JP2017135148A - Semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は複数の半導体素子を搭載した半導体装置に関する。たとえば、半導体素子としては、発光ダイオード(LED)素子、レーザダイオード(LD)素子等の半導体発光素子、フォトダイオード(PD)素子等の半導体受光素子、及びツェナーダイオード(ZD)素子等の逆電圧保護素子がある。 The present invention relates to a semiconductor device equipped with a plurality of semiconductor elements. For example, as semiconductor elements, reverse voltage protection such as light emitting diode (LED) elements, semiconductor light emitting elements such as laser diode (LD) elements, semiconductor light receiving elements such as photodiode (PD) elements, and zener diode (ZD) elements. There are elements.
従来の半導体装置として樹脂基板を有するものがある(参照:特許文献1)。この樹脂基板の表面側において、電極パッド上にLED素子及びZD素子を搭載し、LED素子の一電極及びZD素子の一電極は上記電極パッドから離間した他の電極パッド上にワイヤによって電気的に接続される。表面側のLED素子が搭載された電極パッドと裏面側の電極パッドとはLED素子の底面積より大きい断面積の延長部によって接続され、また、表面側の他の電極パッドと裏面側の他の電極パッドとは小さい断面積の電極によって接続される。これにより、LED素子から発生する熱をLED素子の底面積より大きい断面積の延長部によって放熱し、高密度実装による熱的悪影響を排除する。 Some conventional semiconductor devices have a resin substrate (see Patent Document 1). On the surface side of the resin substrate, an LED element and a ZD element are mounted on an electrode pad, and one electrode of the LED element and one electrode of the ZD element are electrically connected to another electrode pad spaced apart from the electrode pad by a wire. Connected. The electrode pad on which the LED element on the front surface side is mounted and the electrode pad on the back surface side are connected by an extension of a cross-sectional area larger than the bottom area of the LED element, and the other electrode pad on the front surface side and the other electrode on the back surface side The electrode pad is connected by an electrode having a small cross-sectional area. As a result, heat generated from the LED element is dissipated by the extension of the cross-sectional area larger than the bottom area of the LED element, and the adverse thermal effects due to high-density mounting are eliminated.
図5は上述の従来の半導体装置に類似した比較例としての半導体装置を示し、(A)は上面図、(B)は(A)の樹脂基板の表面側金属パターン図、(C)は(A)の樹脂基板の裏面側金属パターン図である。また、図6は図5の半導体装置の断面図であり、(A)は図5の(A)のA−A線断面図、(B)は図5の(A)のB−B線断面図である。 5A and 5B show a semiconductor device as a comparative example similar to the above-described conventional semiconductor device, in which FIG. 5A is a top view, FIG. 5B is a metal pattern diagram on the surface side of the resin substrate of FIG. It is a back side metal pattern figure of the resin substrate of A). 6 is a cross-sectional view of the semiconductor device of FIG. 5, (A) is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 5 (A), and (B) is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 5 (A). FIG.
図5、図6に示すように、樹脂基板1の表面側には、矩形状のLED素子搭載用金属パターン11、LED素子搭載用金属パターン11より小さい矩形状のZD素子搭載用金属パターン12、LED素子搭載用金属パターン11とZD素子搭載用金属パターン12とを電気的に接続する接続用金属パターン13、及びワイヤボンディング用金属パターン14が形成される。この場合、ワイヤボンディング用金属パターン14はLED素子2のZD素子3側の領域にあって、ZD素子3が配置されていない領域に配置される。つまり、図5の(B)において、ワイヤボンディング用金属パターン14はLED素子搭載用金属パターン11の右側かつZD素子搭載用金属パターン12の下側に配置される。また、ワイヤボンディング用金属パターン14は、LED素子搭載用金属パターン11より小さい。尚、ZD素子搭載用金属パターン12、ワイヤボンディング用金属パターン14は樹脂基板1のエッジまで延在させてもよい。
