JP2017201352A - 転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品 - Google Patents

Abstract

【課題】透明電極パターンを保護しつつ、透明電極パターンの骨見え現象防止と、画面の透過率低下防止とを両立できる硬化膜を簡便に形成可能な転写形感光性屈折率調整フィルムを提供する。【解決手段】支持フィルム１０と、感光性樹脂層２０と、高屈折率層３０と、保護フィルム４０と、を備え、高屈折率層３０の波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．４０〜１．９０の範囲内であり、高屈折率層３０は、感光性樹脂層２０側よりも感光性樹脂層２０とは反対側の方が波長６３３ｎｍにおける屈折率が高くなるように、厚さ方向に屈折率が変化しており、且つ、回転補償子型分光エリプソメトリーにより、波長２４６〜１６８７ｎｍにて、Ｇｒａｄｅｄ Ｌａｙｅｒ、又はＧｒａｄｅｄ ＬａｙｅｒとＲｏｕｇｈｎｅｓｓを考慮して解析した際に、平均二乗誤差が１０以下である屈折率傾斜層である、転写形感光性屈折率調整フィルム。【選択図】図１

Description

本発明は、転写形感光性屈折率調整フィルムに関する。より詳しくは透明電極の保護膜の機能と、透明電極パターンの骨見え現象防止機能の両機能を有する硬化膜を簡便に形成可能な転写形感光性屈折率調整フィルムに関する。本発明はまた、上記転写形感光性屈折率調整フィルムを用いた屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品に関する。

パソコン、テレビ等の大型電子機器、カーナビゲーション、携帯電話、電子辞書等の小型電子機器、ＯＡ・ＦＡ機器等の表示機器などには、液晶表示素子又はタッチパネル（タッチセンサー）が用いられている。これら液晶表示素子又はタッチパネルには、透明電極材料からなる電極が設けられている。透明電極材料としては、高い可視光透過率を示すことから、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）、酸化インジウム及び酸化スズが主流になっている。

タッチパネルは、すでに各種の方式が実用化されている。投影型静電容量方式のタッチパネルは、指先の多点検出が可能なため、複雑な指示を行うことができるという良好な操作性を備えている。そのため、投影型静電容量方式のタッチパネルは、携帯電話及び携帯型音楽プレーヤ等の、小型の表示装置を有する機器において、表示面上の入力装置として利用が進んでいる。

一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルでは、Ｘ軸とＹ軸による２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造を形成している。これらの電極の材料として、近年、Ａｇナノワイヤ、カーボンナノチューブ等に代表される導電性繊維の利用が検討されているが、ＩＴＯが未だに主流である。

ところで、タッチパネルの額縁領域は、タッチ位置を検出できない領域である。そのため、額縁領域の面積を狭くすることが製品価値を向上させるために重要である。額縁領域には、タッチ位置の検出信号を伝えるために金属配線が配置される必要があるが、額縁面積の狭小化を図るためには、金属配線の幅を狭くする必要がある。ＩＴＯの導電性は充分に高くないので、一般的に金属配線は銅により形成されている。

しかし、タッチパネルは、指先等に接触される際に水分、塩分等の腐食成分がセンシング領域から内部に侵入することがある。タッチパネルの内部に腐食成分が侵入すると、上記金属配線が腐食し、電極と駆動用回路との間の電気抵抗の増加又は断線の恐れがある。

金属配線の腐食を防ぐために金属上に絶縁層を形成した投影型静電容量方式のタッチパネルが知られている（例えば、下記特許文献１参照）。このようなタッチパネルでは、二酸化ケイ素層をプラズマ化学気相成長法（プラズマＣＶＤ法）で金属上に形成し、金属の腐食を防いでいる。しかしながら、このような手法では、プラズマＣＶＤ法を用いるため、高温処理が必要となり、基材が限定される、製造コストが高くなる等の問題がある。

タッチパネル等の表示装置における保護膜の作製方法として、プラズマＣＶＤ法に代えて、感光性樹脂組成物を用いる方法が知られている。例えば、必要な箇所に保護膜（例えばレジスト膜）を設ける方法として、感光性樹脂組成物を含む感光層を所定の基板上に設けて、この感光層を露光及び現像する方法が知られている（例えば、下記特許文献２参照）。感光性樹脂組成物による保護膜の作製は、プラズマＣＶＤ法に比べてコストの削減が期待できる。

ところで、上述したように投影型静電容量方式のタッチパネルは、透明電極材料を用いた複数のＸ電極と、該Ｘ電極に直交する透明電極材料を用いた複数のＹ電極とにより基材上に２層構造の透明電極パターンが形成された構造を有している。このような構造を有する投影型静電容量方式のタッチパネルでは、透明電極パターンが形成された部分と、形成されていない部分との光学的な反射特性の違いにより色差が大きくなり、モジュール化した際に透明電極パターンが画面上に映りこむ、いわゆる「骨見え現象」の問題がある。また、基材と透明電極との間、又はモジュール化する際に使用するカバーガラスと透明電極パターンとを接着する視認性向上フィルム（ＯＣＡ：Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅ）と透明電極パターンとの間で、反射光強度が増加し、画面の透過率を低下させるという問題もある。

これに対し、例えば下記特許文献３には、基材と透明電極パターンとの間にインデックスマッチング層（光学調整層）（以下、「ＩＭ層」という）を設けることで、透明電極パターンが形成された部分と形成されていない部分との色差を低減し、骨見え現象と、画面の透過率低下を防ぐ透明導電樹脂基板が開示されている。

また、例えば下記特許文献４には、透明電極パターンが視認されることを防ぐ手法として、特定の屈折率の範囲に調整された低屈折率の第一の硬化性透明樹脂層及び高屈折率の第二の硬化性透明樹脂層とを隣接して有する転写フィルムが開示されている。

特開２０１１−２８５９４号公報 国際公開第２０１３／０８４８７３号 特開平８−２４０８００号公報 国際公開第２０１４／０８４１１２号

しかしながら、特許文献３に記載された手法では、骨見え現象と、透過率低下の防止効果は充分ではなく、更なる改善の余地がある。また、上記手法では、ＩＭ層を構築するために、スパッタ又はスピンコーター等による塗布が必要であるが、この工程に加え、タッチパネルの額縁領域にある金属配線の腐食防止を別工程で行う必要が生じ、工程数が増えるという課題がある。

一方、特許文献４に記載された手法では、転写フィルムの透明性が充分ではないため、透過率低下の防止効果は充分ではなく、更なる改善の余地がある。

本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、透明電極パターンを保護しつつ、透明電極パターンの骨見え現象防止と、画面の透過率低下防止とを両立できる硬化膜を簡便に形成可能な転写形感光性屈折率調整フィルム、並びに、それを用いた屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために本発明者らは鋭意検討した結果、感光性樹脂層と特定の条件を満たす高屈折率層とを有する転写形感光性屈折率調整フィルムにより、透明電極パターン上にＩＭ層としての硬化膜を形成することで、透明電極パターンが形成された部分と形成されていない部分との色差を低減し、骨見え現象を防止できるとともに、画面の透過率低下を防止できることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層と、該高屈折率層上に設けられた保護フィルムと、を備え、上記高屈折率層の波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．４０〜１．９０の範囲内であり、上記高屈折率層は、上記感光性樹脂層側よりも上記感光性樹脂層とは反対側の方が波長６３３ｎｍにおける屈折率が高くなるように、厚さ方向に屈折率が変化しており、且つ、回転補償子型分光エリプソメトリーにより、波長２４６〜１６８７ｎｍにて、Ｇｒａｄｅｄ Ｌａｙｅｒ、又はＧｒａｄｅｄ ＬａｙｅｒとＲｏｕｇｈｎｅｓｓを考慮して解析した際に、平均二乗誤差が１０以下である屈折率傾斜層である、転写形感光性屈折率調整フィルムを提供する。

