、これは、閉じる動作を終えた後、開く動作を開始させる際、開閉バルブ９３の弁体及び駆動部において閉動作の慣性や磁性の影響が解消されてからでないと、その反対となる開動作に切り替えができないために必要となる時間である。つまり、この空白時間は、開閉バルブ９３の動作不能時間となる。   The blank time for the reversing operation is a time required after the closing operation is finished (time t2) until the opening operation is started as the reversing operation (time t3). This is after the closing operation is finished. When the opening operation is started, the time required for switching to the opening operation, which is the opposite of the opening and closing valve 93, after the influence of the inertia and magnetism of the closing operation is eliminated in the valve body and the drive unit. It is. In other words, this blank time is the time during which the on-off valve 93 cannot be operated.

図１２において、時刻ｔ２から時刻ｔ４までが、開閉バルブ９３の閉時間であり、この閉時間の間、基板９９と塗布器９０とは相対移動していることから、この閉時間において前記相対移動する距離の範囲（図１２に示す間欠区間）が、前記塗布間欠部ｄとなる。   In FIG. 12, the time from time t2 to time t4 is the closing time of the opening / closing valve 93. During this closing time, the substrate 99 and the applicator 90 are relatively moved. The range of the distance (intermittent section shown in FIG. 12) is the application intermittent part d.

以上より、開閉バルブ９３の駆動部として電磁式のアクチュエータが用いられるとしても、開閉バルブ９３を閉じるための指令信号を与えられてから（時刻ｔ１）、開閉バルブ９３が閉じ、その後、開閉バルブ９３を開動作させ、全開状態となるまで（時刻ｔ４）に要する時間（時刻ｔ１〜ｔ４）が、前記応答時間及び前記空白時間によって長くなると、その間、塗布器９０と基板９９とは相対的に移動していることから、塗布が行われていない領域、つまり、前記塗布間欠部ｄが長くなってしまう。特に基板９９と塗布器９０との相対速度が高くなるほど、前記塗布間欠部ｄは長くなる。   As described above, even if an electromagnetic actuator is used as the drive unit of the on-off valve 93, the on-off valve 93 is closed after the command signal for closing the on-off valve 93 is given (time t1), and then the on-off valve 93 When the time (time t1 to t4) required until the fully opened state (time t4) is increased by the response time and the blank time, the applicator 90 and the substrate 99 move relatively during that time. As a result, the region where the application is not performed, that is, the application intermittent portion d becomes long. In particular, the higher the relative speed between the substrate 99 and the applicator 90, the longer the intermittent application portion d.

そこで、被塗布部材に間欠塗布を行う場合において、塗布間欠部の短縮化が可能となる塗布装置及び塗布方法を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a coating apparatus and a coating method capable of shortening the intermittent coating portion when intermittent coating is performed on a member to be coated.

本発明の塗布装置は、被塗布部材の被塗布面に対して塗布液を吐出する吐出口を有する塗布器と、前記塗布器と前記被塗布部材とを相対的に移動させる移動手段と、前記塗布器に塗布液を供給する供給手段と、を備え、前記供給手段は、前記塗布器に繋がる供給流路と、前記供給流路を通じて前記塗布器に塗布液を供給するポンプと、前記供給流路の前記ポンプと前記塗布器との間において並列に配置されている複数の開閉バルブと、を有している。   The coating apparatus of the present invention includes an applicator having a discharge port that discharges a coating liquid to a surface to be coated of a member to be coated, a moving unit that relatively moves the applicator and the member to be coated, Supply means for supplying the application liquid to the applicator, wherein the supply means includes a supply channel connected to the applicator, a pump for supplying the application liquid to the applicator through the supply channel, and the supply flow. A plurality of on-off valves arranged in parallel between the pump of the passage and the applicator.

この塗布装置では、複数の開閉バルブが供給流路において並列に配置されている。このため、一つの開閉バルブが閉じた状態で、開いていた別の開閉バルブを閉じると、塗布器からの塗布液の吐出が停止されるが、前記別の開閉バルブが閉動作している途中や閉動作完了時や閉動作完了直後であっても、閉じていた前記一つの開閉バルブを開くために指令信号を与え、開動作を開始させることが可能となる。このため、塗布器からの塗布液の吐出が停止されてから、直ぐに再び吐出が可能となり、この結果、被塗布部材における塗布間欠部を短くすることができる。   In this coating apparatus, a plurality of on-off valves are arranged in parallel in the supply channel. For this reason, when one open / close valve is closed and another open / close valve is closed, the discharge of the coating liquid from the applicator is stopped, but the other open / close valve is being closed. Even when the closing operation is completed or immediately after the closing operation is completed, a command signal is given to open the one open / close valve that has been closed, and the opening operation can be started. For this reason, after the discharge of the coating liquid from the applicator is stopped, the discharge can be performed again immediately, and as a result, the intermittent application portion of the member to be coated can be shortened.

塗布器と被塗布部材とを相対的に移動させながら間欠塗布を行う場合において、塗布休止の際、塗布器の吐出口と被塗布部材との間に形成されている塗布液のビードを破壊するためには、相対移動している塗布器と被塗布部材とを離せばよく、また、その後直ぐに塗布を開始するために、相対移動している塗布器と被塗布部材とを再び接近させればよい。しかし、この場合、塗布休止から次の塗布開始までの間に、塗布器と被塗布部材との離反及び接近のための時間が必要となり、塗布間欠部を短くすることに限界がある。
そこで、塗布装置は、前記塗布器又は前記供給流路に接続されていると共に前記吐出口側に流れる塗布液を吸引する吸引手段を、更に備えているのが好ましい。
例えば、塗布休止の際、ポンプから塗布液が塗布器に向かって送られるのを停止すると共に、前記吸引手段によって吐出口側に流れる塗布液を吸引することで、塗布器と被塗布部材とを離さなくても、塗布液のビードを迅速に破壊して塗布休止が可能となる。このように塗布器と被塗布部材とを離さなくて済むことから、次の塗布開始までの間に、そのための動作時間が不要となり、塗布間欠部をより一層短くすることが可能となる。 When intermittent application is performed while relatively moving the applicator and the member to be coated, the bead of the coating liquid formed between the discharge port of the applicator and the member to be coated is broken when the application is stopped. In order to achieve this, the applicator that is relatively moving and the member to be coated need only be separated from each other, and in order to start application immediately thereafter, the applicator that is relatively moving and the member to be coated can be brought closer again. Good. However, in this case, it takes time for the applicator and the member to be applied to separate and approach between the application stop and the start of the next application, and there is a limit to shortening the application intermittent portion.
Therefore, it is preferable that the coating apparatus further includes a suction unit that is connected to the applicator or the supply flow path and sucks the coating liquid flowing toward the discharge port.
For example, when the application is stopped, the application liquid from the pump is stopped toward the applicator, and the application liquid flowing to the discharge port side is sucked by the suction means, so that the applicator and the member to be applied are Even if it is not separated, the bead of the coating solution can be quickly broken to stop the coating. Since it is not necessary to separate the applicator and the member to be coated in this way, the operation time for that is not required before the start of the next application, and the intermittent application portion can be further shortened.

