JP2017142394A - 磁性一成分現像剤、現像剤カートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び、画像形成方法 - Google Patents

Abstract

【課題】高温高湿度環境下で高濃度の画像を繰り返し形成した後、細線画像を形成したときに生じる細線画像のかすれを抑制する磁性一成分現像剤を提供すること。
【解決手段】結着樹脂及び磁性粉を含む磁性トナー粒子と、圧縮凝集度が６０％以上９５％以下、粒子圧縮比が０．２０以上０．４０以下であるシリカ粒子を含む外添剤と、
を有する磁性一成分現像剤である。
【選択図】なし

Description

本発明は、磁性一成分現像剤、現像剤カートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び、画像形成方法に関する。

電子写真法などにより、静電荷像を経て画像情報を可視化する方法は、現在様々な分野で利用されている。電子写真法においては、帯電および露光工程により像保持体（感光体）表面に画像情報を静電荷像として形成し、トナーを含む現像剤を用いて、感光体表面にトナー像を現像し、このトナー像を、用紙などの記録媒体に転写する転写工程、さらに、トナー像を記録媒体表面に定着させる定着工程を経て画像として可視化される。そして、電子写真法に利用する現像剤としては、磁性一成分現像剤（磁性トナー）が知られている。

例えば、特許文献１には、「結着樹脂、磁性体および離型剤を含有する磁性トナー粒子と、磁性トナー粒子の表面に存在するシリカ微粒子と、を有する磁性トナーであって、シリカ微粒子が、一次粒子の数平均粒径（Ｄ１）が、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下のシリカ微粒子Ａと、一次粒子の数平均粒径（Ｄ１）が、４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下のシリカ微粒子Ｂとを含む磁性トナー。」が開示されている。

また、特許文献２には、「結着樹脂及び磁性酸化鉄を含有する磁性トナー粒子と、シリコーンオイルによる表面処理が施され、シリコーンオイルの炭素量基準の固定化率が２０質量％以上を満たすシリカ微粒子と、を有する磁性トナー。」が開示されている。

また、特許文献３には、「重量平均径が４〜１２μｍでありかつ、トナー表面に比表面積１７５ｍ²／ｇ以上でかつシランカップリング剤およびシリコーンオイルで処理されてなるシリカ微粒子が０ないし１．０％以下外添されている磁性トナー」が開示されている。

その他、特許文献４には、「４官能性シラン化合物及び／又はその部分加水分解縮合生成物を加水分解及び縮合することによって得られた実質的にＳｉＯ_２単位からなる親水性球状シリカ微粒子の表面にＲ^１ＳｉＯ_３／２単位（式中、Ｒ^１は非置換又は置換の炭素原子数１〜２０の１価炭化水素基である）とＲ^２ _３ＳｉＯ_１／２単位（式中、Ｒ^２は同一又は異なり、非置換又は置換の炭素原子数１〜６の１価炭化水素基である）を導入した疎水化処理シリカであり、平均粒子径が０．００５〜１．０μｍの範囲で、粒度分布Ｄ９０／Ｄ１０の値が３以下であり、平均円形度が０．８〜１である疎水性球状シリカ微粒子からなる粉体用流動化剤。」が開示されている。そして、特許文献１には、「有機樹脂粒子又は無機粒子からなる粉体に対し、上記疎水性球状シリカ微粒子からなる流動化剤を添加した粉体組成物。」が開示されている。

特開２０１５−１４３８３８号公報 特開２０１２−２１５７７７号公報 特開２００３−２９５５０９号公報 特開２０１３−１６６６６７号公報

ところで、磁性一成分現像方式では、現像保持体への磁性トナーの安定供給、及び磁性トナー層の均一化を実現にするために、磁性トナーには高い流動性が求められ、層規制部材による迅速な帯電を実現するために、磁性トナーには速い帯電速度が求められる。

しかし、磁性トナー粒子にシリカ粒子を外添した磁性トナーを使用しても、高温高湿度環境下で、高濃度の画像を繰り返し形成すると、シリカ粒子として、シリコーンオイルで表面処理した凝集性の高いシリカ粒子を外添した場合、高濃度の画像の形成後、ソリッド画像、および細線画像を形成すると、画像ムラ、および細線画像のかすれが発生することがある。

そこで、本発明の課題は、磁性トナー粒子に外添する外添剤として、圧縮凝集度が６０％未満若しくは９５％超え、又は粒子圧縮比が０．２０未満若しくは０．４０超えのシリカ粒子のみを有する磁性一成分現像剤に比べ、高温高湿度環境下で高濃度の画像を繰り返し形成した時のソリッド画像ムラ、更にその後、細線画像を形成したときに生じる細線画像のかすれを抑制する磁性一成分現像剤を提供することである。

上記課題は、以下の手段により解決される。

請求項１に係る発明は、
結着樹脂及び磁性粉を含む磁性トナー粒子と、
少なくとも圧縮凝集度が６０％以上９５％以下、粒子圧縮比が０．２０以上０．４０以下であるシリカ粒子を含む外添剤と、
を有する磁性一成分現像剤。

請求項２に係る発明は、
前記シリカ粒子の平均円相当径が４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である請求項１に記載の磁性一成分現像剤。

請求項３に係る発明は、
前記シリカ粒子の粒子分散度が９０％以上１００％以下である請求項１又は請求項２に記載の磁性一成分現像剤。

請求項４に係る発明は、
前記シリカ粒子が、粘度１０００ｃＳｔ以上５００００ｃＳｔ以下のシロキサン化合物により表面処理され、前記シロキサン化合物の表面付着量が０．０１質量％以上５質量％以下のシリカ粒子である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の磁性一成分現像剤。

請求項５に係る発明は、
前記シロキサン化合物が、シリコーンオイルである請求項４に記載の磁性一成分現像剤。

請求項６に係る発明は、
請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の磁性一成分現像剤を収容し、
画像形成装置に着脱される現像剤カートリッジ。

請求項７に係る発明は、
請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の磁性一成分現像剤を収容し、前記磁性一成分現像剤により、像保持体の表面に形成された静電荷像をトナー画像として現像する現像手段を備え、
画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジ。

請求項８に係る発明は、
像保持体と、
前記像保持体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記像保持体の表面に静電荷像を形成する静電荷像形成手段と、
請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の磁性一成分現像剤を収容し、前記磁性一成分現像剤により、前記像保持体の表面に形成された静電荷像をトナー画像として現像する現像手段と、
前記像保持体の表面に形成されたトナー画像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
前記記録媒体の表面に転写されたトナー画像を定着する定着手段と、
を備える画像形成装置。

請求項９に係る発明は、
像保持体の表面を帯電する帯電工程と、
帯電した前記像保持体の表面に静電荷像を形成する静電荷像形成工程と、
請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の磁性一成分現像剤により、前記像保持体の表面に形成された静電荷像をトナー画像として現像する現像工程と、
前記像保持体の表面に形成されたトナー画像を記録媒体の表面に転写する転写工程と、
前記記録媒体の表面に転写されたトナー画像を定着する定着工程と、
を有する画像形成方法。

請求項１、２に係る発明によれば、磁性トナー粒子に外添する外添剤として、圧縮凝集度が６０％未満若しくは９５％超え、又は粒子圧縮比が０．２０未満若しくは０．４０超えのシリカ粒子のみを有する磁性一成分現像剤に比べ、高温高湿度環境下で高濃度の画像を繰り返し形成した時のソリッド画像ムラ、更にその後、細線画像を形成したときに生じる細線画像のかすれを抑制する磁性一成分現像剤が提供される。
請求項３に係る発明によれば、シリカ粒子の粒子分散度が９０％未満の場合に比べ、高温高湿度環境下で高濃度の画像を繰り返し形成した時のソリッド画像ムラ、更にその後、細線画像を形成したときに生じる細線画像のかすれを抑制する磁性一成分現像剤が提供される。
請求項４、又は５に係る発明によれば、磁性トナー粒子に外添する外添剤として、粘度１０００ｃＳｔ未満若しくは５００００ｃＳｔ超えのシロキサン化合物により表面処理されたシリカ粒子、又はシロキサン化合物の表面付着量が０．０１質量％未満若しくは５質量％超えのシリカ粒子のみを有する磁性一成分現像剤に場合に比べ、高温高湿度環境下で高濃度の画像を繰り返し形成した時のソリッド画像ムラ、更にその後、細線画像を形成したときに生じる細線画像のかすれを抑制する磁性一成分現像剤が提供される。

請求項６、７、８、又は９に係る発明によれば、磁性トナー粒子に外添する外添剤として、圧縮凝集度が６０％未満若しくは９５％超え、又は粒子圧縮比が０．２０未満若しくは０．４０超えのシリカ粒子のみを有する磁性一成分現像剤を適用した場合に比べ、高温高湿度環境下で高濃度の画像を繰り返し形成した時のソリッド画像ムラ、更にその後、細線画像を形成したときに生じる細線画像のかすれを抑制する現像剤カートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置、又は画像形成方法が提供される。

本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。 本実施形態に係る画像形成装置における現像装置の一例を示す概略構成図である。 本実施形態に係るプロセスカートリッジの一例を示す概略構成図である。概略構成図である。

以下、本発明の一例である実施形態について説明する。

＜静電荷像現像用トナー＞
本実施形態に係る磁性一成分現像剤（以下、「磁性トナー」又は「トナー」と称する）は、結着樹脂及び磁性粉を含む磁性トナー粒子（以下「トナー粒子」とも称する）と、外添剤と、を有するトナーである。
そして、外添剤は、少なくとも圧縮凝集度が６０％以上９５％以下、粒子圧縮比が０．２０以上０．４０以下であるシリカ粒子（以下「特定シリカ粒子」とも称する）を含む。

ここで、磁性一成分現像方式では、磁石が内蔵された現像剤保持体（例えば現像ロール）の表面に、磁石の磁力によって磁性トナー層（磁性一成分現像剤層）を形成した後、現像剤保持体の表面に接触して配置された層規制部材（例えば層規制ブレード）により、磁性トナー層の厚みの規制が行われる（以下、磁性トナー層の厚みの規制が行われる部位を「層規制部」とも称する）。そして、磁性トナー層の厚みの規制が行われるときに付与される層規制部材からの圧力により、磁性トナー層が圧密されることで、磁性トナーが帯電する。

このため、磁性一成分現像方式では、現像保持体への磁性トナーの安定供給、及び磁性トナー層のより均一に近い厚みの規制を実現にするために、磁性トナーには高い流動性が求められ、層規制部材による迅速な帯電を実現するために、磁性トナーには速い帯電速度が求められる。

これら、高い流動性及び速い帯電速度を実現する目的で、磁性トナー粒子にシリコーンオイルで表面処理したシリカ粒子（以下「オイル処理シリカ粒子」とも称する）を外添することが知られている。磁性トナー粒子にオイル処理シリカ粒子を外添した磁性トナーは、凝集性が高いため、帯電速度が速くなると考えられる。

しかし、オイル処理シリカ粒子は、シリコーンオイル以外のシランカップリング剤やシリル化剤等で処理された疎水性シリカ粒子（以下「オイル以外の疎水性シリカ粒子」とも称する）に比べ、流動性が低く、磁性トナー粒子に対する分散性も低い。このため、オイル処理シリカ粒子は、磁性トナー粒子に均一に近い状態で表面に付着し難く、凝集体も生成することもある。このように、磁性トナー粒子にオイル処理シリカ粒子を外添した磁性トナーの流動性については、十分ではなく、現像保持体への磁性トナーの安定供給、及び現像保持体の表面での磁性トナー層の均一性の向上が求められているのが現状である。

一方で、磁性トナーの流動性を高めるために、磁性トナー粒子にオイル以外の疎水性シリカ粒子を外添すると、磁性トナーの流動性が高まり、現像保持体への磁性トナーの安定供給、及び現像保持体の表面での磁性トナー層の均一性が高まるものの帯電速度が低下してしまうのが現状である。

これらに加え、現像手段内での攪拌等により、シリカ粒子の外添構造（シリカ粒子が磁性トナー粒子に付着した状態）が変化すると、トナーの流動性が低下することがある。また、シリカ粒子の外添構造が変化すると、凝集性の高いオイル処理シリカ粒子を外添した場合でも、磁性トナーの凝集性が低下することがある。この外添構造の変化が生じるのは、現像手段内の磁性トナーの攪拌により、シリカ粒子が、トナー粒子上を移動し偏在すること、トナー粒子から遊離すること等が原因として挙げられる。

特に、高温高湿度環境下（例えば３０℃９０％ＲＨの環境下）では、トナーの流動性が低くなる為、高濃度の画像（例えば画像濃度１００％のベタ画像）を繰り返し形成すると、トナーの現像保持体への供給安定性が低下し、更に低帯電トナーが増加する為、現像保持体への磁性トナーの安定供給、現像保持体の表面での磁性トナー層の均一性、及び磁性トナーの帯電速度が低下する傾向が高まる。そして、高濃度の画像の形成後、細線画像を形成すると、細線画像のかすれが発生することがある。この理由は、次の通り推測される。

そこで、本実施形態に係る磁性一成分現像剤では、特定シリカ粒子を磁性トナー粒子に外添することにより、高温高湿度環境下で高濃度の画像を繰り返し形成した時のソリッド画像ムラ、更にその後、細線画像を形成したときに生じる細線画像のかすれを抑制する。その理由は、次の通り推測される。