本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムによれば、上述した条件を満たす屈折率傾斜層である高屈折率層を感光性樹脂層上に備えることで、透明電極パターンを保護しつつ、透明電極パターンの骨見え現象防止と、画面の透過率低下防止とを両立できる硬化膜を簡便に形成することができる。この転写形感光性屈折率調整フィルムを用いて透明電極パターンを保護する硬化膜を形成することで、タッチパネルにおけるタッチ画面の視認性向上を図ることができる。また、タッチパネルの額縁領域にある金属配線の腐食も防止することができる。

上記転写形感光性屈折率調整フィルムにおいて、上記高屈折率層は金属酸化物を含有してもよい。ここで、上記金属酸化物は、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化インジウム、酸化アルミウム、酸化ケイ素及び酸化イットリウムからなる群より選択される少なくとも一種を含んでいてもよい。高屈折率層が上記金属酸化物を含有することにより、高屈折率層の波長６３３ｎｍにおける屈折率の制御が容易となる。

上記転写形感光性屈折率調整フィルムにおいて、上記高屈折率層の厚さは１０〜１０００ｎｍであってもよい。高屈折率層の厚さが上記範囲内であると、タッチパネルにおけるタッチ画面全体の反射光強度をより低減することが可能となる。

上記転写形感光性屈折率調整フィルムにおいて、上記感光性樹脂層は、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有してもよい。感光性樹脂層が上記成分を含有することにより、この感光性樹脂層の硬化物を含む屈折率調整パターンの形成が容易となる。

上記光重合開始剤は、オキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有してもよい。これらの光重合開始剤を用いると、厚さが１０μｍ以下の薄膜であっても充分な解像度で屈折率調整パターンを形成することができる。

また、上記バインダーポリマーは、カルボキシル基を有していてもよい。ここで、上記バインダーポリマーは、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル及び（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステルからなる群より選択される少なくとも一種の化合物に由来する構造単位を有するバインダーポリマーであってもよい。上記バインダーポリマーを用いると、感光性樹脂層のアルカリ現像性、パターニング性及び透明性を向上させることができる。

また、上記感光性樹脂層は、光重合性不飽和結合を含むリン酸エステルを更に含有してもよい。感光性樹脂層が光重合性不飽和結合を含むリン酸エステルを含有すると、透明電極パターンに対する密着性を向上でき、現像残りの発生を低減することができる。

上記転写形感光性屈折率調整フィルムにおいて、上記感光性樹脂層と上記高屈折率層との合計の厚さは３０μｍ以下であってもよい。この場合、上記感光性樹脂層及び上記高屈折率層の基材へのラミネート時の追従性を向上させることができる。

本発明はまた、基材上に、上記本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムの上記高屈折率層及び上記感光性樹脂層を、上記基材と上記高屈折率層とが密着するようにラミネートする工程と、上記基材上の上記高屈折率層及び上記感光性樹脂層の所定部分を露光後、上記所定部分以外を除去し、屈折率調整パターンを形成する工程と、を備える屈折率調整パターンの形成方法を提供する。

本発明は更に、上記本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムにおける上記高屈折率層の硬化物及び上記感光性樹脂層の硬化物からなる屈折率調整パターンを備える電子部品を提供する。

本発明によれば、透明電極パターンを保護しつつ、透明電極パターンの骨見え現象防止と、画面の透過率低下防止とを両立できる硬化膜を簡便に形成可能な転写形感光性屈折率調整フィルム、並びに、それを用いた屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品を提供することができる。

本発明の一実施形態に係る転写形感光性屈折率調整フィルムを示す模式断面図である。 本発明の一実施形態に係る転写形感光性屈折率調整フィルムを用いて形成した硬化膜を透明電極パターン付き基材上に備える積層体を示す模式断面図である。 本発明の一実施形態に係る電子部品を示す模式上面図である。

以下、場合により図面を参照しつつ、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味する。「（ポリ）オキシエチレン鎖」とは、オキシエチレン基又はポリオキシエチレン基を意味し、「（ポリ）オキシプロピレン鎖」とは、オキシプロピレン基又はポリオキシプロピレン基を意味する。「Ａ又はＢ」とは、ＡとＢのどちらか一方を含んでいればよく、両方とも含んでいてもよい。

また、本明細書において「層」との語は、平面図として観察したときに、全面に形成されている形状の構造に加え、一部に形成されている形状の構造も包含される。また、本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。また、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。

さらに、本明細書において組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。また、例示材料は特に断らない限り単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

また、本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、ある段階の数値範囲の上限値又は下限値は、他の段階の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。

本発明における屈折率傾斜層とは、回転補償子型分光エリプソメトリーＭ−２０００（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製、製品名）により、保護フィルム上に設けられた高屈折率層を高屈折率層上から測定し、波長２４６〜１６８７ｎｍにてＧｒａｄｅｄ Ｌａｙｅｒ、又は、Ｇｒａｄｅｄ ＬａｙｅｒとＲｏｕｇｈｎｅｓｓを考慮して解析した際に、少なくとも一方の解析において、光学モデルから計算された計算値のΔ（位相差）及びΨ（振幅比）と、実測値のΔ及びΨとの誤差である平均二乗誤差（ＭＳＥ：Ｍｅａｎ Ｓｑｕａｒｅｄ Ｅｒｒｏｒ）が１０以下である層とする。また、高屈折率層を、波長２４６〜１６８７ｎｍにてＧｒａｄｅｄ Ｌａｙｅｒ、又は、Ｇｒａｄｅｄ ＬａｙｅｒとＲｏｕｇｈｎｅｓｓを考慮して解析した際に、いずれの解析でもＭＳＥが１０を超える場合、考慮した光学モデルのフィッティングが悪く、屈折率傾斜層でないと判断することができる。

＜転写形感光性屈折率調整フィルム＞
本実施形態の転写形感光性屈折率調整フィルムは、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層と、該高屈折率層上に設けられた保護フィルムと、を備えるものである。

図１は、本発明の一実施形態に係る転写形感光性屈折率調整フィルムを示す模式断面図である。図１に示される転写形感光性屈折率調整フィルム１は、支持フィルム１０と、上記支持フィルム１０上に設けられた感光性樹脂層（以下、感光層ともいう）２０と、上記感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層３０と、上記高屈折率層３０上に設けられた保護フィルム４０とを備える。

上記転写形感光性屈折率調整フィルムを用いることで、例えばタッチパネルの額縁にある金属配線又はタッチパネルの透明電極の保護機能と、透明電極パターンの不可視化又はタッチ画面の視認性向上の両機能を満たす硬化膜を一括で形成することができる。