また、前記のとおり、一つの被塗布部材に対して、一旦、塗布を休止し、その後、塗布を再開する際、被塗布部材と吐出口との間に塗布液のビードを形成する必要がある。そこで、塗布装置は、前記塗布器又は前記供給流路に接続され塗布液を溜めるタンクと、当該タンクに溜められている塗布液を加圧可能とさせる圧力調整手段と、を更に備えているのが好ましい。
例えば、塗布開始の際、ポンプから塗布液を送り出している状態で、かつ、タンクに溜められている塗布液を加圧した状態で、前記開閉バルブの開動作によって、塗布器への塗布液の供給が開始されると、塗布器には、ポンプによる塗布液の供給の他に、タンク側からの塗布液の余剰的な供給が成される。このため、塗布開始の際、塗布器と被塗布部材とを接近させなくても、塗布液のビードの形成が適切かつ迅速に行われる。このように、塗布を開始するために、塗布器と被塗布部材とを接近さなくて済むことから、この接近のための動作時間が不要となり、塗布間欠部をより一層短くすることが可能となる。 Further, as described above, it is necessary to form a bead of the coating liquid between the coated member and the discharge port when the coating is temporarily stopped for one coated member and then the coating is resumed. . Therefore, the coating apparatus further includes a tank that is connected to the applicator or the supply flow path and stores the coating liquid, and a pressure adjusting unit that can pressurize the coating liquid stored in the tank. Is preferred.
For example, at the start of coating, in a state where the coating liquid is being sent out from the pump and the coating liquid stored in the tank is pressurized, the opening / closing valve is opened to release the coating liquid to the applicator. When the supply is started, in addition to the supply of the coating liquid by the pump, an excessive supply of the coating liquid from the tank side is made to the applicator. For this reason, at the start of coating, the bead of the coating liquid can be appropriately and rapidly formed without bringing the applicator and the member to be coated close to each other. As described above, since it is not necessary to bring the applicator and the member to be coated close in order to start coating, the operation time for this approach becomes unnecessary, and the coating intermittent portion can be further shortened. Become.

また、前記塗布装置によって被塗布部材における塗布間欠部を短くするための具体的手段として、前記塗布装置は、前記複数の開閉バルブの開閉動作を制御する制御部を、更に備え、前記制御部は、前記複数の開閉バルブの内の、第一の開閉バルブが閉じた状態で第二の開閉バルブを開状態から閉じるための指令信号を出力すると共に、当該第二の開閉バルブが閉動作している途中、閉動作完了時、又は閉動作完了直後に、前記第一の開閉バルブを開くために指令信号を出力する構成とすればよい。   In addition, as a specific means for shortening the intermittent coating portion in the member to be coated by the coating device, the coating device further includes a control unit that controls opening and closing operations of the plurality of opening and closing valves, and the control unit includes: A command signal for closing the second on-off valve from the open state when the first on-off valve is closed, and the second on-off valve is closed. A command signal may be output to open the first on-off valve when the closing operation is completed or immediately after the closing operation is completed.

また、本発明は、ポンプから塗布器までの供給流路に複数の開閉バルブが並列に配置されている塗布装置によって、当該塗布器と被塗布部材とを相対移動させながら、当該被塗布部材に対して塗布液を間欠塗布する方法であって、並列の配置にある複数の前記開閉バルブの内の一つを開とし、残りの開閉バルブを閉とした状態で、前記ポンプから前記塗布器へ塗布液を供給する定常塗布工程と、前記定常塗布工程において開状態にあった前記開閉バルブを閉じることで塗布を一旦休止する塗布休止工程と、前記定常塗布工程において閉状態であった前記開閉バルブの一つを開き、前記ポンプにより前記塗布器に塗布液を供給する塗布開始工程と、を含む。   Further, the present invention provides a coating device having a plurality of on-off valves arranged in parallel in a supply flow path from a pump to a coating device, while relatively moving the coating device and the coating member. A method of intermittently applying a coating liquid to the applicator from the pump with one of the plurality of on-off valves in a parallel arrangement opened and the remaining on-off valves closed. A steady application step of supplying a coating liquid; an application pause step in which application is temporarily stopped by closing the open / close valve that was open in the steady application step; and the open / close valve that was closed in the steady application step. And an application start step of supplying an application liquid to the applicator by the pump.

この塗布方法によれば、塗布休止工程における開閉バルブを閉じる動作の途中やこの閉じる動作の完了時や閉動作の完了直後であっても、塗布開始工程で、閉状態であった開閉バルブの一つを開くための動作を開始させることができ、これにより、塗布器からの塗布液の吐出が停止されてから、直ぐに再び吐出が可能となる。この結果、被塗布部材における塗布間欠部を短くすることができる。   According to this application method, even during the closing operation of the opening / closing valve in the application suspending process, at the completion of the closing operation, or immediately after the closing operation is completed, the opening / closing valve that has been closed in the application start process is used. The operation for opening the opening can be started, and as a result, the discharge of the coating liquid from the applicator can be stopped again immediately after the discharge of the coating liquid is stopped. As a result, the application intermittent part in a to-be-coated member can be shortened.

また、前記塗布休止工程では、塗布を一旦休止するために、前記塗布器の吐出口側に流れる塗布液を吸引しながら前記開閉バルブを閉じるのが好ましい。
この場合、開閉バルブを閉じることでポンプから塗布液が塗布器に向かって送られるのを停止すると共に、吐出口側に流れる塗布液が吸引されることで、塗布器と被塗布部材とを離さなくても、塗布液のビードを迅速に破壊して塗布休止が可能となる。このように塗布器と被塗布部材とを離さなくて済むことから、次の塗布開始までの間に、そのための動作時間が不要となり、塗布間欠部をより一層短くすることが可能となる。 Moreover, in the said application | coating suspension process, in order to suspend application | coating once, it is preferable to close the said opening-and-closing valve, attracting | sucking the coating liquid which flows into the discharge outlet side of the said applicator.
In this case, by closing the opening / closing valve, the coating liquid is stopped from being sent from the pump to the applicator, and the coating liquid flowing toward the discharge port is sucked to separate the applicator and the member to be coated. Even without this, it is possible to quickly break the bead of the coating solution and to stop the coating. Since it is not necessary to separate the applicator and the member to be coated in this way, the operation time for that is not required before the start of the next application, and the intermittent application portion can be further shortened.

また、前記塗布開始工程では、前記供給流路に接続されかつ塗布液を溜めているタンクの当該塗布液を加圧した状態で、前記開閉バルブの一つを開くのが好ましい。
この場合、ポンプから塗布液を送り出している状態で、かつ、タンクに溜められている塗布液が加圧された状態で、前記開閉バルブの開動作によって、塗布器への塗布液の供給が開始されると、塗布器には、ポンプによる塗布液の供給の他に、タンク側からの塗布液の余剰的な供給が成される。このため、塗布開始の際、塗布器と被塗布部材とを接近させなくても、塗布液のビードの形成が適切かつ迅速に行われる。このように、塗布を開始するために、塗布器と被塗布部材とを接近さなくて済むことから、この接近のための動作時間が不要となり、塗布間欠部をより一層短くすることが可能となる。 In the application start step, it is preferable to open one of the opening and closing valves in a state where the application liquid in a tank connected to the supply flow path and storing the application liquid is pressurized.
In this case, supply of the coating liquid to the applicator is started by opening the on-off valve while the coating liquid is being pumped out and the coating liquid stored in the tank is pressurized. Then, in addition to the supply of the application liquid by the pump, the application apparatus is supplied with an excessive supply of the application liquid from the tank side. For this reason, at the start of coating, the bead of the coating liquid can be appropriately and rapidly formed without bringing the applicator and the member to be coated close to each other. As described above, since it is not necessary to bring the applicator and the member to be coated close in order to start coating, the operation time for this approach becomes unnecessary, and the coating intermittent portion can be further shortened. Become.

本発明によれば、被塗布部材に間欠塗布を行う場合において、塗布間欠部を短くすることが可能となる。この結果、歩留まりの向上が図れる。   According to the present invention, the intermittent application portion can be shortened when intermittent application is performed on a member to be applied. As a result, the yield can be improved.

