JP2017503652A

JP2017503652A - 過酸化水素の直接合成用の触媒

Info

Publication number: JP2017503652A
Application number: JP2016547186A
Authority: JP
Inventors: フレデリークデスメット，; ピエールミケール，; ポールデシュリーファー，; イーヴヴラッセラール，
Original assignee: ソルヴェイ（ソシエテアノニム）
Priority date: 2014-01-24
Filing date: 2015-01-20
Publication date: 2017-02-02
Also published as: KR20160113600A; WO2015110396A1; US20160332148A1; EP3096877A1; CN106413893A

Abstract

本発明は、白金族金属（１０族）を担体上に含む触媒であって、前記担体がシリカコアと、前記コア上の金属酸化物、硫酸塩またはリン酸塩の沈澱物層とを含み；前記担体が、少なくとも沈澱物の表面上に、Ｗ、Ｍｏ、ＴａおよびＮｂから選ばれる金属からの酸化物の分散系を有し、前記分散系中の金属が、沈澱物中の金属とは異なる触媒を提供する。本発明はまた、反応器中、本発明による触媒の存在下で水素と酸素とを反応させるステップを含む、過酸化水素の製造方法に関する。【選択図】なし

Description

本出願は、２０１４年１月２４日出願の欧州出願ＥＰ１４１５２４５４．６号に対する優先権を主張するものであり、この出願の全内容は、あらゆる目的のために参照により本明細書に援用される。

本発明は、過酸化水素の直接合成用の触媒に、および本発明による触媒の存在下で水素と酸素とを反応させるステップを含む、過酸化水素の製造方法に関する。

過酸化水素は、織物業または製紙業における漂白剤、化学工業における消毒剤および基礎製品として、ならびに過酸化物化合物生成反応（過ホウ酸ナトリウム、過炭酸ナトリウム、金属過酸化物または過カルボキシル酸）、酸化（アミンオキシドの製造）、エポキシ化およびヒドロキシル化（可塑剤および安定化剤の製造）において広く使用される非常に重要な商品である。

商業的には、過酸化水素を製造するための最も一般的な方法は「アントラキノン」法である。この方法では、水素と酸素とが、有機溶媒中のアルキル化アントラキノンの交互の酸化および還元によって反応して過酸化水素を形成する。この方法の重大な欠点は、費用がかかり、そしてプロセスから除去しなければならないかなりの量の副生成物を生成することである。

アントラキノン法の非常に魅力的な一代替法は、触媒担体としてのシリカなどの種々の酸化物上に担持された金属触媒の存在下で水素と酸素とを反応させることによる直接過酸化水素の製造である。

しかし、これらの方法では、担体としてのシリカをベースとする触媒が過酸化水素の直接合成のために使用される場合、反応生成物、すなわち、過酸化水素は、副生成物としての水の生成が、非常に多く、ある時間後には過酸化水素の生成よりも多いことさえあるので、効率的に製造されなかった。

これらの欠点を避けるために、他の担体をベースとする代替方法が開発されたが、それらは一般に、触媒が脆く、そしてかなりの摩滅を示すので、この触媒の非常に不十分な機械的挙動に悩まされる。そのような担体の例は、Ｚｒ、ＮｂおよびＴａ酸化物のような金属酸化物；ならびにＢａＳＯ４のようなアルカリ土類金属の硫酸塩およびリン酸塩である。

それ故、金属酸化物、硫酸塩およびリン酸塩が、パラジウムを一般に含む活性金属用の担体を形成するためにシリカ上に担持された（沈澱させられた）混合触媒が開発された：たとえば、すべて本出願人名義の国際公開第２０１３／０６８２４３号パンフレット（シリカ上のＺｒ酸化物）、国際公開第２０１３／０６８３４０号パンフレット（シリカ上のＮｂおよびＴａ酸化物）ならびに同時係属出願ＰＣＴ／ＥＰ２０１３／０７２０２０号明細書（シリカ上のアルカリ土類金属の硫酸塩およびリン酸塩）を参照されたい。