まず、磁性トナー粒子に従来のシリカ粒子を外添した磁性トナーを使用しても、高温高湿度環境下で、高濃度の画像を繰り返し形成すると、トナーの消費量が多い為、トナーへの帯電付与が追いつかなくなり、現像剤保持体上に低帯電トナーが増加し、かぶりにつながる。一方で、シリカ粒子として、シリコーンオイルで表面処理した凝集性の高いシリカ粒子を外添した場合、層規制部にてトナー帯電速度に効果を発揮し、現像剤保持体上の低帯電トナー量の抑制に寄与するが、トナーの流動性が低下してしまう。これはシリコーンオイル処理の不均一化が影響しており、従来のシリコーンオイル処理シリカ粒子はシリカ粒子自体の流動性が低下することで、トナー表面におけるシリカ粒子の分散性も悪化する為である。その結果、現像剤保持体のトナー搬送性が低下してしまうことがある。また、処理の不均一化が大きい場合には、シリカ粒子の凝集粉が生成され、層形成部に、つまり、現像剤保持体上で筋を発生させてしまうことがある。また、シリコーンオイル成分が現像剤保持体に移行することで、現像剤保持体上のトナー層形成性を低下させてしまい、高濃度の画像の形成後、ソリッド画像、および細線画像を形成すると、画像ムラ、および細線画像のかすれが発生することがある。

一方、圧縮凝集度及び粒子圧縮比が上記範囲を満たす特定シリカ粒子は、流動性及びトナー粒子への分散性が高く、かつ凝集性及びトナー粒子への付着性も高いという性質を有するシリカ粒子である。

ここで、シリカ粒子は、一般的に、流動性が良い半面、嵩密度が低いため、付着性が低く、凝集し難い性質を有する。
一方、シリカ粒子の流動性と共に、トナー粒子への分散性を高めることを目的として、疎水化処理剤を用いてシリカ粒子の表面を表面処理する技術が知られている。この技術によれば、シリカ粒子の流動性、及びトナー粒子への分散性は向上するが、凝集性は低いままである。
また、疎水化処理剤とシリコーンオイルとを併用してシリカ粒子の表面を表面処理する技術も知られている。この技術によれば、トナー粒子への付着性が向上すると共に、凝集性が向上する。しかし逆に、流動性及びトナー粒子への分散性は低下し易くなる。
つまり、シリカ粒子において、流動性及びトナー粒子への分散性と、凝集性及びトナー粒子への付着性は相反する関係にあると言える。

これに対し、特定シリカ粒子は、上述のように、圧縮凝集度及び粒子圧縮比を上記範囲とすることで、流動性、トナー粒子への分散性、凝集性及びトナー粒子への付着性の４つの特性が良好となる。

次に、特定シリカ粒子の圧縮凝集度及び粒子圧縮比を上記範囲とする意義について、順に説明する。

まず、特定シリカ粒子の圧縮凝集度を６０％以上９５％以下とする意義について説明する。
圧縮凝集度は、シリカ粒子の凝集性及びトナー粒子への付着性を示す指標となる。この指標は、シリカ粒子を圧縮することでシリカ粒子の成形体を得た後、このシリカ粒子の成形体を落下させた際の前記成形体のほぐれにくさの程度で示される。
よって、圧縮凝集度が高い程、シリカ粒子は、嵩密度が高まり易く、凝集力（分子間力）が強まる傾向があり、かつトナー粒子への付着力も強まる傾向があることを示す。なお、圧縮凝集度の算出方法の詳細については後述する。
このため、圧縮凝集度を６０％以上９５％以下と高く制御した特定シリカは、トナー粒子への付着性及び凝集性が良好となる。但し、トナー粒子への付着性及び凝集性を良好にしつつ、流動性及びトナー粒子への分散性を確保する観点から、圧縮凝集度の上限値は９５％としている。

次に、特定シリカ粒子の粒子圧縮比が０．２０以上０．４０以下であることの意義について説明する。
粒子圧縮比は、シリカ粒子の流動性を示す指標となる。具体的に、粒子圧縮比は、シリカ粒子の固め見掛け比重及びゆるみ見掛け比重の差と、固め見掛け比重との比（（固め見掛け比重−ゆるみ見掛け比重）／固め見掛け比重）で示される。
よって、粒子圧縮比が低い程、シリカ粒子は流動性が高いことを示す。また、流動性が高いと、トナー粒子への分散性も高まる傾向がある。なお、粒子圧縮比の算出方法の詳細については後述する。
このため、粒子圧縮比を０．２０以上０．４０以下と低く制御した特定シリカ粒子は、流動性及びトナー粒子への分散性が良好となる。但し、流動性及びトナー粒子への分散性を良好にしつつ、トナー粒子への付着性及び凝集性を向上させる観点から、粒子圧縮比の下限値を０．２０としている。

以上のことから、特定シリカ粒子は、流動、トナー粒子に分散しやすい上、さらに凝集力、トナー粒子への付着力が高いという特異な性質を有する。したがって、圧縮凝集度及び粒子圧縮比が上記範囲を満たす特定シリカ粒子は、流動性及びトナー粒子への分散性が高く、かつ凝集性及びトナー粒子への付着性も高いという性質を有するシリカ粒子となる。

次に、特定シリカ粒子をトナー粒子に外添したときの推定作用について説明する。
まず、特定シリカ粒子は、流動性及びトナー粒子への分散性が高いため、磁性トナー粒子に外添すると、磁性トナー粒子の表面に均一に近い状態で付着され易い。そして、一旦、磁性トナー粒子に付着した特定シリカ粒子は、磁性トナー粒子への付着性が高いため、現像手段内での攪拌等による機械的負荷では、磁性トナー粒子上での移動及び磁性トナー粒子からの遊離が生じ難くなる。つまり、外添構造の変化が生じ難くなる。これにより、磁性トナー粒子自体の流動性が高まり、かつ、その高い流動性が維持され易くなる。

一方、特定シリカ粒子は、凝集性が高いため、磁性トナーの凝集力も高まる。そして、磁性トナー粒子の表面に均一に近い状態で付着された外添構造が変化し難いので、磁性トナーの凝集力が維持され易くなる。つまり、磁性トナーの帯電速度は速くなり、かつその速い帯電速度が維持され易くなる。

このため、高温高湿度環境下（例えば３０℃９０％ＲＨの環境下）で、高濃度の画像（例えば画像濃度１００％のベタ画像）を繰り返し形成しても、特定シリカ粒子の外添構造の変化が生じ難く、現像保持体への磁性トナーの安定供給、現像保持体の表面での磁性トナー層の均一性、及び磁性トナーの帯電速度の低下が抑制される。

以上から、本実施形態に係る磁性一成分現像剤は、高温高湿度環境下で高濃度の画像を繰り返し形成した時のソリッド画像ムラ、更にその後、細線画像を形成したときに生じる細線画像のかすれを抑制すると推測される。

本実施形態に係る磁性一成分現像剤（磁性トナー）において、特定シリカ粒子は、さらに、粒子分散度が９０％以上１００％以下であることが好ましい。

ここで、特定シリカ粒子の粒子分散度が９０％以上１００％以下であることの意義について説明する。
粒子分散度は、シリカ粒子の分散性を示す指標となる。この指標は、一次粒子状態でのシリカ粒子のトナー粒子への分散のしやすさの程度で示される。具体的に、粒子分散度は、シリカ粒子によるトナー粒子表面への計算上の被覆率をＣ_０とし、実測の被覆率をＣとしたとき、付着対象物への実測の被覆率Ｃと、計算上の被覆率Ｃ_０との比（実測の被覆率Ｃ／計算上の被覆率Ｃ_０）で示される。
よって、粒子分散度が高い程、シリカ粒子は凝集しにくく、一次粒子の状態でトナー粒子に分散しやすいことを示す。なお、粒子分散度の算出方法の詳細については後述する。

特定シリカ粒子は、圧縮凝集度及び粒子圧縮比を上記範囲に制御しつつ、粒子分散度を９０％以上１００％以下と高く制御することで、トナー粒子への分散性がさらに良好となる。これにより、さらに、トナー粒子自体の流動性が高まり、かつ、その高い流動性が維持され易くなる。

本実施形態に係る磁性一成分現像剤（磁性トナー）において、上述のような、流動性及びトナー粒子への分散性が高く、かつ凝集性及びトナー粒子への付着性も高いという性質を有する特定シリカ粒子としては、比較的大きい重量平均分子量を持つシロキサン化合物が表面に付着したシリカ粒子が好適に挙げられる。具体的には、粘度が１０００ｃＳｔ以上５００００ｃＳｔ以下のシロキサン化合物が表面に付着（好ましくは表面付着量０．０１質量％以上５質量％以下で付着）したシリカ粒子が好適に挙げられる。この特定シリカ粒子は、例えば、粘度が１０００ｃＳｔ以上５００００ｃＳｔ以下のシロキサン化合物を用いて、表面付着量が０．０１質量％以上５質量％以下となるように、シリカ粒子の表面を表面処理する方法で得られる。
ここで、表面付着量は、シリカ粒子の表面を表面処理する前のシリカ粒子（未処理のシリカ粒子）に対する割合とする。以下、表面処理前のシリカ粒子（つまり未処理のシリカ粒子）を単に、「シリカ粒子」とも称する。

粘度が１０００ｃＳｔ以上５００００ｃＳｔ以下のシロキサン化合物を用いて、表面付着量が０．０１質量％以上５質量％以下となるように、シリカ粒子の表面を表面処理した特定シリカ粒子は、流動性及びトナー粒子への分散性と共に、凝集性及びトナー粒子への付着性も高まり、圧縮凝集度及び粒子圧縮比が上記要件を満たしやすくなる。そして、ソリッド画像ムラ及び細線画像のかすれが抑制され易くなる。この理由は定かではないが、以下に示す理由によるものと考えられる。

粘度が上記範囲である比較的高い粘性を有するシロキサン化合物を、シリカ粒子表面に上記範囲で少量付着させると、シリカ粒子表面のシロキサン化合物の特性に由来する機能が発現する。そのメカニズムは明確では無いが、シリカ粒子が流動しているときには、比較的高い粘性を有するシロキサン化合物が上記範囲で少量付着していることにより、シロキサン化合物に由来する離型性が発現し易くなるか、または、シロキサン化合物の立体障害による粒子間力の低減によりシリカ粒子同士の付着性が低減する。これにより、シリカ粒子の流動性及びトナー粒子への分散性がさらに高まる。
一方で、シリカ粒子が加圧されたときは、シリカ粒子表面のシロキサン化合物の長い分子鎖が絡み合い、シリカ粒子の最密充填性が高まり、シリカ粒子同士の凝集が強まる。そして、このシロキサン化合物の長い分子鎖が絡み合うことによるシリカ粒子の凝集力は、シリカ粒子を流動させると解除されると考えられる。これに加え、シリカ粒子表面のシロキサン化合物の長い分子鎖により、トナー粒子への付着力も高まる。

以上のことから、粘度が上記範囲のシロキサン化合物をシリカ粒子表面に上記範囲で少量付着させた特定シリカ粒子は、圧縮凝集度及び粒子圧縮比が上記要件を満たしやすくなり、粒子分散度も上記要件を満たしやすくなる。

以下、磁性一成分現像剤（磁性トナー）の構成について詳細に説明する。

（磁性トナー粒子）
磁性トナー粒子は、例えば、結着樹脂と磁性粉とを含む。磁性トナー粒子は、必要に応じて、着色剤、離型剤、その他添加剤等を含んでもよい。

−結着樹脂−
結着樹脂としては、例えば、スチレン類（例えばスチレン、パラクロロスチレン、α−メチルスチレン等）、（メタ）アクリル酸エステル類（例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸２−エチルヘキシル等）、エチレン性不飽和ニトリル類（例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル等）、ビニルエーテル類（例えばビニルメチルエーテル、ビニルイソブチルエーテル等）、ビニルケトン類（ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等）、オレフィン類（例えばエチレン、プロピレン、ブタジエン等）等の単量体の単独重合体、又はこれら単量体を２種以上組み合せた共重合体からなるビニル系樹脂が挙げられる。
結着樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、変性ロジン等の非ビニル系樹脂、これらと前記ビニル系樹脂との混合物、又は、これらの共存下でビニル系単量体を重合して得られるグラフト重合体等も挙げられる。
これらの結着樹脂は、１種類単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

結着樹脂としては、ポリエステル樹脂が好適に挙げられる。
ポリエステル樹脂としては、例えば、公知のポリエステル樹脂が挙げられる。

ポリエステル樹脂としては、例えば、多価カルボン酸と多価アルコールとの縮重合体が挙げられる。なお、ポリエステル樹脂としては、市販品を使用してもよいし、合成したものを使用してもよい。

多価カルボン酸としては、例えば、脂肪族ジカルボン酸（例えばシュウ酸、マロン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、イタコン酸、グルタコン酸、コハク酸、アルケニルコハク酸、アジピン酸、セバシン酸等）、脂環式ジカルボン酸（例えばシクロヘキサンジカルボン酸等）、芳香族ジカルボン酸（例えばテレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、ナフタレンジカルボン酸等）、これらの無水物、又はこれらの低級（例えば炭素数１以上５以下）アルキルエステルが挙げられる。これらの中でも、多価カルボン酸としては、例えば、芳香族ジカルボン酸が好ましい。
多価カルボン酸は、ジカルボン酸と共に、架橋構造又は分岐構造をとる３価以上のカルボン酸を併用してもよい。３価以上のカルボン酸としては、例えば、トリメリット酸、ピロメリット酸、これらの無水物、又はこれらの低級（例えば炭素数１以上５以下）アルキルエステル等が挙げられる。
多価カルボン酸は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

多価アルコールとしては、例えば、脂肪族ジオール（例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等）、脂環式ジオール（例えばシクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノールＡ等）、芳香族ジオール（例えばビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物等）が挙げられる。これらの中でも、多価アルコールとしては、例えば、芳香族ジオール、脂環式ジオールが好ましく、より好ましくは芳香族ジオールである。
多価アルコールとしては、ジオールと共に、架橋構造又は分岐構造をとる３価以上の多価アルコールを併用してもよい。３価以上の多価アルコールとしては、例えば、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールが挙げられる。
多価アルコールは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

ポリエステル樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、５０℃以上８０℃以下が好ましく、５０℃以上６５℃以下がより好ましい。
なお、ガラス転移温度は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）により得られたＤＳＣ曲線より求め、より具体的にはＪＩＳ Ｋ ７１２１−１９８７「プラスチックの転移温度測定方法」のガラス転移温度の求め方に記載の「補外ガラス転移開始温度」により求められる。