（支持フィルム）
支持フィルム１０としては、重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムの材質としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー等が挙げられる。

支持フィルム１０の厚さは、被覆性の確保と、支持フィルム１０を介して活性光線を照射する際の解像度の低下を抑制する観点から、５〜１００μｍであることが好ましく、１０〜７０μｍであることがより好ましく、１５〜４０μｍであることがさらに好ましく、１５〜３５μｍであることが特に好ましい。

（感光層）
感光層２０は、バインダーポリマー（以下、（Ａ）成分ともいう）と、光重合性化合物（以下、（Ｂ）成分ともいう）と、光重合開始剤（以下、（Ｃ）成分ともいう）とを含有する感光性樹脂組成物から形成されることが好ましい。

（Ａ）成分としては、アルカリ現像によりパターニングを可能とする観点から、カルボキシル基を有するポリマーを用いることが好ましい。

（Ａ）成分は、（メタ）アクリル酸、及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位を含有する共重合体が好適である。上記共重合体は、上記（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステルと共重合し得るその他のモノマーを構造単位に含有していてもよい。その他のモノマーとして具体的には、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン等が挙げられる。

上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエチルエステル等が挙げられる。

これらの中でも、アルカリ現像性（特に無機アルカリ水溶液に対する現像性）、パターニング性、透明性の観点から、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルマレイミド、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート及びヒドロキシブチル（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも一種の化合物に由来する構造単位を有するバインダーポリマーが好ましく、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル及び（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステルからなる群より選択される少なくとも一種の化合物に由来する構造単位を有するバインダーポリマーがより好ましい。また、バインダーポリマーは、上記構造単位として少なくともヒドロキシエチル（メタ）アクリレート又はヒドロキシブチル（メタ）アクリレートを含む共重合体のヒドロキシエチル（メタ）アクリレート又はヒドロキシブチル（メタ）アクリレートに、イソシアネートエチル（メタ）アクリレート又はグリシジル（メタ）アクリレートを付加反応させたものであってもよい。

（Ａ）成分の重量平均分子量は、解像度の観点から、１０，０００〜２００，０００であることが好ましく、１５，０００〜１５０，０００であることがより好ましく、３０，０００〜１５０，０００であることがさらに好ましく、３０，０００〜１００，０００であることが特に好ましく、４０，０００〜１００，０００であることが極めて好ましい。なお、重量平均分子量は、本明細書の実施例に記載したゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定することができる。

（Ａ）成分の酸価は、所望の形状を有する硬化膜（保護膜）をアルカリ現像で容易に形成する観点から、７５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上とすることが好ましい。また、硬化膜形状の制御容易性と硬化膜の防錆性との両立を図る観点から、（Ａ）成分の酸価は、７５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、７５〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、７５〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましい。なお、酸価は、本明細書の実施例に記載した方法で測定することができる。

（Ａ）成分の水酸基価は、硬化膜の防錆性をより向上させる観点から、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、４５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。なお、水酸基価は、本明細書の実施例に記載した方法で測定することができる。

（Ｂ）成分としては、エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を用いることができる。エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、一官能ビニルモノマー、二官能ビニルモノマー、又は少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーが挙げられる。

上記一官能ビニルモノマーとしては、例えば、上記（Ａ）成分の好適な例である共重合体の合成に用いられるモノマーとして例示したものが挙げられる。

上記二官能ビニルモノマーとしては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシフェニル）プロパン、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

上記少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーとしては、従来公知のものを特に制限無く用いることができる。金属配線又は透明電極の腐食防止及び現像性の観点から、上記多官能ビニルモノマーとしては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等のトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等のテトラメチロールメタン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等のペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等のジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；又はジグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；シアヌル酸由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を用いることが好ましい。

これらの中でも、上記多官能ビニルモノマーは、ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、又は、シアヌル酸由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含むことがさらに好ましい。

ここで、「〜由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物」について、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を例にとり説明する。ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレートとは、ジトリメチロールプロパンと、（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味し、当該エステル化物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記エステル化物は、一分子中におけるエステル結合数が最大数の４であることが好ましいが、エステル結合の数が１〜３の化合物が混合していてもよい。

分子内に少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有するモノマーと、一官能ビニルモノマー又は二官能ビニルモノマーを組み合わせて用いる場合、使用する割合に特に制限は無いが、光硬化性及び電極腐食を防止する観点から、分子内に少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有するモノマーの割合が、感光性樹脂組成物に含まれる光重合性化合物の合計量１００質量部のうち、３０質量部以上であることが好ましく、５０質量部以上であることがより好ましく、７５質量部以上であることがさらに好ましい。

（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が３５〜８５質量部であることが好ましく、４０〜８０質量部であることがより好ましく、５０〜７０質量部であることがさらに好ましく、５５〜６５質量部であることが特に好ましい。特に、パターン形成性及び硬化膜の透明性を維持する点では、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が、３５質量部以上であることが好ましく、４０質量部以上であることがより好ましく、５０質量部以上であることがさらに好ましく、５５質量部以上であることが特に好ましい。

（Ｃ）成分としては、従来公知の光重合開始剤を特に制限無く用いることができるが、透明性の高い光重合開始剤を用いることが好ましい。基材上に、厚さが１０μｍ以下の薄膜であっても充分な解像度で樹脂硬化膜パターンを形成する点では、（Ｃ）成分はオキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含むことが好ましい。ホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等が挙げられる。

オキシムエステル化合物は、下記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物、又は下記一般式（３）で表される化合物であることが好ましい。

式（１）中、Ｒ^１１及びＲ^１２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基を示し、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数４〜６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数４〜６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基であることがより好ましく、メチル基、シクロペンチル基、フェニル基又はトリル基であることがさらに好ましい。Ｒ^１３は、−Ｈ、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−Ｏ（ＣＨ_２）ＯＨ、−Ｏ（ＣＨ_２）_２ＯＨ、−ＣＯＯ（ＣＨ_２）ＯＨ又は−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_２ＯＨを示し、−Ｈ、−Ｏ（ＣＨ_２）ＯＨ、−Ｏ（ＣＨ_２）_２ＯＨ、−ＣＯＯ（ＣＨ_２）ＯＨ、又は−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_２ＯＨであることが好ましく、−Ｈ、−Ｏ（ＣＨ_２）_２ＯＨ、又は−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_２ＯＨであることがより好ましい。

式（２）中、２つのＲ^１４は、それぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基を示し、プロピル基であることが好ましい。Ｒ^１５は、ＮＯ_２又はＡｒＣＯ（ここで、Ａｒはアリール基を示す。）を示し、Ａｒとしては、トリル基が好ましい。Ｒ^１６及びＲ^１７は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基、又はトリル基を示し、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましい。

式（３）中、Ｒ^１８は、炭素数１〜６のアルキル基を示し、エチル基であることが好ましい。Ｒ^１９はアセタール結合を有する有機基であり、後述する式（３−１）に示す化合物が有するＲ^１９に対応する置換基であることが好ましい。Ｒ^２０及びＲ^２１は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示し、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。Ｒ^２２は、水素原子又はアルキル基を示す。