すべてのこれらの触媒は、高い選択性および良好な機械抵抗を有するが、しかし、おそらく、活性金属が同時に浸出し、そして触媒の表面で凝集体を作るので、それらの選択性は経時的に低下することが分かった。

米国特許第６，３４６，２２８号明細書は、触媒多孔性固体の表面上にＭＯ_ｎ（式中、Ｍは、Ｓ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｅ、Ｓｎ、Ｐまたはそれらの混合物から選択される元素である）を堆積させることからなる第１ステップを含む方法によって得ることができるＰｄ含有酸性触媒上に堆積させられた疎水性ポリマー膜を含む多成分触媒を記載している。一例では、６１％の選択性を３時間反応後に得ることができた。この文献は、長期選択性については無言である。

それ故、経時的に安定である高い選択性を有する、過酸化水素の直接合成用の触媒を提供することが本発明の目的である。

この目的は、担体の表面上に、金属酸化物、硫酸塩またはリン酸塩沈澱物に加えて、Ｗ、Ｍｏ、ＴａおよびＮｂから選ばれる、そして沈澱物中の金属とは異なる別の金属からの酸化物を置くという事実のため到達することができた。

それ故、本発明は、白金族金属（１０族）を担体上に含む触媒であって、前記担体が、シリカコアと、前記コア上の金属酸化物、硫酸塩またはリン酸塩を含む沈澱物層とを含み；前記担体が、少なくとも沈澱物の表面上に、Ｗ、Ｍｏ、ＴａおよびＮｂから選ばれる金属からの酸化物の分散系を有し、前記分散系中の金属が、沈澱物中の金属とは異なる触媒に関する。

表現「担体」は本明細書では、それに触媒金属が装着されている、材料、通常、高い表面積を持った固体を意味することを意図する。

本発明によれば、この担体は、シリカコアとその上の沈澱物層とを含む。そのような構造において、触媒金属は、実際には沈澱物層上に堆積させられており、シリカは、後者のための機械的支持体として働くにすぎない。シリカは、シリカゲルのように本質的に非晶質であり得るし、または、たとえば、ＭＣＭ−４１、ＭＣＭ−４８およびＳＢＡ−１５などのタイプのものなどの、メソ細孔の規則的構造からなり得る。良好な結果は、シリカゲルで得られた。

一般に、前記支持体は、少なくとも１００ｍ２／ｇの、好ましくは少なくとも２００ｍ２／ｇのＢＥＴ面積を有する。一般に、前記支持体は、５ｎｍ超、しかし５０ｎｍ未満の、好ましくは１０ｎｍの範囲の孔径を有する。それはまた一般に、０．１ｍｌ／分超、しかし５ｍｌ／分未満、好ましくは１ｍｌ／ｇの範囲の全細孔容積を有する。

本発明の特異的な実施形態においては、シリカの量は、担体の総重量を基準として、３０〜９９重量％、より好ましくは５０〜９８重量％、最も好ましくは７０〜９５重量％である。それ故に、この実施形態においては、沈澱物の量は一般に、担体の総重量を基準として、１〜７０重量％、より好ましくは２〜５０重量％、最も好ましくは５〜３０重量％である。実際には、担体の総重量を基準として、１〜１５重量％、より好ましくは２〜１０重量％、最も好ましくは３〜８重量％の沈澱物の量が、良好な結果を与える。

一般に、シリカコアは、５０μｍ〜５ｍｍ、好ましくは１００μｍ〜４ｍｍ、さらにより好ましくは、１５０μｍ〜３ｍｍの範囲の平均直径を有する粒子を含む。実際には、良好な結果は、数百μｍの範囲の平均粒径で得られる。この粒径は、液体中の懸濁状態での粒子に関するレーザー回折測定、より具体的には、入射光について７５０ｎｍの波長をベースとするレーザーＣｏｕｌｔｅｒＬＳ２３０装置を用いる測定に基づく。サイズ分布は、容積での％単位で計算される。

