JP2017199032A - 配向フィルムおよびその製造方法、ならびに位相差フィルムおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、基材フィルムの表面に直接、押圧することにより、基材フィルムの表面に、原盤の凹凸に対応するパターンを転写する。これにより、基材フィルムの内部に、面内方向の成形歪みを残留させずに、凹凸を形成する。
【選択図】図11
Description
(A1)ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、基材フィルムの表面に直接、押圧することにより、基材フィルムの表面に、原盤の凹凸に対応する第1パターンが転写された配向フィルムを形成する第1ステップ
(A2)前記配向フィルムの表面に直接、液晶性モノマーを含む溶液を配置して、液晶性モノマーを配向させたのち、配向した後の液晶性モノマーを重合させる第2ステップ
1.実施の形態
1.1 表示装置の構成
1.2 偏光眼鏡の構成
1.3 製造方法
1.4 基本動作
1.5 効果
2.変形例
[1.1 表示装置1の構成]
図1は、本技術による一実施の形態に係る表示装置1を、後述する偏光眼鏡2とともに斜視的に表したものである。図2は、図1の表示装置1の断面構成の一例を表したものである。表示装置1は、偏光眼鏡2を眼球の前に装着した観察者(図示せず)に対して立体映像を表示する偏光眼鏡方式の表示装置である。この表示装置1は、バックライトユニット10、液晶表示パネル20および位相差フィルム30をこの順に積層して構成されたものである。この表示装置1において、位相差フィルム30の表面が映像表示面1Aとなっており、観察者側に向けられている。
バックライトユニット10は、液晶表示パネル20を背後から照明するものであり、例えば、反射板、光源および光学シート(いずれも図示せず)を有している。反射板は、光源からの射出光を光学シート側に戻すものであり、反射、散乱、拡散などの機能を有している。光源は、例えば、複数の線状光源が等間隔で並列配置されたり、複数の点状光源が2次元配列されたりしたものである。なお、線状光源としては、例えば、熱陰極管(HCFL;Hot Cathode Fluorescent Lamp)、冷陰極管(CCFL;Cold Cathode Fluorescent Lamp)などが挙げられる。点状光源としては、例えば、発光ダイオード(LED;Light Emitting Diode)などが挙げられる。光学シートは、光源からの光の面内輝度分布を均一化したり、光源からの光の発散角や偏光状態を所望の範囲内に調整したりするものであり、例えば、拡散板、拡散シート、プリズムシート、反射型偏光素子、位相差板などを含んで構成されている。なお、光源は、エッジライト方式のものでもよく、その場合には、必要に応じて導光板や導光フィルムが用いられる。
液晶表示パネル20は、複数の画素が2次元配列された透過型の表示パネルであり、映像信号に応じて各画素を駆動することによって画像を表示するものである。液晶表示パネル20は、例えば、図2に示したように、バックライトユニット10側から順に、偏光子21A、透明基板22、画素電極23、配向膜24、液晶層25、配向膜26、共通電極27、カラーフィルタ28、透明基板29および偏光子21Bを有している。
次に、位相差フィルム30について説明する。図3は、位相差フィルム30の構成の一例を斜視的に表したものである。位相差フィルム30は、液晶表示パネル20の偏光子21Bを透過した光の偏光状態を変化させるものである。位相差フィルム30は、液晶表示パネル20の光射出側の表面(偏光子21B)に粘着剤(図示せず)などによって貼り付けられている。位相差フィルム30は、例えば、図2、図3に示したように、映像表示面1A側から順に、配向フィルム31および位相差層32を有している。なお、図示しないが、配向フィルム31および位相差層32は、液晶表示パネル20側からこの順に配置されていてもよい。
Dp:押し込み力を解除したときに基材フィルム31Dに残存する塑性変形量
Dmax:ダイヤモンド格子を1mNの力で基材フィルム31Dの表面に押し込んだときの最大押し込み変形量
次に、図1、図10を参照しつつ、偏光眼鏡2について説明する。偏光眼鏡2は、観察者(図示せず)の眼球の前に装着されるものであり、表示装置1の映像表示面1Aに映し出される映像を観察する際に観察者によって用いられるものである。この偏光眼鏡2は、例えば、円偏光眼鏡であり、例えば、図1に示したように、右目用光学素子41、左目用光学素子42、およびフレーム43を有している。
次に、位相差フィルム30の製造方法の一例について説明する。なお、以下では、まず、位相差フィルム30の基材に相当する配向フィルム31の製造方法の一例について説明する。その後、配向フィルム31を用いて位相差フィルム30を製造する方法の一例について説明する。
図11は、配向フィルム31の製造方法の一例を表したものである。図11に示した製造装置100は、互いに対向する型ロール110およびニップロール120を備えている。製造装置100は、さらに、基材フィルム31Dを巻き出すロール130と、製造後の配向フィルム31を巻き取るロール140とを備えている。
図12は、位相差フィルム30の製造方法の一例を表したものである。図12に示した製造装置200は、液晶を滴下する吐出機210と、滴下した液晶を加熱し、配向させるヒータ220と、配向した液晶を硬化させる紫外線照射機230とを備えている。製造装置200は、さらに、配向フィルム31を巻き出すロール240と、製造後の位相差フィルム30を巻き取るロール250とを備えている。
次に、本実施の形態の表示装置1において画像を表示する際の基本動作の一例について、図13(A),(B)〜図16(A),(B)等を参照しつつ説明する。
次に、本実施の形態の表示装置1の効果について説明する。
上記実施の形態では、位相差フィルム30の位相差領域(右目用位相差領域32A,左目用位相差領域32B)が水平方向に延在している場合が例示されていたが、それ以外の方向に延在していてもかまわない。例えば、図示しないが、位相差フィルム30の位相差領域(右目用位相差領域32A,左目用位相差領域32B)が垂直方向に延在していていてもよい。ただし、その場合には、上記実施の形態の説明において、「垂直方向」を「水平方向」に読み替え、「水平方向」を「垂直方向」に読み替えることが必要である。