上記一般式（１）で表される化合物としては、例えば、下記式（１−１）で表される化合物及び下記式（１−２）で表される化合物が挙げられる。下記式（１−１）で表される化合物は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１（ＢＡＳＦ株式会社製、製品名）として入手可能である。

上記一般式（２）で表される化合物としては、例えば、下記式（２−１）で表される化合物が挙げられる。下記式（２−１）で表される化合物は、ＤＦＩ−０９１（ダイトーケミックス株式会社製、製品名）として入手可能である。

上記一般式（３）で表される化合物としては、例えば、下記式（３−１）で表される化合物が挙げられる。下記式（３−１）で表される化合物は、アデカオプトマーＮ−１９１９（株式会社ＡＤＥＫＡ製、製品名）として入手可能である。

その他のオキシムエステル化合物としては、下記式（４）で表される化合物、下記式（５）で表される化合物を用いることができる。

上記の中でも、上記式（１−１）で表される化合物が極めて好ましい。なお、上記式（１−１）で表される化合物が硬化膜に含まれているかどうかは、硬化膜の熱分解ガスクロマトグラフ質量分析を行ったときに、ヘプタノニトリル及び安息香酸が検出されるかどうかを指標にして判断することができる。硬化膜が高温の加熱工程を受けていない場合は、ヘプタノニトリル及び安息香酸が検出されることで硬化膜に上記式（１−１）で表される化合物が含まれていたことがわかる。硬化膜の熱分解ガスクロマトグラフ質量分析における安息香酸の検出ピーク面積は、ヘプタノニトリルの検出ピーク面積に対して、１〜１０％の範囲で検出される。

硬化膜の熱分解ガスクロマトグラフ質量分析は、測定サンプルを１４０℃で加熱して発生したガスについてガスクロマトグラフ質量分析を行うことが好ましい。上記の測定サンプルの加熱時間は、１〜６０分の範囲であればよいが、３０分であることが好ましい。熱分解ガスクロマトグラフ質量分析の測定条件の一例を以下に示す。

（熱分解ガスクロマトグラフ質量分析の測定条件）
測定装置：ＧＣ／ＭＳ ＱＰ−２０１０（株式会社島津製作所製、製品名）
カラム：ＨＰ−５ＭＳ（アジレント・テクノロジー株式会社製、製品名）
Ｏｖｅｎ Ｔｅｍｐ：４０℃で５分間加熱後、１５℃／ｍｉｎの割合で３００℃まで昇温
キャリアーガス：ヘリウム、１．０ｍＬ／ｍｉｎ
インターフェイス温度：２８０℃
イオンソース温度：２５０℃
サンプル注入量：０．１ｍＬ

（Ｃ）成分の含有量は、光感度及び解像度に優れる点では、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．１〜１０質量部であることが好ましく、１〜５質量部であることがより好ましく、１〜３質量部であることがさらに好ましく、１〜２質量部であることが特に好ましい。

本実施形態に係る感光性樹脂組成物は、硬化膜の防錆性をより向上させる観点から、メルカプト基を有するトリアゾール化合物、メルカプト基を有するテトラゾール化合物、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物、アミノ基を有するトリアゾール化合物及びアミノ基を有するテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも一種の化合物（以下、（Ｄ）成分ともいう）をさらに含有することが好ましい。メルカプト基を有するトリアゾール化合物としては、例えば、３−メルカプト−トリアゾール（和光純薬株式会社製、製品名：３ＭＴ）が挙げられる。また、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物としては、例えば、２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール（和光純薬株式会社製、製品名：ＡＴＴ）が挙げられる。

上記アミノ基を有するトリアゾール化合物としては、ベンゾトリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−アセトニトリル、ベンゾトリアゾール−５−カルボン酸、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−メタノール、カルボキシベンゾトリアゾール等にアミノ基が置換した化合物、３−メルカプトトリアゾール、５−メルカプトトリアゾール等のメルカプト基を含むトリアゾール化合物にアミノ基が置換した化合物などが挙げられる。

上記アミノ基を有するテトラゾール化合物としては、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−アミノ−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、１−カルボキシメチル−５−アミノ−テトラゾール等が挙げられる。これらのテトラゾール化合物は、その水溶性塩であってもよい。具体例としては、１−メチル−５−アミノ−テトラゾールのナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属塩などが挙げられる。

感光性樹脂組成物が（Ｄ）成分を含有する場合、その含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．０５〜５．０質量部が好ましく、０．１〜２．０質量部がより好ましく、０．２〜１．０質量部がさらに好ましく、０．３〜０．８質量部が特に好ましい。

本実施形態に係る感光性樹脂組成物は、ＩＴＯ電極に対する密着性と、現像残りの発生を防ぐ観点から、光重合性不飽和結合を含むリン酸エステル（以下、（Ｅ）成分ともいう）を含有することが好ましい。なお、本明細書において、光重合性不飽和結合を含むリン酸エステルは、（Ｂ）成分ではなく（Ｅ）成分として扱うこととする。

（Ｅ）成分である光重合性不飽和結合を含むリン酸エステルとしては、形成する硬化膜の防錆性を充分確保しつつ、ＩＴＯ電極に対する密着性と現像性とを高水準で両立する観点から、ユニケミカル株式会社製のＰｈｏｓｍｅｒシリーズ（Ｐｈｏｓｍｅｒ−Ｍ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＣＬ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＰＥ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＭＨ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＰＰ等）、又は日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＭＥＲシリーズ（ＰＭ−２１、ＰＭ−２等）が好ましい。

（高屈折率層）
高屈折率層３０は、６３３ｎｍにおける屈折率が１．４０〜１．９０の範囲内である。高屈折率層の６３３ｎｍにおける屈折率が１．４０〜１．９０であることにより、図２に示す積層体とした場合、ＩＴＯ等の透明電極パターン５０ａと、感光層２０の上に使用される各種部材（例えば、モジュール化する際に使用するカバーガラスと透明電極パターンとを接着するＯＣＡ）との屈折率の中間値となり、ＩＴＯ等の透明電極パターンが形成されている部分と形成されていない部分との光学的な反射特性の違いによる色差を小さくすることが可能となり、骨見え現象を防止できる。また、画面全体の反射光強度を低減することが可能となり、画面上の透過率低下を防止することが可能となる。なお、屈折率は、本明細書の実施例に記載した方法で測定することができる。

ＩＴＯ等の透明電極の屈折率は、骨見え現象防止の観点から、１．８０〜２．１０であることが好ましく、１．８５〜２．０５であることがより好ましく、１．９０〜２．００であることがさらに好ましい。また、ＯＣＡ等の部材の屈折率は、骨見え現象防止の観点から、１．４５〜１．５５であることが好ましく、１．４７〜１．５３であることがより好ましく、１．４８〜１．５１であることがさらに好ましい。