本発明によれば、シリカコアは、その上に金属酸化物、硫酸塩またはリン酸塩を含む（好ましくはそれらから実質的にできている）沈澱物を有する。金属酸化物は好ましくは、Ｚｒ、ＮｂおよびＴａ酸化物から選ばれる（その内容が本出願に参照により援用される、上述の出願国際公開第２０１３／０６８２４３号パンフレットおよび国際公開第２０１３／０６８３４０号パンフレットにおけるように）。金属硫酸塩またはリン酸塩は好ましくは、リン酸塩のアルカリ土類金属硫酸塩、より好ましくはＢａＳＯ４である（その内容が本出願に参照によりまた援用される、上述の出願ＰＣＴ／ＥＰ２０１３／０７２０２０号明細書におけるように）。

ＺｒＯ２を含む沈澱物層は、本発明において良好な結果を与える。

シリカコア上へのＺｒＯ２の沈澱は、当技術分野で公知の様々な技術によって成し遂げられ得る。そのような一方法は、シリカにジルコニウム酸化物の前駆体、たとえばＺｒＯＣｌ_２を含浸させ、任意選択的に引き続き乾燥させることを含む。ジルコニウム酸化物前駆体には、任意の好適な水酸化ジルコニウム、ジルコニウムアルコキシド、またはオキシハロゲン化ジルコニウム（ＺｒＯＣｌ_２などの）が含まれ得る。

好ましい実施形態においては、ジルコニウム酸化物の前駆体は、ジルコニウムのオキシハロゲン化物であり、好ましくはオキシ塩化ジルコニウムである。前駆体は、たとえば加水分解後に引き続く熱処理によって、ジルコニウム酸化物に変換され、ジルコニウム酸化物はシリカコア上へ沈澱して担体を生成する。

本発明の沈澱物は、シリカコア上に連続層または非連続であり得る。一般に、コアがそれからできているシリカ粒子の一部は、沈澱物によって覆われる。前記沈澱物は一般にまた、１０ｎｍの範囲の平均粒径を一般に有する、一般に実質的に球状の、粒子を含む。

本発明者らは意外にも、その表面上に沈澱物を既に有する担体の少なくとも表面上に、Ｗ、Ｍｏ、ＴａおよびＮｂから選ばれる金属の酸化物を分散させることによって、上の担体で得ることができる高い生産性および選択性を両方とも一定に維持できることを発見した。理論に制約されることなく、これは、高い原子番号を有する、これらの金属が、担体上に担持されているＰｄ原子のためのスペーサーとして働き、そうすることによって、反応中にＰｄ凝集体の上述の形成を防ぐためであるかもしれない。Ｗがその関連で良好な結果を与える。

もちろん、沈澱物上でスペーサーとして働くことができるためには、前記沈澱物中の金属は、分散系のものとは異なるべきである。また、担体中の後者の（すなわち、分散系の金属の）量（担体の総重量に対する純金属の重量で表される）は、低い、典型的には１０００ｐｐｍよりも下、好ましくは５００ｐｐｍよりも下、さらにより好ましくは２００ｐｐｍよりも下であるべきである。その量は好ましくは、１０ｐｐｍよりも上、より好ましくは２０ｐｐｍよりも上、さらにより好ましくは３０ｐｐｍよりも上である。１０〜２００ｐｐｍの間、好ましくは１５〜１５０の間、より好ましくは２０〜１００ｐｐの間の値が、実際には良好な結果を与える。

最後に、前記分散系が担体の表面上に少なくとも存在することが重要であり、それは、分散系がまた担体中の深みに存在しても、さらに、全体沈澱物に分散していてもよいことを排除しない。しかし、それは好ましくは実質的に、沈澱物の表面上にある。