塗布装置の概略構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows schematic structure of a coating device. （Ａ）は塗布器の斜視図であり、（Ｂ）は塗布器の断面図である。(A) is a perspective view of an applicator, and (B) is a sectional view of the applicator. 開閉バルブの開閉状態を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows the open / close state of an on-off valve. 塗布器より塗布液を吐出させて一番目の塗膜を形成している途中を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the middle of discharging the coating liquid from an applicator and forming the 1st coating film. 定常塗布工程の次に開始される塗布休止工程を説明している説明図である。It is explanatory drawing explaining the application | coating stop process started after a regular application | coating process. 塗布休止工程を説明している説明図である。It is explanatory drawing explaining the application | coating suspension process. 塗布休止工程の次に開始される塗布開始工程を説明している説明図である。It is explanatory drawing explaining the application | coating start process started after an application | coating pause process. 塗布開始工程を説明している説明図である。It is explanatory drawing explaining the application | coating start process. 塗布器より塗布液を吐出させて二番目の塗膜を形成している途中を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the middle of discharging the coating liquid from an applicator and forming the 2nd coating film. 一番目の塗膜と二番目の塗膜との間を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows between the 1st coating film and the 2nd coating film. 従来の塗布装置の模式図である。It is a schematic diagram of the conventional coating device. 間欠塗布を行うための開閉バルブの開閉状態を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows the opening-and-closing state of the opening-and-closing valve for performing intermittent application.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１は、塗布装置５の概略構成を示す模式図である。この塗布装置５は、被塗布部材に塗布液を吐出して塗膜を形成するための装置である。本実施形態における被塗布部材は帯状の基板Ｗであり、塗布装置５が行う塗布動作により、この基板Ｗ上に塗布液による塗膜Ｃ１，Ｃ２が形成される。塗布装置５は、塗布器１０（ノズル、スリットダイともいう）を備えており、この塗布器１０から塗布液を吐出し、基板Ｗの上面に塗布液を塗布する。基板Ｗの上面が、塗布液が塗布される被塗布面となり、この被塗布面が上向きとなる姿勢で基板Ｗはステージ９上に支持され、その状態で塗布が行われる。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic diagram showing a schematic configuration of the coating apparatus 5. The coating apparatus 5 is an apparatus for forming a coating film by discharging a coating liquid onto a member to be coated. The member to be coated in the present embodiment is a belt-like substrate W, and coating films C1 and C2 are formed on the substrate W by a coating operation performed by the coating device 5. The coating apparatus 5 includes an applicator 10 (also referred to as a nozzle or a slit die). The coating liquid is discharged from the applicator 10 and applied to the upper surface of the substrate W. The upper surface of the substrate W is a surface to be coated with the coating liquid, and the substrate W is supported on the stage 9 in a posture in which the surface to be coated faces upward, and coating is performed in this state.

特に本実施形態では、一枚の基板Ｗに複数の塗膜Ｃ１，Ｃ２を、間隔ｄを空けて形成する。すなわち、塗布器１０と基板Ｗとを相対的に移動させながら、この基板Ｗに対して塗布器１０から塗布液を吐出し、一旦この吐出を休止し、再び吐出を開始する塗布動作を行う。以下において、塗布器１０と基板Ｗとを相対的に移動させながら塗布液の吐出の休止と再開を行うことで、一枚の基板Ｗに複数の塗膜Ｃ１，Ｃ２を、間隔ｄを空けて形成する塗布動作を「間欠塗布」と呼ぶ。   In particular, in the present embodiment, a plurality of coating films C1 and C2 are formed on a single substrate W with a gap d. That is, while the applicator 10 and the substrate W are relatively moved, the application liquid is discharged from the applicator 10 to the substrate W, the discharge is temporarily stopped, and the discharge operation is started again. In the following, a plurality of coating films C1 and C2 are applied to a single substrate W with a gap d by stopping and restarting the discharge of the coating liquid while relatively moving the applicator 10 and the substrate W. The coating operation to be formed is called “intermittent coating”.

そして、歩留まりの向上のために、一枚の基板Ｗにおいて隣り合う塗膜Ｃ１，Ｃ２の間隔ｄを可及的に狭くするのが必要となる場合がある。なお、隣り合う塗膜Ｃ１，Ｃ２の間の領域（間隔ｄ）を、以下において「塗布間欠部ｄ」と呼ぶ。   In order to improve the yield, it may be necessary to narrow the distance d between the adjacent coatings C1 and C2 as much as possible in one substrate W. In addition, the area | region (space | interval d) between adjacent coating films C1 and C2 is called the "application | coating intermittent part d" below.

塗布装置５は、前記塗布器１０の他に、基板Ｗと塗布器１０とを相対的に移動させる移動手段２０と、塗布器１０に塗布液を供給する供給手段７０とを備えている。また、図１に示す塗布装置５は、塗布液を吸引する吸引手段４０と、塗布液を溜めているタンク４５と、このタンク４５に溜められている塗布液を加圧可能とさせる圧力調整手段４６とを備えており、更に、塗布装置５が備える前記各機構の制御を行うコンピュータからなる制御部５０を備えている。   In addition to the applicator 10, the applicator device 5 includes a moving unit 20 that relatively moves the substrate W and the applicator 10, and a supply unit 70 that supplies the application liquid to the applicator 10. Further, the coating apparatus 5 shown in FIG. 1 includes a suction unit 40 that sucks the coating liquid, a tank 45 that stores the coating liquid, and a pressure adjusting unit that can pressurize the coating liquid stored in the tank 45. 46, and further includes a control unit 50 including a computer that controls each mechanism included in the coating apparatus 5.

図２（Ａ）は塗布器１０の斜視図である。塗布器１０は、一方向に長い直線状のノズルからなり、その下端に、塗布液を吐出する吐出口１１が設けられている。図２（Ｂ）は塗布器１０の断面図である。塗布器１０は、その内部に、塗布液が溜められる空間１３（以下、マニホールド１３という。）、及び、マニホールド１３と吐出口１１とを繋ぐスリット状流路１２を有している。マニホールド１３、スリット状流路１２及び吐出口１１は、一方向（図２（Ｂ）の紙面に直交する方向）に沿って長く形成されている。マニホールド１３は、供給流路６０から流入し吐出口１１から吐出させる塗布液を一旦溜めるために拡大させた領域である。スリット状流路１２の下端が吐出口１１となり、基板Ｗに対して吐出口１１から塗布液が下向きに吐出される。後述する塗布動作（間欠塗布）の際、マニホールド１３、スリット状流路１２は、塗布液で満たされた状態（つまり、充満状態）となる。   FIG. 2A is a perspective view of the applicator 10. The applicator 10 is composed of a linear nozzle that is long in one direction, and a discharge port 11 for discharging the coating liquid is provided at the lower end thereof. FIG. 2B is a cross-sectional view of the applicator 10. The applicator 10 has a space 13 (hereinafter referred to as a manifold 13) in which a coating solution is stored, and a slit-like flow path 12 that connects the manifold 13 and the discharge port 11. The manifold 13, the slit-shaped flow path 12, and the discharge port 11 are formed long along one direction (a direction orthogonal to the paper surface of FIG. 2B). The manifold 13 is an enlarged area for temporarily storing the coating liquid flowing in from the supply flow path 60 and discharged from the discharge port 11. The lower end of the slit-shaped flow path 12 becomes the discharge port 11, and the coating liquid is discharged downward from the discharge port 11 to the substrate W. During a coating operation (intermittent coating) to be described later, the manifold 13 and the slit-shaped flow path 12 are filled with the coating liquid (that is, filled).

図１において塗布装置５は、更に、装置基台６、及び、この装置基台６に搭載され基板Ｗを上に載せるステージ９を備えている。ステージ９に固定されている基板Ｗと塗布器１０とは移動手段２０によって相対的に移動可能となる。本実施形態では、塗布器１０は装置基台６に対して固定状態にある。この塗布器１０に対してステージ９が水平方向に移動する。このために、移動手段２０は、装置基台６に設けられているレール２１と、このレール２１に沿ってステージ９を移動させるリニアアクチュエータ２２とを備えている。移動手段２０（リニアアクチュエータ２２）は、制御部５０によって制御され、基板Ｗ（ステージ９）と塗布器１０とを一定速度で被塗布面に平行な方向（水平方向）に相対的に移動させる。なお、移動手段２０は、塗布器１０と基板Ｗとを相対移動させる構成であればよく、図示しないが、固定状態にあるステージ９（基板Ｗ）に対して塗布器１０を移動させる構成であってもよい。また、移動手段２０は別の構成であってもよい。塗布器１０と基板Ｗとの相対速度は高く、例えば、毎秒３００〜４００ミリメートル程度である。   In FIG. 1, the coating apparatus 5 further includes an apparatus base 6 and a stage 9 mounted on the apparatus base 6 and placing a substrate W thereon. The substrate W fixed to the stage 9 and the applicator 10 can be relatively moved by the moving means 20. In the present embodiment, the applicator 10 is in a fixed state with respect to the apparatus base 6. The stage 9 moves in the horizontal direction with respect to the applicator 10. For this purpose, the moving means 20 includes a rail 21 provided on the apparatus base 6 and a linear actuator 22 that moves the stage 9 along the rail 21. The moving means 20 (linear actuator 22) is controlled by the control unit 50 and relatively moves the substrate W (stage 9) and the applicator 10 in a direction parallel to the application surface (horizontal direction) at a constant speed. The moving unit 20 may be configured to move the applicator 10 and the substrate W relative to each other. Although not illustrated, the moving unit 20 is configured to move the applicator 10 with respect to the stage 9 (substrate W) in a fixed state. May be. Further, the moving means 20 may have another configuration. The relative speed between the applicator 10 and the substrate W is high, for example, about 300 to 400 millimeters per second.