また、高屈折率層３０は、感光層２０側よりも感光層２０とは反対側の方が波長６３３ｎｍにおける屈折率が高くなるように、厚さ方向に屈折率が変化した層であって、上述した通り、回転補償子型分光エリプソメトリーにより、波長２４６〜１６８７ｎｍにて、Ｇｒａｄｅｄ Ｌａｙｅｒ、又はＧｒａｄｅｄ ＬａｙｅｒとＲｏｕｇｈｎｅｓｓを考慮して解析した際に、平均二乗誤差（ＭＳＥ）が１０以下である屈折率傾斜層である。高屈折率層３０が上記条件を満たす屈折率傾斜層であることで、ＩＴＯ等の透明電極パターンが形成されている部分と形成されていない部分との光学的な反射特性の違いによる色差を小さくすることが可能となり、骨見え現象を防止できる。上記ＭＳＥの値は、高屈折率層３０が屈折率傾斜層であることの信頼性がより高く、骨見え現象をより充分に防止できることから、９以下であることが好ましく、８．５以下であることがより好ましい。

高屈折率層３０において、感光層２０側の波長６３３ｎｍにおける屈折率と、感光層２０とは反対側の波長６３３ｎｍにおける屈折率との差は、０．０５以上であることが好ましく、０．１０以上０．３０以下であることがより好ましい。高屈折率層３０がこのような屈折率の傾斜を有することで、骨見え現象をより充分に防止できる。

高屈折率層３０を構成する高屈折率組成物は、感光層２０を構成する感光性樹脂組成物で使用されるものと同様の（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を含有することができる。更に、高屈折率組成物は、感光層２０を構成する感光性樹脂組成物で使用されるものと同様の（Ｃ）成分、（Ｄ）成分、（Ｅ）成分を含有していてもよい。

高屈折率層３０を構成する高屈折率組成物は、屈折率の観点から、金属酸化物（以下、（Ｆ）成分ともいう）を含有することが好ましい。金属酸化物は微粒子であってもよい。

金属酸化物としては、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化インジウム、酸化アルミウム、酸化ケイ素、酸化イットリウム、ガラス等が挙げられる。これらの金属酸化物として具体的には、例えば、ナノユースＯＺ−Ｓ３０Ｋ、ＯＺ−Ｓ４０ＫＡＣ、ＯＺ−Ｓ３０Ｍ（以上、日産化学工業株式会社製、製品名）、ＮＡＮＯＮ５ＺＲ−０１０、ＮＡＮＯＮＺＲ−０２０（以上、株式会社ソーラー製、製品名）、ＳＺＲ−Ｋ、ＳＺＲ−Ｍ（以上、堺化学工業株式会社、製品名）等が挙げられる。

高屈折率組成物における（Ｆ）成分の含有量は、高屈折率層３０の波長６３３ｎｍにおける屈折率を１．４０〜１．９０の範囲に調整するため、以下の範囲が好ましい。高屈折率組成物が酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化インジウム、酸化アルミウム、酸化ケイ素、酸化イットリウム、ガラス等の金属酸化物を含有する場合、その含有量は、高屈折率組成物の固形分全量を基準（１００質量％）として、１０〜９５質量％であることが好ましく、２０〜９３質量％であることがより好ましく、３０〜９０質量％であることが更に好ましい。

上記高屈折率層３０の膜厚は、１０〜１０００ｎｍであることが好ましく、１０〜５００ｎｍであることがより好ましく、２０〜３００ｎｍであることが更に好ましく、３０〜２５０ｎｍであることが特に好ましく、４０〜２００ｎｍであることが極めて好ましく、４５〜１５０ｎｍであることが最も好ましい。膜厚が、１０〜１０００ｎｍであることにより、上述の画面全体の反射光強度をより低減することが可能となる。

（保護フィルム）
保護フィルム４０としては、重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。保護フィルム４０は、異なる材質からなる重合体フィルムを積層した積層フィルムであってもよく、例えば、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体フィルムとポリエチレンフィルムとを積層した積層フィルム等であってもよい。

保護フィルム４０の厚さは、５〜１００μｍが好ましいが、転写形感光性屈折率調整フィルム１をロール状に巻いて保管する観点から、７０μｍ以下であることが好ましく、６０μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以下であることがさらに好ましく、４０μｍ以下であることが特に好ましい。

転写形感光性屈折率調整フィルム１における感光層２０及び高屈折率層３０を硬化させた硬化膜部分（支持フィルム１０及び保護フィルム４０を除く）の、波長４００〜７００ｎｍの可視光領域における全光線透過率（Ｔｔ）の最小値は、９０．００％以上であることが好ましく、９０．５０％以上であることがより好ましく、９０．７０％以上であることがさらに好ましい。一般的な可視光波長域である４００〜７００ｎｍにおける全光線透過率が９０．００％以上であれば、タッチパネル（タッチセンサー）のセンシング領域の透明電極を保護する場合において、センシング領域での画像表示品質、色合い、輝度が低下することを充分抑制することができる。なお、可視光領域における全光線透過率（Ｔｔ）は、本明細書の実施例に記載した方法で測定することができる。

転写形感光性屈折率調整フィルム１の感光層２０、高屈折率層３０は、例えば、感光性樹脂組成物を含有する塗布液、及び高屈折率組成物を含有する塗布液を調製し、これを各々支持フィルム１０、保護フィルム４０上に塗布、乾燥することで形成できる。そして、転写形感光性屈折率調整フィルム１は、感光層２０が形成された支持フィルム１０と、高屈折率層３０が形成された保護フィルム４０とを、感光層２０と高屈折率層３０とが対向した状態で貼り合わせることにより形成できる。また、転写形感光性屈折率調整フィルム１は、支持フィルム１０上に感光性樹脂組成物を含有する塗布液を塗布、乾燥し、その後、感光層２０上に、高屈折率組成物を含有する塗布液を塗布、乾燥し、保護フィルム４０を貼り付けることにより形成することもできる。

塗布液は、上述した本実施形態に係る感光性樹脂組成物、高屈折率組成物を構成する各成分を溶剤に均一に溶解又は分散することにより得ることができる。

塗布液として用いる溶剤は、特に制限は無く、公知のものが使用できる。具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、クロロホルム、塩化メチレン等が挙げられる。

塗布方法としては、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。

乾燥条件に特に制限は無いが、乾燥温度は、６０〜１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、０．５〜３０分とすることが好ましい。

感光性樹脂層２０と高屈折率層３０の合計（以下、感光性屈折率調整層ともいう）の厚さは、基材へのラミネート時の追従性向上の観点から、３０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以下であることがさらに好ましい。さらに、防錆性の観点から、基材の突起物によるピンホールが発生する可能性を加味すると、１μｍ以上であることが好ましく、２μｍ以上であることが好ましく、３μｍ以上であることがさらに好ましい。厚さが３μｍ以上であれば、基材の突起物による影響を極力抑えて防錆性を保つことが可能となる。

感光性屈折率調整層の粘度は、転写形感光性屈折率調整フィルム１をロール状に保管した場合に、転写形感光性屈折率調整フィルム１の端面から樹脂組成物がしみ出すことを防止する観点及び転写形感光性屈折率調整フィルム１を切断する際に樹脂組成物の破片が基材に付着することを防止する観点から、３０℃において、１５〜１００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２０〜９０ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、２５〜８０ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましい。