As shown in FIGS. 5 and 6, a rectangular LED element
他方、樹脂基板1の裏面側には、極性が異なる大きい第1の実装端子用金属パターン15及び小さい第2の実装端子用金属パターン16が形成される。この場合、第1の実装端子用金属パターン15はLED素子搭載用金属パターン11に対向している。また、第2の実装端子用金属パターン16はZD素子搭載用金属パターン12及びワイヤボンディング用金属パターン14に対向している。
On the other hand, a large first mounting
図6に示すように、LED素子搭載用金属パターン11と第1の実装端子用金属パターン15とは大きい断面積の金属構造体17によって電気的に接続される。また、ワイヤボンディング用金属パターン14と第2の実装端子用金属パターン16とは小さい断面積の金属ビア18によって電気的に接続される。金属ビア18は、ワイヤボンディング用金属パターン14において、ワイヤ41、42、43の接続領域を避けて配置される。尚、金属構造体17及び金属ビア18は同一層によって形成できる。また、金属ビア18を設けずに、ワイヤボンディング用金属パターン14と第2の実装端子用金属パターン16とを基板側面に形成した配線を介して接続してもよい。
As shown in FIG. 6, the LED element
矩形状のLED素子2はその一電極を下にしてLED素子搭載用金属パターン11上に搭載され、また、LED素子2より小さい矩形状のZD素子3はその一電極を下にしてZD素子搭載用金属パターン12上に搭載される。この場合、LED素子2及びZD素子3は、LED素子2の一辺とZD素子3の一辺とが略直線上に位置すると共に樹脂基板1の一辺と平行となるように、樹脂基板1上に配置される。
The
LED素子2の上面の他電極はワイヤ41、42によってワイヤボンディング用金属パターン14に電気的に接続され、また、ZD素子3の上面の他電極もワイヤ43によってワイヤボンディング用金属パターン14に接続される。これにより、LED素子2とZD素子3とは樹脂基板1のパターンに対して逆並列に接続される。この場合、ワイヤ41、42、43は第1ボンディングをワイヤボンディング用金属パターン14に対して行い、第2ボンディングをLED素子2及びZD素子3に対して行う。第1ボンディングはボールボンド工程で行い、第2ボンディングはステッチボンド工程で行う。始めに、ボールボンド工程では、ボンディング装置のキャピラリの先端から繰り出したワイヤの先端に金ボールを形成し、超音波を伴ってワイヤボンディング用金属パターン14上に熱圧着し、ボール接続部を形成する。次に、ステッチボンド工程にて、キャピラリを樹脂基板1の主面に対して垂直に引き上げた後、ワイヤを延ばしながらLED素子2又はZD素子3上まで水平に移動し、LED素子2又はZD素子3上に超音波を伴って熱圧着後、ワイヤを引き上げて切断し、ステッチ接続部を形成する。従って、ワイヤ41、42、43は、たとえば図6の(B)に示すごとく、ワイヤボンディング用金属パターン14に対してほぼ垂直に立上り、LED素子2及びZD素子3に対してほぼ水平となる。このようにして、ワイヤ41、42、43の高さを低くすることにより半導体装置の薄型化を図っている。尚、ワイヤたとえば42のワイヤボンディング用金属パターン14との接続部分近傍(付け根部分)は、ボール部42a、及びボール部42a直上の他の領域より結晶粒度が大きいために力学的物性が弱い再結晶化部42bよりなる。つまり、ボールボンド工程及びステッチボンド工程よりなるワイヤボンディング工程において、先端が溶融してボール状になったワイヤをワイヤボンディング用金属パターン14に固着した第1のボンディング後に、ワイヤを延ばし、もう一方の端部をLED素子2又はZD素子3上に押し付ける第2ボンディングを行い、超音波を印加して固着する。従って、溶融固着させたワイヤのワイヤボンディング用金属パターン14との接続部分近傍は、溶融させていない部分と異なり、金属の再結晶化が発生し、力学的物性の弱い再結晶化部となる。
The other electrode on the upper surface of the
LED素子2とZD素子3とは極性の異なる第1の実装端子用金属パターン15、第2の実装端子用金属パターン16間に電気的に逆並列接続される。
The
図5、図6の比較例としての半導体装置においては、樹脂基板1の表面側金属パターン11、12、13、14と裏面側金属パターン15、16とをできる限り対峙させて樹脂基板1のみで外部応力に対応する領域を少なくし、樹脂基板1が変形して封止部材(図示せず)にクラックが発生するのを防止できるようにする。但し、全体のサイズを小さくするために、表面側金属パターン11、14の正負の境界部B1と裏面側金属パターン15、16の正負の境界部B2とは重複している。
In the semiconductor device as a comparative example of FIGS. 5 and 6, the front surface
しかしながら、上述の比較例としての図5、図6の半導体装置においては、樹脂基板1の熱応力による膨張収縮によってワイヤ41、42、43が捩れて断線する課題がある。つまり、図6の(A)に示すごとく、LED素子搭載用金属パターン11とZD素子搭載用金属パターン12との間の樹脂基板1の部分は接続用金属パターン13によって補強されて熱応力による膨張収縮が抑制されている。他方、図6の(B)に示すごとく、LED素子搭載用金属パターン11とワイヤボンディング用金属パターン14との境界部B1の樹脂基板1の部分は金属パターンを有していないので、熱応力による膨張収縮Z6が比較的大きい。従って、ワイヤボンディング用金属パターン14側の樹脂基板1の部分は、熱応力による膨張収縮が小さいZD素子3側の樹脂基板1の部分を中心にして、図5の(A)の矢印Z5に示すごとく、平面方向に大きく湾曲する。この結果、ワイヤ41、42、43の捩り方向の負荷が大きくなり、特に、ワイヤボンディング用金属パターン14上のワイヤ41、42、43の1次ボンディング側の付け根の再結晶化部において細線化や断線する可能性がある。
However, in the semiconductor device of FIGS. 5 and 6 as the comparative example described above, there is a problem that the