供給手段７０は、塗布器１０に繋がる供給流路６０と、この供給流路６０を通じて塗布器１０に塗布液を供給するポンプ３０と、供給流路６０の途中に設けられている第一開閉バルブ３１及び第二開閉バルブ３２とを有している。
供給流路６０は、塗布液を流す配管からなり、ポンプ３０（接続部３０ａ）から塗布器１０までの下流側流路６０ａと、ポンプ３０（接続部３０ａ）から第三開閉バルブ３３までの上流側流路６０ｂとを有している。 The supply means 70 includes a supply channel 60 connected to the applicator 10, a pump 30 that supplies the application liquid to the applicator 10 through the supply channel 60, and a first opening / closing valve provided in the middle of the supply channel 60. 31 and a second opening / closing valve 32.
The supply flow path 60 is composed of a pipe through which the coating liquid flows, and the downstream flow path 60a from the pump 30 (connection part 30a) to the applicator 10 and the upstream from the pump 30 (connection part 30a) to the third opening / closing valve 33. Side flow path 60b.

下流側流路６０ａは、その途中において、第一分岐流路６０ａ−１と第二分岐流路６０ａ−２とに分岐し、その下流側で合流している。第一分岐流路６０ａ−１の途中に第一開閉バルブ３１が設けられ、第二分岐流路６０ａ−２の途中に第二開閉バルブ３２が設けられている。以上より、第一開閉バルブ３１及び第二開閉バルブ３２は、供給流路６０のポンプ３０と塗布器１０との間（つまり下流側流路６０ａ）において並列に配置された構成となる。   The downstream channel 60a is branched into the first branch channel 60a-1 and the second branch channel 60a-2 in the middle, and merges on the downstream side. The first opening / closing valve 31 is provided in the middle of the first branch flow path 60a-1, and the second opening / closing valve 32 is provided in the middle of the second branch flow path 60a-2. From the above, the first opening / closing valve 31 and the second opening / closing valve 32 are configured to be arranged in parallel between the pump 30 of the supply flow path 60 and the applicator 10 (that is, the downstream flow path 60a).

第一開閉バルブ３１及び第二開閉バルブ３２は、制御部５０から出力される指令信号に基づいて開動作及び閉動作を択一的に行うことができ、また、これらは独立して開閉動作可能である。つまり、制御部５０は、二つの開閉バルブ３１，３２それぞれの開閉動作を独立して制御する。本実施形態では、第一及び第二開閉バルブ３１，３２、並びに、後述する第三、第四及び第五開閉バルブ３３，３４，３５それぞれにおいて、駆動部として電磁式のアクチュエータが用いられている。これら開閉バルブ３１〜３５は全て同じものであってもよいが、異なっていてもよい。第一開閉バルブ３１と第二開閉バルブ３２とでは、開動作（又は閉動作）のトリガとなる指令信号の入力から全開状態（又は全閉状態）となるまでの時間（つまり、応答時間）が同じであり、２０ミリ秒程度である。これら開閉バルブ３１〜３５は閉じることで流路を閉塞する。   The first opening / closing valve 31 and the second opening / closing valve 32 can alternatively perform an opening operation and a closing operation based on a command signal output from the control unit 50, and these can be opened and closed independently. It is. That is, the control unit 50 independently controls the opening / closing operations of the two opening / closing valves 31 and 32. In the present embodiment, an electromagnetic actuator is used as a drive unit in each of the first and second on-off valves 31 and 32 and the third, fourth, and fifth on-off valves 33, 34, and 35 described later. . These on-off valves 31 to 35 may all be the same or different. In the first on-off valve 31 and the second on-off valve 32, the time (that is, the response time) from the input of the command signal that triggers the opening operation (or closing operation) to the full opening state (or the fully closing state) is obtained. The same, about 20 milliseconds. These on-off valves 31 to 35 close the flow path by closing.

ポンプ３０は、供給流路６０（下流側流路６０ａ）を通じて塗布器１０に塗布液を供給する。ポンプ３０は、容積計量型のものであり、任意の流量の塗布液を精度よく供給流路６０へ送り出すことが可能である。本実施形態では、ポンプ３０を容積計量型のピストンポンプ（シリンジポンプともいう。）としている。ポンプ３０は、制御部５０によって制御され、単位時間当たりの塗布液の送り量が制御されて、一定の送り量（単位時間あたりの平均送り量）の塗布液が供給流路６０を通じて塗布器１０に供給される。   The pump 30 supplies the coating liquid to the applicator 10 through the supply channel 60 (downstream channel 60a). The pump 30 is of a volumetric type, and can send an application liquid of an arbitrary flow rate to the supply flow path 60 with high accuracy. In this embodiment, the pump 30 is a volumetric type piston pump (also referred to as a syringe pump). The pump 30 is controlled by the control unit 50 to control the feeding amount of the coating liquid per unit time, and the coating liquid having a constant feeding amount (average feeding amount per unit time) is supplied through the supply channel 60 to the applicator 10. To be supplied.

タンク４５は、上流側流路６０ｂに第三開閉バルブ３３を介して接続されている。タンク４５は塗布液を溜めている。圧力調整手段４６は、タンク４５に溜められている塗布液を加圧可能とさせる。具体的に説明すると、圧力調整手段４６は、圧縮空気をタンク４５に供給する加圧器からなり、この圧縮空気によってタンク４５の内圧を高めたりその内圧を所定値に維持したりすることができる。これにより、後にも説明するが、タンク４５の塗布液を所定のタイミングで下流側となる塗布器１０側へ送り出す（圧送する）ことができる。なお、図１では、タンク４５が第三開閉バルブ３３を介して供給流路６０の一部に接続されているが、図示しないが塗布器１０に接続されていてもよい。   The tank 45 is connected to the upstream flow path 60b via the third opening / closing valve 33. The tank 45 stores a coating solution. The pressure adjusting means 46 makes it possible to pressurize the coating liquid stored in the tank 45. More specifically, the pressure adjusting means 46 includes a pressurizer that supplies compressed air to the tank 45, and the compressed air can increase the internal pressure of the tank 45 or maintain the internal pressure at a predetermined value. Thereby, as will be described later, the coating liquid in the tank 45 can be sent out (pressure-fed) to the applicator 10 on the downstream side at a predetermined timing. In FIG. 1, the tank 45 is connected to a part of the supply flow path 60 via the third opening / closing valve 33, but may be connected to the applicator 10 although not shown.