図２は、本発明の一実施形態に係る転写形感光性屈折率調整フィルムを用いて形成した硬化膜を透明電極パターン付き基材上に備える積層体を示す模式断面図である。図２に示される積層体１００は、透明電極パターン５０ａを有する透明電極パターン付き基材５０と、透明電極パターン付き基材５０の透明電極パターン５０ａ上に設けられた硬化膜６０とを備える。硬化膜６０は、硬化した感光性樹脂層２２及び硬化した高屈折率層３２からなる硬化膜であり、本実施形態の転写形感光性屈折率調整フィルム１を用いて形成されている。硬化膜６０は、透明電極パターン５０ａの保護機能と、透明電極パターン５０ａの不可視化又はタッチ画面の視認性向上の両機能を満たす。以下、透明電極パターン付き基材上に硬化膜が形成された積層体の製造方法の一実施形態について説明する。

まず、転写形感光性屈折率調整フィルム１の保護フィルム４０を除去した後、高屈折率層３０、感光層２０及び支持フィルム１０を、透明電極パターン付き基材５０表面に高屈折率層３０側から圧着することによりラミネート（転写）する。圧着手段としては、圧着ロールが挙げられる。圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱手段を備えたものであってもよい。

加熱圧着する場合の加熱温度は、高屈折率層３０と透明電極パターン付き基材５０との密着性の観点、及び、感光層２０又は高屈折率層３０の構成成分が熱硬化又は熱分解されにくいようにする観点から、１０〜１６０℃とすることが好ましく、２０〜１５０℃とすることがより好ましく、３０〜１５０℃とすることがさらに好ましい。

また、加熱圧着時の圧着圧力は、高屈折率層３０と透明電極パターン付き基材５０との密着性を充分確保しながら、透明電極パターン付き基材５０の変形を抑制する観点から、線圧で５０〜１×１０^５Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０^２〜５×１０^４Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１０^２〜４×１０^４Ｎ／ｍとすることがさらに好ましい。

転写形感光性屈折率調整フィルム１を上記のように加熱圧着すれば、透明電極パターン付き基材５０の予熱処理は必ずしも必要ではないが、高屈折率層３０と透明電極パターン付き基材５０との密着性をさらに向上させる点から、透明電極パターン付き基材５０を予熱処理してもよい。このときの処理温度は、３０〜１５０℃とすることが好ましい。

透明電極パターン付き基材５０を構成する基材としては、例えばタッチパネル（タッチセンサー）に用いられる、ガラス板、プラスチック板、セラミック板等の基材が挙げられる。この基材上には、硬化膜を形成する対象となる電極が設けられる。電極としては、ＩＴＯ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｏ等の電極が挙げられる。また、基材上には、基材と電極との間に絶縁層が設けられていてもよい。

次に、転写後の感光性屈折率調整層の所定部分に、フォトマスクを介して、活性光線をパターン状に照射する。活性光線を照射する際、感光性屈折率調整層上の支持フィルム１０が透明の場合には、そのまま活性光線を照射することができ、不透明の場合には除去してから活性光線を照射する。活性光線の光源としては、公知の活性光源を用いることができる。

活性光線の照射量は、１×１０^２〜１×１０^４Ｊ／ｍ^２であり、照射の際に、加熱を伴うこともできる。この活性光線の照射量が、１×１０^２Ｊ／ｍ^２以上であれば、感光性屈折率調整層の光硬化を充分に進行させることが可能となり、１×１０^４Ｊ／ｍ^２以下であれば感光性屈折率調整層が変色することを抑制できる傾向がある。

続いて、活性光線照射後の感光層及び高屈折率層の未露光部を現像液で除去して、透明電極の一部又は全部を被覆する硬化膜（屈折率調整パターン）６０を形成する。なお、活性光線の照射後、感光性屈折率調整層に支持フィルム１０が積層されている場合にはそれを除去した後、現像工程が行われる。

現像工程は、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレー、シャワー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッビング等の公知の方法により行うことができる。中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液を用いて、スプレー現像することが好ましい。なお、現像温度及び時間は従来公知の範囲で調整することができる。

本実施形態に係る電子部品は、転写形感光性屈折率調整フィルムを用いて形成した屈折率調整パターンを備えている。電子部品としては、タッチパネル、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッサンス、太陽電池モジュール、プリント配線板、電子ペーパ等が挙げられる。

図３は、本発明の一実施形態に係る電子部品を示す模式上面図である。図３には、電子部品として、静電容量式のタッチパネルの一例を示す。図３に示されるタッチパネルは、透明基材１０１の片面にタッチ位置座標を検出するためのタッチ画面１０２があり、この領域の静電容量変化を検出するための透明電極１０３及び透明電極１０４が透明基材１０１上に設けられている。

透明電極１０３及び透明電極１０４はそれぞれタッチ位置のＸ位置座標及びＹ位置座標を検出する。

透明基材１０１上には、透明電極１０３及び透明電極１０４からタッチ位置の検出信号を外部回路に伝えるための引き出し配線１０５が設けられている。また、引き出し配線１０５と、透明電極１０３及び透明電極１０４とは、透明電極１０３及び透明電極１０４上に設けられた接続電極１０６により接続されている。また、引き出し配線１０５の透明電極１０３及び透明電極１０４との接続部と反対側の端部には、外部回路との接続端子１０７が設けられている。

図３に示すように、本実施形態に係るタッチパネルにおいては、本実施形態の転写形感光性屈折率調整フィルムを用いて、透明電極パターンが形成された部分と、形成されていない部分にまたがって屈折率調整パターン１２３が形成されている。屈折率調整パターン１２３は、硬化した感光層及び硬化した高屈折率層からなる硬化膜である。この屈折率調整パターン１２３によれば、透明電極１０３、透明電極１０４、引き出し配線１０５、接続電極１０６及び接続端子１０７を保護する機能と、透明電極パターンから形成されるセンシング領域（タッチ画面）１０２の骨見え現象防止機能とを同時に奏することができる。

以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

［バインダーポリマー溶液（Ａ１）の作製］
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１に示す材料（１）を仕込んだ後、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温した。反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示す材料（２）を４時間かけて均一に滴下した。材料（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量が６５，０００、酸価が７８ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価が２ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ１）を得た。

［バインダーポリマー溶液（Ａ２）の準備］
バインダーポリマー溶液（Ａ２）として、メタクリル酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／ジシクロペンタニルメタクリレート／メタクリル酸 ２−ヒドロキシエチル共重合体（質量比１５／１３．５／３２／３９．５）の２−イソシアネートエチルメタクリレート１．５ｍｍｏｌ／ｇ付加物（重量平均分子量２５，０００）の３５質量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／乳酸メチル溶液を用意した。

なお、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ＧＰＣの測定条件を以下に示す。
＜ＧＰＣ測定条件＞
ポンプ：日立 Ｌ−６０００型（株式会社日立製作所製、製品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４３０、Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４４０（以上、日立化成株式会社製、製品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：日立 Ｌ−３３００型ＲＩ（株式会社日立製作所製、製品名）

［酸価の測定方法］
酸価は、次のようにして測定した。まず、バインダーポリマーの溶液を１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、上記固形分のポリマー１ｇを精秤した後、このポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解した。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定を行った。そして、次式により酸価を算出した。
酸価＝０．１×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
式中、ＶｆはＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定したポリマー溶液の質量（ｇ）を示し、Ｉは測定したポリマー溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。