(1)
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧し、それにより、前記基材フィルムの表面に、前記原盤の凹凸に対応するパターンを転写する
配向フィルムの製造方法。
(2)
前記基材フィルムは、単層または積層の樹脂フィルムである
(1)に記載の配向フィルムの製造方法。
(3)
前記基材フィルムは、面角が136度のダイヤモンド格子を、当該基材フィルムの表層の塑性変形領域に達する程度の力で当該基材フィルムの表面に押し込んだ後、押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量が以下の式を満たす材料からなる
(1)または(2)に記載の配向フィルムの製造方法。
Dp≧0.25×Dmax
Dp:押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量
Dmax:前記ダイヤモンド格子を1mNの力で前記基材フィルムの表面に押し込んだときの最大押し込み変形量
(4)
前記原盤の凹凸は、第1方向に延在した第1凹凸を含む複数の第1領域と、前記第1方向と交差する第2方向に延在した第2凹凸を含む複数の第2領域とを有し、
前記第1領域および前記第2領域は、それぞれ帯状となっており、かつ交互に配置されている
(1)ないし(3)のいずれか1つに記載の配向フィルムの製造方法。
(5)
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧することにより、前記基材フィルムの表面に、前記原盤の凹凸に対応するパターンを転写する第1ステップと、
前記パターンを有する基材フィルムの表面に直接、液晶性モノマーを含む溶液を配置して、液晶性モノマーを配向させたのち、配向した後の液晶性モノマーを重合させる第2ステップと
を含む位相差フィルムの製造方法。
(6)
前記基材フィルムは、単層または積層の樹脂フィルムである
(5)に記載の位相差フィルムの製造方法。
(7)
前記基材フィルムは、面角が136度のダイヤモンド格子を、当該基材フィルムの表層の塑性変形領域に達する程度の力で当該基材フィルムの表面に押し込んだ後、押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量が以下の式を満たす材料からなる
(5)または(6)に記載の位相差フィルムの製造方法。
Dp≧0.25×Dmax
Dp:押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量
Dmax:前記ダイヤモンド格子を1mNの力で前記基材フィルムの表面に押し込んだときの最大押し込み変形量
(8)
前記原盤の凹凸は、第1方向に延在した第1凹凸を含む複数の第1領域と、前記第1方向と交差する第2方向に延在した第2凹凸を含む複数の第2領域とを有し、
前記第1領域および前記第2領域は、それぞれ帯状となっており、かつ交互に配置されている
(5)ないし(7)のいずれか1つに記載の位相差フィルムの製造方法。
(9)
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を基材フィルムの表面に有し、
前記凹凸は、当該凹凸に対応するパターンを表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧することにより形成されたものである
配向フィルム。
(10)
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する基材フィルムと、
前記基材フィルムの表面に直接、接するとともに、前記基材フィルムの凹凸に応じた遅相軸を有する位相差層と
を備え、
前記凹凸は、当該凹凸に対応するパターンを表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧することにより形成されたものである
位相差フィルム。
Claims (5)
- ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧し、それにより、前記基材フィルムの表面に、前記原盤の凹凸に対応するパターンを転写する
配向フィルムの製造方法。 - 前記基材フィルムは、単層または積層の樹脂フィルムである
請求項1に記載の配向フィルムの製造方法。 - 前記基材フィルムは、面角が136度のダイヤモンド格子を、当該基材フィルムの表層の塑性変形領域に達する程度の力で当該基材フィルムの表面に押し込んだ後、押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量が以下の式を満たす材料からなる
請求項2に記載の配向フィルムの製造方法。
Dp≧0.25×Dmax
Dp:押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量
Dmax:前記ダイヤモンド格子を1mNの力で前記基材フィルムの表面に押し込んだときの最大押し込み変形量 - 前記原盤の凹凸は、第1方向に延在した第1凹凸を含む複数の第1領域と、前記第1方向と交差する第2方向に延在した第2凹凸を含む複数の第2領域とを有し、
前記第1領域および前記第2領域は、それぞれ帯状となっており、かつ交互に配置されている
請求項2に記載の配向フィルムの製造方法。 - ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧することにより、前記基材フィルムの表面に、前記原盤の凹凸に対応するパターンを転写する第1ステップと、
前記パターンを有する基材フィルムの表面に直接、液晶性モノマーを含む溶液を配置して、液晶性モノマーを配向させたのち、配向した後の液晶性モノマーを重合させる第2ステップと
を含む位相差フィルムの製造方法。
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US20100073604A1 (en) * | 2008-09-22 | 2010-03-25 | Sony Corporation | Retardation film, method of manufacturing the same, and display |
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