「少なくとも表面での分散系」とは、実際に、Ｗ、Ｍｏ、ＴａまたはＮｂ酸化物粒子／凝集体が、その沈澱物層上で、担体の表面で存在することを意味する。これらの粒子／凝集体は一般に、ほんの少しの金属酸化物分子からなる。それらは一般に、オングストロームの範囲にある。加えて、分析後に、沈澱物層が連続的でない場合、実際には、前記沈澱物がＷ、Ｍｏ、ＴａまたはＮｂ酸化物で「ドープされて」いると見なされ得るように前記分子は沈澱物上に主として位置しているように思われた。

好ましくは、分散系（好ましくはＷの）は、担体上に金属前駆体（たとえば、アルコール溶液中の、Ｗエトキシド、またはＷ（ＶＩ）塩化物、Ｗ（ＶＩ）二塩化物二酸化物、Ｗ（ＶＩ）フッ化物、Ｗ（ＶＩ）オキシ塩化物、Ｗ（ＶＩ）オキシ臭化物のようなＷ塩のような）を沈澱させることによって得られる。分散系を得るための他の方法は、グラフト化、含浸に引き続く加水分解、含浸に引き続くか焼、乾式混合、共沈澱である。

本発明の触媒は、１０族（白金族）からの金属、好ましくはＰｔまたはＰｄ、より好ましくは唯一の触媒金属としてかまたはＰｔおよび／もしくはＡｕとの組み合わせで使用されてもよいＰｄを含む。

担体に担持される１０族の金属の量は、広範囲に変動することができるが、それぞれ担体の重量を基準として、好ましくは０．００１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％、最も好ましくは０．５〜３重量％に含まれる。担体への１０族の金属の添加は、担持金属触媒の公知の調製技術、たとえば含浸、吸着、イオン交換などのいずれかを用いて行うことができる。含浸については、金属に加えて使用される溶媒に可溶である含浸されるべきいかなる種類の無機もしくは有機塩または金属も使用することが可能である。好適な塩は、たとえば塩化物などのハロゲン化物、酢酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩などである。

白金族金属は、当技術分野で公知の様々な方法によって堆積させ得る。たとえば、金属は、担体を金属のハロゲン化物の溶液に浸漬し、引き続き還元することによって堆積させることができる。より特異的な実施形態においては、還元は還元剤、好ましくは高温でのガス状水素の存在下で実施される。

本発明による触媒は、ＢＥＴ法によって測定される大きい、一般に２０ｍ^２／ｇ超、好ましくは１００ｍ^２／ｇ超の比表面積を有する。

本発明の第２態様においては、本発明はまた、直接合成による過酸化水素の製造における本発明による触媒の使用を指向する。本発明の方法においては、水素と（精製酸素または空気としての）酸素とは、過酸化水素の液体溶液を生成するために反応器中で液体溶媒の存在下に触媒上で連続的に反応させられる。触媒は次に、三相系において過酸化水素の直接合成のために使用される：触媒（固体）が溶媒（アルコールまたは水）に入れられ、ガス（Ｈ_２、Ｏ_２および不活性ガス）が安定化添加剤（ハロゲン化物および／または無機酸）の存在下で懸濁液中にバブリングされる。これらの方法においては、Ｈ^＋およびＢｒ⁻イオンが一般に、過酸化水素の高い濃度を得るために反応媒体中に必要とされる。これらのイオンは、硫酸、リン酸、塩酸または硝酸などの、強酸と無機臭化物とから得られる。

他の実施形態においては、本発明の触媒はまた、アントラキノン法による過酸化水素の合成のためにも使用され得る。

本発明の第３態様においては、反応器中、本発明による触媒の存在下で水素と酸素とを反応させるステップを含む、過酸化水素の製造方法が提供される。本発明の方法は、たとえば、懸濁状態での触媒粒子を使った攪拌タンク反応器で、固定床反応器で、バスケット型攪拌タンク反応器でなど、従来法によって、連続的、半連続的または非連続的なモードで実施することができる。反応が所望の転化レベルに到達した時点で、触媒は、たとえば、懸濁状態での触媒が使用される場合には濾過によってなどの、種々の公知の方法によって分離することができ、それは、その後の再利用の可能性が与える。この場合に、使用される触媒の量は、溶媒に関して濃度０．０１〜１０重量％、好ましくは０．１〜５重量％である濃度を得るのに必要な量である。本発明によれば得られる過酸化水素の濃度は一般に、５重量％超、好ましくは７重量％超である。