ポリエステル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５０００以上１００００００以下が好ましく、７０００以上５０００００以下がより好ましい。
ポリエステル樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は、２０００以上１０００００以下が好ましい。
ポリエステル樹脂の分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは、１．５以上１００以下が好ましく、２以上６０以下がより好ましい。
なお、重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定する。ＧＰＣによる分子量測定は、測定装置として東ソー製ＧＰＣ・ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣを用い、東ソー製カラム・ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｍ（１５ｃｍ）を使用し、ＴＨＦ溶媒で行う。重量平均分子量及び数平均分子量は、この測定結果から単分散ポリスチレン標準試料により作成した分子量校正曲線を使用して算出する。

ポリエステル樹脂は、周知の製造方法により得られる。具体的には、例えば、重合温度を１８０℃以上２３０℃以下とし、必要に応じて反応系内を減圧にし、縮合の際に発生する水やアルコールを除去しながら反応させる方法により得られる。
なお、原料の単量体が、反応温度下で溶解又は相溶しない場合は、高沸点の溶剤を溶解補助剤として加え溶解させてもよい。この場合、重縮合反応は溶解補助剤を留去しながら行う。相溶性の悪い単量体が存在する場合は、あらかじめ相溶性の悪い単量体とその単量体と重縮合予定の酸又はアルコールとを縮合させておいてから主成分と共に重縮合させるとよい。

結着樹脂としては、スチレン（メタ）アクリル樹脂も好適に挙げられる。
スチレン（メタ）アクリル樹脂は、スチレン系重合性単量体（スチレン骨格を有する重合性単量体）と（メタ）アクリル系重合性単量体（（メタ）アクリロイル骨格を有する重合性単量体）とを少なくとも共重合した共重合体である。
なお、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」及び「メタクリル」のいずれをも含む表現である。

スチレン系重合性単量体としては、例えば、スチレン、アルキル置換スチレン（例えば、α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、２−エチルスチレン、３−エチルスチレン、４−エチルスチレン等）、ハロゲン置換スチレン（例えば、２−クロロスチレン、３−クロロスチレン、４−クロロスチレン等）、ビニルナフタレン等が挙げられる。スチレン系重合性単量体は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中で、スチレン系単量体としては、反応し易さ、反応の制御の容易さ、さらに入手性の点で、スチレンが好ましい。

（メタ）アクリル系重合性単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル（例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ペンチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘプチル、（メタ）アクリル酸ｎ−オクチル、（メタ）アクリル酸ｎ−デシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ドデシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ラウリル、（メタ）アクリル酸ｎ−テトラデシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキサデシル、（メタ）アクリル酸ｎ−オクタデシル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソペンチル、（メタ）アクリル酸アミル、（メタ）アクリル酸ネオペンチル、（メタ）アクリル酸イソヘキシル、（メタ）アクリル酸イソヘプチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルシクロヘキシル等）、（メタ）アクリル酸アリールエステル（例えば、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸ビフェニル、（メタ）アクリル酸ジフェニルエチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルフェニル、（メタ）アクリル酸ターフェニル等）、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸β−カルボキシエチル、（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。（メタ）アクリル酸系重合性単量体は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

スチレン系重合性単量体と（メタ）アクリル系重合性単量体との共重合比（質量基準、スチレン系重合性単量体／（メタ）アクリル系重合性単量体）は、例えば８５／１５乃至７０／３０であることがよい。

スチレン（メタ）アクリル樹脂は、架橋構造を有していてもよい。架橋構造を有するスチレン（メタ）アクリル樹脂は、例えば、スチレン系重合性単量体と（メタ）アクリル酸系重合性単量体と架橋性単量体とを少なくとも共重合して、架橋した架橋物が挙げられる。

架橋性単量体としては、例えば、２官能以上の架橋剤が挙げられる。
２官能の架橋剤としては、例えば，ジビニルベンゼン、ジビニルナフタレン、ジ（メタ）アクリレート化合物（例えば、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、デカンジオールジアクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等）、ポリエステル型ジ（メタ）アクリレート、メタクリル酸２−（［１’−メチルプロピリデンアミノ］カルボキシアミノ）エチル等が挙げられる。
多官能の架橋剤としては、トリ（メタ）アクリレート化合物（例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等）、テトラ（メタ）アクリレート化合物（例えば、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、オリゴエステル（メタ）アクリレート等）、２，２−ビス（４−メタクリロキシ、ポリエトキシフェニル）プロパン、ジアリルフタレート、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジアリールクロレンデート等が挙げられる。

全単量体に対する架橋性単量体の共重合比（質量基準、架橋性単量体／全単量体）は、例えば２／１０００乃至３０／１０００であることがよい。

スチレン（メタ）アクリル樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、定着性の点で、例えば、５０℃以上７５℃以下がよく、好ましくは５５℃以上６５℃以下、より好ましくは５７℃以上６０℃以下である。
なお、ガラス転移温度は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）により得られたＤＳＣ曲線より求め、より具体的にはＪＩＳ Ｋ ７１２１−１９８７「プラスチックの転移温度測定方法」のガラス転移温度の求め方に記載の「補外ガラス転移開始温度」により求められる。

スチレン（メタ）アクリル樹脂の重量平均分子量は、保管安定性の点で、例えば、３００００以上２０００００以下がよく、好ましくは４００００以上１０００００以下、より好ましくは５００００以上８００００以下である。
なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定する。ＧＰＣによる分子量測定は、測定装置として東ソー製ＧＰＣ・ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣを用い、東ソー製カラム・ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｍ（１５ｃｍ）を使用し、ＴＨＦ溶媒で行う。重量平均分子量は、この測定結果から単分散ポリスチレン標準試料により作成した分子量校正曲線を使用して算出する。

結着樹脂の含有量としては、例えば，トナー粒子全体に対して、３５質量％以上７５質量％以下が好ましく、４０質量％以上７０質量％以下がより好ましく、４０質量％以上６０質量％以下がさらに好ましい。

−磁性粉−
磁性粉としては、例えば、鉄、コバルト、ニッケル等の金属及びこれらの合金；Ｆｅ_３Ｏ_４、γ−Ｆｅ_２Ｏ_３、コバルト添加酸化鉄等の金属酸化物；ＭｎＺｎフェライト、ＮｉＺｎフェライト等の各種フェライト；マグネタイト；ヘマタイト等の公知の磁性体の粉末が挙げられる。

磁性粉は、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤等の表面処理剤で磁性体の粉末を処理した磁性粉、無機材料（珪素系化合物、アルミニウム系化合物）の被覆層を磁性体の粉末に形成した磁性粉、有機材料の被覆層を磁性体の粉末に形成した磁性粉等であってもよい。

磁性粉の含有量は、トナー粒子に対して、３５質量％以上５５質量％以下が好ましく、４０質量％以上５０質量％以下がより好ましい。

−離型剤−
離型剤としては、例えば、炭化水素系ワックス；カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等の天然ワックス；モンタンワックス等の合成又は鉱物・石油系ワックス；脂肪酸エステル、モンタン酸エステル等のエステル系ワックス；などが挙げられる。離型剤は、これに限定されるものではない。

離型剤の融解温度は、５０℃以上１１０℃以下が好ましく、６０℃以上１００℃以下がより好ましい。
なお、融解温度は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）により得られたＤＳＣ曲線から、ＪＩＳ Ｋ ７１２１−１９８７「プラスチックの転移温度測定方法」の融解温度の求め方に記載の「融解ピーク温度」により求める。

離型剤の含有量としては、例えば、トナー粒子全体に対して、１質量％以上２０質量％以下が好ましく、５質量％以上１５質量％以下がより好ましい。

−その他の添加剤−
その他の添加剤としては、例えば、着色剤、帯電制御剤、無機粉体等の周知の添加剤が挙げられる。これらの添加剤は、内添剤としてトナー粒子に含まれる。

−トナー粒子の特性等−
トナー粒子は、単層構造のトナー粒子であってもよいし、芯部（コア粒子）と芯部を被覆する被覆層（シェル層）とで構成された所謂コア・シェル構造のトナー粒子であってもよい。
ここで、コア・シェル構造のトナー粒子は、例えば、結着樹脂及び磁性粉と必要に応じて着色剤及び離型剤等のその他添加剤とを含んで構成された芯部と、結着樹脂を含んで構成された被覆層と、で構成されていることがよい。

トナー粒子の体積平均粒径（Ｄ５０ｖ）としては、２μｍ以上１０μｍ以下が好ましく、４μｍ以上８μｍ以下がより好ましい。

なお、トナー粒子の各種平均粒径、及び各種粒度分布指標は、コールターマルチサイザーII（ベックマン・コールター社製）を用い、電解液はＩＳＯＴＯＮ−II（ベックマン・コールター社製）を使用して測定される。
測定に際しては、分散剤として、界面活性剤（アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムが好ましい）の５％水溶液２ｍｌ中に測定試料を０．５ｍｇ以上５０ｍｇ以下加える。これを電解液１００ｍｌ以上１５０ｍｌ以下中に添加する。
試料を懸濁した電解液は超音波分散器で１分間分散処理を行い、コールターマルチサイザーIIにより、アパーチャー径として１００μｍのアパーチャーを用いて２μｍ以上６０μｍ以下の範囲の粒径の粒子の粒度分布を測定する。なお、サンプリングする粒子数は５００００個である。
測定される粒度分布を基にして分割された粒度範囲（チャンネル）に対して体積、数をそれぞれ小径側から累積分布を描いて、累積１６％となる粒径を体積粒径Ｄ１６ｖ、数粒径Ｄ１６ｐ、累積５０％となる粒径を体積平均粒径Ｄ５０ｖ、累積数平均粒径Ｄ５０ｐ、累積８４％となる粒径を体積粒径Ｄ８４ｖ、数粒径Ｄ８４ｐと定義する。
これらを用いて、体積平均粒度分布指標（ＧＳＤｖ）は（Ｄ８４ｖ／Ｄ１６ｖ）^１／２、数平均粒度分布指標（ＧＳＤｐ）は（Ｄ８４ｐ／Ｄ１６ｐ）^１／２として算出される。

（外添剤）
外添剤は、特定シリカ粒子を含む。外添剤は、特定シリカ粒子以外の他の外添剤を含んでもよい。つまり、トナー粒子は、特定シリカ粒子のみ外添されていてもよいし、特定シリカ粒子と他の外添剤とが外添されていてもよい。

［特定シリカ粒子］
−圧縮凝集度−
特定シリカ粒子の圧縮凝集度は、６０％以上９５％以下であるが、特定シリカ粒子における、凝集性及びトナー粒子への付着性を良好にしつつ、流動性及びトナー粒子への分散性を確保する観点（特に、ソリッド画像ムラ抑制、細線画像のかすれ抑制の観点）から、好ましくは６５％以上９５％以下、より好ましくは７０％以上９５％以下である。

圧縮凝集度は、以下に示す方法により算出される。
直径６ｃｍ、円盤状（ディスク状）の金型に、特定シリカ粒子を６．０ｇ充填する。次いで、圧縮成型機（前川試験機製作所社製）を用いて圧力５．０ｔ／ｃｍ^２で金型を６０秒圧縮し、圧縮された円盤状の特定シリカ粒子の成形体（以下、「落下前の成形体」と称する）を得る。その後、落下前の成形体の質量を測定する。
次いで、落下前の成形体を目開き６００μｍのふるい網上に配置し、振動ふるい機（筒井理化学器械社製：品番ＶＩＢＲＡＴＩＮＧ ＭＶＢ−１）により、落下前の成形体を振幅１ｍｍ、振動時間１分の条件下で落下させる。これにより、落下前の成形体から前記ふるい網を介して特定シリカ粒子が落下し、前記ふるい網上に特定シリカ粒子の成形体が残存する。その後、残存した特定シリカ粒子の成形体（以下、「落下後の成形体」と称する）の質量を測定する。
そして、以下の式（１）を用いて、落下後の成形体の質量と落下前の成形体の質量との比から、圧縮凝集度を算出する。
・式（１）：圧縮凝集度＝（落下後の成形体の質量／落下前の成形体の質量）×１００

−粒子圧縮比−
特定シリカ粒子の粒子圧縮比は、０．２０以上０．４０以下であるが、特定シリカ粒子における、凝集性及びトナー粒子への付着性を良好にしつつ、流動性及びトナー粒子への分散性を確保する観点（特に、ソリッド画像ムラ抑制、細線画像のかすれ抑制の観点）から、好ましくは０．２４以上０．３８以下、より好ましくは０．２８以上０．３６以下である。

粒子圧縮比は、以下に示す方法により算出される。
パウダーテスター（ホソカワミクロン社製、品番ＰＴ-Ｓ型）を用いて、シリカ粒子のゆるみ見掛け比重と固め見掛け比重とを測定する。そして、以下の式（２）を用いて、シリカ粒子の固め見掛け比重及びゆるみ見掛け比重の差と、固め見掛け比重との比から粒子圧縮比を算出する。
・式（２）：粒子圧縮比＝（固め見掛け比重−ゆるみ見掛け比重）／固め見掛け比重

なお、「ゆるみ見掛け比重」とは、容量が１００ｃｍ^３の容器へシリカ粒子を充填し、秤量することで導き出される測定値であって、特定シリカ粒子を容器中に自然落下させた状態の充填比重をいう。「固め見掛け比重」とは、ゆるみ見掛け比重の状態から、ストローク長１８ｍｍ、タッピング速度５０回／分で、１８０回繰り返し容器底部に衝撃を与える（タッピング）ことにより、脱気され、特定シリカ粒子が再配列し、より密に充填された、見掛け比重をいう。

−粒子分散度−
特定シリカ粒子の粒子分散度は、トナー粒子への分散性をさらに良好にする観点（特に、現像剤保持体上の層形成安定性の観点）から、好ましくは９０％以上１００％以下であり、より好ましくは９５％以上１００％以下である。

粒子分散度とは、トナー粒子への実測の被覆率Ｃと、計算上の被覆率Ｃ_０との比であり、以下の式（３）を用いて算出される。
・式（３）：粒子分散度＝実測の被覆率Ｃ／計算上の被覆率Ｃ_０