吸引手段４０は、下流側流路６０ａに第四開閉バルブ３４及び第五開閉バルブ３５を介して接続されている。第四開閉バルブ３４及び第五開閉バルブ３５は直列に接続されている。吸引手段４０は、下流側流路６０ａの塗布液を吸引する吸引ポンプ４１と、この吸引ポンプ４１による吸引力を調整する調整器（調圧器）４２とを備えている。この吸引手段４０は、後にも説明するが、所定のタイミングで、塗布器１０の吐出口１１側に流れる下流側流路６０ａの塗布液を吸引する。なお、図１では、吸引手段４０が第四開閉バルブ３４及び第五開閉バルブ３５を介して供給流路６０の一部に接続されているが、図示しないが塗布器１０に接続されていてもよい。   The suction means 40 is connected to the downstream flow path 60a via the fourth open / close valve 34 and the fifth open / close valve 35. The fourth open / close valve 34 and the fifth open / close valve 35 are connected in series. The suction means 40 includes a suction pump 41 that sucks the coating liquid in the downstream flow path 60a, and an adjuster (pressure regulator) 42 that adjusts the suction force by the suction pump 41. As will be described later, the suction means 40 sucks the coating liquid in the downstream flow path 60a flowing to the discharge port 11 side of the applicator 10 at a predetermined timing. In FIG. 1, the suction means 40 is connected to a part of the supply flow path 60 via the fourth open / close valve 34 and the fifth open / close valve 35, but although not shown, it may be connected to the applicator 10. Good.

以上の構成を備えている塗布装置５によって実行される塗布方法について説明する。この塗布方法は、ポンプ３０から塗布器１０までの供給流路６０に二つ開閉バルブ３１，３２が並列に配置されている塗布装置５によって行われる方法であり、塗布器１０に対して基板Ｗを移動させながら、この基板Ｗに対して塗布液を間欠塗布する方法である。なお、以下の各工程において説明する開閉バルブ３１〜３５の開閉動作の指令信号は、制御部５０から出力される。また、各工程では、基板Ｗは一定の速度で水平方向に移動している。   A coating method executed by the coating apparatus 5 having the above configuration will be described. This coating method is a method performed by the coating device 5 in which the two open / close valves 31 and 32 are arranged in parallel in the supply flow path 60 from the pump 30 to the coating device 10. The coating liquid is intermittently applied to the substrate W while moving the substrate. In addition, the command signal of the opening / closing operation | movement of the opening / closing valves 31-35 demonstrated in each following process is output from the control part 50. FIG. In each step, the substrate W moves in the horizontal direction at a constant speed.

図３は、開閉バルブ３１〜３５の開閉状態を示すタイムチャートである。図４は、塗布器１０から塗布液を吐出させて一番目の塗膜Ｃ１を形成している途中を示す説明図である。この途中状態では、ポンプ３０が塗布液を一定の流量で送り出しており、基板Ｗに一番目の塗膜Ｃ１が形成される。この状態で塗布を行う工程を定常塗布工程という。また、この途中状態（図３の時刻ｔ０）では、並列に配置されている開閉バルブ３１，３２のうちの、第二開閉バルブ３２は開状態であるが、第一開閉バルブ３１は閉状態にある。その他の開閉バルブ３３〜３５の開又は閉は、図４に示す状態にある。   FIG. 3 is a time chart showing the open / close state of the open / close valves 31 to 35. FIG. 4 is an explanatory view showing the middle of forming the first coating film C <b> 1 by discharging the coating liquid from the applicator 10. In this intermediate state, the pump 30 sends out the coating liquid at a constant flow rate, and the first coating film C1 is formed on the substrate W. The process of applying in this state is called a steady application process. Further, in this intermediate state (time t0 in FIG. 3), among the on-off valves 31 and 32 arranged in parallel, the second on-off valve 32 is in the open state, but the first on-off valve 31 is in the closed state. is there. The other opening / closing valves 33 to 35 are open or closed as shown in FIG.

また、この定常塗布工程では（図４参照）、吸引手段４０は吸引動作を行っている。ただし、第五開閉バルブ３５は開状態であるが第四開閉バルブ３４は閉状態にあるため、塗布器１０の吐出口１１側に流れる塗布液の吸引は行われていない。つまり、図４に示す状態は、吸引手段４０による吸引の準備状態である。   In this steady application process (see FIG. 4), the suction means 40 performs a suction operation. However, since the fifth open / close valve 35 is in the open state but the fourth open / close valve 34 is in the closed state, the application liquid flowing to the discharge port 11 side of the applicator 10 is not sucked. That is, the state shown in FIG. 4 is a preparation state for suction by the suction means 40.

図５は、定常塗布工程の次に開始される塗布休止工程を説明している説明図である。この塗布休止工程では、開状態にあった第二開閉バルブ３２を閉じると共に、第四開閉バルブ３４を開く（図３の時刻ｔ１）。第五開閉バルブ３５は開状態のままであって、第四開閉バルブ３４が開かれることで、吸引手段４０によって塗布器１０の吐出口１１側に流れる塗布液が吸引される。これにより、吐出口１１と基板Ｗとの間に形成されていたビードＢが破壊され、基板Ｗに対する塗布が休止される（図６参照）。この塗布液の吸引時間は僅かであり、第五開閉バルブ３５を閉じることで流路が遮断され（図３の時刻ｔ２）、吸引手段４０による吸引が停止される。   FIG. 5 is an explanatory diagram illustrating a coating pause process started after the steady coating process. In this application pause process, the second open / close valve 32 in the open state is closed and the fourth open / close valve 34 is opened (time t1 in FIG. 3). The fifth open / close valve 35 remains open, and the fourth open / close valve 34 is opened, whereby the application liquid flowing toward the discharge port 11 of the applicator 10 is sucked by the suction means 40. As a result, the bead B formed between the discharge port 11 and the substrate W is destroyed, and the application to the substrate W is suspended (see FIG. 6). The suction time of the coating liquid is very short. By closing the fifth open / close valve 35, the flow path is blocked (time t2 in FIG. 3), and suction by the suction means 40 is stopped.

また、この塗布休止工程（図５及び図６）において、前記のとおり、第一開閉バルブ３１が継続して閉状態であると共に、第二開閉バルブ３２が開から閉状態となると（時刻ｔ１）、閉状態にあった第三開閉バルブ３３が開かれる。圧力調整手段４６はタンク４５の塗布液の圧力を所望の値に調整することができ、本実施形態では、タンク４５内を一定の加圧状態に保持している。第三開閉バルブ３３の開動作により、開閉バルブ３１，３２の上流側にある部分流路６０ｃの内圧が、後に説明する塗布開始工程のために必要な圧力値に上昇する。また、この際、ポンプ３０から送り出される塗布液の流れ方向が、塗布器１０側からタンク４５側に変わり、タンク４５に塗布液が送り込まれることで、塗布休止状態においてもポンプ３０を減速させることなく動かし続けることができる。   Moreover, in this application | coating suspension process (FIG.5 and FIG.6), as above-mentioned, while the 1st on-off valve 31 is a closed state continuously, and the 2nd on-off valve 32 will be in a closed state from opening (time t1). The third opening / closing valve 33 in the closed state is opened. The pressure adjusting means 46 can adjust the pressure of the coating liquid in the tank 45 to a desired value, and in this embodiment, the inside of the tank 45 is kept in a constant pressure state. With the opening operation of the third opening / closing valve 33, the internal pressure of the partial flow path 60c on the upstream side of the opening / closing valves 31, 32 rises to a pressure value necessary for a coating start process described later. At this time, the flow direction of the coating liquid sent out from the pump 30 is changed from the applicator 10 side to the tank 45 side, and the coating liquid is sent into the tank 45, so that the pump 30 can be decelerated even in the coating pause state. You can keep moving.

図７は、塗布休止工程の次に開始される塗布開始工程を説明している説明図である。この塗布開始工程では、閉状態にあった第一開閉バルブ３１を開く（図３の時刻ｔ３）。これにより、ポンプ３０から送り出された塗布液が塗布器１０側へ流れる。更に、前記のとおりタンク４５の塗布液及び部分流路６０ｃの塗布液の内圧が上昇しているため、第一開閉バルブ３１が開くと同時に、上昇した前記内圧によって塗布液が塗布器１０へ圧送される。このため、塗布器１０には、ポンプ３０による一定量の塗布液が送られると共に、内圧が上昇した塗布液が圧送される。このため、吐出口１１からは、ポンプ３０による塗布液の送り出し量が吐出されるのに加えて、前記圧送による余剰吐出が行われる。この結果、図７に示すように、塗布液のビードＢを迅速に形成することができ、塗布が再開され、二番目の塗膜Ｃ２の形成が開始される。   FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating a coating start process started after the coating pause process. In this coating start process, the first opening / closing valve 31 that has been in the closed state is opened (time t3 in FIG. 3). Thereby, the coating liquid sent out from the pump 30 flows to the applicator 10 side. Furthermore, as described above, since the internal pressure of the coating liquid in the tank 45 and the coating liquid in the partial flow path 60c is increased, the coating liquid is pumped to the applicator 10 by the increased internal pressure at the same time as the first opening / closing valve 31 is opened. Is done. For this reason, a constant amount of coating liquid is sent to the applicator 10 by the pump 30 and the coating liquid whose internal pressure is increased. For this reason, in addition to the discharge amount of the coating liquid delivered by the pump 30 being discharged from the discharge port 11, excessive discharge is performed by the pressure feed. As a result, as shown in FIG. 7, the bead B of the coating liquid can be quickly formed, the coating is resumed, and the formation of the second coating film C2 is started.