上述の課題を解決するために、本発明に係る半導体装置は、樹脂基板と、第1、第2の半導体素子と、樹脂基板の表面側に設けられた、第1の半導体素子を搭載する第1の素子搭載用金属パターン、第2の半導体素子を搭載する第2の素子搭載用金属パターン、第1の素子搭載用金属パターンと第2の素子搭載用金属パターンとを接続する接続用金属パターン、及び第1、第2の半導体素子にワイヤによって接続されたワイヤボンディング用金属パターンと、樹脂基板の裏面側に設けられた、第1の素子搭載用金属パターンの一部に対向した第1の実装端子用金属パターン並びに第2の素子搭載用金属パターン、ワイヤボンディング用金属パターン及び第1の素子搭載用金属パターンの他の一部に対向した第2の実装端子用金属パターンと、第1の素子搭載用金属パターンと第1の実装端子用金属パターンとを電気的に接続する金属構造体と、ワイヤボンディング用金属パターンと第2の実装端子用金属パターンとを電気的に接続する配線とを具備し、第1の素子搭載用金属パターンの他の一部は第1の素子搭載用金属パターンの一部に比較してワイヤボンディング用金属パターンに近接しているものである。 In order to solve the above-described problem, a semiconductor device according to the present invention includes a resin substrate, first and second semiconductor elements, and a first semiconductor element mounted on the surface side of the resin substrate. 1 element mounting metal pattern, a second element mounting metal pattern for mounting a second semiconductor element, and a connection metal pattern for connecting the first element mounting metal pattern and the second element mounting metal pattern , And a wire bonding metal pattern connected to the first and second semiconductor elements by a wire, and a first element mounting metal pattern provided on the back side of the resin substrate and facing a part of the first element mounting metal pattern. A mounting terminal metal pattern, a second element mounting metal pattern, a wire bonding metal pattern, and a second mounting terminal metal pattern facing the other part of the first element mounting metal pattern; A metal structure that electrically connects the first element mounting metal pattern and the first mounting terminal metal pattern, and a wiring that electrically connects the wire bonding metal pattern and the second mounting terminal metal pattern The other part of the first element mounting metal pattern is closer to the wire bonding metal pattern than the part of the first element mounting metal pattern.
本発明によれば、第1の素子搭載用金属パターンと第2の素子搭載用金属パターンとの間の樹脂基板の部分は接続用金属パターンで補強されて熱応力による膨張収縮が抑制されている一方、第1の素子搭載用金属パターンとワイヤボンディング用金属パターンとの境界部の樹脂基板の部分も第1の素子搭載用金属パターンとワイヤボンディング用金属パターンとを跨いだ第2の実装端子用金属パターンにで補強されて熱応力による膨張収縮が抑制されている。従って、ワイヤが捩り方向に受ける負荷は小さくなり、この結果、ワイヤの断線を防止できる。また、第1の実装端子用金属パターンの放熱性も確保できる。 According to the present invention, the portion of the resin substrate between the first element mounting metal pattern and the second element mounting metal pattern is reinforced with the connection metal pattern to suppress expansion and contraction due to thermal stress. On the other hand, the portion of the resin substrate at the boundary between the first element mounting metal pattern and the wire bonding metal pattern is also for the second mounting terminal straddling the first element mounting metal pattern and the wire bonding metal pattern. Expansion and contraction due to thermal stress is suppressed by being reinforced by the metal pattern. Therefore, the load that the wire receives in the twisting direction is reduced, and as a result, disconnection of the wire can be prevented. Moreover, the heat dissipation of the 1st metal pattern for mounting terminals is also securable.