ここで、特定シリカ粒子によるトナー粒子表面への計算上の被覆率Ｃ_０は、トナー粒子の体積平均粒径をｄｔ（ｍ）、特定シリカ粒子の平均円相当径をｄａ（ｍ）、トナー粒子の比重をρｔ、特定シリカ粒子の比重をρａ、トナー粒子の重量をＷｔ（ｋｇ）、特定シリカ粒子の添加量をＷａ（ｋｇ）としたとき、下記式（３−１）で算出することができる。
・式（３−１）：計算上の被覆率Ｃ_０＝√３／（２π）×（ρｔ／ρａ）×（ｄｔ／ｄａ）×（Ｗａ／Ｗｔ）×１００（％）

特定シリカ粒子によるトナー粒子表面への実測の被覆率Ｃは、Ｘ線光電子分光装置（ＸＰＳ）（「ＪＰＳ−９０００ＭＸ」：日本電子（株）製）により、トナー粒子のみ、特定シリカ粒子のみ、及び特定シリカ粒子が被覆（付着）したトナー粒子について、それぞれ特定シリカ粒子に由来するケイ素原子のシグナル強度を測定し、下記式（３−２）で算出することができる。

・式（３−２）：実測の被覆率Ｃ＝（ｚ−ｘ）／（ｙ−ｘ）×１００（％）
（式（３−２）中、ｘは、トナー粒子のみの特定シリカ粒子に由来するケイ素原子のシグナル強度を示す。ｙは、特定シリカ粒子のみの特定シリカ粒子に由来するケイ素原子のシグナル強度を示す。ｚは、特定シリカ粒子が被覆（付着）したトナー粒子についての特定シリカ粒子に由来するケイ素原子のシグナル強度を示す。）

−平均円相当径−
特定シリカ粒子の平均円相当径は、特定シリカ粒子における、流動性、トナー粒子への分散性、凝集性、及びトナー粒子への付着性を良好にする観点（特に、ソリッド画像ムラ抑制、細線画像のかすれ抑制の観点）から、４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以上１８０ｎｍ以下がより好ましく、６０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下がさらに好ましい。

特定シリカ粒子の平均円相当径Ｄ５０は、トナー粒子に特定シリカ粒子を外添させた後の一次粒子を、走査型電子顕微鏡ＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）装置（（株）日立製作所製：Ｓ−４１００）により観察して画像を撮影し、この画像を画像解析装置（ＬＵＺＥＸＩＩＩ、（株）ニレコ製）に取り込み、一次粒子の画像解析によって粒子ごとの面積を測定し、この面積値から円相当径を算出する。得られた円相当径の体積基準の累積頻度における５０％径（Ｄ５０）を特定シリカ粒子の平均円相当径Ｄ５０とする。なお、電子顕微鏡は１視野中に特定シリカ粒子が１０個以上５０個以下程度写るように倍率が調整され、複数視野の観察を合わせて一次粒子の円相当径が求められる。

−平均円形度−
特定シリカ粒子の形状は、球形状、異形状のいずれであってもよいが、特定シリカ粒子の平均円形度は、特定シリカ粒子における、流動性、トナー粒子への分散性、凝集性、及びトナー粒子への付着性を良好にする観点（特に、ソリッド画像ムラ抑制、細線画像のかすれ抑制の観点）から、０．８５以上０．９８以下が好ましく、０．９０以上０．９８以下がより好ましく、０．９３以上０．９８以下がさらに好ましい。

特定シリカ粒子の平均円形度は、以下に示す方法により測定される。
まず、特定シリカ粒子の円形度は、トナー粒子にシリカ粒子を外添させた後の一次粒子を、ＳＥＭ装置により観察し、得られた一次粒子の平面画像解析から、下記式により算出される「１００／ＳＦ２」として得られる。
・式：円形度（１００／ＳＦ２）＝４π×（Ａ／Ｉ^２）
〔式中、Ｉは画像上における一次粒子の周囲長を示し、Ａは一次粒子の投影面積を表す。
そして、特定シリカ粒子の平均円形度は、上記平面画像解析によって得られた一次粒子１００個の円形度の累積頻度における５０％円形度として得られる。

ここで、トナーから、特定シリカ粒子の各特性（圧縮凝集度、粒子圧縮比、粒子分散度、平均円形度）を測定する方法について説明する。
まず、トナーから外添剤（特定シリカ粒子）を次のように分離する。メタノール中にトナーを入れて分散させ、撹拌後、超音波バスにて処理することで、大径である特定シリカ粒子をトナー粒子表面から剥がし、その後、遠心分離によってトナーを沈降させて特定シリカ粒子を分散したメタノールのみを回収し、その後、メタノールを揮発させることで特定シリカ粒子を取り出すことができる。そして、分離した特定シリカ粒子を用いて、上記各特性を測定する。
なお、特定シリカ粒子以外の他の外添剤を外添されている場合、その分離のしやすさは外添剤の粒径・比重により決まり、大径である特定シリカ粒子が分離しやすい為、超音波処理条件を弱く設定することで特定シリカ粒子のみを分離することができる。

以下、特定シリカ粒子の構成について詳細に説明する。

−特定シリカ粒子−
特定シリカ粒子は、シリカ（即ちＳｉＯ_２）を主成分とする粒子であり、結晶性でも非晶性でもよい。特定シリカ粒子は、水ガラスやアルコキシシラン等のケイ素化合物を原料に製造された粒子であってもよいし、石英を粉砕して得られる粒子であってもよい。
特定シリカ粒子として、具体的には、ゾルゲル法で作製されるシリカ粒子（以下「ゾルゲルシリカ粒子」）、水性コロイダルシリカ粒子、アルコール性シリカ粒子、気相法により得られるフュームドシリカ粒子、溶融シリカ粒子等が挙げられ、これらの中でも、ゾルゲルシリカ粒子が好ましい。

−表面処理−
特定シリカ粒子は、圧縮凝集度、粒子圧縮比、及び粒子分散度を上記特定の範囲とするためには、シロキサン化合物により表面処理されていることが好ましい。
表面処理方法としては、超臨界二酸化炭素を利用し、超臨界二酸化炭素中でシリカ粒子の表面を表面処理することが好ましい。なお、表面処理方法については後述する。

−シロキサン化合物−
シロキサン化合物としては、分子構造中にシロキサン骨格を有するものであれば特に制限されない。
シロキサン化合物としては、例えば、シリコーンオイル、シリコーン樹脂が挙げられる。これらの中でも、シリカ粒子表面を均一に近い状態で表面処理する観点から、シリコーンオイルが好ましい。

シリコーンオイルとしては、例えば、ジメチルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、カルボキシル変性シリコーンオイル、カルビノール変性シリコーンオイル、メタクリル変性シリコーンオイル、メルカプト変性シリコーンオイル、フェノール変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、メチルスチリル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、高級脂肪酸エステル変性シリコーンオイル、高級脂肪酸アミド変性シリコーンオイル、フッ素変性シリコーンオイル等が挙げられる。中でも、ジメチルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイルが好ましい。
上記シロキサン化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上併用してもよい。

−粘度−
シロキサン化合物の粘度（動粘度）は、特定シリカ粒子における、流動性、トナー粒子への分散性、凝集性、及びトナー粒子への付着性を良好にする観点（特に、ソリッド画像ムラ抑制、細線画像のかすれ抑制の観点）から、１０００ｃＳｔ以上５００００ｃＳｔ以下が好ましく、２０００ｃＳｔ以上３００００ｃＳｔ以下がより好ましく、３０００ｃＳｔ以上１００００ｃＳｔ以下がさらに好ましい。
シロキサン化合物の粘度は次の手順で求められる。特定シリカ粒子にトルエンを加え超音波分散機で３０分間分散させる。その後、上澄みを回収する。このとき１ｇ／１００ｍｌ濃度のシロキサン化合物のトルエン溶液とする。このときの比粘度〔η_ｓｐ〕(２５℃)を下記式（Ａ）により求める。

・式（Ａ）：η_ｓｐ＝（η/η_０）−１
（η_０：トルエンの粘度、η：溶液の粘度）

次に、比粘度〔η_ｓｐ〕を下記式（Ｂ）に示すＨｕｇｇｉｎｓの関係式に代入し、固有粘度〔η〕を求める。
・式（Ｂ）：η_ｓｐ＝〔η〕+Ｋ’〔η〕^２
（Ｋ’：Ｈｕｇｇｉｎｓの定数 Ｋ’＝０．３(〔η〕＝１〜３の適応時)）

次に、固有粘度〔η〕を下記式（Ｃ）に示すＡ．Ｋｏｌｏｒｌｏｖの式に代入し、分子量Ｍを求める。

・式（Ｃ）：〔η〕＝０．２１５×１０^−４Ｍ^０．６５

分子量Ｍを下記式（Ｄ）に示すＡ.Ｊ.Ｂａｒｒｙの式に代入してシロキサン粘度〔η〕を求める。
・式（Ｄ）：ｌｏｇη＝１．００＋０．０１２３Ｍ^０．５

−表面付着量−
シロキサン化合物の特定シリカ粒子表面への表面付着量は、特定シリカ粒子における、流動性、トナー粒子への分散性、凝集性、及びトナー粒子への付着性を良好にする観点（特に、ソリッド画像ムラ抑制、細線画像のかすれ抑制の観点）から、シリカ粒子（表面処理前のシリカ粒子）に対して、０．０１質量％以上５質量％以下が好ましく、０．０５質量％以上３質量％以下がより好ましく、０．１０質量％以上２質量％以下がさらに好ましい。
表面付着量は、以下に示す方法により測定される。
特定シリカ粒子１００ｍｇを、クロロホルム１ｍＬ中に分散し、内部標準液としてＤＭＦ（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）を1μＬ加えた後、超音波洗浄機で３０分間超音波処理し、クロロホルム溶媒中へシロキサン化合物の抽出を行う。その後ＪＮＭ−ＡＬ４００型核磁気共鳴装置（ＪＥＯＬ日本電子データム株式会社製）で水素核スペクトル測定を行い、ＤＭＦ由来ピーク面積に対するシロキサン化合物由来ピーク面積の比からシロキサン化合物の量を得る。そして、このシロキサン化合物の量から表面付着量を得る。

ここで、特定シリカ粒子は、粘度１０００ｃＳｔ以上５００００ｃＳｔ以下のシロキサン化合物により表面処理され、かつ、シロキサン化合物のシリカ粒子表面への表面付着量が０．０１質量％以上５質量％以下であることが好ましい。
上記要件を満たすことで、流動性及びトナー粒子への分散性が良好であると共に、凝集性及びトナー粒子への付着性が向上した特定シリカ粒子が得られ易くなる。

−外添量−
特定シリカ粒子の外添量（含有量）は、ソリッド画像ムラ抑制、細線画像のかすれ抑制の観点から、トナー粒子に対して、０．１質量％以上５．０質量％以下が好ましく、０．２質量％以上３．０質量％以下がより好ましく、０．３質量％以上２．０質量％以下が更に好ましい。

［特定シリカ粒子の製造方法］
特定シリカ粒子は、シリカ粒子に対して、表面付着量が０．０１質量％以上５質量％以下となるように、粘度１０００ｃＳｔ以上５００００ｃＳｔ以下のシロキサン化合物により、シリカ粒子の表面を表面処理することで得られる。
特定シリカ粒子の製造方法によれば、流動性及びトナー粒子への分散性が良好であると共に、凝集性及びトナー粒子への付着性が向上したシリカ粒子が得られる。

前記表面処理方法としては、超臨界二酸化炭素中で、シロキサン化合物によりシリカ粒子の表面を表面処理する方法；大気中で、シロキサン化合物によりシリカ粒子の表面を表面処理する方法；が挙げられる。

前記表面処理方法としては、具体的に、例えば、超臨界二酸化炭素を利用して、超臨界二酸化炭素中にシロキサン化合物を溶解させて、シリカ粒子表面にシロキサン化合物を付着させる方法；大気中において、シロキサン化合物とシロキサン化合物を溶解する溶媒とを含む溶液をシリカ粒子表面に付与（例えば噴霧、塗布）して、シリカ粒子表面にシロキサン化合物を付着させる方法；大気中において、シリカ粒子分散液にシロキサン化合物とシロキサン化合物を溶解する溶媒とを含む溶液を添加して保持した後、シリカ粒子分散液及び前記溶液の混合溶液を乾燥させる方法；が挙げられる。

中でも、前記表面処理方法としては、超臨界二酸化炭素を利用して、シリカ粒子表面にシロキサン化合物を付着させる方法が好ましい。
前記表面処理を超臨界二酸化炭素中で行うと、超臨界二酸化炭素中にシロキサン化合物が溶解した状態となる。超臨界二酸化炭素は界面張力が低いという特性を持つことから、超臨界二酸化炭素中に溶解した状態のシロキサン化合物は、超臨界二酸化炭素と共に、シリカ粒子の表面の孔部の深くまで拡散して到達し易くなるものと考えられ、シリカ粒子の表面のみならず、孔部の奥深くまで、シロキサン化合物による表面処理がなされると考えられる。
このため、超臨界二酸化炭素中でシロキサン化合物により表面処理されたシリカ粒子は、シロキサン化合物により表面が均一に近い状態（例えば薄膜状に表面処理層が形成されている状態）に処理されたシリカ粒子になると考えられる。

また、特定シリカ粒子の製造方法では、超臨界二酸化炭素中でシロキサン化合物と共に疎水化処理剤を用いてシリカ粒子の表面に疎水性を付与する表面処理を行ってもよい。
この場合、超臨界二酸化炭素中にシロキサン化合物と共に疎水化処理剤が溶解した状態となり、超臨界二酸化炭素中に溶解した状態のシロキサン化合物及び疎水化処理剤は、超臨界二酸化炭素と共に、シリカ粒子の表面の孔部の深くまで拡散して到達し易くなるものと考えられ、シリカ粒子の表面のみならず、孔部の奥深くまで、シロキサン化合物及び疎水化処理剤による表面処理がなされると考えられる。
この結果、超臨界二酸化炭素中でシロキサン化合物及び疎水化処理剤により表面処理されたシリカ粒子は、シロキサン化合物及び疎水化処理剤により表面が均一に近い状態に処理されると共に、高い疎水性が付与され易くなる。

