JP2017515146A - リソグラフィ装置のためのサポートテーブル、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[0001] 本願は、2014年4月30日に出願した欧州特許出願第14166526.5号の優先権を主張し、その全体を本願に参考として組み込む。
放射ビームB(例えば、UV放射又はDUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
パターニングデバイス(例えば、マスク)MAを支持するように構築され、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに連結されたサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
基板(例えば、レジストコート基板)Wを保持するように構築され、かつ特定のパラメータに従ってテーブル、例えば、基板Wの表面を正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに連結された、サポートテーブル、例えば、1つ以上のセンサを支持するセンサテーブル又は基板テーブルWTと、
パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(例えば、屈折投影レンズシステム)PSとを備える。
汚染感度を高めてしまうため、基板WとサポートテーブルWTとの間の接触の量を増やすことが望ましくない。
Q82〜(H+H1)3
Q45〜(H+H1−H2)3
Claims (15)
- リソグラフィ装置のためのサポートテーブルであって、前記サポートテーブルは基板の下面を支持し、前記サポートテーブルは、
前記サポートテーブル上で支持された前記基板の前記下面と実質的に平行であるベース面と、
前記ベース面より上に突出する複数のバールであって、前記複数のバールの各々は、それぞれ遠位端及び前記ベース面からの第1高さを有し、前記複数のバールは、前記基板が前記サポートテーブルによって支持されているときに前記基板は前記複数のバールの各々の前記ぞれぞれの遠位端によって支持されるように配置される、複数のバールと、
前記ベース面より上に突出する複数の細長い***した突起物であって、各細長い***した突起物は、前記ベース面からの第2高さを有し、前記第2高さは前記第1高さより低い、複数の細長い***した突起物とを備え、
前記ベース面は複数の領域を含み、各領域内には、いくつかの前記細長い***した突起物が配置され、各領域内に配置された全ての前記細長い***した突起物は、互いに対して実質的に平行になるように実質的に同じ延長方向を有し、それによって前記細長い***した突起物と前記細長い***した突起物との間に前記細長い***した突起物と実質的に平行な少なくとも1つのガス流路を形成する、サポートテーブル。 - 平面図における前記サポートテーブルの面積の少なくとも約20%は、前記細長い***した突起物によって形成される、請求項1に記載のサポートテーブル。
- 各細長い***した突起物は、バールとバールとの間に位置決めされるようにジグザグ状又は蛇行形状を有するように配置される、請求項1又は2に記載のサポートテーブル。
- 前記細長い***した突起物は、実質的に直線である、請求項1又は2に記載のサポートテーブル。
- 前記各細長い***した突起物に対して、前記細長い***した突起物の延長軸と前記細長い***した突起物の中心を通る前記ベース面の半径との間に定められた角度は約25°以下であり、及び/又は前記各細長い***した突起物は、前記バールと前記バールとの間の平均ピッチの少なくとも10倍の長さを有する、請求項1〜4のいずれかに記載のサポートテーブル。
- 前記サポートテーブルは、その中に形成された複数の孔を含み、前記複数の孔は前記ベース面の中心から距離を置いて配置され、前記細長い***した突起物の外側セットは前記孔の半径方向外側の外側領域に位置決めされ、前記細長い***した突起物の内側セットは前記孔の半径方向内側の内側領域に位置決めされ、それによって前記ベース面の中心から距離を置いて方位角ガス流路を形成する、請求項1〜5のいずれかに記載のサポートテーブル。
- 前記少なくとも1つのガス流路は、前記ベース面の中心に対して実質的に放射状である、請求項1〜6のいずれかに記載のサポートテーブル。
- 前記少なくとも1つのガス流路のフロアは、前記少なくとも1つのガス流路が前記ベース面内に溝を形成するように前記ベース面より低い、請求項1〜7のいずれかに記載のサポートテーブル。
- 前記第2高さは前記第1高さの少なくとも90%である、請求項1〜8のいずれかに記載のサポートテーブル。
- 1つ以上のバールは、前記ベース面と垂直の平面において階段状プロファイルの断面を有し、前記階段状プロファイルは、前記第1高さ及び前記基板の前記下面を支持するようにそれぞれの遠位端を有する第1部と、前記第1部を囲いかつ前記少なくとも1つのガス流路のフロアから突出する第2部とを有し、前記第2部は、前記第1高さより低い前記ベース面からの第3高さを有する、請求項1〜9のいずれかに記載のサポートテーブル。
- 前記サポートテーブルに熱を供給し及び/又は前記サポートテーブルから熱を除去する調整システムをさらに備え、及び/又は前記細長い***した突起物は、前記サポートテーブルと前記基板との間の熱伝導率を上げる、請求項1〜10のいずれかに記載のサポートテーブル。
- 前記各細長い***した突起物は、動径成分及び接線成分を含む延長方向を有し、前記動径成分の大きさは、前記接線成分の大きさより大きい、請求項1〜11のいずれかに記載のサポートテーブル。
- 各領域内に配置された前記細長い***した突起物は、互いに10°以上ずれない延長方向を有する、請求項1〜12のいずれかに記載のサポートテーブル。
- 請求項1〜13のいずれかに記載のサポートテーブルを備える、リソグラフィ装置。
- パターニングデバイスから基板にパターンを転写するためにリソグラフィ装置を使用することを含むデバイス製造方法であって、前記リソグラフィ装置は、基板の下面を支持するサポートテーブルを含み、前記サポートテーブルは、
前記サポートテーブル上で支持された前記基板の前記下面と実質的に平行であるベース面と、
前記ベース面より上に突出する複数のバールであって、前記複数のバールの各々は、それぞれ遠位端及び前記ベース面からの第1高さを有し、前記複数のバールは、前記基板が前記サポートテーブルによって支持されているときに前記基板は前記複数のバールの各々の前記ぞれぞれの遠位端によって支持されるように配置される、複数のバールと、
前記ベース面より上に突出する複数の細長い***した突起物であって、各細長い***した突起物は、前記ベース面からの第2高さを有し、前記第2高さは前記第1高さより低い、複数の細長い***した突起物とを備え、
前記ベース面は複数の領域を含み、各領域内には、いくつかの前記細長い***した突起物が配置され、各領域内に配置された全ての前記細長い***した突起物は、互いに対して実質的に平行になるように実質的に同じ延長方向を有し、それによって前記細長い***した突起物と前記細長い***した突起物との間に前記細長い***した突起物と実質的に平行な少なくとも1つのガス流路を形成する、デバイス製造方法。
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