なお、前記圧送が行われる時間は、図３に示すように時刻ｔ３から時刻ｔ４までであり、短時間である。圧送を終了するために第三開閉バルブ３３を閉じる。
また、前記圧送の終了のために、第五開閉バルブ３５を開状態とし（図３の時刻ｔ４）、吸引手段４０によって塗布液を短時間について吸引し、これにより、前記余剰吐出を抑制している（図８参照）。つまり、前記余剰吐出を抑制するために、第五開閉バルブ３５を（時刻ｔ４で）開状態とした後、（時刻ｔ５で）第四開閉バルブ３４を閉じることにより、吸引手段４０が吸引を行うための流路を遮断している。 In addition, as shown in FIG. 3, the time during which the pressure feeding is performed is from time t3 to time t4, and is a short time. The third on-off valve 33 is closed to end the pressure feeding.
In addition, in order to end the pumping, the fifth opening / closing valve 35 is opened (time t4 in FIG. 3), and the application liquid is sucked for a short time by the suction means 40, thereby suppressing the excessive discharge. (See FIG. 8). That is, in order to suppress the excessive discharge, the suction unit 40 performs suction by opening the fifth opening / closing valve 35 (at time t4) and then closing the fourth opening / closing valve 34 (at time t5). Therefore, the flow path is blocked.

図９は、塗布器１０より塗布液を吐出させて二番目の塗膜Ｃ２を形成している途中を示す説明図である。この状態では、並列に配置されている開閉バルブ３１，３２のうちの、第一開閉バルブ３１は開状態であるが、第二開閉バルブ３２は閉状態にある。この状態で行われる塗布状態は、図１に示す前記塗布途中状態と同じであり、これが、二番目の塗膜Ｃ２のための定常塗布工程となる。
以上により、一つの基板Ｗに対して複数の塗膜Ｃ１，Ｃ２が塗布間欠部ｄを有して形成される。 FIG. 9 is an explanatory view showing the way in which the coating liquid is discharged from the applicator 10 to form the second coating film C2. In this state, of the open / close valves 31 and 32 arranged in parallel, the first open / close valve 31 is open, but the second open / close valve 32 is closed. The application state performed in this state is the same as the application intermediate state shown in FIG. 1, and this is a steady application step for the second coating film C2.
In this way, a plurality of coating films C1 and C2 are formed on the single substrate W with the intermittent coating portion d.

前記のとおり、塗布器１０から塗布液を吐出させたり、その吐出を休止させたりして間欠塗布を行うための動作は、塗布器１０とポンプ３０との間に並列接続されている第一及び第二開閉バルブ３１，３２の開閉の切り換え動作によって行われる。これら第一及び第二開閉バルブ３１，３２に開動作又は閉動作させるための指令信号は、制御部５０から出力されるが、その指令信号の出力タイミングについて図３により説明する。本実施形態では、制御部５０は、第一開閉バルブ３１が閉じた状態で第二開閉バルブ３２を開状態から閉じるための指令信号を、時刻ｔ０の後の時刻ｔａで出力すると共に、この第二開閉バルブ３２が閉動作している途中である時刻ｔｂで、第一開閉バルブ３１を開くために指令信号を出力している。つまり、第二開閉バルブ３２の閉動作のための応答時間中に、第一開閉バルブ３１を開くための指令信号をこの第一開閉バルブ３１に出力し、開動作を開始させている。   As described above, the operation for performing intermittent application by discharging the application liquid from the applicator 10 or stopping the discharge is performed in the first and the second connected in parallel between the applicator 10 and the pump 30. This is performed by switching the opening / closing of the second opening / closing valves 31 and 32. A command signal for causing the first and second opening / closing valves 31 and 32 to open or close is output from the control unit 50. The output timing of the command signal will be described with reference to FIG. In the present embodiment, the control unit 50 outputs a command signal for closing the second opening / closing valve 32 from the opened state with the first opening / closing valve 31 closed at the time ta after the time t0. A command signal is output to open the first opening / closing valve 31 at time tb when the two opening / closing valves 32 are in the middle of closing operation. That is, during the response time for the closing operation of the second opening / closing valve 32, a command signal for opening the first opening / closing valve 31 is output to the first opening / closing valve 31 to start the opening operation.

以上より、本実施形態の塗布方法をまとめて説明すると、この塗布方法には、次の定常塗布工程と、塗布休止工程と、塗布開始工程とが含まれる。
定常塗布工程（図４参照）：並列の配置にある複数の開閉バルブ３１，３２の内の一つである第二開閉バルブ３２を開とし、残りの第一開閉バルブ３１を閉とした状態で、ポンプ３０から塗布器１０へ塗布液を一定量で供給する。
塗布休止工程（図５、図６参照）：前記定常塗布工程において、閉状態にあった第一開閉バルブ３１はそのまま閉で、開状態にあった第二開閉バルブ３２を閉じることで塗布を一旦休止する。
塗布開始工程（図７、図８参照）：前記塗布休止工程で閉じた第二開閉バルブ３２はそのまま閉状態で、前記定常塗布工程において閉状態であった第一開閉バルブ３１を開き、ポンプ３０により塗布器１０に塗布液を一定量で供給する。 From the above, the coating method of this embodiment will be described collectively. This coating method includes the following steady coating process, coating pause process, and coating start process.
Regular application process (see FIG. 4): in a state where the second on-off valve 32, which is one of the plurality of on-off valves 31, 32 in parallel arrangement, is opened and the remaining first on-off valves 31 are closed. Then, a constant amount of coating solution is supplied from the pump 30 to the applicator 10.
Application stop process (see FIGS. 5 and 6): In the steady application process, the first on-off valve 31 in the closed state is closed as it is, and the application is temporarily performed by closing the second on-off valve 32 in the open state. Pause.
Application start step (see FIGS. 7 and 8): The second on-off valve 32 closed in the application stop step is closed as it is, the first on-off valve 31 that was closed in the steady application step is opened, and the pump 30 Thus, a constant amount of coating solution is supplied to the applicator 10.