また、特定シリカ粒子の製造方法では、シリカ粒子の他の製造過程（例えば、溶媒除去工程等）において、超臨界二酸化炭素を利用してもよい。
他の製造過程において超臨界二酸化炭素を利用する特定シリカ粒子の製造方法としては、例えば、ゾルゲル法によって、シリカ粒子とアルコール及び水を含む溶媒とを含有するシリカ粒子分散液を準備する工程（以下、「分散液準備工程」と称する）と、超臨界二酸化炭素を流通させ、シリカ粒子分散液から溶媒を除去する工程（以下、「溶媒除去工程」と称する）と、超臨界二酸化炭素中で、溶媒を除去した後のシリカ粒子の表面をシロキサン化合物により表面処理する工程（以下、「表面処理工程」と称する）と、を有するシリカ粒子の製造方法が挙げられる。

シリカ粒子分散液からの溶媒除去を、超臨界二酸化炭素を利用して行うと、粗粉の発生が抑えられ易くなる。
この理由は定かではないが、１）シリカ粒子分散液の溶媒を除去する場合、超臨界二酸化炭素が「界面張力が働かない」という性質から、溶媒を除去する際の液架橋力による粒子同士の凝集もなく溶媒を除去できるものと考えられる点、２）超臨界二酸化炭素の「臨界点以上の温度・圧力下においた状態の二酸化炭素であり、気体の拡散性と液体の溶解性との双方を持つ」といった性質により、比較的低温（例えば２５０℃以下）で、超臨界二酸化炭素に効率良く接触し、溶媒を溶解することから、この溶媒を溶解した超臨界二酸化炭素を除去することで、シラノール基の縮合による２次凝集体等の粗粉を生じることなくシリカ粒子分散液中の溶媒を除去できるものと考えられる点、等が理由として考えられる。

ここで、溶媒除去工程、及び表面処理工程は、個別に行なってもよいが、連続（つまり大気圧下に開放しない状態で各工程を実施）して行うことが好ましい。これら各工程を連続して行うことと、溶媒除去工程後において、シリカ粒子が水分を吸着する機会を無くし、シリカ粒子への過剰な水分の吸着が抑えられた状態で、表面処理工程を行える。これにより、大量のシロキサン化合物を使用したり、過剰な加熱を行い高温で、溶媒除去工程及び表面処理工程を行う必要がなくなる。その結果、より効果的に、粗粉の発生が抑えられ易くなる。

以下、特定シリカ粒子の製造方法の詳細について、各工程別に詳細に説明する。
なお、特定シリカ粒子の製造方法は、これに限られるわけではなく、例えば、１）表面処理工程のみ超臨界二酸化炭素を使用する態様、２）各工程を個別に行う態様等であってもよい。

以下、各工程について詳細に説明する。

−分散液準備工程−
分散液準備工程では、例えば、シリカ粒子とアルコール及び水を含む溶媒とを含有するシリカ粒子分散液を準備する。
具体的には、分散液準備工程は、例えば、湿式（例えば、ゾルゲル法等）によりシリカ粒子分散液を作製して、これを準備する。特に、シリカ粒子分散液は、湿式としてゾルゲル法、具体的には、テトラアルコキシシランを、アルコール及び水の溶媒にアルカリ触媒存在下で、反応（加水分解反応、縮合反応）を生じさせてシリカ粒子を生成し、シリカ粒子分散液を作製することがよい。

なお、シリカ粒子の平均円相当径の好ましい範囲、及び平均円形度の好ましい範囲は既述のとおりである。
分散液準備工程において、例えば、シリカ粒子を湿式により得る場合、シリカ粒子が溶媒に分散された分散液（シリカ粒子分散液）の状態で得られる。

ここで、溶媒除去工程に移行する際、準備するシリカ粒子分散液は、そのアルコールに対する水の質量比が例えば０．０５以上１．０以下であることがよく、好ましくは０．０７以上０．５以下、より好ましくは０．１以上０．３以下である。
シリカ粒子分散液において、そのアルコールに対する水の質量比を上記範囲とすると、表面処理後にシリカ粒子の粗粉の発生が少なく、良好な電気抵抗を有するシリカ粒子が得られ易くなる。
アルコールに対する水の質量比が０．０５を下回ると、溶媒除去工程において、溶媒を除去する際のシリカ粒子表面のシラノール基の縮合が少なくなることから、溶媒除去後のシリカ粒子表面への吸着水分が多くなることで、表面化処理後のシリカ粒子の電気抵抗が低くなり過ぎることがある。また、水の質量比が１．０を超えると、溶媒除去工程において、シリカ粒子分散液中の溶媒除去の終点付近で水が多く残留し、液架橋力によるシリカ粒子同士の凝集が生じ易く、表面処理後に粗粉として存在することがある。

また、溶媒除去工程に移行する際、準備するシリカ粒子分散液は、そのシリカ粒子に対する水の質量比が例えば０．０２以上３以下であることがよく、好ましくは０．０５以上１以下、より好ましくは０．１以上０．５以下である。
シリカ粒子分散液において、そのシリカ粒子に対する水の質量比を上記範囲とすると、シリカ粒子の粗粉の発生が少なく、良好な電気抵抗を有するシリカ粒子が得られ易くなる。
シリカ粒子に対する水の質量比が０．０２を下回ると、溶媒除去工程において、溶媒を除去する際のシリカ粒子表面のシラノール基の縮合が極端に少なくなることから、溶媒除去後のシリカ粒子表面への吸着水分が多くなることで、シリカ粒子の電気抵抗が低くなり過ぎることがある。
また、水の質量比が３を超えると、溶媒除去工程において、シリカ粒子分散液中の溶媒除去の終点付近で水が多く残留し、液架橋力によるシリカ粒子同士の凝集が生じ易くなることがある。

また、溶媒除去工程に移行する際、準備するシリカ粒子分散液は、当該シリカ粒子分散液に対するシリカ粒子の質量比が例えば０．０５以上０．７以下がよく、好ましくは０．２以上０．６５以下、より好ましくは０．３以上０．６以下である。
シリカ粒子分散液に対するシリカ粒子の質量比が０．０５を下回ると、溶媒除去工程において、使用する超臨界二酸化炭素の量が多くなり、生産性が悪くなってしまうことがある。
また、シリカ粒子分散液に対するシリカ粒子の質量比が０．７を超えると、シリカ粒子分散液中においてシリカ粒子間距離が近くなり、シリカ粒子の凝集やゲル化による粗粉が発生し易くなることがある。

−溶媒除去工程−
溶媒除去工程は、例えば、超臨界二酸化炭素を流通させ、シリカ粒子分散液の溶媒を除去する工程である。
つまり、溶媒除去工程では、超臨界二酸化炭素を流通させることにより、超臨界二酸化炭素をシリカ粒子分散液に接触させて、溶媒を除去する工程である。
具体的には、溶媒除去工程では、例えば、密閉反応器内に、シリカ粒子分散液を投入する。その後、密閉反応器内に、液化二酸化炭素を加えて加熱し、高圧ポンプにより反応器内を昇圧させ、二酸化炭素を超臨界状態とする。そして、密閉反応器内に超臨界二酸化炭素を導入すると共に、排出し、密閉反応器内、つまりシリカ粒子分散液に流通させる。
これにより、超臨界二酸化炭素が溶媒（アルコール及び水）を溶解しつつ、これを同伴してシリカ粒子分散液の外部（密閉反応器内の外部）へと排出され、溶媒が除去される。

ここで、超臨界二酸化炭素とは、臨界点以上の温度・圧力下においた状態の二酸化炭素であり、気体の拡散性と液体の溶解性との双方を持つものである。

溶媒除去の温度条件、つまり超臨界二酸化炭素の温度は、例えば、３１℃以上３５０℃以下がよく、好ましくは６０℃以上３００℃以下、より好ましくは、８０℃以上２５０℃以下である。
この温度が上記範囲未満であると、溶媒が超臨界二酸化炭素に溶解し難くなるため、溶媒の除去がし難くなることがある。また溶媒や超臨界二酸化炭素の液架橋力により粗粉が生じ易くなることがあると考える。一方、この温度が上記範囲を超えると、シリカ粒子表面のシラノール基の縮合により２次凝集体等の粗粉が生じ易くなることがあると考えられる。

溶媒除去の圧力条件、つまり超臨界二酸化炭素の圧力は、例えば、７．３８ＭＰａ以上４０ＭＰａ以下がよく、好ましくは１０ＭＰａ以上３５ＭＰａ以下、より好ましくは１５ＭＰａ以上２５ＭＰａ以下である。
この圧力が上記範囲未満であると、超臨界二酸化炭素に溶媒が溶解し難くなる傾向にあり、一方、圧力が上記範囲を超えると、設備が高額となる傾向となる。

また、密閉反応器内への超臨界二酸化炭素の導入・排出量は、例えば、１５．４Ｌ／分／ｍ^３以上１５４０Ｌ／分／ｍ^３以下であることがよく、好ましくは７７Ｌ／分／ｍ^３以上７７０Ｌ／分／ｍ^３以下である。
導入・排出量が１５．４Ｌ／分／ｍ^３未満であると、溶媒除去に時間がかかるため生産性が悪くなり易くなる傾向となる。
一方、導入・排出量が１５４０Ｌ／分／ｍ^３超えると、超臨界二酸化炭素がショートパスし、シリカ粒子分散液の接触時間が短くなってしまい、効率的に溶媒除去でき難くなる傾向となる。

−表面処理工程−
表面処理工程は、例えば、溶媒除去工程と連続して、超臨界二酸化炭素中で、シロキサン化合物によりシリカ粒子の表面を表面処理する工程である。
つまり、表面処理工程では、例えば、溶媒除去工程から移行する前に、大気開放を行わず、超臨界二酸化炭素中で、シロキサン化合物によりシリカ粒子の表面を表面処理する。
具体的には、表面処理工程では、例えば、溶媒除去工程における密閉反応器内への超臨界二酸化炭素を導入・排出を停止した後、密閉反応器内の温度、圧力を調整し、密閉反応器内に、超臨界二酸化炭素が存在する状態で、シリカ粒子に対して一定の割合のシロキサン化合物を投入する。そして、この状態を維持した状態、つまり超臨界二酸化炭素中で、シロキサン化合物を反応させて、シリカ粒子の表面処理を行う。

ここで、表面処理工程は、超臨界二酸化炭素中で（つまり超臨界二酸化炭素の雰囲気下で）、シロキサン化合物の反応を行えばよく、超臨界二酸化炭素を流通（つまり密閉反応器内への超臨界二酸化炭素を導入・排出）させながら表面処理を行ってよいし、非流通で表面処理を行ってもよい。

表面処理工程において、反応器の容積に対するシリカ粒子の量（つまり仕込み量）は、例えば、３０ｇ／Ｌ以上６００ｇ／Ｌ以下がよく、好ましくは５０ｇ／Ｌ以上５００ｇ／Ｌ以下、より好ましくは８０ｇ／Ｌ以上４００ｇ／Ｌ以下である。
この量が上記範囲より少ないとシロキサン化合物の超臨界二酸化炭素に対する濃度が低くなりシリカ表面との接触確率が低下し、反応が進み難くなることがある。一方で、この量が上記範囲よりも多いと、シロキサン化合物の超臨界二酸化炭素に対する濃度が高くなり、シロキサン化合物が超臨界二酸化炭素へ溶解しきれず分散不良となり、粗大凝集物を発生させ易くなる。

超臨界二酸化炭素の密度は、例えば、０．１０ｇ／ｍｌ以上０．８０ｇ／ｍｌ以下がよく、好ましくは０．１０ｇ／ｍｌ以上０．６０ｇ／ｍｌ以下、より好ましくは０．２ｇ／ｍｌ以上０．５０ｇ／ｍｌ以下である。
この密度が上記範囲より低いと、超臨界二酸化炭素に対するシロキサン化合物の溶解度が低下し、凝集物を発生させる傾向がある。一方で、密度が上記範囲よりも高いと、シリカ細孔への拡散性が低下するため、表面処理が不十分となる場合がある。特に、シラノール基を多く含有しているゾルゲルシリカ粒子に対しては上記密度範囲での表面処理を行うことがよい。
なお、超臨界二酸化炭素の密度は、温度及び圧力等により調整される。

シロキサン化合物の具体例は前述のとおりである。また、シロキサン化合物の粘度の好ましい範囲も既述のとおりである。
シロキサン化合物の中でも、シリコーンオイルを適用すると、シリカ粒子表面にシリコーンオイルが均一に近い状態で付着され易くなり、シリカ粒子の流動性、分散性及び取り扱い性が向上し易くなる。

シロキサン化合物の使用量は、シリカ粒子に対する表面付着量を０．０１質量％以上５質量％以下に制御し易くする観点から、例えば、シリカ粒子に対し、０．０５質量％以上３質量％以下がよく、好ましくは０．１質量％以上２質量％以下、より好ましくは０．１５質量％以上１．５質量％以下である。

なお、シロキサン化合物は、単独で使用してもよいが、シロキサン化合物が溶解しやすい溶媒との混合液として使用してもよい。この溶媒としては、例えば、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。

表面処理工程では、シロキサン化合物と共に疎水化処理剤を含む混合物によりシリカ粒子の表面処理を行ってもよい。

疎水化処理剤としては、例えば、シラン系疎水化処理剤が挙げられる。シラン系疎水化処理剤としては、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等）を持つ公知の珪素化合物が挙げられ、具体例には、例えば、シラザン化合物（例えばメチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルクロロシラン、トリメチルメトキシシランなどのシラン化合物、ヘキサメチルジシラザン、テトラメチルジシラザン等）等が挙げられる。疎水化処理剤は、１種で用いてもよいし、複数種用いてもよい。
シラン系疎水化処理剤の中でも、トリメチルメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）などのトリメチル基を有する珪素化合物、特にヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）が好適である。