本説明および特許請求の範囲の全体にわたって、単語「含む」およびその変形は、他の技術的特徴、添加剤、成分またはステップを排除することを意図しない。この分野の専門家のために、本発明の他の目的、利点および特徴は、ある程度は本説明からおよびある程度は本発明の実施形態から推測されるであろう。以下の実施例は、例示を目的として提供され、本発明の範囲を限定することを意図するものではない。

実施例１．触媒合成
Ａ．１リットルのビーカーに、４００ｃｃの脱塩水を入れ、ｐＨ約８．５に達するように２滴の２５重量％のＮＨ４ＯＨを加えた。シリカ（５０．４２ｇのＳｉｌｉｃａＹｏｎｇｊｉ−平均粒径１５３ミクロン）を導入し、機械的に攪拌した（約２５０ｒｐｍ）。懸濁液を５０℃で加熱した。温度が安定したとき、ｐＨを、８．３〜８．５に達するように調整した。

１４．７５ｇのＺｒＯＣｌ２を２６．８３ｇの脱塩水に室温で溶解させた。ＺｒＯＣｌ２の溶液を、シリングポンプで懸濁液にゆっくり入れた（溶液をすべて±３０分で入れた）。同時に、ｐＨを、２５重量％のＮＨ４ＯＨの数滴を加えることによって８．３〜８．５の間に維持した。

懸濁液を次に１時間５０℃で撹拌下に維持した。

それを次に、攪拌なしに２０分間室温で放置した。

懸濁液を濾過し、固体を５００ｃｃの脱塩水で洗浄した。

固体を９５℃で２４時間乾燥させ、３時間６００℃でか焼した。

この担体を担体Ａ−１と名付けた。

Ｂ．２４．８０ｇのこの担体Ａ−１を、窒素入口および機械撹拌機を備えた１Ｌのガラス反応器に入れた。

６００ｍｌの乾燥ヘキサンを、すべての触媒中のＷエトキシドの分散を助けるために、そしてエトキシドが、担体に均一に分散してしまう前にそれが加水分解することを回避するために固体に加えた。懸濁液を、窒素のわずかな流れ（ｍｌ／分の範囲の）下に、室温で２５０ｒｐｍで攪拌した。

０．１５ｇのＷエトキシド（Ｗ（ＯＣＨ２−ＣＨ３）３）、エタノール中５重量％を懸濁液に加えた。懸濁液を、３時間攪拌下にそのままにした。ヘキサンを減圧下で蒸発させた（ｒｏｔａｖａｐｏｒ）。

２５０ｍｌの脱塩水を固体に加えた。

６０ｍｌの０．５Ｍの硝酸を（シリンジポンプで）懸濁液にゆっくり加えた。懸濁液を室温で一晩熟成させた。

固体を減圧下で乾燥させ（ｒｏｔａｖａｐｏｒで）；それを脱塩水で洗浄し、一晩９５℃で乾燥させ、３時間６００℃でか焼した。

この担体を担体Ａ−２と名付けた。

Ｃ．１０．５ｇのこの担体Ａ−２に、水中のＰｄＣｌ２の溶液（数滴（５〜１０滴）のＨＣｌ−３７重量％の存在下で１１ｍｌの脱塩水に６０℃で溶解させた０．３１ｇのＰｄＣｌ２を含浸させた。固体を一晩９５℃で乾燥させ、５時間１５０℃で水素効果下に還元した。