このように二つの第一及び第二開閉バルブ３１，３２が供給流路６０において並列に配置されている塗布装置５によって実行される塗布方法によれば、第一開閉バルブ３１が閉じた状態で、開いていた別の第二開閉バルブ３２を閉じると、塗布器１０からの塗布液の吐出が停止されるが、この第二開閉バルブ３２が閉動作している途中（図３の時刻ｔｂ）であっても、閉じていた第一開閉バルブ３１を開くために指令信号を与え、開動作を開始させることが可能となる。このため、塗布器１０からの塗布液の吐出が停止されてから、直ぐに再び吐出が可能となる。つまり、極短時間について塗布液の吐出停止が可能となる。この結果、基板Ｗと塗布器１０との相対速度が高速であっても、基板Ｗにおける塗布間欠部ｄ（図３において、間欠区間）を短くすることができる。塗布間欠部ｄに相当する間欠区間は、図３において、時刻ｔ１から時刻ｔ３までの間に塗布器１０と基板Ｗとが相対移動する領域であり、この間欠区間に該当する時間（時刻ｔ１から時刻ｔ３）は、開閉バルブ３１（又は３２）単体の応答時間よりも短い。
このように、一つの基板Ｗに対して複数の塗膜Ｃ１，Ｃ２を形成する場合において、塗布間欠部ｄを短くすることが可能であることから、この基板Ｗを用いた製品の製造において、歩留まりの向上が図れる。 Thus, according to the coating method performed by the coating device 5 in which the two first and second opening / closing valves 31 and 32 are arranged in parallel in the supply flow path 60, the first opening / closing valve 31 is closed. When the second open / close valve 32 that has been opened is closed, the discharge of the coating liquid from the applicator 10 is stopped, but the second open / close valve 32 is being closed (time tb in FIG. 3). Even so, it is possible to give a command signal to open the closed first opening / closing valve 31 and start the opening operation. For this reason, after the discharge of the coating liquid from the applicator 10 is stopped, the discharge can be performed again immediately. That is, the discharge of the coating liquid can be stopped for a very short time. As a result, even when the relative speed between the substrate W and the applicator 10 is high, the intermittent application portion d (intermittent section in FIG. 3) on the substrate W can be shortened. In FIG. 3, the intermittent interval corresponding to the application intermittent portion d is a region in which the applicator 10 and the substrate W move relative to each other between time t1 and time t3, and a time corresponding to this intermittent interval (from time t1). The time t3) is shorter than the response time of the open / close valve 31 (or 32) alone.
Thus, in the case of forming a plurality of coating films C1 and C2 on one substrate W, it is possible to shorten the application intermittent portion d, so in the manufacture of a product using this substrate W, Yield can be improved.

なお、前記実施形態（図３参照）では、第一開閉バルブ３１を開くために指令信号を出力するタイミングを、第二開閉バルブ３２が閉動作している途中である時刻ｔｂとしているが、これ以外であってもよく、第二開閉バルブ３２の閉動作完了時（時刻ｔ１）、又は閉動作完了直後（時刻ｔ１の直後）とすることができる。この場合も、塗布間欠部ｄを短くすることができる。
すなわち、制御部５０は、第一開閉バルブ３１が閉じた状態で第二開閉バルブ３２を開状態から閉じるための指令信号を、時刻ｔａで出力すると共に、この第二開閉バルブ３２が閉動作している途中、閉動作完了時、又は閉動作完了直後に、第一開閉バルブ３１を開くために指令信号を出力することができる。 In the above embodiment (see FIG. 3), the timing at which the command signal is output to open the first opening / closing valve 31 is the time tb during the closing operation of the second opening / closing valve 32. Other than the above, it may be at the time when the closing operation of the second opening / closing valve 32 is completed (time t1) or immediately after the closing operation is completed (immediately after time t1). Also in this case, the intermittent application portion d can be shortened.
That is, the control unit 50 outputs a command signal for closing the second opening / closing valve 32 from the open state with the first opening / closing valve 31 closed at the time ta, and the second opening / closing valve 32 is closed. A command signal can be output to open the first opening / closing valve 31 when the closing operation is completed or immediately after the closing operation is completed.

塗布休止工程に関して更に説明する。前記のとおり、塗布器１０に対して基板Ｗを移動させながら間欠塗布を行う場合において、塗布休止の際、塗布器１０の吐出口１１と基板Ｗとの間に形成されている塗布液のビードＢを破壊する必要がある。このためには、移動している基板Ｗから塗布器１０を高さ方向に離せばよく、また、その後直ぐに塗布を開始するために、移動している基板Ｗに塗布器１０を再び高さ方向に接近させればよい。しかし、この場合、塗布休止から次の塗布開始までの間に、塗布器１０の離反及び接近のための時間が必要となり、塗布間欠部ｄを短くすることに限界がある。
そこで、本実施形態の塗布休止工程では、塗布を一旦休止するために、図５及び図６に示すように、塗布器１０の吐出口１１側に流れる塗布液を前記吸引手段４０によって吸引しながら、第二開閉バルブ３２を閉じている。
これにより、第二開閉バルブ３２を閉じることでポンプ３０から塗布液が塗布器１０に向かって送られるのを停止すると共に、吐出口１１側に流れる塗布液を吸引することで、塗布器１０を基板Ｗから高さ方向に離さなくても、塗布液のビードＢを迅速に破壊して塗布休止が可能となる。このように本実施形態の場合、塗布器１０を基板Ｗから離さなくて済むことから、次の塗布開始までの間に、そのための動作時間が不要となり、塗布間欠部ｄをより一層短くすることが可能となる。また、吸引手段４０の前記吸引により、余分な塗布液が吐出されず、図１０に示すように、一番目の塗膜Ｃ１の終端における膜厚不良部８１の範囲を小さくすることが可能となる。 The application suspension process will be further described. As described above, when intermittent coating is performed while moving the substrate W relative to the applicator 10, a bead of coating liquid formed between the discharge port 11 of the applicator 10 and the substrate W when the coating is stopped. B needs to be destroyed. For this purpose, the applicator 10 may be separated from the moving substrate W in the height direction, and the applicator 10 is again applied to the moving substrate W in the height direction in order to start application immediately thereafter. You may approach. However, in this case, it takes time for the applicator 10 to move away and approach between the application stop and the start of the next application, and there is a limit to shortening the application intermittent part d.
Therefore, in the application pause process of the present embodiment, in order to temporarily stop the application, as shown in FIGS. 5 and 6, while the application liquid flowing to the discharge port 11 side of the applicator 10 is sucked by the suction means 40. The second opening / closing valve 32 is closed.
As a result, the second opening / closing valve 32 is closed to stop the coating liquid from being sent from the pump 30 toward the applicator 10, and the application liquid flowing toward the discharge port 11 is sucked so that the applicator 10 is Even if it is not separated from the substrate W in the height direction, the coating solution bead B can be quickly broken to stop application. Thus, in the case of this embodiment, since it is not necessary to separate the applicator 10 from the substrate W, the operation time for the start of the next application is not required, and the application intermittent part d is further shortened. Is possible. Further, due to the suction of the suction means 40, no excess coating solution is discharged, and as shown in FIG. 10, it is possible to reduce the range of the film thickness defect portion 81 at the end of the first coating film C1. .

塗布開始工程について更に説明する。前記のとおり、一つの基板Ｗに対して、一旦、塗布を休止し、その後、塗布を再開する際（図７参照）、基板Ｗと吐出口１１との間に塗布液のビードＢを形成する必要がある。そこで、本実施形態の塗布開始工程では、供給流路６０に接続されているタンク４５の塗布液を加圧した状態で、第一開閉バルブ３１を開いている。
これは、塗布間欠部ｄをより一層短くするためである。すなわち、塗布開始の際、ポンプ３０から塗布液を送り出している状態で、かつ、タンク４５に溜められている塗布液を加圧した状態で、開閉バルブ３１が開動作することによって、塗布器１０へ塗布液の供給が開始されると、塗布器１０には、ポンプ３０による塗布液の定量的な供給の他に、タンク４５側からの塗布液の余剰的な供給が成される。このため、図７に示すように、塗布開始の際、塗布器１０を基板Ｗに高さ方向に接近させなくても、塗布液のビードＢの形成が適切かつ迅速に行われる。このように、塗布を開始するために、塗布器１０を基板Ｗに接近さなくて済むことから、この接近のための動作時間が不要となり、塗布間欠部ｄをより一層短くすることが可能となる。また、吐出口１１から塗布液の余剰吐出が行われることで、図１０に示すように、二番目の塗膜Ｃ２の始端のための塗布液不足を抑制することができ、膜厚不良部８２の範囲を小さくすることが可能となる。 The application start process will be further described. As described above, when application is temporarily stopped and then application is resumed on one substrate W (see FIG. 7), a bead B of the application liquid is formed between the substrate W and the discharge port 11. There is a need. Therefore, in the application start process of the present embodiment, the first opening / closing valve 31 is opened in a state where the application liquid in the tank 45 connected to the supply flow path 60 is pressurized.
This is to further shorten the application intermittent portion d. That is, at the start of application, the open / close valve 31 is opened while the application liquid is being delivered from the pump 30 and the application liquid stored in the tank 45 is pressurized. When the supply of the coating liquid is started, in addition to the quantitative supply of the coating liquid by the pump 30, the coating liquid is supplied excessively from the tank 45 side. For this reason, as shown in FIG. 7, when the application is started, the formation of the bead B of the application liquid is performed appropriately and quickly without bringing the applicator 10 close to the substrate W in the height direction. Thus, since it is not necessary to bring the applicator 10 close to the substrate W in order to start the application, the operation time for this approach is unnecessary, and the intermittent application portion d can be further shortened. Become. In addition, since the excessive discharge of the coating liquid is performed from the discharge port 11, as shown in FIG. 10, a shortage of the coating liquid for the starting end of the second coating film C <b> 2 can be suppressed, and the film thickness defect portion 82. It is possible to reduce the range of.