［水酸基価の測定方法］
水酸基価は、次のようにして測定した。まず、バインダーポリマーの溶液を１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、上記固形分のポリマー１ｇを精秤した後、ポリマーを三角フラスコに入れ、１０質量％の無水酢酸ピリジン溶液を１０ｍＬ加えてこれを均一に溶解し、１００℃で１時間加熱した。加熱後、水１０ｍＬとピリジン１０ｍＬを加えて１００℃で１０分間加熱後、自動滴定機（平沼産業株式会社製、製品名：ＣＯＭ−１７００）を用いて、０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムのエタノール溶液により中和滴定を行った。そして、次式により水酸基価を算出した。
水酸基価＝（Ａ−Ｂ）×ｆ×２８．０５／試料（ｇ）＋酸価
式中、Ａは空試験に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、Ｂは滴定に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、ｆはファクターを示す。

（実施例１〜５及び比較例１〜２）
［感光層形成用塗布液の作製］
表２に示す成分を、同表に示す配合量（単位：質量部）で配合し、攪拌機を用いて１５分間混合して感光層形成用塗布液を作製した。表２中、（Ａ）成分の配合量は固形分の配合量を示す。

表２中の成分の記号は以下の意味を示す。
（Ａ）成分
（Ａ１）：上述したバインダーポリマー溶液（Ａ１）
（Ａ２）：上述したバインダーポリマー溶液（Ａ２）

（Ｂ）成分
Ｔ−１４２０（Ｔ）：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（日本化薬株式会社製、製品名）
Ａ−ＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（新中村化学株式会社、製品名）
ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製、製品名）

（Ｃ）成分
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１：１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）フェニル−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ株式会社製、製品名）

（Ｄ）成分
ＨＡＴ：５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール（東洋紡績株式会社製、製品名）

（Ｅ）成分
ＰＭ−２１：光重合性不飽和結合を含むリン酸エステル（日本化薬株式会社製、製品名）

（その他の成分）
Ａｎｔａｇｅ Ｗ−５００：２，２’−メチレン−ビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（川口化学株式会社製、製品名）
Ｌ−７００１：オクタメチルシクロテトラシロキサン（東レ・ダウコーニング株式会社製、製品名）
メチルエチルケトン（東燃化学株式会社製）

［高屈折率層形成用塗布液の作製］
表３に示す成分を、同表に示す配合量（単位：質量部）で配合し、攪拌機を用いて１５分間混合して高屈折率層形成用塗布液を作製した。表３中、（Ａ）成分の配合量は固形分の配合量を示す。

表３中の成分の記号は以下の意味を示す。
（Ａ）成分
（Ａ３）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／メタクリル酸ブチル＝２４／４３．５／１５．２／１７．３（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量３０，０００、酸価１５７ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価２ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｔｇ６５℃
（Ａ４）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル／メタクリル酸ブチル／スチレン）＝３０／２２／１０／８／３０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量５０，０００、酸価１９６ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価２ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｔｇ９６℃
（Ａ５）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／メタクリル酸ブチル＝２４／４３．５／１５．２／１７．３（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量１５，０００、酸価１５７ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価２ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｔｇ６５℃

（Ｂ）成分
Ｔ−１４２０（Ｔ）：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（日本化薬株式会社製、製品名）
ＢＰＥ−１３００Ｎ：エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート（新中村化学株式会社、製品名）
ＢＰＥ−５００：エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート（新中村化学株式会社、製品名）

（Ｃ）成分
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１：１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）フェニル−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ株式会社製、製品名）

（Ｄ）成分
ＨＡＴ：５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール（東洋紡績株式会社製、製品名）

（Ｅ）成分
ＰＭ−２１：光重合性不飽和結合を含むリン酸エステル（日本化薬株式会社製、製品名）

（Ｆ）成分
ＯＺ−Ｓ３０Ｋ：ジルコニア分散液（日産化学工業株式会社製、製品名：ナノユースＯＺ−Ｓ３０Ｋ）

（その他の成分）
Ｌ−７００１：オクタメチルシクロテトラシロキサン（東レ・ダウコーニング株式会社製、製品名）

［転写形感光性屈折率調整フィルムの作製］
保護フィルムとして厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子エフテックス株式会社製、製品名：Ｅ−２０１Ｆ）を使用し、上記で作製した高屈折率層形成用塗布液を保護フィルム上にダイコーターを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風滞留式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、高屈折率層を形成した。なお、比較例１では高屈折率層を形成せず、保護フィルムをそのまま用いた。

支持フィルムとして厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ株式会社製、製品名：ＦＢ４０）を使用し、上記で作製した感光層形成用塗布液を支持フィルム上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ５μｍの感光層を形成した。

次いで、得られた高屈折率層を有する保護フィルムと、感光層を有する支持フィルムとを、ラミネータ（日立化成株式会社製、製品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、２３℃で貼り合わせて、保護フィルム、高屈折率層、感光層及び支持フィルム（比較例１は保護フィルム、感光層及び支持フィルム）がこの順で積層された転写形感光性屈折率調整フィルムを作製した。

［高屈折率層の屈折率及び膜厚の測定］
上記で作製した高屈折率層を有する保護フィルムにおける高屈折率層について、回転補償子型分光エリプソメトリーＭ−２０００（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製、製品名）により、高屈折率層上から測定し、波長２４６〜１６８７ｎｍにてＧｒａｄｅｄ Ｌａｙｅｒ、又は、Ｇｒａｄｅｄ ＬａｙｅｒとＲｏｕｇｈｎｅｓｓを考慮して解析し、平均二乗誤差（ＭＳＥ）、高屈折率層の感光層側及び保護フィルム側（ＯＰＰ側）での波長６３３ｎｍにおける屈折率、及び膜厚を測定した。結果を表４に示す。

なお、表４中の解析の欄では、考慮した光学モデルを「○」で示している。すなわち、実施例１、４〜５及び比較例２はＧｒａｄｅｄ Ｌａｙｅｒの光学モデルを考慮し、実施例２〜３はＧｒａｄｅｄ ＬａｙｅｒとＲｏｕｇｈｎｅｓｓの光学モデルを考慮して解析を行っており、その際のＭＳＥを表４に示している。このＭＳＥの値が１０以下である場合、光学モデルが正しく、高屈折率層が屈折率傾斜層に該当することを意味する。一方、ＭＳＥの値が１０を超える場合、光学モデルが誤りであり、高屈折率層は屈折率傾斜層に該当しないことを意味する。表４中の屈折率傾斜層の欄に、高屈折率層が屈折率傾斜層に該当する場合は「○」を、該当しない場合又は高屈折率層を設けていない場合は「−」を示した。また、比較例２の高屈折率層については、Ｇｒａｄｅｄ ＬａｙｅｒとＲｏｕｇｈｎｅｓｓの光学モデルを考慮した解析も行ったが、その場合のＭＳＥの値も１０を超えていた。

［硬化膜の透過率］
上記で作製した転写形感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムをはがしながら、厚さ０．７ｍｍのガラス基材上に、高屈折率層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０^５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基材を用いたため、このときの線圧は９．８×１０^３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基材上に、高屈折率層、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。