図1は本発明に係る半導体装置の実施の形態を示し、(A)は上面図、(B)は(A)の樹脂基板の表面側金属パターン図、(C)は(A)の樹脂基板の裏面側金属パターン図、図2は図1の半導体装置の断面図であり、(A)は図1の(A)のA−A線断面図、(B)は図1の(B)のB−B線断面図である。図1、図2においては、図5、図6の第1の実装端子用金属パターン15、第2の実装端子用金属パターン16及び金属構造体17の代りに、第1の実装端子用金属パターン15’、第2の実装端子用金属パターン16’及び金属構造体17’が設けられている。尚、第1の実装端子用金属パターン15’、第2の実装端子用金属パターン16’は、図1の(B)では上面視で点線で図示し、図1の(C)では下面視で実線で図示してある。
1A and 1B show an embodiment of a semiconductor device according to the present invention, in which FIG. 1A is a top view, FIG. 1B is a metal pattern diagram of the surface side of the resin substrate of FIG. 2 is a cross-sectional view of the semiconductor device of FIG. 1, FIG. 2A is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1A, and FIG. 2B is a cross-sectional view of FIG. It is a BB sectional view. 1 and 2, instead of the first mounting
図1、図2においては、第1の実装端子用金属パターン15’はLED素子搭載用金属パターン11の一部に対向しており、これに伴い、金属構造体17’の断面積は図6の金属構造体17の断面積より小さくしてある。この場合、LED素子搭載用金属パターン11の一部とは、LED素子搭載用金属パターン11の後述のごとく50%以上である。従って、金属構造体17’の断面積は図6の金属構造体17の断面積の50%以上であり、これにより、第1の実装端子用金属パターン15’の放熱性を確保する。尚、金属構造体17’は、樹脂基板1の側面を介してLED素子等採用金属パターン11と第1の実装端子用金属パターン15’との間を電気的に接続してもよい。また、ワイヤボンディング用金属パターン14と第2の実装端子用金属パターン16’とは金属ビア18によって接続されているが、両者の間を樹脂基板1の側面を介した金属パターンを形成して電気的に接続してもよい。
In FIG. 1 and FIG. 2, the first mounting
また、図1、図2においては、第2の実装端子用金属パターン16’は、ZD素子搭載用金属パターン12、ワイヤボンディング用金属パターン14及びLED素子搭載用金属パターン11の他の一部に対向している。そして、LED素子搭載用金属パターン11の第1の実装端子用金属パターン15’に対向している一部よりも、第2の実装端子用金属パターン16’に対向しているLED素子搭載用金属パターン11の他の一部の方が、ワイヤボンディング用金属パターン14に対して近接した位置にある。つまり、第2の実装端子用金属パターン16’は、上面視において、LED素子搭載用金属パターン11及びワイヤボンディング用金属パターン14に跨いで構成されている。この場合、第1の実装端子用金属パターン15’と第2の実装端子用金属パターン16’との境界部B2’は上面視で金属パターン15’、16’の配置方向に対して傾斜しており、LED素子搭載用金属パターン11とワイヤボンディング用金属パターン14との境界部B1と重複している部分は小さい。好ましくは、境界部B2’は上面視で境界部B1と重複していない。
1 and 2, the second mounting
図2の(A)に示すごとく、A−A線断面におけるLED素子搭載用金属パターン11とZD素子搭載用金属パターン12との間の樹脂基板1の部分は、金属構造体17’に連続した接続用金属パターン13によって補強されて熱応力による膨張収縮が抑制されている。他方、図2の(B)に示すごとく、B−B線断面におけるLED素子搭載用金属パターン11とワイヤボンディング用金属パターン14との境界部B1の樹脂基板1の部分も、LED素子搭載用金属パターン11及びワイヤボンディング用金属パターン14に跨る第2の実装端子用金属パターン16’によって補強されて熱応力による膨張収縮が抑制されている。
As shown in FIG. 2A, the portion of the
すなわち、図2の(B)に示すごとく、B−B線断面におけるLED素子搭載用金属パターン11とワイヤボンディング用金属パターン14との境界部B1の樹脂基板1の表面側部分には、金属パターンが存在しない。しかし、このLED素子搭載用金属パターン11とワイヤボンディング用金属パターン14との間の樹脂基板1の裏面側部分の熱応力による膨張収縮は、LED素子搭載用金属パターン11及びワイヤボンディング用金属パターン14の両方に対向する熱応力による膨張収縮がしにくい第2の実装端子用金属パターン16’によって抑制される。従って、図2の(B)に示すごとく、膨張収縮Z2は小さくなり、図1の(A)の矢印Z1に示す平面方向の湾曲は小さくなる。この結果、ワイヤ41、42、43が捩り方向に受ける負荷は小さくなり、ワイヤ41、42、43の断線を防止できる。