シラン系疎水化処理剤の使用量は、特に限定はされないが、例えば、シリカ粒子に対し、例えば、１量％以上１００質量％以下がよく、好ましくは３質量％以上８０質量％以下、より好ましくは５質量％以上５０質量％以下である。

なお、シラン系疎水化処理剤は、単独で使用してもよいが、シラン系疎水化処理剤が溶解しやすい溶媒との混合液として使用してもよい。この溶媒としては、例えば、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。

表面処理の温度条件、つまり超臨界二酸化炭素の温度は、例えば、８０℃以上３００℃以下がよく、好ましくは１００℃以上２５０℃以下、より好ましくは１２０℃以上２００℃以下である。
この温度が上記範囲未満であると、シロキサン化合物による表面処理能力が低下することがある。一方で、温度が上記範囲を超えると、シリカ粒子のシラノール基間による縮合反応が進み、粒子凝集が発生することがある。特に、シラノール基を多く含有しているゾルゲルシリカ粒子に対しては上記温度範囲での表面処理を行うことがよい。

一方、表面処理の圧力条件、つまり超臨界二酸化炭素の圧力は、上記密度を満足する条件であればよいが、例えば、８ＭＰａ以上３０ＭＰａ以下がよく、好ましくは１０ＭＰａ以上２５ＭＰａ以下、より好ましくは１５ＭＰａ以上２０ＭＰａ以下である。

以上説明した各工程を経て、特定シリカ粒子が得られる。

［他の外添剤］
他の外添剤としては、例えば、無機粒子が挙げられる。該無機粒子として、ＳｉＯ_２（ただし、特定シリカ粒子は除く）、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＣｕＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、ＣｅＯ_２、Ｆｅ_２Ｏ_３、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＣａＯ、Ｋ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、ＺｒＯ_２、ＣａＯ・ＳｉＯ_２、Ｋ_２Ｏ・（ＴｉＯ_２）ｎ、Ａｌ_２Ｏ_３・２ＳｉＯ_２、ＣａＣＯ_３、ＭｇＣＯ_３、ＢａＳＯ_４、ＭｇＳＯ_４等が挙げられる。

他の外添剤としての無機粒子の表面は、疎水化処理が施されていることがよい。疎水化処理は、例えば疎水化処理剤に無機粒子を浸漬する等して行う。疎水化処理剤は特に制限されないが、例えば、シラン系カップリング剤、シリコーンオイル、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等が挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
疎水化処理剤の量としては、通常、例えば、無機粒子１００質量部に対して、１質量部以上１０質量部以下である。

他の外添剤としては、樹脂粒子（ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、メラミン樹脂等の樹脂粒子）、クリーニング活剤（例えば、ステアリン酸亜鉛に代表される高級脂肪酸の金属塩、フッ素系高分子量体の粒子）等も挙げられる。

他の外添剤の外添量としては、例えば、トナー粒子に対して、０質量％以上４．０質量％以下が好ましく、０質量％以上２．０質量％以下がより好ましい。

（トナーの製造方法）
次に、本実施形態に係る磁性一成分現像剤（磁性トナー）の製造方法について説明する。
本実施形態に係る磁性一成分現像剤は、磁性トナー粒子を製造後、磁性トナー粒子に対して、外添剤を外添することで得られる。

磁性トナー粒子は、乾式製法（例えば、混練粉砕法等）、湿式製法（例えば凝集合一法、懸濁重合法、溶解懸濁法等）のいずれにより製造してもよい。磁性トナー粒子の製法は、これらの製法に特に制限はなく、周知の製法が採用される。

具体的には、例えば、磁性トナー粒子を凝集合一法により製造する場合、
結着樹脂となる樹脂粒子が分散された樹脂粒子分散液、及び、磁性粉が分散された磁性粉分散液を準備する工程（分散液準備工程）と、各分散液を混合し、混合分散液中で（必要に応じて他の粒子分散液を混合した後の分散液中で）、樹脂粒子及び磁性粉（必要に応じて他の粒子）を凝集させ、凝集粒子を形成する工程（凝集粒子形成工程）と、凝集粒子が分散された凝集粒子分散液に対して加熱し、凝集粒子を融合・合一して、磁性トナー粒子を形成する工程（融合・合一工程）と、を経て、トナー粒子を製造する。

以下、各工程の詳細について説明する。
なお、以下の説明では、着色剤、及び離型剤を含む磁性トナー粒子を得る方法について説明するが、着色剤、離型剤は、必要に応じて用いられるものである。無論、着色剤、離型剤以外のその他添加剤を用いてもよい。

−樹脂粒子分散液準備工程−
まず、結着樹脂となる樹脂粒子が分散された樹脂粒子分散液、及び、磁性粉が分散された磁性粉分散液と共に、例えば、着色剤粒子が分散された着色剤粒子分散液、離型剤粒子が分散された離型剤粒子分散液を準備する。

ここで、樹脂粒子分散液は、例えば、樹脂粒子を界面活性剤により分散媒中に分散させることにより調製する。

樹脂粒子分散液に用いる分散媒としては、例えば水系媒体が挙げられる。
水系媒体としては、例えば、蒸留水、イオン交換水等の水、アルコール類等が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

界面活性剤としては、例えば、硫酸エステル塩系、スルホン酸塩系、リン酸エステル系、せっけん系等のアニオン界面活性剤；アミン塩型、４級アンモニウム塩型等のカチオン界面活性剤；ポリエチレングリコール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物系、多価アルコール系等の非イオン系界面活性剤等が挙げられる。これらの中でも特に、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤が挙げられる。非イオン系界面活性剤は、アニオン界面活性剤又はカチオン界面活性剤と併用してもよい。
界面活性剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

樹脂粒子分散液において、樹脂粒子を分散媒に分散する方法としては、例えば回転せん断型ホモジナイザーや、メディアを有するボールミル、サンドミル、ダイノミル等の一般的な分散方法が挙げられる。また、樹脂粒子の種類によっては、例えば転相乳化法を用いて樹脂粒子分散液中に樹脂粒子を分散させてもよい。
なお、転相乳化法とは、分散すべき樹脂を、その樹脂が可溶な疎水性有機溶剤中に溶解せしめ、有機連続相（Ｏ相）に塩基を加えて、中和したのち、水媒体（Ｗ相）を投入することによって、Ｗ／ＯからＯ／Ｗへの、樹脂の変換（いわゆる転相）が行われて不連続相化し、樹脂を、水媒体中に粒子状に分散する方法である。

樹脂粒子分散液中に分散する樹脂粒子の体積平均粒径としては、例えば０．０１μｍ以上１μｍ以下が好ましく、０．０８μｍ以上０．８μｍ以下がより好ましく、０．１μｍ以上０．６μｍ以下がさらに好ましい。
なお、樹脂粒子の体積平均粒径は、レーザー回折式粒度分布測定装置（例えば、堀場製作所製、ＬＡ−７００）の測定によって得られた粒度分布を用い、分割された粒度範囲（チャンネル）に対し、体積について小粒径側から累積分布を引き、全粒子に対して累積５０％となる粒径を体積平均粒径Ｄ５０ｖとして測定される。なお、他の分散液中の粒子の体積平均粒径も同様に測定される。

樹脂粒子分散液に含まれる樹脂粒子の含有量としては、例えば、５質量％以上５０質量％以下が好ましく、１０質量％以上４０質量％以下がより好ましい。

なお、樹脂粒子分散液と同様にして、例えば、磁性粉分散液、着色剤粒子分散液、離型剤粒子分散液も調製される。つまり、樹脂粒子分散液における粒子の体積平均粒径、分散媒、分散方法、及び粒子の含有量に関しては、磁性粉分散液中に分散する磁性粉、着色剤粒子分散液中に分散する着色剤粒子、及び離型剤粒子分散液中に分散する離型剤粒子についても同様である。

−凝集粒子形成工程−
次に、樹脂粒子分散液と共に、磁性粉分散液と、着色剤粒子分散液と、離型剤粒子分散液と、を混合する。
そして、混合分散液中で、樹脂粒子と磁性粉と着色剤粒子と離型剤粒子とをヘテロ凝集させ目的とする磁性トナー粒子の径に近い径を持つ、樹脂粒子と磁性粉と着色剤粒子と離型剤粒子とを含む凝集粒子を形成する。

具体的には、例えば、混合分散液に凝集剤を添加すると共に、混合分散液のｐＨを酸性（例えばｐＨが２以上５以下）に調整し、必要に応じて分散安定剤を添加した後、樹脂粒子のガラス転移温度（具体的には、例えば、樹脂粒子のガラス転移温度−３０℃以上ガラス転移温度−１０℃以下）の温度に加熱し、混合分散液に分散された粒子を凝集させて、凝集粒子を形成する。
凝集粒子形成工程においては、例えば、混合分散液を回転せん断型ホモジナイザーで攪拌下、室温（例えば２５℃）で上記凝集剤を添加し、混合分散液のｐＨを酸性（例えばｐＨが２以上５以下）に調整し、必要に応じて分散安定剤を添加した後に、上記加熱を行ってもよい。

凝集剤としては、例えば、混合分散液に添加される分散剤として用いる界面活性剤と逆極性の界面活性剤、無機金属塩、２価以上の金属錯体が挙げられる。特に、凝集剤として金属錯体を用いた場合には、界面活性剤の使用量が低減され、帯電特性が向上する。
凝集剤の金属イオンと錯体もしくは類似の結合を形成する添加剤を必要に応じて用いてもよい。この添加剤としては、キレート剤が好適に用いられる。

無機金属塩としては、例えば、塩化カルシウム、硝酸カルシウム、塩化バリウム、塩化マグネシウム、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム等の金属塩、及び、ポリ塩化アルミニウム、ポリ水酸化アルミニウム、多硫化カルシウム等の無機金属塩重合体等が挙げられる。
キレート剤としては、水溶性のキレート剤を用いてもよい。キレート剤としては、例えば、酒石酸、クエン酸、グルコン酸等のオキシカルボン酸、イミノジ酸（ＩＤＡ）、ニトリロトリ酢酸（ＮＴＡ）、エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）等が挙げられる。
キレート剤の添加量としては、例えば、樹脂粒子１００質量部に対して０．０１質量部以上５．０質量部以下が好ましく、０．１質量部以上３．０質量部未満がより好ましい。

−融合・合一工程−
次に、凝集粒子が分散された凝集粒子分散液に対して、例えば、樹脂粒子のガラス転移温度以上（例えば樹脂粒子のガラス転移温度より１０から３０℃高い温度以上）に加熱して、凝集粒子を融合・合一し、磁性トナー粒子を形成する。

以上の工程を経て、磁性トナー粒子が得られる。
なお、凝集粒子が分散された凝集粒子分散液を得た後、当該凝集粒子分散液と、樹脂粒子が分散された樹脂粒子分散液と、をさらに混合し、凝集粒子の表面にさらに樹脂粒子を付着するように凝集して、第２凝集粒子を形成する工程と、第２凝集粒子が分散された第２凝集粒子分散液に対して加熱をし、第２凝集粒子を融合・合一して、コア／シェル構造の磁性トナー粒子を形成する工程と、を経て、磁性トナー粒子を製造してもよい。

ここで、融合・合一工程終了後は、溶液中に形成された磁性トナー粒子を、公知の洗浄工程、固液分離工程、乾燥工程を経て乾燥した状態の磁性トナー粒子を得る。
洗浄工程は、帯電性の点から充分にイオン交換水による置換洗浄を施すことがよい。また、固液分離工程は、特に制限はないが、生産性の点から吸引濾過、加圧濾過等を施すことがよい。また、乾燥工程も特に方法に制限はないが、生産性の点から凍結乾燥、気流乾燥、流動乾燥、振動型流動乾燥等を施すことがよい。

そして、本実施形態に係る磁性一成分現像剤（磁性トナー）は、例えば、得られた乾燥状態の磁性トナー粒子に、外添剤を添加し、混合することにより製造される。混合は、例えばＶブレンダー、ヘンシェルミキサー、レ−ディゲミキサー等によって行うことがよい。更に、必要に応じて、振動篩分機、風力篩分機等を使って磁性トナーの粗大粒子を取り除いてもよい。

＜画像形成装置／画像形成方法＞
本実施形態に係る画像形成装置／画像形成方法について説明する。
本実施形態に係る画像形成装置は、像保持体と、像保持体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した像保持体の表面に静電荷像を形成する静電荷像形成手段と、磁性一成分現像剤を収容し、磁性一成分現像剤により、像保持体の表面に形成された静電荷像をトナー画像として現像する現像手段と、像保持体の表面に形成されたトナー画像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、記録媒体の表面に転写されたトナー画像を定着する定着手段と、を備える。そして、磁性一成分現像剤として、本実施形態に係る磁性一成分現像剤が適用される。

本実施形態に係る画像形成装置では、像保持体の表面を帯電する帯電工程と、帯電した像保持体の表面に静電荷像を形成する静電荷像形成工程と、本実施形態に係る磁性一成分現像剤により、像保持体の表面に形成された静電荷像をトナー画像として現像する現像工程と、像保持体の表面に形成されたトナー画像を記録媒体の表面に転写する転写工程と、記録媒体の表面に転写されたトナー画像を定着する定着工程と、を有する画像形成方法（本実施形態に係る画像形成方法）が実施される。

ここで、本実施形態に係る画像形成装置において、現像手段は、磁性一成分現像方式の現像手段が適用される。磁性一成分現像方式の現像手段は、例えば、像保持体に対向して配置され、磁石が内蔵された現像剤保持体と、筐体内に収容した磁性一成分現像剤（磁性トナー）を攪拌しつつ、現像剤保持体の表面へ供給する撹拌部材と、像保持体の対向位置よりも現像剤保持体の回転方向下流側に、現像保持体の表面に接触、又は非接触にて配置され、現像保持体の表面の磁性トナー層（磁性一成分現像剤層）の厚みを規制すると共に、磁性トナーを摩擦帯電させる層規制部材と、を備える。非磁性一成分現像方式の現像手段としては、周知の装置を採用すればよい。