この触媒を触媒Ａ−２と名付けた。

そのＰｄ含有量は１．５５重量％であるとＩＣＰ−ＯＥＳ（誘導結合プラズマ原子発光分光法）によって測定された。

そのＷ含有量は、担体上で約７６ｐｐｍの含有量に相当する、７５ｐｐｍであるとしてＩＣＰ−ＯＥＳによって測定された。

そのＺｒ含有量は、担体上で約３．７６重量％の含有量に相当する、３．７０重量％であるとしてＩＣＰ−ＯＥＳによって測定された。

実施例２．触媒合成
実施例１におけるものと同じレシピを用いた：
Ａ．水＝４００ｃｃ
ＳｉＯ２＝５２．０８ｇ
ＺｒＯＣｌ２＝１４．８０ｇ
水＝２６．９９ｇ
第１担体を担体Ｂ−１と名付けた。

Ｂ．担体Ｂ−１＝２５．３９ｇ
ヘキサン＝６００ｍｌ
ＥｔＯＨ溶液中のＷエトキシド＝０．０４ｇ
第２担体を担体Ｂ−２と名付けた。

Ｃ．担体Ｂ−２＝１０ｇ
ＰｄＣｌ２＝０．３０８０ｇ
水＝１４．７ｍｌ
この触媒を触媒Ｂ−２と名付けた。

ＩＣＰ−ＯＥＳによるそのＰｄ含有量は、１．１０重量％であった。

ＩＣＰ−ＯＥＳによるそのＷ含有量は、担体上で約３０．３ｐｐｍの含有量に相当する、３０ｐｐｍであった。

ＩＣＰ−ＯＥＳによるそのＺｒ含有量は、担体上で約３．６４重量％の含有量に相当する、３．６０重量％であった。

ＳＥＭ分析を触媒Ｂ−２に関して行った。球状粒子は、１２０〜１９０ミクロンの平均サイズを有する。粒子の表面は、粗く、堆積物で覆われている。この堆積物は、数十ナノメートルのより細かい粒子でできている。

ＥＤＸスペクトルおよび地図作成を、この試料に関して行った。堆積物域は、Ｚｒが豊富であり、（ジルコニアの周知の不純物である）ＷおよびＨｆがより少ない割合で豊富である。

これらの分析の条件は、下記であった：
触媒粒子を両面接着カーボンタブ上に固定し、電子電荷除去のために薄いカーボン層でコートした（カーボンコーターＳＰＩＳｕｐｐｌｉｅｓ）。分析は、ＩＮＣＡ３５０オックスフォード・インストゥルメンツ（ＯｘｆｏｒｄＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ）エネルギー分散型Ｘ線（ＥｎｅｒｇｙＤｉｓｐｅｒｓｉｖｅＸ−ｒａｙ）微量分析（ＥＤＸ）システムを備えた、ＺｅｉｓｓＳｕｐｒａ５５電界放射銃走査電子顕微鏡（ＦＥＧ−ＳＥＭ）で行った。

画像は、二次電子モード（「ＳＥ２」、主としてトポグラフィーによるコントラスト）で３ｋＶの加速電圧で、および後方散乱電子モード（「ＡｓＢ」、主として原子番号によるコントラスト）で２０ｋＶの加速電圧で記録した。

粒子のおよび特異的な粒子の収集物の広域Ｘ線微量分析ならびに、異なる倍率でのＣ、Ｏ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｐｄ、Ｃｌ、Ｃａ、ＨｆおよびＷ元素のＸ線マッピングは、２０ｋＶで行った。ＥＤＸスペクトルおよびＸ線マッピングに関連した画像は、後方散乱電子モード（「ＢＳＥ」、主として原子番号によるコントラスト）で記録した。

実施例３．触媒合成（反例）
担体Ａ−１をベースとする触媒を、初期湿潤法（インシピエントウェットネス法）によって調製した：０．６７４２ｇのＰｄＣｌ２を、数滴（５〜１０滴）のＨＣｌ、３７重量％の存在下で２０ｇの脱塩水に希釈した（５０℃での溶解）。この溶液を、２０ｇの担体Ａ−１と接触させた。得られた触媒を９５℃で一晩乾燥させた。