That is, as shown in FIG. 2B, the metal pattern is formed on the surface side portion of the
本願発明者は、図5、図6の半導体装置をアルミニウム等よりなるプリント配線基板上に半田付けして−40℃〜+125℃の熱衝撃サイクル試験を行った。この結果、図5、図6の半導体装置では、所定サイクルにてワイヤの断線が生じた。つまり、図5、図6の半導体装置では、熱衝撃サイクルによる樹脂基板1の湾曲により再結晶化部の細線化が起こったものと考えられる。これに対し、図1、図2の半導体装置においては、熱衝撃サイクルによる樹脂基板1の湾曲が抑制されるので、図5、図6の半導体装置に断線の生じたサイクル数においてはワイヤ断線は生じなかった。
The inventor of the present application soldered the semiconductor device of FIGS. 5 and 6 onto a printed wiring board made of aluminum or the like, and conducted a thermal shock cycle test at −40 ° C. to + 125 ° C. As a result, in the semiconductor device of FIGS. 5 and 6, the wire breakage occurred in a predetermined cycle. That is, in the semiconductor devices of FIGS. 5 and 6, it is considered that the recrystallization portion is thinned due to the bending of the
図1、図2において、樹脂基板1はたとえば厚さ0.1mmのBTレジン(登録商標)によって構成される。また、金属パターン11〜14、15’、16’はCu/Ni/Pd/Au又はNi/Auの積層によって構成される。さらに、金属構造体17’及び金属ビア18はCuめっき層によって構成される。さらにまた、金属構造体17’の断面積は、樹脂基板1の膨張収縮によるワイヤ41、42、43の負荷を抑制するために、LED素子2の底面積の少なくとも15%以上、好ましくは50%以上であり、上述の実施の形態では、50%〜85%程度である。尚、金属構造体17’は複数の矩形又は円形構造体で構成してもよい。
1 and 2, the
図1、図2の半導体装置は、図2の(B)に対応する図3に示すごとく、LED素子2たとえば青色LED素子上にたとえば青色光の一部を黄色光に変換するYAG粒子を含む蛍光体層5を塗布し、さらに、LED素子2及び蛍光体層5の回りにLED素子2及び蛍光体層5からの光を反射させる白色樹脂層6を形成することができる。
As shown in FIG. 3 corresponding to FIG. 2B, the semiconductor device of FIGS. 1 and 2 includes YAG particles that convert, for example, a part of blue light into yellow light on the
尚、上述の実施の形態の境界部B2が傾斜して構成された第1の実装端子用金属パターン15’、第2の実装端子用金属パターン16’は図4(A)、(B)に示すごとく構成してもよい。すなわち、図4の(A)においては、第1の実装端子用金属パターン15’と第2の実装端子用金属パターン16’との境界部B2を上面視で中央部分のみ金属パターン15’、16’の配置方向に対して傾斜させ、中央部分の両側は配置方向に対して垂直とする。また、図4の(B)においては、第1の実装端子用金属パターン15’と第2の実装端子用金属パターン16’との境界部B2の中央部分を金属パターン15’、16’の配置方向に対して平行にし、中央部分の両側は配置方向に対して垂直とする。いずれの場合も、第2の実装端子用金属パターン16’をLED素子搭載用金属パターン11の一部に対向せしめていると共に、第1の実装端子用金属パターン15’の放熱性をも確保する。
The first mounting
また、上述の実施の形態は、LED素子2及びZD素子3の組合せの半導体装置を示しているが、本発明は、ZD素子3の代わりに他のLED素子を用いた複数のLED素子の組合せの半導体装置にも適用できる。さらに、LED素子は他の半導体発光素子たとえばレーザダイオード(LD)素子又は他の半導体受光素子たとえばフォトダイオード(PD)素子でもよい。すなわち、本発明は、複数の半導体素子の組合せを用いた半導体装置に適用できる。
Moreover, although the above-mentioned embodiment has shown the semiconductor device of the combination of the
さらに、本発明は上述の実施の形態の自明の範囲のいかなる変更にも適用し得る。 Furthermore, the present invention can be applied to any change in the obvious range of the above-described embodiment.