本実施形態に係る画像形成装置は、像保持体の表面に形成されたトナー画像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；像保持体の表面に形成されたトナー画像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー画像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー画像の転写後、帯電前の像保持体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー画像の転写後、帯電前に像保持体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー画像が転写される中間転写体と、像保持体の表面に形成されたトナー画像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー画像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。

なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、現像手段を含む部分が、画像形成装置に対して脱着されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る磁性一成分現像剤を収容した現像手段を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。

以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。

図１は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
図１に示す画像形成装置１００は、感光体１０７（像保持体の一例）を備える。感光体１０７の周囲には、感光体１０７を帯電させる帯電ロール１０８（帯電手段の一例）と、帯電装置１０８により帯電される感光体１０７を露光して静電荷像を形成する露光装置１０９（静電荷像形成手段の一例）と、露光装置１１０により形成された静電荷像を、磁性一成分現像剤（磁性トナー）により現像してトナー像を形成する現像装置１１１（現像手段の一例）と、現像装置１１１により形成されたトナー画像を記録紙３００（記録媒体の一例）に転写する転写装置１１２（転写手段の一例）と、転写後に感光体１０７に残留しているトナーを除去するクリーニング装置１１３（クリーニング手段の一例）が配置されている。そして、トナー画像を記録紙３００に定着するための定着装置１１５（定着手段の一例）が配置されている。

画像形成装置１００における各装置は、いずれも従来の画像形成装置で採用されている装置が適用される。

ここで、現像装置１１１は、図２に示すように、磁性一成分現像剤Ｄを収容する現像剤収容室１８と、現像ロール（現像剤保持体の一例）２０を収容する現像ロール収容室２２とからなる筐体２４を備えている。この筐体２４には、現像剤収容室１８と現像ロール収容室２２とを連結する開口部が形成され、この開口部を通じて現像剤収容室１８から現像ロール収容室２２へ、攪拌部材２６（例えばアジテータ）で攪拌された磁性一成分現像剤Ｄが供給される。

現像ロール収容室２２の上方には、現像ロール２０の一部を外部へ露出させる開放部１６が設けられ、この開放部１６で、現像ロール２０が感光体１０７に対向している。現像ロール２０と感光体１０７とが対向する領域が、現像領域となり、この現像領域に磁性一成分現像剤Ｄが現像ロール２０によって搬送される。また、この現像ロール２０へ現像バイアスを印加する電源（不図示）が接続されている。

現像ロール２０には、マグネットロール２８（磁石の一例）が内蔵されている。具体的には、現像ロール２０は、回転しないように固定され複数の磁極２８Ａ〜２８Ｄ（図２中では４極）が交互に配設されたマグネットロール２８と、マグネットロール２８の周囲に設けられ、一方向（図２においてＢ方向）へ回転する非磁性円筒状の現像スリーブ３０とを有している。

一方、現像スリーブ３０の表面に接触し、現像スリーブ３０上に形成された磁性一成分現像剤Ｄの層（磁性トナー層）の厚みを規制すると共に、磁性トナーを摩擦帯電させる層規制ブレード３２（層規制部材の一例）が筐体２４に取り付けられている。層規制ブレードは、現像スリーブ３０の表面に接する部分に、ゴム部材３２Ａが設けられている。

現像装置１１１において、磁性一成分現像剤Ｄは、現像剤収容室１８内において攪拌部材２６の回動により攪拌、搬送され、開口部を通じて現像剤収容室１８から現像ロール収容室２２へ供給される。磁性一成分現像剤Ｄは、現像ロール２０の現像スリーブ３０表面にマグネットロール２８の磁力により付着した後、層規制ブレード３２の突き出し量と接触圧により層厚が規制され、かつ、摩擦帯電される。摩擦帯電された磁性一成分現像剤Ｄ（磁性トナー）は、現像ロール３０の回転により、現像領域に搬送され、感光体１０７の静電荷像を現像する。

＜プロセスカートリッジ／現像剤カートリッジ＞
本実施形態に係るプロセスカートリッジについて説明する。
本実施形態に係るプロセスカートリッジは、本実施形態に係る磁性一成分現像剤（磁性トナー）を収容し、静電荷像現像剤により、像保持体の表面に形成された静電荷像をトナー画像として現像する現像手段を備え、画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジである。

なお、本実施形態に係るプロセスカートリッジは、上記構成に限られず、現像装置と、その他、必要に応じて、例えば、像保持体、帯電手段、静電荷像形成手段、及び転写手段等のその他手段から選択される少なくとも一つと、を備える構成であってもよい。

以下、本実施形態に係るプロセスカートリッジの一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。

図３は、本実施形態に係るプロセスカートリッジを示す概略構成図である。
図３に示すプロセスカートリッジ２００は、例えば、取り付けレール１１６及び露光のための開口部１１８が備えられた筐体１１７により、感光体１０７（像保持体の一例）と、感光体１０７の周囲に備えられた帯電ロール１０８（帯電手段の一例）、現像装置１１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１１３（クリーニング手段の一例）を一体的に組み合わせて保持して構成し、カートリッジ化されている。
なお、図３中、１０９は露光装置（静電荷像形成手段の一例）、１１２は転写装置（転写手段の一例）、１１５は定着装置（定着手段の一例）、３００は記録紙（記録媒体の一例）を示している。

次に、本実施形態に係る現像剤カートリッジについて説明する。
本実施形態に係る現像剤カートリッジは、本実施形態に係る磁性一成分現像剤を収容し、画像形成装置に着脱される現像剤カートリッジである。現像剤カートリッジは、画像形成装置内に設けられた現像手段に供給するための補給用の磁性一成分現像剤を収容するものである。

なお、現像剤カートリッジは、画像形成装置に着脱される構造を有し、対応した色の現像装置と供給管で接続される。そして、現像剤カートリッジ内に収容されている磁性一成分現像剤が少なくなった場合に、現像剤カートリッジが交換される。

以下、本実施形態を実施例により具体的に説明するが、本実施形態はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。なお以下の説明において、特に断りがない限り、「部」「％」は全て「質量部」「質量％」を意味する。

［トナー粒子の作製］
（トナー粒子（１）の作製）
・スチレン−アクリル酸ブチル共重合体（共重合比（質量比）＝８０：２０、重量平均分子量Ｍｗ＝１３万、ガラス転移温度Ｔｇ＝５９℃） ４４．２部
・磁性粉（６面体マグネタイト、平均粒径：０．２μｍ） ５０部
・負荷電制御剤（サリチル酸系Ｃｒ染料） ０．８部
・低分子量ポリプロピレン（軟化点：１４８℃） ５部
上記材料をヘンシェルミキサーにより粉体混合し、これをエクストルーダーにより熱混練した。冷却後、粗粉砕／微粉砕し、更に分級して、体積平均粒径７．２μｍのトナー粒子（１）を得た。

（トナー粒子（２）の作製）
−樹脂粒子分散液−
・スチレン（和光純薬社製） ３３０部
・ｎ−ブチルアクリレート（和光純薬工業社製） ７０部
・β−カルボキシエチルアクリレート（ローディア日華社製） ９部
・１，１０−デカンジオールジアクリレート（新中村化学社製）１．５部
・ドデカンチオール（和光純薬工業社製） ２．８部
以上の成分を混合溶解して原料溶液を用意し、アニオン性界面活性剤（ダウファックス、ダウケミカル社製）４．５質量部をイオン交換水５５０質量部に溶解したものに、前記原料溶液を加えてフラスコ中で分散・乳化し、１０分間ゆっくりと攪拌・混合しながら、過硫酸アンモニウム６質量部を溶解したイオン交換水５０質量部を投入し、次いで、系内を窒素で十分に置換した後、フラスコを攪拌しながらオイルバスで系内が７０℃になるまで加熱し、６時間そのまま乳化重合を継続して、アニオン性の樹脂粒子分散液を得た。得られた樹脂粒子の中心粒径は１８５ｎｍ、固形分量は４０％、ガラス転移点は５３℃、重量平均分子量Ｍｗは３７０００であった。

−磁性粉分散液−
・マグネタイト（戸田工業社製、体積平均粒径：０．２０μｍ） ２０部
・イオン性界面活性剤（ネオゲンＲＫ、第一工業製薬） ５部
・イオン交換水 ７６部
以上の成分を混合し、ホモジナイザー（ウルトラタラックス、ＩＫＡ社製）で１０分予備分散した後に、対向衝突型湿式粉砕機（アルティマイザー、杉野マシン社製）を用い圧力２４５Ｍｐａで２０分間分散処理を行って、固形分量が２０％の磁性粉分散液を得た。

−離型剤粒子分散液−
・ポリエチレン系ワックス（ＰｏｌｙＷａｘ８５０、東洋ペトロライト社製、融点：１０７℃） ２０部
・イオン界面活性剤（ネオゲンＲＫ、第一工業製薬社製） １．２部
・イオン交換水 ７９部
以上の成分を１３０℃に加熱した後、ゴーリンホモジナイザー（ゴーリン社製）を用いて５６０ｋｇ／ｃｍ^２の圧力の下で３０分間分散処理を行った。その後、４０℃まで冷却して離型剤粒子分散液を得た。得られた離型剤粒子分散液中の離型剤粒子の体積平均粒径は１７０ｎｍであり、固形分量は２０％であった。

−磁性トナー粒子の作製−
・樹脂粒子分散液 １００部
・磁性粉分散液 ２００部
・離型剤粒子分散液 ２０部
上記成分を丸型ステンレス製フラスコ中でホモジナイザー（ウルトラタラックスＴ５０、ＩＫＡ社製）を用いて十分に混合・分散した。次いで、得られた分散液にポリ塩化アルミニウム０．５部を加え、ウルトラタラックスで分散操作を継続した。その後、加熱用オイルバスでフラスコを攪拌しながら５２℃まで加熱し３０分間保持した。さらに、樹脂粒子分散液２０部、磁性粉分散液２０部を、ホモジナイザーを用いて混合した混合液を緩やかに追加し、２０分間保持した。さらに、樹脂微粒子分散液２０部を追加し４０分間保持した。
その後、０．５規定の水酸化ナトリウム水溶液で系内のｐＨを５．３に調整した後、ステンレス製フラスコを密閉し、磁力シールを用いて攪拌を継続しながら９６℃まで加熱し、５時間保持した。反応終了後、冷却し、濾過し、イオン交換水で十分に洗浄した後、ヌッチェ式吸引濾過により固液分離を施した。分離された固体をさらに４０℃のイオン交換水３リットルに再分散し、３００ｒｐｍで３０分間攪拌・洗浄した。これをさらに５回繰り返し、ヌッチェ式吸引濾過によりＮｏ．５Ａのろ紙を用いて固液分離を行った。次いで、真空乾燥を１２時間継続してトナー粒子（２）［黒色の磁性トナー粒子］を得た。

得られたトナー粒子（２）［黒色の磁性トナー粒子］の体積平均粒子径Ｄ５０ｖは６．５μｍであり、また、Ｉｍａｇｅ Ａｎａｌｙｚｅｒ ＬＵＺＥＸＩＩＩによる形状観察より求めた粒子の形状係数ＳＦ１は１３１であった。なお、トナー粒子（２）中の磁性粉濃度は４２％であった。ＶＳＭ磁化特性測定機にて測定したところ、トナー粒子（２）の飽和磁化は３５Ａｍ^２／ｋｇを有していた。

［外添剤の作製］
（シリカ粒子分散液（１）の調製）
攪拌機、滴下ノズル、温度計を具備した１．５Ｌのガラス製反応容器にメタノール３００部、１０％アンモニア水７０部を添加して混合し、アルカリ触媒溶液を得た。
このアルカリ触媒溶液を３０℃に調整した後、攪拌しながら、テトラメトキシシラン１８５部と８．０％アンモニア水５０部とを同時に滴下を行い、親水性のシリカ粒子分散液（固形分濃度１２．０質量％）を得た。ここで、滴下時間は３０分とした。
その後、得られたシリカ粒子分散液をロータリーフィルターＲ−ファイン(寿工業社製)で固形分濃度４０質量％まで濃縮した。この濃縮したものをシリカ粒子分散液（１）とした。

（シリカ粒子分散液（２）〜（４）の調製）
シリカ粒子分散液（１）の調製において、表１に従って、アルカリ触媒溶液（メタノール量、及び１０％アンモニア水量）、シリカ粒子生成条件（アルカリ触媒溶液へのテトラメトキシシラン（ＴＭＯＳと表記）及び８％アンモニア水の総滴下量、並びに、滴下時間）を変更した以外は、シリカ粒子分散液（１）と同様にして、シリカ粒子分散液（２）〜（４）を調製した。

以下、表１に、シリカ粒子分散液（１）〜（４）の詳細をまとめて示す。

（表面処理シリカ粒子（Ｓ１）の作製）
シリカ粒子分散液（１）を用いて、以下に示すようにして、シリカ粒子に対し超臨界二酸化炭素雰囲気下でシロキサン化合物による表面処理を行った。なお、表面処理には、二酸化炭素ボンベ、二酸化炭素ポンプ、エントレーナポンプ、撹拌機付きオートクレーブ（容量５００ｍｌ）、圧力弁を具備した装置を用いた。

まず、撹拌機付きオートクレーブ（容量５００ｍｌ）へ、シリカ粒子分散液（１）を２５０部投入し、攪拌機を１００ｒｐｍで回転させた。その後、オートクレーブ内に液化二酸化炭素を注入し、ヒーターにより昇温しながら二酸化炭素ポンプにより昇圧し、オートクレーブ内を１５０℃、１５ＭＰａの超臨界状態とした。圧力弁でオートクレーブ内を１５ＭＰａに保ちながら二酸化炭素ポンプより超臨界二酸化炭素を流通させ、シリカ粒子分散液（１）からメタノールと水を除去し（溶媒除去工程）、シリカ粒子（未処理のシリカ粒子）を得た。