そのＰｄを、５時間１５０℃で水素の影響下で還元した。

そのＰｄ含有量は、ＩＣＰ−ＯＥＳによって測定され、１．８０重量％であった。

この触媒を触媒Ａ−１と名付けた。

実施例４．過酸化水素の直接合成
ＨＣ−２２／２５０ｃｃ反応器に、メタノール、臭化水素、オルト−リン酸（Ｈ３ＰＯ４）および触媒を、下の表に示される量で、導入した。

反応器を５℃に冷却し、作動圧力を（窒素の導入によって得られる）５０バールに設定した。

反応器を、ガスの混合物：水素（３．６％モル）／酸素（５５．０％モル）／窒素（４１．４％モル）で反応時間の間ずっとフラッシュした。全流量は、２７０８ｍｌＮ／分であった。

反応器から出てくる気相の組成が安定したとき（それは、オンラインＧＣ（ガスクロマトグラフィー）によってチェックした）、機械撹拌機を１２００ｒｐｍでスタートさせた。オンラインＧＣは、反応器から外に出てくる気相の組成を確認するために１０分毎に行った。

得られた結果を下の表１および２に示す。

参照により本明細書に援用される特許、特許出願、および刊行物のいずれかの開示が用語を不明瞭にさせ得る程度まで本出願の記載と矛盾する場合、本記載が優先するものとする。

Claims

白金族金属（１０族）を担体上に含む触媒であって、前記担体がシリカコアと、前記コア上の金属酸化物、硫酸塩またはリン酸塩の沈澱物層とを含み；前記担体が、少なくとも沈澱物の表面上に、Ｗ、Ｍｏ、ＴａおよびＮｂから選ばれる金属からの酸化物の分散系を有し、前記分散系中の金属が、沈澱物中の金属とは異なる触媒。
前記シリカコアが、数百μｍの範囲の平均粒径を有する粒子を含む、請求項１に記載の触媒。
前記沈澱物層がＺｒＯ２を含む、請求項１または２に記載の触媒。
前記シリカコアがシリカ粒子を含み、前記シリカ粒子の一部のみが、前記沈澱物で覆われている、請求項１〜３のいずれか一項に記載の触媒。
前記沈澱物が、一般に実質的に球状の、一般に１０ｎｍの範囲の平均粒径を有する、粒子を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の触媒。
前記沈澱物上に分散した前記金属酸化物がＷ酸化物である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の触媒。
前記沈澱物中の前記金属が、１０００ｐｐｍよりも下の、前記担体の総重量に対する純金属の重量で表される、量で存在する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の触媒。
前記沈澱物中の前記金属が、１０ｐｐｍよりも上の、前記担体の総重量に対する純金属の重量で表される、量で存在する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の触媒。
前記沈澱物中の前記金属が、４０〜９０ｐｐｍの、前記担体の総重量に対する純金属の重量で表される、量で存在する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の触媒。
Ｗ、Ｍｏ、ＴａまたはＮｂ酸化物の前記分散系が、ほんの数分子からなる粒子／凝集体を含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の触媒。
沈澱物層が連続的ではなく、沈澱物がＷ、Ｍｏ、ＴａまたはＮｂ酸化物でドープされるように前記分子が前記沈澱物上へ主に置かれている、請求項１０に記載の触媒。
前記白金族金属（１０族）が、ＰｔまたはＰｄ、より好ましくは、唯一の触媒金属としてかまたはＰｔおよび／もしくはＡｕと組み合わせて使用されてもよいＰｄを含む、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の触媒。
過酸化水素の製造における請求項１〜１２のいずれか一項に記載の触媒の使用。
過酸化水素の製造が直接合成による、請求項１３に記載の使用。
過酸化水素の前記製造が、反応器中、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の触媒の存在下で水素と酸素とを反応させるステップを含む、請求項１４に記載の使用。