1:樹脂基板
11:LED素子搭載用金属パターン(第1の半導体素子搭載用金属パターン)
12:ZD素子搭載用金属パターン(第2の半導体素子搭載用金属パターン)
13:接続用金属パターン
14:ワイヤボンディング用金属パターン
15、15’:第1の実装端子用金属パターン
16、16’:第2の実装端子用金属パターン
17、17’:金属構造体
18:金属ビア
2:発光ダイオード(LED)素子(第1の半導体素子)
3:ツエナーダイオード(ZD)素子(第2の半導体素子)
41、42、43:ワイヤ
5:蛍光体層
6:白色樹脂層
B1、B2、B2’:境界部
1: Resin substrate 11: LED element mounting metal pattern (first semiconductor element mounting metal pattern)
12: ZD element mounting metal pattern (second semiconductor element mounting metal pattern)
13: Metal pattern for connection 14: Metal pattern for
3: Zener diode (ZD) element (second semiconductor element)
41, 42, 43: Wire 5: Phosphor layer 6: White resin layers B1, B2, B2 ′: Boundary portion
Claims (6)
第1、第2の半導体素子と、
前記樹脂基板の表面側に設けられた、前記第1の半導体素子を搭載する第1の素子搭載用金属パターン、前記第2の半導体素子を搭載する第2の素子搭載用金属パターン、第1の素子搭載用金属パターンと前記第2の素子搭載用金属パターンとを接続する接続用金属パターン、及び前記第1、第2の半導体素子にワイヤによって接続されたワイヤボンディング用金属パターンと、
前記樹脂基板の裏面側に設けられた、前記第1の素子搭載用金属パターンの一部に対向した第1の実装端子用金属パターン並びに前記第2の素子搭載用金属パターン、前記ワイヤボンディング用金属パターン及び前記第1の素子搭載用金属パターンの他の一部に対向した第2の実装端子用金属パターンと、
前記第1の素子搭載用金属パターンと前記第1の実装端子用金属パターンとを電気的に接続する金属構造体と、
前記ワイヤボンディング用金属パターンと前記第2の実装端子用金属パターンとを電気的に接続する配線と
を具備し、前記第1の素子搭載用金属パターンの前記他の一部は、前記第1の素子搭載用金属パターンの前記一部と比較して前記ワイヤボンディング用金属パターンに近接している半導体装置。 A resin substrate;
First and second semiconductor elements;
A first element mounting metal pattern for mounting the first semiconductor element, a second element mounting metal pattern for mounting the second semiconductor element, provided on the surface side of the resin substrate, A metal pattern for connection for connecting an element mounting metal pattern and the second element mounting metal pattern, and a wire bonding metal pattern connected to the first and second semiconductor elements by wires;
A first mounting terminal metal pattern, a second element mounting metal pattern, and a wire bonding metal, which are provided on the back side of the resin substrate and face a part of the first element mounting metal pattern. A second metal pattern for mounting terminals opposed to the pattern and the other part of the first element mounting metal pattern;
A metal structure for electrically connecting the first element mounting metal pattern and the first mounting terminal metal pattern;
Wiring for electrically connecting the metal pattern for wire bonding and the second metal pattern for mounting terminals, and the other part of the first element mounting metal pattern is formed of the first element mounting metal pattern. A semiconductor device that is closer to the wire bonding metal pattern than the part of the element mounting metal pattern.
前記第2の半導体素子は逆電圧保護素子である請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の半導体装置。 The first semiconductor element is a semiconductor light emitting element or a semiconductor light receiving element;
The semiconductor device according to claim 1, wherein the second semiconductor element is a reverse voltage protection element.
The semiconductor device according to claim 1, wherein a ball portion is formed at a connection portion between the wire bonding metal pattern and the wire.
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