次に、流通した超臨界二酸化炭素の流通量（積算量：標準状態の二酸化炭素の流通量として測定）が９００部となった時点で、超臨界二酸化炭素の流通を停止した。
その後、ヒーターにより温度１５０℃、二酸化炭素ポンプにより圧力１５ＭＰａを維持し、オートクレーブ内で二酸化炭素の超臨界状態を維持させた状態で、上記シリカ粒子（未処理のシリカ粒子）１００部に対して、予め疎水化処理剤としてヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ：有機合成薬品工業社製）２０部に、シロキサン化合物として、粘度１００００ｃＳｔであるジメチルシリコーンオイル（ＤＳＯ：商品名「ＫＦ-９６（信越化学工業社製）」）０．３部を溶解した処理剤溶液をエントレーナポンプにてオートクレーブ内に注入した後、撹拌しながら、１８０℃で２０分間反応させた。その後、再度超臨界二酸化炭素を流通させ、余剰の処理剤溶液を除去した。その後、撹拌を停止し、圧力弁を開けてオートクレーブ内の圧力を大気圧まで開放し温度を室温（２５℃）まで下げた。
このように、溶媒除去工程、シロキサン化合物による表面処理を順次行い、表面処理シリカ粒子（Ｓ１）を得た。

（表面処理シリカ粒子（Ｓ２）〜（Ｓ５）、（Ｓ７）〜（Ｓ９）、（Ｓ１２）〜（Ｓ１４）の作製）
表面処理シリカ粒子（Ｓ１）の作製において、表２に従って、シリカ粒子分散液、表面処理条件（処理雰囲気、シロキサン化合物（種、粘度及びその添加量）、疎水化処理剤及びその添加量）を変更した以外は、表面処理シリカ粒子（Ｓ１）と同様にして、表面処理シリカ粒子（Ｓ２）〜（Ｓ５）、（Ｓ７）〜（Ｓ９）、（Ｓ１２）〜（Ｓ１４）を作製した。

（表面処理シリカ粒子（Ｓ６）の作製）
表面処理シリカ粒子（Ｓ１）の作製で用いたシリカ粒子分散液（１）と同様の分散液を用いて、以下に示すようにして、シリカ粒子に対し大気雰囲気下でシロキサン化合物による表面処理を行った。
シリカ粒子分散液（１）の作製に用いた反応容器にエステルアダプターと冷却管を取り付け、シリカ粒子分散液（１）を６０〜７０℃に加熱しメタノールを留去したところで水を添加し、さらに７０〜９０℃に加熱しメタノールを留去しシリカ粒子の水性分散液を得た。この水性分散液中のシリカ粒子１００部に対し室温でメチルトリメトキシシラン（ＭＴＭＳ：信越化学工業社製）３部を添加し２時間反応させてシリカ粒子表面の処理を行った。この表面処理分散液にメチルイソブチルケトンを添加した後、８０℃〜１１０℃に加熱しメタノール水を留去し、得られた分散液中のシリカ粒子１００部に対し室温でヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ：有機合成薬品工業社製）８０部と、シロキサン化合物として粘度１００００ｃＳｔであるジメチルシリコーンオイル（ＤＳＯ：商品名「ＫＦ-９６（信越化学工業社製）」）１．０部を添加し、１２０℃で３時間反応させ、冷却した後、噴霧乾燥（スプレードライ）により乾燥し、表面処理シリカ粒子（Ｓ６）を得た。

（表面処理シリカ粒子（Ｓ１０）の作製）
シリカ粒子分散液（１）の代わりにヒュームドシリカＯＸ５０（日本アエルジル社製）を用いた以外は、表面処理シリカ粒子（Ｓ１）と同様にして、表面処理シリカ粒子（Ｓ１０）を作製した。すなわち、表面処理シリカ粒子（Ｓ１）の作製と同じ撹拌機付きオートクレーブへＯＸ５０を１００部投入し、攪拌機を１００ｒｐｍで回転させた。その後、オートクレーブ内に液化二酸化炭素を注入し、ヒーターにより昇温しながら二酸化炭素ポンプにより昇圧し、オートクレーブ内を１８０℃、１５ＭＰａの超臨界状態とした。圧力弁でオートクレーブ内を１５ＭＰａに保ちながら、予め疎水化処理剤としてヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ：有機合成薬品工業社製）２０部に、シロキサン化合物として粘度１００００ｃＳｔであるジメチルシリコーンオイル（ＤＳＯ：商品名「ＫＦ-９６（信越化学工業社製）」）０．３部を溶解した処理剤溶液をエントレーナポンプにてオートクレーブ内に注入した後、撹拌しながら、１８０℃で２０分間反応させ、その後、超臨界二酸化炭素を流通させ、余剰の処理剤溶液を除去し、表面処理シリカ粒子（Ｓ１０）を得た。

（表面処理シリカ粒子（Ｓ１１）の作製）
シリカ粒子分散液（１）の代わりにヒュームドシリカＡ５０（日本アエルジル社製）を用いた以外は、表面処理シリカ粒子（Ｓ１）と同様にして、表面処理シリカ粒子（Ｓ１１）を作製した。すなわち、表面処理シリカ粒子（Ｓ１）の作製と同じ撹拌機付きオートクレーブへＡ５０を１００部投入し、攪拌機を１００ｒｐｍで回転させた。その後、オートクレーブ内に液化二酸化炭素を注入し、ヒーターにより昇温しながら二酸化炭素ポンプにより昇圧し、オートクレーブ内を１８０℃、１５ＭＰａの超臨界状態とした。圧力弁でオートクレーブ内を１５ＭＰａに保ちながら、予め疎水化処理剤としてヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ：有機合成薬品工業社製）４０部に、シロキサン化合物として粘度１００００ｃＳｔであるジメチルシリコーンオイル（ＤＳＯ：商品名「ＫＦ-９６（信越化学工業社製）」）１．０部を溶解した処理剤溶液をエントレーナポンプにてオートクレーブ内に注入した後、撹拌しながら、１８０℃で２０分間反応させ、その後、超臨界二酸化炭素を流通させ、余剰の処理剤溶液を除去し、表面処理シリカ粒子（Ｓ１１）を得た。

（表面処理シリカ粒子（ＳＣ１）の作製）
表面処理シリカ粒子（Ｓ１）の作製において、シロキサン化合物を添加しない以外は、表面処理シリカ粒子（Ｓ１）と同様にして表面処理シリカ粒子（ＳＣ１）を作製した。

（表面処理シリカ粒子（ＳＣ２）〜（ＳＣ４）の作製）
表面処理シリカ粒子（Ｓ１）の作製において、表３に従って、シリカ粒子分散液、表面処理条件（処理雰囲気、シロキサン化合物（種、粘度及びその添加量）、疎水化処理剤及びその添加量）を変更した以外は、表面処理シリカ粒子（Ｓ１）と同様にして、表面処理シリカ粒子（ＳＣ２）〜（ＳＣ４）を作製した。

（表面処理シリカ粒子（ＳＣ５）の作製）
表面処理シリカ粒子（Ｓ６）の作製において、シロキサン化合物を添加しない以外は、表面処理シリカ粒子（Ｓ６）と同様にして表面処理シリカ粒子（ＳＣ５）を作製した。

（表面処理シリカ粒子（ＳＣ６）の作製）
表面処理シリカ粒子（Ｓ１１）の作製において、シロキサン化合物を添加しない以外は、表面処理シリカ粒子（Ｓ１１）と同様にして表面処理シリカ粒子（ＳＣ６）を作製した。

（表面処理シリカ粒子の物性）
得られた表面処理シリカ粒子について、平均円相当径、平均円形度、未処理のシリカ粒子に対するシロキサン化合物の付着量（表中「表面付着量」と表記）、圧縮凝集度、粒子圧縮比、及び粒子分散度を既述の方法で測定した。

以下、表２〜表３に、表面処理シリカ粒子の詳細を一覧にして示す。なお、表２〜表３中の略称については、次の通りである。
・ＤＳＯ ：ジメチルシリコーンオイル
・ＨＭＤＳ：ヘキサメチルジシラザン

［実施例１〜２０、比較例１〜５］
表４〜表５に示すトナー粒子１００部に、コロイダルシリカ（平均円相当径１２ｎｍ，ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）処理）０．７部と共に、表４に示すシリカ粒子を表４に示す部数で添加し、ヘンシェルミキサーにて２０００ｒｐｍで３分間混合し、各例の磁性一成分現像剤（磁性トナー）を得た。

[実施例２１]
トナー粒子(２)１００部に、シリカ粒子（Ｓ１１）を１．２部添加し、ヘンシェルミキサーにて２０００ｒｐｍで３分間混合し、磁性一成分現像剤（磁性トナー）を得た。

[比較例６]
トナー粒子(２)１００部に、シリカ粒子（ＳＣ６）を１．２部添加し、ヘンシェルミキサーにて２０００ｒｐｍで３分間混合し、磁性一成分現像剤（磁性トナー）を得た。

［評価］
各例で得られた磁性一成分現像剤（磁性トナー）について、次の評価を行った。その結果を表４〜表５に示す。

各例で得られた磁性一成分現像剤（磁性トナー）を画像形成装置「富士ゼロックス社製ＤｏｃｕＰｒｉｎｔ４００改造機」の現像装置に充填した。この画像形成装置を用いて、３０℃９０％ＲＨの環境下で、画像濃度１００％で、Ａ４全面のベタ画像（ソリッド画像）をＡ４紙に５０００枚出力した後、１ドットライン画像（１０本／Ａ４）をＡ４紙に１枚出力した。その後、１枚目に出力した細線画像を目視にて観察し、細線再現性について下記評価基準で評価した。更に５０００枚後のソリッド画像を不規則に５点、Ｘｒｉｔｅで画像濃度測定し、平均濃度、及び最大濃度と最小濃度の差（Δ濃度）を算出した。また、また、画質上の白筋、非画像部のかぶりの有無も目視観察した。
更に、上記と同じようにして５０００枚出力（合計１００００枚）し、同様の評価を実施した。
なお、評価基準は以下の通りである。ただし、いずれか低い評価をその評価とし、５０００枚で×となったものはそこで終了した。

−細線再現性−
◎： １０本の細線すべて目視上、問題無し。
○： １本以上２本以下の細線に目視上かすれはあるが、線が切れてはいない。
△： ３本以上の細線に目視上かすれはあるが、線が切れていない。
×： 線が切れているものがある。

−プリント画像評価（ソリッド画像ムラ）−
◎： 平均濃度：１．５以上、Δ濃度：０．１未満で画質上の白筋無し。
○： 平均濃度：１．４以上、Δ濃度：０．１以上、０．２未満で画質上の白筋無し。
△： 平均濃度：１．４以上、Δ濃度：０．２以上、０．３未満で画質上の白筋無し。
×： 上記以外

上記結果から、本実施例は、比較例に比べ、プリント画像評価、細線再現性の評価が良好であることがわかる。また、本実施例は、画像出力後において、現像ロール（現像スリーブ）の表面状態を観察したところ、良好であることがわかった。
特に、圧縮凝集度が７０％以上９５％以下、粒子圧縮比が０．２８以上０．３６以下であるシリカ粒子を外添剤として適用した実施例１〜５、１４、１５〜１９は、他の実施例に比べ、細線再現性の評価が良好であることがわかる。

１０７ 感光体（像保持体の一例）
１０８ 帯電ロール（帯電手段の一例）
１０９ 露光装置（静電荷像形成手段の一例）
１１１ 現像装置（現像手段の一例）
１１２ 転写装置（転写手段の一例）
１１３ 感光体クリーニング装置（クリーニング手段の一例）
１１５ 定着装置（定着手段の一例）
１１６ 取り付けレール
１１８ 露光のための開口部
１１７ 筐体
２００ プロセスカートリッジ
３００ 記録紙（記録媒体の一例）

Claims (9)

1. 結着樹脂及び磁性粉を含む磁性トナー粒子と、
   少なくとも圧縮凝集度が６０％以上９５％以下、粒子圧縮比が０．２０以上０．４０以下であるシリカ粒子を含む外添剤と、
   を有する磁性一成分現像剤。
2. 前記シリカ粒子の平均円相当径が４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である請求項１に記載の磁性一成分現像剤。
3. 前記シリカ粒子の粒子分散度が９０％以上１００％以下である請求項１又は請求項２に記載の磁性一成分現像剤。
4. 前記シリカ粒子が、粘度１０００ｃＳｔ以上５００００ｃＳｔ以下のシロキサン化合物により表面処理され、前記シロキサン化合物の表面付着量が０．０１質量％以上５質量％以下のシリカ粒子である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の磁性一成分現像剤。
5. 前記シロキサン化合物が、シリコーンオイルである請求項４に記載の磁性一成分現像剤。
6. 請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の磁性一成分現像剤を収容し、
   画像形成装置に着脱される現像剤カートリッジ。
7. 請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の磁性一成分現像剤を収容し、前記磁性一成分現像剤により、像保持体の表面に形成された静電荷像をトナー画像として現像する現像手段を備え、
   画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジ。
8. 像保持体と、
   前記像保持体の表面を帯電する帯電手段と、
   帯電した前記像保持体の表面に静電荷像を形成する静電荷像形成手段と、
   請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の磁性一成分現像剤を収容し、前記磁性一成分現像剤により、前記像保持体の表面に形成された静電荷像をトナー画像として現像する現像手段と、
   前記像保持体の表面に形成されたトナー画像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
   前記記録媒体の表面に転写されたトナー画像を定着する定着手段と、
   を備える画像形成装置。
9. 像保持体の表面を帯電する帯電工程と、
   帯電した前記像保持体の表面に静電荷像を形成する静電荷像形成工程と、
   請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の磁性一成分現像剤により、前記像保持体の表面に形成された静電荷像をトナー画像として現像する現像工程と、
   前記像保持体の表面に形成されたトナー画像を記録媒体の表面に転写する転写工程と、
   前記記録媒体の表面に転写されたトナー画像を定着する定着工程と、
   を有する画像形成方法。