次いで、得られた積層体の感光層及び高屈折率層に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、製品名：ＥＸＭ１２０１）を使用して、支持フィルム側上方より露光量５×１０^２Ｊ／ｍ^２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で、紫外線を照射した。その後、積層体から支持フィルムを除去し、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番：ＮＶ５０−ＣＡ）内に３０分間静置し、硬化した感光層及び硬化した高屈折率層からなる硬化膜をガラス基材上に備える透過率測定用試料を得た。

次いで、得られた透過率測定用試料について、ヘーズメーター（日本電色工業株式会社製、製品名：ＮＤＨ ７０００）を使用して、測定波長域４００〜７００ｎｍの可視光領域における全光線透過率（Ｔｔ）を測定した。結果を表４に示す。

［硬化膜の塩水噴霧試験（人工汗液耐性評価試験）］
上記で作製した転写形感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムをはがしながら、スパッタ銅付きポリイミドフィルム（東レフィルム加工株式会社製）上に、高屈折率層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０^５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基材を用いたため、この時の線圧は９．８×１０^３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、スパッタ銅上に、高屈折率層、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。

次いで、得られた積層体の感光層及び高屈折率層に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、製品名：ＥＸＭ１２０１）を使用して、支持フィルム側上方より露光量５×１０^２Ｊ／ｍ^２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で、紫外線を照射した。その後、積層体から支持フィルムを除去し、さらに感光層側上方より露光量１×１０^４Ｊ／ｍ^２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で紫外線を照射し、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番：ＮＶ５０−ＣＡ）内に３０分間静置した。これにより、硬化した感光層及び硬化した高屈折率層からなる硬化膜をスパッタ銅上に備える人工汗液耐性評価用試料を得た。

次いで、ＪＩＳ規格（ＪＩＳ Ｚ２３７１）を参考に、塩水噴霧試験機（スガ試験機株式会社製、製品名：ＳＴＰ−９０Ｖ２）を用いて、試験槽内に前述の試料を載置し、試料の硬化膜側に、濃度５０ｇ／Ｌの塩水（ｐＨ＝６．７）を試験槽温度３５℃、噴霧量１．５ｍＬ／ｈで４８時間噴霧した。噴霧終了後、塩水を拭き取って、評価用試料の表面状態を観察し、以下の評点に従って評価した。表４に評価結果を示す。
Ａ：硬化膜表面及び銅に全く変化なし。
Ｂ：硬化膜表面にごくわずかな痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｃ：硬化膜表面に痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｄ：硬化膜表面に痕跡があり、かつ銅の変色が見られた。

［色相（反射率Ｒ）の測定］
得られた転写形感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムをはがしながら、透明導電性フィルム（東洋紡株式会社製、製品名：３００Ｒ）上に、高屈折率層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０^５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基材を用いたため、このときの線圧は９．８×１０^３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、透明導電性フィルム上に、高屈折率層、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。

次いで、得られた積層体の感光層及び高屈折率層に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、製品名：ＥＸＭ１２０１）を使用して、支持フィルム側上方より露光量５×１０^２Ｊ／ｍ^２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で、紫外線を照射した。その後、積層体から支持フィルムを除去し、硬化した感光層及び硬化した高屈折率層からなる硬化膜を透明導電性フィルム上に備える色相（反射率Ｒ）測定用試料を得た。

次いで、得られた色相（反射率Ｒ）測定用試料について、分光測色計（コニカミノルタ株式会社製、製品名：ＣＭ−５）を使用して、硬化膜側に光源が来るようにして、光源設定Ｄ６５、視野角２°、測定径３０ｍｍφ、ＳＣＩ（正反射光込み）方式でＸＹＺ表色系でのＹ値（これを反射率Ｒとする）を測定し、下記式を用いて規格化を実施した。結果を表４に示す。
反射率Ｒ規格化＝反射率実測値／感光層のみ積層した測定試料（比較例１）の反射率実測値×１００

表４に示すように、実施例の転写形感光性屈折率調整フィルムは、反射率Ｒ規格化の値が約３０％以下となり、反射率を充分に低減しているとともに、透過率が充分に高く、透明電極パターンの骨見え現象防止と、画面の透過率低下防止とを両立できることが確認された。また、実施例の転写形感光性屈折率調整フィルムは、塩水噴霧試験に対する耐性も充分であった。一方、比較例１の転写形感光性屈折率調整フィルムは高屈折率層を有しておらず、比較例２の転写形感光性屈折率調整フィルムは高屈折率層が屈折率傾斜層ではなく、いずれの場合も実施例と比較して反射率の低減が不充分であった。

１…転写形感光性屈折率調整フィルム、１０…支持フィルム、２０…感光性樹脂層、２２…硬化した感光性樹脂層、３０…高屈折率層、３２…硬化した高屈折率層、４０…保護フィルム、５０…透明電極パターン付き基材、５０ａ…透明電極パターン、６０…硬化膜、１００…積層体、１０１…透明基材、１０２…センシング領域、１０３，１０４…透明電極、１０５…引き出し配線、１０６…接続電極、１０７…接続端子、１２３…屈折率調整パターン（硬化膜）。

Claims (12)

1. 支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層と、該高屈折率層上に設けられた保護フィルムと、を備え、
   前記高屈折率層の波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．４０〜１．９０の範囲内であり、
   前記高屈折率層は、前記感光性樹脂層側よりも前記感光性樹脂層とは反対側の方が波長６３３ｎｍにおける屈折率が高くなるように、厚さ方向に屈折率が変化しており、且つ、回転補償子型分光エリプソメトリーにより、波長２４６〜１６８７ｎｍにて、Ｇｒａｄｅｄ Ｌａｙｅｒ、又はＧｒａｄｅｄ ＬａｙｅｒとＲｏｕｇｈｎｅｓｓを考慮して解析した際に、平均二乗誤差が１０以下である屈折率傾斜層である、転写形感光性屈折率調整フィルム。
2. 前記高屈折率層が金属酸化物を含有する、請求項１に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
3. 前記金属酸化物が、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化インジウム、酸化アルミウム、酸化ケイ素及び酸化イットリウムからなる群より選択される少なくとも一種を含む、請求項２に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
4. 前記高屈折率層の厚さが１０〜１０００ｎｍである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
5. 前記感光性樹脂層が、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
6. 前記光重合開始剤が、オキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有する、請求項５に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
7. 前記バインダーポリマーがカルボキシル基を有する、請求項５又は６に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
8. 前記バインダーポリマーが、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル及び（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステルからなる群より選択される少なくとも一種の化合物に由来する構造単位を有するバインダーポリマーである、請求項５〜７のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
9. 前記感光性樹脂層が、光重合性不飽和結合を含むリン酸エステルを更に含有する、請求項５〜８のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
10. 前記感光性樹脂層と前記高屈折率層との合計の厚さが３０μｍ以下である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
11. 基材上に、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムの前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層を、前記基材と前記高屈折率層とが密着するようにラミネートする工程と、
    前記基材上の前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層の所定部分を露光後、前記所定部分以外を除去し、屈折率調整パターンを形成する工程と、
    を備える屈折率調整パターンの形成方法。
12. 請求項１〜１０のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムにおける前記高屈折率層の硬化物及び前記感光性樹脂層の硬化物からなる屈折率調整パターンを備える電子部品。
    

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