JP2017198941A - エレクトロクロミック素子およびそれを有する光学系、撮像装置、レンズ装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は本実施例のエレクトロクロミック素子(以下、EC素子と称する)10を示す概略図である。
次に、実施例2のEC素子について説明する。本実施例のEC素子は、図1に示す実施例1のEC素子10と同様の形状となっている。
次に、実施例3のEC素子30について説明する。EC素子30は、前述した実施例1や実施例2のEC素子と異なり、EC素子30上の位置に応じて第1の電極層の厚さが変化している。
次に、実施例4としての光学系について述べる。
2 第2の電極層
3 エレクトロクロミック層
10 エレクトロクロミック素子
Claims (12)
- 第1の電極層と、第2の電極層と、前記第1の電極層と前記第2の電極層の間に設けられたエレクトロクロミック層を有し、前記第1の電極層と前記第2の電極層の間に電位差を与えた際に、前記エレクトロクロミック層の中心から周辺に向かって光の透過率が減少するエレクトロクロミック素子において、
前記第1の電極層と前記第2の電極層の少なくとも一方は、厚さと電気抵抗率の少なくとも一方が前記エレクトロクロミック層の位置に応じて変化していることを特徴とするエレクトロクロミック素子。 - 前記第1の電極層には、前記第1の電極層の電気抵抗率の最低値よりも小さな電気抵抗率の第1の給電部が設けられており、
前記第2の電極層には、前記第2の電極層の電気抵抗率の最低値よりも小さな電気抵抗率の第2の給電部が設けられていることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロクロミック素子。 - 前記第1の給電部と前記第2の給電部は、共に円環状の形状を有していることを特徴とする請求項2に記載のエレクトロクロミック素子。
- 前記第1の電極層と前記第2の電極層のうち少なくとも一方の電極層の厚さは、前記一方の電極層の中心から離れるほど減少することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のエレクトロクロミック素子。
- 前記第1の電極層と前記第2の電極層のうち少なくとも一方の電極層の電気抵抗率は、前記一方の電極層の中心から離れるほど増加することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載のエレクトロクロミック素子。
- 前記第1の電極層と前記第2の電極層のうち少なくとも一方の電極層の厚さは前記エレクトロクロミック素子の位置に応じて変化しており、
前記一方の電極層の厚さが増加する方向に対して反対の方向に厚さが増加する位相補償層を有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載のエレクトロクロミック素子。 - 前記位相補償層は、前記第1の電極層に対して前記エレクトロクロミック層とは反対側に配置されていることを特徴とする請求項6に記載のエレクトロクロミック素子。
- 前記位相補償層は、前記第2の電極層に対して前記エレクトロクロミック層とは反対側に配置されていることを特徴とする請求項6に記載のエレクトロクロミック素子。
- 複数の光学素子と、請求項1乃至8のいずれか一項に記載されたエレクトロクロミック素子を有することを特徴とする光学系。
- 絞りと、前記絞りの光入射側と光出射側に少なくとも1つずつ配置された請求項1乃至8のいずれか一項に記載されたエレクトロクロミック素子と、を有することを特徴とする光学系。
- 撮像素子と、請求項9または10に記載の光学系と、前記エレクトロクロミック素子に対して電圧を印加するための電気回路と、を有することを特徴とする撮像装置。
- 請求項9または10に記載の光学系と、前記エレクトロクロミック素子に対して電圧を印加するための電気回路とを有し、撮像装置本体に対して着脱可能であることを特徴とするレンズ装置。
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