以上のように、本発明の塗布装置５は、基板Ｗに対して塗布液を間欠的に供給することで塗膜Ｃ１，Ｃ２を間欠的に形成することを可能とする装置であり、前記実施形態では、間欠塗布のために並列に配置する開閉バルブの数を二つとして説明したが、開閉バルブは複数であればよく、三つ以上であってもよい。
例えば三つとする場合、前記実施形態のとおり、一旦、塗布液の供給をやめて塗布を休止し、その後、塗布液の供給を再開して塗布を開始した後、直ぐに塗布液の供給をやめて塗布を休止する場合に好適である。つまり、二番目以降の塗膜の長さを短くする場合、並列に配置した三つの開閉バルブをそれぞれ所定のタイミングで開閉動作させればよい。 As described above, the coating apparatus 5 of the present invention is an apparatus that enables the coating films C1 and C2 to be intermittently formed by intermittently supplying the coating liquid to the substrate W. In the embodiment, the number of open / close valves arranged in parallel for intermittent application has been described as two, but the open / close valves may be plural, and may be three or more.
For example, in the case of three, as described in the above embodiment, once the supply of the coating liquid is stopped and the application is stopped, and then the supply of the coating liquid is restarted and the application is started. This is suitable for a pause. That is, when shortening the length of the second and subsequent coating films, it is only necessary to open and close the three open / close valves arranged in parallel at predetermined timings.

以上のとおり開示した実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではない。つまり、本発明の塗布装置５は、図示する形態に限らず本発明の範囲内において他の形態のものであってもよい。   The embodiments disclosed above are illustrative in all respects and not restrictive. That is, the coating device 5 of the present invention is not limited to the illustrated form, and may be in another form within the scope of the present invention.

前記実施形態では、被塗布部材が、枚葉状の基板Ｗである場合について説明したが、被塗布部材はこれ以外であってもよく、塗布を行う一方向（塗布方向）に長く当該一方向に直交する幅方向の寸法が一定である帯状の基板Ｗであってもよい。   In the above-described embodiment, the case where the member to be coated is the single-wafer substrate W has been described. However, the member to be coated may be other than this, and is long in one direction (coating direction) in which coating is performed. It may be a belt-like substrate W having a constant widthwise dimension.

５：塗布装置
１０：塗布器
１１：吐出口
２０：移動手段
３０：ポンプ
３１：第一開閉バルブ
３２：第二開閉バルブ
４０：吸引手段
４５：タンク
４６：圧力調整手段
５０：制御部
６０：供給流路
７０：供給手段
Ｗ：基板（被塗布部材） 5: coating device 10: applicator 11: discharge port 20: moving means 30: pump 31: first opening / closing valve 32: second opening / closing valve 40: suction means 45: tank 46: pressure adjusting means 50: control unit 60: supply Flow path 70: Supply means W: Substrate (member to be coated)

Claims (7)

被塗布部材の被塗布面に対して塗布液を吐出する吐出口を有する塗布器と、前記塗布器と前記被塗布部材とを相対的に移動させる移動手段と、前記塗布器に塗布液を供給する供給手段と、を備え、
前記供給手段は、前記塗布器に繋がる供給流路と、前記供給流路を通じて前記塗布器に塗布液を供給するポンプと、前記供給流路の前記ポンプと前記塗布器との間において並列に配置されている複数の開閉バルブと、を有している塗布装置。 An applicator having a discharge port for discharging a coating liquid to a surface to be coated of a member to be coated, a moving means for relatively moving the coating device and the member to be coated, and supplying the coating liquid to the coating device And a supply means for
The supply means is arranged in parallel between a supply channel connected to the applicator, a pump for supplying a coating liquid to the applicator through the supply channel, and the pump and the applicator in the supply channel. A plurality of on-off valves. 前記塗布器又は前記供給流路に接続されていると共に前記吐出口側に流れる塗布液を吸引する吸引手段を、更に備えている、請求項１に記載の塗布装置。   The coating apparatus according to claim 1, further comprising a suction unit that is connected to the applicator or the supply flow path and sucks a coating liquid that flows toward the discharge port. 前記塗布器又は前記供給流路に接続され塗布液を溜めるタンクと、当該タンクに溜められている塗布液を加圧可能とさせる圧力調整手段と、を更に備えている、請求項１又は２に記載の塗布装置。   The tank according to claim 1 or 2, further comprising a tank that is connected to the applicator or the supply channel and stores a coating liquid, and a pressure adjusting unit that enables pressurization of the coating liquid stored in the tank. The coating apparatus as described. 前記複数の開閉バルブの開閉動作を制御する制御部を、更に備え、
前記制御部は、前記複数の開閉バルブの内の、第一の開閉バルブが閉じた状態で第二の開閉バルブを開状態から閉じるための指令信号を出力すると共に、当該第二の開閉バルブが閉動作している途中、閉動作完了時、又は閉動作完了直後に、前記第一の開閉バルブを開くために指令信号を出力する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の塗布装置。 A controller for controlling the opening and closing operations of the plurality of opening and closing valves;
The control unit outputs a command signal for closing the second opening / closing valve from the open state when the first opening / closing valve is closed among the plurality of opening / closing valves, and the second opening / closing valve The coating apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein a command signal is output to open the first on-off valve during the closing operation, when the closing operation is completed, or immediately after the closing operation is completed. . ポンプから塗布器までの供給流路に複数の開閉バルブが並列に配置されている塗布装置によって、当該塗布器と被塗布部材とを相対移動させながら、当該被塗布部材に対して塗布液を間欠塗布する方法であって、
並列の配置にある複数の前記開閉バルブの内の一つを開とし、残りの開閉バルブを閉とした状態で、前記ポンプから前記塗布器へ塗布液を供給する定常塗布工程と、
前記定常塗布工程において開状態にあった前記開閉バルブを閉じることで塗布を一旦休止する塗布休止工程と、
前記定常塗布工程において閉状態であった前記開閉バルブの一つを開き、前記ポンプにより前記塗布器に塗布液を供給する塗布開始工程と、
を含む、塗布方法。 A coating device in which a plurality of open / close valves are arranged in parallel in a supply flow path from the pump to the applicator, intermittently applies the coating liquid to the coated member while relatively moving the applicator and the coated member. A method of applying,
A steady application step of supplying a coating liquid from the pump to the applicator with one of the plurality of on-off valves in a parallel arrangement opened and the remaining on-off valves closed,
An application suspension step of temporarily stopping application by closing the open / close valve that was open in the steady application step;
Opening one of the open / close valves that was closed in the steady application step, and applying the application liquid to the applicator by the pump; and
A coating method comprising: 前記塗布休止工程では、塗布を一旦休止するために、前記塗布器の吐出口側に流れる塗布液を吸引しながら前記開閉バルブを閉じる、請求項５に記載の塗布方法。   The coating method according to claim 5, wherein in the coating pause step, the open / close valve is closed while suctioning the coating liquid flowing to the discharge port side of the applicator in order to pause coating. 前記塗布開始工程では、前記供給流路に接続されかつ塗布液を溜めているタンクの当該塗布液を加圧した状態で、前記開閉バルブの一つを開く、請求項５又は６に記載の塗布方法。   The application according to claim 5 or 6, wherein, in the application start step, one of the on-off valves is opened in a state where the application liquid in a tank connected to the supply flow path and storing the application liquid is pressurized. Method.
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